JPS6373229A - 多面焼付機の真空密着方法 - Google Patents

多面焼付機の真空密着方法

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JPS6373229A
JPS6373229A JP61219014A JP21901486A JPS6373229A JP S6373229 A JPS6373229 A JP S6373229A JP 61219014 A JP61219014 A JP 61219014A JP 21901486 A JP21901486 A JP 21901486A JP S6373229 A JPS6373229 A JP S6373229A
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JP
Japan
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photosensitive material
vacuum
original
holder
original film
Prior art date
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Pending
Application number
JP61219014A
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English (en)
Inventor
Koichi Fujii
幸一 藤井
Masatsugu Mizuta
水田 正嗣
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/22Exposing sequentially with the same light pattern different positions of the same surface
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B27/00Photographic printing apparatus
    • G03B27/02Exposure apparatus for contact printing
    • G03B27/04Copying apparatus without a relative movement between the original and the light source during exposure, e.g. printing frame or printing box
    • G03B27/06Copying apparatus without a relative movement between the original and the light source during exposure, e.g. printing frame or printing box for automatic repeated copying of the same original
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03B27/14Details
    • G03B27/18Maintaining or producing contact pressure between original and light-sensitive material
    • G03B27/20Maintaining or producing contact pressure between original and light-sensitive material by using a vacuum or fluid pressure

