JPS63140634U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS63140634U JPS63140634U JP3301487U JP3301487U JPS63140634U JP S63140634 U JPS63140634 U JP S63140634U JP 3301487 U JP3301487 U JP 3301487U JP 3301487 U JP3301487 U JP 3301487U JP S63140634 U JPS63140634 U JP S63140634U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring
- insulating film
- metal wiring
- interlayer insulating
- via hole
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
Landscapes
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Description
第1図は一実施例を示す断面図、第2図Aない
し同図Fは同実施例の製造工程を示す断面図、第
3図Aないし同図Gは同実施例の他の製造工程を
示す断面図、第4図Aないし同図Eは従来の多層
配線の製造工程を示す断面図である。 2……下地、4……下層メタル配線、10……
層間絶縁膜、12……上層メタル配線。
し同図Fは同実施例の製造工程を示す断面図、第
3図Aないし同図Gは同実施例の他の製造工程を
示す断面図、第4図Aないし同図Eは従来の多層
配線の製造工程を示す断面図である。 2……下地、4……下層メタル配線、10……
層間絶縁膜、12……上層メタル配線。
Claims (1)
- 下層メタル配線と上層メタル配線との間に層間
絶縁膜が介在し、両メタル配線が前記層間絶縁膜
のビアホールを経て接続されている配線において
、前記上層メタル配線の表面がビアホール部分と
前記層間絶縁膜上部分とで同一高さになつている
ことを特徴とする半導体集積回路装置の配線。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3301487U JPS63140634U (ja) | 1987-03-05 | 1987-03-05 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3301487U JPS63140634U (ja) | 1987-03-05 | 1987-03-05 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63140634U true JPS63140634U (ja) | 1988-09-16 |
Family
ID=30840228
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3301487U Pending JPS63140634U (ja) | 1987-03-05 | 1987-03-05 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63140634U (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60192348A (ja) * | 1984-03-13 | 1985-09-30 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 半導体集積回路の多層配線の形成方法 |
JPS61208849A (ja) * | 1985-03-13 | 1986-09-17 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
JPS61208851A (ja) * | 1985-03-13 | 1986-09-17 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
JPS61239646A (ja) * | 1985-04-16 | 1986-10-24 | Nec Corp | 多層配線の形成方法 |
-
1987
- 1987-03-05 JP JP3301487U patent/JPS63140634U/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60192348A (ja) * | 1984-03-13 | 1985-09-30 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 半導体集積回路の多層配線の形成方法 |
JPS61208849A (ja) * | 1985-03-13 | 1986-09-17 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
JPS61208851A (ja) * | 1985-03-13 | 1986-09-17 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
JPS61239646A (ja) * | 1985-04-16 | 1986-10-24 | Nec Corp | 多層配線の形成方法 |