JP2959855B2 - 真空密着焼付方法及び真空密着焼付装置 - Google Patents
真空密着焼付方法及び真空密着焼付装置Info
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- JP2959855B2 JP2959855B2 JP3030855A JP3085591A JP2959855B2 JP 2959855 B2 JP2959855 B2 JP 2959855B2 JP 3030855 A JP3030855 A JP 3030855A JP 3085591 A JP3085591 A JP 3085591A JP 2959855 B2 JP2959855 B2 JP 2959855B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＩＣのリードフレーム
やカラーＴＶのブラウン管に用いるシャドウマスク等を
製作するための真空密着焼付方法及び真空密着焼付装置
に関し、特に、真空密着に要する時間を短縮して原版を
速やかに感光基材に密着させることができる真空密着焼
付方法及び真空密着焼付装置に関する。
やカラーＴＶのブラウン管に用いるシャドウマスク等を
製作するための真空密着焼付方法及び真空密着焼付装置
に関し、特に、真空密着に要する時間を短縮して原版を
速やかに感光基材に密着させることができる真空密着焼
付方法及び真空密着焼付装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般にフィルムやガラス板等からなる透
過性の原版にかかれた絵柄を感光基材に密着焼付法で複
写する場合、高品位複写法として真空密着法が用いられ
ている （例えば、特開昭５８−１３６０２６号）。
過性の原版にかかれた絵柄を感光基材に密着焼付法で複
写する場合、高品位複写法として真空密着法が用いられ
ている （例えば、特開昭５８−１３６０２６号）。
【０００３】このような真空密着法を利用した密着焼付
装置の１例として、図４に示したようなものがある。こ
の密着焼付装置は、感光基材１の両側にそれぞれガラス
等からなる原版２、２を配置させるために、真空チャッ
ク等（図示せず）により原版２、２を固定した一対の枠
３、３と、各枠３、３の対向する面に取付られたパッキ
ング４、４と、一方の枠３に形成された排気口５に接続
された真空ポンプ（図示せず）と、各枠３、３を互いに
接近及び離間するように往復動可能に保持したベッド６
と、基材１の両側に配置された光源７、７等とを備えて
いる。
装置の１例として、図４に示したようなものがある。こ
の密着焼付装置は、感光基材１の両側にそれぞれガラス
等からなる原版２、２を配置させるために、真空チャッ
ク等（図示せず）により原版２、２を固定した一対の枠
３、３と、各枠３、３の対向する面に取付られたパッキ
ング４、４と、一方の枠３に形成された排気口５に接続
された真空ポンプ（図示せず）と、各枠３、３を互いに
接近及び離間するように往復動可能に保持したベッド６
と、基材１の両側に配置された光源７、７等とを備えて
いる。
【０００４】この密着焼付装置による焼付動作は次のよ
うに行われる。すなわち、まず、感光基材１を原版２、
２間の所定位置に位置決めした後、一対の枠３、３を感
光基材１に接近する方向に移動させて、感光基材１を両
面の原版２、２で挟み、パッキング４、４により枠３、
３間をシールして、両面の原版２、２、枠３、３及びパ
ッキング４、４によって密閉された密閉室８が形成され
る。次に、密閉室８に連通した排気口５から内部の空気
を真空ポンプで吸引して、密閉室８内を真空にする。そ
の結果、両面の原版２、２が大気により押圧され、感光
基材１に密着する。その後、光源７、７を点灯させるこ
とにより、原版２、２の絵柄が感光基材１に焼き付けら
れる。
うに行われる。すなわち、まず、感光基材１を原版２、
２間の所定位置に位置決めした後、一対の枠３、３を感
光基材１に接近する方向に移動させて、感光基材１を両
面の原版２、２で挟み、パッキング４、４により枠３、
３間をシールして、両面の原版２、２、枠３、３及びパ
ッキング４、４によって密閉された密閉室８が形成され
る。次に、密閉室８に連通した排気口５から内部の空気
を真空ポンプで吸引して、密閉室８内を真空にする。そ
の結果、両面の原版２、２が大気により押圧され、感光
基材１に密着する。その後、光源７、７を点灯させるこ
とにより、原版２、２の絵柄が感光基材１に焼き付けら
れる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような真
空密着焼付装置においては、ベッド６上で一対の枠３、
