JPS6310826B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6310826B2 JPS6310826B2 JP54107958A JP10795879A JPS6310826B2 JP S6310826 B2 JPS6310826 B2 JP S6310826B2 JP 54107958 A JP54107958 A JP 54107958A JP 10795879 A JP10795879 A JP 10795879A JP S6310826 B2 JPS6310826 B2 JP S6310826B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- plate
- vacuum chamber
- photosensitive material
- pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は真空密着焼付方法に関する。
写真複製や写真製版などにおける正確な画像転
写には従来から真空密着焼付法が行なわれてい
る。その手段及び装置は第１図、第２図に原理的
に示される。即ち第１図の一般にガラスである透
光性板１とゴム状屈曲性板２から成る真空室に感
光材料５（感光性フイルム、PS版等）と原版６
（写真原版等）を画像面対峙の形で設置し、真空
吸引部７から内部空気を減圧させる。屈曲性板２
は支持部４で保持され、減圧はパツキング３で機
密化されて行なわれる。真空室を減圧すると第２
図に示すように屈曲性板２は剛性の透光性板１側
に引きつけられ、その力（外部大気圧との差）で
原版６と感光材料５とが強く密着する。この状態
で透光性板１を透して必要な露光を行なうと密着
焼付ができる。
写には従来から真空密着焼付法が行なわれてい
る。その手段及び装置は第１図、第２図に原理的
に示される。即ち第１図の一般にガラスである透
光性板１とゴム状屈曲性板２から成る真空室に感
光材料５（感光性フイルム、PS版等）と原版６
（写真原版等）を画像面対峙の形で設置し、真空
吸引部７から内部空気を減圧させる。屈曲性板２
は支持部４で保持され、減圧はパツキング３で機
密化されて行なわれる。真空室を減圧すると第２
図に示すように屈曲性板２は剛性の透光性板１側
に引きつけられ、その力（外部大気圧との差）で
原版６と感光材料５とが強く密着する。この状態
で透光性板１を透して必要な露光を行なうと密着
焼付ができる。
この密着焼付方法で、原版６又は感光材料５が
紙や布など透気性が大きい物質から成る時は短時
間で良好な密着焼付が可能であるが、両者共に平
滑で透気性の悪い物質である時は従来から解決困
難な問題が存在していた。例えば大面積の平滑な
写真フイルムや印刷用PS版などが感光材料５で
あつて、原版６が同様に大型フイルムなどを用い
ると第３図、第４図に示す吸引不十分な真空不良
部３１，４１がしばしば発生する。第３図の真空
不良部３１は透光性板１（ガラス）と原版６（フ
イルム）間に局所的（特に中央部付近）に発生
し、同様に第４図の真空不良部４１は原版６と感
光材料５の間で局所的に発生する。この現象は当
事者がニユートンリングと称する干渉縞を見るこ
とによつて常に容易に判別できるものである。こ
の原因は真空室内の端部から吸引減圧する際に、
原版６又は感光材料５の外周部付近が素早く吸引
密着されるため、内部の空気が閉じ込められるか
らである。内部空気を除くには更に時間をかけて
吸引し、周辺密着部から徐々に引き出してしまう
しか手段がない。従つて非常に平面性のよい物質
間の密着では数分〜数10分の吸引時間を要し、実
作業に大きな問題を与える。この吸引時間を短縮
する手段として原版６及び感光材料５に工夫がな
されていることが多い。例えば密着面に露光上実
害とならない程度の微細な粗面化を行なう。密着
時に粗面部は微小な空間を形成しているから、こ
の微小空間から内部空気を吸引除去する。粗面化
の度合にもよるが吸引時間は1/2〜数分の１に短
縮することができ、現在採用されている吸引時間
短縮と密着性改良の唯一の方法となつている。
紙や布など透気性が大きい物質から成る時は短時
間で良好な密着焼付が可能であるが、両者共に平
滑で透気性の悪い物質である時は従来から解決困
難な問題が存在していた。例えば大面積の平滑な
写真フイルムや印刷用PS版などが感光材料５で
あつて、原版６が同様に大型フイルムなどを用い
ると第３図、第４図に示す吸引不十分な真空不良
部３１，４１がしばしば発生する。第３図の真空
不良部３１は透光性板１（ガラス）と原版６（フ
イルム）間に局所的（特に中央部付近）に発生
し、同様に第４図の真空不良部４１は原版６と感
光材料５の間で局所的に発生する。この現象は当
事者がニユートンリングと称する干渉縞を見るこ
とによつて常に容易に判別できるものである。こ
