JPH0742872A - 真空ゲートバルブ - Google Patents
真空ゲートバルブInfo
- Publication number
- JPH0742872A JPH0742872A JP20860693A JP20860693A JPH0742872A JP H0742872 A JPH0742872 A JP H0742872A JP 20860693 A JP20860693 A JP 20860693A JP 20860693 A JP20860693 A JP 20860693A JP H0742872 A JPH0742872 A JP H0742872A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gate
- exhaust port
- vacuum
- shutter
- moved
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Details Of Valves (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 真空ゲートバルブのゲートシール面に異物等
が付着することを防止し、ゲートによる真空遮断機能の
信頼性を高める。 【構成】 ケース１０１に設けられた排気口１０３のゲ
ートシール面１１３に密接して排気口を閉塞するゲート
１０４が、ゲートシール面位置から退避された状態に移
動されたときに、円筒型シャッタ２０１を排気口１０３
のゲートシール面１１３位置にまで移動させ、ゲートシ
ール面１１３を排気口１０３から隔離し、排気口１０３
から排気されるガスにより異物がゲートシール面１１３
に付着することを防止する。
が付着することを防止し、ゲートによる真空遮断機能の
信頼性を高める。 【構成】 ケース１０１に設けられた排気口１０３のゲ
ートシール面１１３に密接して排気口を閉塞するゲート
１０４が、ゲートシール面位置から退避された状態に移
動されたときに、円筒型シャッタ２０１を排気口１０３
のゲートシール面１１３位置にまで移動させ、ゲートシ
ール面１１３を排気口１０３から隔離し、排気口１０３
から排気されるガスにより異物がゲートシール面１１３
に付着することを防止する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は真空処理室間や真空処理
室と真空排気ポンプ間に使用する真空ゲートバルブに関
し、特にバルブを閉じたときのリーク防止を図った真空
ゲートバルブに関する。
室と真空排気ポンプ間に使用する真空ゲートバルブに関
し、特にバルブを閉じたときのリーク防止を図った真空
ゲートバルブに関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に真空ゲートバルブは、例えば図５
に示すように、真空処理室２と、この真空処理室２を真
空排気するための真空排気ポンプ３との間に設けられ、
真空ゲートバルブ１を開いたときに真空処理室２を真空
排気ポンプ３に連通させて真空処理室２を真空引きして
真空処理室２を真空状態にするものである。また、真空
処理室２内における真空処理が完了したとき、もしくは
準備をする場合、即ち真空処理室内を大気圧の状態にす
る場合には、真空ゲートバルブ１を閉じ、真空処理室２
に設けた大気バルブやリークガスバルブ４を開き、大気
やリークガスを真空処理室内に導入する。
に示すように、真空処理室２と、この真空処理室２を真
空排気するための真空排気ポンプ３との間に設けられ、
真空ゲートバルブ１を開いたときに真空処理室２を真空
排気ポンプ３に連通させて真空処理室２を真空引きして
真空処理室２を真空状態にするものである。また、真空
処理室２内における真空処理が完了したとき、もしくは
準備をする場合、即ち真空処理室内を大気圧の状態にす
る場合には、真空ゲートバルブ１を閉じ、真空処理室２
に設けた大気バルブやリークガスバルブ４を開き、大気
やリークガスを真空処理室内に導入する。
【０００３】図６は従来の真空ゲートバルブの構造を示
しており、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）は
Ａ３−Ａ３線断面図、（ｄ）はＢ３−Ｂ３線断面図であ
る。同図において、内部にバルブ室を有する方形箱状を
したケース１０１の上下面にわたって排気口１０３を開
口しており、これら排気口１０３の上下面周囲に設けた
フランジ１０２により真空処理室２又は真空排気ポンプ
３と気密に接続する。ケース１０１内には下面に設けた
