JPH0638443B2 - 処理しようとする物品を収容する持ち運びできる容器 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 背景技術 本発明は、粒子汚染を減少するための標準化された機械
的なインターフェイスシステムに係り、特に、粒子汚染
を防止するために半導体処理装置に使用するのに適した
シール式容器を用いた装置に係る。

標準化された機械的インターフェイス（ＳＭＩＦ）は、
ウェハに向かう粒子フラックスを著しく減少することに
よって粒子汚染を低減するために提案されている。この
目的は、ウェハの搬送、保管及び処理中に、ウェハを取
り巻くガス状の媒体（例えば、空気や窒素）がウェハに
対して本質的に静止するように機械的に確保すると共
に、その環境の外部の雰囲気からの粒子がその近くの内
部ウェハ環境に入らないように確保することによって達
成される。

粒子汚染の制御は、ＶＬＳＩ回路のコスト効率、高い収
率及び有益な製造にとって欠かせないものである。設計
上の規定により益々小さな線と空間が要求されてきてい
ることにより、粒子の数について益々厳しい制御を行な
うと共に、より直径の小さい粒子を除去することが必要
である。

或る汚染粒子は、線間スペースに不完全なエッチングを
生じさせ、不所望な電気的ブリッジを招くことがある。
このような物理的な欠陥に加えて、他の汚染粒子は、ゲ
ート絶縁物又は接合部にイオン化又はトラップの中心部
を誘起することから電気的な欠陥を招く。

粒子汚染の主たる原因は、人間、装置及び化学的なもの
である。人間から発生した粒子は、その環境を通して伝
達されると共に、ウェハ表面との物理的な接触又は表面
上での移動によって伝達される。例えば、人間から皮膚
の片が剥げ落ちた時には、容易にイオン化されて欠陥を
生じるような著しい粒子源となる。清潔な室内衣類は粒
子の発生を減少するが、これで粒子の発生が完全に抑制
されるものではない。完全に装備したオペレータからで
も１分当たり６０００もの粒子がそれに隣接する１立方
フィートの空間に放出されることが分かっている。

汚染粒子を制御するために、この業界では、ＨＥＰＡ及
びＵＬＰＡ空気再循環システムを有する非常に精巧な
（そして高価な）清浄な部屋を作ろうとする傾向にあ
る。許容レベルの清浄度を得るためには、フィルタ効率
が９９．９９９％で且つ１分当たり１０回まで完全に空
気を入れ替えることが要求される。

装置及び化学製品内の粒子は「プロセス欠陥」と称させ
る。これらのプロセス欠陥を最小にするために、プロセ
ス装置の製造者は、機械で発生した粒子がウェハに到達
するのを防止しなけらばならず、そしてガス及び化学液
体の供給者は、きれいな製品を供給しなければならな
い。もっと重要なことは、保管中運搬中及び処理装置へ
の搬送中にウェハを粒子から効果的に分離するようにシ
ステムを設計しなければならない。標準的な機械的イン
ターフェイス（ＳＭＩＦ）システムは、この目的を達成
するために提案されたものである。

ＳＭＩＦの考え方は、粒子のない静止した少量の空気
は、内部に粒子源がなければ、ウェハにとって最も清潔
な環境であるということを実現するものである。１つの
提案されたシステムの詳細が、１９８４年７月の「ソリ
ッドステート・テクノロジ」の第１１１−１１５頁に掲
載されたミヘア・パリク及びウルリッチ・ケンプ(Mihr
Parikh and Ulrich Kaempf)著の「ＳＭＩＦ：ＶＬＳＩ
製造におけるウェハカセット搬送技術(A TECHNOLOGY FO
R WAFER CASSETTE TRANSFER IN VLSI MANUFACTURING)」
と題する論文、及び参考特許出願に述べられている。

この提案されたＳＭＩＦシステムは、３つの主たる要素
を有している。即ち、（１）最小容積の防塵ボックスが
ウェハカセットの保管及び搬送に用いられる。（２）処
理装置のカセットポート上に天蓋が配置され、ボックス
及び天蓋に内部の環境が小さな清潔な空間とされる。
（３）ボックスのドアは、装置の天蓋のインターフェイ
スポートに設けられたドアと嵌合するように設計され、
これら２つのドアは、外部ドアの表面にある粒子がドア
とドアとの間に捕らえられる（サンドイッチされる）よ
うに同時に開放される。

