JPH1165094A

JPH1165094A - 収納ケース、露光装置及びデバイス製造装置

Info

Publication number: JPH1165094A
Application number: JP24027697A
Authority: JP
Inventors: Yutaka Endo; 豊遠藤
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1997-08-22
Filing date: 1997-08-22
Publication date: 1999-03-05

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】酸素により吸収される特性を有するエネルギー
線を用いても、効率よく原板のパターン転写を行うこと
ができ、また不活性ガス雰囲気等を破ることなく、迅速
に原板を交換することのできる露光装置、デバイス装置
及びそれに用いる収納ケースを提供する。【解決手段】収納するレチクルＲの表面に対してほぼ平
行で、少なくとも一部がレチクルＲを照射するエネルギ
ー線が透過可能な材質から形成されたガラス板１１ａ、
１１ｂを有し、収納ケース内は、不活性ガスが供給され
ているので、レチクルＲのパターンを描画するエネルギ
ー線が酸素により吸収される特性を有するものであって
も、収納ケースごと、エネルギー線が通過する位置にお
けば、少なくともガラス板１１ａ、１１ｂの間に酸素が
存在しない状態を生じさせることができ、それによりエ
ネルギー線の利用効率を向上させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、収納ケース、露光
装置及びデバイス製造装置に関し、更に詳細には紫外域
の光、特に酸素の吸収スペクトルと重なり合うスペクト
ル光を射出するエキシマレーザ光、高調波レーザ光、Ｘ
線や電子ビーム等をエネルギー線として用いる露光装置
やデバイス製造装置、及びそれに用いる収納ケースに関
する。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子又は液晶基板等を製造するた
めのリソグラフィ工程において、レチクル（フォトマス
ク等）のパターン像を投影光学系を介して感光基板上に
露光する露光装置が使用されている。近年、半導体集積
回路は微細化の方向で開発が進み、リソグラフィ工程お
いては、より微細化を求める手段としてリソグラフィ光
源の露光波長を短波長化することが考えられている。

【０００３】現在、波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレ
ーザをステッパー光源として採用した露光装置がすでに
開発されている．また、Ｔｉ−サファイアレーザ等の波
長可変レーザの高調波、波長２６６ｎｍのＹＡＧレーザ
の４倍高調波、波長２１３ｎｍのＹＡＧレーザの５倍高
調波、波長２２０ｎｍ近傍または１８４ｎｍの水銀ラン
プ、１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ等が短波長光源
の候補として注目されている。

【０００４】従来のｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザ
あるいは波長２５０ｎｍ近傍の光を射出する水銀ランプ
を光源とした露光装置では、これらの光源の発光スペク
トル線は図５に示すような酸素の吸収スペクトル領域と
は重ならず、酸素の吸収による光利用効率の低下および
酸素の吸収によるオゾンの発生に起因する不都合はなか
った。したがって、これらの露光装置では基本的に大気
雰囲気での露光が可能であった。

【０００５】しかしながら、図示のように、ＡｒＦエキ
シマレーザのような光源では、発光スペクトル線は酸素
の吸収スペクトル領域と重なるため、上述の酸素の吸収
による光利用効率の低下および酸素の吸収によるオゾン
の発生に起因する不都合が発生する。たとえば、真空
中、または窒素あるいはヘリウムのような不活性ガス中
でのＡｒＦエキシマレーザ光の透過率を１００％／ｍと
すれば、フリーラン状態（自然発光状態）すなわちＡｒ
Ｆ広帯レーザでは約９０％／ｍ、図示のようにスペクト
ル幅を狭め且つ酸素の吸収線を避けたＡｒＦ狭帯レーザ
を使用した場合でさえ、約９８％／ｍと透過率が低下す
る。

【０００６】透過率の低下は、酸素による光の吸収およ
び発生したオゾンの影響によるものと考えられる。オゾ
ンの発生は透過率（光利用効率）に悪影響を及ぼすばか
りでなく、光学材料表面や他の部品との反応による装置
性能の劣化および環境汚染を引き起こす。

