JP3285158B2 - 真空密着焼付装置 - Google Patents

真空密着焼付装置

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JP3285158B2
JP3285158B2 JP22006892A JP22006892A JP3285158B2 JP 3285158 B2 JP3285158 B2 JP 3285158B2 JP 22006892 A JP22006892 A JP 22006892A JP 22006892 A JP22006892 A JP 22006892A JP 3285158 B2 JP3285158 B2 JP 3285158B2
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、露光すべき基材の両面
に真空を利用して原版を密着させて焼き付けるための真
空密着焼付装置に関し、特に、絵柄を変形なく忠実に再
現できる真空密着焼付装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般にフィルムやガラス板等からなる透
過性の原版にかかれた絵柄を感光基材に密着焼付法で露
光する場合、高速でかつ均一に密着させる装置として、
本出願人がすでに提案した特願平2−65603号のも
のがある。これは、原版や感光基材に粗面化等の加工を
必要とせず、しかも極めて短時間に原版を感光基材に良
好に密着させることの可能な真空密着焼付装置であり、
図2の概略断面図に示すように、ガラス原版12、12
をそれぞれ保持した一対の枠13、13であって、前記
原版12、12の間に第一真空室16を形成する一対の
枠13、13と、この一対の枠13、13の各々に保持
した原版12、12の外側に原版12、12との間に第
二真空室19、19を形成するように取り付けられた透
光性板20、20と、前記第一真空室16及び第二真空
室19、19を排気して減圧しかつ少なくとも第二真空
室19、19のみの真空を解除可能な真空吸引装置23
とを有するものである。
【0003】このような構成において、感光基材11に
一対の原版12、12を密着するには、原版12、12
の間に位置させ、原版12、12間に第一真空室16と
その外側に形成された第二真空室19、19とを同時に
真空吸引して、原版12、12を変形させることなく、
その両面を真空吸引し、その後、第二真空室19、19
の真空を解除して、原版12、12と感光基材11の間
に空気が閉じ込めずに短時間で両者を良好に密着させよ
うとするものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図2の
ように二重真空吸引を利用する真空密着焼付装置におい
て、第一真空室16と第二真空室19、19との間に圧
力差が発生しないように同時に高速に真空排気すること
は、配管の管抵抗の違い等により実際上困難であり、そ
のため、排気途中で図3に示すように、ガラス原版1
2、12が透光性板20、20側へ湾曲して、ガラス原
版12、12の中心部が感光基材11から大きく離れて
しまうことがある。このため、第二真空室19、19の
真空を解除して大気圧へ戻したとき、ガラス原版12、
12の周辺部から先に感光基材11に密着してしまい、
第一真空室16が真空排気されているにもかかわらず、
その中心部の感光基材11に対する密着不良が発生し、
絵柄を変形なく忠実に再現することができない場合があ
る。
【0005】本発明はこのような問題に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、原版の両側に別々の真空室を
設けた真空密着焼付装置において、真空排気中に両真空
室間に圧力差が発生しても、原版が実質的に湾曲しない
ようにして、原版を感光基材に均一に密着させ、原版の
絵柄を変形なく忠実に再現させるようにすることであ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の真空密着焼付装置は、原版をそれぞれ保持した一対
の枠であって前記原版の間に第一真空室を形成する一対
の枠と、該一対の枠の各々に保持した原版の外側に原版
との間に第二真空室を形成するように取り付けられた透
光性板と、前記第一真空室及び第二真空室を排気して減
圧しかつ少なくとも第二真空室のみの真空を解除可能な
真空吸引装置とを有する真空密着焼付装置において、前
記透光性板と原版との間の間隔を、前記第一真空室と第
二真空室の排気中の圧力差による前記原版の前記透光性
板側へのたわみを前記透光性板が制限する距離に設定し
たことを特徴とするものである。
【0007】
【作用】本発明においては、透光性板と原版との間の間
隔が、第一真空室と第二真空室の排気中の圧力差による
原版の透光性板側へのたわみを透光性板が制限する距離
に設定されているので、原版は実質的にたわまず、その
ため、原版の周辺部から先に感光基材に密着して、第一
真空室が真空排気されているにもかかわらず、その中心
部の感光基材に対する密着不良が発生し、絵柄が変形し
て忠実に再現されないのを防止することができる。ま
た、透光性板と原版の間隔が小さくなるので、第二真空
室の排気容積が小さくなり、吸引排気時間が短縮され、
原版の感光基材に対する密着作業時間が短縮される。
【0008】
【実施例】以下、図面を参照にして本発明の真空密着焼
付装置の実施例について説明する。本発明の真空密着焼
