JPH02298900A - 隔壁の駆動装置 - Google Patents
隔壁の駆動装置Info
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- JPH02298900A JPH02298900A JP1120945A JP12094589A JPH02298900A JP H02298900 A JPH02298900 A JP H02298900A JP 1120945 A JP1120945 A JP 1120945A JP 12094589 A JP12094589 A JP 12094589A JP H02298900 A JPH02298900 A JP H02298900A
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Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、X線により大面積領域を均一に露光する装置
における隔壁の駆動装置に関するものである。
における隔壁の駆動装置に関するものである。
(従来の技術)
従来、X線を用いて微細パタンを転写するための露光を
行ったり、あるいは試料へのX線照射を行うに際しては
、X線の大気中での減衰が著しいため、真空中やHe中
で露光を行うか、露光対象のすぐそばまで真空で持って
きて、隔壁を置いてその直後に被露光対象物を置く方法
が用いられる。
行ったり、あるいは試料へのX線照射を行うに際しては
、X線の大気中での減衰が著しいため、真空中やHe中
で露光を行うか、露光対象のすぐそばまで真空で持って
きて、隔壁を置いてその直後に被露光対象物を置く方法
が用いられる。
また、前者の場合でも、高真空域と低真空域の隔壁や真
空とHe雰囲気部分との境界等の隔壁として、露光に用
いる波長帯の光を透過する薄膜の隔壁を設けるのが一般
的である。
空とHe雰囲気部分との境界等の隔壁として、露光に用
いる波長帯の光を透過する薄膜の隔壁を設けるのが一般
的である。
(発明が解決しようとする課題)
これらの隔壁は圧力的に両側をシールする必要があり、
Be等の低原子量金属膜やポリエステル。
Be等の低原子量金属膜やポリエステル。
マイラ、ポリプロピレン等の有機膜等が使われている。
長波光をカットするフィルタを兼ねてこれらの隔壁が用
いられることもあるが、厚い程、X線の隔壁透過率が低
下するため、一般的には両側の圧力差に耐え得る範囲で
できるだけ薄い隔壁を用いることが必要となる。
いられることもあるが、厚い程、X線の隔壁透過率が低
下するため、一般的には両側の圧力差に耐え得る範囲で
できるだけ薄い隔壁を用いることが必要となる。
隔壁材料とする薄膜は均一な薄膜とすることが難しく、
厚さむらができる。また、付着物や混入した不純物があ
る部分は、膜のX線透過率が局所的に著しく変化する。
厚さむらができる。また、付着物や混入した不純物があ
る部分は、膜のX線透過率が局所的に著しく変化する。
このため、これらの真空隔壁を通して露光を行うと、真
空隔壁の厚さむらや付着物、不純物によるXvA透過率
の局所変化が露光むらとして現れる。
空隔壁の厚さむらや付着物、不純物によるXvA透過率
の局所変化が露光むらとして現れる。
とくに、微細なX線遮光体バタンを有するX線マスクを
、感光性レジストを塗布したウェハに近接間隙で重ねて
露光を行い、該微細バタンを転写するX線リソグラフィ
においては、かかるむらがあると、バタンの線幅が局部
的に変化したり、バタンに欠けがでたり、時にはレジス
トが局部的に残ったり、あるいはとれたりしてしまう。
、感光性レジストを塗布したウェハに近接間隙で重ねて
露光を行い、該微細バタンを転写するX線リソグラフィ
においては、かかるむらがあると、バタンの線幅が局部
的に変化したり、バタンに欠けがでたり、時にはレジス
トが局部的に残ったり、あるいはとれたりしてしまう。
このため、多くの隔壁をテストしてみるなどして、むら
の少ないものを選んで用いていた。
の少ないものを選んで用いていた。
本発明は、上記の欠点を改善するために提案されたもの
で、隔壁を透過するX線強度のむらを低減し、均一なX
M照射を可能にすることを目的とする。
で、隔壁を透過するX線強度のむらを低減し、均一なX
M照射を可能にすることを目的とする。
