JP2003015324A

JP2003015324A - 露光装置

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Publication number: JP2003015324A
Application number: JP2001195802A
Authority: JP
Inventors: Koji Suzuki; 鈴木　　孝治
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2001-06-28
Filing date: 2001-06-28
Publication date: 2003-01-17
Anticipated expiration: 2021-06-28
Also published as: JP5002871B2

Abstract

(57)【要約】【目的】大サイズのフォトマスクを略鉛直方向に立て
て支持枠に装着した状態で、フォトマスクの絵柄が形成
されていない裏面側から露光して、フォトマスクの絵柄
を、加工用基材の表面部に配設された感光性材料に潜像
として露光形成するためのフォトリソグラフィー用の露
光装置であって、支持枠におけるフォトマスクの横方向
位置を精度良く決めをことができる露光装置を提供す
る。【構成】支持枠には、フォトマスクの鉛直方向位置で
あるたて方向位置を所定位置に保持した状態で、フォト
マスクの横方向の一方の側面部を、これに当て、支持枠
に沿いフォトマスクの横方向位置を決定するための横方
向位置決めピンを持つものであり、支持枠に前記フォト
マスクの横方向の一方の側面部に対向する側の、フォト
マスクの横方向の他方の側面部を押し、フォトマスクを
横方向位置決めピンに押し当てて抑える、アクチュエー
タを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、大サイズのフォト
マスクを略鉛直方向に立てて支持枠に装着した状態で、
フォトマスクの絵柄が形成されていない裏面側から露光
して、フォトマスクの絵柄を、加工用基材の表面部に配
設された感光性材料に潜像として露光形成するためのフ
ォトリソグラフィー用の露光装置に関し、特に、支持枠
におけるフォトマスクの横方向位置を精度良く決めるを
ことができるフォトエッチング加工工程における製版用
の露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、カラーＴＶ（ブラウン管）用のシ
ャドウマスクは、使用量の増大に伴い量産化が進み、且
つ、その使用目的によっては、高精細化、大型化等が求
められている。このようなシャドウマスクは、一般に
は、帯状の金属板材を素材として用い、フォトエッチン
グ法によりエッチング加工を行なう一貫ラインで生産さ
れている。簡単には、帯状の金属板材を連続ないし間欠
的に移動させながら、通常は、製版工程を施し、その両
面に耐エッチング性のレジスト像を形成し、これをエッ
チングマスクとして、帯状の金属板材をエッチングする
エッチング工程を行い、各シャドウマスクの製品部の外
周部が帯状の金属板材に保持されるようにして、且つ、
帯状の金属板材にシャドウマスクを面付けした状態にし
て、外形加工されていた。そして、その後、各シャドウ
マスク毎に分離するトリミング工程を施して、目的とす
る製品であるシャドウマスクを得ていた。

【０００３】上記シャドウマスク製造ラインにおける製
版工程では、その両面に感光性のレジスト膜が塗布形成
された帯状の金属板材を、ほぼ張った状態で間欠的に移
動させながら、停止の際に、帯状の金属板材の両面の感
光性のレジスト膜に、大サイズのガラス乾板にて形成さ
れたフォトマスク、一対を、互いに対向して位置合せ
し、それぞれ、帯状の金属板材の両面から密着させ、こ
の状態で、それぞれ、各フォトマスク介して金属板材の
両面の感光性のレジスト膜を露光して、潜像を形成する
露光方法が採られていた。そして、露光後、現像して、
耐エッチング性のレジスト像を形成していた。

