JPS6310827B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は真空密着焼付装置に関する。

写真複製や写真製版などにおける正確な画像転
写には従来から真空密着焼付法が行なわれてい
る。その手段及び装置は第１図、第２図に原理的
に示される。即ち第１図の一般にガラスである透
光性板１とゴム状屈曲性板２から成る真空室に感
光材料５（感光性フイルム、PS版等）と原版６
（写真原版等）を画像面対峙の形で設置し、真空
吸引部７から内部空気を減圧させる。屈曲性板２
は支持部４で保持され、減圧はパツキンゲ３で気
密化されて行なわれる。真空室を減圧すると第２
図に示すように屈曲性板２は剛性の透光性板１側
に引きつけられ、その力（外部大気圧との差）で
原版６と感光材料５とが強く密着する。この状態
で透光性板１を透して必要な露光を行なうと密着
焼付ができる。

この密着焼付方法で、原版６又は感光材料５が
紙や布など透気性が大きい物質から成る時は短時
間で良好な密着焼付が可能であるが、両者共に平
滑で透気性の悪い物質である時は従来から解決困
難な問題が存在していた。例えば大面積の平滑な
写真フイルムや印刷用PS版などが感光材料５で
あつて、原版６が同様に大型フイルムなどを用い
ると第３図、第４図に示す吸引不十分な真空不良
部３１，４１がしばしば発生する。第３図の真空
不良部３１は透光性板１（ガラス）と原版６（フ
イルム）間に局所的（特に中央部付近）に発生
し、同様に第４図の真空不良部４１は原版６と感
光材料５の間で局所的に発生する。この現象は当
事者がニユートンリングと称する干渉縞を見るこ
とによつて常に容易に判別できるものである。こ
の原因は真空室内の端部から吸引減圧する際に、
原版６又は感光材料５の外周部付近が素早く吸引
密着されるため、内部の空気が閉じ込められるか
らである。内部空気を除くには更に時間をかけて
吸引し、周辺密着部から徐々に引き出してしまう
しか手段がない。従つて非常に平面性のよい物質
間の密着では数分〜数10分の吸引時間を要し、実
作業に大きな問題を与える。この吸引時間を短絡
する手段として原版６及び感光材料５に工夫がな
されていることが多い。例えば密着面に露光上実
害とならない程度の微細な粗面化を行なう。密着
時に粗面部は微小な空間を形成しているから、こ
の微小空間から内部空気を吸引除去する。粗面化
の度合にもよるが吸引時間は1/2〜数分の１に短
縮することができ、現在採用されている吸引時間
短縮と密着性改良の唯一の方法となつている。

本発明は原版６及び感光材料５の状態を如何に
かかわらず、吸引時間縮絡と密着性を改良するこ
とができる新たな装置を提供するものである。

すなわち本発明は、透光性板１と屈曲性板２と
の間に形成される第１真空室の他に、屈曲性板と
壁部材との間に形成される第２真空室及び透光性
板と蓋部材との間に形成される第３真空室を有
し、さらに第１、第２、第３真空室を同時に減圧
し、ついで第２、第３真空室のみを同時に大気圧
に戻す手段および透光性板を通して露光を行なう
光源を備えてなり、これによつて極めて短時間の
減圧吸引で良好な密着効果を得ようとするもので
ある。

以下、図面に基づいて本発明の一実施例につき
説明する。

第５図において第１真空室８を構成する透光性
板９（一般にガラス）及び屈曲性板１０（ゴム又
は同類のもの）は従来型焼枠用材料を用いてよ
い。第２及び第３真空室１１，１２の壁部材１
３、蓋部材１４は内部が高真空度になるために十
分外圧（大気圧）に耐える強度を有していること
が必要である。十分な真空度下で１ｍ×１ｍの面
に対する外圧は約10tonであるから壁部材１３お
よび蓋部材１４は10mm程度の鋼板が必要となる。

これは板厚を薄くしてアングル等で補強しても
よい。各真空室はパツキング１５，１６，１７で
独立に気密性を保持し、真空吸引口１８，１９，
２０を夫々の室に備えている。

次に、以上のような焼枠を利用して原版６の画
像を感光材料５に焼き付ける工程について述べ
る。

最初に壁部材１４ガラス板９等を取りはずして
屈曲性板１０の上に、原版６と感光材料５とを重
ね合わせたものをその原版６がガラス板９側にく
るようにして置き、再び壁部材１４等を元にもど
して焼枠を閉じる。すなわち原版６等を第１真空
室８中に装填する。