(課題を解決するための手段)
上記の目的を達成するため、本発明は隔壁を取り付けた
枠に可撓体を取り付け、前記隔壁を取り付けた枠および
可撓体の外側を一つの密封容器内に収め、前記隔壁を取
り付けた枠および可撓体の外側と密封容器の内側とで囲
まれた密封空間を真空排気するか、隔壁のいずれかの側
の雰囲気と同等にせしめ、前記隔壁を取り付けた枠を前
記可撓体の変形範囲内で動かす手段を設けたことを特徴
とする隔壁の駆動装置を発明の要旨とするものである。
枠に可撓体を取り付け、前記隔壁を取り付けた枠および
可撓体の外側を一つの密封容器内に収め、前記隔壁を取
り付けた枠および可撓体の外側と密封容器の内側とで囲
まれた密封空間を真空排気するか、隔壁のいずれかの側
の雰囲気と同等にせしめ、前記隔壁を取り付けた枠を前
記可撓体の変形範囲内で動かす手段を設けたことを特徴
とする隔壁の駆動装置を発明の要旨とするものである。
換言すれば、隔壁を透過するX線強度のむらを低減する
ため、本発明では隔壁を取り付けた枠の両側に可撓体を
取り付け、隔壁を動かすことを特徴とする。その際、可
撓体は繰り返し変形を受け、疲労破損する危惧がある。
ため、本発明では隔壁を取り付けた枠の両側に可撓体を
取り付け、隔壁を動かすことを特徴とする。その際、可
撓体は繰り返し変形を受け、疲労破損する危惧がある。
そこで、該可撓体の外側全体を密封容器で覆い、その中
を真空排気するようになすか、隔壁のいずれかの側の雰
囲気と同等にせしめたことが本発明のもう一つの特徴で
ある。
を真空排気するようになすか、隔壁のいずれかの側の雰
囲気と同等にせしめたことが本発明のもう一つの特徴で
ある。
(作用)
隔壁を動かすことによって、隔壁に厚さむらがあったり
、不純物の混入や付着があっても、隔壁におけるX線透
過率の場合による相違が平均化されるため、均一なX線
照射が可能となる。また、隔壁を動かすことによって可
撓体が疲労破損し、管内に大気リークが生ずるのを未然
に防ぐことができる。
、不純物の混入や付着があっても、隔壁におけるX線透
過率の場合による相違が平均化されるため、均一なX線
照射が可能となる。また、隔壁を動かすことによって可
撓体が疲労破損し、管内に大気リークが生ずるのを未然
に防ぐことができる。
(実施例)
次に本発明の実施例について説明する。なお、実施例は
一つの例示であって、本発明の精神を逸脱しない範囲で
、種々の変更あるいは改良を行いうることは言うまでも
ない。
一つの例示であって、本発明の精神を逸脱しない範囲で
、種々の変更あるいは改良を行いうることは言うまでも
ない。
第1図は本発明の隔壁駆動装置を示す。
隔壁1を接着、ろう付け、0リングシール、ガスケット
シール等によりX線が通る開口を有した枠2に取り付け
る0図は接着した場合の図を示した。隔壁1.枠2およ
びその間の上記取付部は、隔壁1の両側の圧力差に耐え
、かつ、ガス放出等によって隔壁lの両側の雰囲気劣化
を招かないものとする。
シール等によりX線が通る開口を有した枠2に取り付け
る0図は接着した場合の図を示した。隔壁1.枠2およ
びその間の上記取付部は、隔壁1の両側の圧力差に耐え
、かつ、ガス放出等によって隔壁lの両側の雰囲気劣化
を招かないものとする。
枠2の両側に可撓体としてベローズ3.4を取付け、前
後のX線通過経路5.6に接続する。枠2の両側および
ベローズ3.4の両側は超高真空シールフランジ7.8
,9.10としてガスケット11、12.13.14で
シールする。場合によっては0リングシールでも良(、
枠2とベローズ3.4を溶接しても良い。
後のX線通過経路5.6に接続する。枠2の両側および
ベローズ3.4の両側は超高真空シールフランジ7.8
,9.10としてガスケット11、12.13.14で
シールする。場合によっては0リングシールでも良(、
枠2とベローズ3.4を溶接しても良い。
次に、隔壁]を取り付けた枠2および両側のベローズ3
,4の外側全体を密封容器15で覆う。枠2とベローズ
3,4のの重量をローラ16を介してカム17に受ける
。カム軸18を回転させると、ベローズ3.4が弾性変
形範囲内でたわむので、隔壁1を取り付けた枠2はカム
17の形状に合わせて上下に動く、カム17の回転を速
くした時などで、枠2とベローズ3,4がカム17の動
きに追従しない時は、枠2をばねによってカム17に押