【０００４】従来、上記製版工程における露光には、大
サイズのフォトマスクを支持枠に装着した状態で、フォ
トマスクの絵柄が形成されていない裏面側から露光する
方式のフォトリソグラフィー用の露光装置が用いられて
いた。この露光装置は、フォトマスクを略鉛直に支持枠
に取り付けるものであり、フォトマスクの鉛直方向の位
置を決めるためのたて方向位置決めピンが支持枠の下
側、フォトマスク下側に対応する位置に２個、互いに略
水平となる位置に設けられ、且つ、支持枠の横方向の一
方、フォトマスクの側面に対応する位置に、フォトマス
クの水平方向の位置を決めるための横方向位置決めピン
が１個設けられていた。そして、フォトマスクを支持枠
に装着する際に、人手によりマスクをピンに押し付けて
露光装置に装着されていた。しかし、フォトマスクが大
型であるため、特に、装着時に正確に横方向位置決めピ
ンに押し当てることが困難であった。また、生産中、露
光装置の動作により、マスクが位置決めピンから離れて
しまうことがあった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このように、上記シャ
ドウマスクの製版工程における露光のように、大サイズ
のフォトマスクを支持枠に装着した状態で、フォトマス
クの絵柄が形成されていない裏面側から露光する方式の
フォトリソグラフィー用の露光装置を用いる場合、従
来、横方向位置決めが精度良く行われず、この対応が求
められていた。本発明は、これに対応するもので、大サ
イズのフォトマスクを略鉛直方向に立てて支持枠に装着
した状態で、フォトマスクの絵柄が形成されていない裏
面側から露光して、フォトマスクの絵柄を、加工用基材
の表面部に配設された感光性材料に潜像として露光形成
するためのフォトリソグラフィー用の露光装置であっ
て、支持枠におけるフォトマスクの横方向位置を精度良
く決めをことができる露光装置を提供しようとするもの
である。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の露光装置は、大
サイズのフォトマスクを略鉛直方向に立てて支持枠に装
着した状態で、フォトマスクの絵柄が形成されていない
裏面側から露光して、フォトマスクの絵柄を、加工用基
材の表面部に配設された感光性材料に潜像として露光形
成するためのフォトリソグラフィー用の露光装置であっ
て、支持枠には、フォトマスクの鉛直方向位置であるた
て方向位置を所定位置に保持した状態で、フォトマスク
の横方向の一方の側面部を、これに当て、支持枠に沿い
フォトマスクの横方向位置を決定するための横方向位置
決めピンを持つものであり、支持枠に前記フォトマスク
の横方向の一方の側面部に対向する側の、フォトマスク
の横方向の他方の側面部を押し、フォトマスクを横方向
位置決めピンに押し当てて抑える、アクチュエータを備
えていることを特徴とするものである。そして、上記に
おいて、フォトマスクの横方向位置を決めるための横方
向位置決めピンが、その横方向の一方側に 1個設けら
れ、アクチュエータが、前記横方向位置決めピン側でな
い、その横方向の他方側、横方向位置決めピンと略同じ
高さ位置に１個設けられていることを特徴とするもので
ある。そしてまた、上記において、アクチュエータは、
回転式のカムを備えたもので、前記カムをフォトマスク
の横方向側面部にあて、回転させることにより、横方向
位置決めピン側にフォトマスクを押し当てるものである
ことを特徴とするものであり、フォトマスクと加工用基
材の表面部に配設された感光性材料とは、真空密着され
て、露光が行なわれるもので、且つ、アクチュエータの
カム回転の動力伝達を、支持枠部を貫通する孔部に設け
られた回転軸（シャフトとも言う）により行なうもので
あり、前記回転軸に真空漏れ防止用のＯリングを用いて
いることを特徴とするものである。そして、上記におい
て、支持枠の下側２箇所に、互いに略水平となるよう
に、それぞれ１個、フォトマスクの鉛直方向であるたて
方向の位置を決めるための、たて方向位置決めピンを設
けていることを特徴とするものである。尚、ここでは、
「大サイズのフォトマスク」とは、人手により運ぶのが
負担になるほどのサイズのフォトマスクで、通常は幅２
４インチ×高さ３２インチ以上のサイズのフォトマスク
を言う。

【０００７】

【作用】本発明の露光装置は、このような構成にするこ
とにより、大サイズのフォトマスクを略鉛直方向に立て
て支持枠に装着した状態で、フォトマスクの絵柄が形成
されていない裏面側から露光して、フォトマスクの絵柄
を、加工用基材の表面部に配設された感光性材料に潜像
として露光形成するためのフォトリソグラフィー用の露
光装置であって、支持枠におけるフォトマスクの横方向
位置を精度良く決めることができる露光装置の提供を可
能としている。即ち、アクチュエータによりフォトマス
クを横方向位置決めピン側に押し当てて抑えることによ
り、フォトマスクを横方向位置決めを確実にし、横方向
に位置精度を、アクチェータを持たない従来の構造に比
べ、向上させることができる。

