JP2001355745A - ゲートバルブ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 大面積の開口部を開閉する場合でも弁体を円
滑に作動させることができると共に弁本体の構造を簡素
化でき、パーティクルの発生を困難にすること。 【解決手段】 ゲートバルブ１０は、ピストン部１１Ａ
を有する弁体１１と、ピストン部が摺動自在に嵌合する
シリンダ部１２Ａを有する基体１２と、基体に連結され
たロッド１３と、ロッドを隙間δを介して囲み且つロッ
ドを昇降案内するシリンダガイド１４と、シリンダガイ
ド及びロッドを介して基体を昇降させる昇降駆動機構１
５とを備え、シリンダ部内とシリンダガイドの隙間を連
通させる給排気路１３Ａをロッドに設けると共に隙間と
その外部を連絡する給排気路１４Ｂをシリンダガイドに
設け、且つ、通路１４Ｂにシリンダ部を加圧気体側と真
空排気側に切り替えて弁体の開閉動作を行うソレノイド
バルブ２１を接続した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、弁体の駆動機構及
びゲートバルブに関し、更に詳しくはＬＣＤガラス基板
や半導体ウエハ等の被処理体に減圧下で所定の処理を施
す処理装置に好適に用いられる弁体の駆動機構及びゲー
トバルブに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のゲートバルブとしては図５に示す
ゲートバルブが知られている。そこで、このゲートバル
ブを図５を参照しながら説明する。

【０００３】図５に示すゲートバルブ１００は、シリン
ダロッド１０１に接続された基体１０２と、基体１０２
の上下でリンク１０３、１０４を介して連結され且つ右
側の処理室１２０の開口部１２１を開閉する弁体１０５
と、基体１０２と弁体１０５を収容するゲートチャンバ
ー１０６と、ゲートチャンバー１０６のロードロック室
１１０側の壁面に沿って設けられ且つ基体１０２を昇降
案内するガイドレール１０７と、基体１０２と弁体１０
５を連結するスプリング１０８とを備え、弁体１０５で
処理室の１２０の開口部１２１を開閉するようになって
いる。

【０００４】従って、処理室１２０の開口部１２１を閉
じる時には、シリンダ１０１が駆動して基体１０２及び
弁体１０５が一体的にガイドレール１０７に従って上昇
すると、弁体１０５上端のローラ１０９がチャンバー１
０６の天面に当たる。引き続き基体１０２が上昇する
と、弁体１０５はそれ以上上昇しないが、スプリング１
０８に抗してローラ１０９を回転させながら処理室１２
０の開口部１２１に接近し、基体１０２が上昇端に達す
ると基体１０２及び弁体１０５の高さが揃い、しかも上
下のリンク１０３、１０４を介して弁体１０５が処理室
１２０の開口部１２１に強く押し付けられ、開口部１２
１を閉じる。開口部１２１を開く時にはシリンダ１０１
が逆方向に駆動し、基体１０２が下降し、更に弁体１０
５がゲートチャンバー１０６から離れると、弁体１０５
はスプリング１０８を介して基体１０２側に引き寄せら
れ、初期状態に戻る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図５に
示すゲートバルブ１００はリンク機構の他にガイドレー
ル１０７やスプリング１０８等の部品を用いて基体１０
２及び弁体１０５のスライド動作及び開口部との離接動
作を実現しているため、構成部品が多く機構的に複雑で
コスト的に高くなる上に、弁体１０５を開口部１２１に
対して均等に押し付けることが難しく、更に、ローラ１
０９がゲートチャンバー１０６の内壁にぶつかった後に
摺動するため、パーティクルを発生し易いという課題が
あった。

