JPH10208640A - シャドウマスクの検査方法 - Google Patents

シャドウマスクの検査方法

Info

Publication number
JPH10208640A
JPH10208640A JP736997A JP736997A JPH10208640A JP H10208640 A JPH10208640 A JP H10208640A JP 736997 A JP736997 A JP 736997A JP 736997 A JP736997 A JP 736997A JP H10208640 A JPH10208640 A JP H10208640A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shadow mask
hole
light
inspection
inspection table
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP736997A
Other languages
English (en)
Inventor
Kyuichi Yago
久一 谷郷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP736997A priority Critical patent/JPH10208640A/ja
Publication of JPH10208640A publication Critical patent/JPH10208640A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】シャドウマスクに光照射を行い、貫通孔の形状
の検査判定を行うシャドウマスクの検査方法において、
検査精度が向上し、疑似エラーの無い検査方法を提供す
る。 【解決手段】金属薄板の一方の面に形成された小孔凹部
と、他方の面に形成された大孔凹部とが結合してなる貫
通孔を複数有するシャドウマスクの片面側より光照射を
行い、貫通孔を通過した光をもとに、貫通孔の形状が所
望の形状となっているか否かを検査判定するシャドウマ
スクの検査方法において、開口部を有する枠状の検査台
上に、前記大孔凹部面側を下面にしてシャドウマスクを
載置し、しかる後、シャドウマスクの片面側より光照射
を行い、貫通孔を通過した光をもとに貫通孔の形状が所
望の形状となっているか否かを検査することを特徴とす
るシャドウマスクの検査方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属薄板に複数の
貫通孔が形成されたシャドウマスクを検査する方法に係
わり、特に、貫通孔の数が多く、貫通孔の径が小さい高
精細シャドウマスクを検査する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】カラー受像管等に用いるシャドウマスク
は、金属薄板に複数の貫通孔を形成しているものであ
り、フォトエッチング法を用いてシャドウマスクを製造
することが主流となっている。また、シャドウマスクは
高精細化の要求が高まっており、以下の図5に記す製造
例に記すように、シャドウマスクに形成する貫通孔を、
一方の面に形成した小孔凹部と、他方の面に形成した大
孔凹部とにより形成することが主流となりつつある。
【0003】すなわち、金属薄板(シャドウマスク材
1)として例えば板厚0.13mmの低炭素鋼板を用い、その
両面を脱脂、整面、洗浄処理した後、その両面にカゼイ
ンまたはポリビニルアルコールと重クロム酸アンモニウ
ムからなる水溶性感光液を塗布乾燥して、フォトレジス
ト膜2を形成する。次いで、所定のパターンを有する露
光用マスクを介して、シャドウマスク材1の一方の面に
小孔像のネガパターンを、他方の面に大孔像のネガパタ
ーンを露光する。その後、温水にて、未露光未硬化のフ
ォトレジスト膜を溶解する現像処理を行なえば、図5
(a)に示すように、開孔部よりシャドウマスク材1を
露出した小孔レジスト膜2aと大孔レジスト膜2bとを表裏
に有するシャドウマスク材1が得られる。
【0004】その後、レジスト膜2に対して硬膜処理お
よびバーニング処理を施し、第一段階のエッチングを表
裏両面から行なう。エッチング液には塩化第二鉄のボー
メ濃度35〜52を用い、スプレー圧 1.5〜3.5kg/cm2 のス
プレーエッチングで行なうのが一般的である。この第一
エッチング工程では、図5(b)に示すように、エッチ
ング進度は、途中で止めるのが肝要である。
【0005】次いで、シャドウマスク材1を水洗洗浄お
