JP2928848B2

JP2928848B2 - 真空密着焼付装置

Info

Publication number: JP2928848B2
Application number: JP3026968A
Authority: JP
Inventors: 佐藤敏行
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1991-02-21
Filing date: 1991-02-21
Publication date: 1999-08-03
Anticipated expiration: 2014-08-03
Also published as: JPH04265965A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、露光すべき基材の両面
に真空を利用して原版を密着させて焼き付けるための真
空密着焼付装置に関し、特に、真空密着に要する時間を
短縮して原版を速やかに感光基材に密着させることがで
きる真空密着焼付装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般にフィルムやガラス板等からなる透
過性の原版にかかれた絵柄を感光基材に密着焼付法で複
写する場合、高品位複写法として真空密着法が用いられ
ている（例えば、特開昭５８−１３６０２６号）。

【０００３】このような真空密着法を利用した密着焼付
装置の１例として、図３に示したようなものがある。こ
の密着焼付装置は、感光基材１の両側にそれぞれガラス
等からなる原版２、２を配置させるために、真空チャッ
ク等（図示せず）により原版２、２を固定した一対の枠
３、３と、各枠３、３の対向する面に取付られたパッキ
ング４、４と、一方の枠３に形成された排気口５に接続
された真空ポンプ（図示せず）と、各枠３、３を互いに
接近及び離間するように往復動可能に保持したベッド６
と、基材１の両側に配置された光源７、７等を備えてい
る。

【０００４】この密着焼付装置による焼付動作は次のよ
うに行われる。すなわち、まず、感光基材１を原版２、
２間の所定位置に位置決めした後、一対の枠３、３を感
光基材１に接近する方向に移動させて、感光基材１を両
面の原版２、２で挟み、パッキング４、４により枠３、
３間をシールして、両面の原版２、２、枠３、３及びパ
ッキング４、４によって密閉された密閉室８が形成され
る。次に、密閉室８に連通した排気口５から内部の空気
を真空ポンプで吸引して、密閉室８内を真空にする。そ
の結果、両面の原版２、２が大気により押圧され、感光
基材１に密着する。その後、光源７、７を点灯させるこ
とにより、原版２、２の絵柄が感光基材１に焼き付けら
れる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、このような真
空密着焼付装置においては、ベッド６上で一対の枠３、
３を感光基材１に接近する方向に移動させて感光基材１
を両面から原版２、２で挟み、パッキング４、４により
枠３、３間をシールして密閉室８を形成し、その後に真
空吸引密着させる際、両パッキング４、４が最初に接触
して密閉室８を形成する時に、まだ原版２、２は感光基
材１に密接してそれを両面から挟んでいないため、その
後も枠３、３は原版２、２が感光基材１に密接するまで
接近方向に移動させられ、その間枠３、３間の隙間が減
ることになり、元々両面の原版２、２の間にあった空気
が加圧圧縮されてしまう。その後、原版２、２を密着さ
せるために枠３に設けられた排気口５から密閉室８内の
空気は吸引排気されるが、排気口５が原版２、２の外側
にあるため、図３に示したように、枠３、３間のみが吸
引されて密着し、原版２、２間に圧縮された空気９が残
り、感光基材１に密着しないことになる。このような原
版２、２間に残った空気９を排気するには、長期間の真
空排気が必要になる。

【０００６】原版２、２間に上記のような圧縮空気９が
残らないようにするには、両パッキング４、４が最初に
接触して密閉室８を形成した後、枠３、３を原版２、２
が感光基材１に密接するまで移動する間、原版２、２間
の加圧された気体９を排気するために、何れかの枠３に
排気孔を設け、この間のみこの排気孔を開き、その後に
閉じるようにすることが考えられる。このようにする
と、排気孔を設けない上記の場合に比較して、真空密着
のために必要な排気時間が約半分（実験的に比較する
と、例えば１分間：２分間）になる。

