JPS59188917A - 真空焼枠装置とこの装置を用いた真空焼付法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は真空焼枠装置とこの装置を用いた真空焼付法
に関するものであり、より具体的には機械要素部品また
は電子部品等を蝕刻により製造する場合の前行程で行う
写真原板と前記部品基板との密着を完全に行なわせるよ
うにした真空焼枠装置と真空焼付法に係る。

更に詳細には、この発明は歯車等の機械要素部品または
プリント基板、ＬＳＩ、超ＬＳＩ等の集積回路およびこ
れ等回路用基板を組込むための電子部品を写真腐蝕法（
フォトエツチング）により製造する場合の中間行程とし
て行なわれる前記の各部品を撮影した写真原板の写真フ
ィルムと前記の各部品基板表面に感光材料を塗付した焼
付板とを無気泡状に完全に密着させるための真空焼枠装
置と真空焼付法に関するものである。

この発明の特徴を顕現させるために従来の真空焼枠装置
につき略述すれば次のとおりである。

第１図は従来の真空焼枠装置を示したもので、この真空
焼枠装置は枠１とこの枠に周縁部を固設したポリエステ
ル等の可懐質の透明膜３と透明な平板ガラス２とで密閉
室Ａ′を形成しこの密閉室Ａ′内をポンプＰ′を介して
真空化することによって透明膜３を平板ガラス側に強制
的に吸引し、平板ガラス２上にかさね合せて載置されて
いる焼付板４と写真原板５とを無気泡状に完全密着させ
ようとするものであった。しかしながら従来装置の場合
は、密閉室Ａ′内の真空化に際して、同図鎖線で示すよ
うに透明膜３の最大変位が焼付板４と枠１との中間部Ｂ
′点で発生してしまい、このため最も８喪とする写真原
板５に対する透明膜３の抑圧−力か特に中心部で不充分
となるばかりでなく、Ｂ′点に烏ける排出空気路の狭あ
い化のために透明膜３と写真原板５あるいは写真原板５
と焼付板４間のそれぞれの気泡排出に長時間を要するば
かりでなく、均一な押圧力が得ら、れないものであった
。

このため従来例の場合は、これを微視的に見た場合、写
真原板５が焼付板４に対して完全に密着していないため
、しわの生じている写真原板上の撮影線Ｆ１、Ｆ２、Ｆ
３等の各像Ｆ１’　、Ｆ２’　、Ｆ３’は焼付板４上で
重なってしまい所定の解像力をもった焼付が行なえず、
所望精度の製品が得られないものであった。特に、プリ
ント基板、ＬＳＩあるいは超ＬＳＩの組込基板等におい
ては数百本／ｗｎ程度の解像模様を明瞭に焼付けなけれ
ばならないため、焼付板４と写真原板５間には残留気泡
を原因とする密着不良、不均整およびしわの発生を完全
に防止しなければならないにもかかわらず、従来装置に
あってはこの目的を達成するための技術手段を備えた真
空焼枠装置はなかった。

この発明は第１段階で透明膜の周縁部に均一な外向きの
緊張力を加えておき、第２段階でこの透明膜のほぼ中心
から放射状に移動する押圧力を発生させ写真原板表面を
押圧するように構成した写真焼付法と、この方法を達成
するために第１段階装置として透明膜周縁部とガラス板
上に並設置した複数個のシール部材で第１真空室を構成
し、第２段階装置として前記シール部のうちの内側シー
ル部と内側透明膜で第２真空室を構成し、先ず第１真空
室の真空化を行うと同時または並行しであるいは所定の
タイムラグをもって第２真空室の真空化を行い、焼付板
と写真原板との完全密着を達成するようにした真空焼枠
装置とこの焼枠装置を用いた真空焼付法とを提供しよう
とするものである。

この発明の具体的実施例が添付図面をｔ照にしながら以
下に説明される。

第３図はこの発明の実施例の要部平面図を示したもので
、図面中の符号７は機台で、この機台内には露光用装置
と真空発生装置およびこれ等の制御装置が組込まれてい
る。８はこの発明の真空焼枠装置を示し、この装置は機
台両側に設けたレール９上に載置されており、特に図示
しないか、この装置と並置されている他の真空焼枠装置
と交互に機台内に格納され、格納時に露光処理を施され
るように構成されている。