この提案されたＳＭＩＦシステムにおいては、天蓋の上
部にインターフェイスポートにボックスが配置され、ラ
ッチによってボックスのドアと天蓋ポートのドアとが同
時に解除される。機械的なエレベータは、カセットを上
にのせた状態で２つのドアを天蓋で覆われた空間に向か
って下げる。マニュピレータがカセットを取り上げ、装
置のカセットポート／エレベータに配置する。処理後
に、反対の動作が行なわれる。

ＳＭＩＦシステムは、清潔な部屋の内部と外部の両方に
原形のＳＭＩＦ部品を使用した実験によって効果的であ
ることが立証されている。このＳＭＩＦ形態では、清潔
な部屋の内部で従来のやり方でオープンカセットを取り
扱う場合よりも１０倍もの改善が得られている。

近代的な処理装置は、０．０１マイクロメータ以下から
２００マイクロメータ以上までの粒子サイズに関連した
ものでなければならない。このようなサイズの粒子は、
半導体処理に大きなダメージを与える。今日の典型的な
半導体プロセスでは、１マイクロメータ以下の幾何学寸
法が用いられる。幾何学的寸法が０．１マイクロメータ
より大きい不所望な汚染粒子は、１マイクロメータの幾
何学的寸法の半導体装置を著しく妨げる。もちろん、半
導体処理の幾何学寸法は、益々小さくなる傾向にある。

今日の典型的な処理環境においては、「清潔な部屋」が
作られ、フィルタ及び他の技術により、０．０３マイク
ロメータ以上の寸法を有する粒子を除去するような試み
がなされている。然し乍ら、処理環境を改善する要望が
ある。従来の「清潔な部屋」は、必要とされるほど粒子
のない状態に保つことができない。従来の清潔な部屋
を、０．０１マイクロメータ以下のサイズの粒子がない
状態に維持することは実質上不可能である。

このため、ＳＭＩＦのようなシステムが現在検討されて
いる。然し乍ら、上記の提案されたＳＭＩＦシステム
は、完全に満足なものではない。この提案されたＳＭＩ
Ｆシステムは、カセットの転送中にボックスの内部と天
蓋の内部との間に完全なシール状態を維持することがで
きない。両方のドアをラッチ及び解除する機構は、カセ
ットの転送を行なうに充分適したものではない。従っ
て、改良された機構が必要とされている。

上記の提案されたＳＭＩＦシステムは、幾つかの欠点が
ある。ＳＭＩＦボックスが汚染された時には、小さな汚
染粒子を除去することが非常に困難である。というの
は、小さな粒子が装置の表面に吸引する力が非常に強い
からである。小さな粒子は、ＳＭＩＦボックスのような
表面に付着すると、フィルタ技術では効果的に除去する
ことができない。ボックス内で空気又は他のガスを循環
及びフィルタしても、表面に吸着して接触保持された汚
染粒子は容易に除去することができない。

ＳＭＩＦボックスのような物体が例えば衝突によって妨
げられた場合には、多数の小さな粒子が表面から遊離
し、ボックス内に存在する半導体又は他の粒子に汚染物
として接近する。又、ボックスシステムの可動部品は、
表面が互いにこすれる時に汚染粒子を形成する傾向があ
る。それ故、ボックス内でのウェハのような物体の移動
を回避するか、さもなくば、部品同志がこすれないよう
にすることが所望される。

小さな粒子を装置及び表面から除去するために集塵及び
洗浄技術が開発されているが、これらのプロセスは非常
にやっかいで、然も、あまり効果がない。もしできれ
ば、汚染粒子を除去するのではなくこれら粒子が発生し
ないようにすることが所望される。

上記の提案されたＳＭＩＦシステムは、多くの不所望な
汚染粒子を除去するのに或る程度効果的であるが、完全
に効果的ではなく、改善が叫ばれている。

発明の要旨 本発明は、半導体ウェハのような処理されるべき物品を
清潔な状態に維持するためのボックスのような搬送可能
な容器に係る。ウェハ又は処理されるべき他の物品はホ
ルダに入れられる。堅固なベースがホルダを容器内に支
持する。物品をホルダに保持するための保持装置が設け
られている。堅固なベース及びホルダは、容器から清潔
な環境へと引っ込めることができ、これにより、物品を
汚染せずに処理することができる。ベースを引っ込めた
時には、保持装置が物品から自動的に引っ込められ、物
品をホルダから取り外すことができる。

