JP2002333699A - 絵柄転写装置および絵柄転写方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 フォトエッチング法にて製造されるシャドウ
マスク製造ラインにおける製版工程で用いられるフォト
マスクを作製するための、ガラス乾板同士の転写工程
を、転写元のガラス乾板のガラス面側に付着した異物や
汚れが転写先のガラス乾板に絵柄として転写されないよ
うに実施することができる、絵柄転写方法とこれを実施
するための絵柄転写装置とを提供する。 【構成】 絵柄が形成されたガラス乾板からなるパタン
版と未露光のガラス乾板とを、パタン版の絵柄形成面と
未露光のガラス乾板の感光材層形成面とが向き合うよう
にした状態にし、パタン版の絵柄形成面と未露光のガラ
ス乾板の感光材層形成面とを合せて、パタン版と未露光
のガラス乾板とを密着させ、パタン版側から所定の光源
にて露光を行ない、パタン版の絵柄を、潜像として未露
光のガラス乾板に転写形成する密着転写方式の絵柄転写
装置であって、露光光源と、パタン版の露光光が照射さ
れる照射面との間に光拡散板を設置している。そして、
光拡散板は拡散角を所定の角度範囲内に制御できるもの
である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フォトリソグラフ
ィー法に用いられるフォトマスクを製作するための絵柄
転写装置と、絵柄転写方法に関し、特に、大サイズの絵
柄が形成されたガラス乾板からなるパタン版の絵柄を、
潜像として未露光の大サイズのガラス乾板に転写形成す
る絵柄転写装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、カラーＴＶ（ブラウン管）用のシ
ャドウマスクは、使用量の増大に伴い量産化が進み、且
つ、その使用目的によっては、高精細化、大型化等が求
められている。このようなシャドウマスクは、一般に
は、帯状の金属板材を素材として用い、フォトエッチン
グ法によりエッチング加工を行なう一貫ラインで生産さ
れている。簡単には、帯状の金属板材を連続ないし間欠
的に移動させながら、通常は、製版工程を施し、その両
面に耐エッチング性のレジスト像を形成し、これをエッ
チングマスクとして、帯状の金属板材をエッチングする
エッチング工程を行い、各シャドウマスクの製品部の外
周部が帯状の金属板材に保持されるようにして、且つ、
帯状の金属板材にシャドウマスクを面付けした状態にし
て、外形加工されていた。そして、その後、各シャドウ
マスク毎に分離するトリミング工程を施して、目的とす
る製品であるシャドウマスクを得ていた。

【０００３】上記シャドウマスク製造ラインにおける製
版工程では、その両面に感光性のレジスト膜が塗布形成
された帯状の金属板材を、ほぼ張った状態で間欠的に移
動させながら、停止の際に、帯状の金属板材の両面の感
光性のレジスト膜に、大サイズのガラス乾板にて形成さ
れたフォトマスク、一対を、互いに対向して位置合せ
し、それぞれ、帯状の金属板材の両面から密着させ、こ
の状態で、それぞれ、各フォトマスク介して金属板材の
両面の感光性のレジスト膜を露光して、潜像を形成する
露光方法が採られていた。そして、露光後、現像して、
耐エッチング性のレジスト像を形成していた。

【０００４】このような中、最近では、高精細化に伴
い、シャドウマスクの品質精度要求が一段と厳しくなっ
てきており、上記製版工程において用いられる大サイズ
のガラス乾板からなるフォトマスク、一対にも、ますま
す厳しくその品質精度が求められるようになってきた。
このようなシャドウマスク製造用のフォトマスクを作製
する元となる原版は、最近では、ガラス乾板に描画露光
機にて選択的に露光して、現像処理を施して、絵柄形成
されており、その絵柄の位置精度は描画露光機の精度で
決まり、先に述べた金属板材の両面の感光性のレジスト
膜を露光する一対のフォトマスクを、それぞれ作成する
ための原版については、互いに絵柄の相対位置ずれは小
さい。通常、上記シャドウマスクを露光する際に用いら
れる一対のフォトマスクは、それぞれ、原版の絵柄を他
のガラス乾板に、逐次、転写形成する転写工程を、１回
ないし複数回繰り返して行い、作製される。尚、未露光
のガラス乾板とは、ガラス基板の一面に感光材層を設け
たもので、この未露光のガラス乾板の感光材層を露光
し、現像処理を施し絵柄を形成したものを、絵柄が形成
されたガラス乾板と言い、ここでは、未露光のガラス乾
板、絵柄が形成されたガラス乾板を、それぞれ、単に、
ガラス乾板とも言う。感光材層としては、銀塩感光材層
が通常用いられるが、これに限定はされない。