【０００７】このように、ＡｒＦエキシマレーザのよう
な光源を有する露光装置では、光の透過率の低下やオゾ
ンの発生を回避するために光路全体を窒素等の不活性ガ
スで満たす必要があることはよく知られている（特開平
６−２６０３８５号）。一般に露光装置は、光源の光で
レチクルを均一に照明するための照明光学系と、レチク
ルに形成された回路パターンをウェハ上に結像させるた
めの投影光学系と、ウェハを支持し且つ適宜移動させて
位置決めするためのステージ装置を有している（特開平
６−２６０３８５）。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上述のような構成の露
光装置では、光源から投影光学系までは基本的に駆動し
ないユニット部から構成されている。また、スキャン光
学系では露光中にレチクルを移動させたとしてもその交
換頻度は少ない。さらに、照明光学系に挿入するσ絞り
等の交換のための駆動部はあるものの、露光中の交換は
なく且つ交換頻度も少ない。したがって、光源から投影
光学糸の最終光学部材（レンズ等）までを容器で包囲
し、その容器内の空気を不活性ガスで置換すれば、１つ
の露光工程中にその不活性ガス雰囲気が破られることは
あまりない。

【０００９】しかしながら、半導体デバイスを製造する
過程においては、レチクルを複数枚用いるのが一般的で
あり、特にＡＳＩＣと呼ばれる特定用途向け半導体デバ
イスの製造においては、レチクルの交換頻度は高い。し
たがって、投影光学系の端部からステージ装置全体にか
けて容器で包囲して不活性ガスを充填する方法では、レ
チクルを交換する度に不活性ガスを充填する必要があ
り、スループットが著しく低下するという不都合があっ
た。

【００１０】くわえて、Ｘ線や電子ビームをエネルギー
線として用いることにより、原板に形成されたパターン
を転写するデバイス製造装置も徐々に実用化されつつあ
る。ところが、かかるＸ線や電子ビームは大気雰囲気中
では急速に減衰する特性を有するため、パターン転写を
効果的に行うことができない。そこでデバイス製造装置
全体を密閉し、内部を真空に維持する必要がある。しか
しながら、かかるデバイス製造装置においても、原板を
交換する必要があり、真空状態を破ることなく、原板交
換を迅速に行う技術が要求されている。

【００１１】本発明は、前記の課題に鑑みてなされたも
のであり、酸素により吸収される特性を有するエネルギ
ー線を用いても、効率よく原板のパターン転写を行うこ
とができ、また不活性ガス雰囲気又は真空状態を破るこ
となく、迅速にウェハ又は原板を交換することのできる
露光装置、デバイス装置及びそれに用いる収納ケースを
提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】かかる目的を達成すべ
く、本発明の原板（Ｒ）を収納する収納ケース（１０）
は、収納する原板（Ｒ）の表面に対してほぼ平行で、少
なくとも一部が原板を照射するエネルギー線が透過可能
な材質から形成された第１の面（１１ｂ）と第２の面
（１１ｃ）とを有し、収納ケース（２０）内は、不活性
ガスが供給されていることを特徴とする。

【００１３】本発明の収納ケース（２０）によれば、収
納する原板（Ｒ）の表面に対してほぼ平行で、少なくと
も一部が原板を照射するエネルギー線が透過可能な材質
から形成された第１の面（１１ｂ）と第２の面（１１
ｃ）とを有し、収納ケース（２０）内は、不活性ガスが
供給されているので、原板（Ｒ）のパターンを描画する
エネルギー線が酸素により吸収される特性を有するもの
であっても、収納ケース（２０）ごと、エネルギー線が
通過する位置におけば、少なくとも第１の面（１１ｂ）
と第２の面（１１ｃ）との間に酸素が存在しない状態を
生じさせることができ、それによりエネルギー線の利用
効率を向上させることができる。

【００１４】本発明の、露光光を原板（Ｒ）に照射する
ことにより、原板（Ｒ）に形成されたパターンを基板
（Ｗ）に転写する露光装置は、原板（Ｒ）を収納し、不
活性ガスが供給された収納ケース（１０）と、露光光の
照射位置に原板（Ｒ）が位置するように、原板（Ｒ）を
収納した状態で収納ケース（１０）を保持する保持装置
（ＣＨ）とを有することを特徴とする。