保持装置は、ボックスドアによってその移動方向に動か
される舌状部を備えている。この舌状部は、平行四辺形
の支持体によって支持され、この支持体は、舌状部を、
これがボックスドアによって移動される時に、ボックス
ドアの移動方向に対して直交する方向にも移動させる。
この直交方向の移動により、ボックスドアが閉じる時に
は舌状部が物品を位置保持し、ボックスドアが開く時に
は物品を解除する。

堅固なベースは、物品をボックスにシールするボックス
ドアとして働く。廃棄式のライナーを含むボックスは、
ウェハを、処理装置の天蓋の開口であるポートに搬送す
るように使用される。このポートは、ボックス及びボッ
クスドアを受け入れると共に、ボックスドア及びボック
スドアの中味を天蓋の下の領域に転送するように用いら
れる。天蓋は、ボックスとでシールを形成する。天蓋の
開口には、ボックスが存在しない時にポートを閉じるた
めのポートドアが設けられている。ボックスドアをボッ
クスにラッチするためのボックスドアラッチが設けられ
ており、このボックスドアラッチを操作することにより
ボックスドアとボックスとの間でシールが形成されたり
解除されたりする。ボックスを天蓋にラッチするための
ボックスラッチも設けられており、このボックスラッチ
を操作することによりボックスと天蓋との間にシールが
形成されたり解除されたりする。

１つの特定の実施例においては、保持装置がフルオロプ
ラスチック又は他のプラスチックである。

本発明の別の実施例において、ボックスライナーには、
カセット内のウェハに対向したライナー壁の１つに舌状
部が設けられている。このライナーの舌状部は、保持装
置とウェハ又は他の物品との間に配置される。このライ
ナーの舌状部は、保持装置の舌状部により閉じた位置に
作動される。ライナー及び保持装置の舌状部は、これら
を閉じた時には、ウェハ位置保持しようとする。カセッ
ト及びウェハを取り出すためには、ボックスドアを開
け、保持装置を引っ込める。ライナーにはスプリングル
ープが形成されており、これは、保持装置の舌状部が引
っ込められた時にライナーの舌状部を引っ込めさせ、ウ
エハ及びカセットをボックス及びライナーから引き出す
ことができるようにする。

本発明は、ボックスドアにより作動される保持装置を有
していて、処理されるべき物品を搬送するようにされた
改良された容器を提供する。

本発明の更に別の目的及び特徴は、添付図面を参照した
本発明の好ましい実施例の以下の詳細な説明から明らか
となろう。

図面の簡単な説明 第１図は、処理装置の付近に配置されたＳＭＩＦシステ
ムの斜視図であり、 第２図は、第１図のＳＭＩＦシステム及び処理装置の概
略図であり、 第３図は、第２図の装置のポート組立体の分解斜視図で
あり、 第４図は、保持装置を有するボックス及びポート組立体
の一部分を示す前面断面図で、ボックスドア及び保持装
置を閉じた位置において示した図であり、 第５図は、第４図の装置の上面図であり、 第６図は、第４図及び第５図の装置の前面図で、ボック
スドア及び保持装置を開いた位置において示した図であ
りそして 第７図は、廃棄式ライナーを有するボックスの別の実施
例を示す上面図で、保持装置の舌状部に並置されたライ
ナーの１つの側壁にバネ作動式の舌状部が形成されたと
ころを示す図である。

実施例 第１図において、天蓋１０は、処理装置１５のウェハ取
り扱い機構を覆う取り外し容易なシールドである。装置
１５は、ホトレジスト付着装置、マスク整列装置、検査
ステーション又は同様の処理装置である。天蓋１０は、
その中の点検及び／又は保守を容易にするためにレクサ
ン(Lexan)のような透明プラスチックで構成される。天
蓋１０は、処理装置１５の取り扱い機構を包囲する。ボ
ックス９０は、ウェハ８２を保持するウェハカセットの
型式のホルダを処理装置１５の天蓋１０の下におろすこ
とができるように配置されている。