【０００７】しかしながら、このように枠３に設けた排
気孔を開いたり閉じたりする作業は、実験的には可能で
あるが、実際に大量の製品を密着露光により製造する現
場のラインにおいては問題がある。また、上記のように
このような排気孔を設けない場合、排気に要する時間が
長くなるだけでなく、図３に示したように、加圧された
気体９によって大型のガラス等でできた原版２、２が外
側へ撓むため、割れてしまうことが時々起こる。

【０００８】本発明はこのような問題点に鑑みてなされ
たものであり、その目的は、原版を感光基材に機械的に
密接させる工程で加圧される気体を自動的に枠の外へ逃
がすための手段を設けることにより、真空密着に要する
時間を短縮し、また、このような加圧気体による原版の
割れを防止した真空密着焼付装置を提供することであ
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の真空密着焼付装置は、感光材料を塗布してなる基材
の表面に、絵柄が描かれた原版を機械的に密接し、その
後に基材と原版の間を真空排気することにより原版を基
材に密着させて、露光焼き付けをする真空密着焼付装置
において、基材に原版を密接させる工程中に基材と原版
の間に存在する加圧空気を逃がす弁装置を備えたことを
特徴とするものである。

【００１０】この場合、基材の両面に原版を密着するよ
うに構成することもでき、特に、真空密着焼付装置とし
て、原版をそれぞれ保持した一対の枠であって原版の間
に第一真空室を形成する一対の枠と、一対の枠の各々に
保持した原版の外側に原版との間に第二真空室を形成す
るように取り付けられた透光性板と、第一真空室及び第
二真空室を排気して減圧しかつ少なくとも第二真空室の
みの真空を解除可能な真空吸引装置とを有する真空密着
焼付装置を用い、第一真空室に連通してこのような弁装
置を設けるようにすることもできる。

【００１１】また、弁装置として逆止弁を用いるのが望
ましいが、電磁弁を用い、原版を機械的に密接する間に
この電磁弁を開き、その後に基材と原版の間を真空排気
する前にこの電磁弁を閉じるように構成することもでき
る。

【００１２】

【作用】本発明においては、基材に原版を密接させる工
程中に基材と原版の間に存在する加圧空気を逃がす弁装
置を備えているので、基材と原版の間の隙間が減ること
によりその間の圧力が上がっても、弁装置を経てその間
の圧縮された空気が逃げ、基材と原版の間に加圧空気が
残ることはない。そして、密接工程の後の真空排気工程
においては、弁装置を経て外気が入ることはないので、
この排気が妨げられることはない。そのため、真空密着
のために必要な排気時間は従来のものに比較して大幅に
短縮される。さらに、加圧空気が基材と原版の間に残る
ことによって起きる原版の割れを防止することもでき
る。

【００１３】

【実施例】次に、添付の図面を参照にしながら、本発明
の真空密着焼付装置の実施例について説明する。図１は
本発明の真空密着焼付装置の１実施例の概略断面図であ
り、感光基材１の両側にそれぞれガラス等からなる原版
２、２を配置させるために、真空チャック等（図示せ
ず）により原版２、２を固定した一対の枠３、３と、各
枠３、３の対向する面に取付られたパッキング４、４
と、一方の枠３に形成された排気口５に接続された真空
ポンプ（図示せず）と、各枠３、３を互いに接近及び離
間するように往復動可能に保持したベッド６と、基材１
の両側に配置された光源７、７等を備えている点まで
は、図３の従来のものと同様である。この実施例におい
ては、さらに、他方の枠３に連通する逆止弁４０が設け
られ、逆止弁４０は、アクリルからなり空気逃がし口４
２を有する弁箱４１と、弁４３と、弁４３を密閉室８に
通じる配管４５の出口に押し付けるバネ４４とから構成
されている。

