JPH0882919A - ホトマスクおよびそれを用いた露光装置 - Google Patents
ホトマスクおよびそれを用いた露光装置Info
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- JPH0882919A JPH0882919A JP21700494A JP21700494A JPH0882919A JP H0882919 A JPH0882919 A JP H0882919A JP 21700494 A JP21700494 A JP 21700494A JP 21700494 A JP21700494 A JP 21700494A JP H0882919 A JPH0882919 A JP H0882919A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】パターンが描かれた略板状のマスク４と、マス
ク４と平行に配置された透明板２と、マスク４と透明板
２との間の縁周囲に配置された枠状体３とを含んでなる
ホトマスク１０と、マスク４と透明板２と枠状体３とに
より構成された空間５を排気する手段６、７、８、９、
１１と、ホトマスク１０の下に配置された露光の対象物
１３を保持する台１４と、ホトマスク１０の上から露光
用の光を照射する光源を有する構成。 【効果】ホトマスクと露光すべき対象物との全面におけ
るギャップを容易、かつ正確に、均一にすることがで
き、ホトマスクが大形化してもホトマスクのたわみを補
正することができ、高スループット、低コストで、高精
度なパターニングを実現することができる。
ク４と平行に配置された透明板２と、マスク４と透明板
２との間の縁周囲に配置された枠状体３とを含んでなる
ホトマスク１０と、マスク４と透明板２と枠状体３とに
より構成された空間５を排気する手段６、７、８、９、
１１と、ホトマスク１０の下に配置された露光の対象物
１３を保持する台１４と、ホトマスク１０の上から露光
用の光を照射する光源を有する構成。 【効果】ホトマスクと露光すべき対象物との全面におけ
るギャップを容易、かつ正確に、均一にすることがで
き、ホトマスクが大形化してもホトマスクのたわみを補
正することができ、高スループット、低コストで、高精
度なパターニングを実現することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、液晶表示素子
や半導体装置等の製造工程において、所定の膜のパター
ニング（すなわち、パターン化）を行うためのホトマス
クおよびそれを用いた露光装置に関する。
や半導体装置等の製造工程において、所定の膜のパター
ニング（すなわち、パターン化）を行うためのホトマス
クおよびそれを用いた露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子（すなわち、ＬＣＤ：リキ
ッド クリスタル ディスプレイ）や各種の半導体装置等
の製造工程においては、公知のように、写真と同様の原
理を応用して、所定のパターンの膜を得るホトリソグラ
フィー工程が多用されている。
ッド クリスタル ディスプレイ）や各種の半導体装置等
の製造工程においては、公知のように、写真と同様の原
理を応用して、所定のパターンの膜を得るホトリソグラ
フィー工程が多用されている。
【０００３】すなわち、まず、所定のパターンを得るべ
き所定の膜を一面に形成した所定の基板表面に、感光性
樹脂膜（すなわち、ホトレジスト膜）を塗布して一面に
形成する。
き所定の膜を一面に形成した所定の基板表面に、感光性
樹脂膜（すなわち、ホトレジスト膜）を塗布して一面に
形成する。
【０００４】次に、この上に所定のパターンが遮光材に
より描かれたマスク（すなわち、ホトマスク）を所定の
微小なギャップを隔てて基板上に該基板と平行に載置し
た後、露光装置を用いて、ホトレジスト膜に化学変化を
起こさせる紫外線等の光を露光用光源から照射し、露光
工程を行う。
より描かれたマスク（すなわち、ホトマスク）を所定の
微小なギャップを隔てて基板上に該基板と平行に載置し
た後、露光装置を用いて、ホトレジスト膜に化学変化を
起こさせる紫外線等の光を露光用光源から照射し、露光
工程を行う。
【０００５】次に、所定の現像液を用いてホトレジスト
膜の現像工程を行うことにより、ホトレジスト膜を選択
的に除去し、ホトレジスト膜をパターニングする。
膜の現像工程を行うことにより、ホトレジスト膜を選択
的に除去し、ホトレジスト膜をパターニングする。
【０００６】次いで、このホトレジスト膜を耐エッチン
グマスクとして、基板表面上の前記所定の膜をエッチン
グし、この所定の膜をパターニングして所定のパターン
を得る。
グマスクとして、基板表面上の前記所定の膜をエッチン
グし、この所定の膜をパターニングして所定のパターン
を得る。
【０００７】なお、上記のように、基板上にマスクを微
小なギャップを隔てて配置し、両者を接触させないの
は、マスクにホトレジスト膜が付着し、マスクが汚れ、
この汚れにより基板表面が汚れるのを防止するためであ
る。
小なギャップを隔てて配置し、両者を接触させないの
は、マスクにホトレジスト膜が付着し、マスクが汚れ、
この汚れにより基板表面が汚れるのを防止するためであ
る。
【０００８】また、例えばカラーフィルタのように、パ
