JPH055556Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は焼枠に関し、特にドライフイルムレジ
スト（以下Ｄ／Ｆと称す）をラミネートした印刷
配線板（以下P.W.Bと称す）に、マスクフイルム
（以下マスクと称す）を上枠に保持させた状態か
ら当接又は密接させ、紫外線光の照射を受ける焼
枠に関する。

〔従来の技術〕

従来、この種の紫外線照射用焼枠は第４図に示
すように、下面周端部に溝２を設け、その溝２の
少なくとも一個所から真空配管３を導き、マスク
フイルム９の周端部を真空吸着により展着状態で
保持する上枠２１と、Ｄ／ＦをラミネートしたP.
W.B８をマスク９と同位置になるように保持す
る下枠１４とで構成されている。

この焼枠によりP.W.B８とマスク９とを当接又
は密接させ、紫外線光の照射をするにはまず下枠
１４に植立したP.W.B位置決めピン１７と同位置
に穴を有するマスク９をP.W.B位置決めピン１７
と穴が嵌合状態になるようにして下枠１４に載置
する。そして上枠２１を下降させ、上枠２１の下
面をマスク９に当接させて、真空ポンプ（図示省
略）を作動させる。このときマスク９は上枠２１
の溝２の真空により上枠２１に吸着される。次に
P.W.B８を、P.W.B８の穴がP.W.B位置決めピン
１７と嵌合状態になるようにして下枠１４に載置
する。その後、上枠２１を下降させ、上枠２１と
下枠１４との間をパツキン１５で封止し、真空ポ
ンプ（図示省略）を作動させ、下枠１４の真空配
管１８により上下枠２１，１４間を脱気させる。
上枠２１は脱気により下方にさらに下がり、マス
ク９とP.W.B８が当接又は密着し、紫外線光の照
射を受ける状態になる。

〔考案が解決しようとする問題点〕

上述した従来の焼枠は透明な上枠のマスク吸着
用溝は、下枠に載置するP.W.Bの最大寸法よりさ
らに大きいマスクの外形寸法に応じて設けなけれ
ばならない。それは、紫外線光の照射を実質的に
受ける必要のあるP.W.B上に溝があると、溝の部
分でP.W.Bとマスクとの密接が悪くなること、ま
た上枠の板厚が溝のある部分とない部分とで違う
ため、紫外線光の透過度も違つてくることを防ぐ
ためである。そのためにP.W.Bの寸法が種々あつ
てもマスクのサイズは一定でなければならない。
よつて、小さなP.W.Bにマスクを密接させて紫外
線光の照射を受けるときでもマスクは最大P.W.B
に合わせたサイズのものでなければならないの
で、マスクの余白部分が多く、無駄になるという
欠点がある。本考案の目的はこれら従来欠点を除
去した焼枠を提供することにある。

〔考案の従来技術に対する相違点〕

上述した従来の焼枠に対し、本考案は上枠と下
枠との間にマスク吸着板を設けてマスクの吸着保
持を仲介させるという相違点を有する。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案は透明な上枠と、該上枠の下面に位置決
めして交換可能に装着された透明なマスク吸着板
と、ドライフイルムレジストをラミネートした基
板を前記マスク吸着板の真下位置に保持する下枠
とを有し、前記マスク吸着板の下面に、マスクフ
イルムの外周縁を真空吸着させる吸着用溝を開口
したことを特徴とする紫外線照射用焼枠である。

〔実施例〕

次に、本考案の実施例を第１図、第２図及び第
３図によつて説明する。

第１図及び第２図は本考案の焼枠を示す平面図
及び断面正面図、第３図は本考案に係る焼枠の下
枠上に載置したP.W.Bを示す平面図である。

図において、１は下面の周端部に溝２を有し、
その溝２の少なくとも一個所に真空ポンプ２２へ
接続する真空配管３を設けたアクリル製の透明板
からなる上枠、４はアルミ材のアングルからな
り、上枠１の周辺部の上部に周設し、固定ネジ５
により上枠１を支持する支持部材、６は上面に上
枠１の溝２と同位置に溝７を有し、さらに下面に
上面の溝７より内側でP.W.B８のサイズに対応し
たマスクフイルム（以下マスクという）９のサイ
ズより内側に溝１０を有し、溝１０の少なくとも
一個所から真空ポンプ２３へ継がる真空配管１１
を設けたアクリル製の透明板からなるマスク吸着
板である。１２はマスク吸着板６に植立し、上枠
１の穴１３と嵌合するマスク吸着板位置決めピ
ン、１４は上面の周端部に接着したパツキン１５
を有し、P.W.B８の位置決め穴と同位置に脱着可
能に設け、マスク吸着板の下面の穴１６と嵌合す
るP.W.B位置決めピン１７を有した下枠である。
１８は下枠１４のパツキンの内側で、かつ近傍に
垂下させた真空ポンプ２４に継がる密接用真空配
管、１９は断面口の字状のパイプからなり、下枠
１４の下面を周端部で保持する保持部材、２０は
下枠１４を保持部材１９に固定する金具である。
P.W.B位置決めピン１７は第３図に示す如く少な
くとも２個以上有し、P.W.B８の角部にある穴と
嵌合する。そしてP.W.B８のサイズが変更になる
と、一旦下枠１４より取外し位置を移し替える。
支持部材４は周端の内一辺で保持部材１９と蝶番
（図面省略）で連結され、支持部材４は蝶番を支
点として上方又は下方へ扇状に開閉することがで
きる。

