JPH08285133A - 真空プロセス装置用ゲートバルブ - Google Patents
真空プロセス装置用ゲートバルブInfo
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- JPH08285133A JPH08285133A JP8991495A JP8991495A JPH08285133A JP H08285133 A JPH08285133 A JP H08285133A JP 8991495 A JP8991495 A JP 8991495A JP 8991495 A JP8991495 A JP 8991495A JP H08285133 A JPH08285133 A JP H08285133A
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- valve
- gate valve
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 一端が弁体保持構体２５ａに接続され、弁体
２４の進退動作に連動して弁体２４の進出時にはシール
面２２より離脱し、弁体２４の退入時にはシール面２２
を被覆するフレキシブルな板状のシャッタ２７を有し、
シャッタ２７は弁室内面に沿って折り曲げ状であって可
動状態に装着されていることを特徴とする。 【効果】 弁体の進退動作に連動して、シール面を離
脱、被覆するシャッタがフレキシブルで折り曲げ状に装
着されるのでゲ−トバルブ２１の弁体２４の進退方向の
寸法を小さくできる。
２４の進退動作に連動して弁体２４の進出時にはシール
面２２より離脱し、弁体２４の退入時にはシール面２２
を被覆するフレキシブルな板状のシャッタ２７を有し、
シャッタ２７は弁室内面に沿って折り曲げ状であって可
動状態に装着されていることを特徴とする。 【効果】 弁体の進退動作に連動して、シール面を離
脱、被覆するシャッタがフレキシブルで折り曲げ状に装
着されるのでゲ−トバルブ２１の弁体２４の進退方向の
寸法を小さくできる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空室の隔離に用いる
イオン注入装置、スパッタ装置等の真空プロセス装置用
ゲートバルブに関し、特にゲートバルブ開成時のゲート
バルブシール面への異物付着による汚染を防止する保護
機構を有する真空プロセス装置用ゲートバルブに関す
る。
イオン注入装置、スパッタ装置等の真空プロセス装置用
ゲートバルブに関し、特にゲートバルブ開成時のゲート
バルブシール面への異物付着による汚染を防止する保護
機構を有する真空プロセス装置用ゲートバルブに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】実開昭６２−１６８６８号公報に記載の
従来のシール面への異物付着を防止する保護機構を有す
る真空プロセス装置用ゲートバルブの例を図７、図８か
ら説明する。図７は真空プロセス装置用ゲートバルブの
開成時の断面図、図８は図７のゲートバルブの閉成時の
断面図を示す。１は内部に弁室１ａを有するゲートバル
ブで、２は弁室１ａと試料室３を開口部３ａで気密に分
離する弁室内面１ｂのシール面で、４はシール面２を気
密に密閉するＯリング４ａをはめ込む第一の環状溝４ｂ
を有する主部４ｆと、Ｏリング４ｃをはめ込む第二の環
状溝４ｄを有するシ−ル面保護部４ｇとでなる弁体で、
第二の環状溝４ｃの内側に開口部３ａよりやや径の小さ
い弁体の開口４ｅを有し、５は作動子で、操作部（図示
せず）は弁室１ａ外に配置し、作動子５で弁体４の進退
動（図の上下方向）させ、さらにジャバラ５ａを制御し
て弁体４の前後動（図の左右方向）を操作し、６は試料
室３の対向位置にあるイオンビームの入り口で、７はシ
ール面２以外でＯリング４ａが接触する弁室１ａの内壁
で、７ａは弁体４のシ−ル面保護部４ｇの収容部であ
る。
従来のシール面への異物付着を防止する保護機構を有す
る真空プロセス装置用ゲートバルブの例を図７、図８か
ら説明する。図７は真空プロセス装置用ゲートバルブの
開成時の断面図、図８は図７のゲートバルブの閉成時の
断面図を示す。１は内部に弁室１ａを有するゲートバル
ブで、２は弁室１ａと試料室３を開口部３ａで気密に分
離する弁室内面１ｂのシール面で、４はシール面２を気
密に密閉するＯリング４ａをはめ込む第一の環状溝４ｂ
を有する主部４ｆと、Ｏリング４ｃをはめ込む第二の環
状溝４ｄを有するシ−ル面保護部４ｇとでなる弁体で、
第二の環状溝４ｃの内側に開口部３ａよりやや径の小さ
い弁体の開口４ｅを有し、５は作動子で、操作部（図示
せず）は弁室１ａ外に配置し、作動子５で弁体４の進退
動（図の上下方向）させ、さらにジャバラ５ａを制御し
