JPS63238716A - スイッチ回路 - Google Patents
スイッチ回路Info
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- JPS63238716A JPS63238716A JP62286508A JP28650887A JPS63238716A JP S63238716 A JPS63238716 A JP S63238716A JP 62286508 A JP62286508 A JP 62286508A JP 28650887 A JP28650887 A JP 28650887A JP S63238716 A JPS63238716 A JP S63238716A
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- Japan
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- fets
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/06—Modifications for ensuring a fully conducting state
- H03K17/063—Modifications for ensuring a fully conducting state in field-effect transistor switches
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/51—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
- H03K17/56—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
- H03K17/687—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
- H03K17/693—Switching arrangements with several input- or output-terminals, e.g. multiplexers, distributors
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
- Waveguide Switches, Polarizers, And Phase Shifters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、スイッチ回路に関し、特にマイクロ波帯やミ
リ波帯で使用される電界効果トランジスタ(以後FET
という)を用いたスイッチ回路に関する。
リ波帯で使用される電界効果トランジスタ(以後FET
という)を用いたスイッチ回路に関する。
従来、この種のFETスイッチ回路は、第6図の回路図
に示すように、4個のF E T Q 1〜Q4を用い
て構成されていた。この回路は、1個の入力端子11と
2個の出力端子12.13を持つ典型的な1人力2出力
(SPDT)スイッチ回路を示されるF E T Q
3 、 Q 4とから構成されている。また、これらの
FETとしてはGaAsを利用したMESFET (m
etal semiconductor field
effect transistor)が用いられてい
る。GaAsを用いたMESFETは通常はディプレッ
ション型であるためこれらFETの一方のゲート電圧V
。1を零ポルト、他方のゲート電圧V。2をFETのし
きい値電圧■ア以下の負の電位に設定することによリ、
F’ETQIとQ4は低抵抗となり、FETQ。
に示すように、4個のF E T Q 1〜Q4を用い
て構成されていた。この回路は、1個の入力端子11と
2個の出力端子12.13を持つ典型的な1人力2出力
(SPDT)スイッチ回路を示されるF E T Q
3 、 Q 4とから構成されている。また、これらの
FETとしてはGaAsを利用したMESFET (m
etal semiconductor field
effect transistor)が用いられてい
る。GaAsを用いたMESFETは通常はディプレッ
ション型であるためこれらFETの一方のゲート電圧V
。1を零ポルト、他方のゲート電圧V。2をFETのし
きい値電圧■ア以下の負の電位に設定することによリ、
F’ETQIとQ4は低抵抗となり、FETQ。
とQ、とは高抵抗となる。従って、入力端子11と出力
端子12との間は導通状態(ON)となり、他方の出力
端子13と入力端子11との間は遮断状態(OFF)と
なる。各F E T Q + 、 Q 4のゲート電圧
V。1を、それぞれ先に述べた負電圧、ゲート電圧v0
2を零ポルトに設定することにより、0N−OFFの切
換が行なわれる。
端子12との間は導通状態(ON)となり、他方の出力
