JPS59101833A - Ｘ線露光装置 - Google Patents

Ｘ線露光装置

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JPS59101833A
JPS59101833A JP57211407A JP21140782A JPS59101833A JP S59101833 A JPS59101833 A JP S59101833A JP 57211407 A JP57211407 A JP 57211407A JP 21140782 A JP21140782 A JP 21140782A JP S59101833 A JPS59101833 A JP S59101833A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野） 本発明はＸ線露光装置に関するものである。
〔従来技術〕
Ｘ線露光装置の露光方式には一般に真空中露光と大気中
露光が考えられている。
従来から主に行なわれていた真空中露光では、マスク、
ウェハを共にＸ線源のある真空室内に入れて露光する方
式で、Ｘ線が真空室外に出ることがないためＸ線の減衰
が少なく、露光効率が高い反面、マスクやクエへの取扱
い、位置合わせを真空室内で行なわなければならないた
め歩留が低い等の問題があった。
このためクエへを大気中において露光を行なう大気中露
光が主流となってきた。
この大気中露光方式ではＸ線源を真空室内に置き、発生
したＸ線を、Ｘ線を通しやすいヘリウムガス等をほぼ１
気圧の圧力で充填した気密室と、気密室の一端に取付け
たマスクを通して０、このマスクと１０μｍ−数１０１
１ｍに近接させたクエへに照射するものである。したが
ってマスクは一面をヘリウムガス等を充填した気密室に
面し。
他の一面を大気に面する様に取付けなければならない。
しかも、大気中露光方式ではへ９クムガス等によ、９Ｘ
線の減衰が大きいためマスクは出来るだけ薄くしたいと
言う要求がある。
このためヘリウムガスを充填した気密室と大気の圧力差
によシマスフが振動すると言う問題が起きるという欠点
があった。
そこで大気圧と気密室間の圧力差を検出して気密空間内
のへ９クムガス圧力を圧力調整弁で制御する方法が考え
られる。しかしこの方法では検出遅れ、圧力調整弁作動
遅れがめシ、更には圧力調整弁の圧力調整精度にも問題
があった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、°−上記従来の欠点をなくし、Ｘ線源
とマスク間の気密空間内の圧力を大気圧と同調させ、マ
スクの振動をなくすることで、露光時に生じるパターン
端のポクを防止して、ウェハ上にマスク上のパターンを
鮮明に転写出来るようにしたＸ線露光装置を提供するに
ある。
〔発明の概要〕
本発明の特徴は、マスクよ）も十分に柔軟な部材の窓を
気密空間と大気の間に設けたことである。これによシ大
気圧が気密空間の圧力よシ高くなるとマスクよシも先に
柔軟な部材が気密空間側に凹み、逆に大気圧が気密空間
の圧力より低くなると柔軟な部材が凸となシ気密空間の
圧力と大気圧を同調させマスクの振動を防止する。この
方法によると、十分に柔軟な部材な用い、マスクの付近
に窓な設けることで微小な圧力変化も防止することが可
能である。
〔発明の実施例） 本発明を第１図〜第３図に従って具体的に説明する。
Ｘ線露光装置は第１図に示す様に、電子銃１とターゲッ
ト２及びターゲット２から発生した軟Ｘ線２′を取シ出
すべ９９クム製の窓３を存するｘｆｓ発生装置４とこの
Ｘ線発生装置と接続し。
てベローズ５、保持部材６、マスクステージ７及びマス
クステージＺ上に真空保持７′されるマスク８と今回の
発明による柔軟部材の窓９から構成され中にへ９クムガ
スをほぼ大気と同じ圧力で充填した気密室１ｏと、マス
ク８と１０μｍから数１０μｍの間をおいて相対するウ
ェハ１１とウェハ１１を真空保持１２’するクエハトヤ
ック１２、マスク８とウェハ１１の間隔をｉｏＩｔｍか
ら数１０μｍ　ノ定メられた距離に保持させるためクエ
へ１１を矯正する矯正素子１２＃、ウェハ１１及びウェ
ハチャック１２を回転及び水平方向に自在に移動可能な
様に支持したθステ１ジ１３、ｘステージ１４、Ｙステ
ージ１５から成立っている。　、この構成において、タ
ーゲット２で発生したＸ線３がウェハ上に達するまりに
はぺ９リクム窓６、ヘリウムガスを充填した気密室１０
．及びマスク８を透過しなければならない。一般に軟Ｘ
線２１のそれぞれに対する透過率は９０％、９６％。
７０％程度でありクエ／）１１上に到達する軟Ｘ線量２
′は６０％程度になる。
ウニ八１１上に到達する軟Ｘ線２′量を多くするために
、マスク８をさ６に薄くすることが要求されている。
しかし、マスク８を薄くすると強度が低下し、柔軟部材
９の窓のない気密室１０では大気との圧　ｌ力差が気密
室１０を構成する部材の中で一番強度の弱いマスク８を
変形させ振動を起し、マスク８上のパターンをウェハ１
１上に鮮明に転写出来ない。
第２図、反び第６図に示す今回の発明による七分に柔軟
な部材９による窓をマスク附近に設けると気密室１０と
大気との間に圧力差が生じても、マスク８が変形を起こ
す前にゴム製の薄膜等の柔難な部材９が変形し、気密室
１０の圧力と大気圧を同調させるためマスク８が圧力差
のため変形し振動を起すことがなくなった。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、Ｘ線露光装置にお
いて、大気中露光方式で問題となっていたマスク振動を
防−上出来るため、マスク上のパターンを鮮明に、しか
も高効率でフェノ）に転写出来る様忙なシ、サブミクロ
ンノ（ターンのＬＳＩ実現に道をひらくことが出来る効
果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明に係る大気中露光方式によるＸ線露光装
置の一朶施例な示す構成図、第２図は本発明による柔軟
な部材による窓を気密室の壁に付けた状態で露光前の状
況を示す図、第３図は本発明による柔軟な部材による窓
を気密室の壁に付けた状態で露光状態を示す図である。 ２・・・ターゲット、６・・・ベリリクム窓、８・・・
マスク、９・・・柔軟な部材、１１・・・ワエノ１゜オ
　１　国

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. Ｘ線を発生させるＸ線発生装置と、このＸ線発生装置に
    気密結合され、Ｘ線発生装置を結合した面と相対する面
    にマスクを保持する気密室と、ウェハな露光位置に移動
    させるテーブルとを設けたＸ線露光装置において、前記
    気密室に柔軟部材の窓を設けたことを特徴とするＸ＃！
    露光装置。
JP57211407A 1982-12-03 1982-12-03 Ｘ線露光装置 Granted JPS59101833A (ja)

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JP57211407A JPS59101833A (ja) 1982-12-03 1982-12-03 Ｘ線露光装置
EP83112086A EP0110414A3 (en) 1982-12-03 1983-12-01 X-ray lithographic apparatus
US06/557,460 US4516254A (en) 1982-12-03 1983-12-02 X-Ray lithographic apparatus

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JP57211407A JPS59101833A (ja) 1982-12-03 1982-12-03 Ｘ線露光装置

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JPS59101833A true JPS59101833A (ja) 1984-06-12
JPH0360170B2 JPH0360170B2 (ja) 1991-09-12

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EP (1) EP0110414A3 (ja)
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EP0110414A2 (en) 1984-06-13
US4516254A (en) 1985-05-07
EP0110414A3 (en) 1986-03-26

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