【０００６】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、大面積の開口部を開閉する場合であっても
弁体を円滑に作動させることができると共に弁本体の構
造を簡素化することができ、しかもパーティクルを発生
し難い弁体の駆動機構及びゲートバルブを提供すること
を目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
のゲートバルブは、開口部を開閉するために弁体を有す
るゲートバルブにおいて、上記弁体の背面にピストン部
を設けると共に上記ピストン部が摺動自在に嵌合するシ
リンダ部を有する基体を設け、更に、上記弁体と上記基
体の間に上記弁体を直進させる少なくとも一つの直進ガ
イド機構を設け、且つ、上記シリンダ部内で開口する少
なくとも一系列の給排気路を設けると共に上記給排気路
に、加圧気体側と真空排気側を交互に切り替えて上記弁
体を開閉駆動させる切替弁、加圧気体側と大気側を交互
に切り替えて上記弁体を開閉駆動させる切替弁、大気側
と真空排気側を交互に切り替えて上記弁体を開閉駆動さ
せる切替弁の中から選択されるいずれか一つの切替弁を
接続したことを特徴とするものである。

【０００８】また、本発明の請求項２に記載のゲートバ
ルブは、背面にピストン部を有する弁体と、このピスト
ン部が摺動自在に嵌合するシリンダ部を有する基体と、
この基体に連結された少なくとも一つのロッドと、この
ロッドを隙間を介して囲み且つ上記ロッドを移動案内す
るシリンダガイドと、このシリンダガイドに従って上記
ロッドを往復移動させる少なくとも一つの駆動機構とを
備え、上記シリンダ部内と上記ロッドと上記シリンダガ
イドとの隙間を連通させる給排気路を上記ロッドに設け
ると共に上記隙間とその外部を連絡する通路を上記シリ
ンダガイドに設け、且つ、上記通路に、加圧気体側と真
空排気側を交互に切り替えて上記弁体を開閉駆動させる
切替弁、加圧気体側と大気側を交互に切り替えて上記弁
体を開閉駆動させる切替弁、大気側と真空排気側を交互
に切り替えて上記弁体を開閉駆動させる切替弁の中から
選択されるいずれか一つの切替弁を接続したことを特徴
とするものである。

【０００９】また、本発明の請求項３に記載のゲートバ
ルブは、請求項２に記載の発明において、上記弁体を直
進させる少なくとも一つの直進ガイド機構を上記弁体と
上記基体間に設けたことを特徴とするものである。

【００１０】また、本発明の請求項４に記載の弁体の駆
動機構は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の
発明において、上記加圧気体側と真空排気側を交互に切
り替えて上記弁体を開閉駆動させる上記切替弁は大気側
に接続された中間位置を有することを特徴するものであ
る。

【００１１】また、本発明の請求項５に記載の弁体の駆
動機構は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の
発明において、上記弁体を上記基体側へ付勢する少なく
とも一つのバネ部材を上記弁体と上記基体の間に設けた
ことを特徴するものである。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、図１〜図４に示す実施形態
に基づいて本発明を説明する。本実施形態のゲートバル
ブ１０は例えば図１に示すようにＬＣＤガラス基板のマ
ルチチャンバー処理装置の搬送室Ｔと処理室Ｃを連通す
る開口部Ｏの開閉に適用することができる。マルチチャ
ンバー処理装置は搬送室Ｔの周りに複数の処理室Ｃが連
結され、複数の処理室Ｃでは例えばエッチング、ＣＶＤ
等のプラズマ処理やスパッタリング等の処理を行うよう
になっている。各処理室Ｃでは必要に応じて同一処理を
行ったりそれぞれ別の処理を行う処理室として構成する
ことができる。そして、図１に示すように搬送室Ｔと処
理室Ｃを連絡する連絡口の開口部Ｏに本実施形態のゲー
トバルブ１０が配置されている。