ターニングした感光性樹脂膜をそのまま利用することも
ある。
ターニングした感光性樹脂膜をそのまま利用することも
ある。
【０００９】図３（Ａ）は、従来の液晶表示素子を製造
するためのプロキシミティ型露光装置の概略斜視図であ
る。
するためのプロキシミティ型露光装置の概略斜視図であ
る。
【００１０】３１はギャップ検出用センサ、３２はギャ
ップ検出用光、３３はホトマスク、３４は露光すべき対
象物で、ここでは液晶表示素子を構成する透明ガラス基
板、３５はホトマスク３３の下面と透明ガラス基板３４
の上面との間のギャップ、３６は透明ガラス基板３４を
吸引して保持する吸着台（すなわち、真空チャック）、
３７は吸着台３６の下面に対角線状に設けられ、吸着台
３６を４つに分割する溝（溝断面形状は、例えばＶ字
形）、３８は吸着台３７の中央部と、上記４つに分割さ
れた部分のそれぞれを上下動する上下動機構、４０は上
下動機構３８および吸着台３７の支持台である。
ップ検出用光、３３はホトマスク、３４は露光すべき対
象物で、ここでは液晶表示素子を構成する透明ガラス基
板、３５はホトマスク３３の下面と透明ガラス基板３４
の上面との間のギャップ、３６は透明ガラス基板３４を
吸引して保持する吸着台（すなわち、真空チャック）、
３７は吸着台３６の下面に対角線状に設けられ、吸着台
３６を４つに分割する溝（溝断面形状は、例えばＶ字
形）、３８は吸着台３７の中央部と、上記４つに分割さ
れた部分のそれぞれを上下動する上下動機構、４０は上
下動機構３８および吸着台３７の支持台である。
【００１１】液晶表示素子を製造する際は、（Ａ）に示
したような露光装置を用いて、２枚の透明ガラス基板を
重ね合せ、その間に液晶を封止してなる液晶表示素子
の、該透明ガラス基板上に形成する各種の膜、例えば透
明電極、カラーフィルタ等のパターニングを行う。
したような露光装置を用いて、２枚の透明ガラス基板を
重ね合せ、その間に液晶を封止してなる液晶表示素子
の、該透明ガラス基板上に形成する各種の膜、例えば透
明電極、カラーフィルタ等のパターニングを行う。
【００１２】図３（Ｂ）は、（Ａ）に示した従来の露光
装置において、ホトマスク３３と露光の対象物である透
明ガラス基板３４との間のギャップ３５を均一にするた
めにギャップ３５を検出する機構を示す図である。
装置において、ホトマスク３３と露光の対象物である透
明ガラス基板３４との間のギャップ３５を均一にするた
めにギャップ３５を検出する機構を示す図である。
【００１３】４１はギャップ検出用センサ３１に備えら
れたギャップ検出用レーザ光照射器、４２はギャップ検
出用センサ３１に備えられた反射レーザ光検出器、４３
はレーザ照射光、４４はレーザ反射光である。
れたギャップ検出用レーザ光照射器、４２はギャップ検
出用センサ３１に備えられた反射レーザ光検出器、４３
はレーザ照射光、４４はレーザ反射光である。
【００１４】従来の露光装置では、透明ガラス基板３４
とホトマスク３３とのギャップ３５を面内で均一に取る
ために、図３（Ｂ）に示すように、複数個のギャップ検
出用センサ３１に備えられたレーザ光照射器４１からレ
ーザ光４３をホトマスク３３の上から当て、ホトマスク
３３の裏面、および透明ガラス基板３４の表面からの反
射光を反射レーザ光検出器４２により検出することによ
り、両者のギャップ３５を複数箇所で検出し、吸着台３
６の底面に設けられた溝３７により４つに分割され、か
つ、この４つに分割された部分と中央部とを、それぞれ
に設けられた上下動機構３８により上げ下げして、吸着
台３６をたわませ、その上に載った透明ガラス基板３４
をたわませて、全面にわたるギャップ３５を均一に制御
しようとしていた。
とホトマスク３３とのギャップ３５を面内で均一に取る
ために、図３（Ｂ）に示すように、複数個のギャップ検
出用センサ３１に備えられたレーザ光照射器４１からレ
ーザ光４３をホトマスク３３の上から当て、ホトマスク
３３の裏面、および透明ガラス基板３４の表面からの反
射光を反射レーザ光検出器４２により検出することによ
り、両者のギャップ３５を複数箇所で検出し、吸着台３
６の底面に設けられた溝３７により４つに分割され、か
つ、この４つに分割された部分と中央部とを、それぞれ
に設けられた上下動機構３８により上げ下げして、吸着
台３６をたわませ、その上に載った透明ガラス基板３４
をたわませて、全面にわたるギャップ３５を均一に制御
しようとしていた。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、近年、液晶表
示装置は大画面化の傾向にあり、製作する液晶表示素子
が大型となるので、その製作用ホトマスク３３も当然大
きくなり、露光時のその自重によるホトマスク３３のた
わみが大きく、ホトマスク３３と、露光の対象物（すな
わち、所定のパターンに形成すべき透明導電膜等の膜を
表面に形成した透明ガラス基板３４）とのギャップ３５
を面内で均一に取ることができない。すなわち、上記の
ような機構により、全面にわたるギャップ３５を均一に
する従来の露光装置では、平面的な制御しかできず、大
きなホトマスク３３の曲面的なたわみには対応すること
ができないので、パターニングすべき透明導電膜等の線
幅のばらつきによる不良が生じ、歩留りが低下する。ま
