JPH03122477A - 冷却装置 - Google Patents

冷却装置

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JPH03122477A
JPH03122477A JP1258844A JP25884489A JPH03122477A JP H03122477 A JPH03122477 A JP H03122477A JP 1258844 A JP1258844 A JP 1258844A JP 25884489 A JP25884489 A JP 25884489A JP H03122477 A JPH03122477 A JP H03122477A
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JP
Japan
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housing
motor
cooling device
actuator
output shaft
Prior art date
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Pending
Application number
JP1258844A
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English (en)
Inventor
Yuji Chiba
千葉 裕司
Nobutoshi Mizusawa
水澤 伸俊
Ryuichi Ebinuma
隆一 海老沼
Eiji Sakamoto
英治 坂本
Shunichi Uzawa
鵜澤 俊一
Takuo Kariya
刈谷 卓夫
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication of JPH03122477A publication Critical patent/JPH03122477A/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70916Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は減圧雰囲気中に駆動部を有する装置において、
特に前記減圧雰囲気が厳しく管理されている環境下にあ
るアクチュエーターの冷却手段を構成するハウジングに
関するものである。
[従来の技術] 近年、半導体製造装置では、LSIの高集積化や高精度
化に伴ない製造過程における環境管理が著しく厳しいも
のになってきた。
例えば、半導体露光装置では、従来可視光や紫外線光を
光源としていたが焼き付は線巾の縮小のため更に光源の
短波長化が進んでいる。その中で、X線露光装置は、S
ORなどからのX線を光源として、露光を行う露光機で
ある。X線は、空気中で強度が著しく減衰するため、本
来真空中で露光することが望ましい。
しかし、露光雰囲気を真空すると従来シリコンウェハの
チャックやハンドリングに用いていたバチューム吸着方
式が使用できなくなる。又真空では、発熱部からの熱の
伝達も悪くなるため、前記露光雰囲気は減圧f(eとす
ることがある。このHeの雰囲気状態はHe中でのX線
の減衰を極力減らし、かつ前記ウェハが保持されるのに
最低限の圧力から決定される。また、温度変化による露
光への悪影響を考慮すると、前記Heの温度、圧力、純
度などの雰囲気環境は厳しく管理する必要がある。
ところで、前記X線露光装置などで使用されるアクチュ
エーターは上述したように特殊環境で使用される0例え
ば、アクチュエーターは単体で耐真空仕様であり、第3
図に示すようにウォータージャケットのハウジングが覆
っている。
以下第3図を用いて説明する。同図において10はアク
チュエーターであり耐真空モータが用いられる。、11
は、そのモータ10の発熱を吸収するためのウォーター
ジャケットである。12はウォータージャケット11の
冷却用配管である水路を示す。18は水路の継手である
モータ10は真空もしくは減圧雰囲気の状態に悪影響し
ないよう、脱ガスを減らし、摺動部は、真空グリスを使
用するなどの対策のとられたものが使用される。ざらに
モータ10の発熱が周辺に伝達しないよう、モータ10
の外側は、冷却用のウォータージャケット11で覆われ
ている。
また、第4図においては、標準のモータを使用した場合
を示す。10はモータである。、11はウォータージャ
ケット、26はフィードスルーでありこれは、例えば、
磁性流体シールを用いたものである。27は伝達シャフ
トである。28はチャンバー壁である。同図におけるモ
ータ10は真空仕様ではないのでチャンバー内に入れる
ことはできない。したがって、フィードスルー26を用
いて、チャンバー壁28の大気側から駆動伝達を行なう
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上記従来例では、上記特殊環境下にてア
クチュエーターを使用する場合、アクチエエータ−は真
空対応であり、発塵の少ないものを選ばなければならず
使用可能なアクチエエータ−の種類が限定されていた。
また、通常のアクチュエーターを特殊環境の外に配した
場合、アクチュエーターの出力部から駆動部までの伝達
系が複雑になりこの配置も制限されていた。
以上に示し・た欠点は、前記X線露光装置などの装置構
成を拘束し、高精度機構の設計に制約を与えるものであ
った。
本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされたものであっ
て、必要に応じていかなる種類のアクチュエーターでも
使用可能とし、かつ駆動伝達構成を複雑にすることなく
X線露光装置等に適用可能な冷却装置の提供を目的とす
る。
[課題を解決するための手段および作用〕本発明によれ
ばアクチュエーター等の冷却装置を前記アクチュエータ
ーを密閉する構造とし・、また前記アクチュエーターと
前記冷却装置内に閉された空間を、冷却装置外周部と同
一成分の気体で大気圧(7s o torr)程度に保
持することが可能tt冷却装置を用いることで、前記冷
却装置外周部の雰囲気条件が厳しく管理されなくてはな
らない場合でも、前記冷却装置内にある前記アクチュエ
ーターの材質、潤滑剤の制約がなくなり、アクチュエー
ターの選択範囲が広がり、高精度なものを自白に選択可
能となる。
[実施例] 以下図面を用いて本発明の実施例について説明する。
第1図は、本発明に係る冷却装置の構成を示す。
10は、本実施例のアクチュエーターであるモータでこ
こでは、ステッピングモータが使用されている。11は
、モータ10を覆っているウォータージャケットであり
、モータ10の冷却を行なう。12はウォータージャケ
ット11内の水路であり、モータ10を冷却するための
冷却水が流れる。13はモータ10の出力軸と駆動軸を
連結するカップリング、14はモータ1oのリード線に
つけられたコネクタで、コネクタ14はウォータージャ
ケット11に固定されシールされているしたがって、コ