【００１４】したがって、まず、感光基材１を原版２、
２間の所定位置に位置決めした後、ベッド６上で一対の
枠３、３を感光基材１に接近する方向に移動させて、感
光基材１の両面を原版２、２に密接させ、パッキング
４、４により枠３、３間をシールして、両面の原版２、
２、枠３、３及びパッキング４、４によって密閉された
密閉室８を形成し、次に、密閉室８に連通した排気口５
から内部の空気を真空ポンプで吸引して密閉室８内を真
空にし、原版２、２を密着させるが、両パッキング４、
４が最初に接触して密閉室８を形成した後、枠３、３間
の隙間が減ることにより、図３を参照にして説明したよ
うに密閉室８内の圧力が上がる。しかしながら、逆止弁
４０の弁４３がバネ４４により押し戻されるまで、配管
４５を通じて密閉室８内の空気が逃げることになり、原
版２、２間に圧縮された空気が残ることはなくなる。次
いで、真空ポンプにより排気口５から密閉室８に残った
大気圧（実際には、バネ４４により弁が押しつけられる
ため、この力に釣り合う圧力だけ大気圧より高い。）の
空気が吸引されるが、この場合は逆止弁４０はバネ４４
の作用により閉じているので、排気を妨げることはな
い。したがって、真空密着のために必要な排気時間は大
幅に短縮される（実験的には約半分）。

【００１５】逆止弁４０のバネ４４のバネ定数は小さい
程、圧力差が小さくても空気が密閉室８から逃げるの
で、性能がよくなる。図１に示したように、弁４３が上
下に運動するように逆止弁４０を設置すると、バネ４４
がなくても重力の作用により逆止弁の機能を達するの
で、より望ましい。なお、弁４３の重さは軽い程望まし
い。これは、弁４３が重いと、バネ４４がない場合を考
えても、弁４３を持ち上げられる圧力になるまで弁４３
が働かないためである。

【００１６】ところで、以上のように原版を感光基材に
機械的に密接させる過程で加圧される気体を自動的に外
へ逃がす逆止弁を、本出願人がすでに特願平２−６５６
０３号において提案した二重真空焼付枠に適用すること
もできる。この実施例の真空密着焼付装置の概略断面図
を図２に示す。

【００１７】図２において、１１は露光すべき感光基
材、１２、１２は感光基材１１に複写するための所定の
絵柄がかかれたガラス等の原版である。この原版１２、
１２は、一対の枠１３、１３に真空吸着溝１４、１４に
よって真空吸着されて保持されている。一対の枠１３、
１３の対向面には、原版１２、１２の外側に位置するよ
うにパッキング１５、１５が取り付けられている。これ
らの原版１２、１２、枠１３、１３、パッキング１５、
１５は第一真空室１６を形成する。一対の原版１２、１
２の上下の端部間には、テープ、金属板、紙等で形成さ
れるスペーサ１７が設けられている。このスペーサ１７
は、感光基材１１よりはやや厚みがあるが、原版１２、
１２が真空密着により感光基材１１に押圧されたときに
は原版１２、１２がたわむことにより感光基材１１に隙
間なく密着することができる程度の厚みに定められてい
る。なお、このスペーサ１７は必ずしも必須のものでは
ない。

【００１８】一対の枠１３、１３の各々には、原版１
２、１２の外側に原版との間に第二真空室１９、１９を
形成するように、原版１２、１２に平行に、ガラス、樹
脂板等で構成された透光性板２０、２０がボルト又は市
販のワンタッチクランプ（図示せず）により取り付けら
れている。また、枠１３と透光性板２０との間にはパッ
キング２１が配置され気密性を保つようになっている。

【００１９】透光性板２０、２０のさらに外側には、露
光用光源２２、２２が設けられている。この露光用光源
２２は透光性板２０を通して原版１２の画像を感光基材
１１に焼付けるための露光用の光を照射するものであ
り、従来使用されている光源が使用できる。前記した透
光性板２０、２０は、露光に使用する光を透過し得る材
料で構成されるものであり、例えば露光に紫外光を利用
する場合には、透光性板２０、２０として紫外光透過性
のガラスや樹脂板（例えば、アクリル板）が使用され
る。また逆に、紫外領域より長波長域の光を使用する場
合には、その波長域の光を透過させるものが使用され
る。なお、透光性板２０、２０には、強度面からガラス
板よりもアクリル板等の樹脂板を使用することが望まし
いが、一般に樹脂板は紫外光吸収性のものが多い。した
がって、露光用光源としてメタルハライドランプ光源を
使用する場合には、紫外光吸収性のアクリル樹脂板を使
用することができる。露光用光源２２の強さは、透光性
板２０の透過特性と感光材料の感度により選定される。

