JPS6292119A - 垂直磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気記録媒体およびその製造方法に係り、特
に磁性層中の強磁性体側状粒子が収面に対して垂直方向
に配向された垂直磁気記録媒体およびその製造方法に関
するものである。

〔従来の技術〕

磁気記録媒体の高密度Ｖ！録化を図る一手段として、垂
直磁気記録媒体を用いる方法が注目されている。この垂
直磁気記録媒体に用いられる磁性薄膜としては１例えば
コバルト−クロム合金薄膜をはじめとし、コバルト−バ
ナジウム、コバルト−ルテニウム、コバルト−酸素など
の強磁性体金属薄膜が検討され、高密度記録が可能にな
ったが。

問題がない訳ではない。

〔発明が解決しようとする問題点〕

すなわち、従来のバインダーを含む塗布形の磁気記録媒
体に比較して、磁気ヘッドとの摺接に対して損傷が生じ
易く５機械的な耐久性が低い。

また、高分子フィルムなどのような可撓性のある非磁性
基板上に前述のような強磁性金属薄膜を設けることによ
り、可撓性が著しく低下して、磁気ヘッドと記録媒体表
面との安定な接触状態を維持することが困難となる。

また、この非バインダー形の金ｍＮｍ磁気記録媒体は、
磁性層全体が金属で形成されて電導性が高いため、磁気
ヘッドとの摺接によって過電流が発生し、これが記録、
再生特性に悪影響を及ぼす。

一方２通常の面内磁気記＠媒体において、特公昭５７−
３１３７号公報に記載されているような製造方法が提案
さｔしている。

この方法は、第６図に示すようなスパッタリング装置を
用いて磁気記録媒体を製造している、すなわら、真空チ
ャンバー２１内に陽１毛２２ならびに陰極２３ａ、２３
ｂが所定位置に配置され、図示しない高圧￥ｌｔ源に接
続されている。真空チャンバー２１内は真空排気孔２４
によって減圧さｉ℃、その後にニードルバルブ２５から
アルゴンガスが導入されろ。

前記！Ｉ［ｆｉ２２には陰ｍ２：＜：＋、２３ｈ側に向
けてディスク状の非磁性基板２６が取り伺けられ、これ
らはモータ２７によって所定の速度で回転されるように
なっている。陰極２３３にはコバルトターゲット２８が
、陰極２３ｈにはポリテトラフロロエチレンのターゲッ
ト２９がそれぞれｉ！ａａされている。

前記排気孔２４からの吸引により真空チャンバー２１内
を高真空にした後、ニードルバルブ２５を通してアルゴ
ンガスを真空チャンバー２１内に導入する。モしてモー
タ２７により非磁性基板２６を回転させながら、陰極２
３ａならびに陰極２”３ｈに印加する電圧をそれで、ｔ
ｔ、Ｓ独にコントロールすることにより１両ターゲット
２８．２９から非磁性基板２６に向けて同時にスパッタ
リングが行なわれ、基板２６上にコバルトとポリテトラ
フロロエチレンの複合膜が形成されろようになっている
。

ところが、二の方法においても難点がない訳ではない、
すなわち、スパッタリング時にｇＦｉ２６が回転してい
るため、基板２６のある部分がコバルトターゲット２８
と対向しているときには、表面にコバルトが析出し、ま
たこの部分が回転してボ１ｊテトラフロロエチＬ／ンの
ターゲット２９と対向すると、その上にポリテトラフロ
ロエチレンが析出する形態になり、結局、コバルトの薄
い膜とポリテトラフロロエチレンの薄い膜とが多層にな
って形成さすしる二とになる。

このように膜面に対して磁性体の薄い膜と有機ポリマー
の薄いｌ摸とが交互に平行に積層される構造は、面内磁
気記録媒体の製造方法には適しているが、高密度記録を
行なう垂直磁気記録媒体の製造方法には適しておらず、
充分な磁気特性を発揮することができない。

これより別に、　　Ｉ　Ｂ　Ｍ　　Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ
　ＤｉＳｃｌｏｓｕｒｅＢｕｌｌｅｔｉｎ　ｖｏｌ、２
５　Ｎｎ９　Ｆｅｂｒｕａｒｙ　１９Ｂ３には次のよう
な垂Ｌ［￥磁気記録媒体の製造方法が紹介されている。