３を感光基材１に接近する方向に移動させて感光基材１
を両面から原版２、２で挟み、パッキング４、４により
枠３、３間をシールして密閉室８を形成し、その後に原
版２、２を感光基材１に真空密着させるために、枠３に
設けられた排気口５に通じる真空ポンプにより与えられ
る高真空度（例えば、−７６０ｍｍＨｇ）で一気に減圧
されて、密閉室８内の空気が吸引排気されるが、排気口
５が原版２、２の外側にあるため、図４に示したよう
に、原版２、２の外周部が先に減圧され密着してしま
い、原版２、２の中心部に残された空気がぬけにくくな
ってしまう。このように、外周がシールされるため、中
心部の空気が完全にぬけるまでに、例えば８００×６０
０ｍｍ角の原版２、２の場合、３分以上の時間を要す
る。
空密着焼付装置においては、ベッド６上で一対の枠３、
３を感光基材１に接近する方向に移動させて感光基材１
を両面から原版２、２で挟み、パッキング４、４により
枠３、３間をシールして密閉室８を形成し、その後に原
版２、２を感光基材１に真空密着させるために、枠３に
設けられた排気口５に通じる真空ポンプにより与えられ
る高真空度（例えば、−７６０ｍｍＨｇ）で一気に減圧
されて、密閉室８内の空気が吸引排気されるが、排気口
５が原版２、２の外側にあるため、図４に示したよう
に、原版２、２の外周部が先に減圧され密着してしま
い、原版２、２の中心部に残された空気がぬけにくくな
ってしまう。このように、外周がシールされるため、中
心部の空気が完全にぬけるまでに、例えば８００×６０
０ｍｍ角の原版２、２の場合、３分以上の時間を要す
る。
【０００６】このように真空排気時間が長いと、その分
生産性が落ちてしまうため、従来は、例えば原版の表面
に凹凸を付けてこの時間の短縮を若干図っているが、そ
の時間短縮は不十分である。
生産性が落ちてしまうため、従来は、例えば原版の表面
に凹凸を付けてこの時間の短縮を若干図っているが、そ
の時間短縮は不十分である。
【０００７】本発明はこのような問題点に鑑みてなされ
たものであり、その目的は、原版を感光基材に真空密着
させるための真空度を低い真空度から徐々に高めるよう
にすることにより、原版の中心部に空気が残らないよう
にして、原版中心部から外周まで均一にかつ高速に真空
密着させることができる真空密着焼付方法及び真空密着
焼付装置を提供することである。
たものであり、その目的は、原版を感光基材に真空密着
させるための真空度を低い真空度から徐々に高めるよう
にすることにより、原版の中心部に空気が残らないよう
にして、原版中心部から外周まで均一にかつ高速に真空
密着させることができる真空密着焼付方法及び真空密着
焼付装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の真空密着焼付方法は、感光材料を塗布してなる基材
の両面に絵柄が描かれた原版を真空排気により密着さ
せ、その原版上に光を照射することにより基材に絵柄を
露光焼付けする真空密着焼付方法において、両側の原版
間にそれら周囲で密閉された密閉室を構成し、その密閉
室内の原版間に基材に配置して、その密閉室の真空排気
を、排気当初において原版の中心部が最初に密着する低
真空度において行い、その後段階的もしくは連続的に高
真空度まで排気の真空度を上げることを特徴とする方法
である。
明の真空密着焼付方法は、感光材料を塗布してなる基材
の両面に絵柄が描かれた原版を真空排気により密着さ
せ、その原版上に光を照射することにより基材に絵柄を
露光焼付けする真空密着焼付方法において、両側の原版
間にそれら周囲で密閉された密閉室を構成し、その密閉
室内の原版間に基材に配置して、その密閉室の真空排気
を、排気当初において原版の中心部が最初に密着する低
真空度において行い、その後段階的もしくは連続的に高
真空度まで排気の真空度を上げることを特徴とする方法
である。
【０００９】本発明の真空密着焼付装置は、感光材料を
塗布した基材の両側に、絵柄が描かれた原版を配置させ
るための、それぞれ原版を固定した一対の枠と、各枠の
対向する面に取り付けられたパッキングと、枠に形成さ
れた排気口に接続された真空ポンプと、各枠を互いに接
近及び離間するように往復動可能に保持したベッドと、
基材の両側に配置された光源とを備えた真空密着焼付装
置において、前記排気口と前記真空ポンプの間に圧力調
整バルブを設け、真空排気を、排気当初において低真空
度で行い、その後段階的もしくは連続的に高真空度まで
真空度を上げられるように構成したことを特徴とするも
のである。
塗布した基材の両側に、絵柄が描かれた原版を配置させ
るための、それぞれ原版を固定した一対の枠と、各枠の
対向する面に取り付けられたパッキングと、枠に形成さ
れた排気口に接続された真空ポンプと、各枠を互いに接