次に本考案の焼枠によりP.W.B８とマスク９と
を密接させて紫外線を照射する場合について説明
する。

まず、支持部材４を上方に開き、マスク吸着板
６を下枠１４に載置する。このとき、マスク吸着
板６の穴１６とP.W.B位置決めピン１７を嵌合さ
せる。次に支持部材４を下方に閉じ真空ポンプ２
４を作動させ、密接用真空配管１８を通して上枠
１と下枠１４との間を脱気させる。この脱気によ
り、上枠１は穴１３がマスク吸着板位置決めピン
１２と嵌合してマスク吸着板６と当接する。次
に、真空ポンプ２２を作動させ、溝２と溝７との
間を脱気しその後真空ポンプ２４を停止させる。
これによりマスク吸着板６は上枠１に吸着され
る。次に支持部材４を上方に開けてマスク９を下
枠１４に載置する。このとき、マスク９の位置決
め穴とP.W.B位置決めピン１７を嵌合させる。そ
して再び支持部材４を下方に閉じ、真空ポンプ２
４を作動させ、密接用真空配管１８を通して上枠
１と下枠１４との間を脱気させる。この脱気によ
り、上枠１に吸着されているマスク吸着板６は穴
１６がP.W.B位置決めピン１７と嵌合してマスク
９と当接する。そして真空ポンプ２３を作動させ
真空配管１１を通して溝１０とマスク９との間を
脱気し、その後真空ポンプ２４を停止させる。こ
れによりマスク９はマスク吸着板６に吸着され
る。次に支持部材４を上方に開けてP.W.B８を下
枠１４に載置する。このとき、P.W.B８の位置決
め穴と、P.W.B位置決めピン１７を嵌合させる。
そして支持部材４を下方に閉じてから真空ポンプ
２４を作動させ上枠１と下枠１４との間を脱気さ
せる。この脱気により、P.W.B８とマスク９が密
接し、紫外線光の照射を受ける状態になる。以後
真空ポンプ２４の作動、停止、支持部材４の開閉
及びP.W.B８の脱着により所要の枚数紫外線光の
照射を受けることができる。

サイズが同一なマスク９を交換するときは、支
持部材４を上方に開き、真空ポンプ２２を停止さ
せてマスク９を脱離し、そして次のマスク９を下
枠１４に載置して前述した操作を行う。サイズが
違うマスク９を交換するときは、真空ポンプ２２
〜２４を停止させてから支持部材４を上方に開
き、マスク吸着板６を取り除く。そして次のマス
ク９と溝１０の位置が合致するマスク吸着板６を
下枠１４に載置して前述の操作を行う。

〔考案の効果〕

以上説明したように本考案はサイズが種々ある
P.W.Bに展着した状態で当接又は密接させるマス
クはマスクを吸着する溝の位置をP.W.Bのサイズ
毎に変えて備えたマスク吸着板を交換することに
より、最大P.W.Bより大きなマスクのみでなく、
P.W.Bのサイズに合つたものが使用でき余分な部
分を必要としない効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の実施例による焼枠を示す平面
図、第２図は同断面正面図、第３図は本考案に係
る焼枠の下枠にP.W.Bを載置した状態を示す平面
図、第４図は従来の焼枠を示す断面正面図であ
る。 １，２１……上枠、２，７，１０……溝、３，
１１，１８……真空配管、４……支持部材、５…
…固定ネジ、６……マスク吸着板、８……印刷配
線板、９……マスクフイルム、１２……マスク吸
着板位置決めピン、１３，１６……穴、１４……
下枠、１５……パツキン、１７……P.W.B位置決
めピン、１９……保持部材、２０……金具、２２
〜２４……真空ポンプ。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 透明な上枠と、該上枠の下面に位置決めして交
   換可能に装着された透明なマスク吸着板と、ドラ
   イフイルムレジストをラミネートした基板を前記
   マスク吸着板の真下位置に保持する下枠とを有
   し、前記マスク吸着板の下面に、マスクフイルム
   の外周縁を真空吸着させる吸着用溝を開口したこ
   とを特徴とする紫外線照射用焼枠。