排気口１０３のゲートシール面１１３に密接可能な矩形
板状のゲート１０４を内装しており、このゲート１０４
はパンタグラフ構成のリンク１０５によりゲートシャフ
ト１０６に接続される。
しており、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）は
Ａ３−Ａ３線断面図、（ｄ）はＢ３−Ｂ３線断面図であ
る。同図において、内部にバルブ室を有する方形箱状を
したケース１０１の上下面にわたって排気口１０３を開
口しており、これら排気口１０３の上下面周囲に設けた
フランジ１０２により真空処理室２又は真空排気ポンプ
３と気密に接続する。ケース１０１内には下面に設けた
排気口１０３のゲートシール面１１３に密接可能な矩形
板状のゲート１０４を内装しており、このゲート１０４
はパンタグラフ構成のリンク１０５によりゲートシャフ
ト１０６に接続される。
【０００４】このゲートシャフト１０６の先端部はシャ
フトシール１１２を通してケース１０１の外部に突出さ
れており、図示しないエアーシリンダ等に接続され、そ
の伸縮動作によりケース１０１内で軸方向に往復移動さ
れる。また、このゲートシャフト１０６の軸方向の移動
を案内するために、その一部にゲートガイドベアリング
１０８を取り付けており、ケース１０１の内面両側に設
けたゲートガイドレール１１０内を前後進させるように
する。
フトシール１１２を通してケース１０１の外部に突出さ
れており、図示しないエアーシリンダ等に接続され、そ
の伸縮動作によりケース１０１内で軸方向に往復移動さ
れる。また、このゲートシャフト１０６の軸方向の移動
を案内するために、その一部にゲートガイドベアリング
１０８を取り付けており、ケース１０１の内面両側に設
けたゲートガイドレール１１０内を前後進させるように
する。
【０００５】一方、前記ゲート１０４の下面には前記ゲ
ートシール面１１３との間を真空シールするためのシー
ルＯリング１１１を有し、かつゲート１０４の一端部に
はケース１０１の内面に衝突されたときにゲート１０４
を下方に向けて移動させるためのゲート昇降用ベアリン
グ１０９を有する。更に、前記リンク１０５には、ゲー
ト１０４を上方に向けて付勢するためのスプリング１０
７が掛装されている。
ートシール面１１３との間を真空シールするためのシー
ルＯリング１１１を有し、かつゲート１０４の一端部に
はケース１０１の内面に衝突されたときにゲート１０４
を下方に向けて移動させるためのゲート昇降用ベアリン
グ１０９を有する。更に、前記リンク１０５には、ゲー
ト１０４を上方に向けて付勢するためのスプリング１０
７が掛装されている。
【０００６】この真空ゲートバルブによる開閉動作を説
明する。図７（ａ）は真空ゲートバルブが開いた状態を
示しており、ゲートシャフト１０６は図の右側に移動さ
れた状態にあり、このときゲート１０４はスプリング１
０７の弾性力によって上方に移動されている。したがっ
て、上下の排気口１０３はケース１０１の内部を通して
連通されており、真空ゲートバルブとしては開いた状態
にある。
明する。図７（ａ）は真空ゲートバルブが開いた状態を
示しており、ゲートシャフト１０６は図の右側に移動さ
れた状態にあり、このときゲート１０４はスプリング１
０７の弾性力によって上方に移動されている。したがっ
て、上下の排気口１０３はケース１０１の内部を通して
連通されており、真空ゲートバルブとしては開いた状態
にある。
【０００７】この状態から、図示しないエアーシリンダ
等の伸張動作によりゲートシャフト１０６は図の左方に
移動されると、図７（ｂ）のように、ゲート１０４の一
端に設けたゲート昇降用ベアリング１０９がケース１０
１内に衝突し、更にゲートシャフト１０６が左方に移動
されるとベアリング１０９に生じる反力によってスプリ
ング１０７の弾性力に抗してリンク１０５が駆動され、
ゲート１０４が下方に向けて移動される。そして、図７
（ｃ）のように、下面の排気口１０３のゲートシール面
１１３にゲート１０４の下面のシールＯリング１１３が
当接され、排気口１０３がゲート１０４により閉塞され
る。これにより、真空ゲートバルブが閉じることにな
る。なお、真空ゲートバルブが閉じている状態から開く
場合においては、前記した閉動作と逆の手順で行われ
る。
等の伸張動作によりゲートシャフト１０６は図の左方に
移動されると、図７（ｂ）のように、ゲート１０４の一
端に設けたゲート昇降用ベアリング１０９がケース１０
１内に衝突し、更にゲートシャフト１０６が左方に移動
されるとベアリング１０９に生じる反力によってスプリ
ング１０７の弾性力に抗してリンク１０５が駆動され、
