JP3447794B2 - 光導電性画像形成部材及びその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、概ね、分子分散顔料、
分子分散顔料を含む薄フィルムの製造及びその画像形成
部材に関する。特に、本発明は、加工溶液をコートした
感光性顔料層並びに、その光−及びオプト−電子装置及
び画像形成部材に、ルイス酸−顔料の可溶化を用いた方
法に関する。本発明の具体例では、改良されたゼログラ
フィック特性を有する積層光導電性画像形成部材が提供
され、この特性には約４００〜約９００ｎｍの波長域に
おける高い電荷許容性、低い暗減衰、高い光感度が、ま
た、約６００〜約８００ｎｍの波長域における最大の又
はピークの光感度が含まれ、近赤外波長に感受性を有す
る電子写真、特にゼログラフィック画像形成システム及
びプリンタに対する選択を可能とする。本出願発明の具
体例では、ここで説明される分子分散顔料を含む光導電
性層と、特にアリールアミンを含む電荷若しくは正孔輸
送層とを有する画像形成部材が提供され、これは約７０
０〜約８２０ｎｍの波長域で光に対して感受性を有する
部材である。得られた部材は、発光ダイオード（ＬＥ
Ｄ）印刷装置によってもたらされる赤照明に反応性を有
する。本発明の方法により製造される画像形成部材は、
オプトエレクトロニック装置例えば発光ダイオード、有
機電圧発光エミッター、電界効果トランジスタ、真空発
光ディスプレー、薄フィルムトランジスタ及び液晶ディ
スプレーに、又はこれらと組み合わせて用いられ得る。
本発明の光反応性画像形成部材は、本文中で説明される
ような分子分散光励起顔料を含む光導電性組成物を、例
えば、光励起層及び電荷輸送層間に配置して又は該光励
起層及び光励起層に接触した電荷輸送層と共に支持体間
に配置して含むことができる。

【０００２】本発明の具体例では、従来の高エネルギー
顔料磨砕及び高真空顔料昇華方法と異なり、光感受性積
層装置を含む顔料の加工に対して、変更され単純化され
た方法が提供される。

【０００３】本発明の具体例では、ここで説明されるよ
うな分子分散顔料を含む光導電性層を有する画像形成部
材、即ち、電荷発生層と輸送層の両方として同時に機能
する層を有する画像形成部材が提供される。

【０００４】

【従来の技術】既知の顔料磨砕方法は、高エネルギーの
粉砕又は磨砕による、典型的には、分散溶媒中で行われ
る顔料粒子寸法の減少化に関連する。微粉体顔料粒子
を、磨砕加工を延長することによって得ることができる
が、この得られた顔料分散物は、しばしば、すぐに再凝
集（リアグリメレート）してしまう。多種多様な顔料分
散剤が、一定しない成功率で、迅速な凝集体形成を避け
るために用いられている。顔料昇華方法は、顔料粒子を
高真空下で加熱し、該顔料粒子を蒸発し、その後、この
顔料粒子は顔料層を形成するために冷えた基体上に濃縮
される。高度な均一性を有する純粋な顔料層は、昇華方
法によって得られる。しかし、昇華加工は、大規模の作
製操作としては複雑で高価な構成となり得る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、分子分散状
態の特定の光導電性及び光励起顔料、並びにこの画像形
成部材を提供することを目的とし、該部材は、約４００
〜約９００ｎｍ、また好ましくは約６００〜約８００ｎ
ｍの波長に感度を有する。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の光導電性画像形
成部材の製造方法は、可溶化された顔料−ルイス酸錯体
と非プロトン性溶媒系を含む溶液を提供し、この溶液を
基体上にコーティングして前記基体上に光励起フィルム
又はコーティング層を形成し、このフィルム層又はコー
ティング層を乾燥させ、乾燥したフィルム層を非プロト
ン性溶媒系で洗浄して前記ルイス酸を除去し、コーティ
ングされた基体を乾燥させることを含む。

【０００７】また、本発明の光導電性画像形成部材は、
支持体と、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニ
ン、キナクリドン、ベンズイミダゾールペリレン、ペリ
レンテトラカルボキシルジイミド、置換２，４−ジアミ
ノトリアジン、スクアライン、多核芳香族キノン、チオ
ピリリウム化合物及びこれらの混合物からなる群より選
択され随意にバインダ樹脂に分散された分子分散顔料を
含み且つ該支持体に接触している光励起層と、随意の電
荷輸送層と、その上に、随意の最上又は保護的上塗り層
とを含み、ここで分子分散顔料層は約１０〜約１０００
０ｐｐｍの残留ルイス酸含量を含む。

【０００８】本発明の顔料可溶化方法は、具体例におい
て、例えばジェネク(Jenekhe) の米国特許第４，９４
５，１５６号及び同第４，９６３，６１６号並びにジェ
ネク及びジョンソンのマクロモレキュルス(Macromolecu
les)、第２３巻、４４１９ページ（１９９０）及びその
参考文献特に参考文献第１６から第２４に記載されてい
るルイス酸による、複素環ラダー及び硬質ロッドポリマ
ーの可溶化に類似している。

【０００９】本発明の顔料の可溶化方法は、顔料、ルイ
ス酸及び極性非プロトン性溶媒を含む溶液を提供する１
つ又は２つのステップを含み得る。１ステップ工程で
は、顔料錯体形成及び可溶化が同時に起こる。２ステッ
プ工程では、最初のステップは、固体顔料−メタロイド
錯体を好ましい錯体化反応のいずれかによって形成する
ことに関している。次のステップは、好ましい有機溶媒
における該固体錯体の可溶化に関している。関連してい
る２ステップ工程は、米国特許第４，９６３，６１６号
第１０欄第４行に記載されており、この開示内容を全て
援用して本文の一部とする。次いで、１及び２ステップ
可溶化工程のいずれかにより得られた溶液は、例えばス
プレー、スピン、ディップ等のコーティング方法によっ
て、選択された基体上に単数又は複数の着色層を溶媒コ
ートするために用いることができる可溶化された顔料錯
体を含む。

【００１０】本発明による光導電性画像形成部材は、顔
料又は顔料混合物を、電荷又は光励起層の０．５〜１０
０重量％の量で存在する光励起物質として含み、ここで
該顔料混合物は、少なくとも第１の顔料を、顔料混合物
の約１０〜約５０重量％で含み、第２の顔料を顔料混合
物の約４０〜約９０重量％で含む。

【００１１】典型的な有機光導電性顔料には、チタン及
びバナジウムフタロシアニン並びに他のフタロシアニン
化合物、米国特許第３，３５７，９８９号に記載の無金
属フタロシアニン、金属フタロシアニン例えば銅フタロ
シアニン、モナストラル・レッド、モナストラル・バイ
オレット及びモナストラル・レッドＹの商品名でデュポ
ンから市販のキナクリドン、米国特許第３，４４２，７
８１号に記載の置換２，４−ジアミノトリアジン、スク
アライン顔料、インドファスト・ダブル・スカーレッ
ト、インドファスト・バイオレット・レイクＢ、インド
ファスト・ブリリアント・スカーレット及びインドファ
スト・オレンジの商品名でアライド・ケミカル・コーポ
レーションから市販の多核芳香族キノン、チオピリリウ
ム顔料等、並びにこれらの混合物が含まれる。