この製造方法の概略を第７図とともに説明する。

まず、非磁性基板３１上に所定の厚みを有する強磁性金
属層２３を一様に形成し１次にその金属層３２の上に多
数の透孔３３を有するマスク３４を３Ｈし、この状態で
膜面に対して垂直方向にプラズマエツチングを行なう。

こハによって前記金属層３２の前記透孔３３に対応した
部分に孔３５が形成さ、ｔＬ（同図方何半分参照）、シ
かる後にこの孔３５内に例えばポリーｒミドｍ脂３６を
充填して（同図左半分参照）２強磁性金属と有機ポリマ
ーの複合材からなる磁性層を形成する方法である６とこ
ろがこの方法では、金属層３２の孔３３内に有機ポリマ
ー３６を充填させなければないから、必然的に孔３３の
径が大となり、そのため磁性層中における有機ポリマー
の体積占有率が実質的には８０体積％程度となり、それ
によって磁気ヘッドに対する耐久性が低下する。また、
プラズマエツチングや有機ポリマーの充填のため、製造
工程が煩雑で磁気記録媒体の製造装置が大型になり。

製造コストが高くなるなどの問題点を有し、ている。

〔問題点を解決するための手段〕

この目的を達成するため１本発明は、例えばポリイミド
フィルムなどの非磁性基体上に、例えばコバルト−クロ
ム合金などの強磁性体の針状粒子と、その強磁性体針状
粒子を取り囲むように強磁性体粒子間に充填された例え
ばポリメチルメタクリレートなどの有機ポリマーを有す
る磁性Ｍを形成した垂直磁気記＠媒体において 前記磁性層中における有機ポリマーの体積占有率が約５
〜５５体積％の範囲に規制され、かつ前記強磁性体針状
粒子が膜面に対して垂直方向に配向されていることを特
徴とするものである。

さらに本発明は５例えばポリイミドフィルムなどの非磁
性基体上に、例えばコバルト−クロム合金などの強磁性
体の針状粒子と、そ４ｈ強磁性体針状粒子を取り囲むよ
うに強磁性体針状粒子間に充填された例えばポリメチル
メタクリレートなどの有機ポリマーを有する垂直磁気記
＠媒体の製造方法において。

強磁性体と有機ポリマーとを物理蒸着法により非磁性基
体上に同時に析出せしめて、形成さ」ｔた強磁性針状粒
子が膜面に対して垂直方向に配向されていることを特徴
とするものである。

さらに本発明は、例えばポリイミドフィルムなどの非磁
性基体上に、例えばコバルト−クロム合金などの強磁性
体の針状粒子と、その強磁性体針状粒子を取り囲むよう
に強磁性体粒子間に充填された例えばポリメチルメタク
リレート・などの有機ポリマーを有する磁性、ワを形成
した垂直磁気記録媒体の製造方法において。

前記有機ポリマーを形成するモノマーガスを非磁性基体
上に吹き付けながら前記強磁性体を物理磁着法により析
出させ、電磁線または電離線を照射することにより前記
七ツマ−を重合せしめ有機ポリマーにして前記磁性層を
構成することを特徴とするものである。

〔実施例〕

本発明において用いられる強磁性体としては。

例えばコバルト、鉄、ニッケルなどの遷移金属と種々の
元素との合金、あるいはγ−Ｆ　ｅ　ｚ　０３などの酸
化物あるいは窒ｆヒ物などがあり２特にコバルトを主成
分とし、クロム、バナジウム、モリブデン、ルテニウム
、ロジウム、タンタル、タングステン、レニウム、オス
ミウムのグループから選択された少なくとも１種の金属
を含むコバルト合金が好適である。

また１本発明において用いられる有機ポリマーとし゛〔
は、例えばポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート
、ポリプロピレン、ポリスチレン。

ポリテトラフロロエチレン、ポリブタジェン、ポリカー
ボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリ塩化ビニル、
ポリ酢酸ビニル、ポリウレタンなどがあるり、こ九らの
ポリマーを１％独ないし・は２種以上用合して使用し得
る。これらは磁性層中において完全な高分子を構成する
必要は必ずしもくなく、七ツマ−、オリゴマー、テロマ
ーちｚどの状態で膜中に混在する場合もある。