端子13と入力端子11との間は遮断状態(OFF)と
なる。各F E T Q + 、 Q 4のゲート電圧
V。1を、それぞれ先に述べた負電圧、ゲート電圧v0
2を零ポルトに設定することにより、0N−OFFの切
換が行なわれる。
上述したスイッチ回路に使用されるMESFETは、第
7図に示すように、半絶縁性G a A s基板21上
の活性層22にショットキ接触するゲート電極23と、
オーミック接触するソース電極24、ドレイン電極25
を設けた構造のものである。ゲート電極23がしきい値
電圧より低くバイアスされると空乏領域26が半絶縁性
基板21に達し、高抵抗のオフ状態となる。ゲート23
とソース24間あるいはゲート23とドレイン25間の
活性層22の表面には表面状態の不安定さに起因したリ
ーク27が存在し、その結果ゲート電極23を介してソ
ース24とドレイン25間にリークが生じる。また空乏
領域26や半絶縁性のGaAs基板21を介してもソー
ス24やドレイン25間にリーク28が存在する。
7図に示すように、半絶縁性G a A s基板21上
の活性層22にショットキ接触するゲート電極23と、
オーミック接触するソース電極24、ドレイン電極25
を設けた構造のものである。ゲート電極23がしきい値
電圧より低くバイアスされると空乏領域26が半絶縁性
基板21に達し、高抵抗のオフ状態となる。ゲート23
とソース24間あるいはゲート23とドレイン25間の
活性層22の表面には表面状態の不安定さに起因したリ
ーク27が存在し、その結果ゲート電極23を介してソ
ース24とドレイン25間にリークが生じる。また空乏
領域26や半絶縁性のGaAs基板21を介してもソー
ス24やドレイン25間にリーク28が存在する。
再び第6図の参照すると、ゲート電圧V。1を零ポルト
に設定し、ゲー)Vo、をFETのしきい値以下の負の
電圧に設定した場合においてはF’ETQ4がオン状態
であり、その抵抗値は約10Ωの低抵抗であるため出力
端子13は零電位に保たれている。しかしながら、オフ
状態にあるFETQ2のソースとドレイン間には接地よ
りF E T Q 4を通って微小なリーク電流が流れ
、FETQ2自身が高抵抗状態にあるため、FETQ2
の両端に17以上の電位差が生じ入力端子11にこの電
位差に相当する負電位が現われる。同様に、FETQ3
により出力端12に負電位が生じる。これらの端子の電
位はF E T Q 2とQ3のオフ時の抵抗値やリー
クの大きさ等のばらつき及びF E T Q 4のON
抵抗値により0.5 V以上も異なる電位を示す。この
様に入力端子11と出力端子12との間に電位差が存在
する場合、FETQ、のON抵抗は増加し、入出力端子
間の挿入損失が増大する。
に設定し、ゲー)Vo、をFETのしきい値以下の負の
電圧に設定した場合においてはF’ETQ4がオン状態
であり、その抵抗値は約10Ωの低抵抗であるため出力
端子13は零電位に保たれている。しかしながら、オフ
状態にあるFETQ2のソースとドレイン間には接地よ
りF E T Q 4を通って微小なリーク電流が流れ
、FETQ2自身が高抵抗状態にあるため、FETQ2
の両端に17以上の電位差が生じ入力端子11にこの電
位差に相当する負電位が現われる。同様に、FETQ3
により出力端12に負電位が生じる。これらの端子の電
位はF E T Q 2とQ3のオフ時の抵抗値やリー
クの大きさ等のばらつき及びF E T Q 4のON
抵抗値により0.5 V以上も異なる電位を示す。この
様に入力端子11と出力端子12との間に電位差が存在
する場合、FETQ、のON抵抗は増加し、入出力端子
間の挿入損失が増大する。
軸はドレイン・ソース間電流(工。、)を示し、ゲート
・ソース間電圧V。9をパラメータとして示している。
・ソース間電圧V。9をパラメータとして示している。
FETQ、のON抵抗は、これらの曲線の接置の傾きの
逆数に等しく、電圧vnsが零ポルトの時最大の傾き(
最小の抵抗)を有し、この理想的な動作点は点Aである
。しかし、入出力端子間に電位差を持つ場合には、動作
点が上方の点Bの方に移動し、ON抵抗が例えば16Ω
に増大し挿入損失0.2 d Bを劣化させる。またF
’ETQ、〜Q4のオン時、オフ時の抵抗値やリークの
程度がそれぞれのFETで異なるため、出力端子間の挿
入損失に約0.2dBのアンバランスが生じてしまう。
逆数に等しく、電圧vnsが零ポルトの時最大の傾き(
最小の抵抗)を有し、この理想的な動作点は点Aである
。しかし、入出力端子間に電位差を持つ場合には、動作
点が上方の点Bの方に移動し、ON抵抗が例えば16Ω
に増大し挿入損失0.2 d Bを劣化させる。またF
’ETQ、〜Q4のオン時、オフ時の抵抗値やリークの
程度がそれぞれのFETで異なるため、出力端子間の挿
入損失に約0.2dBのアンバランスが生じてしまう。
本発明の目的は、このような欠点を除き、挿入損失を劣
化させることなく、安定に動作するスイッチ回路を提供
することにある。