た、ギャップを検出、制御するのに時間がかかるので、
スループットがよくない。すなわち、従来技術では、生
産性が低く、生産コストが上昇するという問題がある。
示装置は大画面化の傾向にあり、製作する液晶表示素子
が大型となるので、その製作用ホトマスク３３も当然大
きくなり、露光時のその自重によるホトマスク３３のた
わみが大きく、ホトマスク３３と、露光の対象物（すな
わち、所定のパターンに形成すべき透明導電膜等の膜を
表面に形成した透明ガラス基板３４）とのギャップ３５
を面内で均一に取ることができない。すなわち、上記の
ような機構により、全面にわたるギャップ３５を均一に
する従来の露光装置では、平面的な制御しかできず、大
きなホトマスク３３の曲面的なたわみには対応すること
ができないので、パターニングすべき透明導電膜等の線
幅のばらつきによる不良が生じ、歩留りが低下する。ま
た、ギャップを検出、制御するのに時間がかかるので、
スループットがよくない。すなわち、従来技術では、生
産性が低く、生産コストが上昇するという問題がある。
【００１６】本発明の目的は、ホトマスクと露光すべき
対象物との全面におけるギャップを容易、かつ正確に、
均一にすることができ、さらに、ホトマスクが大形化し
てもホトマスクのたわみを補正することができるホトマ
スクおよびそれを用いた露光装置を提供することにあ
る。
対象物との全面におけるギャップを容易、かつ正確に、
均一にすることができ、さらに、ホトマスクが大形化し
てもホトマスクのたわみを補正することができるホトマ
スクおよびそれを用いた露光装置を提供することにあ
る。
【００１７】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明のホトマスクは、パターンが描かれた略板状
（あるいは、シート状）のマスクと、前記マスクとほぼ
平行に配置された透明板と、前記マスクと前記透明板と
の間の縁周囲に配置された枠状体とを含んでなり、か
つ、前記マスクと前記透明板と前記枠状体とにより構成
された空間が排気可能になっていることを特徴とする。
に、本発明のホトマスクは、パターンが描かれた略板状
（あるいは、シート状）のマスクと、前記マスクとほぼ
平行に配置された透明板と、前記マスクと前記透明板と
の間の縁周囲に配置された枠状体とを含んでなり、か
つ、前記マスクと前記透明板と前記枠状体とにより構成
された空間が排気可能になっていることを特徴とする。
【００１８】また、前記透明板と前記枠状体とが一体の
透明部材により形成されていることを特徴とする。
透明部材により形成されていることを特徴とする。
【００１９】また、本発明のホトマスクは、パターンが
描かれた略板状のマスクと、前記マスクとともに囲まれ
た空間を構成する箱形部材とを含んでなり、かつ、前記
箱形部材の前記マスクに対向する面が透明であり、か
つ、前記空間が排気可能になっていることを特徴とす
る。
描かれた略板状のマスクと、前記マスクとともに囲まれ
た空間を構成する箱形部材とを含んでなり、かつ、前記
箱形部材の前記マスクに対向する面が透明であり、か
つ、前記空間が排気可能になっていることを特徴とす
る。
【００２０】また、前記マスクが、前記枠状体または前
記箱形部材に固定されていないことを特徴とする。
記箱形部材に固定されていないことを特徴とする。
【００２１】また、本発明の露光装置は、パターンが描
かれた略板状のマスクと、前記マスクとほぼ平行に配置
された透明板と、前記マスクと前記透明板との間の縁周
囲に配置された枠状体とを含んでなるホトマスクと、前
記マスクと前記透明板と前記枠状体とにより構成された
空間を排気する手段と、前記ホトマスクの下に配置され
る露光の対象物を保持する台と、前記ホトマスクの上か
ら露光用の光を照射する光源とを含んでなることを特徴
とする。
かれた略板状のマスクと、前記マスクとほぼ平行に配置
された透明板と、前記マスクと前記透明板との間の縁周
囲に配置された枠状体とを含んでなるホトマスクと、前
記マスクと前記透明板と前記枠状体とにより構成された
空間を排気する手段と、前記ホトマスクの下に配置され
る露光の対象物を保持する台と、前記ホトマスクの上か
ら露光用の光を照射する光源とを含んでなることを特徴
とする。
【００２２】また、本発明の露光装置は、パターンが描
かれた略板状のマスクと、前記マスクとともに囲まれた
空間を構成する箱形部材とを含んでなり、かつ、前記箱
形部材の前記マスクに対向する面が透明であるホトマス
クと、前記空間を排気する手段と、前記ホトマスクの下
に配置される露光の対象物を保持する台と、前記ホトマ
スクの上から露光用の光を照射する光源とを含んでなる
ことを特徴とする。
かれた略板状のマスクと、前記マスクとともに囲まれた
空間を構成する箱形部材とを含んでなり、かつ、前記箱
形部材の前記マスクに対向する面が透明であるホトマス
クと、前記空間を排気する手段と、前記ホトマスクの下
に配置される露光の対象物を保持する台と、前記ホトマ
スクの上から露光用の光を照射する光源とを含んでなる
ことを特徴とする。
【００２３】さらに、前記マスクが、前記枠状体または
前記箱形部材に固定されておらず、前記マスクが、前記
排気により前記枠状体または前記箱形部材に吸着される
ことを特徴とする。
前記箱形部材に固定されておらず、前記マスクが、前記