第３図と特に第３図Ｉ−Ｉ線断面拡大図を示す第４図に
よりこの発明に係る真空焼枠装置の構造を説明すれば次
のとおりである。

図面符号１０は開閉枠を、２０は中空状の閉断面枠を、
３０は透明膜部材を、４０は焼付部材５０をのせる載置
部材をまたＰｌおよびＰ２’は第１真空室Ａおよび第２
真空室Ｂとに個別に連通する真空ポンプを表わし、７０
および８０はいずれもシール部材で両部材は所定巾離間
するように並設され、両部材による挟持空間が第１真空
室Ａとして、内側のシール部材８０で囲まれる空間が第
２真空室Ｂとして機能するように構成されている。

上記各部材の具体的構造と各部材間の相関々係を前記両
図により説明すれば次のとおりである。

開閉枠１０は中空状の固定枠１１とこの固定枠１１にビ
ン１３を介して蝶着されている保持枠１２とで形成され
ている。固定枠１１には載置部材４０が取付けられてお
り、この載置部材４０は前記固定枠内に固設される基板
４１とこの基板４１の中央部に設けた透明な平板カラス
４２とで形成されている。また平版ガラス４２上には２
個のシール部材了０および８０が取付けられており、し
かもこの２個のシール部材７０．８０は所定間隔をもっ
て同心円状に設置されている。その上各シール部拐７０
．８０は断面■字形に形成されておりその開放面がそれ
ぞれ外向になるように取付けられている。このようにし
て２個のシール部材１０および８０によって２個の空間
Ａ、Ｂか形成されるがこの室容積はＢ＞Ａなるように構
成されており、この空室Ａ、　Ｂはそれぞれ第１真空室
および第２真空室として機能する。また前記画室には載
置部劇中のそれぞれの通路４３．４４を介して真空ポン
プＰ１、Ｐ２が連通されている。閉断面枠２０は角型の
連接枠２１で形成されており、この枠の前端は保持枠１
２内に後端は固定枠１１の後縁に係止されており、閉所
面枠全体は保持枠１１に対して着脱自在なように構成さ
れている。また連接枠２１の下面には透明膜（可栓しｌ
！　）　３１０周縁部に設けた複数個のはとめ穴３２を
有する透明膜部材３０が取付ビン２２を介して緊張状に
取付けられており、この透明膜下面は２個のシール部材
７０．８０と封密状に摺接させられている。

取付ビン２２はいずれも中心方向に向って些少の移動を
許容されるように連接枠２１に保持されており、その保
持構造を説明すれば次のとおりである。取付ビン２２は
連接枠２１に設けた中心方向への案内孔２３に挿入され
ている案内杆２４に対して断面十字型に固定されている
。また取付ビン２２は、連接枠２１を上下方向に貫通し
、案内孔２３と直交する案内溝２５と、案内孔２３の底
部に常時反発力を発生するように設置されているはね２
６により常時外方に押圧されている案内杆２４とによっ
て移動方向と移動量を規制されている。

従って周縁部を取付ビン２１に係止されている透明膜３
１は放射方向に引張られているので外方に伸展する緊張
状態を常に維持されている。

焼付部材５０は焼付板５１とこの板に重ね合せた写真原
板５２とからなり、平板ガラス４２のほぼ中央部に載置
されている。

この発明の真空焼枠装置は上記したように第１真空室Ａ
と第２真空室Ｂとを個別に形成したものであり、しかも
この両真空室は透明膜を共通の遮蔽布として同心位置に
設置されしかもその室咎積がＢ）Ａなるように形成され
た点に特徴を有するものであり、この構成により以下の
特別の作用効果を生ずるものである。

この発明の作用を第５図、第６図、第７図および第８図
を用いて説明すれば次のとおりである。

まず、第５図示のように、焼付板５１と写真原板５２と
を重ね合せて平板ガラス４２上に載置し連接枠２１を閉
止した状態で２個の等量真空ポンプＰ１およびＰ２を同
時に作動すれは、第１真空室Ａおよび第２真空室Ｂの負
圧化が同時に進行し、前記両室の客積はＢ）Ａに構成さ
れているので第１真空室への真空化が先行する。

このため透明膜３１は、第６図示のように、第１真空室
への周縁部で所定の負圧力をもって室内方に引張られる
。一方透明膜３１の第２真空室Ｂ側の膜部３１′は、第
１真空室Ａ内の真空化が完了するまでは同室側への引張
力のため平担面を維持しているが、前記真空化の終了時
直前から、第７図示のように、写真原板５２方向に吸引
され中点Ｃを最大変位点とする断面弧形に変形し、第１
真空室Ａはそのまま真空化を維持し第２真空室Ｂの真空
化の進行にともなって前記膜の中点Ｃの円弧面の頂点は
所定の接点圧をもって写真原板５２表面を押圧し、その
押圧力は接点直下の写真原板５２と焼付板５１間の密着
を完全ならしめる。