【００１２】一般にルイス酸は、電子受容体であり、ド
ナー分子又はイオンからの２つの電子と配位化学結合を
形成することによって、ドナー分子又はイオンと結合し
得る。典型的なルイス酸には、三塩化アルミニウム即ち
ＡｌＣｌ₃ 、三塩化鉄即ちＦｅＣｌ₃ 、四塩化スズ即ち
ＳｎＣｌ₄ 、三フッ化ホウ素即ちＢＦ₃ 、ＺｎＣｌ₂、
ＴｉＣｌ₄ 、ＳｂＣｌ₅ 、ＣｕＣｌ₂ 、ＳｂＦ₅ 、ＶＣ
ｌ₄ 、ＴａＣｌ₅ 、ＺｒＣｌ₄ 等、並びにこれらの混合
物が含まれる。他の好適な錯化剤には、ニトロシル（Ｎ
Ｏ⁺ ）塩、ＮＯ⁺ Ａ^- であってＡ＝ＢＦ₄ 、ＨＳＯ₄ 、
ＰＦ₆ 、ＳｂＣｌ₆ 、ＡｓＦ₆ 等が含まれる。選択され
るルイス酸又は他の錯化剤は、好ましくは極性非プロト
ン性溶媒において可溶であり、プロトン性溶媒により溶
解し反応し、又はプロトン性溶媒中で制御可能に分解し
得る。

【００１３】極性非プロトン性溶媒又は極性非プロトン
性溶媒の混合物は、本発明の顔料錯体溶液の製造のため
に用いられることができる。約２〜約１０の溶媒の混合
物の使用は、顔料粒子の可溶化の挙動を改変し得る。可
溶化顔料粒子の凝集の挙動、得られた溶液混合物の粘度
並びに得られた単数又は複数の着色層の相形態的及び電
気的特性も、可溶化方法に用いられる溶媒の選択によっ
て影響され得る。実施例において好適な極性非プロトン
性溶媒は、ニトロメタン、ニトロエタン、１−ニトロプ
ロパン、１，２−ジクロロエタン、塩化メチレン、ベン
ゼン、トルエン等並びにこれらの混合物の群から選択さ
れ得る。加えて有用な溶媒は、例えば前述の米国特許第
４，９６３，６１６号第８欄第５４行に開示されてい
る。

【００１４】１〜約１０のバインダ樹脂は、顔料−ルイ
ス酸錯体溶液中に、可溶化形態及び／又はコロイド状に
分散された形態で存在し得る。他のバインダ樹脂も、錯
体化された顔料溶液に用いられるものと同一又は異なり
得、顔料錯体含有溶液の付着の前に、選択された基体上
に薄フィルムとして予めコートされることができる。バ
インダ樹脂は、付着された着色層に所望の機械特性を付
与するために随意に用いられ、次に付着される層に対す
る接着特性を提供する。バインダ樹脂は、また、コーテ
ィング方法を改良するように、錯体化された顔料溶液の
粘度を改変するために用いられ得、また付着された着色
層の相形態的及び電気的特性を改変するために用いられ
得る。バインダ樹脂又は樹脂の混合物は、分子分散顔料
電荷発生層の全重量の約０．１〜約９９．８重量％の量
で用いられ得る。

【００１５】好適な樹脂バインダ物質は、全て電荷発生
層に用いられ得る。典型的な有機樹脂状バインダには、
米国特許第３，１２１，００６号及び同第４，４３９，
５０７号に記載されているように、ポリカーボネート、
アクリレートポリマー、ビニルポリマー、ポリビニルカ
ルバゾール、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリアミ
ド、ポリウレタン、エポキシ等並びにこれらの混合物が
含まれる。有機樹脂状ポリマーは、ブロック、ランダム
又は交互共重合体であり得る。

【００１６】光導電性顔料及び樹脂状バインダ物質を含
む光励起層は、概ね、約０．１〜約５．０μｍの厚みの
範囲であり、好ましくは約０．３〜約３μｍの厚みを有
する。他の厚みもまた選択され得る。

【００１７】錯体顔料溶液は、選択された基体上に混合
着色層をコーティングするために、２〜約１０の可溶化
顔料の混合物を随意に含有し得る。例えばベンズイミダ
ゾールペリレンとチタンフタロシアニンとの混合顔料錯
体溶液は、単一層に顔料の混合分子分散を形成するため
に、本発明の具体例において溶媒コーティング用に製造
されることができる。更に、錯体顔料の異なる混合物を
含む複数の溶液も、ここで記載されるように層状にコー
ト又は付着され、例えば独特な多層構造を用いた画像形
成において有用な装置を提供し得る。例えばベンズイミ
ダゾールペリレン−ルイス酸錯体溶液とチタンフタロシ
アニン−ルイス酸錯体溶液とを、別々に製造し、次い
で、連続してコートするために用いて、例えば前述の異
なる顔料の交互層を有する装置を形成することができ
る。

【００１８】前述の分子分散顔料は、半導体分野におい
て既知のｐ及びｎ型成分のいずれかによって、顔料の全
重量に対して約０．０１〜約５０重量％の量でドープさ
れ得、これの成分には例えばＩ₂ 、ＡｓＦ₅ 、ＦｅＣｌ
₃ 、Ｋ等が含まれ、所望のその導電性が付与される。

【００１９】また、具体例において本発明は、単層又は
複数層を有するその画像形成部材の提供によって達成さ
れることができる。より詳細には、本発明は、光導電性
顔料例えばベンズイミダゾールペリレン及びその類似
物、ペリレンテトラカルボキシルジイミド誘導体、キナ
クリドン誘導体、ポリアゾ顔料並びにオリゴメリックフ
タロシアニン及びその混合物を含むフタロシアニン化合
物を有する光導電性画像形成部材に関する。本発明の画
像形成部材を加工するために、完全に又は部分的にルイ
ス酸の存在下の有機溶媒において可溶化され得る光励起
顔料の例には、図７〜９に記載されている式の化合物が
含まれる。他の好適な光導電性顔料は、例えばオルガニ
ック・フォトコンダクターズ：リーセント・トレンズ・
アンド・デヴェロップメント(Organic Photoconductor
s:Recent Trends and Development)、ケミカル・レヴュ
ー、第９３巻、第１号（１９９３）、１月／２月、にお
いてＫ．Ｌ．ロウ(Law) が記載している。

【００２０】本発明の分子分散顔料層の加工の概説は、
低沸点有機溶媒例えばニトロメタン、クロロホルム、塩
化メチレン等において、顔料−ルイス酸錯体溶液を顔料
とルイス酸とを混合することによって提供し；該錯体溶
液を基体の上にコーティングし；得られたコーティング
を乾燥し；そして、例えば洗浄によって、実質量のルイ
ス酸を除去することを含む。

【００２１】分子分散顔料を有する画像形成部材の他の
製造方法は、顔料−ルイス酸錯体溶液を、バインダ樹脂
を随意に含む低沸点有機溶媒中で顔料及びルイス酸を混
合することによって提供し；該顔料−ルイス酸錯体溶液
をフィルム又は層に流し込む又はコーティングし；例え
ば蒸発によって残留溶媒を除去し；そして、該フィルム
又は層を、極性非プロトン性溶媒例えば水、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、酢
酸及びこれらの混合物を用いて、例えばホルムアミド、
アセトン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、Ｎ
−メチル−２−ピロリドン及びこれらの混合物を添加し
て洗浄し、ルイス酸成分を分解、溶解し、次いで着色層
又はフィルムから実質的な量のルイス酸成分を除去する
ことを含む。顔料−錯体溶液中の好適な顔料重量％は、
約０．００５〜約２０％、好ましくは約１〜約１０％で
ある。ルイス酸又はルイス酸分子混合物の顔料粒子に対
するモル比は、顔料分子中に存在する電子供与成分の数
と等しい又はこれより多いことが好ましい。具体例にお
いて、ルイス酸−顔料錯体の形成に用いられる顔料に対
するルイス酸のモル比は、約１：１〜約２０：１であ
る。