排気により前記枠状体または前記箱形部材に吸着される
ことを特徴とする。
【００２４】
【作用】本発明では、ホトマスクをセットした時点で、
露光用のパターンが描かれたマスクのたわみを補正し、
さらにマスクの大型化に影響を受けないように、マスク
の周辺（すなわち、縁周囲）を枠状体で密着固定し、マ
スクと枠状体と透明板（または箱形部材）とで構成され
る空間を、マスクが平面となるように、あるいはマスク
と露光の対象物との全面にわたるギャップが均一になる
ように真空引きし、マスクが大気圧により曲がらないよ
うにする。これにより、大きなマスクの自重によるたわ
みを、気圧による均等加重により打ち消して補正を行う
ことができるので、マスクの曲面的なたわみに対応する
ことができ、全面にわたるギャップを均一にすることが
でき、したがって、露光精度の面内における均一性を向
上することができる。この結果、各種膜を正確にパター
ニングすることができ、生産性を向上し、製造コストを
低減することができる。また、あらかじめ全面にわたる
ギャップが均一になるようにマスクと透明板と枠状体と
で構成されるホトマスク内の空間の真空度を検出してお
くので、従来のように、全面にわたるギャップを均一に
制御するのに時間がかかることもなく、生産性を向上す
ることができる。
露光用のパターンが描かれたマスクのたわみを補正し、
さらにマスクの大型化に影響を受けないように、マスク
の周辺（すなわち、縁周囲）を枠状体で密着固定し、マ
スクと枠状体と透明板（または箱形部材）とで構成され
る空間を、マスクが平面となるように、あるいはマスク
と露光の対象物との全面にわたるギャップが均一になる
ように真空引きし、マスクが大気圧により曲がらないよ
うにする。これにより、大きなマスクの自重によるたわ
みを、気圧による均等加重により打ち消して補正を行う
ことができるので、マスクの曲面的なたわみに対応する
ことができ、全面にわたるギャップを均一にすることが
でき、したがって、露光精度の面内における均一性を向
上することができる。この結果、各種膜を正確にパター
ニングすることができ、生産性を向上し、製造コストを
低減することができる。また、あらかじめ全面にわたる
ギャップが均一になるようにマスクと透明板と枠状体と
で構成されるホトマスク内の空間の真空度を検出してお
くので、従来のように、全面にわたるギャップを均一に
制御するのに時間がかかることもなく、生産性を向上す
ることができる。
【００２５】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を用いて
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【００２６】実施例１ 図１は、本発明の実施例１のホトマスクを含むプロキシ
ミティ型露光装置を示す概略要部構成図である。ここで
は、液晶表示素子を製造するために、さらに詳しく言う
と、液晶表示素子を構成する透明ガラス基板上に形成し
た透明電極、あるいはカラーフィルタ等のパターニング
を行う露光装置の例を示す。
ミティ型露光装置を示す概略要部構成図である。ここで
は、液晶表示素子を製造するために、さらに詳しく言う
と、液晶表示素子を構成する透明ガラス基板上に形成し
た透明電極、あるいはカラーフィルタ等のパターニング
を行う露光装置の例を示す。
【００２７】１３は露光の対象物で、例えば透明導電膜
が全面に形成された透明ガラス基板、１４は非変形吸着
台、４は透明導電膜を所定のパターンに形成するための
パターンが遮光材により描かれたマスク、２はマスク４
と所定の間隔を置いてマスク４と平行に配置された透明
板、３は枠状体である。本実施例では、透明板２と枠状
体３とは一体の透明の箱形部材１から成り、例えば光透
過率の良い石英で形成されている。１０はマスク４、透
明板２、枠状体３等で構成された露光用のホトマスク、
５はマスク４と箱形部材１とにより構成されたホトマス
ク１０内の空間、６は空間５内の空気を排気し、かつ、
空気を導入する排気・導入口、７は排気・導入管、８は
図示しない排気装置に接続された排気管、９は図示しな
い空気導入装置に接続された導入管、１１は排気・導入
管７と排気管８と導入管９とを接続する真空発生装置
（コンバム）、１２はマスク４と箱形部材１間を密閉す
るゴムパッドで、異物が発生しないように硬質ゴムから
なる。
が全面に形成された透明ガラス基板、１４は非変形吸着
台、４は透明導電膜を所定のパターンに形成するための
パターンが遮光材により描かれたマスク、２はマスク４
と所定の間隔を置いてマスク４と平行に配置された透明
板、３は枠状体である。本実施例では、透明板２と枠状
体３とは一体の透明の箱形部材１から成り、例えば光透
過率の良い石英で形成されている。１０はマスク４、透
明板２、枠状体３等で構成された露光用のホトマスク、
５はマスク４と箱形部材１とにより構成されたホトマス
ク１０内の空間、６は空間５内の空気を排気し、かつ、
空気を導入する排気・導入口、７は排気・導入管、８は
図示しない排気装置に接続された排気管、９は図示しな
い空気導入装置に接続された導入管、１１は排気・導入
管７と排気管８と導入管９とを接続する真空発生装置
（コンバム）、１２はマスク４と箱形部材１間を密閉す
るゴムパッドで、異物が発生しないように硬質ゴムから
