JP2804068B2

JP2804068B2 - シャドウマスクのパターン焼付け版及びその製造方法

Info

Publication number: JP2804068B2
Application number: JP1048513A
Authority: JP
Inventors: 康久大竹; 安港仙石; 光明山崎; 誠司佐合; 裕田中
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1988-03-29
Filing date: 1989-03-02
Publication date: 1998-09-24
Anticipated expiration: 2013-09-24
Also published as: JPH01315927A

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の目的〕（産業上の利用分野）本発明はシャドウマスクのパターン焼付け版及びその
製造方法に関するものである。

（従来の技術）一般にカラーブラウン管用シャドウマスクは多数の開
孔を有し、電子銃から発射された赤・緑・青の蛍光体層
に対応した三電子ビームがシャドウマスク孔を通過し、
各々対応する蛍光体に射突し蛍光体を発光させるもの
で、別名、色選別電極と呼ばれている。シャドウマスク
の製造は一般にフォトエッチングと呼ばれる写真蝕刻技
術を用いて行なわれ、この製造方法の概要は以下の通り
である。

連続帯状金属板からなるシャドウマスク材を脱脂洗浄
後、両主面に一定膜厚の感光膜を形成する。次いで、シ
ャドウマスク開孔部に相当する部分が不透明でその寸法
が異なる一対のシャドウマスクのパターン焼付け版を、
感光膜を形成したシャドウマスク材の表裏に配置し完全
密着後紫外線にて露光を行う。その後温水スプレーにて
シャドウマスク開孔部に相当する未露光の感光膜を溶解
除去し、乾燥・ベーキングを施し開孔部外に耐エッチン
グ性を有す感光膜を残存させる。次いでエッチング液を
両面からスプレーし目的とする寸法のシャドウマスク孔
を穿設し、水洗・感光膜除去・水洗・乾燥を施すことに
よりシャドウマスクが製造される。

露光工程にて用いられるパターン焼付け版は一般的に
エマルジョン型で、原版はフォトプロッターと呼ばれる
パターンジェネレーターにて作製される。原版は密着反
転にてマスターパターンとなり、このマスターパターン
から同様の密着反転にてシャドウマスク製造工程に使用
される複数のパターン焼付け版を多数枚作製する。パタ
ーン焼付け版はシャドウマスク開孔部に相当する所が不
透光で他の部分が透光な、ほぼ平滑なエマルジョン膜を
有する。不透光な部分の占る割合は５〜15％と少なく、
ピンホールなどの欠点が発生する確率も低い。また不透
光な部分にピンホールがあった場合、エッチングにて穿
孔される結果、欠点になりにくい。

一方マスターパターンの作製はフォトプロッターによ
り作製されたパターン原版の密着反転にて行なわれる。
パターンの形態としてはシャドウマスク開孔部に相当す
る所以外が不透光となり、この部分の占る割合は85〜95
％となる。この結果反転工程時のゴミ付着又はエマルジ
ョン膜欠陥等により、ピンホール欠点の発生割合が増加
することは避けられない。ピンホール部は透明で反転後
のパターン焼付け版では黒点となり、その後のエッチン
グ工程にて孔があく。従ってマスターパターンのピンホ
ール部は不透明なインキなどによって修整を施す必要が
あるが、修整には多くの時間が必要で修整箇所の盛上り
部は密着不良による反転ムラを生じ易い欠点を有する。
特に昨今の高精細マスク用パターンはパターンピッチが
細かく且つパターン巾寸法も小さい為、修整が非常に難
しいことと併せて修整部の反転ムラも生じ易く、最終的
にシャドウマスク品位を低下させる確率が高い。焼付け
パターンの基材は一般にフロートガラスが用いられシャ
ドウマスクパターンを有するエマルジョン面はほぼ平坦
である。従って例えば特公昭56−13298号公報に示され
ている露光機を用いてシャドウマスクパターンをシャド
ウマスク材に形成された感光膜に焼付ける際、シャドウ
マスクパターンと感光膜との密着がパターン焼付け版の
周辺部から中央部に向って進み易く、中央部まで完全に
真空密着させるには、パターン焼付け版自体空気抜け溝
を有していない結果、パターンの大きさにもよるが80秒
〜120秒という長時間を必要とする。

