JPS62215268A - 濃縮物 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/26—Processes using silver-salt-containing photosensitive materials or agents therefor
- G03C5/29—Development processes or agents therefor
- G03C5/305—Additives other than developers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はハロゲン化銀を含有し、像形状に露光された写
真記録材料の現像液として希釈して用いるに適する濃縮
物に関する。
真記録材料の現像液として希釈して用いるに適する濃縮
物に関する。
ハロゲン化銀含有写真材料は主にアルカリ性媒質中で現
像され、その場合〇−又はp−ジヒドロベンゼン、アミ
ンフェノール、ジアミノベンゼン、ピラゾリジノン、レ
ドウクトン又はヒドロキシルアミン誘導体が現像剤物質
として使われている。多くの場合現像液は更に硫酸塩の
様な安定化剤やかぶり防止剤および緩衝剤等の添加剤を
含有している。更に特定の場合写真材料はハロゲン化銀
用溶媒の存在で現像されることが知られている。この様
なハロゲン化銀用溶媒には例えばメルカプト化合物、チ
オエーテル、チオアミド又は酸性−CH−基をもった化
合物、例えばビスーメチルスルフォニルメタンの様な有
機2価いおう化合物、更にロダン水素酸塩、高濃度亜硫
酸塩、特にチオ亜硫酸塩がある。この様な添加物を含む
現像剤は微粒子現像剤および内部粒子現像剤として知ら
れている。(E、ムラターの′″陰画陽画の処理技術”
、スジリンガ−1955年158−159ページ参照)
粒子内部の潜在銀核の現像はチオシアン酸塩を第1現像
剤に加えることの多い反転現像法において特に意味をも
つ。この方法の広い意味の実施形式は米国特許第3,8
57,710号又はG、ヘイストの′″11浴手”、モ
ルガン1960年に記載されている。この方法の別の実
施形式はドイツ公開公報2,547,720号に記載の
様な銀カラー漂白法の為のマスク現像剤である。
像され、その場合〇−又はp−ジヒドロベンゼン、アミ
ンフェノール、ジアミノベンゼン、ピラゾリジノン、レ
ドウクトン又はヒドロキシルアミン誘導体が現像剤物質
として使われている。多くの場合現像液は更に硫酸塩の
様な安定化剤やかぶり防止剤および緩衝剤等の添加剤を
含有している。更に特定の場合写真材料はハロゲン化銀
用溶媒の存在で現像されることが知られている。この様
なハロゲン化銀用溶媒には例えばメルカプト化合物、チ
オエーテル、チオアミド又は酸性−CH−基をもった化
合物、例えばビスーメチルスルフォニルメタンの様な有
機2価いおう化合物、更にロダン水素酸塩、高濃度亜硫
酸塩、特にチオ亜硫酸塩がある。この様な添加物を含む
現像剤は微粒子現像剤および内部粒子現像剤として知ら
れている。(E、ムラターの′″陰画陽画の処理技術”
、スジリンガ−1955年158−159ページ参照)
粒子内部の潜在銀核の現像はチオシアン酸塩を第1現像
剤に加えることの多い反転現像法において特に意味をも
つ。この方法の広い意味の実施形式は米国特許第3,8
57,710号又はG、ヘイストの′″11浴手”、モ
ルガン1960年に記載されている。この方法の別の実
施形式はドイツ公開公報2,547,720号に記載の
様な銀カラー漂白法の為のマスク現像剤である。
この多数の現像剤はしかしそれらが複雑な形で写真材料
から溶出したハロゲン化銀を多かれ少なかれ迅速に還元
する欠点をもつ。したがって現像剤中に汚濁が生じしば
らくして銀泥となり、それは写真材料並びに現像用具の
一部に粘着する。この銀泥は特に連続操業装置において
欠点となる。この銀泥生成に対する適当な措置を発見す
る試みは成功していない。
から溶出したハロゲン化銀を多かれ少なかれ迅速に還元
する欠点をもつ。したがって現像剤中に汚濁が生じしば
らくして銀泥となり、それは写真材料並びに現像用具の
一部に粘着する。この銀泥は特に連続操業装置において
欠点となる。この銀泥生成に対する適当な措置を発見す
る試みは成功していない。