し付けても良い。
,4の外側全体を密封容器15で覆う。枠2とベローズ
3,4のの重量をローラ16を介してカム17に受ける
。カム軸18を回転させると、ベローズ3.4が弾性変
形範囲内でたわむので、隔壁1を取り付けた枠2はカム
17の形状に合わせて上下に動く、カム17の回転を速
くした時などで、枠2とベローズ3,4がカム17の動
きに追従しない時は、枠2をばねによってカム17に押
し付けても良い。
カム17は密封容器15内にあるため、磁性流体フィー
ドスルー(図示してない)を介してカム軸18を該密封
容115外に取り出し、大気中駆動のモータで駆動する
。この場合、磁気流体フィードスルーの代わりに0リン
グシールを用いてカム軸18を大気中に取り出しても良
い。
ドスルー(図示してない)を介してカム軸18を該密封
容115外に取り出し、大気中駆動のモータで駆動する
。この場合、磁気流体フィードスルーの代わりに0リン
グシールを用いてカム軸18を大気中に取り出しても良
い。
また、ベローズ3,4の外側の密閉空間19は、極端に
真空度が悪くなければ、ベローズの万一のリークに対応
し得る。したがって、カム軸18の駆動機構は大気中に
出さずに、この密閉空間19においても良い、なお20
.21は、密封容器15をX線通過経路と接続するため
のOリング、22は密封容器15内を真空排気するか、
隔壁のいずれかの側の雰囲気と同等にせしめるための配
管口である。
真空度が悪くなければ、ベローズの万一のリークに対応
し得る。したがって、カム軸18の駆動機構は大気中に
出さずに、この密閉空間19においても良い、なお20
.21は、密封容器15をX線通過経路と接続するため
のOリング、22は密封容器15内を真空排気するか、
隔壁のいずれかの側の雰囲気と同等にせしめるための配
管口である。
隔壁の駆動はカムに限らず色々な機構によって可能であ
る。
る。
第2図は本発明の他の実施例を示す。
隔壁1を付けた枠2の両側にベローズ3,4を設け、全
体を密封容器15に入れた構造は第1図と同じである。
体を密封容器15に入れた構造は第1図と同じである。
また符号5,6.7.8,9.10は第1図のものと同
じものを示す、枠2の駆動に際して枠2にナツト23を
取り付け、ナツト23にネジ軸24をかみあわせ、磁性
流体フィード25を介して密封容器15の外でモータ2
Gの軸27に連結する。28゜29は軸継手、30.3
1は磁性流体フィードの軸、32は磁性流体フィードス
ルーのフランジ、33は軸受、34は軸受押え、35は
密封容器15に取り付けたハウジング、36はハウジン
グの蓋である。また37.38゜39はOリングである
。
じものを示す、枠2の駆動に際して枠2にナツト23を
取り付け、ナツト23にネジ軸24をかみあわせ、磁性
流体フィード25を介して密封容器15の外でモータ2
Gの軸27に連結する。28゜29は軸継手、30.3
1は磁性流体フィードの軸、32は磁性流体フィードス
ルーのフランジ、33は軸受、34は軸受押え、35は
密封容器15に取り付けたハウジング、36はハウジン
グの蓋である。また37.38゜39はOリングである
。
モータ26を正方向、負方向交互に回転させれば、ネジ
軸24が回転して、ナツト23が動きネジ軸24の回転
方向が変わるごとに隔壁工は往復運動を繰り返す、ネジ
およびナツトとしてボールネジ、ポールナツトを用いれ
ば動きはスムーズになる。第2図の場合も、モータ26
を密封容器15の中に入れても差し支えない。
軸24が回転して、ナツト23が動きネジ軸24の回転
方向が変わるごとに隔壁工は往復運動を繰り返す、ネジ
およびナツトとしてボールネジ、ポールナツトを用いれ
ば動きはスムーズになる。第2図の場合も、モータ26
を密封容器15の中に入れても差し支えない。
第3図は本発明の他の実施例を示す。
基本的な構成は第1図および第2図の場合と同じである
。
。
枠2を動かすため、枠2に強磁性体40を取り付け、電
磁石41を近接させておく、電流導入端子42を通して
電磁石41に交番電流を加え、吸引1反発を繰り返して
行わせる。これにより枠2に取り付けた隔壁lが周期的
に往復運動をする。43は電流導入端子の取り付はフラ
ンジ、44はコネクタ、45はケーブルである。
磁石41を近接させておく、電流導入端子42を通して