て弁体４の前後動（図の左右方向）を操作し、６は試料
室３の対向位置にあるイオンビームの入り口で、７はシ
ール面２以外でＯリング４ａが接触する弁室１ａの内壁
で、７ａは弁体４のシ−ル面保護部４ｇの収容部であ
る。
【０００３】この動作を以下に説明する。まずゲートバ
ルブ１の閉じ方、即ち図７の状態から図８の状態への動
作を説明する。作動子５により弁室１ａのジャバラ５ａ
を縮め、弁体４を第一の環状溝４ｂのＯリング４ａおよ
び第二の環状溝４ｄのＯリング４ｃをシール面２および
内壁７から浮かせた状態で進出（図の下方向）させ、ジ
ャバラ５ａを伸ばしてシール面２に弁体４の第一の環状
溝４ｂのＯリング４ａを押しつけ開口部３ａ密閉する。
このとき第二の環状溝４ｄのＯリング４ｃもシ−ル面保
護部４ｇの弁室１ａの収縮部７ａに入り内壁７に押しつ
ける。
ルブ１の閉じ方、即ち図７の状態から図８の状態への動
作を説明する。作動子５により弁室１ａのジャバラ５ａ
を縮め、弁体４を第一の環状溝４ｂのＯリング４ａおよ
び第二の環状溝４ｄのＯリング４ｃをシール面２および
内壁７から浮かせた状態で進出（図の下方向）させ、ジ
ャバラ５ａを伸ばしてシール面２に弁体４の第一の環状
溝４ｂのＯリング４ａを押しつけ開口部３ａ密閉する。
このとき第二の環状溝４ｄのＯリング４ｃもシ−ル面保
護部４ｇの弁室１ａの収縮部７ａに入り内壁７に押しつ
ける。
【０００４】つづいてゲートバルブ１の開け方、即ち図
８の状態から図７の状態への動作を説明する。作動子５
により弁室１ａのジャバラ５ａを縮め、弁体４を第一の
環状溝４ｂのＯリング４ａおよび第二の環状溝４ｄのＯ
リング４ｄをシール面２および内壁７から浮かせた状態
で退入（図の上方向へ）させ、弁体４をジャバラ５ａを
伸ばしてシール面２に第二の環状溝４ｄのＯリング４ｃ
を弁の開口部４ｅが開口部３ａに一致した位置に押しつ
ける。このとき第一の環状溝４ｂのＯリング４ａも弁室
１ａの内壁７に押しつける。この状態でイオンビーム入
り口６からイオンビームを弁の開口部４ｄおよび開口部
３ａを経由して試料室３へ照射する。
８の状態から図７の状態への動作を説明する。作動子５
により弁室１ａのジャバラ５ａを縮め、弁体４を第一の
環状溝４ｂのＯリング４ａおよび第二の環状溝４ｄのＯ
リング４ｄをシール面２および内壁７から浮かせた状態
で退入（図の上方向へ）させ、弁体４をジャバラ５ａを
伸ばしてシール面２に第二の環状溝４ｄのＯリング４ｃ
を弁の開口部４ｅが開口部３ａに一致した位置に押しつ
ける。このとき第一の環状溝４ｂのＯリング４ａも弁室
１ａの内壁７に押しつける。この状態でイオンビーム入
り口６からイオンビームを弁の開口部４ｄおよび開口部
３ａを経由して試料室３へ照射する。
【０００５】以上説明したように、シール面２はゲート
バルブ閉成時は第一の環状溝４ｂのＯリング４ａを介し
て、開成時は第二の環状溝４ｄのＯリング４ｃを介して
弁体４で被覆されている。また、第一の環状溝４ｂおよ
び第二の環状溝４ｄのＯリング４ａ，４ｃとも、ゲート
バルブ開時も、閉時もシール面２または内壁７に押しつ
けられている。
バルブ閉成時は第一の環状溝４ｂのＯリング４ａを介し
て、開成時は第二の環状溝４ｄのＯリング４ｃを介して
弁体４で被覆されている。また、第一の環状溝４ｂおよ
び第二の環状溝４ｄのＯリング４ａ，４ｃとも、ゲート
バルブ開時も、閉時もシール面２または内壁７に押しつ
けられている。
【０００６】このことにより、ゲートバルブ開成時も閉
成時もシール面２に異物が付着して汚れることによる真
空保持が悪くなることは少なくなり、ゲートバルブの清
掃頻度を減少させることができる。
成時もシール面２に異物が付着して汚れることによる真
空保持が悪くなることは少なくなり、ゲートバルブの清
掃頻度を減少させることができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記方法によりイオン
ビームを照射すると、Ｏリング４ａ、４ｃと気密に接触
するシール面２にもイオンビームが照射され異物で汚染
されることを防止し、以後の気密な密閉を害なうことが
ない。しかし真空プロセス用ゲートバルブに設けたシー
ル面の保護部の収容部７ａが必要になり、シ−ル面保護
部４ｇを有しないゲ−トバルブに比較し、ゲ−ト進退方
向（図の上下方向）に大きくなると言う欠点があった。
ビームを照射すると、Ｏリング４ａ、４ｃと気密に接触
するシール面２にもイオンビームが照射され異物で汚染
されることを防止し、以後の気密な密閉を害なうことが
ない。しかし真空プロセス用ゲートバルブに設けたシー
ル面の保護部の収容部７ａが必要になり、シ−ル面保護
部４ｇを有しないゲ−トバルブに比較し、ゲ−ト進退方