ドイツ公開公報第2,437,353号は現像液の銀析
出に対し1−フェニル−5−メルカプトテトラシル誘導
体をレントゲンフィルムの現像液中に使うことを提案し
ている。
出に対し1−フェニル−5−メルカプトテトラシル誘導
体をレントゲンフィルムの現像液中に使うことを提案し
ている。
米国特許第3,173,789号およびドイツ特許公報
1.175,077号およびドイツ公開公報2,003
,414号には複素環状メルカプト化合物が、またドイ
ツ公開公報1.909,743号には脂肪族メルカプト
−カルボン酸が銀泥生成防止の為処理液に添加すること
が記載されている。
1.175,077号およびドイツ公開公報2,003
,414号には複素環状メルカプト化合物が、またドイ
ツ公開公報1.909,743号には脂肪族メルカプト
−カルボン酸が銀泥生成防止の為処理液に添加すること
が記載されている。
米国特許第3,318,701号にはα−リボン酸、ま
たドイツ公開公報2,040,801号には4−アシル
アミノ−1゜2.3−トリアゾリン−5−チオンが汚泥
生成防止用に提案されている。これらの物質は殆んど現
像液リットル当り5乃至50001R9の量で加えられ
る。
たドイツ公開公報2,040,801号には4−アシル
アミノ−1゜2.3−トリアゾリン−5−チオンが汚泥
生成防止用に提案されている。これらの物質は殆んど現
像液リットル当り5乃至50001R9の量で加えられ
る。
これら提案された添加物はある一定時間銀泥発生を遅滞
させうるが、これらは種々の望ましく表い副作用をもつ
。
させうるが、これらは種々の望ましく表い副作用をもつ
。
よい透明保持作用をもつ物質は現像液性質にかなり影響
をもつ。多層カラー材料において特に一番上にある層の
感度が低下する。銀カラー漂白材料のマスク現像におい
てマスク効果の妨害があられれる。他の物質は現像液中
で不安定であり、空気酸化により急速に効果を失ない又
は分解して悪臭をもつおよび(又は)有害な副成物を生
ずる。これらすべての欠点によりこれ迄に提案された透
明保持物質の実際応用はかなり妨げられ多くの場合不可
能となっている。
をもつ。多層カラー材料において特に一番上にある層の
感度が低下する。銀カラー漂白材料のマスク現像におい
てマスク効果の妨害があられれる。他の物質は現像液中
で不安定であり、空気酸化により急速に効果を失ない又
は分解して悪臭をもつおよび(又は)有害な副成物を生
ずる。これらすべての欠点によりこれ迄に提案された透
明保持物質の実際応用はかなり妨げられ多くの場合不可
能となっている。
ドイツ公開公報2,640,659号には現像液の透明
保持の為最後に特定の有機ジー又はトリー硫化物を使用
する現像法が記載されている。
保持の為最後に特定の有機ジー又はトリー硫化物を使用
する現像法が記載されている。
これらジーおよびトリー硫化物は写真現像液における透
明保持および銀泥生成防止に対しほとんどよく適合して
いるが、それらはしかし合成的に入手しにくく更に望む
効果を得るには現像液中に相当多量な入れる必要がある
という欠点がある。
明保持および銀泥生成防止に対しほとんどよく適合して
いるが、それらはしかし合成的に入手しにくく更に望む
効果を得るには現像液中に相当多量な入れる必要がある
という欠点がある。
写真現像液中の暗着色および汚泥生成の防止の為写真現
像の障害が広く排除される新現像剤前駆体を確立するこ
とが本発明の課題である。
像の障害が広く排除される新現像剤前駆体を確立するこ
とが本発明の課題である。
本発明はハロゲン化銀現像性化合物、水溶性ハロゲン化
銀用溶媒、有機チオール化合物又は互変異性可能なチオ
ン化合物および親水性基即ち水溶性をもたらす基をもつ
ブンテ塩からなる非水液状又はペースト状濃縮物にある
。
銀用溶媒、有機チオール化合物又は互変異性可能なチオ
ン化合物および親水性基即ち水溶性をもたらす基をもつ
ブンテ塩からなる非水液状又はペースト状濃縮物にある
。
チオール−又は互変異性可能なチオン−化合物は向1)
HE−D−(W)、又は をもつ化合物であり1だブンテ(B〜nta)塩は式(
3) (Z)1” CB’)r−1SSOsMで
表わされる。上3式においてAは窒素原子、2重結合を
もった炭素原子(=C−)又は−CHを表わしBは一〇