【００１５】本発明の露光装置によれば、原板（Ｒ）を
収納し、不活性ガスが供給された収納ケース（１０）
と、露光光の照射位置に原板（Ｒ）が位置するように、
原板（Ｒ）を収納した状態で収納ケース（１０）を保持
する保持装置（ＣＨ）とを有するので、露光光が酸素に
より吸収される特性を有するものであっても、少なくと
も露光光が通過する収納ケース（１０）内に酸素が存在
しない状態を生じさせることができ、それにより露光光
の露光効率を向上させることができる。

【００１６】本発明の、真空中でエネルギー線を原板
（Ｒ）に照射することにより、原板（Ｒ）に形成された
パターンを転写するデバイス製造装置は、デバイス製造
装置を真空状態で覆うチャンバ（１００）と、チャンバ
（１００）と原板（Ｒ）を収納する収納ケース（２０）
とを着脱する着脱装置（Ｃ１）と、収納ケース（２０）
内からエネルギー線の照射位置まで原板（Ｒ）を搬送す
る搬送装置（Ｃ２）とを有し、収納ケース（２０）は、
真空状態で原板（Ｒ）を収納し、着脱装置（Ｃ１）は、
チャンバ（１００）内と収納ケース（２０）内の真空状
態を維持して、収納ケース（２０）内の原板（Ｒ）を搬
送装置（Ｃ２）が出し入れできるように収納ケース（２
０）をチャンバ（１００）に着脱することを特徴とす
る。

【００１７】本発明のデバイス製造装置によれば、着脱
装置（Ｃ１）が、チャンバ（１００）内と収納ケース
（２０）内の真空状態を維持して、収納ケース（２０）
内の原板（Ｒ）を搬送装置（Ｃ２）が出し入れできるよ
うに収納ケース（２０）をチャンバ（１００）に着脱す
るので、チャンバ（１００）内を真空状態に維持しつつ
も、原板の交換を迅速に行うことができる。

【００１８】

【発明の実施の態様】本発明の実施の態様を、添付図面
に基づいて説明する。図１は、本発明の第１の実施の態
様にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。図
示の装置は、例えばＡｒＦエキシマレーザのような短波
長レーザ光を射出する光源ＥＸＬを備えている。光源Ｅ
ＸＬを発した光ビームは、適宜配置された複数のミラー
等によって構成される適当な照明光学系を介して、後述
する収納ケース１０に収納された、原板としてのレチク
ルＲを均一に照明する。光源ＥＸＬからレチクルＲに至
る光路は、照明光学系ＩＬを構成している。照明光学系
ＩＬは容器ＶＳ１により包囲され、この容器ＶＳ１には
バルブＶ５を介して、不活性ガスであるイオン化された
窒素ガスが供給されるようになっている。なお、容器Ｖ
Ｓ１の一端は光源ＥＸＬに密着又は極めて近接し、容器
ＶＳ１の他端は収納ケース１の上面に密着（近接）して
いる。

【００１９】レチクルＲを通過した光は、投影光学系Ｐ
Ｌを構成する種々の光学部材を介して図示を省略したウ
エハステージに載置されたウェハＷの表面に到達し、レ
チクルＲ上のパターンを結像する。投影光学系ＰＬもま
た容器ＶＳ２により包囲され、この容器ＶＳ２にはバル
ブＶ１を介して窒素ガスが供給されるようになってい
る。

【００２０】照明光学系ＩＬを包囲している容器ＶＳ１
は、バルブＶ６、酸素センサＳ及びロータリポンプＲＰ
を介して排気ダクトにつながっている。一方、投影光学
系ＰＬを包囲している容器ＶＳ２は、バルブＶ２、酸素
センサＳ及びロータリポンプＲＰを介して排気ダクトに
つながっている。

【００２１】投影光学系ＰＬの最終光学部材とウェハＷ
との間にも適当な手段により、窒素ガス雰囲気が形成さ
れるようになっている。具体的には、投影光学系ＰＬの
下端からウェハＷが載置されたステージ装置全体を容器
（不図示）で包囲し、その容器に窒素ガスを充填する手
法や、投影光学系ＰＬの下端とウェハＷとの間の開放空
間に窒素ガスを連続的に供給して窒素ガス雰囲気を形成
する手法がある。なお、窒素ガス雰囲気を形成する代わ
りに、投影光学系ＰＬの最終光学部材とウェハＷとの間
隔を極力小さくすることにより、レーザ光が極力吸収さ
れないようにしても良い。

