JPS63171446A - 光学的記録用媒体の製造方法 - Google Patents

光学的記録用媒体の製造方法

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JPS63171446A
JPS63171446A JP62002966A JP296687A JPS63171446A JP S63171446 A JPS63171446 A JP S63171446A JP 62002966 A JP62002966 A JP 62002966A JP 296687 A JP296687 A JP 296687A JP S63171446 A JPS63171446 A JP S63171446A
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alloy
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Yoshimitsu Kobayashi
喜光 小林
Yoshiyuki Shirosaka
欣幸 城阪
Michikazu Horie
通和 堀江
Takanori Tamura
田村　孝憲
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、基板上に形成した記録用薄膜にレーザービー
ムを照射して局所的に加熱し、その加熱部に穴もしくは
凹部又は凸部を形成することによって記録する光学的記
録用媒体の製造法に関するものである。
（従来の技術及びその問題点） 基板上に形成された薄膜にレーザービームを照射して穴
もしくは凹部又は凸部を形成するようにした光学的記録
用媒体として従来よりＴｅを使用することが知られてい
る。Ｔｅは光吸収係数が大きく、低融点、低熱伝導度で
あるために、上記方法による記録において高い感度を示
す。しかし、Ｔｅは酸化され易く酸化されると光吸収の
効率が悪化し、記録感度が劣化するという問題がある。
上記問題点を改良したものとしてＴｅの他にＢｅを含ま
せ合金化したもの、Ｔｅの低酸化物、Ｔｅを有機物重合
膜中に分散させたもの等がある。（例えば特開昭ｊ３−
３／１０≠号公報、特開昭Ｋ　（５’　−３−弘３３／
号公報、特開昭ｊ２−ワ♂３り弘号公報） 上記記録媒体は真空蒸着法、イオンブレーティング法に
よって作製される場合もあるが、一般に、生産性、制御
性の良さからスパッタリング法によることが多い。さら
に、スパッタリングによって得られる記録媒体の結晶性
、光学的特性、経時安定性等を改善するために、反応性
スパッタリングを行うことも多い。（特開≦／　−７７
と７≠６、同ｔ／　−７６７／、ｆ／、同乙０−／７２
６μ７等） 本発明者らは、Ｔｅをターゲット材として、Ａｒまたは
Ａｒと各種反応性ガスとの混合ガス中にてスパッタリン
グすることにより、基板上にＴｅを主成分とする堆積膜
を形成する方法について種々検討を行った。その結果Ｔ
ｅ単独を焼結あるいはターゲットを用いた場合、たとえ
真空中に保存してもターゲット表面が酸化されやすいた
めに、Ｔｅのスパッタリングレートが変動したり、異常
放電が生じたりするという問題点があった。特に、反応
性スパッタリングにおいテハ、スパッタリングレートの
わずかな変動が堆積膜の組成変動の要因となり、この結
果、記録媒体としての特性に再枦性が得られなくなる。
金属ターゲット表面の酸化層を除去する手段として一般
には不活性ガスによるプリスパッタリングが行なわれて
いるが、プリスパッタリング時の放電条件や時間は、タ
ーゲット表面の酸化状態によって異なり最適条件を見い
出すことは難しい。特に直流スパッタリングを行う場合
には、プリスパッタそのものが異常放電によシ、中断さ
れる場合がある。
（問題点を解決するための手段） 本発明者らは、酸化に対して安定な種々の微量元素をＴ
ｅと混合した合金ターゲットを用いることにより、ター
ゲット表面酸化によるスパッタリングレートの変動及び
異常放電を防止する方法について検討し、本発明に到達
した。
すなわち、本発明の要旨は、Ｔｅ系ターゲット材を用い
、Ａｒガス中でスパッタリングを行なって、基板上にＴ
ｅを主成分とする堆積膜を形成する光学的記録用媒体の
製造方法において、Ｔｅ系ターゲット材としてＳｅを１
〜３０原子係含むＴｅ合金を使用することを特徴とする
光学的記録用媒体の製造方法にある。
（発明の構成） 本発明におけるＴｅ及びＳｅを含む合金ターゲットは通
常の焼結法あるいは溶融法等によって作製されるもので
容易に入手可能である。
上記Ｔｅ及びＳｅを含む合金ターゲットを用い、通常の
高周波又は直流放電スパッタリング装置により記録媒体
の成膜を行う。得られる堆積膜中には通常、ターゲット
組成とほぼ等しいＳｅが含まれる。Ｔｅを主成分とする
記録媒体にＳｅを含有させることは記録媒体自体の酸化
による劣化を防止する効果もある。このような目的に対
してはターゲット中のＳｅ含有量をｊ〜３０原子係とす