向（図の上下方向）に大きくなると言う欠点があった。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために提案されたもので、第一の手段として、閉成
時には進出してシール面を覆い開成時にはシール面から
離脱して退入する弁体と、この弁体を進退させるゲート
バルブ開閉手段とを具備する真空プロセス装置用ゲート
バルブにおいて、一端がゲートバルブ開閉手段に接続さ
れ、弁体の進退動作に連動して弁体の進出時にはシール
面より離脱し、弁体の退入時にはシール面を被覆するフ
レキシブルな板状のシャッタを有し、前記シャッタは折
り曲げ状であって可動状態に装着されていることを特徴
とする真空プロセス装置用ゲートバルブを提供する。前
記シャッタはその一端側が弁室内の弁体退入部において
折り返されてゲートバルブ開閉手段に接続され、弁体の
進出に連動してシール面より離脱して退入し、弁体の退
入に連動して進出してシール面を被覆するよう構成する
のが好ましい。なお、上記の「一端がゲ−トバルブ開閉
手段に接続され、」の意味は「シャッタの一端が直接ゲ
−トバルブ開閉手段に接続された」に限定されるもので
はない。シャッタとゲ−トバルブ開閉手段とを継ぐ継手
部品や、場合によっては開閉手段に接続している弁体を
介して接続されるものも含んでいる。
するために提案されたもので、第一の手段として、閉成
時には進出してシール面を覆い開成時にはシール面から
離脱して退入する弁体と、この弁体を進退させるゲート
バルブ開閉手段とを具備する真空プロセス装置用ゲート
バルブにおいて、一端がゲートバルブ開閉手段に接続さ
れ、弁体の進退動作に連動して弁体の進出時にはシール
面より離脱し、弁体の退入時にはシール面を被覆するフ
レキシブルな板状のシャッタを有し、前記シャッタは折
り曲げ状であって可動状態に装着されていることを特徴
とする真空プロセス装置用ゲートバルブを提供する。前
記シャッタはその一端側が弁室内の弁体退入部において
折り返されてゲートバルブ開閉手段に接続され、弁体の
進出に連動してシール面より離脱して退入し、弁体の退
入に連動して進出してシール面を被覆するよう構成する
のが好ましい。なお、上記の「一端がゲ−トバルブ開閉
手段に接続され、」の意味は「シャッタの一端が直接ゲ
−トバルブ開閉手段に接続された」に限定されるもので
はない。シャッタとゲ−トバルブ開閉手段とを継ぐ継手
部品や、場合によっては開閉手段に接続している弁体を
介して接続されるものも含んでいる。
【０００９】第二の手段として、閉成時には進出してシ
ール面を覆い開成時にはシール面から離脱して退入する
弁体と、この弁体を進退させるゲートバルブ開閉手段と
を具備する真空プロセス装置用ゲートバルブにおいて、
弁体の開成時にシール面を被覆し、弁体の閉動に先立っ
て立てる方向に回動離脱する保護部材を具備したことを
特徴とする真空プロセス装置用ゲートバルブを提供す
る。
ール面を覆い開成時にはシール面から離脱して退入する
弁体と、この弁体を進退させるゲートバルブ開閉手段と
を具備する真空プロセス装置用ゲートバルブにおいて、
弁体の開成時にシール面を被覆し、弁体の閉動に先立っ
て立てる方向に回動離脱する保護部材を具備したことを
特徴とする真空プロセス装置用ゲートバルブを提供す
る。
【００１０】
【作用】第一の手段によれば、弁体の閉成時にシャッタ
が折り曲げ状に進退するので、大きな収容部を要しな
い。また、弁体が開いているときもシール面を被覆して
いるので、例えばイオンビーム照射時でも、シール面を
汚染することはない。
が折り曲げ状に進退するので、大きな収容部を要しな
い。また、弁体が開いているときもシール面を被覆して
いるので、例えばイオンビーム照射時でも、シール面を
汚染することはない。
【００１１】第二の手段によれば、シール面を被覆する
保護部材を閉成時に立てる方向に回動離脱させるので、
シ−ル面の保護部のないゲ−トバルブに比較して奥行
（図面左右方向）は大きくなる場合があるが、弁体の進
退方向（図面の上下方向）への大きくなり方は図７に示
す従来技術例よりは小さく、弁体が開いているときもシ
ール面を被覆しているので、イオンビーム照射時でも、
シール面を汚染することがない。
保護部材を閉成時に立てる方向に回動離脱させるので、
シ−ル面の保護部のないゲ−トバルブに比較して奥行
（図面左右方向）は大きくなる場合があるが、弁体の進
退方向（図面の上下方向）への大きくなり方は図７に示
す従来技術例よりは小さく、弁体が開いているときもシ
ール面を被覆しているので、イオンビーム照射時でも、
シール面を汚染することがない。
【００１２】
【実施例１】本発明の第一の手段による真空プロセス装
置用ゲートバルブを図１、図２、図３、図４から説明す
る。図１は真空プロセス装置用ゲートバルブの開成時の
断面図、図２は図１のＡ−Ａの断面図、図３は図１のゲ