また有機ポリマーは、予め重合体として用意されている
ものであってもよいが１例えば非磁性基体上に有機ポリ
マーを形成するモノマーガスを吹きつけながら、強磁性
体を物理蒸着法により析出せしめ膜形成中もしくは膜形
成後に、膜表面に電磁線または電Ｗｉ線を照射して前記
千ツマ−を重合して有機ポリマーとすることもできる。

この場合、１！？ｉｉｔｍとして紫外線を使用した場合
には、　Ｑ　、　　ｌ　Ｗａシｔｓ／　ｃ＋（以上の強
度を有する紫外線を膜表面に照射すれば七ツマーガスが
反応して良好な磁性層とすることができる。

さらに、有機ポリマーとして、予め重合体として用意さ
、ｈているものを物理蒸着法によって、強磁性体ととも
に同時に析出させると、析出した有機ポリマーは低分子
化され、磁性層の耐久性において所期の特性が得られな
い場合がある。このような場合には１強磁性体と有機ポ
リマーとを物理蒸着によって基体上に同時析出せしめ膜
形成中もしくは膜形成後に、膜表面に電磁線または電離
線を照射して低分子量ポリマーを架橋反応させ、架橋密
度を上げて、磁性層の機械的強度を改善することが好ま
し２い。

本発明で用いる物理蒸着法としては、最も一般的な真空
蒸着法の他にイオンブレーティング法、スパッタリング
法、イオンビームデポジション法、化学気相メッキ法（
ＣＶＤ法）などがある。

次に本発明の具体的な実施例について説明する。

実施例１ 厚さ４０μｍのポリイミドフィルム（デュポン社製　製
品名ＫＡＰＴＯＮ）からなるベースフィルム上に、コバ
ルト−クロムとポリメチルメタクリレート複合膜を第１
図に示す真空蒸着装置を用いて作成した。

図中の１は繰出し用のロール、２は巻き取り用のロール
、３はキャン、４はマスク、５はハース。

６はランプ、７はベースフィルム、８はノズルである。

ロール１から供給される前記ベースフィルム７は、所定
の温度に維持されたキャン３により加熱され、後述のよ
うにして表面に磁性層を形成した後にロール２に巻き取
られる。

ハース５にはコバルト−クロム１０が収納されており、
これから電子ビーム加熱によってコバルト−クロム合金
蒸気を発生させ、ベースフィルム７に対する蒸気流の入
射角が４０度になるよう。

マスク４によって蒸気流の流れ方向が調整されている。

また、コバルト−クロム合金がベースフィルム７上に析
出する場所に向けて、メチルメタクリレートのガス１１
がノズル８から吹き付けられるとともに、紫外線ランプ
６から紫外Ｍ（電磁線）がＱ　、　５　Ｗｇｔｔｓ／　
ｃｌの強度で照射されて、ベースフィルム７上において
メチルメタクリレートの重合が行なわれる。

このようにして形成されたコバルト−クロム合金とポリ
メチルメタクリレート複合膜は、微視的に視ると、コバ
ルト−クロム合金が膜面に対して垂直方向に針状に成長
し、またそのコバルト−クロム合金の針状粒子を高分子
化したポリメチルメタクリレ−を−で取り囲み、この針
状粒子間に充填されたＮＩＩ造になっている。

なお、この実施例における成膜条件は、キャン温度８０
℃、成膜速度２０００人／秒、膜厚０．７μｍであった
。

この条件で磁性層中の有機ポリマーの体積占有室が、２
０体積％になるようにし、さらに蒸着されるコバルト−
クロム合金中のクロムの含有率を６．１０．１９，２５
．２８重量％と変えて、蒸着を行ない、３インチディス
ク状の垂直磁気記録媒体をそれぞれ作製した。これらの
磁気ディスクを磁気ディスクの駆動装置により記録密度
１０ＫＢＰＩで記録を行ない、再生出力が初期出力の８
０％に低下するまでの磁気ヘッド通過回数を測定して結
果、いずれも３００万回以上の磁気ヘッド摺動回数を示
し、良好な耐久性を示した。