近及び離間するように往復動可能に保持したベッドと、
基材の両側に配置された光源とを備えた真空密着焼付装
置において、前記排気口と前記真空ポンプの間に圧力調
整バルブを設け、真空排気を、排気当初において低真空
度で行い、その後段階的もしくは連続的に高真空度まで
真空度を上げられるように構成したことを特徴とするも
のである。
【００１０】
【作用】本発明においては、両側の原版間にそれら周囲
で密閉された密閉室を構成し、その密閉室内の原版間に
基材に配置して、その密閉室の真空排気を、排気当初に
おいて原版の中心部が最初に密着する低真空度において
行い、その後段階的もしくは連続的に高真空度まで排気
の真空度を上げるように構成しているので、最初の低真
空度と大気圧との差により、原版の中心部が最も内側に
撓み、最初に基材に密着する。したがって、原版の外周
部が先に減圧され密着することが防止され、原版の中心
部に空気が残ることはなくなり、原版中心部から外周ま
で均一にかつ高速に真空密着させることができる。
で密閉された密閉室を構成し、その密閉室内の原版間に
基材に配置して、その密閉室の真空排気を、排気当初に
おいて原版の中心部が最初に密着する低真空度において
行い、その後段階的もしくは連続的に高真空度まで排気
の真空度を上げるように構成しているので、最初の低真
空度と大気圧との差により、原版の中心部が最も内側に
撓み、最初に基材に密着する。したがって、原版の外周
部が先に減圧され密着することが防止され、原版の中心
部に空気が残ることはなくなり、原版中心部から外周ま
で均一にかつ高速に真空密着させることができる。
【００１１】
【実施例】次に、本発明による真空密着焼付方法及び真
空密着焼付装置を実施例に基づいて説明する。図１は本
発明の真空密着焼付方法を実施する真空密着焼付装置の
１実施例の構成を示す概略断面図であり、図４の従来の
ものと同様な構成要素は同じ符号で示す。すなわち、感
光基材１の両側にそれぞれガラス等からなる原版２、２
を配置させるために、真空チャック等（図示せず）によ
り原版２、２を固定した一対の枠３、３と、各枠３、３
の対向する面に取付られたパッキング４、４と、一方の
枠３に形成された排気口５に接続された真空ポンプ１０
と、真空ポンプ１０と排気口５の間に設けられた圧力調
整バルブ１１と、真空ポンプ１０及び圧力調整１１とを
制御する制御装置１２と、各枠３、３を互いに接近及び
離間するように往復動可能に保持したベッド６と、基材
１の両側に配置された光源７、７等とを備えている。
空密着焼付装置を実施例に基づいて説明する。図１は本
発明の真空密着焼付方法を実施する真空密着焼付装置の
１実施例の構成を示す概略断面図であり、図４の従来の
ものと同様な構成要素は同じ符号で示す。すなわち、感
光基材１の両側にそれぞれガラス等からなる原版２、２
を配置させるために、真空チャック等（図示せず）によ
り原版２、２を固定した一対の枠３、３と、各枠３、３
の対向する面に取付られたパッキング４、４と、一方の
枠３に形成された排気口５に接続された真空ポンプ１０
と、真空ポンプ１０と排気口５の間に設けられた圧力調
整バルブ１１と、真空ポンプ１０及び圧力調整１１とを
制御する制御装置１２と、各枠３、３を互いに接近及び
離間するように往復動可能に保持したベッド６と、基材
１の両側に配置された光源７、７等とを備えている。
【００１２】以上、概略の構成について説明したよう
に、本発明の真空密着焼付装置は、真空ポンプ１０と排
気口５の間に制御装置１２により制御される圧力調整バ
ルブ１１を設けた点以外は、従来のものと同様である。
に、本発明の真空密着焼付装置は、真空ポンプ１０と排
気口５の間に制御装置１２により制御される圧力調整バ
ルブ１１を設けた点以外は、従来のものと同様である。
【００１３】ところで、密閉室８内の真空度は、制御装
置１２によって圧力調整バルブ１１を経時的に調節する
ことにより、例えば図２に示したように制御される。す
なわち、本発明による真空密着焼付装置においては、真
空排気のために、従来のように真空ポンプの起動と共に
いきなり高真空とせず、圧力調整バルブ１１を介して、
排気当初は例えば−５０ｍｍＨｇの低真空度で排気す
る。こうすると、この真空度と大気圧との差により、図
１に示したように、原版２、２の中心部が最も内側に撓
み、最初に感光基材１に密着する。この点が本発明の最
も重要なポイントであり、最初に低真空度で排気するこ
とにより、原版２、２の外周部が先に減圧され密着する
ことを防止し、最初にその中心部を密着させるようにす
るものである。したがって、原版２、２の中心部に空気
が残ることはなくなる。中心部が密着するまでに要する
時間（８００×６００ｍｍ角の原版で約５秒）を経た後