ートバルブ閉成時の断面図、図６は図５のＡ−Ａの断面
図を示す。２１は内部に弁室２１ａを有するゲートバル
ブで、２２は弁室２１ａと試料室２３を開口部２３ａで
気密に分離する弁室内面２１ｂのシール面である。２４
は閉成時には進出してシール面２２を覆い、気密に密閉
するＯリング２４ａを環状溝２４ｂに有し、開成時には
シール面２２から離脱して退入部２１ｃに退入する弁体
である。２５は弁体２４を進退させるゲートバルブ開閉
手段で、弁室２１ａの外部に配置したゲートバルブ駆動
用シリンダ２５ｃと、それに接続して弁室２１ａ内に配
した弁体保持構体２５ａと、この弁体保持構体２５ａ
と、弁体２４を接続する弁体継手２５ｂとよりなる。弁
体２４は弁室内面２１ｂ側部に設けたレール（図示せ
ず）に沿って移動する。２６は試料室２３の対向位置に
あるイオンビームの入り口である。２７は開成時にシー
ル面２２を被覆するフレキシブルな板状のシャッタで、
一端をゲートバルブ開閉手段２５の弁体保持構体２５ａ
のシリンダ２５ｃ（図面上部）との接続側に接続し、弁
室内面２１ｂに沿って折り曲げ状であって可動状態に装
着され、弁体２４の進退動作に連動して弁体２４の退入
時に弁室内面２１ｂに内接状態にシール面２２を被覆
し、弁体２４の進出時にシール面２２より離脱し、他端
側も弁体の退入部２１ｃに入る。２８は開口部２３ａと
シャッタ開口部２７ａが一致するようにシャッタ２７の
位置を決めるシャッタ固定部材である。シャッタ固定部
材２８はシャッタ２７の側端部およびシャッタ２７の進
出時の先端部の位置決めと、シャッタの一面を弁室内面
２１ｂに接触させる押さえの働きをする一端側を弁室内
面２１ｂ内面に固定したＬ字系のレールである。
置用ゲートバルブを図１、図２、図３、図４から説明す
る。図１は真空プロセス装置用ゲートバルブの開成時の
断面図、図２は図１のＡ−Ａの断面図、図３は図１のゲ
ートバルブ閉成時の断面図、図６は図５のＡ−Ａの断面
図を示す。２１は内部に弁室２１ａを有するゲートバル
ブで、２２は弁室２１ａと試料室２３を開口部２３ａで
気密に分離する弁室内面２１ｂのシール面である。２４
は閉成時には進出してシール面２２を覆い、気密に密閉
するＯリング２４ａを環状溝２４ｂに有し、開成時には
シール面２２から離脱して退入部２１ｃに退入する弁体
である。２５は弁体２４を進退させるゲートバルブ開閉
手段で、弁室２１ａの外部に配置したゲートバルブ駆動
用シリンダ２５ｃと、それに接続して弁室２１ａ内に配
した弁体保持構体２５ａと、この弁体保持構体２５ａ
と、弁体２４を接続する弁体継手２５ｂとよりなる。弁
体２４は弁室内面２１ｂ側部に設けたレール（図示せ
ず）に沿って移動する。２６は試料室２３の対向位置に
あるイオンビームの入り口である。２７は開成時にシー
ル面２２を被覆するフレキシブルな板状のシャッタで、
一端をゲートバルブ開閉手段２５の弁体保持構体２５ａ
のシリンダ２５ｃ（図面上部）との接続側に接続し、弁
室内面２１ｂに沿って折り曲げ状であって可動状態に装
着され、弁体２４の進退動作に連動して弁体２４の退入
時に弁室内面２１ｂに内接状態にシール面２２を被覆
し、弁体２４の進出時にシール面２２より離脱し、他端
側も弁体の退入部２１ｃに入る。２８は開口部２３ａと
シャッタ開口部２７ａが一致するようにシャッタ２７の
位置を決めるシャッタ固定部材である。シャッタ固定部
材２８はシャッタ２７の側端部およびシャッタ２７の進
出時の先端部の位置決めと、シャッタの一面を弁室内面
２１ｂに接触させる押さえの働きをする一端側を弁室内
面２１ｂ内面に固定したＬ字系のレールである。
【００１３】この動作を以下に説明する。まずゲートバ
ルブ２１の閉じ方、即ち図１、図２の状態から図３、図
４の状態への動作を説明する。ゲートバルブ駆動用シリ
ンダ２５ｃで弁体保持機構２５ａを進出させ、それに伴
ってシャッタ２７の一端側は進出し、他端側はシール面
２２を離脱し退入部２１ｃに収容される。この動作と同
時に弁体２４が弁室内面２１ｂ側部のレール（図示せ
ず）に沿って進出し、シール面２２にＯリング２４ａを
押しつけ開口部２３ａを密閉する。
ルブ２１の閉じ方、即ち図１、図２の状態から図３、図
４の状態への動作を説明する。ゲートバルブ駆動用シリ
ンダ２５ｃで弁体保持機構２５ａを進出させ、それに伴
ってシャッタ２７の一端側は進出し、他端側はシール面
２２を離脱し退入部２１ｃに収容される。この動作と同
時に弁体２４が弁室内面２１ｂ側部のレール（図示せ
ず）に沿って進出し、シール面２２にＯリング２４ａを
押しつけ開口部２３ａを密閉する。
【００１４】つぎにゲートバルブの開け方を以下に説明
する。すなわち図３、図４の状態から図１、図２の状態
への動作を説明する。ゲートバルブ駆動用シリンダ２５
ｃにより弁室２１ａの弁体保持構体２５ａを退入させ、