【０００８】具体的には、フォトマスクの横方向位置を
決めるための横方向位置決めピンが、その横方向の一方
側に１個設けられ、アクチュエータが、前記横方向位置
決めピン側でない、その横方向の他方側、横方向位置決
めピンと略同じ高さ位置に１個設けられているものが挙
げられ、アクチェータとしては、回転式のカムを備えた
もので、前記カムをフォトマスクの横方向側面部にあ
て、回転させることにより、横方向位置決めピン側にフ
ォトマスクを押し当てるものが挙げられる。

【０００９】特に、露光装置が、フォトマスクと加工用
基材の表面部に配設された感光性材料とは、真空密着さ
れて、露光が行なわれるもので、アクチュエータのカム
回転の動力伝達を、支持枠部を貫通する孔部に設けられ
た回転軸により行なうものの場合には、回転軸に真空漏
れ防止用のＯリングを用いることにより、回転軸におけ
る支持枠両面の真空漏れを防止できる。

【００１０】露光装置が、加工用基材の表裏面に配設さ
れた感光性材料、それぞれに、支持枠に保持されたフォ
トマスクを用いてフォトマスクの裏面側から、それぞ
れ、フォトマスクと加工用基材の表面部に配設された感
光性材料とを真空密着して、略同時に露光して、潜像を
形成する、シャドウマスク製造用の製版工程に用いられ
る両面露光装置である場合には、特に有効である。尚、
上記シャドウマスク製造用の製版工程に用いられる両面
露光装置は、通常、支持枠の下側２箇所に、互いに略水
平となるように、それぞれ１個、フォトマスクの鉛直方
向であるたて方向の位置を決めるための、たて方向位置
決めピンを設けている。勿論、このような本発明の露光
装置は、リードフレームのフォトエッチング加工の際の
製版工程における露光にも適用できる。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態の例を挙げて
説明する。図１（ａ）は本発明の露光装置の実施の形態
の１例の概略図で、図１（ｂ）は図１（ａ）に示す支持
枠部をＡ１方向から見た図で、図２は図１（ａ）におい
てＡ２方向からみた概略図で、図３は加工用基材１７０
のＡ１側の支持枠部を感光性材料１７５を塗膜した加工
用基材に真空密着した状態を示した図である。尚、図１
（ａ）は図１（ｂ）のＡ３−Ａ４から見た図で、図３は
図１（ｂ）のＡ５−Ａ６位置における断面図である。図
１〜図３中、１１０、１１５は支持枠、１１０Ａは支持
枠の内側位置、１１１、１１６はたて方向位置決めピ
ン、１１２、１１７は横方向位置決めピン、１２０、１
２５は光源部、１２１、１２６は光源、１２２、１２７
はミラー、１３０、１３５は支持枠保持制御部、１４
０、１４５はパッキン、１５０、１５５はアクチュエー
タ、１５１、１５６はカム、１５２、１５７は回転軸
（シャフトとも言う）、１５３、１５８はアクチュエー
タ、１６０、１６５はフォトマスク（パターン版とも言
う）、１７０は加工用基材、１７５は感光性材料、１８
０はレール、１８５はレール受け部、１９０は真空領域
である。

【００１２】本発明の露光装置の実施の形態の１例を図
１に基づいて説明する。本例の露光装置は、大サイズの
フォトマスク１６０、１６５を、それぞれ、略鉛直方向
に立てて支持枠１１０、１１５に装着した状態で、フォ
トマスク１６０、１６５の絵柄が形成されていない裏面
側から露光して、フォトマスク１６０、１６５の絵柄
を、それぞれ、加工用基材の表面部に配設された感光性
材料１７５に潜像として露光形成するための、フォトエ
ッチング加工の製版工程において使用される両面露光用
の露光装置で、感光性材料１７５材料が塗膜された加工
用基材１７０の一方の面側に、支持枠１１０、支持枠保
持制御部１３０、光源部１２０を備え、且つ、加工用基
材１７０の他方の面側に、支持枠１１５、支持枠保持制
御部１３５、光源部１２５を備えている。露光の際に
は、支持枠１１０、１１５はそれぞれ、支持枠保持制御
部に制御され、感光性材料１７５材料が塗膜された加工
用基材１７０のそれぞれの面の感光性材料１７０に真空
密着された状態で、露光が行なわれるものである。

