JPS62479A - ニトロフタライド類の製造方法 - Google Patents
ニトロフタライド類の製造方法Info
- Publication number
- JPS62479A JPS62479A JP13833785A JP13833785A JPS62479A JP S62479 A JPS62479 A JP S62479A JP 13833785 A JP13833785 A JP 13833785A JP 13833785 A JP13833785 A JP 13833785A JP S62479 A JPS62479 A JP S62479A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nitric acid
- phthalides
- nitroalkane
- haloalkane
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はニトロフタライド類の製造方法に関し、さらに
詳しくは、抗アレルギー等の作用を有するトリトクアリ
ン製造のための中間体、等として有用なニトロフタライ
ド類の製造方法に関する。
詳しくは、抗アレルギー等の作用を有するトリトクアリ
ン製造のための中間体、等として有用なニトロフタライ
ド類の製造方法に関する。
（従来の技術と解決すべき問題点）
従来、下記一般式（ＩＩ）で示されるニトロフタライド
類の製法としては、下記一般式（１）で示されるフタラ
イド類を酢酸中発煙硝酸と反応させて得る方法が知られ
ている（たとえば、英国特許第ざ７３．９３ ！ｒ号明
細書）。しかしながら、この方法は、反応に長時間を要
し、しかも高融点の酢酸を溶媒とするために低温では反
応しにぐいという難点がある。
類の製法としては、下記一般式（１）で示されるフタラ
イド類を酢酸中発煙硝酸と反応させて得る方法が知られ
ている（たとえば、英国特許第ざ７３．９３ ！ｒ号明
細書）。しかしながら、この方法は、反応に長時間を要
し、しかも高融点の酢酸を溶媒とするために低温では反
応しにぐいという難点がある。
（上記一般式（１）および（ｎ）中で、Ｒ’ 、Ｒ″
及びＲ１は低級アルキル基を表わす） （問題点を解決するための手段） 本発明者らは、上記公知技術の難点を改良すべく樵々検
討を行った結果、特定の溶媒を用いることによシ、温和
な条件で反応させることができるととも釦、反応の制御
が容易になることを見出し、本発明に到達した。
及びＲ１は低級アルキル基を表わす） （問題点を解決するための手段） 本発明者らは、上記公知技術の難点を改良すべく樵々検
討を行った結果、特定の溶媒を用いることによシ、温和
な条件で反応させることができるととも釦、反応の制御
が容易になることを見出し、本発明に到達した。
すなわち、本発明の袈旨は、下記一般式（１）（上記式
中で Ｈｌ 、Ｒ２及びＲ３は低級アルキル基を示す）
で表わされるフタライド類を、ニトロアルカン及び／又
はハロアルカン中で硝酸と反応させることを特徴とする
下記一般式（ＩＩ）Ｎへ０ （上記式中、Ｒ１、Ｒ１及びＨ’３は上記一般式（１）
中で定義したとお夛である）で表わされるニトロフタラ
イド類の製造方法にある。
中で Ｈｌ 、Ｒ２及びＲ３は低級アルキル基を示す）
で表わされるフタライド類を、ニトロアルカン及び／又
はハロアルカン中で硝酸と反応させることを特徴とする
下記一般式（ＩＩ）Ｎへ０ （上記式中、Ｒ１、Ｒ１及びＨ’３は上記一般式（１）
中で定義したとお夛である）で表わされるニトロフタラ
イド類の製造方法にある。
以下、本発明の詳細な説明する。
まず、上記一般式（１）において、Ｒ’ 、 Ｒ”
及びＲ３はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、１８
０−プロピル基、ｎ−ブチル基等の炭素数ｌ〜６の低級
アルキル基であり、ＲＩ％Ｈ２、Ｈａは異なっていても
よい。
及びＲ３はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、１８
０−プロピル基、ｎ−ブチル基等の炭素数ｌ〜６の低級
アルキル基であり、ＲＩ％Ｈ２、Ｈａは異なっていても
よい。
たとえば、トリトクプリンの原料としてのニトロフタラ
イドを得る場合には、Ｒ”、Ｒ”、Ｒ”がともにエチル
基のものが選ばれる。
イドを得る場合には、Ｒ”、Ｒ”、Ｒ”がともにエチル
基のものが選ばれる。
本発明においては、一般式（１）で示されるフタライド
類を、ニトロアルカン及び／又はハロアルカン中で硝酸
と反応させる。
類を、ニトロアルカン及び／又はハロアルカン中で硝酸
と反応させる。
用イられるニトロアルカンとしてはニトロメタン、ニト
ロエタン、ニトロプロパン等カ挙ケク られる。また、ハロアルカンとしてはジクロロエタン、
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン等が挙げら
れる。溶媒は単独か、あるいは、混合して使用しても良