それに伴って弁体継手２５ｂを経由して弁体２４を弁室
内面２１ａ側部のレール（図示せず）に沿ってＯリング
２４ａとともにシール面２２から離脱させ、退入部２１
ｃに収容する。弁体保持構体２５ａの退入に伴ってシャ
ッタ２７の一端側も退入し、他端側は進出（図面の下
側）し、シール面２２を被覆し、開口部２３ａとシャッ
タ開口部２７ａが重なる。
する。すなわち図３、図４の状態から図１、図２の状態
への動作を説明する。ゲートバルブ駆動用シリンダ２５
ｃにより弁室２１ａの弁体保持構体２５ａを退入させ、
それに伴って弁体継手２５ｂを経由して弁体２４を弁室
内面２１ａ側部のレール（図示せず）に沿ってＯリング
２４ａとともにシール面２２から離脱させ、退入部２１
ｃに収容する。弁体保持構体２５ａの退入に伴ってシャ
ッタ２７の一端側も退入し、他端側は進出（図面の下
側）し、シール面２２を被覆し、開口部２３ａとシャッ
タ開口部２７ａが重なる。
【００１５】この状態でイオンビーム入り口２６からイ
オンビームを開口部２３ａを経由して試料室２３へ照射
する。このためイオンビームがシール面２２を照射し汚
染することはない。したがって、シール面２２の汚染に
よる弁体２４とシール面２２の密閉が害なわれることは
ない。
オンビームを開口部２３ａを経由して試料室２３へ照射
する。このためイオンビームがシール面２２を照射し汚
染することはない。したがって、シール面２２の汚染に
よる弁体２４とシール面２２の密閉が害なわれることは
ない。
【００１６】この実施例によれば、シャッタ２７は弁体
２４が収容される退入部２１ｃに収容されるので、図７
に示す従来のゲ−トバルブのように、シ−ル面２２を保
護する保護体のために特別な収容部を設ける必要がない
ので、弁体の進退方向を小さくでき、しかもシ−ル面２
２への異物付着による気密不良を防止する。
２４が収容される退入部２１ｃに収容されるので、図７
に示す従来のゲ−トバルブのように、シ−ル面２２を保
護する保護体のために特別な収容部を設ける必要がない
ので、弁体の進退方向を小さくでき、しかもシ−ル面２
２への異物付着による気密不良を防止する。
【００１７】上記実施例においては、シャッタ２７の一
端を弁体保持構体２５ａのゲ−トバルブ駆動用シリンダ
２５ｃとの接続点側に接続したが、弁体保持構体２５ａ
の先端側に接続し、シャッタ２７の他端側が折り曲げ状
にスライドするように構成してもよい。シャッタ２７は
弁体と同一方向にスライドするがフレキシブルで折り曲
げ状に配置するので図７に示す従来のゲ−トバルブのよ
うに大きなシャッタ２７の収容部を設ける必要がなく、
収容部は小さくできる。
端を弁体保持構体２５ａのゲ−トバルブ駆動用シリンダ
２５ｃとの接続点側に接続したが、弁体保持構体２５ａ
の先端側に接続し、シャッタ２７の他端側が折り曲げ状
にスライドするように構成してもよい。シャッタ２７は
弁体と同一方向にスライドするがフレキシブルで折り曲
げ状に配置するので図７に示す従来のゲ−トバルブのよ
うに大きなシャッタ２７の収容部を設ける必要がなく、
収容部は小さくできる。
【００１８】
【実施例２】本発明の第二の手段による真空プロセス装
置用ゲートバルブを図５の開成時の断面図、図６の閉成
時の断面図を用いて説明する。１１は内部に弁室１１ａ
を有するゲートバルブで、１２は弁室１１ａと試料室１
３を開口部１３ａで気密に分離する弁室内面１１ｂのシ
ール面で、１４は閉成時には進出してシール面１２を被
覆し気密に密閉するＯリング１４ａを環状溝１４ｂに有
し、開成時にはシール面１２から離脱して退入する弁体
である。１５は弁体１４を進退させるゲートバルブ開閉
手段で、弁室１１ａの外部に配置したゲートバルブ駆動
用シリンダ１５ｃと、弁室１１ａ内でそれに接続する弁
体保持構体１５ａと、この弁体保持構体１５ａと弁体１
４とを接続する弁体継手１５ｂとでなる。弁体１４は弁
室内面１１ｂ側部に設けたレール（図示せず）に沿って
移動する。１６は試料室１３の対向位置にあるイオンビ
ームの入り口である。１８は弁体１４の開成時にシール
面１２を被覆し、弁体１４の閉動に先立って立てる方向
に回動離脱する保護部材で、１９は移動用腕１９ａ、ベ
ローズ１９ｂ、保護部材駆動用シリンダ１９ｃおよび固
定ピン１９ｄから成る保護部材開閉手段で、保護部材１
８の一端を移動用腕１９ａに接続し、弁室１１ａの外部
に真空を保持するベローズ１９ｂを介して配設した保護
部材駆動シリンダ１９ｃで固定ピン１９ｄを固定点にし
て駆動し、保護部材１８の略中央には保護部材１８を閉
じたときに開口部１３ａと重なる位置に開口部１３ａの
径よりやや小さい径の透孔１８ａを有する。
置用ゲートバルブを図５の開成時の断面図、図６の閉成
時の断面図を用いて説明する。１１は内部に弁室１１ａ