【００２２】図２は、本実施の態様にかかるレチクルＲ
を収納する収納ケースを示す斜視図であり、図３は、か
かる収納ケースの断面図である。収納ケース１０は、一
面が開放した箱状の本体１１と、かかる一面を遮蔽する
蓋部１２とを有する。

【００２３】収納ケース１０の本体１１は、その上面及
び下面に、レーザ光を透過する第１の面及び第２の面と
してのガラス板１１ａ、１１ｂを互いに平行にはめ込ん
でおり、本体１１とガラス板１１ａ、１１ｂとの間には
接着剤又はシール剤等を充填し、気体が漏れないように
している。

【００２４】本体１１の側面には、固定部１１ｃが取り
付けられており、更に固定部１１ｃに対して、回転爪部
１１ｄがその一端を回転可能に取り付けられている。回
転爪部１１ｄは、その上下面にワイヤ１１ｅの両端が連
結されている。ループ状となったワイヤ１１ｅは、蓋部
１２の側部に形成されたタブ１２ａに掛けられ、回転爪
部１１ｄを倒した状態（図２）においては、その張力で
蓋部１２を本体１１側に引き寄せている。なお、図２に
おいては見えないが、本体１１の両側面に、同様な固定
部１１ｃ、回転爪部１１ｄ、ワイヤ１１ｅが配置されて
いる。

【００２５】図３に示すように、レチクルＲは、本体１
１のガラス板１１ａ、１１ｂ間に、支持部１１ｆ、１１
ｇを介して保持される。より具体的には、レチクルＲ
は、上下方向においてはレチクルＲの自重により支持部
１１ｆ、１１ｇに保持され、一方水平方向においては、
支持部１１ｆ、１１ｇをレチクルＲに押し付けてクラン
プすることにより保持されている。レチクルＲを用いた
露光時には、収納ケース１０ごと露光装置（図１）に装
着されるようになっており、かかる場合レーザ光は、ガ
ラス板１１ａから入射してレチクルＲを照射し、一方レ
チクルＲのパターン像を含むレーザ光はガラス板１１ｂ
から出射するようになっている。なお、ガラス板１１
ｂ、１１ｃの代わりに、上面及び下面全体若しくは本体
の全ての面を露光光が透過可能な他の材料を用いても良
い。本体１１における蓋部側の周縁には、溝部１１ｈが
形成されている。溝部１１ｈ内にはＯ−リング１３が配
置されている。Ｏ−リング１３は、蓋部１２が閉じられ
たときに、本体１１と蓋部１２とのすき間から本体内部
の気体の洩れを防止する、または外部からの気体の流入
を防止するためのものである。

【００２６】収納ケース１０内のレチクルＲを交換する
場合には、回転爪部１１ｄを図２の矢印方向に回転させ
る。そうすると、ワイヤ１１ｅの張力が減少し、ワイヤ
１１ｅを蓋部１２のタブ１２ａから簡単に外すことがで
きる。ワイヤ１１ｅをタブ１２ａから外せば、蓋部１２
を本体１１から引き離すことができ、それによりレチク
ルＲを交換することができる。

【００２７】蓋部１２は、正面にコネクタ１２ｂと１２
ｃとを有する。かかるコネクタ１２ｂは、収納ケース１
０内においてガス交換する際に、外部から窒素ガスを供
給する場合の吸気口となり、コネクタ１２ｃは、収納ケ
ース１０内の空気の排気口となる。

【００２８】ところで、収納ケース１０は、その内部を
窒素ガスで満たされた後、露光装置に搬送され、保持装
置ＣＨにより保持された状態で、照明系ＩＬと投影光学
系ＰＬとの間にすき間なくセットされる。図３に示すよ
うに、保持装置ＣＨは、板状の支持部ＣＨ１と、レーザ
光が透過可能なガラス部ＣＨ２とを有する。