【００１３】本実施形態のゲートバルブ１０は、図１、
図２の（ａ）、（ｂ）に示すように、背面に突出形成さ
れたピストン部１１Ａを有する横方向に長い矩形状の弁
体１１と、この弁体１１のピストン部１１Ａが摺動自在
に嵌合するシリンダ部１２Ａを有する横方向に長い矩形
状の基体１２と、この基体１２から垂下する左右一対の
ロッド１３と、これらのロッド１３を隙間δを介して囲
み且つ各ロッド１３をそれぞれ昇降案内する左右一対の
シリンダガイド１４と、これらのシリンダガイド１４に
従って各ロッド１３及び基体１２を昇降させる左右一対
の昇降駆動機構１５とを備え、昇降駆動機構１５が駆動
することでロッド１３が昇降して基体１２を枠体１６内
で昇降するようにしてある。ピストン部１１Ａは図２の
（ａ）、（ｂ）に示すように長円形に形成され、同様の
形状に形成されたシリンダ部１２Ａと嵌合している。こ
のように大面積の単一の長円形のピストン部１１Ａをシ
リンダ部１２Ａを設けているため、大きな力を発生させ
ることができる。また、複数の小型の円筒状のピストン
部、シリンダ部を設ける場合と比べて構造を簡単にする
ことができる。尚、図１では弁体１１が上昇端に位置し
て開口部Ｏを閉じている状態を一点鎖線で示し、弁体１
１が下降端に位置した状態を実線で示してある。また、
図２の（ａ）では説明の都合上、弁体１１で開口部を閉
じる位置では弁体１１のみを図示し、弁体１１が下降端
に位置した状態では基体１２の背面側を図示してある。

【００１４】図１、図２の（ａ）、（ｂ）に示すよう
に、上記シリンダガイド１４の下端部にはフランジ部１
４Ａが形成され、シリンダガイド１４はフランジ部１４
Ａを介して昇降駆動機構１５の本体１５Ａの上端面に固
定されている。また、シリンダガイド１４は隙間を介し
てスリーブ１７によって囲まれ、これら両者１４、１７
間の隙間に金属製ベローズ１８が装着されている。図２
の（ａ）に示すようにスリーブ１７の上下両端にはそれ
ぞれフランジ部が形成され、これらのフランジ部を介し
て枠体１６及びシリンダガイド１４のフランジ部１４Ａ
にボルト、ナット等の締結部材によって連結されてい
る。金属製ベローズ１８は上端が基体１２の下面に連結
されていると共に下端がシリンダガイド１４のフランジ
部１４Ａに連結され、シリンダガイド１４及びロッド１
３を封止している。また、金属製ベローズ１８は複数に
分割され、それぞれが互いに金属製のリング１８Ａによ
って連結されている。リング１８Ａの内径はシリンダガ
イド１４の外周面に沿って摺動する大きさに形成されて
いる。従って、金属製ベローズ１８が伸縮する時にはリ
ング１８Ａがシリンダガイド１４に従って上下に摺動
し、金属製ベローズ１８はシリンダガイド１４に沿って
伸縮し、その変形が防止される。

【００１５】図１、図２の（ａ）に示すように上記ロッ
ド１３には軸芯に従って給排気路１３Ａが形成されてい
る。この給排気路１３Ａは一端がロッド１３の上端面で
開口し、他端がロッド１３下部の周面で開口している。
また、シリンダガイド１４のフランジ部１４Ａには外周
面から内周面に貫通する給排気路１４Ｂが形成されてい
る。この給排気路１４Ｂは、図１、図２の（ａ）に示す
ように下降端に位置するロッド１３の給排気路１３Ａと
一致している。この給排気路１４Ｂはロッド１３が下降
端から上昇端に達する間でもロッド１３の給排気路１３
Ａと隙間δを介して常時連通している。また、シリンダ
ガイド１４の上下両端部にはそれぞれＯリング等のシー
ル部材１９が装着され、ロッド１３がシリンダガイド１
４内で昇降する際に隙間δの気密を保持している。