【００１３】支持枠１１０には、その下側２箇所に、互
いに略水平となるように、それぞれ１個、フォトマスク
の鉛直方向であるたて方向の位置を決めるための、たて
方向位置決めピン１１１を設けており、フォトマスクの
鉛直方向位置であるたて方向位置を所定位置に保持した
状態で、フォトマスクの横方向の一方の側面部を、これ
に当て、支持枠に沿いフォトマスクの横方向位置を決定
するための、横方向位置決めピン１１２を持つものであ
り、支持枠１１０にフォトマスク１６０の横方向の一方
の側面部に対向する側の、フォトマスクの横方向の他方
の側面部を押し、フォトマスク１６０を横方向位置決め
ピンに押し当てて抑える、アクチュエータ１５０を備え
ている。同様に、支持枠１１５には、その下側２箇所
に、互いに略水平となるように、それぞれ１個、フォト
マスクの鉛直方向であるたて方向の位置を決めるため
の、たて方向位置決めピン１１６を設けており、フォト
マスクの鉛直方向位置であるたて方向位置を所定位置に
保持した状態で、フォトマスクの横方向の一方の側面部
を、これに当て、支持枠に沿いフォトマスクの横方向位
置を決定するための、横方向位置決めピン１１７を持つ
ものであり、支持枠１１５にフォトマスク１６５の横方
向の一方の側面部に対向する側の、フォトマスクの横方
向の他方の側面部を押し、フォトマスク１６５を横方向
位置決めピンに押し当てて抑える、アクチュエータ１５
５を備えている。本例では、図１（ｂ）に示すように、
横方向位置決めピン１１２、１１６は、それぞれ、アク
チュエータ１５０、１５５とは略同じ高さ位置に設けら
れている。

【００１４】支持枠部１１０、１１５は、それぞれフォ
トマスク１６０、１６５の絵柄形成層側とは反対側の面
の周辺全体を、真空引きするもので、枠部には真空引き
孔部（図示していない）に続く溝が全周にわたり設けら
れ、この溝にてフォトマスクの周辺全体が真空引きされ
る。支持枠部１１０、１１５は、露光時には、加工用基
材１７０の感光性材料１７５にその支持するフォトマス
クを密着させるものである。尚、通常、支持枠部の母材
としてはステンレス材や樹脂材等が用いられる。支持枠
保持制御部１３０、１３５は、それぞれ、支持枠部１１
０、１１５を保持し、フォトマスクの支持枠部への真空
吸着や、支持枠部１１０、支持枠部１１５間や支持枠部
１１０、１１５と加工用基材１７０間の真空引きや真空
解除を制御するものである。尚、支持枠部１１０（１１
５）内側の光源１２０（１２５）からの露光光を透過さ
せる窓（図１（ｂ）の１１０Ａ内側領域）に対応する支
持枠保持制御部１３０（１３５）の領域は窓部ないし露
光光透過性の材質からなる。図２に示すように、支持枠
部１１０、１１５は、それぞれ、支持枠保持制御部１３
０、１３５のレール受け部１８５を介して、レール１８
０上を移動できるようになっており、この移動により感
光性材料１７５を塗膜した加工用基材１７０からの距離
を変えることができる。光源１２１、１２６としては、
Ｘｅランプやメタルハライドランプ、水銀灯等が用いら
れる。

【００１５】加工用基材１７０は、帯状に連続した金属
シートで、その表裏には感光性材料１７５が塗膜されて
おり、張った状態で露光は行われる。製品がシャドウマ
スクの場合には、低炭素鋼や鉄ーニッケル合金（例えば
アンバー材、３６％ニッケル−鉄合金）が用いられ、製
品がリードフレームの場合には、銅材あるいは鉄ーニッ
ケル合金（例えば４２合金、４２％ニッケル−鉄合金）
等が用いられる。そして、感光性材料１７５としては、
通常、カゼイン系、ＰＶＡ系等、各種用いられる。

【００１６】また、フォトマスク１６０、１６５として
は、通常、幅２４インチ×高さ３２インチサイズあるい
はこれ以上のサイズの銀塩乾板に絵柄を形成したものが
用いられ、フォトマスクサイズに合せた支持枠部、光源
が準備される。