ゲート１０４が下方に向けて移動される。そして、図７
（ｃ）のように、下面の排気口１０３のゲートシール面
１１３にゲート１０４の下面のシールＯリング１１３が
当接され、排気口１０３がゲート１０４により閉塞され
る。これにより、真空ゲートバルブが閉じることにな
る。なお、真空ゲートバルブが閉じている状態から開く
場合においては、前記した閉動作と逆の手順で行われ
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、この種の真
空ゲートバルブを備えた、図５に示したような真空処理
室２にて成膜、エッチング等の処理を行う場合では、真
空ゲートバルブ１を開いた状態で真空排気ポンプ３にて
真空処理室２を真空排気しながら行う。このため、真空
処理室２で成膜処理を行っている際に、目的の成膜部以
外に付着した付着物が剥がれ、これが異物として真空排
気経路に沿って移動されて真空ゲートバルブ１にまで移
動されてくることがある。また、成膜ガスの一部が真空
処理室２から真空ゲートバルブ１にまで到達され、真空
ゲートバルブ１のケース１０１の内面において成膜が行
われることもある。
空ゲートバルブを備えた、図５に示したような真空処理
室２にて成膜、エッチング等の処理を行う場合では、真
空ゲートバルブ１を開いた状態で真空排気ポンプ３にて
真空処理室２を真空排気しながら行う。このため、真空
処理室２で成膜処理を行っている際に、目的の成膜部以
外に付着した付着物が剥がれ、これが異物として真空排
気経路に沿って移動されて真空ゲートバルブ１にまで移
動されてくることがある。また、成膜ガスの一部が真空
処理室２から真空ゲートバルブ１にまで到達され、真空
ゲートバルブ１のケース１０１の内面において成膜が行
われることもある。
【０００９】前記した従来の真空ゲートバルブでは、ゲ
ートシール面１１３が真空排気経路に直接露出している
ため、このゲートシール面１１３に反応生成物等の異物
が付着され、或いは成膜が行われることがある。このた
め、ゲート１０４を閉じた時にシールＯリング１１１と
ゲートシール面１１３との間に付着された異物が挟み込
まれることになり、両者の密接度が低下されて真空リー
クを起こし、真空ゲートバルブの本来の機能である真空
遮断機能が失われることになる。また、このような真空
リークが生じた場合には、真空ゲートバルブを分解清掃
する必要があり、この工数も負担になる。本発明の目的
は、ゲートシール面への異物の付着や成膜の発生を防止
し、ゲートによる真空遮断機能の信頼性を高めた真空ゲ
ートバルブを提供することにある。
ートシール面１１３が真空排気経路に直接露出している
ため、このゲートシール面１１３に反応生成物等の異物
が付着され、或いは成膜が行われることがある。このた
め、ゲート１０４を閉じた時にシールＯリング１１１と
ゲートシール面１１３との間に付着された異物が挟み込
まれることになり、両者の密接度が低下されて真空リー
クを起こし、真空ゲートバルブの本来の機能である真空
遮断機能が失われることになる。また、このような真空
リークが生じた場合には、真空ゲートバルブを分解清掃
する必要があり、この工数も負担になる。本発明の目的
は、ゲートシール面への異物の付着や成膜の発生を防止
し、ゲートによる真空遮断機能の信頼性を高めた真空ゲ
ートバルブを提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、ケースに設け
られた排気口のゲートシール面に密接して排気口を閉塞
するゲートが、ゲートシール面位置から退避された状態
に移動されたときにゲートシール面を排気口から隔離す
る位置に移動されるシャッタを設けた構成とする。この
シャッタは、排気口内で軸方向に移動される円筒型に形
成され、ゲートが退避されたときにゲートシール面を隔
離する位置に移動され、ゲートがゲートシール面に密接
されたときにはゲートシール面と反対側の排気口内の位
置に移動される構成とする。あるいは、シャッタは排気
口内で軸方向に移動されるリング状に形成され、ゲート
が退避されたときにゲートシール面の直上に位置されて
その周辺部に設けたフランジがゲートシール面を覆い、
ゲートがゲートシール面に密接されたときにはゲートシ
ール面と反対側の排気口内の位置に移動される構成とす
る。
られた排気口のゲートシール面に密接して排気口を閉塞
するゲートが、ゲートシール面位置から退避された状態
に移動されたときにゲートシール面を排気口から隔離す
る位置に移動されるシャッタを設けた構成とする。この
シャッタは、排気口内で軸方向に移動される円筒型に形