この問題を解決するため、特公昭53−28092号公報に
示されている様にシャドウマスクパターンの有効面外の
焼付けパターン上のエマルジョンを除去し、空気抜けの
道を作る手段が提案されている。しかしこの方法におい
て、パターン焼付け版の周辺部の空気抜けは良くなる
が、パターン焼付け版中央部の空気抜けは改善されず、
パターン面積が大きくなる程長時間の真空密着時間を必
要とすることは避けられない。又特公昭50−23273号公
報には、シャドウマスクパターン部を囲むゼラチン壁間
に空気流通路が形成されているシャドウマスクパターン
及びその製造方法が提案され、真空密着時間短縮を目的
としている。しかしこの方法は工程数が多いためパター
ン欠陥が発生し易い欠点を有する。又、不透明な必要パ
ターン部周囲が透明なゼラチン膜で囲まれているので、
マスク素材表面に形成された感光膜にシャドウマスクパ
ターンを焼付ける際その境界部で光の散乱が生じ、焼付
けパターン寸法が変化し易い欠点を有している。

（発明が解決しようとする課題）上述した様に、従来の焼付け版及びその製造方法では
パターン焼付け版の作成工程が複雑でパターン焼付け版
にパターン欠陥が発生してしまう問題がある。さらにシ
ャドウマスクの製造工程中の露光工程で両主面に感光層
の形成されたシャドウマスク材とパターン焼付け版とを
真空密着させるのに多大な時間を要し、生産効率を向上
させることができない問題がある。

本発明は上記問題点を解決するためになされたもの
で、パターン欠陥の発生が極めて少なく、且つシャドウ
マスクの製造工程中の露光工程で、シャドウマスク材と
パターン焼付け版との真空密着時間を大幅に短縮するこ
とが可能なシャドウマスクのパターン焼付け版及びその
製造方法を提供することを目的とする。

〔発明の構成〕

（課題を解決するための手段）本発明は、光透過プレート上にシャドウマスクの有効
領域内の開孔部に相当する部分に厚さ３μｍ乃至50μｍ
の不透光層が形成されていることを特徴とするシャドウ
マスクのパターン焼付け版である。又、この焼付け版
の、シャドウマスクの非有効領域に相当する部分には厚
さ３μｍ乃至50μｍの不連続な透光層を形成することが
できる。

さらに、本発明はシャドウマスク材の両主面に形成さ
れた感光膜にシャドウマスクのパターンを焼付ける露光
工程に用いられる焼付け版の製造方法であって、両面に
未露光のエマルジョン層を有する光透過プレートに、シ
ャドウマスクの有効領域内の開孔部に相当する部分が不
透光であるパターン原版を密着して露光する露光工程
と、前記エマルジョン層に反転パターンを形成する現像
工程と、前記反転パターンの露光された部分をエッチン
グ除去するエッチング工程と、前記光透過プレート上に
残存しているエマルジョン層を不透光層にするための工
程と、前記不透光層を定着させる定着工程とから成るこ
とを特徴とするシャドウマスクのパターン焼付け版の製
造方法である。

さらにシャドウマスクの非有効領域に相当する部分に
不連続な透光層も同時に形成する場合には、両面に未露
光のエマルジョン層を有する光透過プレートに、シャド
ウマスクの有効領域内の開孔部に相当する部分及び非有
効領域に相当するの所望の部分が不透光であるパターン
原版を密着して露光する露光工程と、前記エマルジョン
層に反転パターンを形成する現像工程と、前記反転パタ
ーンの露光された部分をエッチング除去するエッチング
工程と、前記光透過プレート上に残存しているエマルジ
ョン層のうち有効領域内の開孔部に相当する部分のみを
不透光層にするための工程と、前記エマルジョン層を定
着させる定着工程とから成るシャドウマスクのパターン
焼付け版の製造方法をとることができる。

（作用）本発明はシャドウマスクのパターン原版と同様の、シ
ャドウマスク開孔部に相当する部分のみ不透光なエマル
ジョン層を有するシャドウマスクのパターン焼付け版を
形成することができ、従来の方法に比較し工程数が少な
いためパターン欠陥発生数が極めて少ない。又残存エマ
ルジョン層以外は基材が露出しているため、従来のシャ
ドウマスク開孔部に位置する不透光なエマルジョン層以
外のエマルジョン部に発生するパターン欠陥は皆無で、
欠陥修整に費やす時間は大巾に削減できることと併せ欠
陥修整にて生じるパターン品位の低下も生じない。更に
露光工程において、シャドウマスク材上に形成された感
光膜とパターン焼付け版とを真空密着させる際、空気流
通路がパターン焼付け版全面に形成されていることによ
り瞬時に完全密着が可能で、シャドウマスクの露光工程
時間を大巾に短縮できる。