よび乾燥後、例えば光硬化型の樹脂をグラビアコート法
等により塗布後、樹脂に光照射を行うことで、図5
(c)に示すように、前段のエッチングで形成された小
孔凹部3aを完全に埋め尽くすエッチング防止層4を形成
する。なお、エッチング防止層4の形成面は、小孔側で
あっても大孔側であっても、差し支えないが、多くの場
合、小孔側に形成される。
【0006】続いて、図5(d)に示すように、大孔側
からのみシャドウマスク材1をエッチングする第二エッ
チング工程を行ない、大孔凹部3bを拡大することで、大
孔側から小孔に貫通する貫通孔5を形成する。最後に、
エッチング防止層4およびレジスト膜2を剥膜除去する
剥膜工程を行い図5(e)を得た後、不要部の断裁等を
行いフラット型のシャドウマスク6を得るものである。
なお、上述した図5では、エッチング防止層4を用いた
製造方法の例を記したが、エッチング防止層4を用いる
こと無くシャドウマスクを製造する方法もある。
【0007】また、通常は図4に示すように、上述した
複数の貫通孔5はシャドウマスク6の中央部寄りの画像
領域11に形成されるものであり、画像領域11を取り巻く
外周部12は貫通孔が形成されていず、カラー受像管等に
シャドウマスク6を組み込む際に、金型等により成形さ
れる部位である。
【0008】上述した例に記したように、、シャドウマ
スクを製造するうえで、小孔凹部3aと大孔凹部3bを貫通
させる方法が主流となりつつあるものであり、シャドウ
マスクには、金属薄板を貫通した径の小さい貫通孔5
が、多数形成されている。
【0009】シャドウマスクに形成された各貫通孔5
は、シャドウマスクをカラー受像管等に組み込んだ際
に、電子銃より発せられた電子線を正しくカラー受像管
の蛍光面に導く役目をしている。そのため、シャドウマ
スク上に形成されるべき各貫通孔5の形状、特に貫通部
の平面形状(以下、形状と記す)および貫通孔5の貫通
部の開口径(以下、孔径と記す)は、シャドウマスク製
造前の設計段階において予め設定されており、その形状
および孔径はシャドウマスクがカラー受像管等に組み込
まれた際、カラー受像管等が所望する性能を発揮できる
よう設定されている。
【0010】そのため、シャドウマスクの製造後に、貫
通孔5の形状および孔径が所望されたものとなっている
か否かの検査を行うものであるが、貫通孔5の数が多
く、肉眼による検査では手間が掛かかるため、貫通孔5
の形状および孔径の検査(以下、単に「貫通孔の検査」
と記す)は機械を用い自動的に行う場合が多い。
【0011】すなわち、図4の例に示すように、光透過
性の検査台7上に載置したシャドウマスク6の検査部位
に、例えば高周波蛍光灯等の光源8から光を照射し、シ
ャドウマスク6に形成された貫通孔5を通過した光を、
シャドウマスク6を間に介し光源8と反対面側に設け
た、例えば固体撮像カメラ9等で光像として受ける。次
いで、この光像を電気信号に変換後、電気信号を例えば
コンピュータ等よりなる判定手段10で受け、判定手段10
は貫通孔5が所望される形状および孔径であるか否かを
検査判定するものである。なお、光源8と固体撮像カメ
ラ9の位置が図4と反対の場合、すなわち固体撮像カメ
ラ9を検査台7側に置くと、貫通孔5を通過した光が検
査台7により散乱される等により検査精度が低下する可
能性が有るため、通常は、固体撮像カメラ9をシャドウ
マスク6側に、光源8を検査台7側に位置させるもので
ある。
【0012】上述した自動検査機を用いた検査の際、一
定のパターンに従って配列された複数の貫通孔5を持つ
シャドウマスク6においては、比較検査法が一般的に用
いられているものである。すなわち、一定領域内の隣接
する複数の貫通孔5同志の形状比較を行うことで、他の
貫通孔5と異なる形状および孔径を持つ貫通孔5を不良
として抽出する方法である。これを、貫通孔5が形成さ
れたシャドウマスクの画像領域11に逐次行なうものであ
る。なお、検査部位を移動する場合、移動手段(図示せ
ず)により光源8と固体撮像カメラ9とを連動して別の
検査部位に移動させるか、または、光源8と固体撮像カ
メラ9の位置を固定し、検査台7を移動手段(図示せ
ず)により移動させるものである。一連の検査、および
移動手段の作動は、例えば判定手段10により制御されて
いるものである。
【0013】従来、光照射を用いるシャドウマスクの検
査方法においては、図4に示すように、光透過性を有す
る板状の検査台7、例えば透明ガラス板上にシャドウマ
スク6を載置し、光照射を行っていたものである。なぜ
かならば、薄板であるシャドウマスク6は強度が弱いた
め、板状の検査台7上にシャドウマスクを載置しないと