く、又、少量の酢酸を併用しても良い。
ロエタン、ニトロプロパン等カ挙ケク られる。また、ハロアルカンとしてはジクロロエタン、
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン等が挙げら
れる。溶媒は単独か、あるいは、混合して使用しても良
く、又、少量の酢酸を併用しても良い。
これらニトロアルカン又はハロアルカンの使用量は原料
のフタライド類に対して、ｌ−２０倍量（重量比）、好
ましくは、３〜ｉｏ倍量（重量比）である。
のフタライド類に対して、ｌ−２０倍量（重量比）、好
ましくは、３〜ｉｏ倍量（重量比）である。
また、硝酸としては濃硝酸あるいは発煙硝酸が原料フタ
ライド類に対してｌ−ダＯ倍モル用いられる。反応温度
は通常、 −３０’〜１００℃、好ましくは、００〜２
！℃から選ばれる。
ライド類に対してｌ−ダＯ倍モル用いられる。反応温度
は通常、 −３０’〜１００℃、好ましくは、００〜２
！℃から選ばれる。
反応時間は、１０分間〜ａｇ時間である。
反応終了後、精製は有機化学の常法に従って行なわれる
。
。
さらに、たとえば、一般式（１）においてＲ１、Ｂ＊
、Ｈａがエチル基の場合、得られるニトロフタライド類
は、次いで溶媒中でコタルニン（０ｏｔａｒｎｉｎｅ
）と反応させ、得られるフタライドイソキノリン類を錫
等によって還元することＫよって、トリトクアリンに導
くことができる。
、Ｈａがエチル基の場合、得られるニトロフタライド類
は、次いで溶媒中でコタルニン（０ｏｔａｒｎｉｎｅ
）と反応させ、得られるフタライドイソキノリン類を錫
等によって還元することＫよって、トリトクアリンに導
くことができる。
（実施例）
以下、実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが
、本発明はこれに限定されるものではない。
、本発明はこれに限定されるものではない。
実施例１
（＆、ｊ１ｇ−）リエトキシークーニトロフタライドの
合成）弘、ｓ、６−）リエトキシフタライド１．２ｏ
１／ ｓ（０，ｏ ｏ ｅ １モル）ヲニトロメタン、
ｔ７ｄ中、攪拌下、発煙硝酸（比重ｔ、ｓ 、２） ／
・Ｏｍｔを室温で３θ分間かけて滴下した。滴下終了後
、そのまま７５分間攪拌した後、水を加え、酢酸エチル
で３回抽出した。その有機層を合して飽和重曹水、飽和
食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。
合成）弘、ｓ、６−）リエトキシフタライド１．２ｏ
１／ ｓ（０，ｏ ｏ ｅ １モル）ヲニトロメタン、
ｔ７ｄ中、攪拌下、発煙硝酸（比重ｔ、ｓ 、２） ／
・Ｏｍｔを室温で３θ分間かけて滴下した。滴下終了後
、そのまま７５分間攪拌した後、水を加え、酢酸エチル
で３回抽出した。その有機層を合して飽和重曹水、飽和
食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。
次に、溶媒を留去し、得られた結晶をエタノール−水混
合溶液から再結晶してａ＋ｓ、ｂ−） ＋）工トキシー
ク一二トロフタライドｏ、ｔ、 ａ ｌ （収率ａ６％
）を得た。（ｍｐ、 ｇ ／、！ｒ〜ｇ３°）。
合溶液から再結晶してａ＋ｓ、ｂ−） ＋）工トキシー
ク一二トロフタライドｏ、ｔ、 ａ ｌ （収率ａ６％
）を得た。（ｍｐ、 ｇ ／、！ｒ〜ｇ３°）。
実施例コ
（４ｔｌｓ、６−ドリエトキシー７−二トロフタライド
の合成）＆＋ｊｓＡ ）リエトキシフタライドコ６６
■（０，００１モル）を、クロロホルム３−と濃硝酸（
比重へＪｇ）３−の混合液中、室温で３ｑ時間攪拌した
。攪拌後、クロロホルム層を分取し、水層をクロロホル
ムで抽出した。そのクロロホルム層を合して飽和重曹水
、飽和食塩水の順に洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾
燥した。
の合成）＆＋ｊｓＡ ）リエトキシフタライドコ６６
■（０，００１モル）を、クロロホルム３−と濃硝酸（
比重へＪｇ）３−の混合液中、室温で３ｑ時間攪拌した
。攪拌後、クロロホルム層を分取し、水層をクロロホル
ムで抽出した。そのクロロホルム層を合して飽和重曹水
、飽和食塩水の順に洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾
燥した。
次に、溶媒を留去するとＱ、ｔ、６−）リエトキシーク
ーニトロフタライドの結晶／／ｇ■（収率３ｇ％）が得
られた。（ｍｐ、 Ｉ Ｏ，！ｒ〜ｇＪ’）。
ーニトロフタライドの結晶／／ｇ■（収率３ｇ％）が得
られた。（ｍｐ、 Ｉ Ｏ，！ｒ〜ｇＪ’）。
（発明の効果）
本発明方法によれば、温和な条件下でニトロフタライド
類を得ることができ、且つ反応の制御も容易である。
類を得ることができ、且つ反応の制御も容易である。
Claims (1)