成され、ゲートが退避されたときにゲートシール面を隔
離する位置に移動され、ゲートがゲートシール面に密接
されたときにはゲートシール面と反対側の排気口内の位
置に移動される構成とする。あるいは、シャッタは排気
口内で軸方向に移動されるリング状に形成され、ゲート
が退避されたときにゲートシール面の直上に位置されて
その周辺部に設けたフランジがゲートシール面を覆い、
ゲートがゲートシール面に密接されたときにはゲートシ
ール面と反対側の排気口内の位置に移動される構成とす
る。
【００１１】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。図１は本発明の第１実施例を示す図であり、（ａ）
は平面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）はＡ１−Ａ１線断面
図、（ｄ）はＢ１−Ｂ１線断面図である。この構成では
ケース１０１の上下にわたって形成する排気口１０３を
円筒状に形成し、この円管状排気口１０３の上部をケー
ス１０１の上側に突出させ、その両端部にフランジ１０
２を形成している。そして、この円管状排気口１０３の
内部には円筒型シャッタ２０１を上下に移動可能に内装
しており、かつこの円筒型シャッタ２０１の上下端部の
周面には円管状排気口１０３の内周面に密接される円環
状のシャッタ昇降用ベアリング２０２をそれぞれ設けて
いる。
る。図１は本発明の第１実施例を示す図であり、（ａ）
は平面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）はＡ１−Ａ１線断面
図、（ｄ）はＢ１−Ｂ１線断面図である。この構成では
ケース１０１の上下にわたって形成する排気口１０３を
円筒状に形成し、この円管状排気口１０３の上部をケー
ス１０１の上側に突出させ、その両端部にフランジ１０
２を形成している。そして、この円管状排気口１０３の
内部には円筒型シャッタ２０１を上下に移動可能に内装
しており、かつこの円筒型シャッタ２０１の上下端部の
周面には円管状排気口１０３の内周面に密接される円環
状のシャッタ昇降用ベアリング２０２をそれぞれ設けて
いる。
【００１２】また、この円筒型シャッタ２０１の両側に
はシャッタクランク２０３を接続しており、クランクシ
ール２０５を通してその一端部をケース１０１の両側部
に突出させている。そして、このケース１０１の両側部
には伸縮動作されるエアシリンダ２０４がそれぞれ支持
されており、前記シャッタクランク２０３の一端部はこ
のエアシリンダ２０４の可動ロッドに連結されている。
なお、前記排気口１０３に設けたゲートシール面１１３
に密接して排気口１０３を閉じるゲート１０４の構成、
及びこのゲート１０４を駆動するためのリンク１０５，
ゲートシャフト１０６，スプリング１０７，ゲートガイ
ドベアリング１０８，ゲート昇降用ベアリング１０９，
ゲートガイドレール１１０等の構成は、図６に示した従
来の真空ゲートバルブと同じである。
はシャッタクランク２０３を接続しており、クランクシ
ール２０５を通してその一端部をケース１０１の両側部
に突出させている。そして、このケース１０１の両側部
には伸縮動作されるエアシリンダ２０４がそれぞれ支持
されており、前記シャッタクランク２０３の一端部はこ
のエアシリンダ２０４の可動ロッドに連結されている。
なお、前記排気口１０３に設けたゲートシール面１１３
に密接して排気口１０３を閉じるゲート１０４の構成、
及びこのゲート１０４を駆動するためのリンク１０５，
ゲートシャフト１０６，スプリング１０７，ゲートガイ
ドベアリング１０８，ゲート昇降用ベアリング１０９，
ゲートガイドレール１１０等の構成は、図６に示した従
来の真空ゲートバルブと同じである。
【００１３】図２（ａ）〜（ｄ）は図１の真空ゲートバ
ルブの開閉動作を示す図である。図２（ａ）のように、
真空ゲートバルブが開いている状態では、エアシリンダ
２０４が伸張状態にあり、シャッタクランク２０３は図
の左側の回転位置にあって円筒型シャッタ２０１は下降
位置にある。このため、シャッタ昇降用ベアリング２０
２によって排気口１０３からゲートシール面１１３を隔
離し、排気口１０３を流れるガスおよび異物から保護し
ている。この状態から、エアーシリンダ２０４が短縮動
作されると、図２（ｂ）のように、シャッタクランク２
０３を反時計方向に回転駆動して右側の回転位置に移動
させる、これにより円筒型シャッタ２０１は上昇され、
排気口１０３の上方位置に退避される。
ルブの開閉動作を示す図である。図２（ａ）のように、
