WO2005004228A1

WO2005004228A1 - 処理装置

Info

Publication number: WO2005004228A1
Application number: PCT/JP2004/009152
Authority: WO
Inventors: Katsuhiko Oyama; Shinya Mochiduki; Yasushi Takeuchi
Original assignee: Tokyo Electron Limited
Priority date: 2003-07-03
Filing date: 2004-06-29
Publication date: 2005-01-13
Also published as: TW200512139A; US20070110548A1; KR20060026851A; KR100850815B1; JP2005026513A

Abstract

　本発明は、被処理体を気密に収納する蓋体付きの収納容器が搬送される外部空間領域と、収納容器から取り出された被処理体が搬送される内部空間領域と、を区画する隔壁と、前記隔壁に設けられ、前記２つの空間領域を連通させる開口部と、前記開口部を閉塞することが可能なドア機構と、前記ドア機構に設けられ、前記ドア機構が前記開口部を閉塞している状態で、外部空間領域内の所定位置に置かれる処理容器の蓋体を開閉可能な蓋体開閉機構と、前記蓋体開閉機構を、前記ドア機構に対して相対的に、前記処理容器に対して離接する方向に移動させる駆動手段と、前記ドア機構において、前記駆動手段を収容する駆動手段配置室を区画するカバー部材と、前記駆動手段配置室内を排気する排気機構と、を備えたことを特徴とする被処理体の処理装置である。

Description

技術分野

[0001] 本発明は、例えば、密閉型の収納容器内から被処理体を取り出して所定の処理を行う処理装置に関する。

背景技術

[0002] 例えば、半導体製造装置の一つとして、多数枚の半導体ウェハ（以下、単に「ゥェ明

ハ」という。）に対してバッチ単位で熱処理を行う熱処理装置がある。この熱処理装置田

は、複数枚のウェハを収納する収納容器であるキャリアが自動搬送ロボットまたはォペレータにより搬入搬出される搬入搬出エリアと、収納容器内のウェハが基板保持具であるウェハボートに移載されて熱処理炉へ搬入搬出されるローデイングエリアと、を備えている。

[0003] このような熱処理装置では、ローデイングエリアの雰囲気が搬入搬出エリアの雰囲気よりも高いクリーン度に維持される。また、ウェハ上に自然酸化膜が発生 (付着)することを防止するために、大気側の搬入搬出エリアとローデイングエリアとは隔壁で仕切られ、例えば、ローデイングエリア内が不活性ガス例えば窒素（N )ガスで満たされ

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た雰囲気または清浄乾燥空気で満たされた雰囲気とされている。

[0004] また、ウェハがパーティクルによって汚染されることを抑えるために、収納容器本体の前面のウェハ取り出し口が蓋で密閉されてレ、る密閉型の収納容器 (クローズ型キヤリアとも呼ばれている）が好適に用いられている（図 1参照）。

[0005] 図 10は、従来の熱処理装置の一例におけるドア機構の構成を示す断面図である。

図 10は、密閉型のキャリアが搬入搬出エリア S1とローデイングエリア S2とを区画する隔壁 100に当接された状態を示している。

[0006] 隔壁 100には、搬入搬出エリア S1とローデイングエリア S2とを連通させる開口部 10

1が形成されている。開口部 101を開閉する扉 102は、キャリアの蓋体を開閉する蓋体開閉機構 103を備えている。

[0007] キャリア 120は、被処理体である複数枚のウェハ Wを内部に収納可能である。キヤリァ 120のキャリア本体 121の一面には、取り出し口 122が設けられている。取り出し口 122は、着脱可能に設けられた蓋体 123により閉塞されている。すなわち、キャリア 1 20は、密閉型のキャリアである。キャリア 120は、搬入搬出エリア S1に設けられた載置台 110上に載置される。その後、載置台 110が前進すると、キャリア 120の取り出し口 122の開口縁部が開口部 101の開口縁部に当接する。その後、蓋体 123が、蓋体開閉機構 103によってキャリア本体 121から取り外される。

[0008] より具体的には、扉 102が隔壁 100に当接されて開口部 101が閉塞された状態で、当該扉 102に設けられた蓋体開閉機構 103がキャリア 120の蓋体 123を開く。そして、キャリア 120内が例えば図示しない窒素ガス置換手段により窒素ガスで置換される。一方、蓋体 123を保持した蓋体開閉機構 103は、扉 102内において、駆動手段 104によって隔壁 100に対して後方に移動される。このように扉 102が蓋体 123等を収容した状態で、扉 102が退避される。ここで、扉 102は、例えば、前後軸 105に沿つて開口部 101より離間する方向に移動された後、上下軸 106に沿って例えば下方に移動されることにより、退避される。これにより、キャリア 120内とローデイングエリア S2の空間とが連通され、図示しないウェハ移載機構によって、キャリア 120内のゥェハ Wがローデイングエリア S2内に搬入される。