（図２の）、圧力調整バルブ１１をより開き（電磁弁
を使用する場合、駆動電圧を変更すればよい。）、排気
のための真空度を例えば−１５０〜−２００ｍｍＨｇの
圧力に上げる。この状態で原版２、２の外周まで完全に
密着した後（１５〜２０秒、図２の）、圧力調整バル
ブ１１を全開にし、高真空度で感光基材１を原版２、２
に密着させる（図２の）。
置１２によって圧力調整バルブ１１を経時的に調節する
ことにより、例えば図２に示したように制御される。す
なわち、本発明による真空密着焼付装置においては、真
空排気のために、従来のように真空ポンプの起動と共に
いきなり高真空とせず、圧力調整バルブ１１を介して、
排気当初は例えば−５０ｍｍＨｇの低真空度で排気す
る。こうすると、この真空度と大気圧との差により、図
１に示したように、原版２、２の中心部が最も内側に撓
み、最初に感光基材１に密着する。この点が本発明の最
も重要なポイントであり、最初に低真空度で排気するこ
とにより、原版２、２の外周部が先に減圧され密着する
ことを防止し、最初にその中心部を密着させるようにす
るものである。したがって、原版２、２の中心部に空気
が残ることはなくなる。中心部が密着するまでに要する
時間（８００×６００ｍｍ角の原版で約５秒）を経た後
（図２の）、圧力調整バルブ１１をより開き（電磁弁
を使用する場合、駆動電圧を変更すればよい。）、排気
のための真空度を例えば−１５０〜−２００ｍｍＨｇの
圧力に上げる。この状態で原版２、２の外周まで完全に
密着した後（１５〜２０秒、図２の）、圧力調整バル
ブ１１を全開にし、高真空度で感光基材１を原版２、２
に密着させる（図２の）。
【００１４】なお、図２のように段階的に真空度を上げ
る代わりに、図３に示すように、低真空度（例えば−５
０ｍｍＨｇ）で原版２、２の中心部が密着してから後は
連続的に高真空度にするようにしてもよい。しかし、低
真空度にて原版２、２の中心部を密着させた後、直ぐに
高真空とすると、外周部が一気に密着し、一部空気が原
版２、２間に密閉されて残るため、せっかく密着してい
た中心部が剥がれてしまうので、上記図２又は図３のよ
うに中間の真空度を経て徐々に高真空度にする必要があ
る。また、中間の−１５０〜−２００ｍｍＨｇで原版
２、２外周まで密着しただけでは、ニュートンリングで
見ると明らかであるが、高真空度で吸引した場合よりも
密着性が悪い。
る代わりに、図３に示すように、低真空度（例えば−５
０ｍｍＨｇ）で原版２、２の中心部が密着してから後は
連続的に高真空度にするようにしてもよい。しかし、低
真空度にて原版２、２の中心部を密着させた後、直ぐに
高真空とすると、外周部が一気に密着し、一部空気が原
版２、２間に密閉されて残るため、せっかく密着してい
た中心部が剥がれてしまうので、上記図２又は図３のよ
うに中間の真空度を経て徐々に高真空度にする必要があ
る。また、中間の−１５０〜−２００ｍｍＨｇで原版
２、２外周まで密着しただけでは、ニュートンリングで
見ると明らかであるが、高真空度で吸引した場合よりも
密着性が悪い。
【００１５】以上のように、図１の本発明の真空密着焼
付装置の場合の真空密着に要する時間は、図４の従来の
ものの約半分となり、良好な結果が得られた。
付装置の場合の真空密着に要する時間は、図４の従来の
ものの約半分となり、良好な結果が得られた。
【００１６】以上、実施例について本発明の真空密着焼
付装置を説明してきたが、本発明はこれら実施例に限定
されず種々の変形が可能である。例えば、圧力調整バル
ブ１１の開閉により真空度を変える代わりに、真空ポン
プとしてその真空排気度を任意に変更できるものを用い
てもよい。また、感光基材の片面にのみ１枚の原版を真
空密着させる焼付装置においても、同様に適用できる。
付装置を説明してきたが、本発明はこれら実施例に限定
されず種々の変形が可能である。例えば、圧力調整バル
ブ１１の開閉により真空度を変える代わりに、真空ポン
プとしてその真空排気度を任意に変更できるものを用い
てもよい。また、感光基材の片面にのみ１枚の原版を真
空密着させる焼付装置においても、同様に適用できる。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の真空密着
焼付方法及び真空密着焼付装置によれば、両側の原版間
にそれら周囲で密閉された密閉室を構成し、その密閉室
内の原版間に基材に配置して、その密閉室の真空排気
を、排気当初において原版の中心部が最初に密着する低
真空度において行い、その後段階的もしくは連続的に高
真空度まで排気の真空度を上げるように構成しているの
で、最初の低真空度と大気圧との差により、原版の中心
部が最も内側に撓み、最初に基材に密着する。したがっ