第２図は、第１図の装置を更に詳細に示している。ボッ
クス９０は、天蓋取付けプレート５０により天蓋１０の
水平面４０に取り付けられて、ボックスラッチ４５によ
って保持されている。ポート組立体２０は、更に、ボッ
クスドア９９の形態の堅固なベースと、ポートドア６０
と、集積回路ウェハ８２を収容するカセット８０をボッ
クス９０から天蓋１０の下の領域に搬送するエレベータ
機構７０とを備えている。ボックス９０は、ボックスラ
イナー５及びベースライナー６を備えている。ボックス
及びポートのドアを下げた時には、ボックスライナー５
はボックス内に保持されるが、ベースライナー６はボッ
クスドアと共に下げられる。第２図において、ポートド
ア６０及びボックスドア９９は破線によって閉じた位置
で示されておりそして実線によって開いた位置で示され
ている。移動組立体２９は、プラットホーム２６と、シ
ャフト係合手段７２と、駆動モータ２８とを備えてい
る。

エレベータ組立体７０から延びているプラットホーム２
６は、ポートドア６０、ボックスドア９９及びカセット
８０を垂直方向に支持している。プラットホーム２６
は、係合手段７２によってエレベータ組立体７０の垂直
ガイド７１に取り付けられてる。典型的に、ガイド７１
は、リードスクリュー（図示せず）を備えており、モー
タ２８は、このリードスクリューに係合するギヤ（図示
せず）を駆動して、プラットホーム２６を上又は下に駆
動させる。プラットホーム２６が閉じた位置に駆動され
た時には、ポートドア６０が天蓋１０のポート開口を閉
じる。

同様に、マニュピレータ組立体３０は、プラットホーム
２７に固定されており、これは、垂直シャフト組立体７
１に係合するための係合手段７３を有している。マニュ
ピレータ３０は、マニュピレータアーム３１と、カセッ
ト３０に係合するための係合ヘッド３２とを備えてい
る。プラットホーム２６及び２７の垂直方向の動作と、
マニュピレータ３０の動作とにより、カセット８０は、
ボックスドア９９上の位置から装置ステーション１３
（破線で示す）上の位置へと移動される。

第３図には、ポート組立体２０の分解斜視図が更に詳細
に示されている。ボックス９０は、ポートプレート５０
及びポートドア９９とで各々第１及び第２のシールを形
成すべき第１領域１及び第２領域２を画成する。ボック
ス９０は、整列タブ３４を備えており、このタブは、ポ
ートプレート５０の一部分を形成するガイドレール５５
の整列開口４４によって受け入れられる。

第３図において、ボックスドア９９は、垂直壁９９−１
及び水平壁９９−２を有している。垂直壁は、プラグ１
６−１及び１６−３と各々整列された開口９７−１及び
９６−１を有している。壁９９−１は、一般的に周囲を
取り巻くように延び、その一端は領域２で終わりそして
その他端は領域３で終わる。典型的に、これらの領域２
及び３は、領域２が１つの平面内に入りそして領域３が
領域２の平面と平行な別の平面内に入るように加工する
ことができる。壁９９−２は、壁９９−１に垂直に延び
そしてその周囲が領域２によって閉じられる。壁９９−
２内で、その下面には円錐上のリセプタ５７−１及び５
７−２があり、これは、ポートドア６０から突出する円
錐部５６−１及び５６−２を受け入れる整列円錐であ
る。

第３図において、ポートプレート５０及びガイドレール
５５は、ポート開口５８を取り巻いている。ポート開口
の周囲には、ガイドレール５５に隣接した表面４０上に
領域１がある。ポートプレート５０の領域１は、ボック
ス９０の領域１を受け入れる。又、ガイドレール５５
は、ボックス９９からのタブ３４を受け入れるスロット
開口４４を有している。

第３図において、開口５８は、ボックスドア９９が或る
程度の間隙距離をもってこの開口をスライド移動するに
十分な大きさである。互いに組み立てた時に、壁９９−
１の下端である領域３は、開口５８まで延びて、ポート
ドア６０の立上った部分の周りの領域３と嵌合する。ポ
ートドア６０の領域４は、ポートプレート５０の領域４
と嵌合して、第４のシールを形成するように設計されて
いる。

ポートドア６０は、４つのアクチュエータピン１７−
１、１７−２、１８−１及び１８−２を備えている。こ
れらのピンは、領域３の平面より上に延び、表面４０よ
り上に延びて、ボックスドア９９の垂直壁９９−１に取
り付けられたバネ１９−２のようなバネと整列される。