化させることなく、安定に動作するスイッチ回路を提供
することにある。
本発明の構成は、入出力端子間にドレインとソースとが
直列に挿入された電界効果トランジスタのゲート電圧を
可変することにより、この電界効果トランジスタのドレ
イン・ソース間の抵抗を大きくあるいは小さくしてオフ
あるいはオンとするスイッチ回路において、前記電界効
果トランジスタの入力端および出力端と接地との間にそ
れぞれ抵抗を接続し、これらの抵抗の抵抗値を前記電界
効果トランジスタのオフ時の抵抗値より小さく負荷抵抗
よりも充分大きな値としたことを特徴とする。
直列に挿入された電界効果トランジスタのゲート電圧を
可変することにより、この電界効果トランジスタのドレ
イン・ソース間の抵抗を大きくあるいは小さくしてオフ
あるいはオンとするスイッチ回路において、前記電界効
果トランジスタの入力端および出力端と接地との間にそ
れぞれ抵抗を接続し、これらの抵抗の抵抗値を前記電界
効果トランジスタのオフ時の抵抗値より小さく負荷抵抗
よりも充分大きな値としたことを特徴とする。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の第1の実施例の回路図である。
1個の入力端子11と2個の出力端子12.13との間
に直列にF E T Q 1. Q 2が挿入され、F
’ETQ3.Q4が出力端子12.13と接地間に並列
に接続される。これと同時に低抗体R1,R2、R3が
、入力端子11と接地との間、および直列に挿入された
FETQ、、Q2の両側(ドレイン及びソース側)と接
地との間に接続されている。
に直列にF E T Q 1. Q 2が挿入され、F
’ETQ3.Q4が出力端子12.13と接地間に並列
に接続される。これと同時に低抗体R1,R2、R3が
、入力端子11と接地との間、および直列に挿入された
FETQ、、Q2の両側(ドレイン及びソース側)と接
地との間に接続されている。
MESFETのオフ時の抵抗値は通常100にΩ以上で
ある。また入力端子12.13に接続される負荷はマイ
クロ波やミリ波領域では挿入損失(insortion
1oss)の増加を抑えるため通常50Ωの特性イ
ンピーダンスを持つものが用いられる。
ある。また入力端子12.13に接続される負荷はマイ
クロ波やミリ波領域では挿入損失(insortion
1oss)の増加を抑えるため通常50Ωの特性イ
ンピーダンスを持つものが用いられる。
低抗体’R,,R2,R3の値をオフ状態のMESFE
Tの値より小さい値、好ましくは10にΩ以下に、例え
ば5にΩにすることによりMESFETの両端に生じる
電位差は1桁以上小さくなり、MESFETのオン抵抗
の増加を非常に小さくできる。また入力端子12.13
に接続さhる50Ωの負荷より、約20倍以上太き((
1にΩ)、好ましくは100倍(5にΩ)とすることに
よって挿入損失の増加を抑えることができる。しかしな
がら、10にΩ以上の抵抗なG a A s基板に設け
ることは困難である。これは、抵抗の長さが長くなりす
ぎたり、不純物の制御が困難となるからである。
Tの値より小さい値、好ましくは10にΩ以下に、例え
ば5にΩにすることによりMESFETの両端に生じる
電位差は1桁以上小さくなり、MESFETのオン抵抗
の増加を非常に小さくできる。また入力端子12.13
に接続さhる50Ωの負荷より、約20倍以上太き((
1にΩ)、好ましくは100倍(5にΩ)とすることに
よって挿入損失の増加を抑えることができる。しかしな
がら、10にΩ以上の抵抗なG a A s基板に設け
ることは困難である。これは、抵抗の長さが長くなりす
ぎたり、不純物の制御が困難となるからである。
抵抗R1,R2,Rsがない場合挿入損失は0.6dB
となるが、1にΩの抵抗R1,R2,Rsを使用した場
合では挿入損失が0.55dBとなり、5にΩの抵抗R
1,R2,R3を用いた場合には0.5dBと改善でき
る。
となるが、1にΩの抵抗R1,R2,Rsを使用した場
合では挿入損失が0.55dBとなり、5にΩの抵抗R
1,R2,R3を用いた場合には0.5dBと改善でき
る。
また出力端子間の挿入損失のアンバランスは、1〜10
にΩの抵抗値を持つ抵抗’R1,:R2,Rsを用いた
場合は0.05dBとなり、抵抗を用いない従来のスイ
ッチの0.2 d Bと比べ非常に小さい値となる。さ
らにこのように抵抗R1,R2,R3を設けても入出力
端子間の分離は18dBのままであり変化しない。
にΩの抵抗値を持つ抵抗’R1,:R2,Rsを用いた
場合は0.05dBとなり、抵抗を用いない従来のスイ
ッチの0.2 d Bと比べ非常に小さい値となる。さ
らにこのように抵抗R1,R2,R3を設けても入出力
端子間の分離は18dBのままであり変化しない。
第2図は本実施例のスイッチをG a A s基板に集
積化したものの一部の断面図である。半絶縁性基板51
上にSiを選択的にイオン注入することにより、約2X
1017/−の不純物濃度を持つn型の活性層52や約