【００２２】薄フィルムは、ガラス基体上に、例えばニ
トロメタン及び塩化メチレンに可溶化された例えば１．
０〜２重量％のルイス酸錯体顔料の稀釈溶液によって、
スピンコーティングにより特徴付けられて簡便に製造さ
れた。

【００２３】得られた分子分散顔料は、溶液又は薄フィ
ルムとして、既知の方法例えば固有粘度、熱重量分析、
赤外スペクトル又は電子吸収スペクトルによって、特徴
付けされた。

【００２４】本発明の方法によって製造されて得られた
分子分散顔料層は、エネルギー分散Ｘ線解析及び関連分
光法によって測定可能な微量なルイス酸種が含有されて
得られた。薄フィルム又層に残存する残りのルイス酸由
来イオンは、選択された製造工程に依存して、約１０〜
約１００００ｐｐｍの範囲となり得る。

【００２５】ある具体例では、支持体、ここで説明され
る分子分散顔料を含む光導電性層並びに、支持体及び光
導電性層の間に配置された電荷輸送層を含む積層光反応
性部材が提案されている。特定実施例において、光反応
性装置は、（１）支持体、（２）正孔遮断層、（３）随
意の接着界面層、（４）分子分散顔料又はこれらの混合
物を含む光励起層、（５）電荷輸送層、並びに（６）随
意の保護上塗り層を含み得る。従って、本発明の特別な
光反応装置は、導電性支持体、これに接触する正孔遮断
金属酸化物層、接着層、随意の接着層に重層され且つ分
子分散顔料若しくは分子分散顔料混合物を含む光励起
層、並びに最上層として樹脂状マトリクスに分散された
特定のジアミンを含む正孔輸送層を含むことができる。
この光導電層組成物は、正孔輸送層と接触した場合に
は、光励起層によって発生された正孔を輸送させること
が可能である。光導電性装置に選択され得るアリールア
ミン正孔輸送分子の例は、米国特許第４，２６５，９９
０号に説明されている。また、電荷輸送分子の例は、米
国特許第４，９２１，７７３号及びここで述べられた特
許に記載されている。

【００２６】電荷発生体として分子分散顔料を用いる他
の利益は、均質であり且つ所望により非粒子である電荷
発生層の形成能を含む。電荷発生体層は、均質及び非粒
子であり、発生層の粒子性質例えばコーティング分散の
安定性、粒子寸法、粒子寸法の分布に関連した再現不能
性を排除し、慣用の電荷発生体顔料粒子のやり方は、そ
れ自身、コーティング及び硬化工程において配置され
る。粒子の配置は、電荷移動過程に影響し得る。本発明
の分子分散顔料により製造される電荷発生層は、不均質
及び粒子電荷発生層に関連した不利益を実質的に示さな
い。

【００２７】ここで説明される光反応性装置は、例えば
ゼログラフィック画像形成方法として、従来知られてい
るような種々の画像形成システムに組み込み得る。更に
本発明の画像形成部材は、近赤及び／又は赤外光による
画像形成及び印刷システムに選択され得る。この具体例
では、光反応性装置は、約４００〜約９００ｎｍ、好ま
しくは６００〜８００ｎｍの波長域の光に対して連続又
は同時に露光されて、負又は正に帯電され得、次いで得
られた画像は現像され、紙に転写される。更に、本発明
の画像形成部材は、可視光による画像形成及び印刷シス
テムに選択されることができる。この具体例では、光反
応性装置は、約４００〜約７００ｎｍの波長域の光に露
光されて負又は正に帯電され得る。分子分散顔料は、こ
の領域に非感受性となるように随意に選択され得、従っ
て、電荷発生方法に関与することはなく、それゆえ、複
数露光を選択する画像形成方法を可能にする。

【００２８】図１は、本発明の光導電性画像形成部材を
示し、これは、支持体１、図７〜９に示される化学式、
好ましくはここで示されるように図７又は８の式から実
施例において選択される分子分散顔料又は分子分散顔料
混合物を含む光励起層３並びに、随意の電荷キャリア正
孔輸送層５を含み、随意の電荷キャリア正孔輸送層５
は、不活性樹脂状バインダ組成物９に分散された正孔電
荷輸送分子７を含む。層５は、単一の随意の正孔輸送ポ
リマー例えばポリ（メチルフェニルシリレン）、ポリ
（アリールアミンカルボネート）、ポリ（エーテルカル
ボネート）等を含み得る。

【００２９】図２は、図１に示された部材と、正孔輸送
層が支持体と光励起層との間に置かれている以外は、本
質的に同一である。より詳しくは、この図には、支持体
１１、不活性樹脂状バインダ組成物１７に分散されたア
リールアミン正孔輸送分子１６を含む正孔輸送層１５、
並びにここで説明される図７の式、特に図７若しくは８
に示されるもの又はこれらの混合物である単数又は複数
の分子分散顔料化合物２１を含む光励起層１９を含む光
導電性画像形成部材が示されている。

【００３０】図３は、本発明の光導電性画像形成部材が
示され、これは、支持体３１、分子分散顔料３３を含む
光導電性層３２、並びに、ＭＡＫＲＯＬＯＮ（商標名）
ポリカーボネートバインダ３７に分散されたアリールジ
アミン分子３６を含む随意の（図示していない）電荷輸
送層３５を含む。

【００３１】図４は、本発明の分子分散顔料含有画像形
成装置のサイクルに伴う電圧（−Ｖ）安定性を示してい
る。例えばサイクルによる装置の電圧が、帯電後を３つ
即ち４０（０．１９秒）、４２（０．７５秒）及び４４
（１．１３秒）、並びに光消去後を１つ即ち４６
（Ｖ_R ）、従って４つの電圧について示されている。図
から示されるように、電圧は、サイクルに対して非常に
安定している。１０ボルトより低いランダム変化は、１
ボルト未満の電圧の場合のコロトロン帯電及びシステム
変化における１％変化のためのである。この装置は、１
０００以上の累積サイクル及び１０ボルト未満の変化し
た電圧で、一定の帯電条件下において用いられた。この
残留電圧（Ｖ_R ）は、累積１０００サイクルに亘って、
５ボルト未満を維持していた。

【００３２】図５は、帯電−消去サイクル後の典型的な
暗放電を示し、１０秒を越える暗放電の平均は約２７ボ
ルト毎秒であった。

【００３３】図６は、本発明の方法によって製造された
光導電性画像形成部材の、帯電した後０．７５秒及び６
７０ｎｍ光に露光した後０．３７５秒で認められた典型
的な放電曲線を示している。

【００３４】図７、８及び９は、チタンフタロシアニ
ン、ベンズイミダゾールペリレン、及びペリレン誘導体
を各々示し、これらの光活性顔料化合物は、本発明の方
法及び画像形成部材実施例において有用である。