【００１６】一方、図１、図２の（ａ）に示すように上
記基体１２には下端面からシリンダ部１２Ａ内に貫通す
る給排気路１２Ｂがロッド１３の給排気路１３Ａに対応
して形成されている。また、基体１２の下端面には例え
ば雌ネジ部１２Ｃが形成され、ロッド１３には雄ネジ部
１３Ｂが形成されている。これら両者１２Ｃ、１３Ｂは
互いに螺合して基体１２とロッド１３を連結し、この状
態で基体１２の給排気路１２Ｂとロッド１３の給排気路
１３Ａの軸芯が一致し、連通している。従って、基体１
２のシリンダ部１２Ａと給排気路１２Ｂ、１３Ａ、１４
Ｂは常時連通している。

【００１７】図１に示すように上記シリンダガイド１４
の給排気路１４Ｂには配管２０を介して切替弁（例えば
ソレノイドバルブ）２１が接続されている。このソレノ
イドバルブ２１は４ポートを有している。第１ポート２
１Ａは配管２０に接続され、第２ポート２１Ｂは大気側
に開放され、第３ポート２１Ｃは真空排気装置（図示せ
ず）側に接続されている。そして、第４ポート２１Ｄは
加圧気体源（図示せず）に接続されている。従って、ソ
レノイドバルブ２１を中立位置である第２ポート２１Ｂ
から加圧気体側２１Ｄに切り替えると給排気路１４Ｂ、
１３Ａ、１２Ｂを介して弁体１１のピストン部１１Ａで
封止されたシリンダ部１２Ａ内が加圧気体源と連通し、
中立位置である第２ポート２１Ｂから真空排気側２１Ｃ
に切り替えると給排気路１４Ｂ、１３Ａ、１２Ｂを介し
てシリンダ部１２Ａ内の空間が真空排気装置側と連通し
て真空排気される。従って、本実施形態の弁体１１の駆
動機構は、弁体１１の背面に設けられたピストン部１１
Ａと、このピストン部１１Ａが摺動自在に嵌合するシリ
ンダ部１２Ａを有する基体１２と、シリンダ部１２Ａ内
で開口するロッド１３Ａの給排気路１３Ａと、この給排
気路１３Ａに接続されて加圧気体側と真空排気装置側を
交互に切り替えて弁体１１を開閉駆動させるソレノイド
バルブ２１とを備えて構成されている。

【００１８】また、図２の（ｂ）及び図３に示すように
上記弁体１１と基体１２間には左右一対の直進ガイド機
構２２が装着されている（但し、図２の（ｂ）では左半
分を図示している）。この直進ガイド機構２２は、図３
に示すように、弁体１１の背面側の凹部１１Ｂ内に装着
されたガイドロッド２２Ａと、このガイドロッド２２Ａ
を受け入れるガイド孔２２Ｂとを備えている。ガイド孔
２２Ｂは、シリンダ部１２Ａに形成された凹部２２Ｃ
と、この凹部２２Ｃから弁体１１側へ延設されたリング
状突起２２Ｄと、凹部２２Ｃ、リング状突起２２Ｄの内
周面に装着された摺動部材２２Ｅとからなっている。従
って、弁体１１は直進ガイド機構２２を介して基体１２
に対して前後方向に円滑に直進して処理室Ｃの開口部Ｏ
を開閉する。ここで摺動部材２２Ｅをリング状突起２２
Ｄの内周面に設けているのは、弁体１１を厚くしない
で、しかも直進性を確保するために必要な長さの摺動部
材を収納するためである。

【００１９】また、図２の（ｂ）に示すように上記弁体
１１と基体１２間には左右一対のコイルスプリング２３
が装着され、これらのコイルスプリング２３を介して弁
体１１を基体１２側へ常時付勢している。コイルスプリ
ング２３は一端が弁体１１に形成された凹部１１Ｃ内に
連結され、他端が基体１２に形成された凹部１２Ｄ内に
連結され、これらの凹部１１Ｃ、１２Ｄは互いに対峙し
ている。コイルスプリング２３は直進ガイド機構２２よ
りも弁体１１及び基体１２の左右方向の中心より直進ガ
イド寄りに配置されている。尚、弁体１１が基体１２に
対して平行運動（開口に対して直進運動）するために
は、直進ガイド機構２２は弁体１１の端部近くに設ける
ことが望ましい。