【０００５】この転写工程としては、従来、絵柄が形成
された転写元のガラス乾板と未露光の転写先のガラス乾
板とを、その膜面同士を真空密着した状態で、転写元の
ガラス乾板側から所定の光源からのほぼ平行光を用いて
露光を行い、転写先のガラス乾板に潜像を形成する密着
転写方式が採られていたが、転写の際に、転写元のガラ
ス乾板のガラス面側に付着した異物や汚れが転写先のガ
ラス乾板に絵柄として転写されることがあり、高精細化
に伴う、シャドウマスクの品質精度要求が一段と厳しく
なってきているおり、これが問題化してきた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】このように、高精細化
に伴い、シャドウマスクの品質精度要求が一段と厳しく
なってきている中、フォトエッチング法にて製造される
シャドウマスク製造ラインにおける製版工程で用いられ
るフォトマスクを作製するための、ガラス乾板同士の転
写工程においては、転写元のガラス乾板のガラス面側に
付着した異物や汚れが転写先のガラス乾板に絵柄として
転写されることが問題化し、この対応が求められてい
た。本発明は、これに対応するもので、フォトエッチン
グ法にて製造されるシャドウマスク製造ラインにおける
製版工程で用いられるフォトマスクを作製するための、
ガラス乾板同士の転写工程を、転写元のガラス乾板のガ
ラス面側に付着した異物や汚れが転写先のガラス乾板に
絵柄として転写されないように実施することができる、
絵柄転写方法と、これを実施するための絵柄転写装置と
を提供しようとするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の絵柄転写装置
は、絵柄が形成されたガラス乾板からなるパタン版と未
露光のガラス乾板とを、パタン版の絵柄形成面と未露光
のガラス乾板の感光材層形成面とが向き合うようにした
状態にし、パタン版の絵柄形成面と未露光のガラス乾板
の感光材層形成面とを合せて、パタン版と未露光のガラ
ス乾板とを密着させ、パタン版側から所定の光源にて露
光を行ない、パタン版の絵柄を、潜像として未露光のガ
ラス乾板に転写形成する密着転写方式の絵柄転写装置で
あって、露光光源と、パタン版の露光光が照射される照
射面との間に光拡散板を設置していることを特徴とする
ものである。そして、上記において、光拡散板は拡散角
を所定の角度範囲内に制御できるものであることを特徴
とするものである。そしてまた、上記において、パタン
版の絵柄形成面と未露光のガラス乾板の感光材層形成面
とを向き合うようにして、パタン版を、その周辺部で真
空引きして保持する枠部と、未露光のガラス乾板を、そ
の感光材層形成面とは反対側の面で真空引きして保持す
る定盤、あるいは、未露光のガラス乾板を、その周辺部
で真空引きして保持する枠部とを有し、パタン版及び未
露光のガラス乾板を枠部ないし定盤で保持しながら、パ
タン版と未露光のガラス乾板間を真空引きして、両者を
密着するものであることを特徴とするものである。

【０００８】光拡散板としては、特に、拡散角を所定の
角度範囲内に制御できるものが好ましく、ホログラム拡
散板が挙げられる。そして、拡散角は、対象とする異物
のサイズ、転写元のガラス乾板の寸法と転写され作成さ
れるガラス乾板の寸法との差等を考慮して決められ、例
えば、拡散角を５度以上、１０度以下の角度範囲に制御
する。尚、ここで、拡散角とは、照射方向（ガラス乾板
に直交する方向）と最高照度の半値を示す方向とがなす
角度で表される。