真空ゲートバルブが開いている状態では、エアシリンダ
２０４が伸張状態にあり、シャッタクランク２０３は図
の左側の回転位置にあって円筒型シャッタ２０１は下降
位置にある。このため、シャッタ昇降用ベアリング２０
２によって排気口１０３からゲートシール面１１３を隔
離し、排気口１０３を流れるガスおよび異物から保護し
ている。この状態から、エアーシリンダ２０４が短縮動
作されると、図２（ｂ）のように、シャッタクランク２
０３を反時計方向に回転駆動して右側の回転位置に移動
させる、これにより円筒型シャッタ２０１は上昇され、
排気口１０３の上方位置に退避される。
【００１４】次に、図外のエアーシリンダ等の伸張動作
によりゲートシャフト１０６が図の左方に移動される
と、図２（ｃ）のように、ゲート１０４の一端に設けた
ゲート昇降用ベアリング１０９がケース１０１内に衝突
し、更にゲートシャフト１０６が左方に移動されるとベ
アリング１０９に生じる反力によってスプリング１０７
の弾性力に抗してリンク１０５が駆動され、ゲート１０
４が下方に向けて移動される。そして、図２（ｄ）のよ
うに、下面の排気口１０３のゲートシール面１１３にゲ
ート１０４の下面のシールＯリング１１１が当接され、
排気口１０３がゲート１０４により閉塞される。これに
より、真空ゲートバルブが閉じることになる。なお、エ
アシリンダ２０４と、図外のエアシリンダによるゲート
シャフト１０６の動作は前記したように相互に関連をも
たせたタイミングで動作させるものであることは言うま
でもない。また、ゲートが開く動作については前記した
動作の逆手順となる。
によりゲートシャフト１０６が図の左方に移動される
と、図２（ｃ）のように、ゲート１０４の一端に設けた
ゲート昇降用ベアリング１０９がケース１０１内に衝突
し、更にゲートシャフト１０６が左方に移動されるとベ
アリング１０９に生じる反力によってスプリング１０７
の弾性力に抗してリンク１０５が駆動され、ゲート１０
４が下方に向けて移動される。そして、図２（ｄ）のよ
うに、下面の排気口１０３のゲートシール面１１３にゲ
ート１０４の下面のシールＯリング１１１が当接され、
排気口１０３がゲート１０４により閉塞される。これに
より、真空ゲートバルブが閉じることになる。なお、エ
アシリンダ２０４と、図外のエアシリンダによるゲート
シャフト１０６の動作は前記したように相互に関連をも
たせたタイミングで動作させるものであることは言うま
でもない。また、ゲートが開く動作については前記した
動作の逆手順となる。
【００１５】したがって、この真空ゲートバルブでは、
ゲート１０４が排気口１０３を開いている状態では、円
筒型シャッタ２０１がゲートシール面１１３を排気口１
０３とは隔離していることになる。このため、図５に示
したような真空処理室２にて成膜、エッチング等の処理
を行う場合に、真空ゲートバルブ１を開いた状態で真空
排気ポンプ３にて真空処理室２を真空排気しながら行っ
ても、目的の成膜部以外に付着した付着物が剥がれて異
物として真空ゲートバルブ１にまで移動されても、ゲー
トシール面１１３に異物が付着されことが防止される。
また、成膜ガスの一部が真空処理室２から真空ゲートバ
ルブ１にまで到達されても、ゲートシール面１１３で成
膜が行われることが防止される。これにより、ゲート１
０４を閉じた時にシールＯリング１１１とゲートシール
面１１３との密接度を高いものとし、真空ゲートバルブ
の本来の機能である真空遮断の信頼性を高めることが可
能となる。
ゲート１０４が排気口１０３を開いている状態では、円
筒型シャッタ２０１がゲートシール面１１３を排気口１
０３とは隔離していることになる。このため、図５に示
したような真空処理室２にて成膜、エッチング等の処理
を行う場合に、真空ゲートバルブ１を開いた状態で真空
排気ポンプ３にて真空処理室２を真空排気しながら行っ
ても、目的の成膜部以外に付着した付着物が剥がれて異
物として真空ゲートバルブ１にまで移動されても、ゲー
トシール面１１３に異物が付着されことが防止される。
また、成膜ガスの一部が真空処理室２から真空ゲートバ
ルブ１にまで到達されても、ゲートシール面１１３で成
膜が行われることが防止される。これにより、ゲート１
０４を閉じた時にシールＯリング１１１とゲートシール
面１１３との密接度を高いものとし、真空ゲートバルブ
の本来の機能である真空遮断の信頼性を高めることが可
能となる。
【００１６】図３は本発明の第２実施例を示す図であ
り、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）はＡ２−
Ａ２断面図、（ｄ）はＢ２−Ｂ２断面図である。この実