【００２９】支持部ＣＨ１は、その上面中央に矩形状の
凹部ＣＨ３を形成しており、かかる凹部ＣＨ３内にガラ
ス部ＣＨ２を嵌合させ、支持部ＣＨ１とガラス部ＣＨ２
との間に接着剤又はシール剤等を充填し、空気が漏れな
いようにしている。なお、凹部ＣＨ３の断面形状は、収
納ケース１０の底部の形状と一致している。更に支持部
ＣＨ１は、凹部ＣＨ３の上面から支持部ＣＨ１側面に至
る貫通孔ＣＨ４を形成している。貫通孔ＣＨ４の側面開
口部には、コネクタＣＮが取り付けられており、更にコ
ネクタＣＮと不図示の真空圧源とはホースＨＳにより連
結されている。

【００３０】保持装置ＣＨの凹部ＣＨ３内に配置された
収納ケース１０は、不図示の真空圧源の真空圧によりそ
の底部を吸引されることにより、凹部ＣＨ３に密着して
取り付けられる。従って、収納ケース１０のガラス板１
１ｂと保持装置ＣＨのガラス部ＣＨ２とは、密着して配
置され、それによりガラス板１１ｂとガラス部ＣＨ２と
の間に、レーザ光の透過率を低下させる空気が介在しな
いようになっている。また、部材の反り等によりガラス
板１１ｂとガラス部ＣＨ２との間にわずかにすき間がで
きたとしても、真空圧源の真空圧により、かかるすき間
内の空気は吸引されるため、レーザ光の透過率を低下さ
せることはない。

【００３１】更に、収納ケース１０内は、窒素ガスで満
たされているために、レーザ光が収納ケース１０内を通
過しても、その透過率は低下しない。また、ガラス板１
１ｂ、１１ｃにゴミ等の異物が付着しても、通常は焦点
深度外に存在することとなるので、露光に悪影響を与え
る恐れは低い。

【００３２】一方、図示するように、照明光学系ＩＬと
収納ケース１０との間、及び収納ケース１０と投影光学
系ＰＬとの間の空間は極めて狭小であるため、かかる空
間に存在する酸素はわずかであり、よってかかる空間を
レーザ光が通過しても、透過率はほとんど低下しない。

【００３３】上述したように、収納ケース１０内にはレ
チクルＲが収納され、かつ窒素ガスが満たされている
が、かかるレチクルＲは永久的に収納され続けるわけで
はなく、レチクルＲの交換が必要となる場合も多い。と
ころが、収納ケース内のレチクルＲを交換するために蓋
部１２を開くと、収納ケース１０内に封入されていた窒
素ガスが、空気に置換されてしまうこととなる。

【００３４】そこで、レチクル交換後に、収納ケース１
０内の空気を窒素ガスに交換することが必要となる。図
２において、図示しない窒素ガスボンベに接続されたホ
ースの外部コネクタを、コネクタ１２ｂに接続する。一
方、コネクタ１２ｃにも、図示しないバキュームポンプ
に接続されたホースの外部コネクタ（不図示）を接続す
る。

【００３５】コネクタ１２ｂ、１２ｃは、外部コネクタ
に接続されると内蔵した弁が開き、それにより気体の流
通を可能とする。従って、窒素ガスボンベからの窒素ガ
スは、コネクタ１２ｂを介して徐々に収納ケース１０内
に満たされ、一方、収納ケース１０内の空気は、コネク
タ１２ｃを介してバキュームポンプ側へと吸い出される
ようになっている。一定量の窒素ガスを収納ケース１０
に充填すれば、ケース内はかかる窒素ガスで満たされ
る。その段階で、コネクタ１２ｂ、１２ｃから外部コネ
クタを外せば、コネクタ１２ｂ、１２ｃ内の弁が閉じ、
窒素ガスはケース内に封入されることとなる。

【００３６】次に、本願発明の別な実施の態様を説明す
る。エネルギー線としてのＸ線は、大気中における吸収
率が極めて高いため、パターンの描画の際には、Ｘ線が
通過する空間を真空にしなければならない。同様にし
て、エネルギー線としての電子ビームも、電子が空気の
分子と散乱等の相互作用を受けないようにするため、電
子ビームが通過する空間を真空にしなければならない。