【０００９】本発明の絵柄転写方法は、絵柄が形成され
たガラス乾板からなるパタン版と未露光のガラス乾板と
を、パタン版の絵柄形成面と未露光のガラス乾板の感光
材層形成面とが向き合うようにした状態にし、パタン版
の絵柄形成面と未露光のガラス乾板の感光材層形成面と
を合せて、パタン版と未露光のガラス乾板とを密着さ
せ、パタン版側から所定の光源にて露光を行ない、パタ
ン版の絵柄を、潜像として未露光のガラス乾板に転写形
成する絵柄転写方法であって、露光の際には、露光光源
からの露光光を光拡散板を介して、パタン版に照射して
露光を行なうことを特徴とするものである。そして、上
記において、光拡散板は拡散角を所定の角度範囲内に制
御できるものであることを特徴とするものである。

【００１０】

【作用】本発明の絵柄転写装置は、このような構成にす
ることにより、密着転写方式の絵柄転写装置であって、
転写元のガラス乾板のガラス面側に付着した異物や汚れ
が転写先のガラス乾板に絵柄として転写されない絵柄転
写装置の提供を可能にしている。特に、フォトエッチン
グ法にて製造されるシャドウマスク製造ラインにおける
製版工程で用いられるフォトマスクを作製するための、
ガラス乾板同士の絵柄転写装置で、転写元のガラス乾板
のガラス面側に付着した異物や汚れが転写先のガラス乾
板に絵柄として転写されない絵柄転写装置の提供を可能
にしている。そして、光拡散板は拡散角を所定の角度範
囲内に制御できるものであることにより、転写元のガラ
ス乾板の絵柄の透光部を通り、転写先の未露光のガラス
乾板の感光材層に入射する光の角度や露光量を、場所に
よらず、所定の範囲内に抑えることを可能としている。
これらより、シャドウマスクの益々の高精細化に品質的
に対応できるものとしている。具体的には、密着転写方
式の絵柄転写装置としては、パタン版の絵柄形成面と未
露光のガラス乾板の感光材層形成面とを向き合うように
して、パタン版を、その周辺部で真空引きして保持する
枠部と、未露光のガラス乾板を、その感光材層形成面と
は反対側の面で真空引きして保持する定盤、あるいは、
未露光のガラス乾板を、その周辺部で真空引きして保持
する枠部とを有し、パタン版及び未露光のガラス乾板を
枠部ないし定盤で保持しながら、パタン版と未露光のガ
ラス乾板間を真空引きして、両者を密着するもので、光
拡散板を備えたものが挙げられる。尚、フォトエッチン
グ法にて製造される製品としては、シャドウマスクに限
定されない。リードフレーム作製にも適用できる。

【００１１】本発明の絵柄転写方法は、このような構成
にすることにより、フォトエッチング法にて製造される
シャドウマスク製造ラインにおける製版工程で用いられ
るフォトマスクを作製するためのガラス乾板同士の転写
工程を、転写元のガラス乾板のガラス面側に付着した異
物や汚れが転写先のガラス乾板に絵柄として転写されな
いように実施することができる、絵柄転写方法の提供を
可能としている。これより、フォトエッチング法にて製
造されるシャドウマスク製造ラインにおける製版工程で
用いられるフォトマスクを、高品質で、歩留まり良く作
製することを可能とし、結果、シャドウマスクの益々の
高精細化要求に対応できるものとしている。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態の例を挙げて
説明する。図１（ａ）は本発明の絵柄転写装置の実施の
形態の１例の転写時の要部の概略図で、図１（ｂ）は光
拡散板と拡散角を説明するための図、図１（ｃ）は密着
を解除した焼枠部を示した図で、図２は従来の密着転写
方式における異物の影響を説明するための図で、図３は
実施の形態例の絵柄転写装置による密着転写方式におけ
る異物の影響を説明するための図で、図４は拡散角を制
御した場合の密着転写方式における転写された図形の寸
法精度を説明するための図で、図５は拡散角を制御しな
い場合の密着転写方式における転写された図形の寸法精
度を説明するための図である。尚、図１において、焼き
枠部１２０は要部のみを示したもので、実際には、真空
配管、圧空配管やその制御部が備わっている。図１〜図
４中、１１０は光源部、１１１はミラー、１１２は光源
（ランプとも言う）、１１５は（拡散板通過前の）露光
光（照明光とも言う）、１１５Ａは（拡散板通過後の）
露光光（照明光とも言う）、１１５Ｄはガラス基板に直
交する方向、１２０は焼き枠部、１２１、１２２は枠
部、１２５、１２６はパッキン、１３０は光拡散板、１
３１は保持部、１５０は（転写元の）絵柄が形成された
ガラス乾板（パタン版とも言う）、１５１はガラス部、
１５５黒化部、１５６は透明部、１５７は照射面、１６
０は（転写先の）未露光のガラス乾板、１６１はガラス
部、１６２は感光材層（感光剤とも言う）、１６５黒化
部、１６６は透明部、１７０は光強度分布、Ｅｍは（方
向１１５Ｄからの角度に対応した）光強度の最大値、１
８０は異物である。