の原因は真空室内の端部から吸引減圧する際に、
原版６又は感光材料５の外周部付近が素早く吸引
密着されるため、内部の空気が閉じ込められるか
らである。内部空気を除くには更に時間をかけて
吸引し、周辺密着部から徐々に引き出してしまう
しか手段がない。従つて非常に平面性のよい物質
間の密着では数分〜数10分の吸引時間を要し、実
作業に大きな問題を与える。この吸引時間を短縮
する手段として原版６及び感光材料５に工夫がな
されていることが多い。例えば密着面に露光上実
害とならない程度の微細な粗面化を行なう。密着
時に粗面部は微小な空間を形成しているから、こ
の微小空間から内部空気を吸引除去する。粗面化
の度合にもよるが吸引時間は1/2〜数分の１に短
縮することができ、現在採用されている吸引時間
短縮と密着性改良の唯一の方法となつている。
本発明は原版６及び感光材料５の状態の如何に
かかわらず、吸引時間短縮と密着性を改良するこ
とができる新たな装置及び方法を提供するもので
ある。
かかわらず、吸引時間短縮と密着性を改良するこ
とができる新たな装置及び方法を提供するもので
ある。
すなわち本発明は、透光性板１と屈曲性板２を
含む第１真空室の他に、これを挾んで屈曲性板側
に位置する第２真空室及び透光性板側に位置する
第３真空室を設け、第１真空室に密着焼付材料を
入れ、第１、第２、第３真空室を同時に減圧し、
ついで第２、第３真空室のみを同時に大気圧に戻
し、しかる後透光性板を通して露光を行なうもの
であり、これによつて極めて短時間の減圧吸引で
良好な密着効果を得ようとするものである。
含む第１真空室の他に、これを挾んで屈曲性板側
に位置する第２真空室及び透光性板側に位置する
第３真空室を設け、第１真空室に密着焼付材料を
入れ、第１、第２、第３真空室を同時に減圧し、
ついで第２、第３真空室のみを同時に大気圧に戻
し、しかる後透光性板を通して露光を行なうもの
であり、これによつて極めて短時間の減圧吸引で
良好な密着効果を得ようとするものである。
以下、図面に基づいて本発明の一実施例につき
説明する。
説明する。
第５図において第１真空室８を構成する透光性
板９（一般にガラス）及び屈曲性板１０（ゴム又
は同類のもの）は従来型焼枠用材料を用いてよ
い。第２及び第３真空室１１，１２の壁部材１
３，１４は内部が高真空度になるために十分外圧
（大気圧）に耐える強度を有していることが必要
である。十分な真空度下で１ｍ×１ｍの面に対す
る外圧は約10tonであるから壁部材１３，１４は
10mm程度の鋼板が必要となる。これは板厚を薄く
してアングル等で補強してもよい。各真空室はパ
ツキング１５，１６，１７で独立に機密性を保持
し、真空吸引口１８，１９，２０を夫々の室に備
えている。
板９（一般にガラス）及び屈曲性板１０（ゴム又
は同類のもの）は従来型焼枠用材料を用いてよ
い。第２及び第３真空室１１，１２の壁部材１
３，１４は内部が高真空度になるために十分外圧
（大気圧）に耐える強度を有していることが必要
である。十分な真空度下で１ｍ×１ｍの面に対す
る外圧は約10tonであるから壁部材１３，１４は
10mm程度の鋼板が必要となる。これは板厚を薄く
してアングル等で補強してもよい。各真空室はパ
ツキング１５，１６，１７で独立に機密性を保持
し、真空吸引口１８，１９，２０を夫々の室に備
えている。
次に、以上のような焼枠を利用して原版６の画
像を感光材料５に焼き付ける工程について述べ
る。
像を感光材料５に焼き付ける工程について述べ
る。
最初に壁部材１４、ガラス板９等を取りはずし
て屈曲性板１０の上に、原版６と感光材料５とを
重ね合わせたものをその原版６がガラス板９側に
くるようにして置き、再び壁部材１４等に元にも
どして焼枠を閉じる。すなわち原版６等を第１真
空室８中に装填する。
て屈曲性板１０の上に、原版６と感光材料５とを
重ね合わせたものをその原版６がガラス板９側に
くるようにして置き、再び壁部材１４等に元にも
どして焼枠を閉じる。すなわち原版６等を第１真
空室８中に装填する。
次いで、３室８，１１，１２を同時に減圧し、
しかる後第１真空室８は減圧しながら第２、第３
真空室１１，１２の真空解除を徐々に行うと第６
図の状態となる。第１真空室のみを考えると従来
焼枠の真空時と同じ状態である。第２、第３真空
室１１，１２を完全に大気圧に戻したのち第３真
空室の壁部材１４を適用な方法で取はずすと第７
図となる。そこでガラス面９を通して露光したの
ち第１真空室８の真空を解除して密着材料を取り
出す。本焼枠の場合は３室８，１１，１２を同時
に減圧することによりガラス板９及び屈曲性板１
０に外圧がかからない状態となつているが、何れ
かの真空室の減圧度が高いか低いかすると、減圧
度の低い方の室にガラス又は屈曲板が変形する。
また第２、第３室の同時真空解除も同様な理由か
ら同じ解除速度が望ましい。しかし実際にはガラ