なる。
【００２８】なお、この図では、露光用光源、排気装置
等の図示は省略してある。
等の図示は省略してある。
【００２９】ａはマスク４の下面と透明ガラス基板１３
の上面との間のギャップ、ｂはマスク４の厚さ、ｃはマ
スク４の上面と透明板２の下面との間の距離、ｄは透明
板２の厚さ、ｅは枠状体３の厚さであり、例えば、ａは
数１０〜数１００μｍ程度であり、ｂは５〜１０ｍｍ、
ｃは５〜１０ｍｍ、ｄは５〜１０ｍｍ、ｅは５〜１０ｍ
ｍ程度である。なお、これらの各寸法の具体的な値と、
図示の形状とは一致していない。
の上面との間のギャップ、ｂはマスク４の厚さ、ｃはマ
スク４の上面と透明板２の下面との間の距離、ｄは透明
板２の厚さ、ｅは枠状体３の厚さであり、例えば、ａは
数１０〜数１００μｍ程度であり、ｂは５〜１０ｍｍ、
ｃは５〜１０ｍｍ、ｄは５〜１０ｍｍ、ｅは５〜１０ｍ
ｍ程度である。なお、これらの各寸法の具体的な値と、
図示の形状とは一致していない。
【００３０】まず、ホトマスク１０を露光装置にセット
し、排気管８、真空発生装置１１、排気・導入管７、排
気・導入口６を介して箱形部材１とマスク４により構成
される空間５を真空引きし、ホトマスク１０のマスク４
のたわみが補正される程度、例えば約６５０Ｔｏｒｒに
真空圧にし、これを保持する。ここで、あらかじめ大形
のマスク４の大気中におけるその自重によるたわみが補
正される真空圧、すなわち、マスク４が平面で、マスク
４の下面と、非変形吸着台１４上の透明ガラス基板１３
の上面との間の全面におけるギャップａが一定となる真
空圧を差圧計等により検出しておく。なお、非変形吸着
台１４の上面の平面精度は非常によく形成されているの
で、透明ガラス基板１３の上面は精度良く平面に保たれ
る。これにより、マスク４の下面と露光の対象物である
透明ガラス基板１３の上面との全面におけるギャップａ
が一定値に保たれる。この状態で、図示しない露光用光
源から露光用光を照射し、露光を行う。
し、排気管８、真空発生装置１１、排気・導入管７、排
気・導入口６を介して箱形部材１とマスク４により構成
される空間５を真空引きし、ホトマスク１０のマスク４
のたわみが補正される程度、例えば約６５０Ｔｏｒｒに
真空圧にし、これを保持する。ここで、あらかじめ大形
のマスク４の大気中におけるその自重によるたわみが補
正される真空圧、すなわち、マスク４が平面で、マスク
４の下面と、非変形吸着台１４上の透明ガラス基板１３
の上面との間の全面におけるギャップａが一定となる真
空圧を差圧計等により検出しておく。なお、非変形吸着
台１４の上面の平面精度は非常によく形成されているの
で、透明ガラス基板１３の上面は精度良く平面に保たれ
る。これにより、マスク４の下面と露光の対象物である
透明ガラス基板１３の上面との全面におけるギャップａ
が一定値に保たれる。この状態で、図示しない露光用光
源から露光用光を照射し、露光を行う。
【００３１】なお、本実施例では、箱形部材１とマスク
４とは固定されておらず、真空引きによりしっかりと吸
着される。また、箱形部材１は所定の位置に固定される
ようになっている。
４とは固定されておらず、真空引きによりしっかりと吸
着される。また、箱形部材１は所定の位置に固定される
ようになっている。
【００３２】本実施例の露光装置では、ホトマスク１０
をセットした時点で、パターンが描かれたマスク４のた
わみを補正し、さらにマスク４の大型化に影響を受けな
いように、マスク４の周辺（縁周囲）を枠状体３で密着
固定し、マスク４と枠状体３と透明板２とで構成される
空間５を、マスク４が平面となるように、あるいはマス
ク４と透明ガラス基板１３との全面にわたるギャップａ
が均一になるように真空引きする。これにより、上記の
ように、大きなマスク４の自重によるたわみを、気圧に
よる均等加重により打ち消して補正を行うので、マスク
４の曲面的なたわみに対応することができ、全面にわた
るギャップ３５を均一にすることができるので、露光精
度の面内における均一性を向上することができる。この
結果、透明導電膜、あるいはカラーフィルタ等を正確に
パターニングすることができ、線幅のばらつき等の不良
が生じず、スループットを向上することができ、生産性
が向上し、製造コストを低減することができる。また、
あらかじめ全面にわたるギャップａが均一になるように
ホトマスク１０内の空間５の真空度をそのホトマスク１
０あるいはマスク４について１度検出すれば、従来のよ
うに、全面にわたるギャップを一々検出しなくてよく、
ギャップを均一に制御するのに時間がかからず、生産性
を向上することができる。この結果、次世代の大形液晶
表示素子用の透明ガラス基板に対応し、液晶表示素子製
作における高スループット化、低コスト化、高品質化を
実現することができる。
をセットした時点で、パターンが描かれたマスク４のた
わみを補正し、さらにマスク４の大型化に影響を受けな
いように、マスク４の周辺（縁周囲）を枠状体３で密着
固定し、マスク４と枠状体３と透明板２とで構成される
空間５を、マスク４が平面となるように、あるいはマス
ク４と透明ガラス基板１３との全面にわたるギャップａ
が均一になるように真空引きする。これにより、上記の
ように、大きなマスク４の自重によるたわみを、気圧に
よる均等加重により打ち消して補正を行うので、マスク