【００３５】この画像形成部材の支持体は、絶縁体例え
ば市販されているポリマーであるＭＹＬＡＲ（商標名）
及びチタン添加ＭＹＬＡＲ（商標名）を含む無機若しく
は有機重合体物質；半導体表面層例えばインジウムスズ
酸化物若しくはその上に配置されたアルミニウムを有す
る有機若しくは無機物質；又は、導電性物質例えばアル
ミニウム、チタン、クロム、ニッケル、黄銅等を含み得
る。基体は、可撓性、シームレス又は硬質であり得、種
々の異なる構成例えばプレート、円筒ドラム、スクロー
ル、エンドレス可撓性ベルト等をとり得る。実施例にお
いて、該基体は、エンドレス可撓性ベルトの形態にして
いる。ある場合には、抗カール層例えばＭＡＫＲＯＬＯ
Ｎ（商標名）として市販されているポリカーボネート物
質を、特に基体が有機重合体物質の場合に、基体の背側
に被覆することが望ましいとされ得る。

【００３６】基体層の厚みは、経済的考慮、他の層の成
分等を含む種々の因子に依存する。従って、この層は、
実質的な厚み例えば、得られる画像形成装置若しくは方
法に対して悪影響がない限り、１２５ミルまで又は最小
の厚みとし得る。具体例では、この層の厚みは、約３〜
約２０ミルである。

【００３７】一般に、光励起又は光導電層は、約０．０
５〜約２５μｍ以上、好ましくは１〜約５μｍの厚みを
有する。分子分散顔料を有する電荷発生層の厚みは、ま
ず、入射光の波長に主として依存する。例えばゼログラ
フィック画像形成が可視光（４００〜７００ｎｍ）を用
いて行われ且つ選択された顔料化合物が強く吸収し得る
場合には、薄い発生層（約０．２〜２μｍ）が供給さ
れ；７８０ｎｍ付近の固体レーザにより生成されるよう
な近赤外光が画像形成に用いられる場合には、より厚い
発生層（典型的には５〜３０μｍ）が必要とされ得る。
随意に、コーティング溶液に分子分散された又は可溶性
ポリマーバインダを含むコーティング溶液に分子分散さ
れた単一の光活性顔料分子を含む単一層の光導電体を用
いることができる。一般に、この層を画像形成又は印刷
露光ステップにおいて向けられている入射放射光の例え
ば約８０〜約９０％以上の実質的な量を吸収するために
十分な厚みで提供することが所望される。この層の最大
の厚みは、また、例えば機械的な考慮、他の層の厚み、
可撓性光導電性画像形成部材が所望されているか否かの
ような因子に依存する。

【００３８】電荷輸送層は、例えば電荷（正孔）を効率
よく輸送することを提供する種々の成分例えば樹脂状バ
インダに分散されたアリールアミン化合物及び他の成分
（前述の’７７３号特許及び米国特許第４，９３３，２
４５号を参照のこと）を含み得る。正孔輸送層において
好適な不活性バインダ物質には、既知の高絶縁性樹脂が
含まれ、これらは一般に、少なくとも１０¹² ohm-cm の
抵抗率を有し、過度の暗減衰を阻止する。前記アリール
アミン化合物には、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−
ビス（アルキルフェニル）−（１，１′−ビフェニル）
−４，４′−ジアミンが含まれ、ここでアルキルは、２
−メチル、３−メチル及び４−メチルのようなメチル、
エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル等からなる群より
選択される。ハロ置換では、該アミンはＮ，Ｎ′−ジフ
ェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（ハロフェニル）−（１，１′
−ビフェニル）−４，４′−ジアミンであり、ここでハ
ロは２−クロロ、３−クロロ又は４−クロロである。該
電気的に不活性の樹脂に分散され得、正孔を輸送する層
を形成し得る他の電気的に活性の小分子には、ビス（４
−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタ
ン、４′，４″−ビス（ジエチルアミノ）−２′，２″
−ジメチルトリフェニルメタン、ビス−４−（ジエチル
アミノフェニル）フェニルメタン及び４，４′−ビス
（ジエチルアミノ）−２，２′−ジメルトリフェニルメ
タンが含まれる。一般に、正孔輸送層は、約５〜約７５
μｍ、好ましくは約１０〜約４０μｍの厚みを有する。

【００３９】電荷輸送層はこの技術分野においてよく知
られている。典型的な輸送層は、例えば米国特許第４，
２６５，９９０号；同第４，６０９，６０５号；同第
４，２９７，４２４号及び同第４，９２１，７７３号に
記載されている。有機電荷輸送物質も、用いられ得る。
典型的な電荷特に正孔輸送物質には、下記のものが含ま
れる。

【００４０】米国特許第４，３０６，００８号；同第
４，３０４，８２９号；同第４，２３３，３８４号；第
第４，１１５，１１６号；同第４，２９９，８９７号及
び同第４，０８１，２７４号並びに同第５，１３９，９
１０号に開示されているタイプの正孔輸送分子は、本発
明の画像形成部材に選択され得る。典型的なジアミン正
孔輸送分子には、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビ
ス（３−メチルフェニル）−（１，１′−ビフェニル）
−４，４′−ジアミン等が含まれる。

【００４１】米国特許第４，３１５，９８２号；同第
４，２７８，７４６号及び同第３，８３７，８５１号に
開示されているようなピラゾリン輸送分子も、また選択
され得る。

【００４２】米国特許第４，２４５，０２１号に開示さ
れているような置換フルオレン電荷輸送分子も、また選
択され得る。

【００４３】例えば２，５−ビス（４−ジエチルアミノ
フェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、ピラゾリ
ン、イミダゾール、トリアゾール等のオキサジアゾール
輸送分子も、実施例において電荷輸送分子として選択さ
れ得る。他の典型的なオキサゾール輸送分子は、例えば
独国特許第１，０５８，８３６号；同第１，０６０，２
６０号及び同第１，１２０，８７５号に記載され、これ
らもまた、選択され得る。

【００４４】他の特別の正孔輸送体には、ヒドラゾン輸
送分子例えばｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド−
（ジフェニルヒドラゾン）、４−メトキシナフタレン−
１−カルボアルデヒド、１−メチル−１−フェニルヒド
ラゾン等が含まれる。他の典型的なヒドラゾン輸送分子
は、例えば米国特許第４，１５０，９８７号；同第４，
３８５，１０６号；同第４，３３８，３３８号；同第
４，３８７，１４７号；同第４，２５６，８２１号及び
同第４，２９７，４２６号に開示されている。他の特別
の輸送分子は、米国特許第３，８９５，９４４号；同第
３，８２０，９８９号及び同第３，８７０，５１６号に
開示されている。

【００４５】選択され得る他の有用な電荷輸送分子に
は、米国特許第４，８０６，４４３号、同第４，８１
８，６５０号、同第４，８０６，４４４号、同第４，９
３５，４８７号、同第４，９５６，４４０号、同第４，
８０１，５１７号、同第５，０２８，６８７号及び同第
５，０３０，５３２号に記載されているものが含まれ
る。

【００４６】更に他の電荷輸送ポリマーのクラスは、例
えば米国特許第４，８３９，４５１号に記載されている
ようなポリシリレンである。

【００４７】前記ポリシリレン輸送層の説明例には、ポ
リ（メチルフェニルシリレン）、ポリ（メチルフェニル
シリレン−ジメチルシリレン）共重合体、ポリ（シクロ
ヘキシルメチルシリレン）、ポリ（ｔ−ブチルメチルシ
リレン）、ポリ（フェニルエチルシリレン）等が含ま
れ、該ポリシリレンは一般に、約１０００００〜約２０
０００００の重量平均分子量を有する。