（実施例）以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。

（実施例１）作図機（例えばガーバ社製フオトプロッター）にて、
ガラス乾板（例えばコダック社製HRP）に作画されたシ
ャドウマスクパターンをパターン原版として用いる。第
２図に示す様にこのパターン原版21は、シャドウマスク
材がエッチング液にて蝕刻されるべき部分のみ不透光の
エマルジョン膜22を有し他の部分は透光するエマルジョ
ン膜23を有しているものである。

第１図（ａ）に示す様に不透光のエマルジョン膜２と
透光のエマルジョン膜３とを有すパターン原版１と、膜
厚が約６μｍの未感光のエマルジョン膜４を有すガラス
乾板５（例えばコダック社製HRP又はLPP,コニカ製PL）
とを暗室中にて互いのエマルジョン面が対向するように
配置し、真空系を使用して完成密着させた後、紫外線又
は緑色光６を照射する。

次いで一般の写真化学処理と同様に20℃の現像液（例
えばコダック社製スーパーRT現像液）にて３分乃至４分
間、第１の現像を行い第１図（ｂ）に示す様に、パター
ン原版と逆の不透光のエマルジョン膜７を形成後、３％
氷酢酸液中で停止処理を行う。その後、塩化銅又は重ク
ロム酸カリウムなどの酸化剤液とアンモニア又は過酸化
水素などの樹脂分解剤液とを混合し、それに界面活性剤
を添加したエマルジョンエッチング液中に１分乃至３分
間浸漬する。

この処理を施すことにより、第１の現像にて得られた
不透光なエマルジョン膜７は溶解除去され、第１図
（ｃ）に示す様に透光層であるエマルジョン膜８が残存
する。その後明室中で、リントフリー紙を用いてエマル
ジョン膜が溶解時に沈着した黒化銀を流水中で軽く擦り
取る。

次いで紫外線又は緑色光９を照射し、透光するエマル
ジョン膜８中のハロゲン化銀に現像核を形成し、第１の
現像と同様に現像液中で第２の現像を施し、第１図
（ｄ）に示す様に黒化銀を生成してエマルジョン膜10を
形成する。次いで定着，水洗，乾燥工程を経て、目的と
するシャドウマスクのパターン焼付け版11を得る。ここ
で得れられたシャドウマスクパターン11のエマルジョン
膜10の膜厚は５μｍであった。

この時のエマルジョン膜の膜厚は、３μｍ〜50μｍ程
度が好適である。それは以下の示す理由による。

まず、ガラス乾板に使用されている基材は一般的にフ
ロートガラスが用いられており、表面は完全に平坦では
なく局部的なうねりを有す。又、シャドウマスク素材の
両主面に形成された感光膜も、局部的に膜厚変動を有
す。従って、残存エマルジョン膜の膜厚を３μｍ以下に
した場合、局部的なガラス基材のうねりと感光膜の膜厚
変動との影響を受け、形成される空気流通路が不充分な
結果、目的とする真空密着時間の短縮効果を得ることが
できない。一方残存エマルジョン膜の膜厚を50μｍ以上
にした場合、シャドウマスク焼付け版に異物が付着して
擦られたり圧着された際にエマルジョン膜に傷が付き、
パターン欠陥を発生させ易い問題がある。

本実施例は、第１の現像後エッチングを施すことによ
り、現像時に形成された不透孔部を溶解除去する。ガラ
ス基材とエマルジョン膜との付着は強固で、エッチング
はエマルジョン膜表面より進行する結果、残存するエマ
ルジョン膜の断面形状は台形になり易い。この形状変化
は、露光現像条件は勿論エッチングの条件にても大きく
左右される。この不透光エマルジョン膜の断面が台形状
になったばあい、ガラス基材に接触するエマルジョン膜
縁部の膜厚が薄いため黒化度が低下し、両主面に感光膜
を形成したマスク材にシャドウマスクパターン焼付ける
際の光遮蔽力が低下する。