[0009] 上述したように、被処理体であるウェハ Wは、キャリア 120とローデイングエリア S2との間を移動される。ここで、ウェハ Wの搬送空間は、高いクリーン度の雰囲気に維持されること力 S必要である。

[0010] 従来より、キャリアの蓋体の開放あるいは扉の開放に伴うパーティクルの影響を抑制するための技術が、種々提案されている。

[0011] 例えば、特開 2000—150613号公報には、前面の開口部に着脱可能な蓋体を有し、内部に被処理体 (ウェハ）を収容する密閉容器 (キャリア）と、隔離された移載室（ローデイングエリア）内に前記密閉容器内のウェハを搬送した後に当該ウェハを処理室に搬入するウェハ移載機構と、が開示されている。そして、密閉容器の開口部に対向する移載室に、当該移載室と密閉容器との圧力差を低減する隔離室が設けられ、この隔離室内に前記密閉容器の蓋体を開閉する蓋開閉機構が設けられている。

[0012] また、特開 2002—093880号公報には、複数枚の半導体ウェハ（被処理体）を収納するカセット (密閉型のキャリア）を載置する載置部 (搬入搬出エリア）と、ゥ:

対して所定の処理を行う処理部（ローデイングエリア）と、載置部と処理部とを仕切り、かつ、載置部に載置されたカセットの開口に対応する位置に通過口が形成された隔壁と、処理部側に配置され、載置部に載置されたカセットの開口に開閉可能に設けられている蓋を通過口を介して開閉させるシャッター部材 (扉）と、シャッター部材を駆動するシャッター駆動機構 (扉開閉機構）と、を備え、シャッター部材は、蓋を保持するための保持部（蓋開閉機構）を有し、カセットの開口の周囲に対応する位置であつて保持部の周囲に吸引口が形成されている装置が開示されている。

[0013] 上記いずれの装置においても、ウェハを収納するキャリアが載置される外部空間領域内の空間とウェハに対して所定の処理を行うための内部空間領域内の空間とを連通させる際に、外部空間領域内のパーティクルが、キャリア内に侵入してウェハに付着したり、内部空間領域内の雰囲気に流入したりすることが抑制されて、ウェハの汚染が防止される。

[0014] し力ながら、上記のような技術を用いても、ウェハを収納するキャリアが載置される外部空間領域内の空間とウェハに対して所定の処理を行うための内部空間領域内の空間とを連通させる際に、ウェハに対するパーティクルによる影響の程度を十分に低減させることは困難であるのが実情である。

発明の要旨

[0015] 本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、密閉型の収納容器内に収納された被処理体を処理する処理装置であって、収納容器が載置される外部空間領域と例えば清浄雰囲気に維持される内部空間領域とを連通させる際に、外部空間領域のパーティクルが被処理体や内部空間領域に対して与え得る悪影響の程度を可及的に低減して、被処理体の汚染を確実に防止することができる処理装置を提供することを目的とする。

[0016] 本発明は、被処理体を気密に収納する蓋体付きの収納容器が搬送される外部空間領域と、収納容器から取り出された被処理体が搬送される内部空間領域と、を区画する隔壁と、前記隔壁に設けられ、前記 2つの空間領域を連通させる開口部と、前記開口部を閉塞することが可能なドア機構と、前記ドア機構に設けられ、前記ドア機構が前記開口部を閉塞している状態で、外部空間領域内の所定位置に置かれる処理容器の蓋体を開閉可能な蓋体開閉機構と、前記蓋体開閉機構を、前記ドア機構に対して相対的に、前記処理容器に対して離接する方向に移動させる駆動手段と、前記ドア機構において、前記駆動手段を収容する駆動手段配置室を区画するカバ一部材と、前記駆動手段配置室内を排気する排気機構と、を備えたことを特徴とする被処理体の処理装置である。