施例ではゲートシール面１１３を排気口１０３から隔離
するシャッタを周辺フランジを有する偏平なリング型シ
ャッタ２０１Ａとして構成している。したがって、この
リング型シャッタ２０１Ａでは、下降されたときにはそ
のフランジでゲートシール面１１３を覆う状態となり、
ゲートシール面１１３への異物の付着や成膜を防止して
いる。
り、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）はＡ２−
Ａ２断面図、（ｄ）はＢ２−Ｂ２断面図である。この実
施例ではゲートシール面１１３を排気口１０３から隔離
するシャッタを周辺フランジを有する偏平なリング型シ
ャッタ２０１Ａとして構成している。したがって、この
リング型シャッタ２０１Ａでは、下降されたときにはそ
のフランジでゲートシール面１１３を覆う状態となり、
ゲートシール面１１３への異物の付着や成膜を防止して
いる。
【００１７】図４（ａ）〜（ｃ）はその開閉動作を示す
断面図であり、前記第１実施例の開閉動作と略同じであ
る。但し、この実施例では、リング型シャッタ２０１Ａ
の高さ寸法が小さくされているため、リング型シャッタ
２０１Ａがケース１０１の上方に向けて退避されたとき
のスペースを小さくでき、排気口１０３を構成する円管
部の高さ寸法を小さくして真空ゲートバルブ１としての
高さ寸法を図６に示した従来の真空ゲートバルブと略同
程度の寸法にすることができる。
断面図であり、前記第１実施例の開閉動作と略同じであ
る。但し、この実施例では、リング型シャッタ２０１Ａ
の高さ寸法が小さくされているため、リング型シャッタ
２０１Ａがケース１０１の上方に向けて退避されたとき
のスペースを小さくでき、排気口１０３を構成する円管
部の高さ寸法を小さくして真空ゲートバルブ１としての
高さ寸法を図６に示した従来の真空ゲートバルブと略同
程度の寸法にすることができる。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ゲートが
排気口を開いた状態のときに、ゲートシール面を排気口
から隔離するシャッタを設けているので、ゲートシール
面が排気口に露呈されることを防止し、ゲートシール面
への異物の付着を防止し、バルブが閉じたときの真空リ
ークを防ぐことができる。ここで、シャッタを円筒型に
形成し、ゲートが排気口を開いたときに、円筒型シャッ
タがゲートシール面を排気口から隔離させるので、ゲー
トシール面を排気口から完全に隔離させ、異物等の付着
を確実に防止することができる。また、シャッタをリン
グ状に形成し、ゲートが排気口を開いたときに、リング
シャッタに設けたフランジがゲートシール面を覆うの
で、ゲートシール面に対する異物の付着を防止するとと
もに、バルブの高さ寸法の増大を防止することができ
る。
排気口を開いた状態のときに、ゲートシール面を排気口
から隔離するシャッタを設けているので、ゲートシール
面が排気口に露呈されることを防止し、ゲートシール面
への異物の付着を防止し、バルブが閉じたときの真空リ
ークを防ぐことができる。ここで、シャッタを円筒型に
形成し、ゲートが排気口を開いたときに、円筒型シャッ
タがゲートシール面を排気口から隔離させるので、ゲー
トシール面を排気口から完全に隔離させ、異物等の付着
を確実に防止することができる。また、シャッタをリン
グ状に形成し、ゲートが排気口を開いたときに、リング
シャッタに設けたフランジがゲートシール面を覆うの
で、ゲートシール面に対する異物の付着を防止するとと
もに、バルブの高さ寸法の増大を防止することができ
る。
【図１】本発明の第１実施例を示す図であり、（ａ）は
平面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）はＡ１−Ａ１線断面
図、（ｄ）はＢ１−Ｂ１線断面図である。
平面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）はＡ１−Ａ１線断面
図、（ｄ）はＢ１−Ｂ１線断面図である。
【図２】第１実施例のバルブ開閉動作を説明するための
断面図である。
断面図である。
【図３】本発明の第２実施例を示す図であり、（ａ）は
平面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）はＡ２−Ａ２線断面
図、（ｄ）はＢ２−Ｂ２線断面図である。
平面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）はＡ２−Ａ２線断面
図、（ｄ）はＢ２−Ｂ２線断面図である。