この結果、焼付けた感光膜のパターン寸法にばらつき
を生じ易い。テストの結果、所望するエマルジョン膜断
面が台形でも、上辺と下辺との差が５乃至30μｍであれ
ばマスク品位に影響を与えない。この差の許容量は目的
とするパターンの寸法に依存することは勿論である。

ここで第２図に示される様に、もしシャドウマスクの
有効領域にあるパターン部の外枠パターン24が連続線で
形成されている場合には、シャドウマスクパターン内部
の空気抜けが阻害されるため、マスク品位に影響を与え
ない様に複数箇所を削り取り空気抜け部を形成すればよ
い。

本発明にて作られたシャドウマスクのパターン焼付け
版に発生した欠陥数は、従来の２回密着反転によって作
製されたものと比較し1/3〜1/4に減少した。又得られた
パターン焼付け版を実際の露光工程に実装し、マスク品
位を低下させずに何処まで真空密着時間の短縮が可能か
テストを行った結果、従来80〜120秒必要としていた密
着時間がパターン面積に係らず40秒以下となり、大巾な
生産効率の向上を得た。更に、従来のパターン焼付け版
の欠陥修整箇所の欠落によるマスク欠陥の発生及び修整
箇所の局部的密着不良によるマスクムラ不良の発生は約
半分以下になった。

（実施例２）実施例１の第１の現像及び停止処理の後、塩化銅又は
重クロム酸カリウムなどの酸化剤液とアンモニア又は過
酸化水素などの樹脂分解剤とを混合し、それに界面活性
剤を添加したエマルジョンエッチング液を2kg/cm²の圧
力で１乃至２分スプレーを行い、且つスプレーは紫外線
又は緑色光を照射しながら行う。この処理にて第１の現
像にて得られた不透光のエマルジョン膜７は完全に溶解
除去され、透光するエマルジョン膜８のみ残存する。次
いで明室中で流水洗後、実施例１の第２の現像以後の処
理を施すことにより実施例１と同様の効果を発揮する焼
付けパターンを作製することができる。

（実施例３）作図機（例えばガーバー社製フオトプロッター）に
て、ガラス乾板（例えばコダック社製HRP）に作画され
たシャドウマスクパターンをパターン原版として用い
る。第５図にパターン原版25の平面図を示すが、これは
シャドウマスク開孔部に相当する箇所及びシャドウマス
クパターン部以外の所望する箇所にそれぞれ不透光なエ
マルジョン膜26及び27が形成され、それ以外の箇所は透
明なエマルジョン膜28が形成されているものである。

第３図（ａ）に示す如く不透光のエマルジョン膜２及
び12と透光のエマルジョン膜３とを有するパターン原版
１と、未感光のエマルジョン膜４を有すガラス乾板５
（例えばコダック社製HRP又はLPP,コニカ製PL）とを暗
室中にて互いのエマルジョン面が対向するように配置
し、真空系を使用して完成密着させた後、紫外線又は緑
色光６を照射する。次いで一般の写真化学処理と同様
に、20℃の現像液（例えばコダック社製Ｒ現像液）にて
３分乃至４分間第１の現像を行なう。これにより第３図
（ｂ）に示す様にパターン原版と逆の不透光のエマルジ
ョン膜７を形成後、３％氷酢酸液中で停止処理を施す。
その後塩化銅又は重クロム酸カリウムなどの酸化剤液と
アンモニア又は過酸化水素などの樹脂分解剤液とを混合
し、それに界面活性剤を添加したエマルジョンエッチン
グ液中に１分乃至３分間浸漬するか、そのエッチング液
を１乃至3kg/cm²の圧力で１分乃至２分間程吹き付け
る。この処理を施すことにより、第３図（Ｃ）に示す様
に第１の現像にて得られた不透光なエマルジョン膜７は
溶解除去され、透光するエマルジョン膜13及び14が残存
する。水洗後、シャドウマスクパターン部以外の位置す
る所望のエマルジョン膜13には光が当らぬよう遮蔽板15
又は遮蔽フィルムにて隠した状態にて紫外線又は緑色光
９を照射することにより、シャドウマスク開孔部に相当
するエマルジョン膜14中のハロゲン化銀に現像核を形成
し、第１の現像と同様の現像液中に於て第２の現像を施
す。これにより、エマルジョン膜14には黒化銀が生成し
て不透光となりエマルジョン膜13は透明のままで、それ
以外の部分はガラス基材が露出した状態となる。次いで
停止・水洗・乾燥を経ることにより、第３図（Ｃ）に示
す様に目的とするシャドウマスクのパターン焼付け版31
を得る。