また、こＪｒらの磁気ディスクについて、垂直方向の保
磁力Ｈｃ上（エルステッド）と、飽和磁化ＭＳ（ガウス
）および垂直方向の残留磁化Ｍ「〆と水平方向の残留磁
化Ｍｒ／の比（Ｍｒ上／Ｍｒ／）を測定した。第２図は
これらの結果を示し、図中、曲ＭｌはＭｓについて、曲
線２はＨｅ上について、曲線３はＭｒ上／　Ｍ　ｒ　７
について示す、この図からＣｒ含有率か５重量％を越え
るにつれＨｅ上とＭｒ上／Ｍｒ／の値が増加し、Ｈｅ上
は１０〜２０重景％で最大となり以後術する。Ｍｒ工／
Ｍｒ／は、Ｃｒ含有率が増すにつれて漸増し、磁性体位
子の垂直方向への配向度が向上するが２５重量％を越す
と減少する傾向にある。一方、Ｍｓは、Ｃｒの含有率が
増加するにつれ減少する。これらの結果から、Ｃｒの含
有率を１０〜２５重量％の範囲で選定するのが好ましい
。

実施例２ 次に、Ｃｒの含有率を１０重量％とじ、磁性層中の有機
ポリマーの体積占有率が０．５．２３．５５．６３．７
０体積％になるようにして、以下実施例１と同様にして
３インチディスク状の垂直磁気記録媒体をそれぞれ作成
する。そしてこれを磁気ディスク駆動装置により記＠密
度１０ＫＢＰＩで記録をイテない、再生出力が初期出力
の８０ヅ、に低下するまでの磁気ヘッド通過回数を測定
し、それらの結果を第３図に示す。

この図から明らかなように、磁性層中における有機ポリ
マーの体積占有率が５体積％未満でも。

また体積占有率が５５体積％を超えても磁気記録媒体の
磁気ヘッド摺動回数は低い。これに比較して磁性層中の
有機ポリマーの体積占有率が５〜５５体積％の範囲に規
制されたもの、特に有機ポリマーの体積占有率が２３〜
５５体積・石のものは。

磁気ヘッドとの摺動において優れた耐久性を有している
。

次の表１は、磁性層としてコバルト−クロム合単体膜を
用いて垂直磁気記録媒体を作成したものと、実施例２に
よって得られたｆ！直磁気記ｆＦｋ媒体（ポリメチルメ
タクリレ−１・５５体積％）の磁気特性ならびに磁気ヘ
ッド摺動回数特性の比較結果を示す図である。

表１ この図から明らかなように１本発明に係る垂直磁気記録
媒体は垂直方向角形比（Ｍｒ／Ｍｓ）およびＭｒ上／Ｍ
ｓ／が改善されているとともに、磁気ヘッドに対する耐
久性が飛躇的に向上している。

実施例３ 厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレートからなるベ
ースフィルム上に、鉄−ポリエチレン複合膜を第４図に
示した真空蒸着装置を用いて作成した６図中の１２はハ
ース５に収納した鉄、１３はボー１−９に収納したポリ
エチレンである。

ベースフィルム７に対する鉄の蒸着は、ハース５に入れ
た鉄１２を電子ビーム加熱することにより行ない、その
際の鉄蒸気流の入射角が２０度、出側角が２０度になる
ようにマスク４の位置が設定されている。またこの鉄の
蒸着と同時に、ポリエチレン１３を入れたボート９に電
流を流してポリエチレンの蒸着を行ない、ベースフィル
ム７上に鉄−ポリエチレン複合膜からなる磁性層が連続
して形成される。この複合膜を微視的に視ると。

金属鉄が膜面に対でし垂直方向に針状に発達しており、
その周囲をポリエチレンで取り囲んで、その針状粒子の
間に充填された構造になっている。

成膜条件は、前記実施例１と同様である。

この条件で磁性層中の有機ポリマーの体積占有率がＯ５
５，２３，５５，６０体積％になるようにそれぞれ垂直
磁気記録媒体を作り、磁性層の耐久性をスチル試験によ
って評価し、その結果を第５図に示す。

この図から明らかなように、磁性層中の有機ポリマーの
体積占有率が５体積％未満でも、また体積占有率が５５
体積％を超えても磁性層の６４久性は悪い。これに比較
して磁性層中の有機ポリマーの体積占有率が５〜５５体
積％の範囲に規制されたもの、特に有機ポリマーの体積
占有率が２３〜５５体積％のものは、磁性層の耐久性が
非？ｉｔに優れている。