【００１３】本発明の絵柄転写装置の実施の形態の１例
を図１に基づいて説明する。本例の絵柄転写装置は、絵
柄が形成されたガラス乾板からなるパタン版１５０と未
露光のガラス乾板１６０とを、パタン版１５０の絵柄形
成面（図３の黒化部１５５、透明部１５６側に相当）と
未露光のガラス乾板１６０の感光材層（図３の１６２に
相当）形成面とが向き合うようにした状態にセットし、
パタン版１５０の絵柄形成面と未露光のガラス乾板１６
０の感光材層形成面とを合せて、パタン版１５０と未露
光のガラス乾板１６０とを真空密着させ、パタン版１５
０側から光源部１１０にて露光を行ない、パタン版１５
０の絵柄を、潜像として未露光のガラス乾板１６０に転
写形成する密着転写方式の絵柄転写装置で、光源部１１
０と、パタン版１５０の露光光が照射される照射面１５
７との間に拡散角を所定の角度範囲内に制御できる光拡
散板１３０を設置している。そして、パタン版１５０の
絵柄形成面と未露光のガラス乾板１６０の感光材層形成
面とを向き合うようにして、パタン版１５０を、絵柄形
成面とは反対側の面（照射面１５７）の周辺部で真空引
きして保持する枠部１２１と、未露光のガラス乾板１６
０を、その感光材層形成面とは反対側の面の周辺部で真
空引きして保持する枠部１２２とを有し、パタン版１５
０及び未露光のガラス乾板１６０を枠部１２１、１２２
で保持しながら、パタン版１５０と未露光のガラス乾板
１６０間を真空引きして、両者を密着するものである。

【００１４】枠部１２１は、パタン版１５０の絵柄形成
層側とは反対側の面の周辺全体を、真空引きするもの
で、枠部には真空引き孔部（図示していない）に続く溝
が全周にわたり設けられ、この溝にてパタン版１５０の
周辺全体が真空引きされる。枠部１２２は、未露光のガ
ラス乾板１６０の感光剤形成面とは反対側の面の周辺全
体を、真空引きするもので、枠部には真空引き孔部（図
示していない）に続く溝が全周にわたり設けられ、この
溝にてパタン版１５０の周辺全体が真空引きされる。枠
部１２１は、移動可能な枠支持部（図示していない）に
支持されて、枠支持部を移動することにより、枠部１２
１、枠部１２２間の間隔を変えることができる。尚、溝
部両側には、パッキン（図示していない）があり、真空
引きの際に漏れがないようにしている。枠部１２１、１
２２としては、通常、鉄材が用いられる。

【００１５】パッキン１２５、１２６は、枠部１２１、
１２２にそれぞれ固定され、パタン版１５０領域、未露
光のガラス乾板１６０領域を囲むようにその全周にわた
り設けられている。そして、パッキン１２５、１２６、
パタン版１５０、枠部１２１、未露光のガラス乾板１６
０、枠部１２２に囲まれる空間を密閉して、真空引きで
きるようにしている。

【００１６】光源１１２としては、Ｘｅランプやメタル
ハライドランプ等が用いられ、光源からの直接の光、ミ
ラー１１１にて反射された光（照明光１１５に相当）
は、光拡散板１３１を介して、照明光１１５Ａとなる。

