JPH04136943A - X線露光装置 - Google Patents

X線露光装置

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JPH04136943A
JPH04136943A JP2259645A JP25964590A JPH04136943A JP H04136943 A JPH04136943 A JP H04136943A JP 2259645 A JP2259645 A JP 2259645A JP 25964590 A JP25964590 A JP 25964590A JP H04136943 A JPH04136943 A JP H04136943A
Authority
JP
Japan
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ray
chamber
port
extraction window
helium
Prior art date
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Pending
Application number
JP2259645A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobutaka Kikuiri
信孝 菊入
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2259645A priority Critical patent/JPH04136943A/ja
Publication of JPH04136943A publication Critical patent/JPH04136943A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus

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  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、X線を利用して露光を行なうX線露光装置に
係り、特に内部をX線か通過する超高真空のポートの先
端と、内部をX線低減衰雰囲気としたチャンバとの連結
部に改良を加えたX線露光装置に関する。
(従来の技術) 従来、LSIパターンを形成するには、光露光装置が一
般に用いられていたか、LSIパターンの微細化に伴い
、微細化されたパターンを光露光装置で形成するのは、
解像度の面で限界に近くなってきている。そこで最近で
は、光露光装置よりも微細なパターンを形成することが
可能なX線露光装置の開発が進められている。このX線
露光装置では、高揮度のX線源が必要とされるが、この
ようなX線源としてシンクロトロンが注目されている。
第3図は、X線源としてシンクロトロンを用いた従来の
一般的なX線露光装置を示す概略構成図である。
即ち、図示しないシンクロトロンから放射されたX線1
は、X線反射ミラー2で反射され、超高真空のポート3
内を通って、この先端面に装着されたX線取出し窓4か
ら連結機構5を介してヘリウム雰囲気のへリウムチャン
バ6内に該チャンバ6に前記X線取出し窓4に対向させ
て開口した開口部6aから入り、X線マスク7に照射さ
れる。
そして、このX線マスク7を通して試料である半導体ウ
ェハ8の表面にX線を照射することにより、半導体ウェ
ハ8上にX線マスク7のマスクパターンを露光するよう
構成されていた。
ここに、前記連結機構5の役割は、ヘリウムチャンバ6
内のヘリウムガスと大気との間のシールを行うことであ
る。即ち、X線取出し窓4から出るX線1は、大気中で
の減衰が大きく、この減衰を防止するために、このX線
取出し窓4からX線マスク7までの光路をヘリウム雰囲
気とする必要がある。このため、X線取出し窓4とへリ
ウムチャンバ6との連結部には、大気の混入を防ぐため
のシール手段が必要となる。
従来、上記X線取出し窓4とへリウムチャンバ6との連
結機構5には、一般に金属材料で構成された軸線方向に
伸縮自在な金属製ベローズ9が使用されていた。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記従来例のように、伸縮自在な金属製
ベローズ9でX線取出し窓4とへリウムチャンバ6との
連結機構5を構成した場合、次のような問題点があった
先ず一つの問題は、X線取出し窓4の振動が、金属製ベ
ローズ9を介してヘリウムチャンバ6に伝わってしまい
、この振動によってX線露光装置(アライナ)が振動す
ることで、転写時におけるX線マスク7と半導体ウェハ
8との位置合わせ精度が悪化してしまうことである。