電磁石41に交番電流を加え、吸引1反発を繰り返して
行わせる。これにより枠2に取り付けた隔壁lが周期的
に往復運動をする。43は電流導入端子の取り付はフラ
ンジ、44はコネクタ、45はケーブルである。
以上は、駆動方法の代表例であり、隔壁の動かし方は、
この他クランクを使ったり、ラックピニオンの組合せを
使ったり、どんな方法でも良いことは明らかである。
この他クランクを使ったり、ラックピニオンの組合せを
使ったり、どんな方法でも良いことは明らかである。
第4図は本発明の他の実施例を示す。
隔壁46を枠47に貼り付け、片側にベローズ48を付
ける。枠47およびベローズ48の外側を密封容器49
で覆う、枠47とベローズのフランジ50、密封容器と
ベローズのフランジ51の間はOリング52.53でシ
ールする。勿論ガスケットでシールしても良い、隔離4
6を動かすため、密封容器49と枠47の間も可撓性の
部品、たとえばダイヤフラム54で接続する。
ける。枠47およびベローズ48の外側を密封容器49
で覆う、枠47とベローズのフランジ50、密封容器と
ベローズのフランジ51の間はOリング52.53でシ
ールする。勿論ガスケットでシールしても良い、隔離4
6を動かすため、密封容器49と枠47の間も可撓性の
部品、たとえばダイヤフラム54で接続する。
隔壁46を取り付けた枠47はローラ55を介してカム
5Gで上下方間に揺動させる。57はローラ軸、58は
カム軸、59はこれらの隔壁駆動機構の基台である。カ
ム軸58は磁性流体フィード60を介して密封容器49
の外に導き、モータ61により駆動する。62゜63は
軸継手、64.65は磁性流体フィールドスルーの軸、
66は磁性流体フィールドスルーのフランジ、67はO
リングである。ベローズ端は、X線通過経路の管68に
接続する。69はOリングである。
5Gで上下方間に揺動させる。57はローラ軸、58は
カム軸、59はこれらの隔壁駆動機構の基台である。カ
ム軸58は磁性流体フィード60を介して密封容器49
の外に導き、モータ61により駆動する。62゜63は
軸継手、64.65は磁性流体フィールドスルーの軸、
66は磁性流体フィールドスルーのフランジ、67はO
リングである。ベローズ端は、X線通過経路の管68に
接続する。69はOリングである。
また、ベローズ48の外側と密封容器49およびダイヤ
フラム54の内側で囲まれる空間は配管ロア0から真空
排気するか、ベローズ内と同等の雰囲気、例えば減圧H
a雰囲気等とする。
フラム54の内側で囲まれる空間は配管ロア0から真空
排気するか、ベローズ内と同等の雰囲気、例えば減圧H
a雰囲気等とする。
なお、モータ61は、密封容器49の中におさめる構造
をとっても良い、また、隔壁の揺動には、上記のように
カムを用いる機構のほか、第2図や第3図に示した機構
、その他、任意の機構が適用できることは、隔壁46を
取り付けた枠の両側にベローズを取り付けた場合と同様
である。
をとっても良い、また、隔壁の揺動には、上記のように
カムを用いる機構のほか、第2図や第3図に示した機構
、その他、任意の機構が適用できることは、隔壁46を
取り付けた枠の両側にベローズを取り付けた場合と同様
である。
ところで、第1図〜第4図では説明をわかりやすくする
ため、隔壁1.4.6を枠2.4.7に取り付け、枠2
,4.7とベローズのフランジ8゜9.50を接続する
構造としたが、これらを一体とするか、ベローズのフラ
ンジ8,9.50に隔壁を取り付けても良いことは言う
までもない、また、ダイヤフラム54に直接隔壁46を
取り付けても良いことも明らかである。
ため、隔壁1.4.6を枠2.4.7に取り付け、枠2
,4.7とベローズのフランジ8゜9.50を接続する
構造としたが、これらを一体とするか、ベローズのフラ
ンジ8,9.50に隔壁を取り付けても良いことは言う
までもない、また、ダイヤフラム54に直接隔壁46を
取り付けても良いことも明らかである。
なお、第1図〜第4図では、可撓体に一方向のみの往復
直線運動を与えたが、2方向以上の合成運動を与えれば
、より良(むらを低減できることは言うまでもない、運
動が直線運動でなく、回転運動や、傾斜運動等であって
も良いことも明らかである。
直線運動を与えたが、2方向以上の合成運動を与えれば
、より良(むらを低減できることは言うまでもない、運