【００１７】本例においては、光拡散板１３０は、光源
部１１０と、パタン版１５０の露光光１１５Ａが照射さ
れる照射面１５７との間に配設され、その拡散角は所定
の角度範囲内に制御されている。拡散角は、対象とする
異物のサイズ、転写元のガラス乾板の絵柄の寸法と転写
され作成されるガラス乾板の絵柄の寸法との差等を考慮
して決める。光拡散板１３０としては、特に、拡散角を
所定の角度範囲内に制御できるものが好ましく、例え
ば、米国、Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｏｐｔｉｃｓ Ｃｏｒｐ
ｏｒａｔｉｏｎ製の、Ｌｉｇｈｔ Ｓｈａｐｉｎｇ Ｄ
ｉｆｆｕｓｅｒ（ホログラム拡散板）が用いられる。米
国、Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｏｐｔｉｃｓ Ｃｏｒｐｏｒａ
ｔｉｏｎ製の、Ｌｉｇｈｔ Ｓｈａｐｉｎｇ Ｄｉｆｆ
ｕｓｅｒ（ホログラム拡散板）は、所望の拡散角を得る
ように予め計算された凹凸形状を、基板状面に塗布され
た感光剤（感光材層）にレーザを用いて形成し、これを
マスタ版とする。そして、マスタ版の凹凸形状は、別の
基板上に塗布されたＵＶ硬化材料に転写され、これをＵ
Ｖ硬化することにより所望の拡散板を得る。

【００１８】尚、先にも述べたように、ここで、拡散角
とは、照射方向（ガラス乾板に直交する方向）と最高照
度の半値を示す方向とがなす角度である。図１（ｂ）の
ように、ガラス基板に直交する方向１１５Ｄで、光拡散
板１３０に入射された照明光は、光拡散板１３０の出射
側では分散され、方向１１５Ｄとのなす角度θによりそ
の光強度は異なり、例えば光強度分布１７０のようにな
る。方向１１５Ｄからの角度に対応した光強度の最大値
をＥｍとした場合、Ｅｍ／２）となる角度θを以って拡
散角と言う。

【００１９】図１（ｃ）は、パタン版１５０と未露光の
ガラス乾板１６０との密着を解除した場合の概略図であ
る．図１（ｃ）の状態で、パタン版１５０と未露光のガ
ラス乾板１６０との間隔を所定以上離し、パタン版１５
０、未露光のガラス乾板１６０の取り外しが行われる。

【００２０】本例の場合は、枠部１２１、１２２は、そ
れぞれ、パタン版１５０、未露光のガラス乾板１６０
を、共に、鉛直方向に立てるように設けられており、パ
タン版１５０、未露光のガラス乾板１６０を、共に、鉛
直方向に立てた状態で、パタン版１５０と未露光のガラ
ス乾板１６０との密着、露光を行なうもので、通常縦型
の絵柄転写装置と呼ばれるが、場合によっては、本例と
は異なり、パタン版１５０、未露光のガラス乾板１６０
を、共に、水平方向にして、転写を行なうようにした、
横型方式のものでも良い。

【００２１】本例絵柄転写装置の動作の１例を、図１を
基に簡単に説明しておく。尚、これを以って、本発明の
絵柄転写方法の実施の形態の１例に代える。先ず、図１
（ｃ）のように、枠部１２１を、枠部１２２と離し、両
枠を所定距離だけ離し、転写元のパタン版１５０を、そ
の絵柄形成面を枠部１２２側に向けて、枠部１２１にセ
ットし、且つ、転写先の未露光のガラス乾板１６０を、
その感光剤形成面を枠部１２１側に向けて、枠部１２２
にセットする。各枠部へのセットは、枠部に沿って設け
られた真空孔（図示していない）により、真空引きによ
り行なわれる。次いで、パタン版１５０、未露光のガラ
ス乾板１６０の間隔を、枠部１２１を支持するあるいは
枠部１２２を支持する枠支持部（図示していない）を移
動させ、パッキン１２５がパッキン１２６にゆっくりと
接触させる。この状態で、パタン版１５０の絵柄形成面
と未露光のガラス乾板１６０の感光材層面とは若干離れ
ているか、あるいは、かるく接触している。次いで、パ
タン版１５０の絵柄形成面、未露光のガラス乾板１６
０、パッキン１２５、パッキン１２６にて囲まれる領域
を真空引きし、パタン版１５０、未露光のガラス乾板１
６０を密着した後、光源部１１０の光源１１２を点灯
し、露光を行なう。この後、パタン版１５０の絵柄形成
面、未露光のガラス乾板１６０、パッキン１２５、パッ
キン１２６にて囲まれる領域の真空引きを止めるととも
に、前記領域に、清浄な空気あるいは窒素ガス等を導入
し真空解除を行い、パタン版１５０と未露光のガラス乾
板１６０との密着を解除する。次いで、パタン版１５
０、未露光のガラス乾板１６０の間隔を、枠支持部（図
示していない）を移動させ、所定の距離とし、パタン版
１５０、未露光のガラス乾板１６０の取り外しを行な
う。このようにして、転写動作が行われる。