【００４８】輸送層のための高絶縁及び樹脂状成分又は
不活性バインダ樹脂状物質の例には、米国特許第３，１
２１，００６号に記載されているような物質が含まれ
る。好適な有機樹脂状物質の特定例には、ポリカーボネ
ート、アクリレートポリマー、ビニルポリマー、セルロ
ースポリマー、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリア
ミド、ポリウレタン及びエポキシが、これらのブロッ
ク、ランダム又は交互共重合体で含まれる。好ましい電
気的に不活性なバインダ物質は、約２００００〜約１０
００００の分子量を有するポリカーボネート樹脂であ
り、特に好ましくは約５００００〜約１０００００の範
囲の分子量を有する。本発明の実施例において電気的に
不活性な樹脂状物質として最も好ましい物質は、ＬＥＸ
ＡＮ １４５（商品名）として入手可能である重量平均
分子量が約３５０００〜約４００００のポリ（４，４′
−ジプロピリジン−ジフェニリンカーボネート）；ＬＥ
ＸＡＮ１４１（商品名）として入手可能である重量平均
分子量が約４００００〜約４５０００のポリ（４，４′
−イソプロピリジン−ジフェニリンカーボネート）；Ｍ
ＡＫＲＯＬＯＮ（商標名）として入手可能な重量平均分
子量が約５００００〜約１０００００のポリカーボネー
ト樹脂；及びＭＥＲＬＯＮ（商品名）として入手可能な
重量平均分子量が約２００００〜約５００００のポリカ
ーボネートである。一般に、この樹脂状バインダは、約
１０〜約７５重量％の前記活性物質を含み、好ましくは
この約３５〜約５０重量％でこの物質を含む。

【００４９】光導電性画像形成部材は、正孔遮断層を随
意に含み、この層は支持体と光励起層の間に配置され
る。この層は、金属酸化物例えば酸化アルミニウム等、
又は物質例えばシラン、ナイロン等を含み得る。この層
の第１の目的は、帯電の間及びその後に基質から正孔が
注入することを阻止することである。典型的には、この
層は約５〜約３００Åの厚さであり、一方、ある場合に
は２μｍの厚さにし得る。

【００５０】更に、該光導電性画像形成部材は、また接
着界面層を随意に含み得、この層は正孔遮断層と光励起
層との間に配置される。この層は、重合体物質例えばポ
リエステル、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリ
ドン等を含み得る。典型的には、この層は例えば約０．
６μｍ未満の厚みであり、好ましくは約０．０５〜約１
μｍの厚み範囲が好ましい。

【００５１】本発明の画像形成部材における光感度値
（７５０ｎｍでＥ_0.5ddp）が、許容可能であり、ある場
合には優れ、例えば約２〜約２５ｅｒｇ／ｃｍ² とする
ことができる。許容可能な光感度値は、画像形成部材が
含まれる画像形成装置のデザインに依存して変化し、従
って、ある場合には、４０又は５０の高さの値が許容さ
れ、約５未満の値が好ましいとされ得る。

【００５２】具体例において、特に赤外領域で、本発明
の画像形成部剤によって認められる高感度は、真空蒸着
方法において認められるパッキングと同様の顔料結晶パ
ッキングに由来すると思われる。

【００５３】本発明は、ここで開示される光導電性画像
形成部材を有する画像生成方法も包含する。この方法
は、静電画像を本発明の光導電性画像形成部材上に生成
するステップ、次いで該静電画像を、米国特許第４，５
５８，１０８号、同第４，５６０，６３５号；同第３，
５９０，０００同第；同第４，２６４，６７２同第；同
第３，９００，５８８号及び同第３，８４９，１８２号
に参照される樹脂粒子、顔料粒子、電荷制御剤を含む添
加剤、及びキャリア粒子を含む既知の現像液組成物によ
り現像するステップ、該現像された静電画像を好適な基
体に転写するステップ、並びに、該転写された画像を該
基体に永久定着するステップを含む。該画像の現像は、
種々の方法例えばカスケード、ダッチダウン、パウダー
クラウド、磁気ブラシ等によって達成され得る。現像さ
れた画像の基体への転写は、コロトロン又はバイアスロ
ールが選択される方法を含む全ての方法により成され得
る。定着ステップは、全ての好ましい方法例えばフラッ
シュ融着法、加熱融着法、加圧融着法、蒸気融着法等に
より実施され得る。

【００５４】分子分散顔料が添加された発生体層薄フィ
ルムを製造する本発明の方法は、以下のことを可能にす
る：即ち、慣用のコーティング技術を用いた可溶化顔料
の分子分散溶媒コーティング；顔料粒子寸法の制御及び
顔料凝集（アグロメレーション）の排除；錯体形成にお
ける溶解ステップ及び次のろ過ステップによる顔料若し
くは顔料混合物の精製；並びに、分子的着色層の化学分
析が、例えば既知の薄フィルム分光技術を用いて実施さ
れ得る。

【００５５】「分子分散」という語は、実施例で、顔料
含有発生層が、顔料分子の不均質分布を引き起こす、よ
り大きな粒子状物体への顔料粒子のアグロメレーション
又はアグリゲーションを殆どなく又は全く伴うことな
く、個々の顔料分子の均質即ち単一分布を本質的に示す
ことを意味する。

【００５６】本発明において製造された分子分散顔料薄
フィルムの無作為抽出及びＸ線回折解析により、約５０
〜約１００Åより大きい粒子体又は結晶体が全く検出さ
れないことが示された。

【００５７】エネルギー分散Ｘ線解析（ＥＤＸＡ）を用
いた本発明の方法により製造された薄フィルムの解析に
より、典型的にはルイス酸錯化剤の加溶媒分解又は加水
分解により由来する残留イオン性種の存在が検出され
た。本発明のルイス酸−顔料錯体溶液から作られた薄フ
ィルム中に残存し、検出可能な残留種の量は、幾つかの
方法及び装置変更例えば加溶媒分解及び該フィルムの洗
浄により得られるイオン性種の溶解度、用いたルイス酸
−顔料錯体の濃度、フィルム厚み、洗浄の範囲、選択さ
れる非プロトン性及びプロトン性溶媒等に依存する。Ｅ
ＤＸＡにより検出された残留イオン性生成物は、製造さ
れた最も薄いフィルムを繰り返し洗浄した場合の約１０
０カウント（これは、約２０００ｐｐｍより大きい又は
等しいことに相当する）の低い検出限度から、洗浄しな
い若しくは迅速に一度洗浄した試料の場合のアルミニウ
ム種に対する約１１０〜２００カウントまでの範囲を有
する。従って、選択された変更可能な前述の方法及び装
置に依存して、残留イオン性種産物含量を高い再現性及
び確実性で制御することが可能である。主な測定は、行
われた実施例即ち表６に、装置５、６及び７において、
既知の昇華及び分散コーティング方法論によって製造さ
れた装置に対する対象データと共に与えられている。