動が直線運動でなく、回転運動や、傾斜運動等であって
も良いことも明らかである。
上記に示したような色々な方法で、ベローズ等の可撓体
を変形させて枠を動かすと可撓体が疲労するため、長期
間使うと可撓体自身や可撓体とフランジとの接続部に亀
裂が入り、リークが起きてしまう、可撓体が外側を大気
に囲まれていると、リークが起きたときに可撓体内で真
空の急激な劣化や雰囲気の急変が起こり、好ましくない
事態を生じる。
を変形させて枠を動かすと可撓体が疲労するため、長期
間使うと可撓体自身や可撓体とフランジとの接続部に亀
裂が入り、リークが起きてしまう、可撓体が外側を大気
に囲まれていると、リークが起きたときに可撓体内で真
空の急激な劣化や雰囲気の急変が起こり、好ましくない
事態を生じる。
本発明では可撓体の外側を真空排気するかもしくは、隔
壁内の雰囲気と同等にする0例えば、隔壁の両側が真空
度の異なる真空の場合や、隔壁の片側が減圧または大気
圧のHexまたは大気で、片側が真空の場合は、可撓体
外側の密閉空間を真空排気し、隔壁の両側が圧力の異な
るHeの場合は、可撓体外側の密閉空間を低圧側のHe
雰囲気とするか真空排気する。このようにするとたとえ
、可撓体が破れてリークしても重大な事態を招かずに済
む、密封容器内の真空度および雰囲気をどうするかは隔
壁両側の条件に応じて任意に決めれば良い、隔壁の両側
および可撓体外側の密封容器内の真空度を監視していれ
ば、可撓体でのリークの有無と隔壁でのリークの有無を
判断できる。
壁内の雰囲気と同等にする0例えば、隔壁の両側が真空
度の異なる真空の場合や、隔壁の片側が減圧または大気
圧のHexまたは大気で、片側が真空の場合は、可撓体
外側の密閉空間を真空排気し、隔壁の両側が圧力の異な
るHeの場合は、可撓体外側の密閉空間を低圧側のHe
雰囲気とするか真空排気する。このようにするとたとえ
、可撓体が破れてリークしても重大な事態を招かずに済
む、密封容器内の真空度および雰囲気をどうするかは隔
壁両側の条件に応じて任意に決めれば良い、隔壁の両側
および可撓体外側の密封容器内の真空度を監視していれ
ば、可撓体でのリークの有無と隔壁でのリークの有無を
判断できる。
(発明の効果)
以上説明したように、本発明によれば、隔壁を取り付け
た枠に可撓体を取り付け、前記隔壁を取り付けた枠およ
び可撓体の外側を一つの密封容器内に収め、前記隔壁を
取り付けた枠および可撓体の外側と密封容器の内側とで
囲まれた密封空間を真空排気するか、隔壁のいずれかの
側の雰囲気と同等にせしめ、前記隔壁を取り付けた枠を
前記可撓体の変形範囲内で動かす手段を設けたことによ
り、隔壁をリークを懸念することなく安全に動かすこと
ができる。隔壁の厚さむらや不純物の混入。
た枠に可撓体を取り付け、前記隔壁を取り付けた枠およ
び可撓体の外側を一つの密封容器内に収め、前記隔壁を
取り付けた枠および可撓体の外側と密封容器の内側とで
囲まれた密封空間を真空排気するか、隔壁のいずれかの
側の雰囲気と同等にせしめ、前記隔壁を取り付けた枠を
前記可撓体の変形範囲内で動かす手段を設けたことによ
り、隔壁をリークを懸念することなく安全に動かすこと
ができる。隔壁の厚さむらや不純物の混入。
付着による露光むらを低減することが可能であり、微細
パターンを精度良く均一に再現性良く作る必要があるX
線リソグラフィ用の露光に利用すればとくに有効である
。
パターンを精度良く均一に再現性良く作る必要があるX
線リソグラフィ用の露光に利用すればとくに有効である
。
また、レジスト感度測定のための露光、半導体素子やX
線マスクのX線照射損傷検討のためのX線照射等に対し
ても有効である。
線マスクのX線照射損傷検討のためのX線照射等に対し
ても有効である。
第1図は本発明の隔壁の駆動装置の実施例、第2図、第
3図及び第4図は本発明の他の実施例を示す。 1・・・・・・・・隔壁 2・・・・・・・・枠 3.4・・・・・・ベローズ 5.6・・・・・・X線通過経路 7.8.9.10・・フランジ 11、12.13.14・・ガスケット15・・・・・
・・・密封容器 1G・・・・・・・・ローラ 17・・・・・・・・カム 18・・・・・・・・カム軸 19・・・・・・・・密閉空間 20、21・・・・・・0リング 22・・・・・・・・配管口 23・・・・・・・・ナツト 24・・・・・・・・ネジ軸 25・・・・・・・・磁性流体フィードスルー26・・