パターン焼付け版31の平面図を第６図に示すと、前述
の如くシャドウマスク開孔部に相当する箇所に不透光の
エマルジョン膜32を有し、シャドウマスク開孔部以外の
所望の箇所に透明なエマルジョン膜33を有し、それ以外
の箇所はガラス基材面34が露出したシャドウマスクのパ
ターン焼付け版31となってる。この時のエマルジョン膜
32の膜厚は約５μｍであった。

本発明にて作られたシャドウマスクのパターン焼付け
版に発生した欠陥数は、従来の２回密着反転にて作製さ
れたものと比較し1/3〜1/4に減少した。又、得られた焼
付け版を実際の露光工程に実装し、マスク品位を低下さ
せずに何処まで真空密着時間の短縮が可能かテストを行
った結果、従来80〜120秒必要としていた密着時間がパ
ターン面積に係らず40秒以下となり、大巾な生産効率の
向上を得た。更に、従来の焼付けパターンの欠陥修整箇
所欠落によるマスク欠陥の発生、及び修整箇所の局部的
密着不良によるマスクムラ不良の発生は約半分以下にな
った。

（実施例４）第４図（ａ）及び第４図（ｂ）は実施例３の第３図
（ａ）及び第３図（ｂ）と同様な方法で行なう。次に実
施例３と同様なエマルジョンエッチング液にてパターン
原版反転品を処理後、第４図（Ｃ）に示す如く紫外線又
は緑色光９を全面に照射する。これにより、残存したエ
マルジョン膜13及び14中のハロゲン化銀に現像核が形成
される。次いで第１の現像と同様の現像液中に於て第２
の現像は、シャドウマスクパターン部以外に位置する所
望のエマルジョン膜13に現像液が付着しないよう、遮蔽
板又は遮蔽フィルム15で保護した状態にて行う。この結
果、現像後において現像液が付着しないエマルジョン膜
13中には黒化銀が形成されず透明なままである。その後
定着・水洗・乾燥を経ることにより、第４図（ｄ）に示
す如く目的とするシャドウマスクのパターン焼付け版41
を得る。

実施例であげたシャドウマスクパターン部以外に位置
する所望のエマルジョン膜13は、シャドウマスクパター
ン部の真空密着を阻害しないための空気流通路を形成す
るもので、その形状及び配置に関してはテストを行って
適宜決めることができ固定されたものではない。又シャ
ドウマスクパターン部の外枠パターンが連続で形成され
ている場合には、シャドウマスクパターン内部の空気抜
けが阻害されるため、マスク品位に影響を与えない程度
に複数箇所をわずかに削り取り空気抜け部を形成すれば
よい。

（実施例５）作図機にてガラス乾板に作画されたシャドウマスクパ
ターンをパターン原版として用いる。

次に、パターン原版と未露光のガラス乾板とを水銀ラ
ンプを用いて密着反転露光し、現像、定着、乾燥させる
ことによりパターン原板と逆の状態のマスターパターン
を形成する。一方、透明なガラス板にドライフィルム状
の20〜50μｍの厚みを有するレジスト膜が形成されたシ
ート（例えば富士写真フィルム製のバンクスＡ−125や
デュポン製のリストン3010等）を熱ロールを用いて加温
圧着し、第７図に示すように透明なガラスプレート51上
にレジスト膜53を転写形成する。

次に第８図に示すように、この未感光のレジスト膜53
を形成したガラスプレート51と、先の密着反転により得
られたマスターパターン54を有するガラス乾板55とを水
銀ランプを用いて密着反転露光を行なう。

次いで、第９図に示すように、炭酸ソーダなどの弱ア
ルカリ液で現像、水洗、乾燥することにより、シャドウ
マスクの開孔部に相当する部分が凸状のレジストパター
ン56が残存し、これが第10図に示すように不透光層52と
なり、シャドウマスクのパターン焼付け版が得られる。