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、写真製版作業に使用する多面焼付機に関し、
特に原板フィルムと感光材料とを真空により密着させる
真空密着方法に関する。
く従来の技術〉 多面焼付機は、原板フィルムの画像をPS版などの感光
材料に多面焼付するための装置であり、その下面K原板
フィルムを吸着保持するガラス板などの透光板を有する
原板ホルダーを、感光材ホルダーに装着された感光材料
上の1個所以上の所望位置に移動させ、それぞれの位置
において原板フィルムと感光材料とを当接させると共に
、厚板ホルダーの透光板と感光材料(もしくは感光材ホ
ルダー)及び透光板の周囲に配投された気密用パッキン
グで囲まれた空間より排気することによって、厚板7イ
ルムと惑光材料とを真空密着させ、しかる後厚板フィル
ム側に配投した光源を点灯させることにより、厚板フィ
ルムの画像を感光材料上K焼付けるものである。
上述した多面焼付機において、特Kp板ホルダーのぶ板
フィルムを真空保持する透光板が感光材料の端部に跨が
った状態となる位置にて焼付けをおこなった場合には、
焼付けられた画像に焼ぼけが発生する場合がある。これ
は、28版などのS光材料はアルミニタム板の表面に感
光剤を塗布したものであるため、真空密着時にでアルミ
ニタム板などの厚みによって透光板が湾白し、それ九伴
って透光板に真空保持された原板フィルムも同様に湾曲
し、そのために原板フィルムと感光材料とが原板フィル
ム全体にわたって完全には密着しない現象が生ずるため
である。また、原板フィルムとして複数枚のフィルムを
重ね合わせたものを使用した場合においても、フィルム
の厚み(でよって、上記同様の現象が発生する場合があ
る。
特開昭56−18036号公報には、上記欠点を解決す
るため、感光材料を装着する感光材ホルダーの表面を金
属板などの可撓性を有する材料で構成すると共に1前記
可撓性板の背面を大気に開放するための空気流通部を設
け、真空密着時に可撓性板を感光材料側に撓ませるよう
構成した多面焼付機が開示されている。
〈発明が解決しようとする問題点〉 しかしながら、特開昭56−38036号公報に記載さ
れた多面焼付機においては、可撓性板として金属板など
の比較的硬質の材料を使用した場合には、可撓性板によ
り感光材料の厚みを完全に吸収すると七ができず、特に
感光材料などの厚みによる段差部付近の焼ぼけを解消す
ることは不可能である。そのため、可撓性板として軟質
塩化ビニール等の軟質の材料を使用することも考えられ
るが、この場合にも焼ぼけを完全に解消するまでには至
らず、さらに真空密着時如軟質材料の表面に感光材料端
部の跡が残るという問題点があり、その寿命も短いもの
となる。
〈問題点を解決するための手段〉 本発明は、上記問題点を解決するための手段として周囲
に気密用パッキングを配設した透光板を有し該透光板の
、感光材ホルダーと対向する面〔以下、下面と記す〕に
原板フィルムを吸着保持する原板ホルダーを、感光材料
を装着する感光材ホルダー上の所望位置に位置せしめ、
原板ホルダーさ感光材ホルダーの間を排気することによ
り原板フィルムと感光材料とを密着させる多面焼付機の
真空密着解除前おいて、原板フィルムを原板ホルダーの
透光板に吸着保持するための真空度を、原板フィルムと
感光材料の真空密着開始後で感光材料の焼付開始前の状
態において低下させ、焼付終了後で真空密着解除前の状
態において実質的にもとの真空度に復帰させ6多面焼付
機の真空密着方法を提供するものである。
こ\で「実質的なもとの真空度」とは、上述の如く焼付
開始前に低下させられる前の真空度を意味すると共に、
低下された真空度より高い真空度をも含め意味するもの
とする。
〈作用〉 厚板フィルムを原板ホルダーに吸着保持するための真空
度を低下させるに伴い、湾曲しだ透光板に密着していた
原板フィルムの感光材料への非密着部分が感光材料側に
完全に密着する。また真空度を低下させる工程は、原板
フィルムと感光材料とが密着している間で、かつ非焼付
時になされるため、感光材料の位置ずれが発生すること
はない。
〈実施例〉 以下、本発明に係る実施例を添附の図面に基づいて説明
する。
第4図は、本発明を適用する傾斜型の多面焼付機の斜視
図である。
この図において、2/fi例えば28版などの感光材料
4を位置決めして装着する感光材ホルダーであシ、その
何方には原板フィルム6の供、袷部8及び排出部10が
配設されている。12は、その下面に原板フィルム6を
吸着保持する原板ホルダー14と、光源16とを具備す
る原板架台であり、この原板架台12は、左右方向に移
動可能な架台15に溢って上下方向に移動可能な構成と
なっており、これにより原板ホルダー14は感光材ホル
ダー2、原板フィルム6の供給部8および排出部10か
ら成るテーブル1の任意の位置に対向させることができ
るようになっている。
この装置において多面焼付をおこなう際には、架台15
及び厚板架台12の移動により、原板架台12に装着し
た原板ホルダー14を供給部8と対向する位置まで移動
させ、供給部8における原板フィルム6を厚板ホルダー
14の下面に吸着保持し、つぎに原板ホルダー14を感
光材料4上の1個所以上の所望の位置に移動させ、それ
ぞれの位置で原板フィルム6と感光材料4を真空密着さ
せた状態で光源16を点灯し焼付けをおこなう。
原板ホルダー14に吸着保持した原板フィルム6の全て
の所望位置での焼付けが終了すれば、原板ホルダー14
が排出部10と対向する位置まで移動し、厚板ホルダー
14に吸着保持した原板フィルム6を排出部1oに排出
する。
つぎに、本発明の特徴部分を第1図乃至第6図に基づい
て説明する。
第1図において、14は前述した原板ホルダーであり、
枠体17の下面に正着されたガラス板等の透光板18、
透光板18の四方周囲に配設された気密用ゴムバッキン
グ2o及び原板フィルム6の吸着用配管22、厚板フィ
ルムと感光材料との真空密着用配管24より構成されて
いる。
透光板18の下面には、枠体17の開口部を取り囲む様
に、厚板フィルム6の吸着用配管22に連通ずる吸着溝
26が設けられている。なおこの図において、真空密着
用配管24及び吸着用配管22を大気に通気するための
切替手段については図示を省略している。また、61d
′前述した原板フィルムであり、透明な補助シート28
及び原板フィルム本体30よシ構成されている。
なお、上述した補助シート28を使用せす、原板フィル
ム本体30のみを使用する場合もあり、本明細書ではこ
れら両方の場合を代表して原板フィルム6と呼称する。
第1図の符号32け、厚板フィルム6の吸着用配管22
及び電磁弁34に連結する真空ポンプであり、36は一
方を電磁弁34他方を大気中に連結するリーク弁、また
38は原板フィルム6と感光材料4との真空密着用配管
24に連結する真空ポンプである。
つぎに真空密着動作について説明する。
まず、厚板ホルダー14を供給部8と対向する位置まで
移動させ、真空ポンプ32を作動させることにより、第
1図に示したように透光板18の下面に原板フィルム6
を吸着保持する。このとき、真空ポンプ32による原板
フィルム6の吸着保持用の真空度は、原板ホルダー14
の移動時等に厚板フィルム6の位置ずれを生じさせない