ネクタ14からウォータージャケット11内への外気の
流入もしくは、ウォータージャケット11外への流出は
実質的にない。また、このコネクタは真空対応であり、
例えばハーメチックシール(登録商標)などが使われる
15はフランジであり、モータ10が取り付けである。
またウォータージャケット11もフランジ15に取り付
いており取り付は部分は全てシールされている。16は
Oリングシールであり、フランジ15どモータ10の出
力軸シールとして使われている。Oリングシール16は
、Uパンキンでもその他の軸シールでもよい。17もフ
ランジであるが、フランジ17には、出力軸を取り出す
穴は設けていない。またフランジ15と同様ウォーター
ジャケット11に取り付けられており取り付は部は全て
シールされている。
18はウォータージャケット11の水路12から外部へ
冷却水を流入または、流出するための継手である。第1
図には、継手18は1つしか描かれていないが、流入用
流出用と少なくとも、2つ以上ある。19は継手18と
冷却水の水温を制御する。不図示の恒温水装置を結ぶ冷
却水用の配管であり継手18同様、少なくとも、2本以
上配されている。またこの配管19は、耐真空であり断
熱効果のあるものが望ましい。
ウォータージャケット11とフランジ15およびフラン
ジ17でモータ10のハウジングを構成しておりこのハ
ウジングはモータ10を実質的に密封している。
20はフランジ17に取り付いて、前記ハウジング内と
唯一外部と連通ずるための継手である。
この継手20とフランジ17は取り付き部が完全にシー
ルされている。21は継手20から装置外へ連通ずるた
めの配管である。この配管も断熱バイブであることが望
ましい。
22は圧力計で、配管21およびモータ10の前記ハウ
ジング内の圧力をモニターするものである。24はバル
ブであり、23はHeボンベである。したがって、He
ボンベ23の圧力をバルブ24で絞り、圧力計22でモ
ニターする。配管21は上記一連の配管を含んでいる。
次に上記構成についてその使用方法を述べる。
モータ10は、本実施例ではステッピングモータを使用
している。ステッピングモータは回転位置決め精度が非
常に良いが、発熱量が他種のモータより比較的多い。し
かしながら、前記X線露光装置のように装置内の温度変
動が精度に大きく影響する装置では、この発熱は好まし
くない。そこでウォータージャケット11を用いてモー
タ10と装置の間を断熱修姪箸蓋している。したがって
、ウォータージャケット11内は常時水温管理された冷
却水が流れており冷却水によってモータ10から発生し
た熱を回収する。
またこのとき圧力計22によフて前記ハウジング内はH
eで大気圧(760torr)程度に管理されている。
したがって、モータ10の摺動部に使用されている。グ
リスやオイルの発塵や蒸発も雰囲気の圧力が高いため少
ない。また、モータ10の材質も真空部品として用いら
ねるものに限定することなく使用できる。したがって、
モータ10は市販品を改善することなく特殊環境のアク
チュエーターとして使用できる。
更に前記ハウジング内はHe大気圧程度に常時保持しな
くてはいけないが、ハウジング内は密閉されているため
Heの消費は殆どない。また、前記X線露光装置は上述
した如く、減圧He雰囲気内で露光が行なわれ、この雰
囲気の環境は厳しく制御されている。このとき前記ハウ
ジングからシールなどの破損から万−瀬れる気体は主に
Heであり、装置内の圧力は管理されているため前記雰
囲気の急激な悪化の原因にはならない。また、この場合
、Heボンベ23の消費量から故障の有無が確認できる
上述の構成を用いることにより市販されている高精度ア
クチュエーターを改善せずに特殊環境用のアクチュエー
ターとして使用できる。この場合前記特殊環境の高精度
維持に悪影響を及ぼす原因にならない。
また、前記アクチュエーターと前記冷却装置間の閉され
た空間を大気圧のHeに保持する場合そのHeの供給量
も少なく経済的である。
次に第2図を用いて他の実施例について説明する。
この例における特徴は、アクチュエーターおよび機構部
もハウジング内に含まれることである。
10はモータであり本実施例は2相のステッピングモー
タである。しかしDCモータでも他のモータでもよい。
29はボールネジ送りで、モータ10の回転を直進運動
に変換するものである。
30は直進ロッドである。
他の構成部品は前実施例と同一である。
次に本実施例の動作を示す。モータ10に回転運動はボ
ールネジ送り29で直進運動に変換され直進方向の精度
位置決めを行なう、このときモータ10、ボールネジ送
り29は通常の市販の製品を使用している。またボール
ネジ送り29に使用している。グリスも市販品である。
ウォータージャケット11、フランジ15.17で構成
されるハウジング内はHeが760 torr程度に保
たれているため、前記ハウジング内でのグリス等の蒸発
はほとんどない。また、モータ10や他の機構部からの
発熱はウォータージャケット11により遮。
断じている。したがって、本実施例で示す機構であれば
、大規模な装置内で配置制約なく組み込むことができる
以上説明した構成、動作により前実施例に加え次の効果
がある。まず運動変換機構の材質、潤滑材は市販もしく
は一般のものを使える。更に前記X線露光装置等の半導
体製造装置では塵埃の発生も露光環境悪化の原因である
。よって本実施例に示すようにできるだけ機構部を密閉
することで、装置内への発塵の量を減らすことができる
[発明の効果] 以上説明したように、アクチュエーターの冷却装置によ
りこのアクチュエーターを密閉する構造とし、更に前記
アクチュエーターと前記冷却装置の間の閉された空間を
前記冷却装置外周部と同一の成分の気体で大気圧(76
0torr)程度に保持することにより、冷却装置外周
部の雰囲気が条件が厳しく管理される場合において、前
記冷却装置内部で、使用するアクチュエーターの材質、
潤滑剤等として一般に使用されているものが使え、前記
雰囲気にその影響を及ぼさない、またアクチュエーター
の選択も制約がなくなり、高精度なものを選べる。
本発明では、前記アクチュエーターと前記冷却装置間を
前記冷却装置外周部と同一気体で大気圧(760tor
r)に保持しているが、密閉されているため、どんな所
でも装着可能である。また前記冷却装置に送るガス供給
量も微量で、経済的である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例に係る冷却装置の平面図、 342図は本発明の別の実施例に係る冷却装置の斜視図
、 第3図および第4図は各々従来使用されている冷却装置
の構成図である。 10:モータ、 1 2 3 4 5 6 7 8 9 0 1 2 3 6 7 8 9 0 :ウォータージャケット、 二本路、 二カップリング、 :コネクタ、 ;フランジ、 二〇リングシール、 :フランジ、 ;冷却水用継手、 :冷却水用チューブ :He用継手、 :He用チューブ、 :圧力計、 :Heボンベ、 :フイードスルー :伝達軸、 :チャンバ壁、 :ボールネジ送り、 :直進ロッド。 第 ■ 図 第3 図