【００２２】次に、転写の際、転写元のパタン版の露光
光が照射される照射面１５７側に、異物１８０がある場
合の転写を図３に基づいて説明する。転写元のパタン版
から未露光のガラス乾板に絵柄を密着転写形成して、フ
ォトエッチング法によりシャドウマスク製造を行なう際
に用いられるパタン版を作製する場合のもので、未露光
のガラス乾板は銀塩乳剤層を感光材層としたものとす
る。先ず、従来の光拡散板（図１の１３０に相当）を用
いない転写方式では、照射光１１５Ａはほぼ平行光であ
るため、図２（ａ）のように密着露光の際、異物１８０
に入射された光は遮断され、絵柄を形成する透光部１５
６まで到達せず、未露光ガラス乾板の材層（感光剤とも
言う）１６２まで到達しないため、図２（ｂ）に示すよ
うに、透光部１５６に対応する領域の一部は露光され
ず、通常の現像においては、パタン版１５０とは異なる
絵柄となる。これに対し、本例の装置による露光の場
合、光拡散板１３０により所定の拡散角θに制御されて
いるため、異物１８０の周辺にて照射面１５７入射され
た照射光１１５Ａは、図２（ａ）に示す従来の場合、露
光されなかった領域にも、回り込み、絵柄の透光部１５
６全域を露光する。よって、パタン版１５０に異物１８
０があるにも拘らず、絵柄の透光部１５６全域が露光さ
れるため、現像後、パタン版１５０とは同じ絵柄を得る
ことができる。

【００２３】次に、転写の際、拡散角を制御した場合の
密着転写方式における転写された図形の寸法精度と、拡
散角を制御しない場合の密着転写方式における転写され
た図形の寸法精度との違いを、図４、図５に基づいて説
明する。この場合も、転写元のパタン版から未露光のガ
ラス乾板に絵柄を密着転写形成して、フォトエッチング
法によりシャドウマスク製造を行なう際に用いられるパ
タン版を作製する場合のもので、未露光のガラス乾板は
銀塩乳剤層を感光材層としたものとする。密着転写の
際、拡散角が制御されている場合、図４に示すように、
透光部１５６の両黒化部側の端部に当たる光の向きは、
場所によらず所定の角度範囲に抑えることができるとと
もに、その部分の露光量も場所によらず所定範囲に抑え
ることができるのに対し、拡散角が制御されていない場
合、図５に示すように、透光部１５６の両黒化部側の端
部に当たる光の向きは、場所によらず所定の角度範囲に
抑えることができず、その部分の露光量も場所によらず
所定範囲に抑えることができない。このため、拡散角が
制御されている場合、パタン版１５０で同じＷ１１幅の
透光部は場所によらずほぼ同じ幅で転写形成される。即
ち、Ｗ１２が場所によらずほぼＷ１３と同じ値となる。
これに対し、拡散角が制御されていない場合、パタン版
１５０で同じＷ１１幅の透光部は場所によらずほぼ同じ
幅で転写形成されるとは限らない。即ち、Ｗ２２とＷ２
３とが、場所によらずほぼ同じ値になるとは限らない。

【００２４】

【発明の効果】本発明は、上記のように、密着転写方式
の絵柄転写方法で、転写の際、転写元のガラス乾板のガ
ラス面側に付着した異物や汚れが転写先のガラス乾板に
絵柄として転写されないように実施することができる絵
柄転写方法と、これを実施するための絵柄転写装置の提
供を可能とした。更に、光拡散板の拡散角を制御するこ
とにより、ガラス乾板同士の転写工程を、寸法品質の面
でも問題なくし、転写元のガラス乾板のガラス面側に付
着した異物や汚れが転写先のガラス乾板に絵柄として転
写されないようにして、密着転写を可能とした。これに
より、特に、フォトエッチング法にて製造されるシャド
ウマスク製造ラインにおける製版工程で用いられるフォ
トマスクで、シャドウマスクの益々の高精細化に対応で
きるフォトマスクの作製を可能とした。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１（ａ）は本発明の絵柄転写装置の実施の形
態の１例の転写時の要部の概略図で、図１（ｂ）は光拡
散板と拡散角を説明するための図、図１（ｃ）は密着を
解除した焼枠部を示した図である。