【００１７】アクチュエータ１５０、１５５は、それぞ
れ、回転式のカム１５１、１５６を備えたもので、カム
１５１、１５６を、それぞれ、フォトマスク１６０、１
６５の横方向側面部にあて、回転させることにより、そ
れぞれ、横方向位置決めピン１１２、１１７側に、フォ
トマスク１６０、１６５を押し当てるものである。アク
チュエータ１５０、１５５のカム回転の動力伝達を、そ
れぞれ、支持枠部１１０、１１５を貫通する孔部に設け
られた回転軸１５２、１５７により行なうものである
が、フォトマスク１６０、１６５と加工用基材１７０の
表面部に配設された感光性材料１７５とは、真空密着さ
れて、露光が行なわれるものであり、回転軸１５２、１
５７には、それぞれ、真空漏れ防止用のＯリング（図示
していない）を用いている。支持枠部１１０は、真空密
着され、図３に示すように、フォトマスク１６０は感光
性材料１７５に密着されるが、この際、図３のＢ１部の
ように、支持枠部１１０とフォトマスク１６０と、感光
性材料１７５を塗布した加工用基材１７０とで真空領域
１９０が形成される。このため、カム１５１の回転の回
転軸１５２には、支持枠部１１０の両面間で圧力差が生
じることとなるが、真空領域１９０の真空漏れを防止す
る手段として、本例では、少なくとも回転軸１５２の一
部にＯリング（図示していない）を設け、支持枠部１１
０の回転軸１５２を通す貫通孔からの空気漏れを防いで
いる。

【００１８】次に、本例の装置の露光動作の１例を簡単
に説明しておく。先ず、支持枠部１１０、１１５を加工
用基材１７０から離した状態で、それぞれ、フォトマス
ク１６０、１６５を所定の位置にセットした後、これら
にフォトマスク１６０、１６５をその周辺部で真空吸着
固定する。フォトマスクの鉛直方向位置（たて方向位置
とも言う）、水平方向位置（横方向の位置とも言う）の
位置出しは、それぞれ、支持枠部１１０、１１５のたて
方向位置決めピン１１１、１１６、横方向位置決めピン
１１２、１１７により行なわれる。横方向の位置決めに
は、それぞれアクチュエータ１５０、１５５のカム１５
１、１５６を用い、位置決めを確実に行なう。先にも述
べたように、支持枠部１１０、１１５には、それぞれ、
真空引き孔部（図示していない）に続く溝が全周にわた
り設けられ、この溝にてフォトマスクの周辺全体の真空
引きが行なわれる。この状態が図１（ａ）、図２に示す
状態に相当する。次いで、加工用基材１７０を張って、
停止させている状態で、支持枠保持制御部１３０、１３
５のレール受け部１８５により、レール上を加工用基材
１７０側に、支持枠部１１０、１１５を、それぞれ、支
持枠保持制御部１３０、１３５と一体として移動し、フ
ォトマスク１６０、１６５が、それぞれ、感光性材料１
７５に接するようにした状態で、支持枠部１１０、フォ
トマスク１６０と支持枠部１１５、フォトマスク１６５
間を真空引きし、フォトマスク１６０、１６５を加工用
基材１７０の感光性材料１７５に密着させる。このフォ
トマスクと感光性材料１７５とが密着した状態で、光源
部１２０、１２５により、フォトマスクの裏面側から露
光用光を照射し、加工用基材１７０の両面の感光性材料
１７０を露光し、それぞれフォトマスクに対応した潜像
を形成する。この後、支持枠部１１０、フォトマスク１
６０と支持枠部１１５、フォトマスク１６５間を真空を
解除し、フォトマスク１６０、１６５と加工用基材１７
０の感光性材料１７５との真空密着を解除する。次い
で、各支持枠部を所定の位置まで、加工用基材１７０か
ら離れるように、レール１８０上を位置移動させ、加工
用基材を搬送し、同様に、フォトマスクと加工用基材１
７０の感光性材料１７５との密着、露光の動作を繰り返
す。