【００２０】更に、図１、図４に示すように上記弁体１
１のピストン部１１Ａの外周には例えばＯリング２５が
シール部材として装着され、Ｏリング２５を介してピス
トン部１１Ａとシリンダ部１２Ａとの気密を保持してい
る。また、開口部Ｏの周囲には例えばＯリング２６がシ
ール部材として装着され、Ｏリング２６を介して弁体１
１と開口部Ｏ間の気密を保持している。また、弁体１１
は例えばヒーティングコイル２４を内蔵し、使用時には
ヒーティングコイル２４で弁体１１を所定の温度まで加
熱し、処理室Ｃ内でエッチング処理等を行っている時の
副生成物の付着を抑制するようにしてある。また、基体
１２の上面には緩衝部材２７が装着され、この緩衝部材
２７が基体１２と枠体１６間の衝撃を緩和する。

【００２１】次に動作について説明する。例えば、処理
装置内を所定の真空度に保持し、搬送室Ｔ内から処理室
Ｃ内へＬＣＤガラス基板（図示せず）を搬送した後、処
理室Ｃの開口部Ｏを閉じる時には、ゲートバルブ１０の
昇降駆動機構１５が駆動する。これにより基体１２がロ
ッド１３を介して図１に示す下端位置から上昇端位置ま
で上昇して停止する。これと同時にソレノイドバルブ２
１が作動して真空排気側から中立位置である第２ポート
２１Ｂを経由して加圧気体側へ切り替わり、配管２０、
シリンダガイド１４の給排気路管１４Ｂ、シリンダガイ
ド１４とロッド１３間の隙間δ、ロッド１３の給排気路
１３Ａ及び基体１２の給排気路１２Ｂを介して基体１２
のシリンダ部１２Ａ内へ加圧気体が導入される。それ故
に弁体１１を図４の一点鎖線で示す位置から処理室Ｃの
向けて前進させて開口部Ｏを閉じる。しかも、弁体１１
と基体１２間には直進ガイド機構２２が装着されている
ため、弁体１１は直進ガイド機構２２に従って円滑に直
進して開口部Ｏを閉じる。

【００２２】処理室Ｃ内でＬＣＤガラス基板を処理して
いる時には、弁体１１内のヒーティングコイル２４が作
動し、弁体１１を所定の温度まで加熱している。そのた
め、処理室Ｃ内で副生成物が発生しても、副生成物は弁
体１１に付着し難い。ＬＣＤガラス基板を所定時間処理
した後、処理室Ｃ内から搬送室Ｔ内へＬＣＤガラス基板
を搬送する際に、ゲートバルブ１０が作動して処理室Ｃ
の開口部Ｏを開放する。この一連の動作の際、ソレノイ
ドバルブの中立位置である第２ポート２１Ｂを経由する
ことにより加圧気体が大気側に排出され、しかる後、第
３ポート２１Ｃへ移動することで真空排気装置に負荷を
与えることなく排気を行うことができる。

【００２３】それにはまず、ゲートバルブ１０のソレノ
イドバルブ２１が駆動し、加圧気体側２１Ｄから中立位
置である第２ポート２１Ｂを経由して、真空排気側へ切
り替えると給排気路１４Ｂが真空排気装置側と連通す
る。この時、真空排気装置が駆動しているため、基体１
２のシリンダ部１２Ａ内を真空排気する。これによりシ
リンダ部１２Ａ内が減圧されて処理室Ｃ内の真空度に近
づくと、弁体１１と基体１２間のコイルスプリング２３
の働きで弁体１１が直進ガイド機構２２を介して基体１
２側へ引き込まれて処理室Ｃから図４の一点鎖線で示す
初期位置まで後退して開口部Ｏを開放する。

【００２４】次いで、昇降駆動機構１５が逆方向に駆動
し、ロッド１３を介して基体１２が上昇端から下降端ま
で下降する。この間も真空排気装置が駆動し、シリンダ
部１２Ａ内を所定の真空度を保持し、弁体１１は初期位
置にある。