第２表は、磁性層として鉄単体暎を用いて垂直磁気２０
６体を作成したものと、前記実施例２によって得られた
垂直磁気記録媒体（ポリエチレン体積占有率５５体￥ｊ
ｔ％）の磁気特性ならびにスチル再生寿命特性の比較結
果を示す表である。

表２ この図から明らかなように、本発明に係る垂直磁気記録
媒体は鉄車体のものに比較して垂直方向角形比（！Ｊ　
ｒ　／　Ｍ　ｓ　）が向上するとともに、スチル再生寿
命も飛躍的に延びている。

実施例４ 実施例３により作製したポリエチレン含有率２３体積％
の試料に対し、約０　、　　Ｉ　Ｗａｔｔｓ／　ｃｒｌ
の強度で約５分間紫外線を照射し、て、磁性層中のポリ
エチレンの架橋反応を行なわせた。その結果。

スチル再生身命が未処理のもの６５分に対し、１００分
となり、耐久性が向上することが判明した。

前記実施例では紫外線ランプを照射して有機モノマーを
重合した例を示したが、本発明はこれに限定されるもの
ではなく、電離線を照射して有機モノマーを重合するこ
ともできる。

また、上記実施例では、基体上に強磁性体からなる磁性
層のを形成した例を示したが、基体とこの磁性層との間
にパーマロイなどの軟磁性体からなる地下層を介在させ
たものであっても有効である。

〔発明の効果〕

記録再生特性の点からみれば、個々の強磁性体針状粒子
が有機ポリマーによって孤立化されていることから、針
状粒子の磁気的相互作用が弱い範囲では、有機ポリマー
の体積占有率が小さくなると、再生出力ならびに高密度
記録性能は向上する。

しかし、有機ポリマーの体積占有率が５体積％未満にな
ると、針状粒子間の間隔が狭くなりすぎて磁壁が発生し
、垂直磁化特性の劣化による再生出力ならびに高密度記
録特性の低下が著しい。

本発明に係る垂直磁気記録媒体は、支持体面に対して垂
直方向に配向し、た個々の強磁性体針状粒子を有機ポリ
マーが取り囲み、針状粒子間にその有機ポリマーが充填
された構造になっている。そのため、記＠媒体表面を磁
気ヘッドが摺動し、たときに、垂直方向に配向した強磁
性針状結晶粒子が磁性層の機械的強度を保持するのに役
立つ。一方、有機ポリマーは、磁気ヘッドとの摺動の際
に針状粒子が受ける応力を緩和するのに役立つにのよう
なことから、磁性層中における有機ポリマーの体積占有
率を約５〜５５体積％の範囲に規制されたものは、前述
のような針状粒子と有機ポリマーの協同作用が有効に発
揮でき、そのために前記第３図ならびに第５図の結果か
らも明らかなように、優れた耐久性が得られる。さらに
、金属薄膜単体からなる磁性層を用いた磁気記録媒体に
比較して、磁気記録媒体の可撓性が増し、磁気ヘッドと
の接触状態も良好である。

また本発明の製造方法を深川することにより、支持面に
対して垂直方向に配向された強磁性体針状粒子と、それ
を取り囲み針状粒子間に充填される有機ポリマーとから
なる磁性層が、簡単な工程で製造できしかも設備も簡略
され、コストの低減が図れる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例１に係る真空蒸着装置の概略構
成図、第２図は実施例１によって得ら九た垂直磁気記録
媒体のＣｒ含有率と、飽和磁化量、垂直方向保磁力、垂
直方向残留磁化量／水平方向残留磁化量との関係を示す
特性図、第３図は実施例２によって得られた垂直磁気記
録媒体の有機ポリマ一体積占有率と磁気ヘッド摺動回数
との関係を示す特性図、第４図は本発明の実施例２に係
る真空蒸着装置の概略構成図、第５図は実施例２によっ
て得られた垂直磁気記録媒体の有機ポリマ一体積占有率
とスチール再生寿命との関係を示す特性図、第６図は従
来提案された面内磁気記録媒体の製造方法を説明するた
めのスパッタリング装置の概略構成図、第７図は従来記
８媒体の製造方法を説明するための断面図である。 ■、２・・・・・・ロール、３・・・・・・キャン、４
・・・・・マスク、６・・・・・・ランプ、７・・・・
・・ベースフィルム、８・・・・・ノズル、９・・・・
・・ボート、１０・・・・・・コバルト−クロム合金、
１１・・・・・・アルゴンガス、１２・・・−・鉄、１
３・・・・・ポリエチレン。 第１図 第４図 口＝ニー 第２図 Ｃｒ含角奉　（ｗｔ％） 早３図 真７磯ポリマー俸Ａ貞占ｑｅ　　　（ＶｏＱ％）第５図

