JPH0424642A - 密着露光方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 特に透明導電フィルムのような薄い基板のホトリソグラ
フィにおける密着露光方法に関し、基板には真空吸着の
影響を与えずにガラスマスクを均一に密着させることを
目的とし、表面に吸引孔が開口したステージの上に支持
板を配設し、前記ステージの上に、弾性体からなる枠状
の封止部材を気密可能に、かつ支持板を取り囲むように
載置し、前記支持板の上にホトレジストが被着された基
板を載せ、前記封止部材の上にカラスマスクを気密可能
に架設して気密空間となし、前記吸引孔から気密空間を
真空に排気した際、ガラスマスクが垂下して基板に密着
するように構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、ホトリソグラフィにおける密着露光方法に係
わり、特に透明導電フィルムのような薄い基板に精度よ
くマスクパターンを露光する方法に関する。

近年、いろいろな入出力機器、例えばＬＣＤのような表
示装置とか、タッチパネルのような入力装置などの電極
材料には透明導電膜がよく用いられる。

この透明導電膜としてよく用いられるのはＩＴＯ（Ｉｎ
ｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　　０ｘｉｄｅ）膜て、ガラスに被着
されると透明導電膜ガラス、フィルムに被着されると透
明導電フィルムなどと呼ばれている。

透明導電ガラスは、基板が平滑なカラス板なので、例え
ばホトリソグラフィによって比較的容易に高精度のパタ
ーン形成ができる。

しかし、透明導電フィルムの場合には、基板が一般には
薄いフィルムなので、平滑ではあっても腰が弱くて平面
上に保持し難い。従って、ホトリソグラフィによる高精
度のパターン形成に際しては、それなりの工夫が施され
ている。

〔従来の技術〕

透明導電膜であるＩＴＯ膜をパターニングするには、よ
（知られたホトリソグラフィが多用されている。すなわ
ち、まず、ＩＴＯ膜にホトレジストを被着するレジスト
塗布工程と、次いでそのホトレジストにマスクを用いて
パターンを焼き付ける露光工程と、次いでネカティブレ
ジストなら露光されない部分、ポジティプレシストなら
露光された部分を溶かして除去する現像工程と、次いで
露出したＩＴＯ膜を溶かして除去するエツチング工程と
、最後に残ったホトレジストを除去する剥離工程とによ
って行われる。

ＩＴＯ膜を精度よくパターニングするには、これらの何
れの工程も重要であるが、透明導電フィルムの場合には
基板が腰の弱いフィルムなので、特に露光工程が重要で
ある。

第３図は従来の密着露光方法の一例の構成図、第４図は
第３図の一部拡大断面図である。

図中、１はステージ、４は基板、５はカラスマスク、７
は光源である。

ステージ１は平滑な盤で、表面に複数個の真空吸着用の
吸引孔１ａが開口しており、図示してない真空排気系に
接続されている。

基板４は、こ＼では透明導電フィルムで、例えば膜厚８
０μｍのポリエステルフィルムのヘース４ｃにＩＴＯ膜
からなる透明導電膜４ｂが被着されている。そして、露
光に際しては、レジスト膜４ａがローラ塗布法などによ
って、予め透明導電膜４ｂに被着されている。

ガラスマスク５は、ガラス基板の上に銀塩のゼラチン膜
とか金属クロム膜にマスクパターン５ａが形成されたも
のが一般的である。

光源７は、レジスト膜４ａの種類にもよるか、紫外線を
発する水銀灯などが用いられる。

ステージ１の上にレジスト膜４ａを上向きにした基板４
を載せ、吸引孔１ａから真空吸着して基板４を固定する
。そして、その基板４の上にマスクパターン５ａがレジ
スト膜４ａと密着するようにカラスマスク５を載せるの
で、この露光方法が密着露光法といわれる所以である。

この密着露光法においては、基板４に被着されたレジス
ト膜４ａとマスクパターン５ａとが均一に密着すること
が、精度のよいパターニングの前提となっている。

こうして、光源７から所定の光量を所定の時間露光すれ
ばよい。

ところで、基板が通常のプリント板とかウェーハといっ
た平滑で剛性のある材料であれば、ステージに載せて真
空吸着すると、ステージの表面の平面性に馴染んで平面
に支持される。

しかし、透明導電フィルムからなる基板の場合には、ス
テージに載せて真空吸着すると、基板の腰が弱いために
プリント板などのような訳にはいかない。

〔発明が解決しようとする課題〕

第４図において、透明導電フィルムからなる基板４をス
テージｌに載せて吸引孔１ａから真空吸着すると、当然
のことながら基板４が吸引孔１ａの方向に引っ張られる
。そして、基板４の腰が弱いために吸引孔１ａの形状に
膨らんで、カラスマスク５との間に隙間ができてパター
ニングの精度が悪くなる問題があった。

また、吸着を止めても基板４にその跡が残ってしまうこ
とが間々起こり、基板４が損傷してしまう問題があった
。

そこで本発明は、基板には真空吸着の影響を与えず、ガ
ラスマスクを真空によって垂下させ、基板に均一に密着
させてなる密着露光方法を提供することを目的としてい
る。

〔課題を解決するための手段〕

上で述べた課題は、 表面に吸引孔が開口したステージの上に支持板を配設し
、 前記ステージの上に、弾性体からなる枠状の封止部材を
気密可能に、かつ支持板を取り囲むように載置し、 前記支持板の上にホトレジストが被着された基板を載せ
、 前記封止部材の上にガラスマスクを気密可能に架設して
気密空間となし、 前記吸引孔から気密空間を真空に排気した際、ガラスマ
スクが垂下して基板に密着するように構成された露光装
置の基板支持方法によって解決される。