- （１）下記一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （上記式中で、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は低級アルキ
ル基を示す）で表わされるフタライド類をニトロアルカ
ン及び／又はハロアルカン中で硝酸と反応させることを
特徴とする 下記一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （上記式中で、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は上記一般式
（ I ）中で定義したとおりである。）で表わされるニ
トロフタライド類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13833785A JPS62479A (ja) | 1985-06-25 | 1985-06-25 | ニトロフタライド類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13833785A JPS62479A (ja) | 1985-06-25 | 1985-06-25 | ニトロフタライド類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62479A true JPS62479A (ja) | 1987-01-06 |
Family
ID=15219550
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13833785A Pending JPS62479A (ja) | 1985-06-25 | 1985-06-25 | ニトロフタライド類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62479A (ja) |
-
1985
- 1985-06-25 JP JP13833785A patent/JPS62479A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0737460B2 (ja) | ピラノインドリジン誘導体及びその製造法 | |
| JP7406692B2 (ja) | 可溶性グアニル酸シクラーゼ刺激薬を調製するための方法 | |
| JPH01117898A (ja) | 新規な１４−アジドステロイド誘導体およびその製造方法 | |
| JPS62479A (ja) | ニトロフタライド類の製造方法 | |
| US4159991A (en) | Acyloxy-N,N'-diacylmalonamides and methods for their preparation | |
| JPS5949221B2 (ja) | ３−アシルアミノ−４−ホモイソツイスタンの製造法 | |
| JPS603071B2 (ja) | １−（α−アシロキシアルキル）−５−フルオロウラシル類の製造方法 | |
| CN109096324B (zh) | 一种二烷基酰基氯化锗合成方法与应用 | |
| US3751462A (en) | Process for preparation of substituted fluoromethanesulfonanilides | |
| JPS624279A (ja) | ニトロフタライド類の製法 | |
| JP2706554B2 (ja) | ４―トリフルオロメチルアニリン誘導体及びその製造法 | |
| JPH10287650A (ja) | １−クロロカルボニル−４−ピペリジノピペリジンまたはその塩酸塩の製造方法 | |
| JPS6351146B2 (ja) | ||
| JPS6241510B2 (ja) | ||
| JPS58192874A (ja) | 新規スピロイソキサゾリン誘導体 | |
| JPS6279A (ja) | ニトロフタライド類の製造法 | |
| JPH0662539B2 (ja) | ２，３−ジシアノ−１，４−ジヒドロキシナフタレン誘導体の製造方法 | |
| JPH01238548A (ja) | ナフタレン―１，４，５，８―テトラカルボン酸テトラアルキルエステルの製造方法 | |
| JPS6113474B2 (ja) | ||
| JPS62481A (ja) | ニトロフタライド類の製法 | |
| JPH072690B2 (ja) | ３−メチル−４−ニトロフエノ−ルの製造方法 | |
| JPS6197251A (ja) | ３−（２，２−ジメチル−３−アルキル−６−メチレンシクロヘキシル）アクリロニトリルの製法 | |
| JP2003192686A (ja) | ９，９−二置換−２，３，６，７−キサンテンテトラカルボン酸二無水物の製造方法 | |
| JPS63501720A (ja) | シクロペンタンカルボン酸誘導体の合成法 | |
| JPH0578286A (ja) | Ｎ−トリフルオロメチル芳香族アミン誘導体及びその製造法 |