湾曲を生じて平面状に保持できないためである。検査時
にシャドウマスク6が平面状でなく湾曲していた場合、
湾曲部位を通過した通過光が固体撮像カメラ9に入射し
なかったり、または固体撮像カメラ9のピントが合わな
くなる等で、所望する検査精度が得られなくなるといえ
る。
【0014】上述したように、貫通孔5を通過した光を
固体撮像カメラ9にて捕らえ、電気信号に変換するた
め、通過光の光強度は大きい程、望ましいといえる。す
なわち、通過光の光強度が大きい程、変換される電気信
号の強度が大きくなり、貫通孔5以外の光遮断部との強
度差が大きくとれるため、検査判定が容易となるためで
ある。しかるに、従来の検査方法では、貫通孔5を通過
する光の強度が低下していたものである。すなわち、シ
ャドウマスク6を載置した検査台7は光透過率が 100%
ではなく、光吸収をもつといえる。例えば、検査台7の
材質がガラス板であった場合、入射光の20%程度を光吸
収してしまうものである。このため、検査台7側に光源
8が位置し、検査台7上にシャドウマスク6を載置した
場合、検査台7により減衰された光がシャドウマスク6
に照射されていたものであり、結果として貫通孔5を通
過する光の強度も低下していたものである。このため検
査精度が低下し、正常な孔を不良と判断する疑似エラー
が発生したり、また、不良な孔を検出できない等の問題
が生じていたものである。
【0015】さらに、金属製のシャドウマスクを板状の
検査台7に載置、または検査台7より除去する際、シャ
ドウマスク6と検査台7とが擦れ、ガラス片等の異物を
生じる場合があり、また、静電気等により周辺雰囲気中
の繊維片等の異物が検査台7に付着するものである。こ
れらの異物がシャドウマスクに再付着すると、検査の
際、異物が光を遮り、疑似エラーの原因となり、検査精
度が低下するといえる。さらにまた、検査台7に擦り傷
が生じ、また、検査台7に異物が付着していても、擦り
傷、異物部位が光不透過域となり、疑似エラーの原因と
なるものである。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な問題に鑑みなされたものであり、金属薄板の一方の面
に形成された小孔凹部と、金属薄板の他方の面に形成さ
れた大孔凹部とが結合してなる貫通孔を複数有するシャ
ドウマスクに光照射を行い、前記貫通孔を通過した光を
もとに、貫通孔の形状が所望の形状となっているか否か
を検査判定するシャドウマスクの検査方法において、検
査精度が向上し、疑似エラーの無い検査方法を提供しよ
うとするものである。
【0017】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、金
属薄板の一方の面に形成された小孔凹部と、他方の面に
形成された大孔凹部とが結合してなる貫通孔を複数有す
るシャドウマスクの片面側より光照射を行い、前記貫通
孔を通過した光をもとに、貫通孔の形状が所望の形状と
なっているか否かを検査判定するシャドウマスクの検査
方法において、シャドウマスクを載置した際にシャドウ
マスクの貫通孔形成領域と相対する部位が開口部となる
よう枠状とした検査台上に、前記大孔凹部面側を下面に
してシャドウマスクを載置し、しかる後、シャドウマス
クの片面側より光照射を行い、貫通孔を通過した光をも
とに貫通孔の形状が所望の形状となっているか否かを検
査判定することを特徴とするシャドウマスクの検査方法
を提供することで、上記の課題を解決したものである。
【0018】
【発明の実施の形態】以下に説明図を用い、本発明の実
施の形態例につき説明を行う。図1〜図3中のシャドウ
マスク6は、前述した(従来の技術)の項で記した例等
の従来公知の技術にて製造されているものであり、シャ
ドウマスク1の一方の面には小孔凹部3aが、また、他方
の面には大孔凹部3bが形成されており、小孔凹部3aと大
孔凹部3bとを貫通させた複数の貫通孔5が画像領域11内
に形成されている。なお、図1および図2では説明の都
合上、貫通孔5は省略している。
【0019】また、貫通孔5の検査にあたり、シャドウ
マスクの一方の面側に例えば高周波蛍光灯等の光源8
を、また、他方の面側に例えば固体撮像カメラ9等を置
き、光源8より発せられ、貫通孔5を通過した光を固体
撮像カメラ9にて光像として受けるものである。次い
で、この光像を電気信号に変換後、電気信号を例えばコ
ンピュータ等よりなる判定手段10で受け、判定手段10
は、前述した比較検査法等により貫通孔5が所望される
形状および孔径であるか否かを検査判定するものであ
る。