5 X 10 ”/aAの不純物濃度を持つ抵抗層53
を形成する。活性層52にはアルミニウムのゲート電極
54と、Ge−Niを用いたソースとドレイン電極55
を設けMESFETを形成し、抵抗層53の両端にもG
e−Niを用いたオーミック電極56を設ける。表面に
は5i02の保護膜58が設けられている。このような
構造のFETや抵抗を基板51上に所定数形成し、金配
線57により相互に接続することにより本実施例のスイ
ッチがGaAs基板51上に形成される。スイッチが形
成されたGaAs基板51は容器又は回路基板の固定電
位に保たれた素る。
積化したものの一部の断面図である。半絶縁性基板51
上にSiを選択的にイオン注入することにより、約2X
1017/−の不純物濃度を持つn型の活性層52や約
5 X 10 ”/aAの不純物濃度を持つ抵抗層53
を形成する。活性層52にはアルミニウムのゲート電極
54と、Ge−Niを用いたソースとドレイン電極55
を設けMESFETを形成し、抵抗層53の両端にもG
e−Niを用いたオーミック電極56を設ける。表面に
は5i02の保護膜58が設けられている。このような
構造のFETや抵抗を基板51上に所定数形成し、金配
線57により相互に接続することにより本実施例のスイ
ッチがGaAs基板51上に形成される。スイッチが形
成されたGaAs基板51は容器又は回路基板の固定電
位に保たれた素る。
第3図は本発明の第2の実施例の回路図で、第1の実施
例に、さらに直列のFETQj、Q、および出力端子1
2.13との間に接地された抵抗体R,,R,を付加し
たものであり、第1の実施例のスイッチではアイソレー
ションが18dBであったのに比べ、本実施例では通過
損失(アイソレーション)を40dBと大きく取ること
が出来る。
例に、さらに直列のFETQj、Q、および出力端子1
2.13との間に接地された抵抗体R,,R,を付加し
たものであり、第1の実施例のスイッチではアイソレー
ションが18dBであったのに比べ、本実施例では通過
損失(アイソレーション)を40dBと大きく取ること
が出来る。
本実施例においても、抵抗体R1〜R3が挿入されるこ
とにより、直列に挿入されているFE’TQl、Ql、
Qs、Qaのドレイン及びソース電位がほぼ零ポルトと
なり、例えば、抵抗R1〜R3を5にΩとした場合には
挿入損失は0.9 d Bであった。一方、抵抗R1〜
R6を使用しない場合は挿入損失が1.2 d Bと非
常に大きい値となる。
とにより、直列に挿入されているFE’TQl、Ql、
Qs、Qaのドレイン及びソース電位がほぼ零ポルトと
なり、例えば、抵抗R1〜R3を5にΩとした場合には
挿入損失は0.9 d Bであった。一方、抵抗R1〜
R6を使用しない場合は挿入損失が1.2 d Bと非
常に大きい値となる。
第4図は本発明のスイッチ72をレーダー(radar
)装置に応用した例を示したものであり、端子11はレ
ーダーアンテナに、端子12は送信機73に、端子13
は受信機74にそれぞれ接続され、スイッチ72により
送信機73と受信機74が切り換えられる。
)装置に応用した例を示したものであり、端子11はレ
ーダーアンテナに、端子12は送信機73に、端子13
は受信機74にそれぞれ接続され、スイッチ72により
送信機73と受信機74が切り換えられる。
第5図は本発明のスイッチを2個用いて位相器(pha
se 5hifter)を構成したときのブロック図を
示したものであり、スイッチ81とスイッチ82の間に
各信号の位相をシフトさせる位相回路(phase 5
hift circuit) 83.84が挿入されて
おり、スイッチ81と82を切り換えることによって位
相の異なる信号が得られる。この位相器ではスイッチ8
1.82の挿入損失が小さいことに加えて出力端子12
.13間の挿入損失に差がないことが要求されるが、本
発明のスイッチはこのような場合に適用すれば優れた効
果が得られる。
se 5hifter)を構成したときのブロック図を
示したものであり、スイッチ81とスイッチ82の間に
各信号の位相をシフトさせる位相回路(phase 5
hift circuit) 83.84が挿入されて
おり、スイッチ81と82を切り換えることによって位
相の異なる信号が得られる。この位相器ではスイッチ8
1.82の挿入損失が小さいことに加えて出力端子12
.13間の挿入損失に差がないことが要求されるが、本
発明のスイッチはこのような場合に適用すれば優れた効
果が得られる。
以上説明したように本発明は、入出力間に直列に挿入さ
れるFETの各ドレイン及びソース電極との接地間に、
FETのOFF時のDC抵抗値に比べ小さく、かつ負荷
抵抗(〜50Ω)に比べ十分大きな抵抗体を接続するこ
とにより、安定で理想的な動作をするスイッチ回路が得
られる。
れるFETの各ドレイン及びソース電極との接地間に、
FETのOFF時のDC抵抗値に比べ小さく、かつ負荷
抵抗(〜50Ω)に比べ十分大きな抵抗体を接続するこ