【図２】従来の密着転写方式における異物の影響を説明
するための図

【図３】実施の形態例の絵柄転写装置による密着転写方
式における異物の影響を説明するための図

【図４】拡散角を制御した場合の密着転写方式における
転写された図形の寸法精度を説明するための図

【図５】拡散角を制御しない場合の密着転写方式におけ
る転写された図形の寸法精度を説明するための図

【符号の説明】

１１０ 光源部 １１１ ミラー １１２ 光源（ランプとも言う） １１５ （拡散板通過前の）露光光（照明光
とも言う） １１５Ａ （拡散板通過後の）露光光（照明光
とも言う） １１５Ｄ ガラス基板に直交する方向 １２０ 焼き枠部 １２１、１２２ 枠部 １２５、１２６ パッキン １３０ 光拡散板 １３１ 保持部 １５０ （転写元の）絵柄が形成されたガラ
ス乾板（パタン版とも言う） １５１ ガラス部 １５５ 黒化部 １５６ 透明部 １５７ 照射面 １６０ （転写先の）未露光のガラス乾板 １６１ ガラス部 １６２ 感光材層（感光剤とも言う） １６５ 黒化部 １６６ 透明部 １７０ 光強度分布 Ｅｍ （方向１１５Ｄからの角度に対応し
た）光強度の最大値 １８０ 異物

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 絵柄が形成されたガラス乾板からなるパ
   タン版と未露光のガラス乾板とを、パタン版の絵柄形成
   面と未露光のガラス乾板の感光材層形成面とが向き合う
   ようにした状態にし、パタン版の絵柄形成面と未露光の
   ガラス乾板の感光材層形成面とを合せて、パタン版と未
   露光のガラス乾板とを密着させ、パタン版側から所定の
   光源にて露光を行ない、パタン版の絵柄を、潜像として
   未露光のガラス乾板に転写形成する密着転写方式の絵柄
   転写装置であって、露光光源と、パタン版の露光光が照
   射される照射面との間に光拡散板を設置していることを
   特徴とする絵柄転写装置。
2. 【請求項２】 請求項１において、光拡散板は拡散角を
   所定の角度範囲内に制御できるものであることを特徴と
   する絵柄転写装置。
3. 【請求項３】 請求項１ないし２において、パタン版の
   絵柄形成面と未露光のガラス乾板の感光材層形成面とを
   向き合うようにして、パタン版を、その周辺部で真空引
   きして保持する枠部と、未露光のガラス乾板を、その感
   光材層形成面とは反対側の面で真空引きして保持する定
   盤、あるいは、未露光のガラス乾板を、その周辺部で真
   空引きして保持する枠部とを有し、パタン版及び未露光
   のガラス乾板を枠部ないし定盤で保持しながら、パタン
   版と未露光のガラス乾板間を真空引きして、両者を密着
   するものであることを特徴とする絵柄転写装置。
4. 【請求項４】 絵柄が形成されたガラス乾板からなるパ
   タン版と未露光のガラス乾板とを、パタン版の絵柄形成
   面と未露光のガラス乾板の感光材層形成面とが向き合う
   ようにした状態にし、パタン版の絵柄形成面と未露光の
   ガラス乾板の感光材層形成面とを合せて、パタン版と未
   露光のガラス乾板とを密着させ、パタン版側から所定の
   光源にて露光を行ない、パタン版の絵柄を、潜像として
   未露光のガラス乾板に転写形成する絵柄転写方法であっ
   て、露光の際には、露光光源からの露光光を光拡散板を
   介して、パタン版に照射して露光を行なうことを特徴と
   する絵柄転写方法。
5. 【請求項５】 請求項４において、光拡散板は拡散角を
   所定の角度範囲内に制制できるものであることを特徴と
   する絵柄転写方法。