を有するゲートバルブで、１２は弁室１１ａと試料室１
３を開口部１３ａで気密に分離する弁室内面１１ｂのシ
ール面で、１４は閉成時には進出してシール面１２を被
覆し気密に密閉するＯリング１４ａを環状溝１４ｂに有
し、開成時にはシール面１２から離脱して退入する弁体
である。１５は弁体１４を進退させるゲートバルブ開閉
手段で、弁室１１ａの外部に配置したゲートバルブ駆動
用シリンダ１５ｃと、弁室１１ａ内でそれに接続する弁
体保持構体１５ａと、この弁体保持構体１５ａと弁体１
４とを接続する弁体継手１５ｂとでなる。弁体１４は弁
室内面１１ｂ側部に設けたレール（図示せず）に沿って
移動する。１６は試料室１３の対向位置にあるイオンビ
ームの入り口である。１８は弁体１４の開成時にシール
面１２を被覆し、弁体１４の閉動に先立って立てる方向
に回動離脱する保護部材で、１９は移動用腕１９ａ、ベ
ローズ１９ｂ、保護部材駆動用シリンダ１９ｃおよび固
定ピン１９ｄから成る保護部材開閉手段で、保護部材１
８の一端を移動用腕１９ａに接続し、弁室１１ａの外部
に真空を保持するベローズ１９ｂを介して配設した保護
部材駆動シリンダ１９ｃで固定ピン１９ｄを固定点にし
て駆動し、保護部材１８の略中央には保護部材１８を閉
じたときに開口部１３ａと重なる位置に開口部１３ａの
径よりやや小さい径の透孔１８ａを有する。
【００１９】この動作を以下に説明する。まずゲートバ
ルブ１１の閉じ方、即ち図５の状態から図６の状態への
動作を説明する。保護部材駆動用シリンダ１９ｃで固定
ピン１９ｄを支点として移動用腕１９ａを引き、保護部
材１８をシール面１２から回動離脱させ、開口部１３ａ
に対して立てる。つづいてゲートバルブ駆動用シリンダ
１５により弁室１１ａ内の弁体保持構体１５ａを進出さ
せ、それに伴って弁体継手１５ｂを経由して弁体１４を
弁室内面２１ｂ側部のレール（図示せず）に沿って移動
させ、シール面１２にＯリング１４ａを押しつけ開口部
１３ａを密閉する。次にゲートバルブ１１の開け方、即
ち図６の状態から図５の状態への動作を説明する。ゲー
トバルブ駆動用シリンダ１５により弁室１１ａ内の弁体
保持構体１５ａを退入させ、それに伴って弁体継手１５
ｂを経由して弁体１４を弁体内面１１ｂ側部のレールに
沿ってＯリング１４ａとともにゲートバルブシール面１
２から離脱させる。つづいて保護部材駆動シリンダ１９
ｃを固定ピン１９ｄを介して移動用腕１９ａを押し保護
部材１８がシール面１２を被覆する。このとき、透孔１
８ａを開口部１３ａに合っている。この状態でイオンビ
ーム入り口１６からイオンビームを開口部１３ａを経由
して試料室１３へ照射する。このためイオンビームがシ
ール面１２を照射し汚染することはない。したがって、
シール面１２の汚染による弁体１４とシール面１２の密
閉が害なわれることはない。
ルブ１１の閉じ方、即ち図５の状態から図６の状態への
動作を説明する。保護部材駆動用シリンダ１９ｃで固定
ピン１９ｄを支点として移動用腕１９ａを引き、保護部
材１８をシール面１２から回動離脱させ、開口部１３ａ
に対して立てる。つづいてゲートバルブ駆動用シリンダ
１５により弁室１１ａ内の弁体保持構体１５ａを進出さ
せ、それに伴って弁体継手１５ｂを経由して弁体１４を
弁室内面２１ｂ側部のレール（図示せず）に沿って移動
させ、シール面１２にＯリング１４ａを押しつけ開口部
１３ａを密閉する。次にゲートバルブ１１の開け方、即
ち図６の状態から図５の状態への動作を説明する。ゲー
トバルブ駆動用シリンダ１５により弁室１１ａ内の弁体
保持構体１５ａを退入させ、それに伴って弁体継手１５
ｂを経由して弁体１４を弁体内面１１ｂ側部のレールに
沿ってＯリング１４ａとともにゲートバルブシール面１
２から離脱させる。つづいて保護部材駆動シリンダ１９
ｃを固定ピン１９ｄを介して移動用腕１９ａを押し保護
部材１８がシール面１２を被覆する。このとき、透孔１
８ａを開口部１３ａに合っている。この状態でイオンビ
ーム入り口１６からイオンビームを開口部１３ａを経由
して試料室１３へ照射する。このためイオンビームがシ
ール面１２を照射し汚染することはない。したがって、
シール面１２の汚染による弁体１４とシール面１２の密
閉が害なわれることはない。
【００２０】この方法は、ゲートバルブの奥行（図面左
右方向）が長くなるが、開口部１３ａが小さい場合には
保護部材１８が短くなり奥行（図面左右方向）を長くす
る必要がない。本実施例よれば保護部材１８は立つ方向
に回動離脱するので図７に示す従来のゲ−トバルブのよ
うに保護部材の収容のためのスペ−スを弁体１４の進退
方向に要しない。上記実施例においてはいずれもイオン
ビ−ムが通過するゲ−トバルブを例に説明したが、蒸着
機等に用いて、蒸着物質のビ−ムが通過するものであっ
ても同様な効果がある。