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基体上に、強磁性体の針状粒子とその強磁
   性体針状粒子を取り囲むようにその強磁性体針状粒子間
   に充填された有機ポリマーとを有する磁性層を形成した
   垂直磁気記録媒体において、前記磁性層中における有機
   ポリマーの体積占有率が約５〜５５体積％の範囲に規制
   され、かつ前記強磁性体針状粒子が膜面に対して垂直方
   向に配向されいることを特徴とする垂直磁気記録媒体。
2. （２）特許請求の範囲第（１）記載において、前記強磁
   性体がコバルトを主成分とし、クロム、バナジウム、モ
   リブデン、ルテニウム、ロジウム、タンタル、タングス
   テン、レニウム、オスミウムのグループから選択された
   少なくとも１種の金属を含むコバルト合金であることを
   特徴とする垂直磁気記録媒体。
3. （３）特許請求の範囲第（２）項記載において、前記強
   磁性体がコバルトを主成分とし、クロムを含むことを特
   徴とする垂直磁気記録媒体。
4. （４）特許請求の範囲第（３）項記載において、クロム
   を１０〜２５重量％含むことを特徴とする垂直磁気記録
   媒体。
5. （５）特許請求の範囲第（１）項において、有機ポリマ
   ーが架橋されていることを特徴とする垂直磁気記録媒体
   。
6. （６）特許請求の範囲第（１）項において、前記強磁性
   体が、鉄を主成分とした金属であることを特徴とする垂
   直磁気記録媒体。
7. （７）非磁性基体上に強磁性体の針状粒子とその強磁性
   体針状粒子を取り囲むように強磁性体針状粒子間に充填
   された有機ポリマーとを有する磁性層を形成した垂直磁
   気記録媒体の製造方法において、強磁性体と有機ポリマ
   ーとを物理蒸着法により非磁性基体上に同時に析出せし
   めて前記磁性層を構成することを特徴とする垂直磁気記
   録媒体の製造方法。
8. （８）特許請求の範囲第（７）項記載において、前記磁
   性層中の有機ポリマーの体積占有率が約５〜５５体積％
   の範囲に規制されていることを特徴とする垂直磁気記録
   媒体の製造方法。
9. （９）特許請求の範囲第（７）項記載において、前記強
   磁性体がコバルトを主成分とし、クロム、バナジウム、
   モリブデン、ルテニウム、ロジウム、タンタル、タング
   ステン、レニウム、オスミウムのグループから選択され
   た少なくとも１種の金属を含むコバルト合金または鉄を
   主成分とする金属であることを特徴とする垂直磁気記録
   媒体の製造方法。
10. （１０）非磁性基体上に、強磁性体の針状粒子とその強
    磁性体針状粒子を取り囲むように強磁性層間に充填され
    た有機ポリマーとを有する磁性層を形成した垂直磁気記
    録媒体の製造方法において、前記有機ポリマーを形成す
    るモノマーガスを前記非磁性基体上に吹き付けながら前
    記強磁性体を物理蒸着法により析出させ、電磁線または
    電離線を照射することにより前記モノマーを重合して有
    機ポリマーにして前記磁性層を構成することを特徴とす
    る垂直磁気記録媒体の製造方法。
11. （１１）特許請求の範囲第（１０）項記載において、前
    記磁性層中の有機ポリマーの体積占有率が約５〜５５体
    積％の範囲に規制されていることを特徴とする垂直磁気
    記録媒体の製造方法。
12. （１２）特許請求の範囲第（１０）項記載において、前
    記強磁性体がコバルトを主成分とし、クロム、バナジウ
    ム、モリブデン、ルテニウム、ロジウム、タンタル、タ
    ングステン、レニウム、オスミウムのグループから選択
    された少なくとも１種の金属を含む合金であることを特
    徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。