ボックス９０は、取付プレート５０の上面の領域１とで
第１のシールを形成する第１領域１を有している。ボッ
クス９０は、ボックス９０とボックスドア９９との間に
第２のシールを形成する第２領域２を有している。

ボックスドア９９は、ボックス９０とで第２のシールを
形成する第２領域２と、ポートドア６０とで第３のシー
ルを形成する第３領域３とを備えている。ポートドア６
０は、取付プレート５０の第４領域とで第４のシールを
形成する第４領域を備えている。これら４つの領域１、
２、３及び４は、ボックスの全周に延びていて、ポート
開口５８を包囲している。従って、ボックス９０及び天
蓋は、真空状態又は加圧状態にすることができる。

ポートドア９９は、開口９７−１を有する垂直壁９８を
備えている。バネが壁９８の開口９７−１を通して延び
ていて、整列プラグ１６−１に係合する。バネ１９−１
がプラグ１６−１に係合した時には、ボックスドア９９
がボックス９０と係合状態に保持され、領域２に良好な
シールが形成される。第３図に示すように、バネ１９−
２は、プラグ１６−２に係合する。

バネ１９−２のようなバネは、バネの作用によって係合
状態に保持される。これらのバネを解離するために、ソ
レノイド及びアクチュエータアームが並進移動される。
これらバネの穴を通して接続する垂直ピン、例えば、バ
ネ１９−２の穴を通して接続する垂直ピン１８−１は、
プラグ１６−１及び１６−２からバネを引っ張るように
働く。このように引っ張られると、ボックスドア９９
は、ボックス９０から分離することができる。

第４図には、カセット８０がボックス９０に完全に挿入
された状態でポート組立体２０が更に詳細に示されてい
る。

ボックスドア９９及びポートドア６０は両方とも閉じら
れ、ボックス９０はポートプレート５０と接触するよう
にラッチされている。この位置では、第４図のポート組
立体は、全てのシール１、２、３及び４が閉じられてい
る。

第４図のポート組立体は、カセット８０内にウェハ８２
を保持するように機能する保持装置８６を含んでいる。
保持装置８６は、保持装置舌状部８７を含んでおり、こ
の舌状部８７は、ウェハ８２の縁と接触しているか或い
はウェハ８２の間隙距離内にある。この閉じた位置で
は、舌状部８７は、全てのウェハを、矢印９４の方向に
大幅には動かないようにする。カセット８０は、カセッ
ト８２を保持し、それらのカセット８２が矢印９３の方
向に大幅には動かないようにする。

保持装置８６は、舌状部８７に沿って延びるボックスド
ア部材８８を含んでおり且つ凹所９２の領域でボックス
ドア９９と接触している。ドア部材８８には、１つの平
行四辺形アーム７６が取り付けられている。又、平行四
辺形アーム７６には、２つの側部平行四辺形アーム８３
及び８４が取り付けられている。これら２つの側部平行
四辺形アーム８３及び８４は、２つのずれた位置でボッ
クス９０に取り付けられており、これらが平行四辺形ア
ーム７７を形成する。アーム７６及び７７は、側部アー
ム８３及び８４と等しい長さである。アーム８３及び８
４は、アーム７６と７７の両方に枢着接続されている。
ボックスドア９９が開けられ矢印９３の方向に動いたと
きは、重力によって側部アーム８３及び８４を枢着運動
させることにより、部材８８も矢印９３の方向に下げら
れる。舌状部８７は、アーム８３及び８４の枢着運動に
よって、矢印９３の方向だけでなく矢印９４の方向にも
移動し、それによって、舌状部８７をウェハ８２から引
っ込める。舌状部８７は、ウェハ８２の上部と底部とで
矢印９４の方向に均一に移動する。

第５図には、第４図のボックスの上面図が示されてい
る。舌状部８４は、ウェハ８２の平らな縁８９のどちら
側にも延びることができる充分な幅を有している。第５
図では、ウェハ舌状部８７は、第４図に示される閉じた
位置で示されている。