【００２０】第一真空室１６及び第二真空室１９、１９
には、内部を排気して減圧する真空吸引装置２３が接続
されている。この真空吸引装置２３は、第一真空室１６
に開口した真空吸引口２４ａに接続された第一真空配管
２４と、各第二真空室１９に開口した真空吸引口２６ａ
に接続された第二真空配管２６と、これらの真空配管２
４、２６にそれぞれ弁（図示せず）を介して接続された
真空ホンプ等の真空源等を備えており、その真空源によ
って、第一真空室１６、第二真空室１９、１９を真空吸
引可能である。なお、真空配管２４、２６はそれぞれに
設けた弁（図示せず）によって、個々に真空を解除可能
となっている。

【００２１】さらに、本発明に基づいて、第一真空配管
２４には配管５５を介して逆止弁５０が設けられてお
り、逆止弁５０は、アクリルからなり空気逃がし口５２
を有する弁箱５１と、弁５３と、弁５３を配管５５の出
口に押し付けるバネ５４とから構成されている。

【００２２】一対の枠１３、１３は、水平に配置された
ベッド３０上を往復動するように配置されている。すな
わち、ベッド３０上にはレール３１が取り付けられ、そ
のレール３１に沿って摺動可能なレール従動体３２が各
枠１３に取り付けられている。さらに、ベッド３０上に
は２つの枠１３、１３に対応してボールネジ（図示せ
ず）が取り付けられ、各ボールネジに噛み合うねじ従動
体（図示せず）が各枠１３に取り付けられている。かく
して、２本のボールネジをモータ（図示せず）によって
回転させることにより、各ねじ従動体に連結された枠１
３、１３を図２に示す閉位置と、その位置から左右に開
いた開位置とに開閉することができる。

【００２３】以上のように構成された真空密着焼付装置
によって原版の画像を感光基材に焼き付けるには、感光
基材１１を図２のようにセットした後、一対の枠１３、
１３を閉じる。こうして、一対の原版１２、１２間に形
成される第一真空室１６の周縁がパッキング１５、１５
同志の接触によって密閉される。この際、図１の場合と
同様、両パッキング１５、１５が最初に接触して第一真
空室１６を形成した後、枠１３、１３間の隙間が減るこ
とにより、図３を参照にして説明したように第一真空室
１６内の圧力が上がる。しかしながら、逆止弁５０の弁
５３がバネ５４により押し戻されるまで、第一真空配管
２４及び配管５５を通じて第一真空室１６内の空気が逃
げることになり、原版１２、１２間に圧縮された空気が
残ることはなくなる。

【００２４】次に、真空配管２４、２６に同時に真空を
作用させて第一真空室１６、第二真空室１９、１９を同
時に同圧ずつ減圧させ、真空とする。この際、逆止弁５
０はバネ５４の作用により閉じている。そして、この
時、透光性板２０、２０の外面には大気圧が作用する
が、原版１２、１２の外面は第二真空室１９、１９とな
っているので大気圧が作用しない。このため、原版１
２、１２が直ちに感光基材１１に押し当てられることに
より、感光基材１１との間に空気が閉じ込められるとい
うことがなく、原版１２と感光基材１１との間の空気も
敏速に排気される。

【００２５】第一真空室１６、第二真空室１９、１９を
所望の真空度にまで減圧した後、第一真空室１６は減圧
したまま、第二真空室１９、１９への真空を解除する。
これにより、第二真空室１９、１９の内圧が上昇し、原
版１２、１２の外面側に圧力が作用し、原版１２、１２
を感光基材１１の全面に密着させる。第二真空室１９、
１９が大気圧になった後、光源２２、２２を点灯し、透
光性板２０、２０を通して露光を行う。