４の曲面的なたわみに対応することができ、全面にわた
るギャップ３５を均一にすることができるので、露光精
度の面内における均一性を向上することができる。この
結果、透明導電膜、あるいはカラーフィルタ等を正確に
パターニングすることができ、線幅のばらつき等の不良
が生じず、スループットを向上することができ、生産性
が向上し、製造コストを低減することができる。また、
あらかじめ全面にわたるギャップａが均一になるように
ホトマスク１０内の空間５の真空度をそのホトマスク１
０あるいはマスク４について１度検出すれば、従来のよ
うに、全面にわたるギャップを一々検出しなくてよく、
ギャップを均一に制御するのに時間がかからず、生産性
を向上することができる。この結果、次世代の大形液晶
表示素子用の透明ガラス基板に対応し、液晶表示素子製
作における高スループット化、低コスト化、高品質化を
実現することができる。
【００３３】実施例２ 図２は、本発明の実施例２の液晶表示素子製造用のホト
マスクを含むプロキシミティ型露光装置を示す概略要部
構成図である。
マスクを含むプロキシミティ型露光装置を示す概略要部
構成図である。
【００３４】１３は露光の対象物である液晶表示素子製
造用の透明ガラス基板、１４は非変形吸着台、１０は露
光用のホトマスク、４は所定のパターンが遮光材により
描かれたマスク、２は例えば光透過率の良い石英で形成
され、マスク４と所定の間隔を置いてマスク４と平行に
配置された透明板、３は枠状体で、本実施例では、透明
板２と枠状体３とは別の部材で構成されている。５はマ
スク４と透明板２と枠状体３とにより構成された空間、
６は空間５内を空気を排気し、かつ、空気を導入する排
気・導入口である。
造用の透明ガラス基板、１４は非変形吸着台、１０は露
光用のホトマスク、４は所定のパターンが遮光材により
描かれたマスク、２は例えば光透過率の良い石英で形成
され、マスク４と所定の間隔を置いてマスク４と平行に
配置された透明板、３は枠状体で、本実施例では、透明
板２と枠状体３とは別の部材で構成されている。５はマ
スク４と透明板２と枠状体３とにより構成された空間、
６は空間５内を空気を排気し、かつ、空気を導入する排
気・導入口である。
【００３５】なお、この図では、排気・導入管（図１参
照）、排気装置、露光用光源等の図示は省略してある。
照）、排気装置、露光用光源等の図示は省略してある。
【００３６】ａはマスク４の下面と透明ガラス基板１３
の上面との間のギャップ、ｂはマスク４の厚さ、ｃはマ
スク４の上面と透明板２の下面との間の距離、ｄは透明
板２の厚さ、ｅは枠状体３の厚さであり、本実施例で
は、ａは１００μｍ、ｂ〜ｅはそれぞれ５ｍｍである。
なお、これらの各寸法の具体的な値と、図示の形状とは
一致していない。
の上面との間のギャップ、ｂはマスク４の厚さ、ｃはマ
スク４の上面と透明板２の下面との間の距離、ｄは透明
板２の厚さ、ｅは枠状体３の厚さであり、本実施例で
は、ａは１００μｍ、ｂ〜ｅはそれぞれ５ｍｍである。
なお、これらの各寸法の具体的な値と、図示の形状とは
一致していない。
【００３７】まず、ホトマスク１０を露光装置にセット
し、図示しない真空発生装置により図示しない排気管等
（図１参照）を介して透明板２と枠状体３とマスク４に
より構成される空間５を真空引きし、ホトマスク１０の
マスク４のたわみが補正される程度の真空圧、例えば約
６５０Ｔｏｒｒにし、これを保持する。ここで、あらか
じめ大形のマスク４のその自重によるたわみが補正され
る真空圧、すなわち、マスク４が平面で、マスク４の下
面と、非変形吸着台１４上の透明ガラス基板１３の上面
との間の全面におけるギャップａが一定となる真空圧を
検出しておく。なお、非変形吸着台１４は透明ガラス基
板１３の面を精度良く平面に保ち、これにより、マスク
４の下面と露光の対象物である透明ガラス基板１３の上
面との全面におけるギャップａが一定値に保たれる。こ
の状態で、図示しない露光用光源から露光用光を照射
し、露光を行う。
し、図示しない真空発生装置により図示しない排気管等
（図１参照）を介して透明板２と枠状体３とマスク４に
より構成される空間５を真空引きし、ホトマスク１０の
マスク４のたわみが補正される程度の真空圧、例えば約
６５０Ｔｏｒｒにし、これを保持する。ここで、あらか
じめ大形のマスク４のその自重によるたわみが補正され
る真空圧、すなわち、マスク４が平面で、マスク４の下
面と、非変形吸着台１４上の透明ガラス基板１３の上面
との間の全面におけるギャップａが一定となる真空圧を
検出しておく。なお、非変形吸着台１４は透明ガラス基
板１３の面を精度良く平面に保ち、これにより、マスク
４の下面と露光の対象物である透明ガラス基板１３の上
面との全面におけるギャップａが一定値に保たれる。こ
の状態で、図示しない露光用光源から露光用光を照射
し、露光を行う。
【００３８】本実施例の露光装置でも、実施例１と同様
の作用・効果を有する。
の作用・効果を有する。
【００３９】以上本発明を実施例に基づいて具体的に説
明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではな
く、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能で