[0017] 本発明によれば、蓋体開閉機構を収納容器に対して離接する方向に移動させる駆動手段が、ドア機構により当該ドア機構と収納容器との間に形成されるドア機構内空間から隔離されて形成された駆動手段配置室内に配置されていると共に、駆動手段配置室内を排気する排気機構が設けられていることにより、収納容器の蓋体を開閉するに際しての駆動手段の動作に伴って塵埃が生じた場合であっても、当該塵埃が排気機構によって除去される。このため、塵埃がドア機構内空間に侵入して収納容器内の被処理体に付着することが確実に防止されると共に、ドア機構が開放された場合において内部空間領域の清浄雰囲気等が汚染されることが確実に防止される。その結果、被処理体に対する塵埃 (パーティクル）による悪影響の程度が小さく抑制され、所定の処理が行われた被処理体が高レ、清浄度を有することができる。

[0018] 好ましくは、前記開口部の内部空間領域側の端縁は、前記隔壁に対して傾斜した面を形成しており、前記ドア機構は、前記端縁と密着可能であると共に、前記隔壁の面方向に沿って移動可能になっている。

[0019] この場合、ドア機構の退避動作に伴って塵埃が生じるおそれが低減される。このため、被処理体あるいは内部空間領域の清浄雰囲気が塵埃によって汚染されることが一層確実に防止される。

[0020] また、好ましくは、前記開口部の外部空間領域側の端縁には、その全周にわたってシール部材が設けられており、前記蓋体開閉機構は、前記ドア機構が前記開口部を閉塞している状態において、前記駆動手段の作用により前記シール部材と気密に密着可能である。

[0021] この場合、収納容器が所定位置 (例えば載置台上）に存在しない場合においても、ドア機構内空間が外部空間領域の雰囲気に晒されることを防止することができる。このため、例えば外部空間領域に浮遊している塵埃がドア機構内空間に侵入することが確実に防止される。

[0022] 前記シール部材は、例えば、 Y字型の断面形状を有する部材である。

[0023] なお、キャリア内と内部空間領域の空間とがー気に連通される場合、キャリア内の圧力と内部空間領域内の圧力との圧力差に起因してドア機構内空間に存在する塵埃が舞い上がってしまい、収納容器内の被処理体に付着したり、内部空間領域内に混入したりする。従って、前記ドア機構は、当該ドア機構に対して一側の空間と他側の空間とを徐々に開放させることによって両空間の差圧を時間をかけて実質的に零とすることができる圧力調整機能を有してレ、ることが好ましレ、。

図面の簡単な説明

[0024] [図 1]は、密閉型の収納容器を、蓋体が外された状態において示す斜視図である。

[図 2]は、本発明の一実施の形態に係る縦型熱処理装置を示す斜視図である。

[図 3]は、図 2に示す縦型熱処理装置の内部の構成を示す縦断面図である。

[図 4]は、図 2に示す縦型熱処理装置の内部の構成を示す平面図である。

[図 5]は、隔壁に形成された開口部を開閉するドア機構の一例を、ウェハを収納するキャリアが隔壁に当接された状態において示す縦断面図である。

[図 6]は、図 5に示すドア機構の背面図である。

[図 7]は、キャリアの底部と第 2載置台における係合部材とが係合する様子を示す部分断面図である。

[図 8]は、ドア機構が上方側に退避されて、搬入搬出エリア内の空間とローデイングェリア内の空間とが連通された状態を示す図 5と同様の断面図である。

[図 9]は、キャリアが第 2載置台上に存在しない場合において隔壁の開口部がドア機構によって閉塞された状態を示す図 5と同様の断面図である。

[図 10]は、従来の熱処理装置の一例におけるドア機構の構成を、密閉型のキャリアが搬入搬出エリアとローデイングエリアとを区画する隔壁に当接された状態において示す断面図である。

発明を実施するための最良の形態

[0025] 本発明の処理装置では、被処理体を収納する密閉型の収納容器が所定の位置に載置され、その後、被処理体が収納容器から取り出され、清浄雰囲気に維持された内部空間領域に搬送され、所定の処理を受ける。

[0026] 被処理体を収納する収納容器としては、例えば図 1に示されているように、一面に取り出し口 11Aが開口するキャリア本体 11を有するキャリア 10が用いられる。取り出し口 11Aは、着脱可能に設けられた蓋体 12により塞がれている。キャリア 10は、例えば樹脂力、らなる。被処理体は、例えば直径 300mmのウェハ Wである。キャリア 10は、ウェハ Wの複数枚例えば 25枚を棚状に保持可能に構成されている。

[0027] キャリア 10の蓋体 12は、これを取り出し口 11Aに保持するための図示しないラッチ機構 (ロック機構)を有している。このラッチ機構が後述する蓋開閉機構によって解除されることにより、蓋体 12はキャリア本体 11から外され得る。