【0020】ここで、本発明のシャドウマスクの検査方
法の特徴として、図1、図2および図1のX−X’線に
おける断面図である図3に示すように、シャドウマスク
6を載置した際に、貫通孔5が形成された画像領域11と
相対する部位を開口部13とした枠状(ロの字状)の検査
台7を用い、枠状の検査台7上にシャドウマスク6を載
置して検査を行うものである。また、前記枠状の検査台
7上にシャドウマスク6を載置する際、大孔凹部3bを形
成した面を下面にしてシャドウマスク6を載置するもの
である。
【0021】前述した(従来の技術)の項で記したよう
に、検査台上に載置した際にシャドウマスクの湾曲を防
ぐため、従来の検査台は平面の板状とし、載置されたシ
ャドウマスク6を平面状の検査台面で支えることで、載
置されたシャドウマスク6を平面状に保持していたもの
である。
【0022】しかし、本発明者らは、図1のX−X’線
における断面図である図3に示すように、検査台7が開
口部13を有するロの字状の枠体であっても、大孔凹部3b
を形成した面を下面にして載置し、シャドウマスク6の
外周部12を検査台7で支えることで、シャドウマスク6
が略平面状に保持されうることを見いだしたものであ
る。すなわち、大孔凹部3bを形成した面を下面にした場
合、各大孔凹部3b部位のアーチ部が下方への変形に対す
る強度を有するといえ、シャドウマスク6の重みによる
下方への変形が妨げられ、結果としてシャドウマスク6
の湾曲が妨げられるものである。ちなみに、小孔凹部3a
を形成した面を下面にして枠状の検査台7上に載置した
場合、小孔凹部3aでは充分な変形強度を持たず、シャド
ウマスク6は下方に湾曲してしまうものである。
【0023】なお、枠状の検査台7がシャドウマスク6
と接触する部位を、シャドウマスク6の外周部12とすれ
ば、例え検査台7との接触によりシャドウマスク6に異
物付着、擦り傷が発生しても、その部位は貫通孔5が形
成されていない部位であり、シャドウマスクの品質上さ
ほど問題のない部位といえる。このため、シャドウマス
ク6を載置した際、図3に示すように、シャドウマスク
6の外周部12が枠状の検査台7上に載るよう設定するこ
とが望ましいといえる。
【0024】上述したように、シャドウマスク6を枠状
の検査台7上に載置することで、光源8よりシャドウマ
スク6に光照射を行っても、照射光は開口部13を通過
し、光強度が減衰することなくシャドウマスク6に照射
されるものである。このため、貫通孔5を通過する光も
従来より強くなり、貫通孔5以外の光遮断部位との強度
差が大きくとれるため、検査判定が容易となる。これに
より、検査精度が向上し、正常な孔を不良と判断する疑
似エラーが発生したり、また、不良な孔を検出できない
等の問題を防止できるものである。
【0025】また、シャドウマスク6の画像領域11が検
査台7の開口部13に位置しているため、画像領域11と検
査台7とが接触する機会が減少する。上述した(従来の
技術)の項に記したように、従来の検査台は板状であっ
たため、画像領域11と検査台とが接触していたものであ
り、検査台上に付着した異物が、検査台上に載置したシ
ャドウマスクの画像領域11に再付着することで、疑似エ
ラーの原因となり、また、画像領域11に相対する検査台
部位に付着した異物、または、画像領域11に相対する検
査台部位についた擦り傷等により疑似エラーが発生して
いたものである。
【0026】しかるに、本発明のシャドウマスクの検査
方法では、シャドウマスクの画像領域11、すなわち検査
領域と相対する検査台7部位が開口部13となっているた
め、画像領域11と検査台7とは接触せず、検査台7に付
着した異物がシャドウマスクの画像領域11に再付着する
ことを防止できるものである。さらに、検査部位は開口
部13となっているため、検査領域と相対する検査台部位
に擦り傷が発生することがなく、また、異物が付着する
こともなくなる。このため、異物付着や、検査台に付い
た擦り傷を原因とする疑似エラーの発生を防止できるも
のである。
【0027】さらに、シャドウマスク6を検査台7上に
載置、または検査台7上より搬送する際に、シャドウマ
スクの画像領域11と検査台7とが擦れる機会が少なくな
り、シャドウマスクの画像領域11に、検査台7との接触
による傷が付くことを防止できるものであり、シャドウ
マスクの品質向上につながるといえる。
【0028】以上、本発明の実施形態の例を述べたが、
本発明の実施の形態は、上述した図面および記述に限定
されるものではなく、本発明の趣旨に基づき種々の変形
が可能なことはいうまでもない。
【0029】例えば、上述した図1では、光源8を検査