付装置の基本的な構成は、図2に示した本出願人の提案
による特願平2−65603号のものと同じである。大
きな違いは、透光性板20、20と原版12、12の間
の間隔を可及的に小さくして、原版12、12を湾曲し
ないようにし、それによって、原版12、12の中心部
の感光基材11に対する密着不良を防止して、絵柄を変
形なく忠実に再現するようにすることである。
【0009】このような本発明の真空密着焼付装置の1
実施例の概略断面図を図1に示す。図1において、11
は露光すべき感光基材、12、12は感光基材11に複
写するための所定の絵柄がかかれたガラス等の原版であ
る。この原版12、12は、一対の枠13、13に真空
吸着溝14、14によって真空吸着されて保持されてい
る。一対の枠13、13の対向面には、原版12、12
の外側に位置するようにパッキング15、15が取り付
けられている。これらの原版12、12、枠13、1
3、パッキング15、15は第一真空室16を形成す
る。一対の原版12、12の上下の端部間には、テー
プ、金属板、紙等で形成されるスペーサ17が設けられ
ている。このスペーサ17は、感光基材11よりはやや
厚みがあるが、原版12、12が真空密着により感光基
材11に押圧されたときには原版12、12がたわむこ
とにより感光基材11に隙間なく密着することができる
程度の厚みに定められている。なお、このスペーサ17
は必ずしも必須のものではない。
【0010】一対の枠13、13の各々には、原版1
2、12の外側に原版との間に第二真空室19、19を
形成するように、原版12、12に平行に、ガラス、樹
脂板等で構成された透光性板20、20がボルト又は市
販のワンタッチクランプ(図示せず)により取り付けら
れている。また、枠13と透光性板20との間にはパッ
キング21が配置され気密性を保つようになっている。
【0011】ここで、本発明により、透光性板20、2
0の第二真空室19、19側の面の位置は、第一真空室
16と第二真空室19、19の圧力差による原版12、
12の透光性板20、20側へのたわみを透光性板2
0、20が制限する位置に設定される。実際上、原版1
2、12が透光性板20、20にほぼ接する距離から1
mm程度の距離離間して配置される。ここで、ほぼ接す
るとは、完全密着でなく空気が通る程度の距離であり、
原版12、12、透光性板20、20の平滑度程度以上
の距離である。
【0012】さて、透光性板20、20のさらに外側に
は、露光用光源22、22が設けられている。この露光
用光源22は透光性板20を通して原版12の画像を感
光基材11に焼付けるための露光用の光を照射するもの
であり、従来使用されている光源が使用できる。前記し
た透光性板20、20は、露光に使用する光を透過し得
る材料で構成されるものであり、例えば露光に紫外光を
利用する場合には、透光性板20、20として紫外光透
過性のガラスや樹脂板(例えば、アクリル板)が使用さ
れる。また逆に、紫外領域より長波長域の光を使用する
場合には、その波長域の光を透過させるものが使用され
る。なお、透光性板20、20には、強度面からガラス
板よりもアクリル板等の樹脂板を使用することが望まし
いが、一般に樹脂板は紫外光吸収性のものが多い。した
がって、露光用光源としてメタルハライドランプ光源を
使用する場合には、紫外光吸収性のアクリル樹脂板を使
用することができる。露光用光源22の強さは、透光性
板20の透過特性と感光材料の感度により選定される。
【0013】第一真空室16及び第二真空室19、19
には、内部を排気して減圧する真空吸引装置23が接続
されている。この真空吸引装置23は、第一真空室16
に開口した真空吸引口24aに接続された第一真空配管
24と、各第二真空室19に開口した真空吸引口26a
に接続された第二真空配管26と、これらの真空配管2
4、26にそれぞれ弁(図示せず)を介して接続された
真空ホンプ等の真空源等を備えており、その真空源によ
って、第一真空室16、第二真空室19、19を真空吸
引可能である。なお、真空配管24、26はそれぞれに
設けた弁(図示せず)によって、個々に真空を解除可能
となっている。
【0014】さらに、真空配管24、26は、逆止弁2
7及び配管28a、28bを介して相互に接続されてい
る。この逆止弁27は、第一真空室16から第二真空室
19、19へは気体は流れるが、その逆の流れは阻止す
るように設けたものであり、この逆止弁27を設けたこ
とにより、例えばパッキング15から真空が漏れて第一
真空室16の圧力が上昇しても、同時に第二真空室1
9、19の圧力が上昇し、両真空室16、19の間の圧
力差が小さくなるようになっている。なお、本発明にお
いては、この逆止弁27及び配管28a、28bは必ず
しも必要なものではない。
【0015】一対の枠13、13は、水平に配置された
ベッド30上を往復運動するように配置されている。す
なわち、ベッド30上にはレール31が取り付けられ、
そのレール31に沿って摺動可能なレール従動体32が
各枠13に取り付けられている。さらに、ベッド30上
には2つの枠13、13に対応してボールネジ(図示せ
ず)が取り付けられ、各ボールネジに噛み合うねじ従動
体(図示せず)が各枠13に取り付けられている。かく
して、2本のボールネジをモータ(図示せず)によって
回転させることにより、各ねじ従動体に連結された枠1
3、13を図2に示す閉位置と、その位置から左右に開
いた開位置とに開閉することができる。
【0016】以上のように構成された真空密着焼付装置