ため、ある程度高い値とする必要がある。この状態で、
原板ホルダー14を前述のように感光材料4上の所望位
置に移動させ、その位置において感光材料4もしくは感
光材ホルダー2と原板ホルダー14のバッキング20と
を当接させる。
つぎに真空ポンプ38を作動させ、透光板18と感光材
ホルダー2との間を排気することにより、厚板フィルム
6と感光材料4とを真空密着させる。
このとき、透光板18が感光材料4の端部に跨がった状
態である場合などにおいては、第2図に示したように、
感光材料4の厚みにより透光板18が湾曲し、原板フィ
ルム6と感光材料4とは完全には密着しない。
この状態において、電磁弁34を第1図罠示しだ状態か
ら切替え、吸着溝26に連結する空圧回路をリーク弁3
6を介して大気と連結させることにより、吸着溝26に
よる原板フィルム6の吸着用真空度を低下させる。する
と、原板フィルム6の感光材料4側の真空度が相対的π
高くなり第3図に示したように、厚板フィルム6は感光
材料4側に完全に密着する。このとき、原板フィルム6
の端部は、真空ポンプ38による真空密着作用と低下は
させられているが吸着溝26による吸着保持作用により
、依然として完全に固定されているため、原板フィルム
6の位置ずれ等が発生することはない。
この状態において光源16を点灯し、原板フィルム6の
画像を感光材料4に焼付ける。
焼付けが終了すれば電磁弁34を第1図に示した状態に
切替えて真空ポンプ32により原板フィルム6の吸着保
持する真空度をもとの真空度に戻すことにより、原板フ
ィルム6を再び透光板18に完全に吸着保持する。なお
、このもとの真空度′d上述の如く低下させられた真空
度より高い真空度であってもよい。つづいて、真空ポン
プ38の作動を停止させると共に配管24を大気に開放
して、原板フィルム6と感光材料4の密着を解除する。
第5図は上述した動作を示すタイムチャートであり、こ
の図において(I)は配管24による原板フィルム6と
感光材料4との間の真空密着用の真空度の変化を、(田
は吸着溝26による原板フィルム6の吸着保持用の真空
度の変化を、また(2)は光源16の点灯状態を示して
いる。
なお、上述した焼付時における原板フィルム6の吸着用
の真空度は、真空ポンプ38による真空密着用の真空度
より低い真空度であればよく、多面焼付機の種類等に応
じリーク弁36を調整することにより適度の値に設定す
ればよい、唯、余り低いと透光板18側から感光材料4
側への空気もれのため、真空密着用の真空度が密着に必
要な値に上がることができなくなる上に、原板フィルム
6の位置が、元の保持状態の位置からずれる可能性があ
る。文鳥すぎると本発明による十分な効果が得られない
。これらの理由から、低下された真空度は30〜60 
an Hgが適切である。一般に多く取扱われる状態の
厚板フィルムで実験したところ、上述した真空度を例え
ば第5図に示したように50 cm Hg K設定した
際十分な効果が得られた。
上述した実施例においては、原板フィルム6の吸着用の
真空度をリーク弁36により低下させる場合について述
べたが、例えば透光板26における吸着溝26の内側に
小孔を設けておき、該小孔と大気との間を電磁弁等によ
り開閉することによって、真空度を切替える構成として
もよい。
尚、多面焼付機は近年マイクロコンビューク制御により
殖版動作をすべて自動化した機種が多く使用されるよう
になっており、本発明の方法により新規に加えられた殖
版動作も従来から自動化されている動作に加えて自動化
されている。なお、原板フィルムが感光材料の端部に跨
がる位置においては本発明の方法を適用し、その他の位
置においては従来の方法によって真空密着を行なうよう
kするのが望ましい。
〈発明の効果〉 本発明に係る多面焼付機の真空密着方法は、上述したよ
うに構成されているため、原板フィルムの位置ずれを生
じさせることなく、原板フィルムと感光材料を完全に密
着させることができ、原板フィルムの画像の焼きぼけの
発生を皆無とすることが可能である。また感光材ホルダ
ーの表面を劣化しやすい軟質材料とする必要もない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を実施するための原板ホルダー及び空圧
回路を示す概要図、第2図及び第3図は原板フィルムと
感光材料とのそれぞれ異なる真空密着状態を示す要部断
面図、第4図は本発明を適用する多面焼付機の斜視図、
第5図は真空切替及び焼付動作を示すタイムチャートで
ある。 2・・・感光材ホルダー、4・・・感光材料、6・・・
原板フィルム、14・・・原板ホルダー、16・・・光
源、18・・・透光板、20・・・バッキング、32.
38・・・真空ポンプ、34・・・電磁弁、36・・・
リーク弁。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 周囲に気密用パッキングを配設した透光板を有する原板
    ホルダーの下面に原板フィルムを吸着保持し、前記原板
    ホルダーを感光材料を装着する感光材ホルダー上の所望
    位置に位置せしめ、原板ホルダーと感光材ホルダーの間
    を排気することにより原板フィルムと感光材料とを密着
    させる多面焼付機の真空密着方法において、 原板フィルムを原板ホルダーの下面に吸着保持するため
    の真空度を、原板フィルムと感光材料の真空密着開始後
    で感光材料の焼付開始前の状態において低下させ、焼付
    終了後で真空密着解除前の状態において実質的にもとの
    真空度に復帰させることを特徴とする多面焼付機の真空
    密着方法。
JP61219014A 1986-09-16 1986-09-16 多面焼付機の真空密着方法 Pending JPS6373229A (ja)

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Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3904291A (en) * 1972-12-18 1975-09-09 Gerber Scientific Instr Co Photoexposure mechanism and contact printer therefor
US4201581A (en) * 1978-03-13 1980-05-06 Eastman Kodak Company Method of providing close contact for contact printing
US4204736A (en) * 1978-04-26 1980-05-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method and device for contact-printing
US4360266A (en) * 1979-08-24 1982-11-23 Dai Nippon Insatsu Kabushiki Kaisha Contact printing method and apparatus

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