【００３７】従って、Ｘ線等を用いたデバイス製造装置
においては、装置を覆うチャンバ内は真空とされている
のが一般的である。しかしながら、かかる場合にも、レ
チクルの交換は必要であり、どのようにして真空状態を
維持しながらレチクル交換のために、レチクルを真空状
態のチャンバ内に搬入又は搬出するかが問題となってい
る。

【００３８】図４に示す実施の態様は、かかる問題を解
決するものである。図４において、レチクルＲを収納す
る収納ケース２０は、箱状の本体２１と、本体２１取り
付けられた扉２２と、シール部２３とを有する。本体２
１は、その一面が開放しており、ここに開放口２１ａを
有する。開放口２１ａ内において、扉２２は、その上端
を中心として回転自在に本体２１に支持されており、自
由状態では弱いスプリング（不図示）により図４に示す
位置まで跳ね上げられている。なお、扉２２は、閉じた
状態（破線で示す）で、その下端をシール部２１ｂに当
て、開放口２１ａの全体を閉鎖する。開放口２１ａの端
部周縁には、シール部２３が配置されている。

【００３９】一方、チャンバ１００内は、真空状態に維
持され、不図示のデバイス製造装置が配置されている。
チャンバ１００は、収納ケース２０の開放口２１ａに対
応する形状の開口１０１が形成されている。

【００４０】開口１０１を開閉するチャンバ扉１０２
が、チャンバ１００の壁面に沿って移動可能に配置され
ている。チャンバ扉１０２が閉じた状態（破線で示す）
において、チャンバ扉１０２とチャンバ１００との間を
シールするシール部材１０３が、チャンバ１００の開口
１０１の周囲に配置されている。搬送装置としての搬送
アームＣ２が、開口１０１に隣接して設けられている。

【００４１】収納ケース２０内にレチクルＲを収納し、
不図示の排気口を介して内部を真空にすると、大気圧と
の気圧差により扉２２は、スプリング（不図示）の弾性
力に関わらず、本体２１側に押されてシール部２１ｂに
強く当たる。それにより、開放口２１ａは閉鎖されるた
め、以降収納ケース２０内部に空気が侵入することはな
い。

【００４２】ここで、レチクルＲをチャンバ１００内に
入れようとするときは、着脱装置としての外部アームＣ
１により収納ケース２０を挟み、収納ケース２０の開放
口２１ａを、チャンバ１００の開口１０１に押し付ける
ようにする。このとき、シール部２３が、収納ケース２
０の本体２１内部と、チャンバ１００の外壁との間をシ
ールするようになるため、外部から開放口２１ａへと空
気が侵入することはなくなる。

【００４３】収納ケース２０をチャンバ１００に押し付
けたまま、チャンバ扉１０２を不図示の駆動系により開
放すると、扉２２と扉１０２との間に存在していた空気
がチャンバ１００内に流出し、扉２２は不図示のスプリ
ングに弾性力により図４に示す状態まで回転する。かか
る状態においては、搬送アームＣ２の先端を収納ケース
２０内部へ挿入することができ、それによりレチクルＲ
をチャンバ１００内へ搬送することが可能となる。な
お、扉２２は、空気圧差を利用した開閉手法のみなら
ず、チャンバ１０２の開閉に連動して不図示の駆動系に
よる開閉も可能である。レチクルＲを収納ケース２から
搬送した後に、チャンバ扉１０２は再び閉じられる。レ
チクルＲは、搬送アームＣ２により、レチクルＲを載置
するレチクルステージまで搬送される。

【００４４】図４に示す実施の形態は、チャンバ１００
内が真空でなく、不活性ガスを満たした状態でも適用し
うる。但しその場合には、収納ケース２０の扉２２を開
放させる別な機構が必要となる。

【００４５】

【発明の効果】以上述べたように、本願発明の収納ケー
スによれば、収納する原板の表面に対してほぼ平行で、
少なくとも一部が原板を照射するエネルギー線が透過可
能な材質から形成された第１の面と第２の面とを有し、
収納ケース内は、不活性ガスが供給されているので、原
板のパターンを描画するエネルギー線が酸素により吸収
される特性を有するものであっても、収納ケースごと、
エネルギー線が通過する位置におけば、少なくとも第１
の面と第２の面との間に酸素が存在しない状態を生じさ
せることができ、それによりエネルギー線の利用効率を
向上させることができる。