[0028] 図 1において、 13は、蓋開閉機構のロック解除部材が差し込まれて嵌合されてラッチ機構を解除するための鍵穴であり、 14は、キャリア 10の上面に隙間を介して設けられた四角形状のフランジ部であり、 15は、フランジ部 14の中央部に形成された断面円形状の凹部である。

[0029] 次いで、本発明の一実施の形態の縦型熱処理装置について詳細に説明する。

[0030] 図 2は、本実施の形態に係る縦型熱処理装置の外観を示す斜視図、図 3及び図 4 は、それぞれ、図 2に示す縦型熱処理装置の内部の構成を示す縦断面図及び平面図、図 5は、隔壁に形成された開口部を開閉するドア機構の一例における構成の概略を、ウェハを収納するキャリアが隔壁に当接された状態において示す縦断面図、図 6は、図 5に示すドア機構の背面図である。

[0031] 図 2乃至図 4において、 20は、処理装置の外装体を構成する筐体である。この筐体 20内には、隔壁 21によって、被処理体であるウェハ Wを収納する上述の密閉型のキャリア 10が搬送される外部空間領域である搬入搬出エリア S1と、キャリア 10内から取り出されたウェハ Wが搬送される内部空間領域であるローデイングエリア S2と、が区画されている。

[0032] 搬入搬出エリア S1の雰囲気は、例えば大気雰囲気、具体的には、熱処理装置が設置されるクリーンルームの環境雰囲気とされている。一方、ローデイングエリア S2の雰囲気は、搬入搬出エリア S1よりクリーン度が高い不活性ガス雰囲気、例えば窒素（ N )ガス雰囲気、又は清浄乾燥気体 (パーティクル及び有機成分が少なぐ露点 - 6

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0°C以下の空気）に維持されている。

[0033] 搬入搬出エリア S1は、熱処理装置の正面側に位置される第 1の搬送領域 S1Aと、奥側に位置される第 2の搬送領域 S1Bと、を有している。

[0034] 第 1の搬送領域 S1Aには、 2つの第 1載置台 22, 23が左右方向（図 4において上下方向）に並んだ位置に設けられている。これにより、キャリア 10がいずれの第 1載置台 22, 23上に載置される場合であっても、後述のキャリア搬送機構 31によって搬送可能である。

[0035] 各々の第 1載置台 22， 23の載置面には、キャリア 10の底部に設けられた凹部に嵌合して第 1載置台 22, 23上においてキャリア 10を位置決めするための位置決め用ピン 24が例えば 3個所に設けられている（図 2参照）。

[0036] また、筐体 20の前面側には、第 1載置台 22， 23の上方空間を囲むように上から見た断面形状がコの字型のパネル部 25が設けられてレ、る。パネル部 25で囲まれた領域は、クリーンルーム内の天井部に沿って移動する図示しない自動搬送ロボットと第 1載置台 22, 23との間で、キャリア 10の受け渡しをするための領域である。

[0037] 搬入搬出エリア S1における第 2の搬送領域 S1Bには、第 1載置台 22, 23の各々に対応する 2つの第 2載置台 26, 27が、第 1載置台 22, 23と前後方向に並んだ位置に設けられている。

[0038] 第 2載置台 26, 27は、後述のキャリア搬送機構 31によりキャリア 10が置かれる位置と、キャリア 10が隔壁 21に当接される位置と、の間で、例えばエアシリンダよりなる駆動部（図示せず）によって前後方向（図 4において左右方向）に進退可能に構成されている。

[0039] 第 2載置台 26, 27の各々の載置面にも、第 1載置台 22, 23と同様に、キャリア 10 を位置決めするための位置決め用ピン 28が 3個所に設けられている。また、第 2載置台 26, 27の各々の載置面には、図 7に示すように、キャリア 10の底面部の係合凹部 16に係合するカギ型の係合部材 29が設けられている。係合部材 29は、駆動部 29A によって、キャリア 10の係合凹部 16に係合する位置とその係合が解除される位置との間で、水平な軸の周りに回動可能に構成されてレ、る。 [0040] 第 2の搬送領域 SIBの上部には、キャリア 10を一時的に保管するキャリア保管部 3 0が設けられている。この例におけるキャリア保管部 30は、 2段 2列の棚により構成されている。

[0041] そして、第 2の搬送領域 S1Bには、キャリア 10を、第 1載置台 22, 23と第 2載置台 2 6, 27との間、並びに、第 2載置台 26, 27とキャリア保管部 30との間、及び、第 1載置台 22 , 23とキャリア保管部 30との間で搬送するキヤリァ搬送機構 31が設けられている。