第６図において、第４図及び第５図のボックス及びポー
ト組立体は、ボックスドア９９とポートドア６０とが矢
印９３の方向に開いた位置に向かって下方に移動した状
態で示されている。第６図においては、舌状部８７は、
前の変位Ｄ₁から、ボックス９０の垂直壁のほゞ内面に
おいて垂直線から測定した短い変位Ｄ₂まで並進移動し
ている。変位Ｄ₁と変位Ｄ₂との間にある開口により、カ
セット８０とウェハ８２を、ボックス９０から矢印９３
の方向に容易に引っ込めることができる。同様に、ウェ
ハ８２とカセット８０をボックス９０に復帰させるべき
ときに、即ち、矢印９３とは逆の方向に移動するときに
は、保持装置８６は、ボックスドア９９の凹所９２がボ
ックス部材８８の底部位置７８に到達するまで、Ｄ₂位
置で開いたままの状態でいる。ボックスドア９９と凹所
９２とが位置９８に到達したときには、舌状部８７は、
領域２と領域４とにシールが形成される寸前に、Ｄ₂位
置からＤ₁へと矢印９４とは逆の方向に並進移動し始め
る。この後、ボックスドア９９が領域２とシールを形成
するように完全に挿入されたときには、ボックス９０と
ボックスドア９９とはポートプレート５０から外すこと
ができ、保持装置８６は舌状部８７と共に閉じた位置Ｄ
₁に留まる。ボックス９０は振動したり或いは衝突した
りすることもあるが、ウェハ８２が大幅に動くことが抑
止される。この抑止によって、汚染粒子の移動が減少す
る。

第７図には、本発明のもう１つの実施例の上面図が示さ
れている。ボックス９０内にはボックスライナー５が備
えられている。このボックスライナー５は、ボックス９
０の内側で且つカセット８０とウェハ８２の外側にあ
る。ボックスライナー５は、ボックスドア９９上のカセ
ット８０の下に配置されたベースライナー６上に固定さ
れている。ボックスライナー５とベースライナー６は、
フルオロプラスチック等の非汚染材料によって構成され
ている。フルオロプラスチックというのは、ポリテトラ
フルオロエチレンとその共重合体の一般名称である。公
知のフルオロプラスチックの１つが、テフロンという登
録商標で市販されている。そのようなフルオロプラスチ
ックは、厚さ約０．０００１インチ（０．００２５ｍ
ｍ）以下の、或いは比較的厚いが寸法的により安定した
例えば０．００２５インチ（０．０６３ｍｍ）の薄い透
明フィルムとするように公知技術を用いて形成される。

フルオロプラスチックのフィルムは、どのような厚さの
ものも、汚染粒子の数が比較的少なく且つそれらの粒子
が小さく（一般に、０．１ミクロン未満）なるような処
理によって製造される。更に、存在する汚染粒子は、非
反応性がある。一般に、フルオロプラスチックの汚染粒
子は、半導体処理において化学的不活性であるが、物理
的不完全を生じさせることもある。一般に、所与の寸法
のフルオロプラスチックの汚染粒子は、装置及び半導体
材料の処理の結果として現れる他の種類の汚染粒子より
も許容できるものである。

第２図のボックスライナー５のベースライナー６は、廃
棄式のライナーである。ボックス９０にカセット８０と
新しいウェハ８２を装填すべきときには、処理前に、ボ
ックスに前にあった古いライナーは処分され、新しいラ
イナーが挿入される。これによって、異なる処理位置で
の以前の使用からボックス９０内に発生した汚染粒子
は、全て、ライナー５及びライナー６によってウェハ８
２とカセット８０からシールドされる。

ライナー５とライナー６は柔らかくフレキシブルなフル
オロプラスチックであるため、ベース１１０を第２図の
ボックス９０へ挿入したりボックス９０から引っ込めた
りする動作により、プラスチックのライナーの体積が縮
んだり膨らんだりする。この変化により、ボックス９０
へウェハを挿入すること及びボックス９０からウェハを
引っ込めることにより生じる空気等の周囲ガスの乱れが
最少になる。フィルタ付きの通気口を使用したとき（第
７図参照）は、ボックスの内部と外部の圧力の差を均一
化することができる。空気（又は他のガス）の動きは、
ライナーとボックスとの間に生じる傾向となる。これに
より、ウェハの周囲の空気とボックスライナー５の内側
の空気は、静止したまゝの傾向となる。