右方向）が長くなるが、開口部１３ａが小さい場合には
保護部材１８が短くなり奥行（図面左右方向）を長くす
る必要がない。本実施例よれば保護部材１８は立つ方向
に回動離脱するので図７に示す従来のゲ−トバルブのよ
うに保護部材の収容のためのスペ−スを弁体１４の進退
方向に要しない。上記実施例においてはいずれもイオン
ビ−ムが通過するゲ−トバルブを例に説明したが、蒸着
機等に用いて、蒸着物質のビ−ムが通過するものであっ
ても同様な効果がある。
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、弁体の進退動作に連動
して、シール面を離脱、被覆するシャッタを折り曲げ状
に配置したので弁体の進退方向に大きくすることはなく
シ−ル面の保護が行なえる。また開成時にシール面を被
覆し、弁体の閉動に先立って立てる方向に回動離脱する
保護部材を具備したので、弁体の進退方向に大きくする
ことなくシ−ル面の保護を行なうことができる。
して、シール面を離脱、被覆するシャッタを折り曲げ状
に配置したので弁体の進退方向に大きくすることはなく
シ−ル面の保護が行なえる。また開成時にシール面を被
覆し、弁体の閉動に先立って立てる方向に回動離脱する
保護部材を具備したので、弁体の進退方向に大きくする
ことなくシ−ル面の保護を行なうことができる。
【図１】 本発明の一例のゲートバルブの開成時の断面
図
図
【図２】 図１のＡ−Ａ線の断面図
【図３】 図１のゲートバルブの閉成時の断面図
【図４】 図３のＡ−Ａ線の断面図
【図５】 本発明の他の例のゲートバルブの開成時の断
面図
面図
【図６】 図５のゲートバルブの閉成時の断面図
【図７】 従来のゲートバルブの開成時の断面図
【図８】 図７のゲートバルブの閉成時の断面図
１１ｂ，２１ｂ 弁室内面 １２，２２ シール面 １４，２４ 弁体 １５，２５ ゲートバルブ開閉手段 １５ａ，２５ａ 弁体保持構体 １５ｂ，２５ｂ 弁体継手 １５ｃ，２５ｃ ゲートバルブ駆動用シリンダ １８ 保護部材 ２７ シャッタ
Claims (3)
- 【請求項１】閉成時には進出してシール面を覆い開成時
にはシール面から離脱して退入する弁体と、この弁体を
進退させるゲートバルブ開閉手段とを具備する真空プロ
セス装置用ゲートバルブにおいて、 一端が前記ゲートバルブ開閉手段に接続され、前記弁体
の進退動作に連動して前記弁体の進出時には前記シール
面より離脱し、前記弁体の退入時には前記シール面を被
覆するフレキシブルな板状のシャッタを有し、前記シャ
ッタは折り曲げ状であって可動状態に装着されているこ
とを特徴とする真空プロセス装置用ゲートバルブ。 - 【請求項２】前記シャッタの一端側が弁室内の弁体の退
入部において折り返されて前記ゲートバルブ開閉手段に
接続され、弁体の進出に連動してシール面より離脱して
退入し、弁体の退入に連動して進出してシール面を被覆
することを特徴とする請求項１に記載の真空プロセス装
置用ゲートバルブ。 - 【請求項３】閉成時には進出してシール面を覆い開成時
にはシール面から離脱して退入する弁体と、この弁体を
進退させるゲートバルブ開閉手段とを具備する真空プロ
セス装置用ゲートバルブにおいて、 前記弁体の開成時に前記シール面を被覆し、弁体の閉動
に先立って立てる方向に回動離脱する保護部材を具備し
たことを特徴とする真空プロセス装置用ゲートバルブ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8991495A JPH08285133A (ja) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | 真空プロセス装置用ゲートバルブ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8991495A JPH08285133A (ja) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | 真空プロセス装置用ゲートバルブ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08285133A true JPH08285133A (ja) | 1996-11-01 |
Family
ID=13983987