【００１９】露光後、必要に応じ、各支持枠部を所定の
位置まで、加工用基材１７０から離れるように、フォト
マスク交換位置までレール１８０上を位置移動させ、支
持枠部のフォトマスク真空吸着用の真空を解除し、フォ
トマスクを支持枠部からはずす。そして、新たに別のフ
ォトマスクを、同様にして支持枠部に装着し、同様に露
光を行なう。このように、本例の露光装置は動作するこ
とができるが、これは１例で、これに限定はされない。

【００２０】

【発明の効果】本発明は、上記のように、大サイズのフ
ォトマスクを略鉛直方向に立てて支持枠に装着した状態
で、フォトマスクの絵柄が形成されていない裏面側から
露光して、フォトマスクの絵柄を、加工用基材の表面部
に配設された感光性材料に潜像として露光形成するため
のフォトリソグラフィー用の露光装置であって、支持枠
におけるフォトマスクの横方向位置を精度良く決めるこ
とができる露光装置の提供を可能とした。特に、これに
より、フォトエッチング加工して作製されるシャドウマ
スクの製版工程作業をより、効率的、量産的なものとし
た。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１（ａ）は本発明の露光装置の実施の形態の
１例の概略図で、図１（ｂ）は図１（ａ）に示す支持枠
部をＡ１方向から見た図である。

【図２】図１（ａ）においてＡ２方向からみた概略図で
ある。

【図３】加工用基材１７０のＡ１側の支持枠部を感光性
材料１７５を塗膜した加工用基材に真空密着した状態を
示した図

【符号の説明】

１１０、１１５支持枠１１０Ａ支持枠の内側位置１１１、１１６たて方向位置決めピン１１２、１１７横方向位置決めピン１２０、１２５光源部１２１、１２６光源１２２、１２７ミラー１３０、１３５支持枠保持制御部１４０、１４５パッキン１５０、１５５アクチュエータ１５１、１５６カム１５２、１５７回転軸（シャフトとも言
う）１５３、１５８アクチュエータ１６０、１６５フォトマスク（パターン版
とも言う）１７０加工用基材１７５感光性材料１８０レール１８５レール受け部１９０真空領域

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】大サイズのフォトマスクを略鉛直方向に
立てて支持枠に装着した状態で、フォトマスクの絵柄が
形成されていない裏面側から露光して、フォトマスクの
絵柄を、加工用基材の表面部に配設された感光性材料に
潜像として露光形成するためのフォトリソグラフィー用
の露光装置であって、支持枠には、フォトマスクの鉛直
方向位置であるたて方向位置を所定位置に保持した状態
で、フォトマスクの横方向の一方の側面部を、これに当
て、支持枠に沿いフォトマスクの横方向位置を決定する
ための横方向位置決めピンを持つものであり、支持枠に
前記フォトマスクの横方向の一方の側面部に対向する側
の、フォトマスクの横方向の他方の側面部を押し、フォ
トマスクを横方向位置決めピンに押し当てて抑える、ア
クチュエータを備えていることを特徴とする露光装置。
【請求項２】請求項１において、フォトマスクの横方
向位置を決めるための横方向位置決めピンが、その横方
向の一方側に１個設けられ、アクチュエータが、前記横
方向位置決めピン側でない、その横方向の他方側、横方
向位置決めピンと略同じ高さ位置に１個設けられている
ことを特徴とする露光装置。
【請求項３】請求項１ないし２において、アクチュエ
ータは、回転式のカムを備えたもので、前記カムをフォ
トマスクの横方向側面部にあて、回転させることによ
り、横方向位置決めピン側にフォトマスクを押し当てる
ものであることを特徴とする露光装置。
【請求項４】請求項３において、フォトマスクと加工
用基材の表面部に配設された感光性材料とは、真空密着
されて、露光が行なわれるもので、且つ、アクチュエー
タのカム回転の動力伝達を、支持枠部を貫通する孔部に
設けられた回転軸により行なうものであり、前記回転軸
に真空漏れ防止用のＯリングを用いていることを特徴と
する露光装置。
【請求項５】請求項１ないし４において、支持枠の下
側２箇所に、互いに略水平となるように、それぞれ１
個、フォトマスクの鉛直方向であるたて方向の位置を決
めるための、たて方向位置決めピンを設けていることを
特徴とする露光装置。