ここに、先端面にX線取出し窓4を装着したX線1を該
X線取出し窓4まで導くポート3は、この内部を常に超
高真空に維持する必要があるが、ヘリウムチャンバ6内
のヘリウムがX線取出し窓4からこの内部に僅かに漏れ
ること等のため、ポート3の基端部に真空ポンプ(図示
せず)を連結して、常に真空引きを行うことが通常行わ
れ、この時に発生する振動によって、ポート3ひいては
X線取出し窓4も振動してしまう。
もう一つの問題は、ヘリウムチャンバ6内をヘリウム置
換する際に行う真空引きによって生じる力によるもので
ある。
即ち、ヘリウムチャンバ6内を真空引きすると、これに
伴って金属製ベローズ9の内部も真空引きされ、このベ
ローズ9に圧縮力((ベローズの内径) x (1kg
/cJ) )が生じる。これによって、X線取出し窓4
とへリウムチャンバ6の双方か互いに引き寄せられる方
向に力を受けてしまい、この移動を防止するためには、
ポート3の先端のX線取出し窓4の装着部とへリウムチ
ャンバ6の支持剛性を高くする必要があり、このために
装置としての大型化及びコストアップに繋がってしまう
これを防止するため、金属製ベローズ6に生じる圧縮力
を減らした状態で、即ちヘリウムチャンバ6内を真空引
きする際の真空度を上げずにヘリウム交換を行うと、ヘ
リウムチャンバ6内のヘリウム純度が悪化して、X線の
減衰防止効果が薄れてしまう。
本発明は上記に鑑み、ポートひいてはX線取出し窓の振
動かへリウムチャンバに伝わってしまうことを防止して
、転写時におけるマスクと試料たる半導体ウェハとの位
置合わせ精度が損なわれてしまうことを防止し、更に装
置としての大型化やコストアップを招くことなく、ヘリ
ウムチャンバ内のヘリウム純度を高めることができるよ
うにしたものを提供することを目的とする。
〔発明の構成〕
(3題を解決するための手段) 上記1]的を達成するため、本発明に係る請求項1記載
のX線露光装置は、X線を発生させるX線源と、このX
線源から放射されたX線を通過させ先端面にX線取出し
窓を装着した高真空のポートと、前記X線取出し窓に向
けて開目する開口部を有し該X線取出し窓から放射され
るX線をX線マスク面まで照射する間をX線低減衰雰囲
気にするチャンバとを具備し、X線マスクのマスクパタ
ンを試料面に照射することで該試料上にマスクパターン
を露光するX線露光装置において、前記ホト先端のX線
取出し窓装着部と前記チャンバの開口部とをゴム弾性を
有する弾性部材から構成された弾性ベローズによって気
密的に連結したものである。
また、請求項2記載の本発明は、上記の他に前記ポート
先端のX線取出し窓装着部又は前記チャンバの少なくと
も一方を互いに接離する方向に移動自在に構成するとと
もに、前記弾性ベローズの両端部に互いに気密的に密着
接合するフランジを設けたものである。
(作 用) 上記にように構成した請求項]記載の本発明によれば、
ポート先端ひいてはX線取出し窓が振動しても、この振
動を減衰効果の大きいゴム弾性を有する弾性部材から構
成された弾性ベローズによって確実に減衰させて、この
振動がチャンバに伝4つってしまうことを防止すること
かできる。
また、請求項2記載の本発明によれば、上記の他に、チ
ャンバをX線低減衰雰囲気に置換する時に行う真空引き
に際し、X線取出し窓装着部とチャンバとが互いに近接
する方向に少なくともこれらの一方を移動させ、弾性ベ
ローズの両端部に設けたフランジを互いに気密的に密着
接合させて、弾性ベローズに圧縮力か生じないように折
り畳んだ状態でこれを行うことができる。
(実施例) 以下、本発明の一実施例を第1図及び第2図を参照して
説明する。
第1図は、本実施例に用いられるSORを光源とした縦
型のX線露光装置を模式的に示す概略構成図である。
即ち、上記第3図に示す従来例と同様に、シンクロトロ
ンから放射されるX線1は、X線反射ミラー2で反射さ
れ、超高真空のポート3内を通って、この先端面に装着
されたX線取出し窓4から連結機構5を介してヘリウム
雰囲気のへリウムチャンバ6内に該チャンバ6に前記X
線取出し窓4に対向させて開口した開口部6aから入り
、X線マスク7に照射される。そして、このX線マスク
7を通して試料である半導体ウェハ8表面にX線を照射
することにより、半導体ウェハ8上にX線マスク7のマ
スクパターンを露光するようなされている。
ここで、前記ポート4の先端部には、ポートフランジ1
0か設けられ、このポートフランジ10の前面に前記X
線取出し窓4がガスケット11を介して気密的に封止さ
れて装着されているとともに、このポートフランジ10
の周囲を囲繞して、上記連結機構5を構成するゴム弾性
を有する弾性部材からなる弾性ベローズ12の一端に固
着したフランジ13が、Oリング14を介在させつつ固
着されている。
この弾性ベローズ12の他端にも、前記フランジ13と