スの強度が高ければ若干の解除速度のアンバラン
スは許容できる。ここにおいて、短時間吸引減圧
で良好な密着状態が得られるのは次の理由によ
る。
しかる後第１真空室８は減圧しながら第２、第３
真空室１１，１２の真空解除を徐々に行うと第６
図の状態となる。第１真空室のみを考えると従来
焼枠の真空時と同じ状態である。第２、第３真空
室１１，１２を完全に大気圧に戻したのち第３真
空室の壁部材１４を適用な方法で取はずすと第７
図となる。そこでガラス面９を通して露光したの
ち第１真空室８の真空を解除して密着材料を取り
出す。本焼枠の場合は３室８，１１，１２を同時
に減圧することによりガラス板９及び屈曲性板１
０に外圧がかからない状態となつているが、何れ
かの真空室の減圧度が高いか低いかすると、減圧
度の低い方の室にガラス又は屈曲板が変形する。
また第２、第３室の同時真空解除も同様な理由か
ら同じ解除速度が望ましい。しかし実際にはガラ
スの強度が高ければ若干の解除速度のアンバラン
スは許容できる。ここにおいて、短時間吸引減圧
で良好な密着状態が得られるのは次の理由によ
る。
まず、感光材料５と原版６が如何に大型かつ平
面性の良いものでも、大気圧下で単に重ねただけ
では密着せず、両者の間には多くの空間をもつて
いる。この状態は高真空度室内でも同様で単なる
載置状態にあるにすぎない。従つて、第５図の如
く、大気圧下で載置し、次第に減圧しても他の外
圧がかからない限りその状態は保持される。この
載置状態では両者間の空間は多いからその空間内
の空気は減圧に応じた真空度を直ちに示し、もし
760mmHg減圧でも両者５，６間の空間減圧度は
760mmHgを示す。しかして、減圧完了後第２真空
室１１を大気圧に戻すと屈曲性板１０はガラス面
１４に圧着し、この圧着力は大気圧の全圧であ
る。この圧力は感光材料５と原版６を同様の力で
圧着する。そして、従来型焼枠と異なり、感光材
料５と原版６の空間部は既に他の部分と同様の真
空度となつているから、殆んど残留空気が存在せ
ず、圧着された時に第３図、第４図に示される様
な局部的密着不良が起ることはないのである。本
発明の焼枠を用いた場合の良好な密着状態を得る
迄の時間は真空ポンプの能力と３つの真空室８，
１１，１２の容積とで決まるから、吸引時間を短
縮するにはポンプ排気能力を大とすればよい。一
方従来型焼枠では必ずしもポンプ能力を大にして
も必ずしも時間短縮が比較的に行なわれない。こ
れは前述した様に２つの密着材料の周辺が先に密
着し、内部に閉じこめられた空気が周辺密着部の
ために外部に排出されにくいからである。
面性の良いものでも、大気圧下で単に重ねただけ
では密着せず、両者の間には多くの空間をもつて
いる。この状態は高真空度室内でも同様で単なる
載置状態にあるにすぎない。従つて、第５図の如
く、大気圧下で載置し、次第に減圧しても他の外
圧がかからない限りその状態は保持される。この
載置状態では両者間の空間は多いからその空間内
の空気は減圧に応じた真空度を直ちに示し、もし
760mmHg減圧でも両者５，６間の空間減圧度は
760mmHgを示す。しかして、減圧完了後第２真空
室１１を大気圧に戻すと屈曲性板１０はガラス面
１４に圧着し、この圧着力は大気圧の全圧であ
る。この圧力は感光材料５と原版６を同様の力で
圧着する。そして、従来型焼枠と異なり、感光材
料５と原版６の空間部は既に他の部分と同様の真
空度となつているから、殆んど残留空気が存在せ
ず、圧着された時に第３図、第４図に示される様
な局部的密着不良が起ることはないのである。本
発明の焼枠を用いた場合の良好な密着状態を得る
迄の時間は真空ポンプの能力と３つの真空室８，
１１，１２の容積とで決まるから、吸引時間を短
縮するにはポンプ排気能力を大とすればよい。一
方従来型焼枠では必ずしもポンプ能力を大にして
も必ずしも時間短縮が比較的に行なわれない。こ
れは前述した様に２つの密着材料の周辺が先に密
着し、内部に閉じこめられた空気が周辺密着部の
ために外部に排出されにくいからである。
以上のように、本発明は第１、２、３真空室
８，１１，１２から同時に排気を行ない、次いで
第２、第３真空室１１，１２を大気圧下に戻し、
しかる後露光するようにしてなるものであるか
ら、透光性板９、原版６、感光材料５の各間に真
空不良部すなわち、密着不良部を生じさせること
なく相互に密着せしめ、従つて歪等のない良好な
る画像複写を行ないうるのである。
８，１１，１２から同時に排気を行ない、次いで
第２、第３真空室１１，１２を大気圧下に戻し、
しかる後露光するようにしてなるものであるか
ら、透光性板９、原版６、感光材料５の各間に真
空不良部すなわち、密着不良部を生じさせること
なく相互に密着せしめ、従つて歪等のない良好な
る画像複写を行ないうるのである。
しかも、この場合真空時に第３真空室１２も併
せて真空にするから、透光性板９へ大気圧が加わ
るのを緩和しうる。従つて、透光性板９の強度を