【００２５】以上説明したように本実施形態によれば、
ゲートバルブ１０で処理室Ｃの開口部Ｏを閉じる時に
は、基体１２のシリンダ部１２Ａと弁体１１のピストン
部１１Ａで形成する空間に加圧気体を導入して弁体１１
を駆動させるようにしたため、弁体１１全面を大気圧で
処理室Ｃ側へ均等に押し付けて開口部Ｏを円滑に閉じる
ことができる。逆にゲートバルブ１０で処理室Ｃの開口
部Ｏを開ける時には、シリンダ部１２Ａ内を処理室Ｃ内
の真空度近くまで真空排気すれば、小さなバネ力でも弁
体１１が初期位置へ戻って開口部Ｏを開くことができ
る。

【００２６】また、本実施形態によれば、弁体１１を基
体１２側へ付勢するコイルスプリング２３を設けたた
め、開口部Ｏを開く時に基体１２のシリンダ部１２Ａ内
の圧力が処理室Ｃの真空度に近づくと、コイルスプリン
グ２３の付勢力で弁体１１が円滑に基体１２側へ近づい
て開口部Ｏを円滑に開けることができる。また、弁体１
１をピストン部１１Ａを介して基体１２のシリンダ部１
２Ａ内で直進させる直進ガイド機構２１を設けたため、
弁体１１が開口部Ｏ（大型のＬＣＤガラス基板では開口
部Ｏの幅は１ｍ程度となる）を開閉する際に弁体１１を
直進ガイド機構２に従って開口部Ｏを極めて円滑に開閉
することができる。

【００２７】また、本実施形態によれば、弁体１１及び
基体１２を一体的に昇降させる左右一対のロッド１３
と、このロッド１３を隙間δを介して囲み且つロッド１
３を昇降案内するシリンダガイド１４と、このシリンダ
ガイド１４に従ってロッド１３を往復移動させる左右一
対の昇降駆動機構１５とを備え、気体１２のシリンダ部
１２Ａ内とロッド１３とシリンダガイド１４との隙間δ
を連通させる給排気路１２Ｂをロッド１３に設けると共
に隙間δとその外部を連絡する給排気路１４Ｂをシリン
ダガイド１４に設け、且つ、給排気路１４Ｂに、加圧気
体側と真空排気側を交互に切り替えて弁体１１を開閉駆
動させるソレノイドバルブ２１を接続したため、昇降駆
動機構１５により弁体１１及び基体１２がシリンダガイ
ド１４内で昇降するロッド１３を介して昇降するため、
弁体１１及び基体１２の昇降に伴って伸縮する配管や昇
降する配管を用いる必要がなく、ゲートバルブ１０の可
動部を気密にシールでき、その信頼性及び寿命が向上
し、しかも、ソレノイドバルブ２１を介して弁体１１を
駆動させて開口部Ｏを確実に開閉することができる。

【００２８】尚、本発明は上記実施形態に何等制限され
るものではない。例えば、上記実施形態ではＬＣＤガラ
ス基板を処理する処理装置に適用したゲートバルブにつ
いて説明したが、本発明は半導体ウエハ等の被処理体が
通る開口部を開閉する弁体の駆動機構及びゲートバルブ
にも適用することができる。また、上記実施形態では真
空雰囲気でソレノイドバルブ２１を用いて加圧気体側と
真空排気側とで切り替える場合について説明したが、真
空雰囲気で切替弁を大気側と真空排気側とで切り替える
ようにしても良い。即ち、本発明では弁体を基体から離
したり引き寄せる力は弁体と基体との間の空間の圧力と
ゲートバルブ周辺の圧力との差圧及びコイルスプリング
の力に依存する。従って、切替弁を加圧空気側と真空排
気側とで切り替えることにより、あるいは切替弁を加圧
気体側と大気側とで切り替えることにより、大気中であ
っても本発明を実施することができる。また、上記実施
形態ではロッド１３及び昇降駆動機構１５をそれぞれ左
右に一対ずつ設けたものについて説明したが、これらは
少なくとも一箇所にあればそれぞれの機能を達成するこ
とができる。