あることは勿論である。例えば、上記実施例１、２で
は、液晶表示素子製造用の露光装置について述べたが、
単純マトリクス方式や薄膜トランジスタ等をスイッチン
グ素子として用いたアクティブ・マトリクス方式の液晶
表示装置における、透明導電膜、カラーフィルタ、薄膜
トランジスタのゲート、ソース、ドレイン、信号線等の
パターニングが必要な各種膜のパターニングに使用する
ことができるのは言うまでもなく、さらに、半導体装置
製造用の露光装置等にも適用可能であることはもちろん
である。また、上記実施例１、２では、あらかじめ全面
におけるギャップａが一定となるホトマスク１０の空間
５の真空度を計測しておいて真空引きしたが、ギャップ
ａを所定の検出機構により検出しつつ、真空引きして、
面内におけるギャップａを一定にする構成としてもよ
い。つまり、現状の露光装置と同様に、ギャップ検出用
センサを用いてギャップを検出しつつ、本発明によるマ
スクの真空引きを行う。これにより、ギャップ制御の収
束の速さおよび精度の向上を図ることができる。
明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではな
く、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能で
あることは勿論である。例えば、上記実施例１、２で
は、液晶表示素子製造用の露光装置について述べたが、
単純マトリクス方式や薄膜トランジスタ等をスイッチン
グ素子として用いたアクティブ・マトリクス方式の液晶
表示装置における、透明導電膜、カラーフィルタ、薄膜
トランジスタのゲート、ソース、ドレイン、信号線等の
パターニングが必要な各種膜のパターニングに使用する
ことができるのは言うまでもなく、さらに、半導体装置
製造用の露光装置等にも適用可能であることはもちろん
である。また、上記実施例１、２では、あらかじめ全面
におけるギャップａが一定となるホトマスク１０の空間
５の真空度を計測しておいて真空引きしたが、ギャップ
ａを所定の検出機構により検出しつつ、真空引きして、
面内におけるギャップａを一定にする構成としてもよ
い。つまり、現状の露光装置と同様に、ギャップ検出用
センサを用いてギャップを検出しつつ、本発明によるマ
スクの真空引きを行う。これにより、ギャップ制御の収
束の速さおよび精度の向上を図ることができる。
【００４０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ホトマスクと露光すべき対象物との全面におけるギャッ
プを容易、かつ正確に、均一にすることができ、ホトマ
スクが大形化してもホトマスクのたわみを補正すること
ができるホトマスクおよびそれを用いた露光装置を提供
することができる。
ホトマスクと露光すべき対象物との全面におけるギャッ
プを容易、かつ正確に、均一にすることができ、ホトマ
スクが大形化してもホトマスクのたわみを補正すること
ができるホトマスクおよびそれを用いた露光装置を提供
することができる。
【図１】本発明の実施例１の液晶表示素子製造用のホト
マスクを含むプロキシミティ型露光装置を示す概略要部
構成図である。
マスクを含むプロキシミティ型露光装置を示す概略要部
構成図である。
【図２】本発明の実施例２の液晶表示素子製造用のホト
マスクを含むプロキシミティ型露光装置を示す概略要部
構成図である。
マスクを含むプロキシミティ型露光装置を示す概略要部
構成図である。
【図３】（Ａ）は、従来の液晶表示素子製造用のプロキ
シミティ型露光装置の概略斜視図、（Ｂ）は、（Ａ）に
示した従来の露光装置において、ホトマスクと露光の対
象物との間のギャップを検出する機構を示す図である。
シミティ型露光装置の概略斜視図、（Ｂ）は、（Ａ）に
示した従来の露光装置において、ホトマスクと露光の対
象物との間のギャップを検出する機構を示す図である。
１…箱形部材、２…透明板、３…枠状体、４…マスク、
５…空間、６…排気・導入口、７…排気・導入管、８…
排気管、９…導入管、１０…ホトマスク、１１…真空発
生装置、１２…ゴムパッド、１３…露光の対象物（透明
ガラス基板）、１４…非変形吸着台、ａ…マスクと透明
ガラス基板との間のギャップ。
５…空間、６…排気・導入口、７…排気・導入管、８…
排気管、９…導入管、１０…ホトマスク、１１…真空発
生装置、１２…ゴムパッド、１３…露光の対象物（透明
ガラス基板）、１４…非変形吸着台、ａ…マスクと透明
ガラス基板との間のギャップ。
Claims (7)
- 【請求項１】パターンが描かれた略板状のマスクと、前
記マスクとほぼ平行に配置された透明板と、前記マスク
と前記透明板との間の縁周囲に配置された枠状体とを含
んでなり、かつ、前記マスクと前記透明板と前記枠状体
とにより構成された空間が排気可能になっていることを
特徴とするホトマスク。 - 【請求項２】前記透明板と前記枠状体とが一体の透明部
材により形成されていることを特徴とする請求項１記載
のホトマスク。 - 【請求項３】パターンが描かれた略板状のマスクと、前
記マスクとともに囲まれた空間を構成する箱形部材とを
含んでなり、かつ、前記箱形部材の前記マスクに対向す
る面が透明であり、かつ、前記空間が排気可能になって
いることを特徴とするホトマスク。 - 【請求項４】前記マスクが、前記枠状体または前記箱形