従来におけると同程度にしておくだけで足り、厚
さを増さないで済むから露光に支障を来すような
ことがない。
せて真空にするから、透光性板９へ大気圧が加わ
るのを緩和しうる。従つて、透光性板９の強度を
従来におけると同程度にしておくだけで足り、厚
さを増さないで済むから露光に支障を来すような
ことがない。
また、従来から良好な密着のためには最大限に
圧力を上げる様に高真空度が良いとされ、出来る
限り760mmHg迄減圧しようとしたのであるが、実
際は密着材料間の残存空気のため実効真空度は
760mmHgに遠いものであり、それ故密着不良防止
を益々困難にしていたのであるが、本発明によれ
ば前例Ａ全版PS版焼付時の画像再現性は、必ず
しも760mmHgに減圧されていなくても十分であ
る。例えば原版が200線／吋の網版でも650〜700
mmHgあれば十分であり、150線／吋では600〜650
mmHg、133線／吋では500mmHg程度でもよい。こ
のことは、原版の種類によつて真空度が悪くても
実作業上問題を起さないから、適当な真空度に計
算通りの設定が容易であることを意味し、実作業
上の作業性、能率、安定性にとつて極めて都合が
良いものである。
圧力を上げる様に高真空度が良いとされ、出来る
限り760mmHg迄減圧しようとしたのであるが、実
際は密着材料間の残存空気のため実効真空度は
760mmHgに遠いものであり、それ故密着不良防止
を益々困難にしていたのであるが、本発明によれ
ば前例Ａ全版PS版焼付時の画像再現性は、必ず
しも760mmHgに減圧されていなくても十分であ
る。例えば原版が200線／吋の網版でも650〜700
mmHgあれば十分であり、150線／吋では600〜650
mmHg、133線／吋では500mmHg程度でもよい。こ
のことは、原版の種類によつて真空度が悪くても
実作業上問題を起さないから、適当な真空度に計
算通りの設定が容易であることを意味し、実作業
上の作業性、能率、安定性にとつて極めて都合が
良いものである。
実施例
本焼枠の密着実施例として感光材料５として表
面平滑なＡ全版PS版を用い、原版として24×30
吋のリス型フイルム原版を用いて第１真空室内に
載置した。この場合に従来型焼枠で全面良好な密
着状態を得るのに５〜15分を要したが、本焼枠で
は３室同時真空に30秒〜１分間を要し、第２、第
３室の真空解除を行なつて十分な密着状態が得ら
れた。ついで壁部材１９を取はずしてガラス面を
透して露光したのち、第１真空室を大気圧に戻し
て材料を取出して現像したが良好な画像が得られ
た。
面平滑なＡ全版PS版を用い、原版として24×30
吋のリス型フイルム原版を用いて第１真空室内に
載置した。この場合に従来型焼枠で全面良好な密
着状態を得るのに５〜15分を要したが、本焼枠で
は３室同時真空に30秒〜１分間を要し、第２、第
３室の真空解除を行なつて十分な密着状態が得ら
れた。ついで壁部材１９を取はずしてガラス面を
透して露光したのち、第１真空室を大気圧に戻し
て材料を取出して現像したが良好な画像が得られ
た。
第１図および第２図は従来における焼枠を示
し、第１図は吸引前の状態における垂直断面図、
第２図は吸引後の垂直断面図である。第３図およ
び第４図は従来の焼枠において吸引時生じた吸引
不良を示す部分拡大垂直断面図である。第５図、
第６図および第７図は本発明に係る方法の実施に
使用される焼枠を示し、第５図は吸引前の状態に
おける垂直断面図、第６図は吸引後における垂直
断面図、第７図は焼付時における垂直断面図であ
る。 ５……感光材料、６……原版、８……第１真空
室、９……透光性板、１０……屈曲性板、１１…
…第２真空室、１２……第３真空室、１３，１４
……壁部材、１８，１９，２０……真空吸引口。
し、第１図は吸引前の状態における垂直断面図、
第２図は吸引後の垂直断面図である。第３図およ
び第４図は従来の焼枠において吸引時生じた吸引
不良を示す部分拡大垂直断面図である。第５図、
第６図および第７図は本発明に係る方法の実施に
使用される焼枠を示し、第５図は吸引前の状態に
おける垂直断面図、第６図は吸引後における垂直
断面図、第７図は焼付時における垂直断面図であ
る。 ５……感光材料、６……原版、８……第１真空
室、９……透光性板、１０……屈曲性板、１１…
…第２真空室、１２……第３真空室、１３，１４
……壁部材、１８，１９，２０……真空吸引口。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下記工程を包含してなる真空密着焼付法。 ａ 剛性のある透光性板と屈曲性板とで挾んで形
成すべき第１真空室中に、原版と感光材料とを
重ね合わせたものをその原版を上記透光性板側
にして装填する工程 ｂ 上記第１真空室、上記第１真空室を挾んで上
記屈曲性板側に位置する第２真空室および上記
透光性板側に位置する第３真空室から同時に排