【００２９】

【発明の効果】本発明の請求項１〜請求項５に記載の発
明によれば、大面積の開口部を開閉する場合であっても
弁体を円滑に作動させることができると共に弁本体の構
造を簡素化することができ、しかもパーティクルを発生
し難い弁体の駆動機構及びゲートバルブを提供すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の開閉弁の一実施形態であるゲートバル
ブの要部を示す断面図である。

【図２】（ａ）は図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図、
（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線に沿った断面図である。

【図３】図２に示した直進ガイド機構の拡大図である。

【図４】図１に示す弁体と基体の動作を説明するための
要部断面図である。

【図５】従来の開閉弁の一例を示す断面図である。

【符号の説明】

１０ ゲートバルブ（開閉弁） １１ 弁体 １１Ａ ピストン部 １２ 基体 １２Ａ シリンダ部 １２Ｂ 給排気路 １３ ロッド １３Ａ 給排気路 １４ シリンダガイド １４Ｂ 給排気路 １５ 昇降駆動機構 ２１ ソレノイドバルブ（切替弁）

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 開口部を開閉するために弁体を有するゲ
   ートバルブにおいて、上記弁体の背面にピストン部を設
   けると共に上記ピストン部が摺動自在に嵌合するシリン
   ダ部を有する基体を設け、更に、上記弁体と上記基体の
   間に上記弁体を直進させる少なくとも一つの直進ガイド
   機構を設け、且つ、上記シリンダ部内で開口する少なく
   とも一系列の給排気路を設けると共に上記給排気路に、
   加圧気体側と真空排気側を交互に切り替えて上記弁体を
   開閉駆動させる切替弁、加圧気体側と大気側を交互に切
   り替えて上記弁体を開閉駆動させる切替弁、大気側と真
   空排気側を交互に切り替えて上記弁体を開閉駆動させる
   切替弁の中から選択されるいずれか一つの切替弁を接続
   したことを特徴とするゲートバルブ。
2. 【請求項２】 背面にピストン部を有する弁体と、この
   ピストン部が摺動自在に嵌合するシリンダ部を有する基
   体と、この基体に連結された少なくとも一つのロッド
   と、このロッドを隙間を介して囲み且つ上記ロッドを移
   動案内するシリンダガイドと、このシリンダガイドに従
   って上記ロッドを往復移動させる少なくとも一つの駆動
   機構とを備え、上記シリンダ部内と上記ロッドと上記シ
   リンダガイドとの隙間を連通させる給排気路を上記ロッ
   ドに設けると共に上記隙間とその外部を連絡する通路を
   上記シリンダガイドに設け、且つ、上記通路に、加圧気
   体側と真空排気側を交互に切り替えて上記弁体を開閉駆
   動させる切替弁、加圧気体側と大気側を交互に切り替え
   て上記弁体を開閉駆動させる切替弁、大気側と真空排気
   側を交互に切り替えて上記弁体を開閉駆動させる切替弁
   の中から選択されるいずれか一つの切替弁を接続したこ
   とを特徴とするゲートバルブ。
3. 【請求項３】 上記弁体を直進させる少なくとも一つの
   直進ガイド機構を上記弁体と上記基体間に設けたことを
   特徴とする請求項２に記載のゲートバルブ。
4. 【請求項４】 上記加圧気体側と真空排気側を交互に切
   り替えて上記弁体を開閉駆動させる上記切替弁は大気側
   に接続された中間位置を有することを特徴する請求項１
   〜請求項３のいずれか１項に記載のゲートバルブ。
5. 【請求項５】 上記弁体を上記基体側へ付勢する少なく
   とも一つのバネ部材を上記弁体と上記基体の間に設けた
   ことを特徴する請求項１〜請求項４のいずれか１項に記
   載のゲートバルブ。