[0042] キャリア搬送機構 31は、左右に伸びかつ昇降自在なガイド部 32と、ガイド部 32にガイドされながら左右に移動する移動部 33と、移動部 33に設けられ、キャリア 10の上面のフランジ部 14を保持してキャリア 10を水平方向に搬送する関節アーム 34と、を備えている。

[0043] ローデイングエリア S2には、下端が炉口として開口された縦型の熱処理炉 40が設けられている。熱処理炉 40の下方側には、多数枚のウェハ Wを棚状に保持する保持具であるウェハボート 41が、断熱部材 42を介してキャップ 43の上に載置されている。キャップ 43は、昇降機構 44の上に支持されている。この昇降機構 44により、ゥェハボート 41は熱処理炉 40に対して搬入あるいは搬出される。

[0044] ローデイングエリア S2には、ウェハボート 41と、第 2載置台 26, 27上のキャリア 10と、の間でウェハ Wを移載するウェハ移載機構 45が設けられている。ウェハ搬送機構 45は、左右に伸びるガイド機構 46に沿って移動すると共に鉛直軸の周りに回動可能な移動体 47に設けられた、複数例えば 5枚の進退自在なアーム 48として構成されている。

[0045] 搬入搬出エリア S1とローデイングエリア S2とを区画する隔壁 21には、開口部 21A 力第 2の載置台 26, 27の各々に対応した位置に形成されている。開口部 21Aは、第 2の載置台 26， 27に載置されたキャリア 10が当該隔壁 21に当接されているときに、キャリア 10内とローデイングエリア S2の空間とを連通可能である。開口部 21Aにおける搬入搬出エリア S1側の開口縁部には、キャリア 10、詳しくはキャリア 10の取り出し口 11Aの開口縁部、を気密に当接させるためのシール部材 50が当該開口縁部の全周にわたつて設けられてレ、る。 [0046] このシール部材 50は、例えば、断面形状が「Y」字型のパッキングにより構成されている。

[0047] また、隔壁 21における搬入搬出エリア S1側には、第 2載置台 26, 27に載置されたキャリア 10の上面を上方から押さえて蓋体 12を開閉する際にキャリア 10の姿勢を安定させる押さえ手段 55, 56が、第 2載置台 26, 27の各々に対応した位置に設けられている。

[0048] この実施の形態では、開口部 21Aの開口面力ウェハ Wの搬送方向に対して傾斜する状態で形成されている。具体的には、図 5に示すように、断面形状が略くさび形状の枠部材 60が隔壁 21に形成された開口に嵌合されることによって、傾斜開口面が形成されている。

[0049] また、隔壁 21の開口部 21Aにおける側縁部には、窒素ガス供給手段（図示せず）が設けられている。これにより、キャリア 10の蓋体 12が取り外された状態において、不活性ガス例えば窒素ガスが供給され、キャリア 10内の雰囲気が窒素ガス雰囲気に置換される。

[0050] 隔壁 21のローデイングエリア S2側には、開口部 21Aを開閉するドア機構 70が設けられている。ドア機構 70は、互いに横方向（図 6において左右方向）に並んだ位置において隔壁 21に沿って上下に伸びる 2つのガイド軸 65, 65の各々に移動可能に設けられた保持部材 66, 66によって保持されている。

[0051] ドア機構 70は、開口部 21Aの開口面に当接されてローデイングエリア S2と隔離された雰囲気調整用空間を形成する扉 71を有している。扉 71は、枠部材 60に設けられたシール部材 79を介して、開口部 21Aを気密に閉塞する。

[0052] キャリア 10の蓋体 12を開閉する蓋開閉機構 75が、扉 71内に設けられている。また、蓋体開閉機構 75をキャリア 10に対して離接する方向（図 5において左右方向）に移動させる駆動手段 76が、扉 71の下端部においてカバー部材 80によって区画されて形成された駆動手段配置室 81に配置されている。駆動手段配置室 81の上部区画壁には、蓋体開閉機構 75を支持する支持部材を案内する案内溝 81Aが形成されている。

[0053] 蓋体開閉機構 75は、外匣の外面に露出するよう設けられた、キャリア 10の蓋体 12 における鍵穴 13に嵌合するロック解除部材 77と、外匣内に設けられた、例えばエアシリンダーよりなる駆動手段 78と、を有している。ロック解除部材 77が蓋体 12の鍵穴 13に差し込まれて嵌合された状態において、当該ロック解除部材 77が駆動手段 78 の屈伸動作によって回動されることにより、キャリア本体 11に対する蓋体 12のロックが解除されるようになっている。