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)出力軸を有する発熱駆動源を密封的に収容するハ
    ウジングを設け、該ハウジングの出力軸貫通部にシール
    手段を備え、該ハウジングの構成部材内に冷却媒体の流
    路を設けたことを特徴とする冷却装置。
  2. (2)前記ハウジング内に所望状態のガスを充填するた
    めのガス管が密封継手手段を介して該ハウジングに接続
    されたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の冷
    却装置。
  3. (3)前記ハウジングは、駆動源の周囲を覆うウォータ
    ージャケットとその両端を封止するフランジからなり、
    一方のフランジに前記出力軸が貫通して設けられたこと
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の冷却装置。
  4. (4)前記発熱駆動源は、X線露光装置の可動部駆動用
    モータであり、前記ガスは、所定の圧力、温度および純
    度のヘリウムガスであることを特徴とする特許請求の範
    囲第2項記載の冷却装置。
JP1258844A 1989-10-05 1989-10-05 冷却装置 Pending JPH03122477A (ja)

Priority Applications (1)

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JP1258844A JPH03122477A (ja) 1989-10-05 1989-10-05 冷却装置

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JPH03122477A true JPH03122477A (ja) 1991-05-24

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JP1258844A Pending JPH03122477A (ja) 1989-10-05 1989-10-05 冷却装置

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JP (1) JPH03122477A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003015324A (ja) * 2001-06-28 2003-01-17 Dainippon Printing Co Ltd 露光装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003015324A (ja) * 2001-06-28 2003-01-17 Dainippon Printing Co Ltd 露光装置

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