【図４】第２実施例のバルブ開閉動作を説明するための
断面図である。
断面図である。
【図５】真空ゲートバルブの使用例を示す概略構成図で
ある。
ある。
【図６】従来の真空ゲートバルブの一例を示す図であ
り、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）はＡ３−
Ａ３線断面図、（ｄ）はＢ３−Ｂ３線断面図である。
り、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）はＡ３−
Ａ３線断面図、（ｄ）はＢ３−Ｂ３線断面図である。
【図７】従来の真空ゲートバルブのバルブ開閉動作を説
明するための断面図である。
明するための断面図である。
１０１ ケース １０３ 排気口 １０４ ゲート １０６ ゲートシャフト ２０１ 円筒型シャッタ ２０１Ａ リング型シャッタ ２０３ シャッタクランク ２０４ エアシリンダ
Claims (3)
- 【請求項１】 排気口が開口されたケースと、このケー
ス内に内装され、前記排気口に設けられたゲートシール
面に密接して排気口を閉塞するゲートと、ゲートが前記
ゲートシール面に密接される状態と、排気口から退避さ
れた状態との間で前記ゲートを移動させる駆動機構とを
備える真空ゲートバルブにおいて、前記ゲートが退避さ
れた状態のときに前記ゲートシール面を排気口から隔離
する位置にまで移動されるシャッタを設けたことを特徴
とする真空ゲートバルブ。 - 【請求項２】 シャッタは排気口内で軸方向に移動され
る円筒型に形成され、ゲートが退避されたときにゲート
シール面を隔離する位置に移動され、ゲートがゲートシ
ール面に密接されたときにはゲートシール面と反対側の
排気口内の位置に移動される請求項１の真空ゲートバル
ブ。 - 【請求項３】 シャッタは排気口内で軸方向に移動され
るリング状に形成され、ゲートが退避されたときにゲー
トシール面の直上に位置されてその周辺部に設けたフラ
ンジがゲートシール面を覆い、ゲートがゲートシール面
に密接されたときにはゲートシール面と反対側の排気口
内の位置に移動される請求項１の真空ゲートバルブ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5208606A JP2541116B2 (ja) | 1993-07-31 | 1993-07-31 | 真空ゲ―トバルブ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5208606A JP2541116B2 (ja) | 1993-07-31 | 1993-07-31 | 真空ゲ―トバルブ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0742872A true JPH0742872A (ja) | 1995-02-10 |
| JP2541116B2 JP2541116B2 (ja) | 1996-10-09 |
Family
ID=16559000
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5208606A Expired - Fee Related JP2541116B2 (ja) | 1993-07-31 | 1993-07-31 | 真空ゲ―トバルブ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2541116B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001081800A3 (en) * | 2000-04-25 | 2002-02-28 | Varian Semiconductor Equipment | Method and apparatus for shielding a valve gate and other valve parts |
| US8448917B2 (en) | 2007-11-02 | 2013-05-28 | V-Tex Corporation | Vacuum gate valve and a method of opening and closing gate using the same |
| DE112006003294B4 (de) * | 2005-12-05 | 2019-02-21 | Ulvac, Inc. | Dampfabscheidungsvorrichtung |
-
1993