不透光層52はダークブルー又は赤に着色しており、光
を遮蔽する能力を有している。

なお、着色が不十分な場合には黒色又は赤色の顔料や
染料を用いて不透光層52のみ再着色させれば良い。

又、本実施例ではエマルジョン層のかわりにドライフ
ィルムを用いたが、これはパターンの膜厚を厚くとる場
合に有効である。

（実施例６）作図機にてガラス乾板に作画されたシャドウマスクパ
ターンをパターン原版として用いる。

一方、透明なガラス板にドライフィルム状の20〜50μ
ｍの厚みを有するレジスト膜が形成されたシート（例え
ば富士写真フィルム製のバンクスＡ−125やデュポン製
のリストン3010等）を熱ロールを用いて加温圧着し、第
７図に示すように透明なガラスプレート51上にレジスト
膜53を転写形成する。

次いで、第９図に示すように、トリクロルエタンなど
の有機溶剤を用いて現像し乾燥することにより、シャド
ウマスクの開孔部に相当する部分にはレジスト膜53が残
存せず、それ以外の部分がレジスト膜53が被覆されたレ
ジストパターン56を形成する。次いで、黒色又は赤色の
顔料や染色にて着色した水溶性感光樹脂（例えばポリビ
ニルアルコール、牛乳カゼイン等）と重クロム酸ナトリ
ウムからなる有機材料57を、シャドウマスクの開孔部に
相当する凹部に充填し、紫外線又は熱源を用いて完全硬
化させる。この凹部に充填する有機材料57の厚さは任意
にコントロールできる。

そのあと、塩化メチレンなどの有機溶剤を用いて最初
に形成されたシャドウマスクの開孔部に位置しない残存
レジスト膜56のみ溶解除去する。この結果、第10図に示
すようにシャドウマスクの開孔部に相当する部分が不透
明で凸状の不透光層52を有するシャドウマスクのパター
ン焼き焼付け版が得られる。

〔発明の効果〕

本発明によれば、シャドウマスク製造工程の露光工程
においてマスク素材とパターン焼付け版とを瞬時に完全
密着させることができ、生産効率を大幅に向上させるこ
とが可能となる。さらに本発明によれば、パターン焼付
け版の作製が簡便で工程数が少ないためシャドウマスク
のパターン欠陥数が大幅に減少しマスク不良発生率を減
少させることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の作製工程を説明するための工程の模式
図、第２図はパターン原版の模式図、第３図及び第４図
は本発明の他の作製工程を説明するための工程の模式
図、第５図は他のパターン原版の模式図、第６図は本発
明のパターン焼付け版の模式図、第７図乃至第10図は本
発明の他の作製工程を説明するための工程の模式図であ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者佐合誠司埼玉県深谷市幡羅町１―９―２株式会社東芝深谷ブラウン管工場内 (72)発明者田中裕埼玉県深谷市幡羅町１―９―２株式会社東芝深谷ブラウン管工場内 (56)参考文献特開昭51−40752（ＪＰ，Ａ) 特開昭56−54440（ＪＰ，Ａ) 特公昭53−28092（ＪＰ，Ｂ２) 特公昭43−7981（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) H01J 9/14

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】光透過プレート上にシャドウマスクの有効
領域内の開孔部に相当する部分には厚さ３μｍ乃至50μ
ｍの不透光層が形成され、シャドウマスクの非有効領域
に相当する部分には厚さ３μｍ乃至50μｍの不連続な透
光層が形成されていることを特徴とするシャドウマスク
のパターン焼付け版。
【請求項２】シャドウマスク材の両主面に形成された感
光膜にシャドウマスクのパターンを焼付ける露光工程に
用いられる焼付け版の製造方法であって、両面に未露光
のエマルジョン層を有する光透過プレートに、シャドウ
マスクの有効領域内の開孔部に相当する部分及び非有効
領域に相当する所望の部分が不透光である原版を密着し
て露光する露光工程と、前記エマルジョン層に反転パタ
ーンを形成する現像工程と、前記反転パターンの不透光
部をエッチング除去するエッチング工程と、前記光透過
プレート上に残存しているエマルジョン層のうち有効領
域内に相当する部分のみを不透光層にするための露光現
像工程と、前記エマルジョン層を定着させる定着工程と
から成ることを特徴とするシャドウマスクのパターン焼
付け版の製造方法。