るのが良い。ただしＳｓを、含ませることによシ、記録
媒体の溶融時の表面張力が減少するため、表面張力を利
用してレーザー光照射黒部を変形させビットを形成する
ような場合には３０原子チ以上の、Ｂｅを含有させるこ
とは好ましくない。特に記録媒体の表面張力の減少が問
題となる場合にはターゲット中のＳｅ量を１〜ｊ原子チ
とすれば良く、この程度のＳｅ含有量でもターゲット表
面の酸化防止に効果がある。
本発明においては、スパッタリングガスとしてＡｒ　ｉ
たはＡｒと反応性ガスとの混合ガスを用いる。記録媒体
の経時安定性、光学的特性あるいは記録感度等を改善す
るためにＴｅ及びＳｅに加えて他の元素を記録媒体に含
ませることもできる。例えば、二硫化炭素や炭化水素ガ
スを反応性ガスとして用い、記録媒体中に炭素、硫黄ま
たは水素を含ませることは穴あけによってビットを形成
する場合に記録感度を改善する効果がある。また、反応
性ガスとして窒素あるいはフッ化物ガスを用いた場合に
は記録媒体を均一な非晶質構造とし、再生光ノイズ、ビ
ット形状の乱れ、場所による記録感度むらを解消するの
に効果がある。
上記反応性ガスとＡｒ　ｌの混合比は、反応性ガスの種
類あるいは目的とする記録媒体の特性によって異なって
くるが、成膜速度の極端な減少を防止するためにはＡｒ
　ｔ　−ｆ　Ｏ体積チ以上含有させる。
本発明によれば、ターゲット表面の酸化によるスパッタ
リングレートの変動を防止できるために、上記反応スパ
ッタリングによる堆積膜の組成変動を防止するのに著し
い効果がある。
一方、記録媒体中に、Ｔｅ及びＳｅに加えて他の元素を
含ませる方法として、Ｔｅ及びＳｅを含む合金ターゲッ
ト中に目的とする元素を添加する方法が挙げられる。例
えばＰＩ）、　Ｂｉ、５ｂ１Ｓｎ、Ｉｎ、　Ｇｏ、　Ａ
ｓ　　等を添加することにより、記録媒体特性を制御す
ることができる。
以下、実施例を以って本発明の詳細な説明する。
（実施例） 第１図は本発明に係る光学的記録媒体の製造のための装
置の一例である。図中（１）は真空容器、（２）は電極
、（３）はＴｅ及びＳｅを含む合金ターゲット、（４）
は基板、（５）はガス導入口、（６）はシャッター、（
７）は排気口である。ターゲットは２≠時間大え中に放
置したものを用いた。
真空容器（１）を１０　　Ｔｏｒｒまで排気した後Ａｒ
ガスを導入口（５）よシ導入し、容器の内圧を５×１０
　　Ｔｏｒｒとする。ひき続き電極（２）の間に高周波
電圧を印加し、放電を起こしスパッタリングを行った。
膜厚モニタ（８）により成膜速度の変化をモニタした結
果を第二図に示す。第２図において、（ａ）はターゲッ
トがＴｅり０原子％、５ｅ１０原子係からなる合金ター
ゲットの場合、（ｂ）はＴｅターゲットの場合である。
（ｂ）の場合にはターゲット表面が酸化されているため
放電開始直後の成膜速度は小さく、放電時間とともに表
面酸化層が徐々に除去されて成膜している。表面酸化層
が完全に除去されて、安定なスパッタリングが行なえる
までに３分間を要した。このときの放電パワー密度はｏ
、３ｖｙ１０ｔｉである。一方（Ｃ）のＴｅ　Ｂｅ合金
ターゲットの場合には放電開始直後から全く一定の成膜
速度を示し、安定なスパッタリングが可能であることが
わかる。
（発明の効果） 本発明に用いる合金ターゲットは酸化されに＜＜、従っ
てスパッタリング開始時から安定したスパッタリングが
行ない得る。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明方法に用いる装置の一例の概略図、第２
図は成膜速度変化を経時的に示すグラフである。 図中／は真空容器、２は電極、３はターゲット、≠は基
板をそれぞれ示す。 出　願　人　　三菱化成工業株式会社 代　理　人　　弁理士　長谷用　　　−（ほか７名） 第　１　図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）Ｔｅ系ターゲット材を用いＡｒ含有ガス中でスパ
    ッタリングを行なつて基板上にＴｅを主成分とする堆積
    膜を形成する光学的記録用媒体の製造方法において、Ｔ
    ｅ系ターゲット材としてＳｅを１〜３０原子％含むＴｅ
    合金を使用することを特徴とする光学的記録用媒体の製
    造方法。
JP62002966A 1986-04-24 1987-01-09 光学的記録用媒体の製造方法 Pending JPS63171446A (ja)

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JPH01220153A (ja) * 1988-02-26 1989-09-01 Toshiba Corp 情報記録媒体の製造方法

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US4839207A (en) 1989-06-13

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