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8991495A Pending JPH08285133A (ja) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | 真空プロセス装置用ゲートバルブ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08285133A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001081800A3 (en) * | 2000-04-25 | 2002-02-28 | Varian Semiconductor Equipment | Method and apparatus for shielding a valve gate and other valve parts |
| WO2005004219A1 (ja) * | 2003-07-03 | 2005-01-13 | Tokyo Electron Limited | 減圧処理装置及び減圧処理方法並びに圧力調整バルブ |
| JP2010203585A (ja) * | 2009-03-05 | 2010-09-16 | Smc Corp | 真空バルブ |
| JP2011512639A (ja) * | 2008-02-20 | 2011-04-21 | バリアン・インコーポレイテッド | 真空システム用のシャッタおよびゲートバルブアセンブリ |
| TWI449856B (zh) * | 2011-12-08 | 2014-08-21 | Mfc Sealing Technology Co Ltd | Sealed module |
| JP2016121381A (ja) * | 2014-12-25 | 2016-07-07 | 株式会社島津製作所 | 成膜装置 |
| CN112413151A (zh) * | 2019-08-21 | 2021-02-26 | 佳能特机株式会社 | 阀装置以及成膜装置 |
| US20220359184A1 (en) * | 2021-05-06 | 2022-11-10 | Nissin Ion Equipment Co., Ltd. | Ion beam irradiation apparatus |
-
1995
- 1995-04-17 JP JP8991495A patent/JPH08285133A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001081800A3 (en) * | 2000-04-25 | 2002-02-28 | Varian Semiconductor Equipment | Method and apparatus for shielding a valve gate and other valve parts |
| US6448567B1 (en) | 2000-04-25 | 2002-09-10 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Method and apparatus for shielding a valve gate and other valve parts |
| WO2005004219A1 (ja) * | 2003-07-03 | 2005-01-13 | Tokyo Electron Limited | 減圧処理装置及び減圧処理方法並びに圧力調整バルブ |
| US8051870B2 (en) | 2003-07-03 | 2011-11-08 | Tokyo Electron Limited | Pressure reduction process device, pressure reduction process method, and pressure regulation valve |
| JP2011512639A (ja) * | 2008-02-20 | 2011-04-21 | バリアン・インコーポレイテッド | 真空システム用のシャッタおよびゲートバルブアセンブリ |
| JP2010203585A (ja) * | 2009-03-05 | 2010-09-16 | Smc Corp | 真空バルブ |
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| CN112413151A (zh) * | 2019-08-21 | 2021-02-26 | 佳能特机株式会社 | 阀装置以及成膜装置 |
| CN112413151B (zh) * | 2019-08-21 | 2023-12-01 | 佳能特机株式会社 | 阀装置以及成膜装置 |
| US20220359184A1 (en) * | 2021-05-06 | 2022-11-10 | Nissin Ion Equipment Co., Ltd. | Ion beam irradiation apparatus |
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