・・・・・・モータ 27・・・・・・・・モータ軸 28、29・・・・・・軸継手 30、31・・・・・・磁性流体フィードスルー軸32
・・・・・・・・磁性流体フィードスルーフランジ 33・・・・・・・・軸受け 34・・・・・・・・軸受は押え 35・・・・・・・・ハウジング 36・・・・・・・・ハウジングの蓋 37、38.39・・・・0リング 40・・・・・・・・強磁性体 41・・・・・・・・電磁石 42・・・・・・・・電流導入端子 43・・・・・・・・電流導入端子フランジ44・・・
・・・・・コネクタ 45・・・・・・・・ケーブル 46・・・・・・・・隔壁 47・・・・・・・・枠 48・・・・・・・・ベローズ 49・・・・・・・・密封容器 50、51・・・・・・ベローズフランジ52、53・
・・・・・0リング 54・・・・・・・・ダイヤフラム 55・・・・・・・・ローラ 56・・・・・・・・カム 57・・・・・・・・ローラ軸 58・・・・・・・・カム軸 59・・・・・・・・基台 60・・・・・・・・磁性流体フィードスルー61・・
・・・・・・モータ 62、63・・・・・・軸継手 64、65・・・・・・磁性流体フィードスルー軸66
・・・・・・・・磁性流体フィードスルーフランジ 67・・・・・・・・0リング 68・・・・・・・・X線通過経路の管69・・・・・
・・・0リング 70・・・・・・・・配管口 第1図 1−隔壁 第2図 第3図 第4図
3図及び第4図は本発明の他の実施例を示す。 1・・・・・・・・隔壁 2・・・・・・・・枠 3.4・・・・・・ベローズ 5.6・・・・・・X線通過経路 7.8.9.10・・フランジ 11、12.13.14・・ガスケット15・・・・・
・・・密封容器 1G・・・・・・・・ローラ 17・・・・・・・・カム 18・・・・・・・・カム軸 19・・・・・・・・密閉空間 20、21・・・・・・0リング 22・・・・・・・・配管口 23・・・・・・・・ナツト 24・・・・・・・・ネジ軸 25・・・・・・・・磁性流体フィードスルー26・・
・・・・・・モータ 27・・・・・・・・モータ軸 28、29・・・・・・軸継手 30、31・・・・・・磁性流体フィードスルー軸32
・・・・・・・・磁性流体フィードスルーフランジ 33・・・・・・・・軸受け 34・・・・・・・・軸受は押え 35・・・・・・・・ハウジング 36・・・・・・・・ハウジングの蓋 37、38.39・・・・0リング 40・・・・・・・・強磁性体 41・・・・・・・・電磁石 42・・・・・・・・電流導入端子 43・・・・・・・・電流導入端子フランジ44・・・
・・・・・コネクタ 45・・・・・・・・ケーブル 46・・・・・・・・隔壁 47・・・・・・・・枠 48・・・・・・・・ベローズ 49・・・・・・・・密封容器 50、51・・・・・・ベローズフランジ52、53・
・・・・・0リング 54・・・・・・・・ダイヤフラム 55・・・・・・・・ローラ 56・・・・・・・・カム 57・・・・・・・・ローラ軸 58・・・・・・・・カム軸 59・・・・・・・・基台 60・・・・・・・・磁性流体フィードスルー61・・
・・・・・・モータ 62、63・・・・・・軸継手 64、65・・・・・・磁性流体フィードスルー軸66
・・・・・・・・磁性流体フィードスルーフランジ 67・・・・・・・・0リング 68・・・・・・・・X線通過経路の管69・・・・・
・・・0リング 70・・・・・・・・配管口 第1図 1−隔壁 第2図 第3図 第4図
Claims (1)
- 隔壁を取り付けた枠に可撓体を取り付け、前記隔壁を
取り付けた枠および可撓体の外側を一つの密封容器内に
収め、前記隔壁を取り付けた枠および可撓体の外側と密
封容器の内側とで囲まれた密封空間を真空排気するか、
隔壁のいずれかの側の雰囲気と同等にせしめ、前記隔壁
を取り付けた枠を前記可撓体の変形範囲内で動かす手段
を設けたことを特徴とする隔壁の駆動装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12094589A JP2756536B2 (ja) | 1989-05-15 | 1989-05-15 | 隔壁の駆動装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12094589A JP2756536B2 (ja) | 1989-05-15 | 1989-05-15 | 隔壁の駆動装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02298900A true JPH02298900A (ja) | 1990-12-11 |