１つの実施例では、ライナー５及び６は、小さな帯電粒
子を引き付け保持する特性を有するエレクトレット材料
である。そのようなエレクトレットは、例えば、適当な
放射線（Ｘ線）源からライナー５及び６等のフルオロプ
ラスチックを照射することによって形成される。そのよ
うな照射は、フルオロプラスチック内の正の電荷と負の
電荷を分離する効果をもたらし、それによってエレクト
レットの特性がフルオロプラスチックに与えられる。

もう１つの実施例においては、ライナー５及び６は、導
電材料によって形成される。１つの例では、前述のフル
オロプラスチックのライナーは、カセット８０とウェハ
８２との周囲に静電シールドを形成するように薄い導電
メッシュ内に形成される。直径０．００５インチ（０．
１２ｍｍ）の間隙距離を備える直径約０．００１インチ
（０．０２５ｍｍ）の金の線によって形成された導線を
有する導線メッシュは、問題のないものである。

もう１つの実施例においては、ライナー５は、ライナー
５に当たる粒子を保持する傾向のある接着性材料を、そ
の内面に備えている。

ライナー５及び６は、薄いフルオロプラスチックによっ
て形成されたときには、透明になる傾向にあり、それに
よって、ウェハとカセットを目で容易に点検できる。フ
ルオロプラスチック又は他の材料は、半透明或いは不透
明であってもよい。

１つの実施例においては、ライナーは、望ましくない光
をフィルタ除去するための顔料を用いて製造される。一
般に、望ましくない光とは、ウェハ処理中にウェハ上に
散布される写真乳剤の露光に利用される紫外線の光であ
る。ウェハに感光材料が配置されるときは、ウェハを、
このような望ましくない露光からシールドしなければな
らない。典型的な清潔な部屋では、黄色の蛍光が使用さ
れる。更に、赤色の暗室光を使用することもできる。然
し乍ら、これらの光では、ウェハ処理環境にいるオペレ
ータに他の作業を実行するに充分な照明を与えることが
若干困難である。本発明のボックス又はライナーがフィ
ルタとして形成されたときには、ウェハは、ウェハを保
護するための清潔な部屋の黄色の光又は暗室の赤色の光
を必要とせずに充分に保護される。ウェハはボックス及
びライナーの内部で且つ天蓋の下に維持されているた
め、望ましくない紫外線の光或いは他の放射がウェハに
到達することはない。

第２図では、ベースライナー６は垂直壁７を含んでお
り、この垂直壁７は、ボックス９９の垂直壁の内側で終
わると共に、ライナー５がベースライナーの壁７の外側
に取り付けられるようにする。このようにして、カセッ
ト８０とウェハ８２とがボックスライナー５とベースラ
イナー６とによって形成されるライナーによって完全に
囲まれるように、ベースライナー６とボックスライナー
５とが連続的に接触する。これによって、ボックス９９
の内部に汚染物質が生じた場合には、それらの汚染物質
がカセット８０とウェハ８２とによって占有される領域
から隔離されたまゝとなる。

第７図の実施例では、薄いプラスチック材料のボックス
ライナー５は、ボックス９９の内面に付着している。第
７図に示すように、ボックスライナー５は、ウェハ８２
にもウェハカセット８０にも接触しておらず、表面接着
によってボックス９９と接触している。このため、カセ
ットがボックス９９に挿入されるとき或いはボックス９
９から引っ込められるときにカセット８０又はウェハ８
２がライナー５に対して摩耗することはない。

第７図には、ライナーが機械的に作動する保持装置８６
を含んでいる実施例が示されている。ライナー５のルー
プ８−１及び８−２は、ライナー舌状部９に接続されて
おり、舌状部９は、ウェハ８２がカセット８０内の適当
な位置に保持されるようにウェハ８２に固定されてい
る。ループ８−１及び８−２と舌状部９は、両方共、典
型的なライナー５の残りの部分の材料と同一の材料によ
って構成されている。ループ８−１及び８−２は、舌状
部９に弾力性のスプリング状の力を与えるように、ライ
ナー５の残りの部分よりも厚くされている。舌状部８７
がないこと以外は第４図の保持装置８６と類似の保持装
置８６がライナー５の外側でループ８−１とループ８−
２との間に配置されている。舌状部８７の代りに、ライ
ナー舌状部９の後部と係合する保持装置舌状部４９が備
えられている。保持装置８６の閉じた位置への動作によ
り、舌状部９及び４９がウェハ８２へ向かい、それによ
ってループ８−１及び８−２を圧縮すると共に、保持装
置９を移動させて、ウェハ８２と接触するか或いはこの
ウェハ８２の間隙距離内にする。保持装置９は、破線の
保持装置９′によって、引っ込められた位置に示されて
いる。