【００４６】本発明の露光装置によれば、原板を収納
し、不活性ガスが供給された収納ケースと、露光光の照
射位置に原板が位置するように、原板を収納した状態で
収納ケースを保持する保持装置とを有するので、露光光
が酸素により吸収される特性を有するものであっても、
少なくとも露光光が通過する収納ケース内に酸素が存在
しない状態を生じさせることができ、それにより露光光
の露光効率を向上させることができる。

【００４７】本発明のデバイス製造装置によれば、着脱
装置が、チャンバ内と収納ケース内の真空状態を維持し
て、収納ケース内の原板を搬送装置が出し入れできるよ
うに収納ケースをチャンバに着脱するので、チャンバ内
を真空状態に維持しつつも、原板の交換を迅速に行うこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の態様にかかる露光装置の
構成を概略的に示す図である。

【図２】本実施の態様にかかるレチクルＲを収納する収
納ケースを示す斜視図である。

【図３】収納ケース１０を保持装置ＣＨの保持した状態
で切断した断面図である。

【図４】本願発明の別な実施の態様を示す、収納ケース
とチャンバの一部とを示す図である。

【図５】酸素の吸収スペクトルを示す図である。

【符号の説明】

１０，２０………収納ケース１１、２１………本体１２………蓋部２２………扉１００………チャンバ１０２………チャンバ扉Ｒ………レチクルＣ１………外部アームＣ２………搬送アームＣＨ………保持装置

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】原板を収納する収納ケースにおいて、前記収納する原板の表面に対してほぼ平行で、少なくと
も一部が前記原板を照射するエネルギー線が透過可能な
材質から形成された第１の面と第２の面とを有し、前記収納ケース内は、不活性ガスが供給されていること
を特徴とする収納ケース。
【請求項２】前記第１，第２の面は、前記エネルギー
線が各々の面を照射する照射領域のみ前記材質で形成さ
れていることを特徴とする請求項１に記載の収納ケー
ス。
【請求項３】前記エネルギー線は、酸素に対して吸収
性を有する波長帯の光であることを特徴とする請求項１
又は２に記載の収納ケース。
【請求項４】前記収納ケースは、更に、前記不活性ガ
スの封入口を少なくとも一つ有し、前記原板を収納した状態で前記不活性ガスを前記封入口
より封入できることを特徴とする請求項１から３までの
何れか１項に記載の収納ケース。
【請求項５】前記不活性ガスは、イオン化された窒素
ガスであることを特徴とする請求項１から４までの何れ
か１項に記載の収納ケース。
【請求項６】露光光を原板に照射することにより、原
板に形成されたパターンを基板に転写する露光装置にお
いて、前記原板を収納し、不活性ガスが供給された収納ケース
と、前記露光光の照射位置に原板が位置するように、前記原
板を収納した状態で前記収納ケースを保持する保持装置
とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項７】前記収納ケースは、少なくとも一部が前
記露光光を透過可能な材質から形成されていることを特
徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】前記露光光は、酸素に対して吸収性を有
する波長帯の光であることを特徴とする請求項６又は７
に記載の露光装置。
【請求項９】前記不活性ガスは、イオン化された窒素
ガスであることを特徴とする請求項６に記載の露光装
置。
【請求項１０】真空中でエネルギー線を原板に照射す
ることにより、原板に形成されたパターンを転写するデ
バイス製造装置において、前記デバイス製造装置を真空状態で覆うチャンバと、前記チャンバと前記原板を収納する収納ケースとを着脱
する着脱装置と、前記収納ケース内から前記エネルギー線の照射位置まで
前記原板を搬送する搬送装置とを有し、前記収納ケースは、真空状態で前記原板を収納し、前記着脱装置は、前記チャンバ内と前記収納ケース内の
真空状態を維持して、前記収納ケース内の前記原板を前
記搬送装置が出し入れできるように前記収納ケースを前
記チャンバに着脱することを特徴とするデバイス製造装
置。
【請求項１１】前記収納ケースは、開閉可能な扉を有
し、前記着脱装置は、前記扉を開閉して前記収納ケースの着
脱を行うことを特徴とする請求項１０に記載のデバイス
製造装置。