JP2756536B2 JP2756536B2 (ja) | 1998-05-25 |
Family
ID=14798860
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12094589A Expired - Fee Related JP2756536B2 (ja) | 1989-05-15 | 1989-05-15 | 隔壁の駆動装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2756536B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002329763A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Yaskawa Electric Corp | 気密室間の連結構造 |
JP2003015324A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-01-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光装置 |
JP2021522651A (ja) * | 2018-04-30 | 2021-08-30 | ニュートロン・セラピューティクス・インコーポレイテッドNeutron Therapeutics Inc. | 小型電動機駆動絶縁静電粒子加速器 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62158966A (ja) * | 1986-01-08 | 1987-07-14 | 株式会社日立製作所 | 冷媒量検知装置を備えた空気調和機 |
-
1989
- 1989-05-15 JP JP12094589A patent/JP2756536B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62158966A (ja) * | 1986-01-08 | 1987-07-14 | 株式会社日立製作所 | 冷媒量検知装置を備えた空気調和機 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002329763A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Yaskawa Electric Corp | 気密室間の連結構造 |
JP2003015324A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-01-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光装置 |
JP2021522651A (ja) * | 2018-04-30 | 2021-08-30 | ニュートロン・セラピューティクス・インコーポレイテッドNeutron Therapeutics Inc. | 小型電動機駆動絶縁静電粒子加速器 |
US11968774B2 (en) | 2018-04-30 | 2024-04-23 | Neutron Therapeutics Llc | Compact motor-driven insulated electrostatic particle accelerator |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2756536B2 (ja) | 1998-05-25 |
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---|---|---|---|
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