【００５８】高純度塩化アルミニウム及び無水ニトロメ
タンがアルドリッヒ・ケミカル社から得られ、試薬レベ
ルの塩化メチレン、テトラヒドロフラン及びシクロヘキ
サンノン溶媒はフィッシャー・サイエンティフィックか
ら得られた。ＭＡＫＲＯＬＯＮ（商標名）樹脂は約５０
０００〜１０００００の平均分子量を有する。全ての試
薬は、更に精製することなく、そのままで用いられた。
銅フタロシアニンであるＰＶ ファスト・ブルー(Fast
Blue) 、アゾ顔料であるパーマネント・イエローＦＧＬ
及びキナクリドン顔料であるホスタパーム・ピンク(Hos
taperm Pink)Ｅは、ヘキストから得られた。水性Ｗ４０
４樹脂溶液（４０重量％）は、ウィトコ・コーポレーシ
ョン(Witco Corp.) から得られた。

【００５９】輸送層コーティング溶液は、下記のように
して製造された。Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビ
ス（３−メチルフェニル）−（１，１′−ビフェニル）
−４，４′−ジアミン（５ｇ）、ＭＡＫＲＯＬＯＮ（商
標名）（５ｇ）及び塩化メチレン（５６．５ｇ）を、琥
珀ビン中で固体が完全に可溶化するまでロールミルし
た。Ｗ４０４の下塗り層溶液を、Ｗ４０４の水性４０重
量％溶液（１ｇ）、テトラヒドロフラン（６９．３
ｇ）、シクロヘキサノン（２９．７ｇ）を混合すること
によって製造した。全層コーティングを、付属カバー付
きのプレキシガラスアクリルボックス中に収納されてい
るガードナー機械式駆動フィルムアプリケータ(Gardner
mechanical driven film applicator) によって行っ
た。違う寸法のバードフィルムアプリケータ(Bird film
applicator)（７．５インチ長）を所望のフィルム厚み
を得るために用いた。２００〜３００ÅのＴｉ−Ｚｒ合
金コーティングを有するＭＹＬＡＲ（商標名）（７５μ
ｍ）基体を、インペリアル・ケミカル・インダストリー
スから得た。基体は、シリコン遮断層（２−アミノプロ
ピルトリエトキシシランから誘導され且つ２００〜５０
０Åの厚みを有する）、次いでＰＥ１００若しくは４９
Ｋ（共にデュポンから入手）の接着下塗り層（２００〜
５００Å）で重層した。得られた基体を、「ＰＥ１００
／シラン遮断層／Ｔｉ−Ｚｒ／ＭＹＬＡＲ（商標名）」
及び「４９Ｋ／シラン遮断層／Ｔｉ−Ｚｒ／ＭＹＬＡＲ
（商標名）」と名付けて識別した。Ｗ４０４コーティン
グ溶液を、シラン遮断層／Ｔｉ−Ｚｒ／ＭＹＬＡＲ（商
標名）基体上に０．０００５の寸法のバードフィルムア
プリケータにより薄Ｗ４０４層（２００〜５００Å）を
コートするために用い、次いで、強制通風オーブン中で
３０分間の１００℃での乾燥によって、「Ｗ４０４／シ
ラン遮断層／Ｔｉ−Ｚｒ／ＭＹＬＡＲ（商標名）」基体
を得た。全ての顔料錯体溶液を、窒素雰囲気下において
グローブボックス中で製造した。顔料層コーティング
を、ガードナーフィルムアプリケータを用いて、周囲条
件下で実施した。

【００６０】本発明の画像形成部材は、優れたゼログラ
フィック特性をその実施例で示した。例えば、暗現像(d
ark development)電位（Ｖ_ddp ) の値は、両極共に約２
００〜約１０００ボルトの範囲とすることができた。極
性は、前述の正孔輸送層が、輸送層及び接地電極の間に
挟まれている電荷発生層との接続に用いられる場合には
負であり、反対の状態即ち前述の正孔輸送層が電荷発生
層と基体物質との間に挟まれているときに正孔輸送層が
分子分散電荷発生顔料との接続に用いられる場合には正
に、又は電荷発生顔料層が単層光導電体として用いられ
る場合には両極性である。本発明の画像形成部材におけ
る暗現像電位の好ましい範囲は、通常約２００〜約１０
００ボルトであり、具体例において好ましくは８００ボ
ルトである。高い暗現像電位は、高いコントラスト電位
を可能にし、高品質で本質的に背景の現像がない画像を
もたらす。本発明の画像形成部材は、その具体例におい
て、低い暗減衰値例えば約５０ボルト毎秒以下も示す。
暗減衰は受光体を帯電した後に消失する電荷の量を測定
しているため、低い暗減衰値は高品質の画像を現像する
ために重要であり、受光体の露光部と非露光部との間の
電荷における大きな差が高いコントラストを有する画像
をもたらす。更に、低い暗放電は、温度及びサイクリン
グが変化しても、より安定した電圧を導く。暗減衰の許
容値は、該画像形成部材を含む画像形成装置のデザイン
に依存して変化する。暗減衰は、１００ボルト毎秒のよ
うに高くなり得るが、実施例において５０ボルトであ
り、好ましくは１０〜２０ボルト毎秒である。

【００６１】実施例における本発明の画像形成部材の残
留電位値（Ｖ_R ）は優れており、例えば約１〜約２０ボ
ルトの範囲である。残留電位は、投光照明の露光による
消失の後及び画像形成の前に、画像形成部材上に維持さ
れている帯電量の測定値である。５から１５ボルトの残
留電位が優れており、好ましいと考えられる。

【００６２】具体例における本発明の画像形成部材の感
光度（８００〜１００ボルト／ｅｒｇ／ｃｍ² に放電す
るために必要な放電Ｓボルト／ｅｒｇ／ｃｍ² の傾き）
は、許容可能であり、ある場合には優れ、且つ例えば約
２０〜約５０ｅｒｇ／ｃｍ²とすることができる。許容
可能な感光度は、この画像形成部材を含む画像形成装置
のデザインに依存して変化する；従って、ある場合に
は、４０又は５０のような高い露光値が許容され、また
約１０未満の値が好ましいとされ得る。

【００６３】

【実施例】

〔実施例１〕顔料／塩化アルミニウム錯体溶液を、顔料
混合物と、塩化アルミニウム（ＡｌＣｌ₃ ）とニトロメ
タン若しくはニトロメタン及び塩化メチレンの混合溶媒
との混合物を、窒素雰囲気下において室温で１２〜１６
時間、グローブボックス内の密栓した２０ｍｌバイアル
中で、電磁攪拌することによって製造した。１組の顔料
溶液を表１にまとめられた組成物によって製造した。該
顔料とＡｌＣｌ₃ とのモル比は、全ての場合において
１：６であった。これらの溶液は、約２重量％の顔料を
含み、容易に０．４５マイクロフィルタを通過した。表
１に示されていないが、顔料混合物を含有する溶液７
を、２ｇのろ過済溶液１及び６を混合することによって
製造し、各々約１重量％のベンズイミダゾールペリレン
及びチタンフタロシアニンを含有する溶液を得た。選択
されたろ過済溶液を、実施例２において説明される着色
層を被覆する溶媒に用いた。