台7側に、固体撮像カメラ9をシャドウマスク6側に位
置させている。しかし、大孔凹部3b側から通過光を検査
した方が、通過光の回り込み等により検査精度が向上す
る場合は、固体撮像カメラ9を検査台7側に、光源8を
シャドウマスク6側に位置させても構わない。また、従
来の検査方法では、固体撮像カメラ9を検査台側に置く
と、貫通孔5を通過した光が検査台により散乱される等
により検査精度が低下する可能性が有るため、固体撮像
カメラ9をシャドウマスク6側に、光源8を検査台側に
位置させていたものであり、シャドウマスクの検査面を
反転する場合、検査台上のシャドウマスク6を反転させ
る必要があった。このため、シャドウマスク6と検査台
とが接触する回数が増え異物付着、擦り傷が発生し易か
ったものである。
【0030】しかるに、本発明の検査方法では、検査台
7が枠状であるため、シャドウマスク6を反転すること
なく、固体撮像カメラ9と光源8との位置を入替えるだ
けで容易にシャドウマスクの検査面を入替えることが可
能となるものであり、シャドウマスクの移動による異物
付着、擦り傷等の発生が無くなるものである。
【0031】
【発明の効果】以上、述べたように、本発明のシャドウ
マスクの検査方法では、シャドウマスク6を枠状の検査
台7上に載置することで、光源8よりシャドウマスク6
に光照射を行っても、照射光が検査台7の開口部13を通
過することで、光強度が減衰することなくシャドウマス
ク6に照射されるものである。このため、貫通孔5を通
過する光が従来より強くなり、貫通孔5以外の光遮断部
との強度差が大きくとれるため、検査判定が容易とな
る。これにより、検査精度が向上し、正常な孔を不良と
判断する疑似エラーが発生したり、また、不良な孔を検
出できない等の問題を防止できるものである。
【0032】さらに、シャドウマスクの画像領域11、す
なわち検査領域と相対する検査台7部位が開口部13とな
っているため、検査台7に付着した異物がシャドウマス
ク6、特に画像領域11に再付着することを防止できるも
のであり、また、検査台7部位は開口部13となっている
ため、検査領域と相対する検査台7部位に擦り傷や異物
が付着することもなくなる。このため、シャドウマスク
6または検査台7への異物付着や、検査台7に付いた擦
り傷を原因とする疑似エラーの発生を防止できるもので
ある。
【0033】さらにまた、シャドウマスク6を検査台7
上に載置、または検査台7上より搬送する際に、シャド
ウマスクの画像領域11と検査台7とが擦れる機会が少な
くなり、シャドウマスクの画像領域11に、検査台7との
接触による傷が付くことを防止できるものでありシャド
ウマスクの品質向上につながる等、本発明は実用上優れ
ているといえる。
【0034】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のシャドウマスクの検査方法の一実施例
の要部を示す説明図。
【図2】本発明のシャドウマスクの検査方法に用いる検
査台の一例を示す説明図。
【図3】本発明のシャドウマスクの検査方法に用いる検
査台上のシャドウマスクの状態例を示す断面図。
【図4】従来のシャドウマスクの検査方法の一例を示す
説明図。
【図5】(a)〜(e)はシャドウマスクの製造方法の
一例を工程順に示す説明図。
【符号の説明】
1 シャドウマスク材 2 レジスト膜 3 凹部 4 エッチング防止層 5 貫通孔 6 シャドウマスク 7 検査台 8 光源 9 カメラ 10 判定手段 11 画像領域 12 外周部 13 開口部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】金属薄板の一方の面に形成された小孔凹部
    と、他方の面に形成された大孔凹部とが結合してなる貫
    通孔を複数有するシャドウマスクの片面側より光照射を
    行い、前記貫通孔を通過した光をもとに、貫通孔の形状
    が所望の形状となっているか否かを検査判定するシャド
    ウマスクの検査方法において、シャドウマスクを載置し
    た際にシャドウマスクの貫通孔形成領域と相対する部位
    が開口部となるよう枠状とした検査台上に、前記大孔凹
    部面側を下面にしてシャドウマスクを載置し、しかる
    後、シャドウマスクの片面側より光照射を行い、貫通孔
    を通過した光をもとに貫通孔の形状が所望の形状となっ
    ているか否かを検査判定することを特徴とするシャドウ
    マスクの検査方法。