とにより、安定で理想的な動作をするスイッチ回路が得
られる。
尚、本発明はG a A sショットキーゲートFET
に限らず他のIII−V族化合物半導体やStを用いた
ショットキーゲー)PETもしくはPN接合ゲー)FE
Tにも適用できるものである。
に限らず他のIII−V族化合物半導体やStを用いた
ショットキーゲー)PETもしくはPN接合ゲー)FE
Tにも適用できるものである。
第1図は本発明の第1の実施例の回路図、第2図は本発
明の第1の実施例のスイッチを集積化したときの一部の
断面図、第3図は本発明の第2の実施例の回路図、第4
図は本発明のスイッチを用いたレーダー装置のブロック
図、第5図は本発明のスイッチを用いた位相器のブロッ
ク図、第6図は従来のスイッチの回路図、第7図はスイ
ッチに用いられるトランジスタを説明するための断面図
、第8図はスイッチに用いられるトランジスタ直流特性
図である。 Q1〜Q6・・・・・・F E T、 R+〜R3・・
・・・・抵抗体、11・・・・・・入力端子、12.1
3・・・・・・出力端子、21・・・・・・半絶縁性G
a A s基板、22・・・・・・活性層、23・・
・・・・ゲート電極、24・・・・・・ソース電極、2
5・・・・・・ドレイン電極、26・・・・・・空乏領
域、27・・・・・・リーク、28・・・・・・リーク
、51・・・・・・半絶縁性G a A s基板、52
・・・・・・活性層、53・・・・・・抵抗層、54・
・・・・・ゲート、55・・・・・・ソース・ドレイン
領域、56・・・・・・オーミック電極、57・・・・
・・金配線、58・・・・・・保護膜、59・・・・・
・金線、60・・・・・・素子取付部、71・・・・・
・レーダーアンテナ、72・・・・・・スイッチ、73
・・・・・・送信機、74・・・・・・受信機、81゜
82・・・・・・スイッチ、83.84・・・・・・位
相回路。
明の第1の実施例のスイッチを集積化したときの一部の
断面図、第3図は本発明の第2の実施例の回路図、第4
図は本発明のスイッチを用いたレーダー装置のブロック
図、第5図は本発明のスイッチを用いた位相器のブロッ
ク図、第6図は従来のスイッチの回路図、第7図はスイ
ッチに用いられるトランジスタを説明するための断面図
、第8図はスイッチに用いられるトランジスタ直流特性
図である。 Q1〜Q6・・・・・・F E T、 R+〜R3・・
・・・・抵抗体、11・・・・・・入力端子、12.1
3・・・・・・出力端子、21・・・・・・半絶縁性G
a A s基板、22・・・・・・活性層、23・・
・・・・ゲート電極、24・・・・・・ソース電極、2
5・・・・・・ドレイン電極、26・・・・・・空乏領
域、27・・・・・・リーク、28・・・・・・リーク
、51・・・・・・半絶縁性G a A s基板、52
・・・・・・活性層、53・・・・・・抵抗層、54・
・・・・・ゲート、55・・・・・・ソース・ドレイン
領域、56・・・・・・オーミック電極、57・・・・
・・金配線、58・・・・・・保護膜、59・・・・・
・金線、60・・・・・・素子取付部、71・・・・・
・レーダーアンテナ、72・・・・・・スイッチ、73
・・・・・・送信機、74・・・・・・受信機、81゜
82・・・・・・スイッチ、83.84・・・・・・位
相回路。
Claims (1)
- 入出力端子間にドレインとソースとが直列に挿入された
電界効果トランジスタのゲート電圧を可変することによ
り、この電界効果トランジスタのドレイン・ソース間の
抵抗を大きくあるいは小さくしてオフあるいはオンとす
るスイッチ回路において、前記電界効果トランジスタの
ドレインおよびソースと固定電位との間にそれぞれ抵抗
を接続し、これら抵抗の抵抗値を前記電界効果トランジ
スタのオフ時の抵抗値より小さく負荷抵抗よりも充分大
きな値としたことを特徴とするスイッチ回路。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61-271163 | 1986-11-14 | ||
JP27116386 | 1986-11-14 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63238716A true JPS63238716A (ja) | 1988-10-04 |
JPH0563966B2 JPH0563966B2 (ja) | 1993-09-13 |
Family
ID=17496214
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62286508A Granted JPS63238716A (ja) | 1986-11-14 | 1987-11-13 | スイッチ回路 |
Country Status (2)
Country | Link |
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