〔作　用〕

以上述べたように、透明導電フィルムのような薄い基板
を真空吸着すると損傷することが間々起こるのに対して
、本発明において、基板に真空吸引による影響が及ばな
いようにしている。

すなわち、基板は支持板に載せて置き、その支持板と基
板を覆うように封止部材とガラスマスクとで気密空間を
形成させるようにしている。そして、気密空間を真空に
すると、ガラスマスクが垂下して支持板に載っている基
板に密着するようにしている。

こうすると、基板にはガラスマスクが上から水平に当接
して密着し、基板に何ら損傷を与えるような外力が加わ
らない。

こうして、透明導電フィルムのような薄い基板を均一に
ガラスマスクを密着させることができるので、精度のよ
い密着露光が可能となる。

〔実施例〕

第１図は本発明の実施例の分解斜視図、第２図は第１図
の断面図で、同図（Ａ）は露光前、同図（Ｂ）は露光中
である。

図中、■はステージ、１ａは吸引孔、２は支持板、３は
封止部材、４は基板、５はガラスマスク、６は気密空間
である。

第１図〜第２図において、ステージ１は、通常の露光装
置の載置台である。

支持板２は、表面が平面仕上げされた金属板とかガラス
板で、表面で光が反射しないように黒染めや塗装などに
よって黒化処理されている。厚さは特に問わないが、例
えば１０ｍｍである。

ステージ１の表面の、支持板２を載置した際に支持板２
が掛からない位置には、吸引孔１ａが開口しており、図
示してない真空排気系によって真空排気できるようにな
っている。

封止部材３は、例えば硬度の低いゴムとか透気性の小さ
いスポンジなどの弾性体からなる枠形状をなし、支持板
２を十分囲う大きさで、支持板２よりも厚めになってい
る。支持板２がｌｏｍ　ｍならば、封止部材３の厚さは
例えば１０．５ｍ　ｍとする。

基板４はＩＴＯ膜からなる透明導電膜が被着された透明
導電フィルムで、例えば厚さ８０μｍのポリエステルフ
ィルムがベースになっている。そして、予め透明導電膜
の上にレジスト膜４ａが、例えばロール塗工なとによっ
て設けられている。

ガラスマスク５は、基板４が例えばＡ４判といった大き
な寸法の場合には、例えば厚さが５ｍｍのガラス板が用
いられ、面積は封止部材３の上に載っかる大きさである
。マスクパターン５ａはエマルジョンマスクでもクロム
マスクでもよい。

露光に際しては、ステージｌに支持板２を載置し、その
支持板２を囲むようにして気密可能に封止部材３を配設
する。

支持板２の上には、基板４をレジスト膜４ａ面を上にし
て載せ、封止部材３にはガラスマスク５をマスクパター
ン５ａ面を下にして架は渡すように気密可能に載せる。

そうすると第２図（Ａ）に示したように、ステージ１と
封止部材３とカラスマスク５とで気密空間６が形成され
る。

ステージ１に封止部材３を気密可能に配設し、封止部材
３にガラスマスク５を気密可能に載せると述べたが、こ
の気密可能は極端に隙間か開くような置き方でなければ
、吸引孔１ａから真空排気されれば、大気圧によってガ
ラスマスク５が圧下し自発的に気密封止される。

こうして、吸引孔１ａから気密空間６を真空排気すれば
、ガラスマスク５が封止部材３を圧下しながら垂下し、
第２図（Ｂ）に示したように、基板４のレジスト膜４ａ
カラスマスク５のマスクパターン５ａとが均一に密着す
る。この状態で露光を行えば、精度のよい密着露光がで
きる。

露光が終わったら出力排気を解けば、カラスマスク５は
封止部材３によって弾発的に浮き上かって、一連の露光
工程が終了する。

支持板や封止部材の寸法関係や材料には、種々の変形が
可能である。

〔発明の効果〕

以上述べたように、透明導電フィルムからなる基板をス
テージに載せて真空吸着する従来の方法においては、基
板の腰が弱いために吸引孔に引っ張られて膨らんでしま
い、ガラスマスクとの間に隙間ができてパターニングの
精度が悪くなったり、その跡が残ってしまうことが間々
起こったのに対して、本発明においては、基板には真空
吸着の影響を与えずにガラスマスクを基板に均一に密着
させることができる。

従って、本発明は、各種入出力機器に今後ますます利用
が期待されている透明導電フィルムの高精度パターニン
グに寄与するところが大である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例の分解斜視図、第２図は第１図
の断面図、 第３図は従来の密着露光方法の一例の構成図、第４図は
第３図の一部拡大断面図、 である。 図において、 １はステージ、 ２は支持板、 ４は基板、 ６は気密空間、 である。 １ａは吸引孔、 ３は封止部材、 ５はガラスマスク、 オ（発ザ月の突７ｉｆｆ１４列の釣−１保」視囲第　　
１　　図 （Ａ）！光荊 （Ｂ）露光中 第１図の断面図 第　２　図 ４Ｌ＋鮫のγ１露光方法の一イ列の構成図星　３　図 第３図の一部才広太ｙ！Ｔ預且刀 第　４　図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 表面に吸引孔（１ａ）が開口したステージ（１）の上に
   支持板（２）を配設し、 前記ステージ（１）の上に、弾性体からなる枠状の封止
   部材（３）を気密可能に、かつ前記支持板（２）を取り
   囲むように載置し、 前記支持板（２）の上にホトレジストが被着された基板
   （４）を載せ、 前記封止部材（３）の上にガラスマスク（５）を気密可
   能に架設して気密空間（６）となし、 前記吸引孔（１ａ）から前記気密空間（６）を真空に排
   気した際、前記ガラスマスク（５）が垂下して前記基板
   （４）に密着する ことを特徴とする密着露光方法。