保持装置８６が開放した位置に駆動されたときには、ル
ープ８−１及び８−２のスプリング力によって保持装置
９が開放した位置９′に引っ込められる。

前述したように天蓋１０とボックス９０の両方を使用す
ることにより、ウェハ８２の直ぐ近くの環境に人間が侵
入することが拒まれる共に、フィルタされた常に動く空
気の望ましくない使用が避けられる。清潔さは、フィル
タされた動く空気の環境よりも、静止した空気の内部環
境を維持することによって達成される。内部と外部（周
囲）の気圧を連続的に均一化するように、天蓋１０とボ
ックス９０は、各々、第１図及び第７図に示すように、
粒子フィルタ開口１１及び９１をそれぞれ備えることが
できる。そのようなフィルタ付きの圧力均一化開口１１
及び９１は、圧力の差を最少にするように作用し、その
結果として、ウェハがボックス９０から天蓋１０へ移動
するときの天蓋１０とボックス９０との間の空気の流れ
を最少にする。更に、天蓋１０とボックス９０の内部へ
の接近はエンクロージャ内に本質的に一定の体積を占め
る機械的アームによって行われるため、ＩＣウェハが動
き回るときに内部の量に大きな変化は起こらない。

これまでに述べた多くの実施例において、ボックスライ
ナーは、機械的に堅固なプラスチックボックスの内面に
接着された薄いプラスチックである。然し乍ら、ボック
スライナー自体を、それ自体が機械的及び寸法的に安定
したより厚いプラスチックで構成することもできる。そ
のような実施例においては、ボックスライナーは、硬い
外部ボックスが使用されていてもいなくても、ウェハホ
ルダとウェハを覆う。そのような場合には、保持装置８
６は、アーム７７（第４図参照）を形成するブラケット
に取り付けられる。

１つの実施例においては、ボックスライナーは、ポリス
チレンとフルオロプラスチックの薄片によって形成され
る。フルオロプラスチックは内層であり、ポリスチレン
は外層である。そして、ポリスチレンは、機械的強度を
与えるために加えられたものである。

本発明は、その好ましい実施例について特に図示し述べ
てきたが、当業者であれば、本発明の精神とその特許請
求の範囲を逸脱することなく、本発明の型式及び細部に
前述の変更及び他の変更が加え得ることが理解されよ
う。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 パリク ミーハー アメリカ合衆国 カリフォルニア州 95120 サン ホセ ウッディッド レイ ク ドライヴ 7174

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】昇降式ボックスドア９９を受け入れる開口
   を有するボックス９０と、 このボックス９０内に挿入でき、処理しようとする物品
   ８２を保持するカセット８０と、 前記のボックス９０内に取り付けられ、前記のカセット
   ８０内の物品を保持する保持器８６と、 を備え、 この保持器８６は、前記の処理しようとする物品８２を
   保持する舌状部材８７と、この舌状部材８７に沿って延
   びて前記の昇降式ボックスドア９９に載っているボック
   スドア部材８８と、このボックスドア部材８８と前記の
   ボックス９０の垂直壁とに結合された垂直の２本のアー
   ム７６、７７と、これらのアームに回動するよう結合さ
   れた２本のアーム８３、８４とから成る平行四辺形のア
   ーム構成体とを備え、前記の昇降式ボックスドア９９が
   下降すると前記の平行四辺形のアーム構成体は変形して
   前記の舌状部材８７を前記の処理しようとする物品８２
   から離れる方向に動かして前記のカセット８０を下降さ
   せることを特徴とした処理しようとする物品を収容する
   持ち運びできる容器。
2. 【請求項２】ボックス９０はその内壁に貼られる使い捨
   てのライナー５を有する請求項１に記載の処理しようと
   する物品を収容する持ち運びできる容器。
3. 【請求項３】昇降式ボックスドア９９はその内壁に貼ら
   れる使い捨てのライナー６を有する請求項１に記載の処
   理しようとする物品を収容する持ち運びできる容器。