ほぼ左右対称なフランジ15が固着され、このフランジ
15は、前記へリウムチャンバ6の開口部6aの周囲に
Oリング16を介在させつつ固着されている。
このように、X線取出し窓4とへリウムチャンバ6とを
連結する連結機構5をゴム弾性を有する弾性ベローズ1
2で構成することにより、ポート3の先端ひいてはX線
取出し窓4が振動しても、この振動を減衰効果の大きい
弾性ベローズ12によって確実に減衰させて、この振動
かへリウムチャンバ6に伝わってしまうことがないよう
に構成されている。
そして、上記両フランジ1.3,1.5は、互いに対面
する如く配置され、一方のフランジ15のこの対向面に
は、Oリング17が配設され、これによって、この両フ
ランジ13.15は互いに気密的に密着接合するような
されている。
一方、前記へリウムチャンバ6の下面には、これを前記
X線取出し窓4の方向に移動させるための車輪18が備
えられている。
これにより、ヘリウムチャンバ6内のヘリウム置換の際
の真空引きを、第2図に示すような状態で行うようにな
されている。
即ち、車輪18を介してヘリウムチャンバ6をX線取出
し窓4の方向に移動させ、この移動に伴って弾性ベロー
ズ12を徐々に折り畳んでゆき、この弾性ベローズ12
の両端に固着したフランジ13.15をその対向面で密
着当接させ、0リング16を介して気密的に封止する。
そして、この状態でヘリウムチャンバ6内の真空引きす
ることにより、この内部は真空にシールされ、しかも弾
性ベローズ12には圧縮力がかからないので、真空引き
の力によって、ヘリウムチャンバ6とX線取出し窓4の
双方が互いに引き寄せられる方向に力を受けてしまうこ
とはない。
なお、上記実施例においては、ヘリウムチャンバ6をポ
ート3の先端のX線取出し窓4の方向に移動できるよう
にした例を示しているが、逆にポート3の先端をヘリウ
ムチャンバ6の方向に移動できるようにしたり、或いは
双方が互いに接離する方向に移動自在に構成するように
することもできる。
〔発明の効果〕
以上詳述したように本発明によれば、X線取出し窓とチ
ャンバとの連結機構を、振動減衰の大きなばね弾性を有
する弾性ベローズで構成することにより、X線取出し窓
から生じる振動がチャンバに伝わってしまうことを防止
して、転写の際にX線マスクと試料としての半導体ウェ
ハとの位置合わせ精度が損なわれてしまうことを防止す
ることができる。
また、チャンバ内のX線低減衰雰囲気へ置換の時の真空
引き際し、この時の力によって弾性ベローズに圧縮力が
生じチャンバとX線取出し窓の双方が互いに引き寄せら
れる方向に力を受けてしまうことを防止し、これによっ
て、ポートの先端部のX線取出し窓装着部やチャンバの
支持剛性を上げる必要をなくして、装置としての大型化
及びコストアップに繋がってしまうことを防止すること
ができる。しかも、チャンバを真空引きする際の真空度
を妨げることがないため、チャンバ内のX線低減衰雰囲
気純度を悪化させてしまうことのないX線露光装置を構
成することができるといった効果がある。
18・・・車輪。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明の一実施例を示し、第1図は
露光時における概略構成図、第2図はへリウムチャンバ
内の真空引き時における概略構成図、第3図は従来例を
示す概略構成図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、X線を発生させるX線源と、このX線源から放射さ
    れたX線を通過させ先端面にX線取出し窓を装着した高
    真空のポートと、前記X線取出し窓に向けて開口する開
    口部を有し該X線取出し窓から放射されるX線をX線マ
    スク面まで照射する間をX線低減衰雰囲気にするチャン
    バとを具備し、X線マスクのマスクパターンを試料面に
    照射することで該試料上にマスクパターンを露光するX
    線露光装置において、前記ポート先端のX線取出し窓装
    着部と前記チャンバの開口部とをゴム弾性を有する弾性
    部材から構成された弾性ベローズによって気密的に連結
    したことを特徴とするX線露光装置。 2、前記ポート先端のX線取出し窓装着部又は前記チャ
    ンバの少なくとも一方を互いに接離する方向に移動自在
    に構成するとともに、前記弾性ベローズの両端部に互い
    に気密的に密着接合するフランジを設けたことを特徴と
    する請求項1記載のX線露光装置。
JP2259645A 1990-09-28 1990-09-28 X線露光装置 Pending JPH04136943A (ja)

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