て、原版の外周部が先に減圧され密着することが防止さ
れ、原版の中心部に空気が残ることはなくなり、原版中
心部から外周まで均一にかつ高速に真空密着させること
ができる。
焼付方法及び真空密着焼付装置によれば、両側の原版間
にそれら周囲で密閉された密閉室を構成し、その密閉室
内の原版間に基材に配置して、その密閉室の真空排気
を、排気当初において原版の中心部が最初に密着する低
真空度において行い、その後段階的もしくは連続的に高
真空度まで排気の真空度を上げるように構成しているの
で、最初の低真空度と大気圧との差により、原版の中心
部が最も内側に撓み、最初に基材に密着する。したがっ
て、原版の外周部が先に減圧され密着することが防止さ
れ、原版の中心部に空気が残ることはなくなり、原版中
心部から外周まで均一にかつ高速に真空密着させること
ができる。
【図１】本発明の真空密着焼付装置の１実施例の構成を
示す概略断面図である。
示す概略断面図である。
【図２】経時的に制御される密閉室内の真空度の推移の
１例を示す図である。
１例を示す図である。
【図３】他の例の真空度の推移を示す図である。
【図４】従来の真空密着焼付装置の構成を示す概略断面
図である。
図である。
１…感光基材 ２…原版 ３…枠 ４…パッキング ５…排気口 ６…ベッド ７…光源 ８…密閉室 １０…真空ポンプ １１…圧力調整バルブ １２…制御装置
Claims (2)
- 【請求項１】 感光材料を塗布してなる基材の両面に絵
柄が描かれた原版を真空排気により密着させ、その原版
上に光を照射することにより基材に絵柄を露光焼付けす
る真空密着焼付方法において、両側の原版間にそれら周囲で密閉された密閉室を構成
し、その密閉室内の原版間に基材に配置して、その密閉
室の 真空排気を、排気当初において原版の中心部が最初
に密着する低真空度において行い、その後段階的もしく
は連続的に高真空度まで排気の真空度を上げることを特
徴とする真空密着焼付方法。 - 【請求項２】 感光材料を塗布した基材の両側に、絵柄
が描かれた原版を配置させるための、それぞれ原版を固
定した一対の枠と、各枠の対向する面に取り付けられた
パッキングと、枠に形成された排気口に接続された真空
ポンプと、各枠を互いに接近及び離間するように往復動
可能に保持したベッドと、基材の両側に配置された光源
とを備えた真空密着焼付装置において、前記排気口と前
記真空ポンプの間に圧力調整バルブを設け、真空排気
を、排気当初において低真空度で行い、その後段階的も
しくは連続的に高真空度まで真空度を上げられるように
構成したことを特徴とする真空密着焼付装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3030855A JP2959855B2 (ja) | 1991-02-26 | 1991-02-26 | 真空密着焼付方法及び真空密着焼付装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3030855A JP2959855B2 (ja) | 1991-02-26 | 1991-02-26 | 真空密着焼付方法及び真空密着焼付装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04356037A JPH04356037A (ja) | 1992-12-09 |
| JP2959855B2 true JP2959855B2 (ja) | 1999-10-06 |
Family
ID=12315331
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3030855A Expired - Lifetime JP2959855B2 (ja) | 1991-02-26 | 1991-02-26 | 真空密着焼付方法及び真空密着焼付装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2959855B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4379997B2 (ja) * | 2000-01-14 | 2009-12-09 | 東洋熱工業株式会社 | 露光装置 |
-
1991
- 1991-02-26 JP JP3030855A patent/JP2959855B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04356037A (ja) | 1992-12-09 |
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