次いで、３室８，１１，１２を同時に減圧し、
しかる後第１真空室８は減圧しながら第２、第３
真空室１１，１２の真空解除を徐々に行うと第６
図の状態となる。第１真空室のみを考えると従来
焼枠の真空時と同じ状態である。第２、第３真空
室１１，１２を完全に大気圧に戻したのち第３真
空室の壁部材１４を適当な方法で取はずすと第７
図となる。そこでガラス面９を通して露光したの
ち第１真空室８の真空を解除して密着材料を取り
出す。本焼枠の場合は３室８，１１，１２を同時
に減圧することによりガラス板９及び屈曲性板１
０に外圧がかからない状態となつているが、何れ
かの真空室の減圧度が高いか低いかすると、減圧
度の低い方の室にガラス又は屈曲板が変形する。
また第２、第３室の同時真空解除も同様な理由か
ら同じ解除速度が望ましい。しかし実際にはガラ
スの強度が高ければ若干の解除速度のアンバラン
スは許容できる。ここにおいて、短時間吸引減圧
で良好な密着状態が得られるのは次の理由によ
る。

まず、感光材料５と原版６が如何に大型かつ平
面性の良いものでも、大気圧下で単に重ねただけ
では密着せず、両者の間には多くの空間をもつて
いる。この状態は高真空度室内でも同様で単なる
載置状態にあるにすぎない。従つて、第５図の如
く、大気圧下で載置し、次第に減圧しても他の外
圧がかからない限りその状態は保持される。この
載置状態では両者間の空間は多いからその空間内
の空気は減圧に応じた真空度を直ちに示し、もし
760mmHg減圧でも両者５，６間の空間減圧度は
760mmHgを示す。しかして、減圧完了後第２真空
室１１を大気圧に戻すと屈曲性板１０はガラス面
１４に圧着し、この圧着力は大気圧の全圧であ
る。この圧力は感光材料５と原版６を同様の力で
圧着する。そして、従来型焼枠と異なり、感光材
料５と原版６の空間部は既に他の部分と同様の真
空度となつているから、殆んど残留空気が存在せ
ず、圧着された時に第３図、第４図に示される様
な局部的密着不良が起ることはないのである。本
発明の焼枠を用いた場合の良好な密着状態を得る
迄の時間は真空ポンプの能力と３つの真空室８，
１１，１２の容積とで決まるから、吸引時間を短
絡するにはポンプ排気能力を大とすればよい。一
方従来型焼枠では必ずしもポンプ能力を大にして
も必ずしも時間短縮が比例的に行なわれない。こ
れは前述した様に２つの密着材料の周辺が先に密
着し、内部に閉じこめられた空気が周辺密着部の
ために外部に排出されにくいからである。

以上のように、本発明は第１、２、３真空室
８，１１，１２から同時に排気を行ない、次いで
第２、３真空室１１，１２を大気圧下に戻し、し
かる後露光するようにしてなるものであるから、
透光性板９、原版６、感光材料５の各間に真空不
良部すなわち、密着不良部を生じさせることなく
相互に密着せしめ、従つて歪等のない良好なる画
像複写を行ないうるのである。

また、本発明は上記第２、３真空室を形成する
べく設けられた壁部材１３と蓋部材１４とで屈曲
性板１０および透光性板９を外界を遮断してい
る。

従つて、柔らかい屈曲性板１０が外力により損
傷を受けたり、あるいは透光性板に塵埃が付着し
たりするのを末然に防止することができるのであ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は従来における焼枠を示
し、第１図は吸引前の状態における垂直断面図、
第２図は吸引後の垂直断面図である。第３図およ
び第４図は従来の焼枠において吸引時生じた吸引
不良を示す部分拡大垂直断面図である。第５図、
第６図および第７図は本発明に係る真空密着焼付
装置の一例を示し、第５図は吸引前の状態におけ
る垂直断面図、第６図は吸引後における垂直断面
図、第７図は焼付時における垂直断面図である。 ５……感光材料、６……原版、８……第１真空
室、９……透光性板、１０……屈曲性板、１１…
…第２真空室、１２……第３真空室、１３……壁
部材、１４……蓋部材、１８，１９，２０……真
空吸引口。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 下記事項からなる真空密着焼付装置。 ａ 透光性板９と屈曲性板１０との間に形成され
   ている第１真空室８ ｂ 上記屈曲性板１０と壁部材１３との間に形成
   されている第２真空器１１ ｃ 上記透光性板９と蓋部材１４との間に形成さ
   れている第３真空室１２ ｄ 上記第１、２、３各真空室８，１１，１２に
   設けられている真空吸引口１８，１９，２０ ｅ 上記真空吸引口１８，１９，２０から排気し
   て全真空室８，１１，１２を同時に減圧し、し
   かる後真空吸引口１９，２０からの排気を停止
   して第２、３真空室の真空を解除する手段 ｆ 上記蓋部材の上方に配置されている光源