によって原版の画像を感光基材に焼き付けるには、感光
基材11を図1のようにセットした後、一対の枠13、
13を閉じる。こうして、一対の原版12、12間に形
成される第一真空室16の周縁がパッキング15、15
同志の接触によって密閉される。
【0017】次に、真空配管24、26に同時に真空を
作用させて第一真空室16、第二真空室19、19を同
時に減圧させ、真空とする。この際、真空配管24、2
6間の管抵抗の違い、第一真空室16、第二真空室1
9、19の容積の違い等により、第一真空室16の圧力
が第二真空室19、19の圧力より高くなることがあ
り、原版12、12が図3に示したように外側にたわ
む。しかし、本発明の場合、前記したように、透光性板
20、20と原版12、12の間隔が、このたわみを制
限する距離に設定されているので、このような圧力差が
真空排気中に起きても、第二真空室19、19を大気圧
に戻す際、原版12、12の周辺部から先に感光基材1
1に密着してその中心部の感光基材11に対する密着不
良が発生するおそれはなくなり、原版12、12の絵柄
が変形なく忠実に感光基材11に複写される。なお、本
発明においては、透光性板20、20と原版12、12
の間隔を上記のように小さくしたので、第二真空室1
9、19の排気容積も小さくなり、吸引排気時間が短縮
されるメリットもある。
【0018】第一真空室16、第二真空室19、19を
所望の真空度にまで減圧した後、第一真空室16は減圧
したまま、第二真空室19、19への真空を解除する。
これにより、第二真空室19、19の内圧が上昇し、原
版12、12の外面側に圧力が作用し、原版12、12
を感光基材11の全面に密着させる。第二真空室19、
19が大気圧になった後、光源22、22を点灯し、透
光性板20、20を通して露光を行う。
【0019】以上、実施例に基づいて本発明の真空密着
焼付装置を説明してきたが、本発明はこれら実施例に限
定されず種々の変形が可能である。例えば、感光基材の
片面にのみ1枚の原版を真空密着させる焼付装置におい
ても、同様に構成できる。
【0020】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の真空密着焼付装置によると、透光性板と原版との間の
間隔が、第一真空室と第二真空室の排気中の圧力差によ
る原版の透光性板側へのたわみを透光性板が制限する距
離に設定されているので、原版は実質的にたわまず、そ
のため、原版の周辺部から先に感光基材に密着して、第
一真空室が真空排気されているにもかかわらず、その中
心部の感光基材に対する密着不良が発生し、絵柄が変形
して忠実に再現されないのを防止することができる。ま
た、透光性板と原版の間隔が小さくなるので、第二真空
室の排気容積が小さくなり、吸引排気時間が短縮され、
原版の感光基材に対する密着作業時間が短縮される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の真空密着焼付装置の1実施例の概略断
面図である。
【図2】本発明の前提の真空密着焼付装置の概略断面図
である。
【図3】図2の真空密着焼付装置の問題点を説明するた
めの概略断面図である。
【符号の説明】
11…感光基材 12、12…原版 13、13…枠 14、14…真空吸着溝 15、15…パッキング 16…第一真空室 17…スペーサ 19、19…第二真空室 20、20…透光性板 21…パッキング 22、22…露光用光源 23…真空吸引装置 24…第一真空配管 24a…真空吸引口 26…第二真空配管 26a…真空吸引口 27…逆止弁 28a、28b…配管 30…ベッド 31…レール 32…レール従動体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−265837(JP,A) 特開 昭56−69620(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03B 27/02 G03B 27/20 G03F 7/20

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 原版をそれぞれ保持した一対の枠であっ
    て前記原版の間に第一真空室を形成する一対の枠と、該
    一対の枠の各々に保持した原版の外側に原版との間に第
    二真空室を形成するように取り付けられた透光性板と、
    前記第一真空室及び第二真空室を排気して減圧しかつ少
    なくとも第二真空室のみの真空を解除可能な真空吸引装
    置とを有する真空密着焼付装置において、前記透光性板
    と原版との間の間隔を、前記第一真空室と第二真空室の
    排気中の圧力差による前記原版の前記透光性板側へのた
    わみを前記透光性板が制限する距離に設定したことを特
    徴とする真空密着焼付装置。
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KR101289337B1 (ko) * 2007-08-29 2013-07-29 시게이트 테크놀로지 엘엘씨 양면 임프린트 리소그래피 장치
CN109003916B (zh) * 2018-07-04 2020-08-28 安徽修武工业技术有限公司 一种集成电路板抓取用机械手系统

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