その上火に第２真空室Ｂの真空化を増大すれは前記膜３
１′は写真原板表面上を前記接点を中心にして放射状に
外方に順次接触すると共に、真空化の終了時には第８図
示のように写真原板５２に所要の押圧力を加えながら写
真原板５２全体を無気泡状態で被＆することになる。こ
のようにして第１真空室Ａに追随しτ第２真空室Ｂの真
空化が完了した段階で透明膜３１、写真原板５２および
焼付板５１間の３層間密着が完全に行なわれ露光準備が
完了する。なお第１真空室Ａ部の膜部変形に際しては取
付ピン２２によってその変形が無理なく行なわれる。

この発明の真空焼枠装置は上記作用を生じ、特に第２真
空室Ｂの真空化が完了するまでは該室を被覆している膜
部３１′は第１真空室側の周縁膜の引張力によって、内
側シール部濁７０と焼付部材５０間での変形を防止され
る特有の効果を生ずるものである。

また写真原板５２に対′１−る透明Ｍ３１′の被覆態様
は、最初の接触点から順次外向の放射方向に接触を波及
させるもので前記両部材間に残留気泡を生じさせる物理
的要因がない。

この結果、従来性なっていた透明膜部材のしわとり等の
必要がなく作業能率を向上させることかできる。

この発明の他の実施例が第９図に示されており、この実
施例の場合は３個のシール部材７１．７２および８０を
用いて２個の真空室Ａ１、Ａ２を形成したもので透明膜
３１への引張力を段階的に増大させる利点がある。

第９図は複数個（３個）のシール部材を用いて複数個（
２個）の真空室を形成した場合のこの発明の作用説明図
で、同図から明らかなように３個の真空室Ａ１、Ａ２、
Ｂそれぞれの最大真空圧への到達順序はＡ１→Ａ２→Ｂ
になるように構成されている。

この発明は上記各実施例に限定されるものでなく、複数
個の真空室の真空化に際してはそれぞれに連接する独立
した真空ポンプを用いる必要はなく、１個の真空ポンプ
を用いて吸引路を前記各室に分岐して接続してもよいし
、あるいは吸引路自体を各室へ直列に接続してもよい。

また各真空室間における真空化の進行度は最大真空圧へ
の到達順序をＡ１→Ａ２→Ａｎ→Ｂに維持するものであ
れば、真空ポンプの数容量、吸引路の接続態様あるいは
作動順序等を任意に設計できるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来例を示す要部断面図、第２図は第１図の一
部拡大図、第３図はこの発明の実施例を示す要部平面図
、第４図は第３図ニー■線断面拡大図、第５図、第６図
、第７図および第８図はこの発明の作用説明図、第９図
面中の符号は； ８：この発明の真空焼枠装置、９：レール、１０：開閉
枠、１１：固定枠、 １２°保持枠、２０：閉断面枠、 ３０、透明膜部材、３１：透明膜、 ３１′　：透明膜の中央部、４０：載置部材、４２：平
板ガラス、５０．焼付部材、 ５１：焼付板、５２：写真原板、 ７０（７１，７２）および８０：内および外シール部材
、ＡおよびＢ：第１および第２真空室、Ａ１、Ａ２．真
空室、Ｃ：透明膜の中央部３１′の中点、Ｐｌ、Ｐ２お
よびＰ３：真空ポンプをそれぞれ表わす。 特許出騨人　同潤光機株式会社 代理人弁理士　犬　塚　貞　次 第５図 第６図 第７図 第８図 第９図 第１０図 時間

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 載置部材上に所定空隙を有するように少なくとも２個の
   シール部材を同心状に固設し、この両シール部材の上面
   に透明膜部材な封密状に摺接させ、前記各部材で形成さ
   れる第１真空室と第２真空室との室容積ＡおよびＢをＡ
   ＜Ｂなるように形成し、しかも前記両室を個別に真空化
   するように構成したことを特徴とする真空焼枠装置。 （２、特許請求の範囲第１項記載の真空焼枠装置を用い
   、第１段階として第１真空室の真空化を行い、これによ
   って透明膜部材の張力を増大させ、この真空化に並行し
   て第２真空室の真空化を行ない、第２真空室の真空化の
   増加にともなって透明膜部材の円弧面を中心にして載置
   部側上の焼付部材を外向きの放射状に押圧力をもって被
   覆するようにしたことを特徴とする真空焼付法。