【００６４】

【表１】

【００６５】〔実施例２〕表２は、実施例１及び表１で
示された選択されたろ過済溶液を用いた５つの装置のた
めの加工パラメータをまとめている。３タイプの基体即
ち、Ｗ４０４／ＳＢＬ／Ｔｉ−Ｚｒ／ＭＹＬＡＲ（商標
名）、ＰＥ１００／ＳＢＬ／Ｔｉ−Ｚｒ／ＭＹＬＡＲ
（商標名）及び４９Ｋ／ＳＢＬ／Ｔｉ−Ｚｒ／ＭＹＬＡ
Ｒ（商標名）を、これらの装置の製造に用いた。２００
〜３００ÅのＴｉ−Ｚｒ合金コーティングを有するＭＹ
ＬＡＲ（商標名）フィルム（７５μｍ）を、シラン即ち
２−アミノプロピルトリエトキシシラン−遮断層（ＳＢ
Ｌ）（２００〜５００Å）、次いで、ポリエステルＰＥ
１００又は４９Ｋ（共にデュポンから入手）の接着下塗
り層（２００〜５００Å）で重層して、各々ＰＥ１００
／ＳＢＬ／Ｔｉ−Ｚｒ／ＭＹＬＡＲ（商標名）又は４９
Ｋ／ＳＢＬ／Ｔｉ−Ｚｒ／ＭＹＬＡＲ（商標名）基体を
得た。Ｗ４０４コーティング溶液を、ウィトコ社から入
手された水性４０重量％のＷ４０４溶液（１ｇ）、テト
ラヒドロフラン（６９．３ｇ）、シクロヘキサンノン
（２９．７ｇ）を混合することによって製造した。この
Ｗ４０４コーティング溶液を、ＳＢＬ／Ｔｉ−Ｚｒ／Ｍ
ＹＬＡＲ（商標名）基体上に、０．０００５の寸法のバ
ードフィルムアプリケータを用いて薄Ｗ４０４層（２０
０〜５００Å）をコートするために用いて、この後、強
制通風オーブン中で３０分間、１００℃で乾燥し、Ｗ４
０４／ＳＢＬ／Ｔｉ−Ｚｒ／ＭＹＬＡＲ（商標名）基体
を得た。装置１及び４の製造工程は、下記の代表的な過
程に示されている。ＰＥ１００／ＳＢＬ／Ｔｉ−Ｚｒ／
ＭＹＬＡＲ（商標名）基体を、ガードナーコータの真空
板の上に置き、０．０００５の寸法のバードフィルムア
プリケータを該基体の頂部に置いた。約１ｍｌの顔料溶
液１を、基体上へ、該バードフィルムアプリケータに従
って、ピペットを用いて投入した。プレキシガラスダス
トカバーを、コーティングの前にコーティングボックス
上に被せた。収納ボックス内での溶媒の蒸発（約２〜３
分）の後、コートされた基体を、周囲温度で３０分間、
ヒュームフード中に吊し、その後錯体化され未反応のＡ
ｌＣｌ₃ を加水分解するために、水道水のトレイ中に５
分間置いた。洗浄されたフィルムを、空気乾燥し、その
後、琥珀ボトル中でＮ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′ビ
ス（３−メチルフェニル）−（１，１′−ビフェニル）
−４，４′−ジアミン（５ｇ）、ＭＡＫＲＯＬＯＮ（商
標名）（５ｇ）及び塩化メチレン（５６．５ｇ）の混合
物を完全な固体の可溶化が起こるまでロールミルして製
造した溶液を用いて、０．００３寸法のバードフィルム
アプリケータを使用して収納コーティングボックス内
で、輸送層によってコートした。得られた装置を、強制
通風オーブン中で３０分間、１００℃で乾燥した。顔料
及び輸送層の厚みは、各々、透過型電子顕微鏡（ＴＥ
Ｍ）により約０．３〜０．５μｍ及び顕微鏡により１
７．０μｍであると測定された。装置４を、溶液１を用
いてチタンフタロシアニン／ＡｌＣｌ₃ 錯体層による最
初の付着と同様に加工した。溶媒蒸発後、その上に、第
２のベンズイミダゾールペリレン／ＡｌＣｌ₃ 層を溶液
６を用いてコートした。その後、水洗し、風乾し、輸送
層コーティングを行い、オーブン乾燥を行って装置４を
得た。走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）によると、顔料層
は、検出可能な独立した顔料粒子を有しない高度に均一
（コヒーレント）で、フィルム状の画像を示し、分子分
散顔料層における高い程度の均一性を示した。

【００６６】

【表２】

【００６７】〔実施例３〕ベンズイミダゾールペリレン
／塩化アルミニウム（ＡｌＣｌ₃ ）溶液を、ベンズイミ
ダゾールペリレンと、塩化アルミニウムと、ニトロメタ
ン若しくはニトロメタン及び塩化メチレンの混合溶媒と
の混合物を、グローブボックス内の２０ｍｌバイアル
中、窒素雰囲気下で１２〜１６時間、電磁攪拌して製造
した。表３は、７つの代表的な顔料溶液における組成物
をまとめている。ベンズイミダゾールペリレンと塩化ア
ルミニウムとのモル比は、溶液８〜１３では１：６であ
り、溶液１４では１：４であった。溶液８、９及び１４
は、約２重量％の可溶化顔料を有し、簡単に０．４５マ
イクロフィルタを通過した；しかし、より高い顔料濃度
の溶液１０〜１３は、簡単にはろ過されなった。これは
ベンズイミダゾールペリレンが約２重量％で、ほぼ完全
に可溶化され得ること並びに、ベンズイミダゾールペリ
レン／ＡｌＣｌ₃ 錯体は、高い顔料濃度では凝集体を形
成し得ることを示した。表１に示された全ての溶液は、
実施例４で説明されるように、ベンズイミダゾールペリ
レン層のコーティングに好適であった。

【００６８】

【表３】

【００６９】〔実施例４〕表４は、実施例３で得られた
未ろ過ベンズイミダゾールペリレン／ＡｌＣｌ₃溶液に
より製造された７つのベンズイミダゾールペリレン含有
装置における加工パラメータをまとめている。この装置
における製造工程は、実施例２において説明されたもの
と本質的に同一であった。しかし、装置６及び７の顔料
層を、水で２回洗浄した。最初の洗浄は室温での水道水
を用い、次の洗浄は１０分間５０℃での脱イオン水を用
いた。該顔料層は、走査型電子顕微鏡により、検出可能
な独立した顔料粒子を有しない高度に均一なフィルム状
の画像を示し、これは、顔料層における非常に高い程度
の均一性を示すものである。顔料及び輸送層の各装置に
おける厚みも、表４に示されている。

【００７０】

【表４】

【００７１】〔実施例５〕 電気的特性評価 ゼログラフィック測定を、回転ドラムスキャナにおい
て、ここで説明されたように製造された画像形成部材の
３インチ×４インチ試料を用いて実施した。該試料は、
２０ｒｐｍで１０５ナノクーロン／ｃｍ² の平均電荷で
回転しているような定電流帯電条件下で負コロナにより
帯電された。この平均電荷は、４０ボルト／μｍの電界
に等しい。該試料の表面電位は、帯電からの種々の時間
に相当する、ドラムの円周の種々の位置に置かれたモン
ロー・エレクトロニクス(Monroe Electronics)非接触型
電圧計（モデル１４４）を用いて測定された。単色光に
対する露光を、帯電から４５度即ち帯電後３７５ミリセ
カンドの位置に置き、白色光消去を帯電後２．５３１秒
の位置に置き、電圧プローブを露光及び消去の後の電荷
をモニタするために置いた。電圧計のアウトプットは、
コンピュータによってデジタル化され、一連の全サイク
リングテスト値がコンピュータ制御下で、デジタル的に
集められた。単色光露光波長は、１０ｎｍ半値幅を有す
る一次干渉フィルタを用いて整合され、中密度フィルタ
を用いて光の強度が調節された。単色及び中密度フィル
タを、共に、コンピュータ又は手動により所望の波長及
び強度に合わせることが可能な回転ホイール上に載せ
た。試料を回転させ、図４はサイクリングによる装置電
圧の例であり、４つの電圧即ち帯電後に３つ及び除光後
に１つが示されている。図４に示される様に、電圧は、
サイクリングに対して非常に安定であり、１０ボルト未
満のランダムな変化はコロトロン帯電における１％変化
のためであり、電圧のシステム的な変化は１ボルト未満
である。１０００回の累積サイクルにわたって、電圧
は、一定の帯電条件下で１０ボルト未満だけ変化した。
残留電圧（Ｖ_R ）は、累積された１０００サイクルにわ
たって５ボルト未満で維持されていた。消去光を解除し
て帯電し、数回のサイクルにわたる電圧観察することに
よって、暗放電をモニタした。図５は、典型的な暗放電
を示し、これは、１０秒にわたる約２７ボルト毎秒の平
均暗放電を有していた。