気し、減圧する工程 ｃ 上記第２、３両真空室を大気圧下に戻す工程 ｄ 上記透光性板の上方から露光する工程 ｅ 上記第１真空室を大気圧下に戻す工程
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10795879A JPS5632134A (en) | 1979-08-24 | 1979-08-24 | Vacuum contact printing method |
| US06/179,517 US4360266A (en) | 1979-08-24 | 1980-08-19 | Contact printing method and apparatus |
| DE19803031415 DE3031415A1 (de) | 1979-08-24 | 1980-08-20 | Verfahren und vorrichtung zum herstellen von kontaktabzuegen. |
| GB8027342A GB2057152B (en) | 1979-08-24 | 1980-08-22 | Contact printing |
| FR8018373A FR2463945B1 (fr) | 1979-08-24 | 1980-08-22 | Procede et appareil de photocopie utilisant le vide pour maintenir l'original et le materiau sensible en contact intime pendant l'exposition |
| IT49540/80A IT1127542B (it) | 1979-08-24 | 1980-08-22 | Metodo ed apparecchio di stampa per contatto |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10795879A JPS5632134A (en) | 1979-08-24 | 1979-08-24 | Vacuum contact printing method |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12864479A Division JPS5632145A (en) | 1979-10-05 | 1979-10-05 | Vacuum contact printing device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5632134A JPS5632134A (en) | 1981-04-01 |
| JPS6310826B2 true JPS6310826B2 (ja) | 1988-03-09 |
Family
ID=14472365
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10795879A Granted JPS5632134A (en) | 1979-08-24 | 1979-08-24 | Vacuum contact printing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5632134A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58118438A (ja) * | 1982-01-06 | 1983-07-14 | Aisin Seiki Co Ltd | 足踏み式駐車ブレ−キ制御装置 |
| JPS58206454A (ja) * | 1982-05-22 | 1983-12-01 | Aisin Seiki Co Ltd | 車両の制動力保持装置 |
| JPS5923755A (ja) * | 1982-07-31 | 1984-02-07 | Aisin Seiki Co Ltd | ハンドレバ−式駐車ブレ−キ制御装置 |
| JPS63106161A (ja) * | 1986-05-17 | 1988-05-11 | Nhk Spring Co Ltd | 足踏み式駐車ブレ−キ |
| JPH0790756B2 (ja) * | 1987-06-08 | 1995-10-04 | 日本発条株式会社 | 足踏み式駐車ブレーキ |
-
1979
- 1979-08-24 JP JP10795879A patent/JPS5632134A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5632134A (en) | 1981-04-01 |
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