[0054] 蓋体開閉機構 75は、扉 71が閉じられて搬入搬出エリア S1とローデイングエリア S2 とが閉塞された状態において、駆動手段 76によって搬入搬出エリア S1側に前進されてキャリア 10の蓋体 12に当接される。この時、蓋体開閉機構 75は、隔壁 21に設けられたシール部材 50にも密着される。これにより、搬入搬出エリア S1とローデイングエリァ S2との間に高い気密性が確保される。そして、蓋体開閉機構 75は、キャリア 10内のウェハ Wをローデイングエリア S2に搬送するために、キャリア 10の蓋体 12を保持した後、開口部 21Aから離間する方向に移動される。これにより、蓋体 12が扉 71内に収容される。

[0055] ドア機構 70には、駆動手段配置室 81内および蓋体開閉機構 75の外匣内を排気する排気機構が設けられている。

[0056] 具体的には、排気機構は、駆動手段配置室 81の内部空間に開口する吸気ポート 8 6Aと、蓋体開閉機構 75の内部空間に開口する吸気ポート 86Bと、ドア機構 70の外部に設けられ、各々の吸気ポート 86A、 86Bに接続された共通の排気ポート 87と、処理装置の外部に設けられた例えばポンプ等の吸引手段（図示せず）と、を備えている。

[0057] また、このドア機構 70は、隔壁 21における開口部 21Aを開放するに際して、キヤリァ 10内の圧力とローデイングエリア S2の圧力との差圧が時間をかけて実質的に零となる状態となるよう圧力を調整する機能を有している。

[0058] 具体的には、扉 71の後壁に形成された開口 90に、フィルター 91を介してダンパー機構 92が設けられている。ダンパー機構 92の動作を制御して開口 90を徐々に開放することによって、扉 71内の圧力が調整される。例えば、蓋体 12が外されて窒素ガスがパージされた状態におけるキャリア 10内の圧力力 S19. 6 X 10⁴一 29. 4 X 10⁴ Pa (20— 30mAq)、ローデイングエリア S2内の圧力力 9 X 10⁴ 98 X 10⁴ Pa (50— lOOmAq)である場合、 1一 10秒間の時間をかけてキャリア 10内の圧力がローデイングエリア S2内の圧力と同一の大きさとなるよう調整される。

[0059] 以下、上記の縦型熱処理装置の動作について説明する。

先ず、クリーンノレームの天井部に沿って移動する図示しない自動搬送ロボットにより、キャリア 10がパネル部 25の内部空間を通って下降し、第 1載置台 22 (23)に載置される。その後、キャリア搬送機構 31により、キャリア 10が第 2載置台 26 (27)に搬送される。

[0060] 次いで、第 2載置台 26 (27)力隔壁 21側に移動される。これにより、キャリア 10の取り出し口 11Aの開口縁部が、隔壁 21の開口縁部にシール部材 50を介して気密に当接される。この状態において、押さえ手段 55 (56)が適宜の駆動手段によって駆動されて、横倒しの状態とされる。この時、押さえ手段 55 (56)における突起部（図示せず）がキャリア 10のフランジ部 14における凹部 15に嵌合されて、キャリア 2が上方から押さえ手段 55 (56)によって押圧された状態で固定される。

[0061] しかる後、ドア機構 70における排気機構が作動されて、蓋体開閉機構 75内および駆動手段配置室 81内の雰囲気が例えば 0. 01-0. lm³ /minの流量で排気される。この状態において、蓋体開閉機構 75によってキャリア 10の蓋体 12のロックが解除され、蓋体開閉機構 75が蓋体 12を保持しながら後退される。これにより、キャリア 1 0の内部空間が開放される。この状態において、ガス供給管から、例えば窒素ガスのような不活性ガスが水平にキャリア内に向けて、例えば 0. 05-0. 5m³ /minの流量で、供給される。これにより、キャリア 10内及び扉 71内の雰囲気力不活性ガスにより置換される。このとき、不活性ガスは比較的大量に導入されるため、キャリア 10内の圧力が上昇すると共に、ガス導入時の衝撃によりキャリア 10の開口縁部とシール部材 50との気密性が阻害される可能性がある。し力ながら、キャリア 10は上方から押さえ手段 55 (56)によって押さえられているので、実質上、キャリア 10の位置ずれが生じて気密が破られることはない。

[0062] その後、ダンパー機構 92が作動されて、キャリア 10内の圧力が時間をかけて徐々にローデイングエリア S2内の圧力と同一となるよう調整される。そして、図 8に示されているように、ドア機構 70は、ウェハ移載機構 45によるウェハ Wの移載動作を阻害しないよう、蓋体 12を保持した蓋体開閉機構 75を扉 71内に収容した状態で、隔壁 21 に沿って上方に移動されて開口部 21Aから退避される。これにより、キャリア 10内と口ーデイングエリア S2の空間とが連通される。

[0063] その後、ウェハ移載機構 45により、キャリア 10内のウェハ Wが順次取り出されてゥェハボート 41に移載される。ウェハ Wの移載が終了すると、上述と逆の動作が行われる。すなわち、開口部 21Aがドア機構 70によって気密に閉塞され、キャリア 10の蓋体 12が蓋体開閉機構 75によって閉じられ、押さえ手段 55 (56)による固定が解除され、第 2載置台 26 (27)が後退してキャリア 10が隔壁 21から離間され、キャリア搬送機構 31によりキャリア 10がキャリア保管部 30に搬送されて一時的に保管される。

[0064] 一方、ウェハボート 41に所定枚数のウェハ Wが搭載されると、ウェハボート 41は熱処理炉 40内に搬入される。熱処理炉 40は、ウェハ Wに対して所定の熱処理、例えば CVD、ァニール処理、酸化処理などを行う。その後、キャリア搬送機構 31によるキャリア 10のキャリア保管部 30から第 2載置台 26 (27)への搬送動作、蓋体開閉機構 7 5による蓋体開放動作、ドア機構 70の退避動作、および、ウェハ移載機構 45によるウェハの移載動作が順次に行われて、ウェハ Wがキャリア 10内に戻される。その後、蓋体開閉機構 75によって蓋体 12が閉じられ、キャリア 10が装置外部に搬送される。

[0065] 而して、上記構成の処理装置によれば、蓋体開閉機構 75の駆動手段 76が、ドア機構 70とキャリア 10との間に形成されるドア機構内空間（扉 71内の空間）から隔離された駆動手段配置室 81内に配置されていると共に、駆動手段配置室 81内を排気する排気機構が設けられていることにより、キャリア 10の蓋体 12を開閉するに際しての駆動手段 76の前後方向の摺動動作に伴って塵埃が生じた場合であっても、当該塵埃が吸気ポート 86Aを介して外部に排気されて除去される。また、蓋体開閉機構 75 による蓋体開閉動作に伴って生ずる塵埃についても、吸気ポート 86Bを介して外部に排気されて除去される。このため、塵埃がドア機構内空間に侵入してキャリア 10内のウェハ Wに付着することが確実に防止され得ると共に、ドア機構 70が開放された場合においてローデイングエリア S2の清浄雰囲気が汚染されることが確実に防止され得る。その結果、ウェハ Wに対する塵埃 (パーティクル）による悪影響の程度が小さく制御され得る。 [0066] また、この処理装置においては、駆動手段配置室 81を形成する上部区画壁に設けられた案内溝 81Aを介して、ドア機構内空間の空気も吸気ポート 86Aを介して排気される。このため、ウェハ Wに対する塵埃 (パーティクル）による悪影響の程度を可及的に小さく抑制することができる。

[0067] また、ドア機構 70が隔壁 21の面方向におけるいずれか一方向、図示の例では上方、に隔壁 21に沿って平行移動されて開口部 21Aから退避される構成とされていることにより、例えば図 10を用レ、て説明した従来のドア機構に比して、扉開閉動作に係る作動部（摺動個所）の数が減少され、ドア機構 70の退避動作に伴って塵埃が生じるおそれが低減される。このため、ウェハ Wあるいはローデイングエリア S2の清浄雰囲気が塵埃によって汚染されることを一層確実に防止することができる。

[0068] さらに、開口部 21Aの搬入搬出エリア S1側の開口縁部にシール部材 50が設けられており、開口部 21Aが閉塞された状態において、ドア機構 70に設けられた蓋体開閉機構 75が当該シール部材 50に密着して気密にシールされる構成とされていることにより、図 9に示されているように、キャリア 10が第 2載置台 26 (27)上に存在しない場合においても、ドア機構内空間が搬入搬出エリア S1の雰囲気に晒されることがなレ、。このため、例えば搬入搬出エリア S1に浮遊している塵埃がドア機構内空間に侵入することを確実に防止することができる。

[0069] また、キャリア 10内とローデイングエリア S2の空間とがー気に連通される場合、キヤリア 10内の圧力とローデイングエリア S2内の圧力との圧力差に起因してドア機構内空間に存在する塵埃が舞い上がってしまい、キャリア 10内のウェハ Wに付着したり、ローデイングエリア S2内に混入したりする。しかし、ドア機構 70に、ローデイングエリア S2内の圧力とキャリア 10内の圧力との圧力差が実質的に零となる状態となるよう時間をかけて圧力を調整するダンパー機構 92が設けられているため、前記問題が生ずることが確実に防止され、ウェハが汚染されることを確実に防止することができる。

[0070] 図 10に示されているドア機構を備えた熱処理装置において、直径 300mmのゥェハ Wに対して熱処理を行ったところ、 0. 16 z m以上のパーティクルの 1RUN当たりの増加数は 10個であった。これに対して、本発明に係る熱処理装置において、直径 300mmのウェハ Wに対して熱処理を行ったところ、 0. 1 μ m以上のパーティクルの 1RUN当たりの増加数は 2個であった。すなわち、本発明によれば、パーティクルによるウェハの汚染を確実に抑制することができる、とレ、うことが確認された。

[0071] 以上、本発明の実施形態について説明されたが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなぐ種々の変更を加えることができる。

[0072] 例えば、本発明は、縦型熱処理装置に限らず、枚葉式の熱処理装置、レジストの塗布または現像を行う装置、イオン注入装置など、被処理体に対して所定の処理を行う任意の装置に適用することができる。

[0073] また、ローデイングエリアの雰囲気は、不活性ガスに限らず、清浄乾燥空気であつてもよレ、。この場合には、キャリアが隔壁に当接された後、清浄乾燥空気がキャリア内に供給されて、キャリア内の雰囲気を清浄乾燥空気で置換するようにしてもよい。

[0074] また、本発明は、キャリアを搬送する領域と搬出する領域とが別々の場所に設けられる装置に対しても適用することができる。

[0075] さらに、上記実施形態において、ローデイングエリア内に、ドア機構の周囲をその退避方向が開放する状態で囲むように、吸引ダクトを設けることができる。この場合には、ドア機構の退避動作に伴って塵埃が生じた場合であっても、当該塵埃が吸引ダクトにより除去される。このため、パーティクルによるウェハやローデイングエリア内の清浄雰囲気に対する悪影響の程度が可及的に低減され、ウェハの汚染を確実に抑制すること力 Sできる。し力も、排気ポートに接続される例えばケーブルエアチューブ等を吸引ダクト内に収容することができる。この場合、ドア機構の退避動作に伴うケーブルェァチューブの移動に起因して塵埃等が生じる場合であっても、ウェハに対して悪影響を及ぼすことが確実に防止される。

Claims

請求の範囲

[1] 被処理体を気密に収納する蓋体付きの収納容器が搬送される外部空間領域と、収納容器から取り出された被処理体が搬送される内部空間領域と、を区画する隔壁と、前記隔壁に設けられ、前記 2つの空間領域を連通させる開口部と、

前記開口部を閉塞することが可能なドア機構と、

前記ドア機構に設けられ、前記ドア機構が前記開口部を閉塞している状態で、外部空間領域内の所定位置に置かれる処理容器の蓋体を開閉可能な蓋体開閉機構と、

前記蓋体開閉機構を、前記ドア機構に対して相対的に、前記処理容器に対して離接する方向に移動させる駆動手段と、

前記ドア機構において、前記駆動手段を収容する駆動手段配置室を区画するカバ一部材と、

前記駆動手段配置室内を排気する排気機構と、

を備えたことを特徴とする被処理体の処理装置。

[2] 前記開口部の内部空間領域側の端縁は、前記隔壁に対して傾斜した面を形成しており、

前記ドア機構は、前記端縁と密着可能であると共に、前記隔壁の面方向に沿って移動可能になっている

ことを特徴とする請求項 1に記載の処理装置。

[3] 前記開口部の外部空間領域側の端縁には、その全周にわたってシール部材が設けられており、

前記蓋体開閉機構は、前記ドア機構が前記開口部を閉塞している状態において、前記駆動手段の作用により前記シール部材と気密に密着可能である

ことを特徴とする請求項 1または 2に記載の処理装置。

[4] 前記シール部材は、 Y字型の断面形状を有する部材である

ことを特徴とする請求項 3に記載の処理装置。

[5] 前記ドア機構は、当該ドア機構に対して一側の空間と他側の空間とを徐々に開放させることによって両空間の差圧を時間をかけて実質的に零とすることができる圧力調整機能を有している

ことを特徴とする請求項 1乃至 4のいずれかに記載の処理装置 _c