【００２６】上記したように、枠１３、１３を閉じる際
に原版１２、１２間に圧縮された空気が残ることはな
く、また、第一真空室１６と第二真空室１９、１９とを
同時に所望の真空度にまで吸引するので、原版１２、１
２間に空気が局部的に閉じ込められるということがな
い。このため、第二真空室１９、１９の真空を破って原
版１２、１２の外面に大気圧を作用させることにより、
原版１２、１２を感光基材１１に良好に密着させること
ができる。したがって、良好な密着状態を得るまでの時
間は、主に、第一真空室１６、第二真空室１９、１９を
所望の真空度にまで排気するに必要な時間によって定ま
るが、第一真空室１６の排気時間は逆止弁５０を設けた
ことにより大幅に短縮され、また、この時間は真空ポン
プの能力と、第一真空室１６、第二真空室１９、１９の
容積と、真空配管２４、２６の管抵抗等によって決まる
から、ポンプ排気能力の増大、配管径の大口化等を行う
ことにより、より短縮することができる。

【００２７】以上、実施例について本発明の真空密着焼
付装置を説明してきたが、本発明はこれら実施例に限定
されず種々の変形が可能である。例えば、逆止弁の代わ
りに電磁弁等を用い、枠が閉じる際に弁が開き、枠が閉
じ切った後に弁を閉じて真空吸引を開始するように構成
してもよい。また、感光基材の片面にのみ１枚の原版を
真空密着させる焼付装置においても、同様に適用でき
る。

【００２８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の真空密着
焼付装置によれば、基材に原版を密接させる工程中に基
材と原版の間に存在する加圧空気を逃がす弁装置を備え
ているので、基材と原版の間の隙間が減ることによりそ
の間の圧力が上がっても、弁装置を経てその間の圧縮さ
れた空気が逃げ、基材と原版の間に加圧空気が残ること
はない。そして、密接工程の後の真空排気工程において
は、弁装置を経て外気が入ることはないので、この排気
が妨げられることはない。そのため、真空密着のために
必要な排気時間は従来のものに比較して大幅に短縮され
る。さらに、加圧空気が基材と原版の間に残ることによ
って起きる原版の割れを防止することもできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の真空密着焼付装置の１実施例の概略断
面図である。

【図２】本発明の他の実施例の真空密着焼付装置の概略
断面図である。

【図３】従来の１例の真空密着焼付装置の概略断面図で
ある。

【符号の説明】

１…感光基材２…原版３…枠４…パッキング５…排気口６…ベッド７…光源８…密閉室４０…逆止弁４１…弁箱４２…空気逃がし口４３…弁４４…バネ４５…配管

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】感光材料を塗布してなる基材の表面に、
絵柄が描かれた原版を機械的に密接し、その後に基材と
原版の間を真空排気することにより原版を基材に密着さ
せて、露光焼き付けをする真空密着焼付装置において、
基材に原版を密接させる工程中に基材と原版の間に存在
する加圧空気を逃がす弁装置を備えたことを特徴とする
真空密着焼付装置。
【請求項２】基材の両面に原版を密着することを特徴
とする請求項１記載の真空密着焼付装置。
【請求項３】前記真空密着焼付装置が、原版をそれぞ
れ保持した一対の枠であって前記原版の間に第一真空室
を形成する一対の枠と、該一対の枠の各々に保持した原
版の外側に原版との間に第二真空室を形成するように取
り付けられた透光性板と、前記第一真空室及び第二真空
室を排気して減圧しかつ少なくとも第二真空室のみの真
空を解除可能な真空吸引装置とを有する真空密着焼付装
置からなり、前記第一真空室に連通して前記弁装置を設
けたことを特徴とする請求項２記載の真空密着焼付装
置。
【請求項４】前記弁装置が逆止弁からなることを特徴
とする請求項１から３の何れか１項記載の真空密着焼付
装置。
【請求項５】前記弁装置が電磁弁からなり、原版を機
械的に密接させる間に該電磁弁を開き、その後に基材と
原版の間を真空排気する前に該電磁弁を閉じるように構
成したことを特徴とする請求項１から３の何れか１項記
載の真空密着焼付装置。