部材に固定されていないことを特徴とする請求項１また
は３記載のホトマスク。 - 【請求項５】パターンが描かれた略板状のマスクと、前
記マスクとほぼ平行に配置された透明板と、前記マスク
と前記透明板との間の縁周囲に配置された枠状体とを含
んでなるホトマスクと、 前記マスクと前記透明板と前記枠状体とにより構成され
た空間を排気する手段と、 前記ホトマスクの下に配置される露光の対象物を保持す
る台と、 前記ホトマスクの上から露光用の光を照射する光源と、 を含んでなることを特徴とする露光装置。 - 【請求項６】パターンが描かれた略板状のマスクと、前
記マスクとともに囲まれた空間を構成する箱形部材とを
含んでなり、かつ、前記箱形部材の前記マスクに対向す
る面が透明であるホトマスクと、 前記空間を排気する手段と、 前記ホトマスクの下に配置される露光の対象物を保持す
る台と、 前記ホトマスクの上から露光用の光を照射する光源と、 を含んでなることを特徴とする露光装置。 - 【請求項７】前記マスクが、前記枠状体または前記箱形
部材に固定されておらず、前記マスクが、前記排気によ
り前記枠状体または前記箱形部材に吸着されることを特
徴とする請求項５または６記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21700494A JPH0882919A (ja) | 1994-09-12 | 1994-09-12 | ホトマスクおよびそれを用いた露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21700494A JPH0882919A (ja) | 1994-09-12 | 1994-09-12 | ホトマスクおよびそれを用いた露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0882919A true JPH0882919A (ja) | 1996-03-26 |
Family
ID=16697319
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21700494A Pending JPH0882919A (ja) | 1994-09-12 | 1994-09-12 | ホトマスクおよびそれを用いた露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0882919A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003015310A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-17 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | プロキシミティ露光装置及びその装置におけるフォトマスク変形補正方法 |
| JP2006135087A (ja) * | 2004-11-05 | 2006-05-25 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP2011128646A (ja) * | 2011-02-07 | 2011-06-30 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| US10209632B2 (en) | 2017-03-23 | 2019-02-19 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Proximity exposure device and exposure method thereof |
-
1994
- 1994-09-12 JP JP21700494A patent/JPH0882919A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003015310A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-17 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | プロキシミティ露光装置及びその装置におけるフォトマスク変形補正方法 |
| JP2006135087A (ja) * | 2004-11-05 | 2006-05-25 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP2011128646A (ja) * | 2011-02-07 | 2011-06-30 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| US10209632B2 (en) | 2017-03-23 | 2019-02-19 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Proximity exposure device and exposure method thereof |
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