【００７２】光放電曲線は、各サイクル毎にシャッタを
開閉すること並びに、露光の強度を変更することによっ
て得られた。図６は、帯電後０．７５秒及び６７０ｎｍ
光による露光後０．３７５秒に、装置第７において認め
られた典型的な放電曲線である。放電の傾き（Ｓ）は、
６０ボルト／ｅｒｇ／ｃｍ² であり、８００ボルトから
１００ボルトまで放電するために必要な露光（Ｅｘｐ）
は２１ｅｒｇ／ｃｍ²である。測定を６３０及び７８０
ｎｍでも行い、得られた感度（Ｓ）及び７００ボルト放
電に対する露光（Ｅｘｐ）は、各々、５８及び１６ボル
ト／ｅｒｇ／ｃｍ² （Ｓ）並びに２２及び７０ｅｒｇ／
ｃｍ² （Ｅｘｐ）であった。他の試料の相当するデータ
を、表５にまとめる。残留電圧（Ｖ_R ）及び０．２秒で
測定された初期電圧（Ｖ_0.2 ）は示された通りである。
暗放電値はボルト毎秒で測定される。

【００７３】

【表５】

【００７４】装置５、６及び７のＢＺＰ層を、エネルギ
ー分散Ｘ線解析（ＥＤＸＡ）により、１０ｋＶのＸ線光
電位を用いて試験した。結果は添付の表６にまとめられ
ている。検出されたＴｉ−Ｚｒカウントは、Ｘ線がＢＺ
Ｐ含有層（単数又は複数）の全体に浸透し、下塗りされ
たＴｉ−Ｚｒ層に到達したことを示している。積分され
たピークカウントは、バックグラウンドを引いた後に得
られた。本発明のルイス酸−顔料可溶化を適用せず、既
知のＢＺＰ昇華及び分散方法によって製造された各々の
装置におけるＥＤＸＡデータ（コントロール値）を、表
６の最終段に示されたように二重反復で得た。昇華及び
分散されたＢＺＰのいずれかを用いた対象試料を、前述
の４９Ｋ／ＳＢＬ／Ｔｉ−Ｚｒ基体を用いて製造した。
全ての対象試料においてＡｌ又はＣｌ種は、検出されな
かった。

【００７５】

【表６】

【００７６】

【発明の効果】本発明は、安定で簡便な、均一分散性の
顔料加工法を用いて、改良されたゼログラフィック特性
を有する光導電性画像形成部材を提供することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光導電性画像形成部材の実施例の部分
的概要図である。

【図２】本発明の光導電性画像形成部材の実施例の部分
的概要図である。

【図３】本発明の光導電性画像形成部材の実施例の部分
的概要図である。

【図４】本発明の実施例に係る画像形成装置のサイクル
による電圧（−Ｖ）安定性を示すグラフである。

【図５】本発明の実施例に係る画像形成装置の帯電−消
去サイクル後の暗放電を示すグラフである。

【図６】本発明の実施例に係る画像形成装置の放電曲線
を示すグラフである。

【図７】本発明において有効に用いられるチタンフタロ
シアニン化合物を表す化学式である。

【図８】本発明において有効に用いられるベンズイミダ
ゾールペリレン化合物を表す化学式である。

【図９】本発明において有効に用いられるペリレン誘導
体を表す化学式である。

【符号の説明】

１ 支持体 ３ 光励起層 ５ 電荷キャリア正孔輸送層 ７ 正孔電荷輸送分子 ９ 不活性樹脂状バインダ組成物 １１ 支持体 １５ 電荷キャリア正孔輸送層 １６ アリールアミン正孔輸送分子 １７ 不活性樹脂状バインダ組成物 １９ 光励起層 ２１ 顔料化合物 ３１ 支持体 ３２ 光励起層 ３３ 分子分散顔料

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｇ 5/06 ３８４ Ｇ０３Ｇ 5/06 ３８４ (72)発明者 エドワード エフ．グラボウスキ アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14580 ウェブスター シェアボーン ロード 479 (72)発明者 アンドルー アール．メルニク アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14610 ロチェスター ウィンデメア ロード 140 (56)参考文献 特開 平３−171053（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−54440（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−40837（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−250655（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−177069（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03G 5/00 - 5/16

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 可溶化された顔料−ルイス酸錯体と非プ
   ロトン性溶媒系を含む溶液を提供し、この溶液を基体上
   にコーティングして前記基体上に光励起フィルム又はコ
   ーティング層を形成し、このフィルム層又はコーティン
   グ層を乾燥させ、乾燥したフィルム層を非プロトン性溶
   媒系で洗浄して前記ルイス酸を除去し、コーティングさ
   れた基体を乾燥させる光導電性画像形成部材の製造方
   法。
2. 【請求項２】 前記溶液がさらにバインダ樹脂を含む請
   求項１記載の光導電性画像形成部材の製造方法。
3. 【請求項３】 電荷輸送層及び／又は保護的上塗り層を
   コーティングされた前記基体に形成することをさらに含
   む請求項１又は２記載の光導電性画像形成部材の製造方
   法。
4. 【請求項４】 支持体と、金属フタロシアニン、無金属
   フタロシアニン、キナクリドン、ベンズイミダゾールペ
   リレン、ペリレンテトラカルボキシルジイミド、置換
   ２，４−ジアミノトリアジン、スクアライン、多核芳香
   族キノン、チオピリリウム及びこれらの混合物からなる
   群より選択された分子分散顔料を含み且つ支持体に接触
   している光励起層を含み、ここで分子分散顔料層は１０
   〜１００００ｐｐｍの残留ルイス酸含量を含む、光導電
   性画像形成部材。
5. 【請求項５】 支持体と、金属フタロシアニン、無金属
   フタロシアニン、キナクリドン、ベンズイミダゾールペ
   リレン、ペリレンテトラカルボキシルジイミド、置換
   ２，４−ジアミノトリアジン、スクアライン、多核芳香
   族キノン、チオピリリウム及びこれらの混合物からなる
   群より選択されバインダ樹脂に分散された分子分散顔料
   を含み且つ支持体に接触している光励起層と、電荷輸送
   層と、その上に最上又は保護的上塗り層とを含み、ここ
   で分子分散顔料層は１０〜１００００ｐｐｍの残留ルイ
   ス酸含量を含む、光導電性画像形成部材。