JP736997A 1997-01-20 1997-01-20 シャドウマスクの検査方法 Pending JPH10208640A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP736997A JPH10208640A (ja) 1997-01-20 1997-01-20 シャドウマスクの検査方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP736997A JPH10208640A (ja) 1997-01-20 1997-01-20 シャドウマスクの検査方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10208640A true JPH10208640A (ja) 1998-08-07

Family

ID=11664065

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP736997A Pending JPH10208640A (ja) 1997-01-20 1997-01-20 シャドウマスクの検査方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10208640A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011137745A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Olympus Corp 絞りの検査方法及び内視鏡装置
JP2015215202A (ja) * 2014-05-09 2015-12-03 新東エスプレシジョン株式会社 検査テーブル

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011137745A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Olympus Corp 絞りの検査方法及び内視鏡装置
JP2015215202A (ja) * 2014-05-09 2015-12-03 新東エスプレシジョン株式会社 検査テーブル

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001033941A (ja) パターン形成方法及び露光装置
TW200425294A (en) Method of checking and repairing a defect in a graytone mask
JP2009048186A (ja) フォトマスクの製造方法、パターン転写方法、フォトマスク及びデータベース
JPH09139407A (ja) 半導体素子の工程欠陥検査方法
JP2008165217A (ja) フォトマスクの検査装置、フォトマスクの検査方法、液晶装置製造用フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法
JPH10208640A (ja) シャドウマスクの検査方法
CN1033345C (zh) 荫罩的图形印相版
JP2000146853A (ja) レジストパターンの欠陥検査装置及び欠陥検査方法
JP3879904B2 (ja) グレートーンマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置
JPH06215995A (ja) フォトレジストおよびレジストの検査方法
JP3414076B2 (ja) シャドウマスクの検査方法
JP2003243290A (ja) レジストパターンの欠陥検査方法及びその欠陥検査装置
JP2804068B2 (ja) シャドウマスクのパターン焼付け版及びその製造方法
JPH08273546A (ja) シャドウマスクの検査方法
JPH09231902A (ja) シャドウマスクの製造方法
JP2001185027A (ja) シャドウマスクのカケ状不良検出方法及び検出装置
TWI363885B (ja)
JP4567216B2 (ja) 半導体製造装置
JP2002296795A (ja) レジストパターンの欠陥検査方法及び欠陥検査装置
JPH09137286A (ja) シャドウマスクの製造方法
JPS60120521A (ja) マスク欠陥修正方法
JPH11238678A (ja) 半導体製造装置
WO2016153052A1 (ja) フォトマスクの製造方法および検査装置
JP2720437B2 (ja) パターン転写方法
JPH0337650A (ja) マスク・レチクルの欠陥検査装置