- 1993-07-31 JP JP5208606A patent/JP2541116B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001081800A3 (en) * | 2000-04-25 | 2002-02-28 | Varian Semiconductor Equipment | Method and apparatus for shielding a valve gate and other valve parts |
| US6448567B1 (en) | 2000-04-25 | 2002-09-10 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Method and apparatus for shielding a valve gate and other valve parts |
| DE112006003294B4 (de) * | 2005-12-05 | 2019-02-21 | Ulvac, Inc. | Dampfabscheidungsvorrichtung |
| US8448917B2 (en) | 2007-11-02 | 2013-05-28 | V-Tex Corporation | Vacuum gate valve and a method of opening and closing gate using the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2541116B2 (ja) | 1996-10-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5044366B2 (ja) | 真空ゲートバルブおよびこれを使用したゲート開閉方法 | |
| US6409149B1 (en) | Dual pendulum valve assembly with valve seat cover | |
| JP4010314B2 (ja) | ゲートバルブ装置、処理システム及びシール部材の交換方法 | |
| KR20070029558A (ko) | 유로의 본질적인 기밀 폐쇄를 위한 밸브 | |
| JP2635099B2 (ja) | 真空ロードロツクを具えたプラズマ反応装置 | |
| TW200424465A (en) | Gate valve apparatus | |
| JPH10110834A (ja) | 無摺動真空ゲートバルブ及び弁板 | |
| JP2541116B2 (ja) | 真空ゲ―トバルブ | |
| JP2631594B2 (ja) | ゲートバルブ | |
| JPH10339377A (ja) | ゲートバルブ | |
| JPH10252943A (ja) | 真空バルブ | |
| JPH08285133A (ja) | 真空プロセス装置用ゲートバルブ | |
| JP2000028013A (ja) | ゲート式真空遮断弁 | |
| JP2005240883A (ja) | 真空用ゲート弁 | |
| JP4270617B2 (ja) | 真空搬送装置 | |
| JPH11315939A (ja) | ゲート式真空遮断弁 | |
| JP2005163899A (ja) | 真空用ゲート弁 | |
| JP2002106729A (ja) | ゲート弁 | |
| JPH05106761A (ja) | 無発塵ゲートバルブ | |
| JP2000028014A (ja) | ゲート式真空遮断弁 | |
| JP2001355745A (ja) | ゲートバルブ | |
| JPS6037139A (ja) | ウェ−ハ移送経路におけるゲ−トバルブ機構 | |
| JPH0640530U (ja) | 真空ゲート弁 | |
| JPS63180775A (ja) | チヤンバのアイソレ−シヨンバルブ | |
| KR20050015191A (ko) | 반도체 설비용 진자 밸브 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070725 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080725 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090725 Year of fee payment: 13 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |