JPS63503259A - 処理しようとする物品を収容する持ち運びできる容器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ボックスドア作動式の保持器 宣見艮方 本発明は、粒子汚染を減少するための標準化された機械的なインターフェイスシ ステムに係り、特に、粒子汚染を防止するために半導体処理装置に使用するのに 適したシール式容器を用いた装置に係る。

標準化された機械的なインターフェイス（ＳＭＩＦ）は、ウェハに向かう粒子フ ラックスを著しく減少することによって粒子汚染を低減するために提案されてい る。この目的は、ウェハの搬送、保管及び処理中に、ウェハを取り巻くガス状の 媒体（例えば、空気や窒素）がウェハに対して本質的に静止するように機械的に 確保すると共に、その環境の外部の雰囲気からの粒子がその近くの内部ウェハ環 境に入らないように確保することによって達成される。

粒子汚染の制御は、ＶＬＳＩ回路のコスト効率、高い収率及び有益な製造にとっ て欠かせないものである。設計上の規定により益々小さな線と空間が要求されて きていることにより。

粒子の数について益々厳しい制御を行なうと共に、より直径の小さい粒子を除去 することが必要である。

成る汚染粒子は、線間スペースに不完全なエツチングを生じさせ、不所望な電気 的ブリッジを招くことがある。このような物理的な欠陥に加えて、他の汚染粒子 は、ゲート絶縁物又は接合部にイオン化又はトラップの中心部を誘起することか ら電気的な欠陥を招く。

粒子汚染の主たる原因は、人間、装置及び化学的なものである０人間から発生し た粒子は、その環境を通して伝達されると共に、ウェハ表面との物理的な接触又 は表面上での移動によって伝達される０例えば、人間から皮膚の片が剥げ落ちた 時には、容易にイオン化されて欠陥を生じるような著しい粒子源となる。清潔な 室内衣類は粒子の発生を減少するが、これで粒子の発生が完全に抑制されるもの ではない。完全に装備したオペレータからでも１分当たり６０００もの粒子がそ れに隣接する１立方フイートの空間に放出されることが分かっている。

汚染粒子を制御するために、この業界では、ＨＥＰＡ及びＵＬＰＡ空気再循環シ ステムを有する非常レニ精巧な（そして高価な）清浄な部屋を作ろうとする傾向 にある。許容レベルの清浄度を得るためには、フィルタ効率が９９．９９９％で 且つ１分当たり１０回まで完全に空気を入れ替えることが要求される。

装置及び化学製品内の粒子は「プロセス欠陥」と称される。

これらのプロセス欠陥を最小にするために、プロセス装置の製造者は、機械で発 生した粒子がウェハに到達するのを防止しなければならず、そしてガス及び化学 液体の供給者は、きれいな製品を供給しなければならない。もっと重要なことは 、保管中運搬中及び処理装置への搬送中にウェハを粒子から効果的に分離するよ うにシステムを設計しなければならない、標準的な機械的インターフェイス（Ｓ ＭＩＦ）システムは、この目的を達成するために提案されたものである。

ＳＭＩＦの考え方は、粒子のない静止した少量の空気は、内部に粒子源がなけれ ば、ウェハにとって最も清潔な環境であるということを実現するものである。１ つの提案されたシステムの詳細が、１９８４年７月の「ソリッドステート・テク ノロジ」の第１１１−１１５頁に掲載されたミヘア・バリダ及びウルリッチ・ケ ンプ（Ｍｉｈｉｒ　Ｐａｒｉｋｈ　ａｎｄ　Ｕｌｒｉｃｈ　Ｋａｅｍｐｆ）著の 「ＳＭＩＦ：ＶＬＳＩＨ造におけるウェハカセット搬送技術（ＡＴＥＣＨＮＯＬ ＯＧＹ　ＦＯＲＷＡＦＥＲＣＡＳＳＥＴＴＥ　ＴＲＡＮＳＦＥＲＩＮ　ＶＬＳＩ 　ＭＡＮＬＩＦＡＣＴＵＲＩＮＧ）　Ｊと題する論文、及び参考特許出願に述べ られている。

この提案されたＳＭＩＦシステムは、３つの主たる要素を有している。即ち、（ １）最小容積の防塵ボックスがウェハカセットの保管及び搬送に用いられる。（ ２）処理装置のカセットポート上に天蓋が配置され、ボックス及び天蓋に内部の 環境が小さな清潔な空間とされる。（３）ボックスのドアは、装置の天蓋のイン ターフェイスポートに設けられたドアと嵌合するように設計され、これら２つの ドアは、外部ドアの表面にある粒子がドアとドアとの間に捕らえられる（サンド イッチされる）ように同時に開放される。

この提案されたＳＭＩＦシステムにおいては、天蓋の上部のインターフェイスポ ートにボックスが配置され、ラッチによってボックスのドアと天蓋ポートのドア とが同時に解除される。

機械的なエレベータは、カセットを上にのせた状態で２つのドアを天蓋で覆われ た空間に向かって下げる。マニュピレータがカセットを取り上げ、装置のカセッ トポート／エレベータに配置する。処理後に、反対の動作が行なわれる。

ＳＭＩＦシステムは、清潔な部屋の内部と外部の両方に原形のＳＭＩＦ部品を使 用した実験によって効果的であることが立証されている。このＳＭＩＦ形態では 、清潔な部屋の内部で従来のやり方でオーブンカセットを取り扱う場合よりも１ ０倍もの改善が得られている。

近代的な処理装置は、０．０１マイクロメータ以下がら２００マイクロメ一タ以 上までの粒子サイズに関連したものでなければならない、このようなサイ〆の粒 子は、半導体処理に大きなダメージを与える。今日の典型的な半導体プロセスで は、１マイクロメータ以下の幾何学寸法が用いられる。幾何学的寸法が０．１マ イクロメータより大きい不所望な汚染粒子は、１マイクロメータの幾何学的寸法 の半導体装置を著しく妨げる。

もちろん、半導体処理の幾何学寸法は、益々小さくなる傾向にある。

今日の典型的な処理環境においては、「清潔な部屋」が作られ、フィルタ及び他 の技術により、０．０３マイクロメ一タ以上の寸法を有する粒子を除去するよう な試みがなされている。

然し乍ら、処理環境を改善する要望がある。従来の「清潔な部屋」は、必要とさ れるほど粒子のない状態に保つことができない、従来の清潔な部屋を、０．０１ マイクロメータ以下のサイズの粒子がない状態に維持することは実質上不可能で ある。

このため、ＳＭＩＦのようなシステムが現在検討されている。然し乍ら、上記の 提案されたＳＭＩＦシステムは、完全に満足なものではない、この提案されたＳ ＭＩＦシステムは、カセットの転送中にボックスの内部と天蓋の内部との間に完 全なシール状態を維持することができない０両方のドアをラッチ及び解除する機 構は、カセットの転送を行なうに充分適したものではない、従って、改良された 機構が必要とされている。

上記の提案されたＳＭＩＦシステムは、幾つかの欠点がある。ＳＭＩＦボックス が汚染された時には、小さな汚染粒子を除去することが非常に困難である。とい うのは、小さな粒子が装置の表面に吸引する力が非常に強いからである。小さな 粒子は、ＳＭＩＦボックスのような表面に付着すると、フィルタ技術では効果的 に除去することができない、ボックス内で空気又は他のガスを循環及びフィルタ しても、表面に吸着して接触保持された汚染粒子は容易に除去することができな い。

ＳＭＩＦボックスのような物体が例えば衝突によって妨げられた場合には、多数 の小さな粒子が表面から遊離し、ボックス内に存在する半導体又は他の粒子に汚 染物として接近する。

又、ボックスシステムの可動部品は、表面が互いにこすれる時に汚染粒子を形成 する傾向がある。それ故、ボックス内でのウェハのような物体の移動を回避する か、さもなくば、部品同志がこすれないようにすることが所望される。

小さな粒子を装置及び表面から除去するために集塵及び洗浄技術が開発されてい るが、これらのプロセスは非常にやっかいで、然も、あまり効果がない、もしで きれば、汚染粒子を除去するのではなくてこれら粒子が発生しないようにするこ とが所望される。

上記の提案されたＳＭＩＦシステムは、多くの不所望な汚染粒子を除去するのに 成る程度効果的であるが、完全に効果的ではなく、改善が叫ばれている。

又匪例叉且 本発明は、半導体ウェハのような処理されるべき物品を清潔な状態に維持するた めのボックスのような搬送可能な容器に係る。ウェハ又は処理されるべき他の物 品はホルダに入れられる。堅固なベースがホルダを容器内に支持する。物品をホ ルダに保持するための保持装置が設けられている。堅固なベース及びホルダは、 容器から清潔な環境へと引っ込めることができ、これにより、物品を汚染せずに 処理することができる。ベースを引っ込めた時には、保持装置が物品から自動的 に引っ込められ、物品をホルダから取り外すことができる。

保持装置は、ボックスドアによってその移動方向に動がされる舌状部を備えてい る。この舌状部は、平行四辺形の支持体によって支持され、この支持体は、舌状 部を、これがボックスドアによって移動される時に、ボックスドアの移動方向に 対して直交する方向にも移動させる。この直交方向の移動により、ボックスドア が閉じる時には舌状部が物品を位置保持し、ボックスドアが開く時には物品を解 除する。

堅固なベースは、物品をボックスにシールするボックスドアとして働く、廃棄式 のライナーを含むボックスは、ウェハを、処理装置の天蓋の開口であるポートに 搬送するように使用される。このポートは、ボックス及びボックスドアを受け入 れると共に、ボックスドア及びボックスドアの中味を天蓋の下の領域に転送する ように用いられる。天蓋は、ボックスとでシールを形成する。天蓋の開口には、 ボックスが存在しない時にポートを閉じるためのポートドアが設けられている。

ボックスドアをボックスにラッチするためのボックスドアラッチが設けられてお り、このボックスドアラッチを操作することによりボックスドアとボックスとの 間でシールが形成されたり解除されたりする。ボックスを天蓋にラッチするため のボックスラッチも設けられており、このボックスラッチを操作することにより ボックスと天蓋との間にシールが形成されたり解除されたりする。

１つの特定の実施例においては、保持装置がフルオロプラスチック又は他のプラ スチックである。

本発明の別の実施例において、ボックスライナーには、カセット内のウェハに対 向したライナー壁の１つに舌状部が設けられている。このライナーの舌状部は、 保持装置とウェハ又は他の物品との間に配置される。このライナーの舌状部は、 保持装置の舌状部により閉じた位置に作動される。ライナー及び保持装置の舌状 部は、これらを閉じた時には、ウェハを位置保持しようとする。カセット及びウ ェハを取り出すためには、ボックスドアを開け、保持装置を引っ込める。ライナ ーにはスプリングループが形成されており、これは、保持装置の舌状部が引っ込 められた時にライナーの舌状部を引っ込めさせ、ウェハ及びカセットをボックス 及びライナーから引き出すことができるようにする。

本発明は、ボックスドアにより作動される保持装置を有していて、処理されるべ き物品を搬送するようにされた改良された容器を提供する。

本発明の更に別の目的及び特徴は、添付図面を参照した本発明の好ましい実施例 の以下の詳細な説明から明らかとなろう。

貫亘夙叉亀ｆｔｍ匪 第１図は、処理装置の付近に配置されたＳＭＩＦシステムの斜視図であり。

第２図は、第１図のＳＭＩＦシステム及び処理装置の概略図であり、 第３図は、第２図の装置のポート組立体の分解斜視図であり、 第４図は、保持装置を有するボックス及びポート組立体のだ位置において示した 図であり。

第５図は、第４図の装置の上面図であり、第６図は、第４図及び第５図の装置の 前面図で、ボックスドア及び保持装置を開いた位置において示した図でありそし て第７図は、廃棄式ライナーを有するボックスの別の実施例を示す上面図で、保 持装置の舌状部に並置されたライナーの１つの側壁にバネ作動式の舌状部が形成 されたところを示す図である。

３１１例− 第１図において、天蓋１０は、処理装置１５のウェハ取り扱い機構を覆う取り外 し容易なシールドである。装置１５は、ホトレジスト付着装置、マスク整列装置 、検査ステーション又は同様の処理装置である。天蓋１０は、その中の点検及び ／又は保守を容易にするためにレフサン（Ｌｅｘａｎ）のような透明プラスチッ クで構成される。天蓋１０は、処理装置１５の取り扱い機構を包囲する。ボック ス９０は、ウェハ８２を保持するウェハカセットの型式のホルダを処理装置１５ の天蓋１０の下におろすことができるように配置されている。

第２図は、第１図の装置を更に詳細に示している。ボックス９０は、天蓋取付は プレート５０により天蓋１０の水平面４０に取り付けられて、ボックスラッチ４ ５によって保持されている。ポート組立体２０は、更に、ボックスドア９９の形 態の堅固なベースと、ボートドア６ｏと、集積回路ウェハ８２を収容するカセッ ト８０をボックス９０から天ＭＩＯの下の領域に搬送するエレベータ機構７０と を備えている。ボックス９０は、ボックスライナー５及びベースライナー６を備 えている。ボックス及びポートのドアを下げた時には、ボックスライナー５はボ ックス内に保持されるが、ベースライナー６はボックスドアと共に下げられる。

第２図において、ポートドア６０及びボックスドア９９は破線によって閉じた位 置で示されておりそして実線によって開いた位置で示されている。移動組立体２ ９は。

プラットホーム２６と、シャフト係合手段７２と、駆動モータ２８とを備えてい る。

エレベータ組立体７０から延びているプラントホーム２６は、ボートドア６ｏ、 ボックスドア９９及びカセット８０を垂直方向に支持している。プラットホーム ２６は、係合手段７２によってエレベータ組立体７ｏの垂直ガイド７１に取り付 けられている。典型的に、ガイド７１は、リードスクリュー（図示せず）を備え ており、モータ２８は、このリードスクリューに係合するギヤ（図示せず）を駆 動して、プラットホーム２６を上又は下に駆動させる。プラットホーム２６が閉 じた位置に駆動された時には、ボートドア６０が天蓋１ｏのポート開口を閉じる 。

同様に、マニュピレータ組立体３０は、プラットホーム２７に固定されており、 これは、垂直シャフト組立体７１に係合するための係合手段７３を有している。

マニュピレータ３０は、マニュピレータアーム３１と、カセット３ｏに係合する ための係合ヘッド３２とを備えている。プラットホーム２６及び２７の垂直方向 の動作と、マニュピレータ３ｏの動作とにより、カセット８０は、ボックスドア ９９上の位置から装置ステーション１３（破線で示す）上の位置へと移動される 。

第３図には、ポート組立体２０の分解斜視図が更に詳細に示されている。ボック ス９０は、ポートプレート５０及びボートドア９９とで各々第１及び第２のシー ルを形成すべき第１領域１及び第２領域２を画成する。ボックス９０は、整列タ ブ３４を備えており、このタブは、ポートプレート５０の一部分を形成するガイ ドレール５５の整列開口４４によって受け入れられる。

第３図において、ボックスドア９９は、垂直壁９９−１及び水平！９９−２を有 している。垂直壁は、プラグ１６−１及び１６−３と各々整列された開口９７− １及び９６−１を有している。壁９９−１は、一般的に周囲を取り巻くように延 び、その一端は領域２で終わりそしてその他端は領域３で終わる。

典型的に、これらの領域２及び３は、領域２が１つの平面内に入りそして領域３ が領域２の平面と平行な別の平面内に入るように加工することができる。壁９９ −２は、壁９９−１に垂直に延びそしてその周囲が領域２によって閉じられる。

壁９９−２内で、その下面には円錐上のリセプタ５７−１及び５７−２があり、 これらは、ポートドア６０から突出する円錐部５６−１及び５６−２を受け入れ る整列円錐である。

第３図において、ポートプレート５０及びガイドレール５５は、ポート開口５８ を取り巻いている。ポート開口の周囲には、ガイドレール５５に隣接した表面４ ０上に領域１がある。

ポートプレート５０の領域１は、ボックス９０の領域１を受け入れる。又、ガイ ドレール５５は、ボックス９９からのタブ３４を受け入れるスロット開口４４を 有している。

第３図において、開口５８は、ボックスドア９９が成る程度の間隙距離をもって この開口をスライド移動するに十分な大きさである。互いに組み立てた時に、壁 ９９−１の下端である領域３は、開口５８まで延びて、ポートドア６０の立上っ た部分の周りの領域３と嵌合する。ポートドア６０の領域４は、ポートプレート ５０の領域４と嵌合して、第４のシールを形成するように設計されている。

ポートドア６０は、４つのアクチュエータピン１７−１．１７−２．１８−１及 び１８−２を備えている。これらのビンは、領域３の平面より上に延び、表面４ ０より上に延びて、ボックスドア９９の垂直壁９９−１に取り付けられたバネ１ ９−２のようなバネと整列される。

ボックス９０は、取付プレート５０の上面の領域１とで第１のシールを形成する 第１領域１を有している。ボックス９０は、ボックス９０とボックスドア９９と の間に第２シールを形成する第２領域２を有している。

ボックスドア９９は、ボックス９０とで第２のシールを形成する第２領域２と、 ポートドア６０とで第３のシールを形成する第３領域３とを備えている。ポート ドア６０は、取付プレート５０の第４領域とで第４のシールを形成する第４領域 を備えている。これら４つの領域１．２．３及び４は、ボックスの全周に延びて いて、ポート開口５８を包囲している。従って。

ボックス９０及び天蓋は、真空状態又は加圧状態にすることができる。

ポートドア９９は、開口９７−１を有する垂直壁９８を備えている。バネが壁９ ８の開口９７−１を通して延びていて、整列プラグ１６−１に係合する。バネ１ ９−１がプラグ１６−１に係合した時には、ボックスドア９９がボックス９０と 係合状態に保持され、領域２に良好なシールが形成される。第３図に示すように 、バネ１９−２は、プラグ１６−２に係合する。

バネ１９−２のようなバネは、バネの作用によって係合状態に保持される。これ らのバネを解離するために、ソレノイド及びアクチュエータアームが並進移動さ れる。これらバネの穴を通して接続する垂直ビン、例えば、バネ１９−２の穴を 通して接続する垂直ピン１８−１は、プラグ１６−１及び１６−２からバネを引 っ張るように働く、このように引っ張られると、ボックスドア９９は、ボックス ９０から分離することができる。

第４図には、カセット８０がボックス９０に完全に挿入された状態でボート組立 体２０が更に詳細に示されている。

ボックスドア９９及びポートドア６０は両方とも閉じられ、ボックス９０はポー トプレート５ｏと接触するようにラッチされでいる。この位置では、第４図のボ ート組立体は、全てのシール１．２，３及び４が閉じられている。

第４図のボート組立体は、カセット８０内にウェハ８２を保持するように機能す る保持装置８６を含んでいる。保持装置８６は、保持装置舌状部８７を含んでお り、この舌状部８７は、ウェハ８２の縁と接触しているか或いはウェハ８２の間 隙距離内にある。この閉じた位置では、舌状部８７は、全てのウェハを、矢印９ ４の方向に大幅には動かないようにする。カセット８０は、カセット８２を保持 し、それらのカセット８２が矢印９３の方向に大幅には動かないようにする。

保持装置８６は、舌状部８７に沿って延びるボックスドア部材８８を含んでおり 且つ凹所９２の領域でボックスドア９９と接触している。ドア部材８８には、１ つの平行四辺形アーム７６が取り付けられている。又、平行四辺形アーム７６に は、２つの側部平行四辺形アーム８３及び８４が取り付けられている。これらの ２つの側部平行四辺形アーム８３及び８４は、２つのずれた位置でボックス９０ に取り付けられており、これらが平行ｍ１辺ルアーム７７を形成する。アーム７ ６及び７７は、側部アーム８３及び８４と等しい長さである。アーム８３及び８ ４は、アーム７６と７７の両方に枢着接続されている。ボックスドア９９が開け られ矢印９３の方向に動いたときは、重力によって側部アーム８３及び８４を枢 着運動させることにより、部材８８も矢印９３の方向に下げられる。舌状部８７ は、アーム８３及び８４の枢着運動によって、矢印９３の方向だけでなく矢印９ ４の方向にも移動し、それによって、舌状部８７をウェハ８２から引っ込める。

舌状部８７は、ウェハ８２の上部と底部とで矢印９４の方向に均一に移動する。

第５図には、第４図のボックスの上面図が示されている。

舌状部８７は、ウェハ８２の平らな縁８９のどちら側にも延びることができる充 分な幅を有している。第５図では、ウェハ舌状部８７は、第４図に示される閉じ た位置で示されている。

第６図において、第４図及び第５図のボックス及びボート組立体は、ボックスド ア９９とポートドア６０とが矢印９３の方向に開いた位置に向かって下方に移動 した状態で示されている。第６図においては、舌状部８７は、前の変位Ｄユから 、ボックス９０の垂直壁のはゾ内面において垂直線から測定した短い変位Ｄ２ま で並進移動している。変位Ｄ工と変位Ｄ８との間にある開口により、カセット８ ｏとウェハ８２を、ボックス９０から矢印９３の方向に容易に引っ込めることが できる。同様に、ウェハ８２とカセット８０をボックス９０に復帰させるべきと きに、即ち、矢印９３とは逆の方向に移動するときには、保持装置８６は、ボッ クスドア９９の凹所９２がボックス部材８８の底部位置７８に到達するまで、Ｄ ２位置で開いたままの状態でいる。ボックスドア９９と凹所９２とが位置９８に 到達したときには、舌状部８７は、領域２と領域４とにシールが形成される寸前 に、Ｄ２位置からり０位置へと矢印９４とは逆の方向に並進移動し始める。この 後、ボックスドア９９が領域２とシールを形成するように完全に挿入されたとき には、ボックス９０とボックスドア９９とはポートプレート５０から外すことが でき、保持装置８６は舌状部８７と共に閉じた位ＷＤ□に留まる。

ボックス９０は振動したり或いは衝突したりすることもあるが、ウェハ８２が大 幅に動くことが抑止される。この抑止によって、汚染粒子の移動が減少する。

第７図には、本発明のもう１つの実施例の上面図が示されている。ボックス９０ 内にはボックスライナー５が備えられている。このボックスライナー５は、ボッ クス９ｏの内側で且つカセット８０とウェハ８２の外側にある。ボックスライナ ー５は、ボックスドア９９上のカセット８０の下に配置されたベースライナー６ 上に固定されている。ボックスライナー５とベースライナー６は、フルオロプラ スチック等の非汚染材料によって構成されている。フルオロプラスチックという のは、ポリテトラフルオロエチレンとその共重合体の一般名称である。公知のフ ルオロプラスチックの１つが、テフロンという登録商標で重板されている。その ようなフルオロプラスチックは、厚さ約０．０００１インチ（０，００２５ｍｍ ）以下の、或いは比較的厚いが寸法的により安定した例えば０．００２５インチ （０，０６３ｍｍ）の薄い透明フィルムとするように公知技術を用いて形成され る。

フルオロプラスチックのフィルムは、どのような厚さのものも、汚染粒子の数が 比較的少なく且つそれらの粒子が小さく（一般に、０．１ミクロン未満）なるよ うな処理によって製造される。更に、存在する汚染粒子は、非反応性である。一 般に。

フルオロプラスチックの汚染粒子は、半導体処理において化学的に不活性である が、物理的不完全を生じさせることもある。

一般に、所与の寸法のフルオロプラスチックの汚染粒子は、装置及び半導体材料 の処理の結果として現れる他の種類の汚染粒子よりも許容できるものである。

第２図のボックスライナー５とベースライナー６は、廃棄式のライナーである。

ボックス９０にカセット８０と新しいウェハ８２を装填すべきときには、処理前 に、ボックスに前にあった古いライナーは処分され、新しいライナーが挿入され る。

これによって、異なる処理位置での以前の使用からボックス９０内に発生した汚 染粒子は、全て、ライナー５及びライナー６によってウェハ８２とカセット８０ からシールドされる。

ライナー５とライナー６は柔らかくフレキシブルなフルオロプラスチックである ため、ベース１１０を第２図のボックス９０へ挿入したりボックス９０から引っ 込めたりする動作により、プラスチックのライナーの体積が縮んだり膨らんだり する。

この変化により、ボックス９０ヘウエハを挿入すること及びボックス９０からウ ェハを引っ込めることにより生じる空気等の周囲ガスの乱れが最少になる。フィ ルタ付きの通気口を使用したとき（第７図参照）は、ボックスの内部と外部の圧 力の差を均一化することができる。空気（又は他のガス）の動きは、ライナーと ボックスとの間に生じる傾向となる。これにより、ウェハの周囲の空気とボック スライナー５の内側の空気は、静止したま＼の傾向となる。

１つの実施例では、ライナー５及び６は、小さな帯電粒子を引き付は保持する特 性を有するエレクトレット材料である。

そのようなエレクトレットは、例えば、適当な放射線（ＸＡｆ＋）源からライナ ー５及び６等のフルオロプラスチックを照射することによって形成される。その ような照射は、フルオロプラスチック内の正の電荷と負の電荷を分離する効果を もたらし、それによってエレクトレットの特性がフルオロプラスチックに与えら れる。

もう１つの実施例においては、ライナー５及び６は、導電材料によって形成され る。１つの例では、前述のフルオロプラスチックのライナーは、カセット８ｏと ウェハ８２との周囲に静電シールドを形成するように薄い導電メツシュ内に形成 される。直径約０．００５インチ（０，１２ｍｍ）の間隙距離を備える直径約０ ．００１インチ（０，０２５ｍｍ）の金の線によって形成された導線を有する導 線メツシュは、問題のないものである。

もう１つの実施例においては、ライナー５は、ライナー５に当たる粒子を保持す る傾向のある接着性材料を、その内面に備えている。

ライナー５及び６は、薄いフルオロプラスチックによって形成されたときには、 透明になる傾向にあり、それによって。

ウェハとカセットを目で容易に点検できる。フルオロプラスチック又は他の材料 は、半透明或いは不透明であってもよい。

１つの実施例においては、ライナーは、望ましくない光をフィルタ除去するため の顔料を用いて製造される。一般に、望ましくない光とは、ウェハ処理中にウェ ハ上に散布される写真乳剤の露光に利用される紫外線の光である。ウェハに感光 材料が配置されるときは、ウェハを、このような望ましくない露光からシールド しなければならない。典型的な清潔な部屋では５黄色の蛍光が使用される。更に 、赤色の暗室光を使用することもできる。然し乍ら、これらの光では、ウェハ処 理環境にいるオペレータに他の作業を実行するに充分な照明を与えることが若干 困難である０本発明のボックス又はライナーがフィルタとして形成されたときに は、ウェハは、ウェハを保護するための清潔な部屋の黄色の光又は暗室の赤色の 光を必要とせずに充分に保護される。ウェハはボックス及びライナーの内部で且 つ天蓋の下に維持されているため、望ましくない紫外線の光或いは他の放射がウ ェハに到達することはない。

第２図では、ベースライナー６は垂直壁７を含んでおり、この垂直壁７は、ボッ クス９９の垂直壁の内側で終わると共に、ライナー５がベースライナーの壁７の 外側に取り付けられるようにする。このようにして、カセット８０とウェハ８２ とがボックスライナー５とベースライナー６とによって形成されるライナーによ って完全に囲まれるように、ベースライナー６とボックスライナー５とが連続的 に接触する。これによって、ボックス９９の内部に汚染物質が生じた場合には、 それらの汚染物質がカセット８０とウェハ８２とによって占有される領域から隔 離されたまシとなる。

第７図の実施例では、薄いプラスチック材料のボックスライナー５は、ボックス ９９の内面に付着している。第７図に示すように、ボックスライナー５は、ウェ ハ８２にもウェハカセット８０にも接触しておらず、表面接着によってボックス ９９と接触している。このため、カセットがボックス９９に挿入されるとき或い はボックス９９から引っ込められるときにカセット８ｏ又はウェハ８２がライナ ー５に対して摩耗することはな（）。

第７図には、ライナーが機械的に作動する保持装置８６を含んでいる実施例が示 されている。ライナー５のループ８−１及び８−２は、ライナー舌状部９に接続 されており、舌状部９は、ウェハ８２がカセット８ｏ内の適当な位置に保持され るようにウェハ８２に固定されている。ループ８−１及び８−２と舌状部９は、 両方共、典型的にライナー５の残りの部分の材料と同一の材料によって構成され ている。ループ８−１及び８−２は、舌状部９に弾力性のスプリング状の力を与 えるように、ライナー５の残りの部分よりも厚くされている。舌状部８７がない こと以外は第４図の保持装置８６と類似の保持装［８６がライナー５の外側でル ープ８−１とループ８−２との間に配置されている。舌状部８７の代りに、ライ ナー舌状部９の後部と係合する保持装置舌状部４９が備えられている。保持装置 ８６の閉じた位置への動作により、舌状部９及び４９がウェハ８２へ向かい、そ れによってループ８−１及び８−２を圧縮すると共に、保持装置９を移動させて 、ウェハ８２と接触するか或いはこのウェハ８２の間隙距離内にする。保持装置 ９は、破線の保持装置９′によって、引っ込められた位置に示されている。

保持装［８６が開放した位置に駆動されたときには、ループ８−１及び８−２の スプリング力によって保持装置９が開放した位置９′に引っ込められる。

前述したように天蓋１ｏとボックス９０の両方を使用することにより、ウェハ８ ２の直ぐ近くの環境に人間が侵入することが拒まれる共に、フィルタされた常に 動く空気の望ましくない使用が避けれらる。清潔さは、フィルタされた動く空気 の環境よりも、静止した空気の内部環境を維持することによって達成される。内 部と外部（周囲）の気圧を連続的に均一化するように、天蓋１０とボックス９０ は、各々、第１図及び第７図に示すように、粒子フィルタ開口１１及び９１をそ れぞれ備えることができる。そのようなフィルタ付きの圧力均一化開口１１及び ９１は、圧力の差を最少にするように作用し、その結果として、ウェハがボック ス９０から天蓋１０へ移動するときの天ＭＩＯとボックス９０との間の空気の流 れを最少にする。更に、天蓋１０とボックス９０の内部への接近はエンクロージ ャ内に本質的に一定の体積を占める機械的アームによって行われるため、ＩＣウ ェハが動き回るときに内部の量に大きな変化は起こらない。

これまでに述べた多くの実施例において、ボックスライナーは、機械的に堅固な プラスチックボックスの内面に接着された薄いプラスチックである。然し乍ら、 ボックスライナー自体を、それ自体が機械的及び寸法的に安定したより厚いプラ スチックで構成することもできる。そのような実施例においては、ボックスライ ナーは、硬い外部ボックスが使用されていてもいなくても、ウェハホルダとウェ ハを覆う、そのような場合には、保持装置８６は、アーム７７（第４図参照）を 形成するブラケットに取り付けられる。

１つの実施例においては、ボックスライナーは、ポリスチレンとフルオロプラス チックの薄片によって形成される。フルオロプラスチックは内層であり、ポリス チレンは外層である。

そして、ポリスチレンは、機械的強度を与えるために加えられたものである。

本発明は、その好ましい実施例について特に図示し述べてきたが、当業者であれ ば、本発明の精神とその特許請求の範囲を逸脱することなく、本発明の型式及び 細部に前述の変更及び他の変更が加え得ることが理解されよう。

Ｆ−１−Ｇ　−２ ＦＩＧ、−６ ＡＮＮＥＸ　Ｔｏ　ＴＨＥ　ＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡｒ、５ＥＡＲ（Ｉ（ＲＥ ＰＯＲＴ　０ＮＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＬ　ＡＰＰｒ、ＩＣＡＴＩＯＮ　Ｎｏ 、　ＰＣＴ／ＵＳ　８５１０２５７５　（ｓ八　１１７５２）ＥＰ−Ａ−０１３ ８４７３２４１０４／８５　ＪＰ−Ａ−６０１４３６２３２９１０７／８５

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. １．処理されるべき物品を入れる搬送可能な容器において、ボックスドアを受け 入れるための開口を有したボックスと、処理されるべき１つ以上の物品を保持す るホルダと、上記ホルダを支持するボックスドアと、上記ボックスドアが上記開 口を閉じる時に上記処理されるべき１つ以上の物品を保持するために上記ホルダ に沿って延びるようにされたベース作動式の保持装置とを具備し、上記の堅固な ベース及びホルダは、上記保持装置が上記物品から変位されるように、廃棄式ラ イナーから清潔な環境へと引っ込むことできることを特徴とする容器。
2. ２．上記保持装置は、上記物品を保持するようにされた舌状部を備え、この舌状 部に接続された第１のアームを備え、この第１のアームと畏さが等しく且つ上記 ボックスに接続された第２のアームを備え、これら第１及び第２のアームの端を 接続する第３のアームを備え、そして上記第１及び第２のアームの他端を接続す る第４のアームを備え、上記第１、第２、第３及び第４のアームは平行四辺形を 形成し、上記第３及び第４のアームは上記第１及び第２のアームに枢着され、こ れにより、上記第１のアームが成る方向に移動すると、この第１の方向に直交す る第２の方向に上記舌状部が並進移動される請求の範囲第１項に記載の容器。
3. ３．上記容器は、上記ボックスドアの開閉動作により上記第１のアームを上記第 １方向に作動するボックスドア部材を備えた請求の範囲第２項に記載の容器。
4. ４．上記ベース開口を通して上記ボックスの内部に挿入することのできるボック スライナーを更に備え、このボックスライナーは、上記ボックスの内壁に合致す るものであり、上記ボックスライナーは、上記ベース開口を取り巻くライナー開 口を有し、これにより、上記ホルダ及び１つ以上の物品をボックスのベース開口 に挿入できると共に、上記ホルダ及び１つ以上の処理されるべき物品が上記ボッ クスライナー内に挿入される請求の範囲第１項に記載の容器。
5. ５．上記ボックスライナーはフレキシブルなプラスチック材料であり、上記ユニ ットは、上記ライナーを上記ボックスの内壁に取付けるための手段を備え、上記 ボックスライナーは、これを上記物品から離すようにバネ付勢するためのループ を有している請求の範囲第４項に記載の容器。
6. ６．処理されるべき半導体ウエハを清潔な状態に維持する装置において、 処理されるべき１つ以上のウエハを保持するホルダと、ウエハを収容するボック スであって、第１及び第２のシールを形成するための第１及び第２の領域を有し ているようなボックスと、 上記第２のシールを形成する第２の領域を有すると共に、第３のシールを形成す る第３の領域も有し、上記ホルダを支持するようなボックスドアと、 上記ホルダ及び上記処理されるべき１つ以上のウエハを取り巻くようにされた廃 棄式のボックスライナーと、上記ボックス及びボックスドアを受け入れそして上 記ボックスドア、ホルダ及びウエハを清潔な領域へ転送するためのポート手段で あって、上記第１シールを形成する第１領域と、第４シールを形成する第４領域 とを有しているポート手段と、上記第２シールを形成する第２領域を有している と共に、上記第４シールを形成する第４領域を有しているボートドアと、上記ボ ックスドアを上記ボックスにラッチするためのボックスドアラッチ手段であって 、このボックスドアラッチ手段の動作により上記ボックスとボックスドアとの間 で上記第２領域に上記第２シールを形成したり解除したりするボックスドアラッ チ手段と、 上記ボックスドアが上記ボックスにラッチされた時に上記ウエハを上記ホルダに 保持するためのボックスドア作動式の保持装置とを具備することを特徴とする装 置。
7. ７．上記第１及び第２の領域は、空間的に変位されており、上記ボックスドアラ ッチ手段は上記第１領域と第２領域との間の空間で作動する請求の範囲第１５項 に記載の装置。
8. ８．上記ボックス及び上記ボックスライナーは、上記第２領域によって画成され たボックス開口を有しており、上記ボックスドアは、上記第２領域に上記第２シ ールを形成することにより上記開口を閉じるように働き、上記ボックスドアは、 上記第１領域と第３領域との間で上記ボックス開口の周囲に一般的に延びる第１ の壁を有すると共に、この第１の壁に接続されていて上記第２領域を支持してい る第２の壁も有し、これらの第１及び第２の壁は、上記第２領域によって一般的 に取り巻かれた内部スペースを画成し、上記ボックスドアラッチ手段は、更に、 上記ボックスドアを上記ボックスに対して固定状態に保持して上記ボックス開口 を閉じるように上記第１の壁を貫通して上記ボックスヘと延びる保持手段を備え ている請求の範囲第１６項に記載の装置。
9. ９．上記ボックスドアは、Ｈ字型の断面を有し、上記第２領域は、上記Ｈの垂直 辺の上部として画成されそして上記第３領域は、上記Ｈの垂直辺の下部に画成さ れ、これにより、上記第１及び第２領域は平行な平面に整列される請求の範囲第 １５項に記載の装置。