−又は−CH,C−を表わし、R7は水素、任意に置換
されたアルキル、任意に置換されたフェニル又は任意に
置換された飽和又は不飽和の窒素原子、酸素原子および
(又は)いおう原子をもつ5−又は6員複素環状残基を
表わし、R1は水素を除いてR7の意味をもち、あるい
はR6とR7がそれらの結合する原子と共に4−15−
又は6−員複素環状残基を形成し、DとEは各々任意に
置換された脂肪族、芳脂肪族、環脂肪族、芳香族又は複
素環状残基であり、WとZは各4式: −COOM、
−8O,M、−8SO,M。
HE−D−(W)、又は をもつ化合物であり1だブンテ(B〜nta)塩は式(
3) (Z)1” CB’)r−1SSOsMで
表わされる。上3式においてAは窒素原子、2重結合を
もった炭素原子(=C−)又は−CHを表わしBは一〇
−又は−CH,C−を表わし、R7は水素、任意に置換
されたアルキル、任意に置換されたフェニル又は任意に
置換された飽和又は不飽和の窒素原子、酸素原子および
(又は)いおう原子をもつ5−又は6員複素環状残基を
表わし、R1は水素を除いてR7の意味をもち、あるい
はR6とR7がそれらの結合する原子と共に4−15−
又は6−員複素環状残基を形成し、DとEは各々任意に
置換された脂肪族、芳脂肪族、環脂肪族、芳香族又は複
素環状残基であり、WとZは各4式: −COOM、
−8O,M、−8SO,M。
−3o、M
(但し上式中G、XおよびYは各々水素又はヒドロキシ
ル、カルボキシル又は−8o、Hで置換された炭素原子
1乃至6ヲモつアルキルを表わし、Yはこの他フェニル
、フェニルスルフォン酸、炭素原子1乃至5をもつアル
キルスルフォニル、フェニルスルフォニル、トリルスル
フォニルt[bし、Mは1価陽イオンを表わしかつAl
eは1価陰イオンを表わす。)をもつ残基又はオキシエ
チレン単位2乃至20をもつ任意にスルフォン化された
ポリオキシエチレン残基全表わし、nと鴨は各々1乃至
4の整数を表わしかつrは1又は2とする。デー1であ
る場合ブンテ塩は式(z)お−E−8SO3M(各記号
は上記のとおりとする)で表わされる。
ル、カルボキシル又は−8o、Hで置換された炭素原子
1乃至6ヲモつアルキルを表わし、Yはこの他フェニル
、フェニルスルフォン酸、炭素原子1乃至5をもつアル
キルスルフォニル、フェニルスルフォニル、トリルスル
フォニルt[bし、Mは1価陽イオンを表わしかつAl
eは1価陰イオンを表わす。)をもつ残基又はオキシエ
チレン単位2乃至20をもつ任意にスルフォン化された
ポリオキシエチレン残基全表わし、nと鴨は各々1乃至
4の整数を表わしかつrは1又は2とする。デー1であ
る場合ブンテ塩は式(z)お−E−8SO3M(各記号
は上記のとおりとする)で表わされる。
式(1)をもつメルカプト化合物中りは例えば任意に置
換された炭素原子40迄、好ましくは20迄をもつ飽和
又は不飽和脂肪族残基であり、特に直鎖(−CC馬)よ
−、2=1から40)又は分枝鎖アルキレン又は炭素原
子10迄をもつアルキリデンが注目される。アルキレン
−およびアルキリデン−橋状構造は場合によってまた一
〇−1−、S’Q、−又は−NH−又は−NE (R
−C+ C4−アルキル)で中断されていてもよい。
換された炭素原子40迄、好ましくは20迄をもつ飽和
又は不飽和脂肪族残基であり、特に直鎖(−CC馬)よ
−、2=1から40)又は分枝鎖アルキレン又は炭素原
子10迄をもつアルキリデンが注目される。アルキレン
−およびアルキリデン−橋状構造は場合によってまた一
〇−1−、S’Q、−又は−NH−又は−NE (R
−C+ C4−アルキル)で中断されていてもよい。
置換基は例えば炭素原子1乃至5をもつアルキル、即ち
メチル、エチル、界−プロビル、S−ブチル、n−アミ
ルおよび異性体残基の様なアルキル(分枝鎖残基生成)
の他にカルボキシル、アルキル部分中に炭素原子1乃至
3をもつカルボオキシアルキル、特にカルボオキシメチ
ル、ヒドロキシル、メルカプ)(−8R) 並びに炭
素原子各1乃至3をもつヒドロオキシ−又はメルカプト
−アルキル(ヒドロオキシメチル、ヒドロオキシエチル
。
メチル、エチル、界−プロビル、S−ブチル、n−アミ
ルおよび異性体残基の様なアルキル(分枝鎖残基生成)
の他にカルボキシル、アルキル部分中に炭素原子1乃至
3をもつカルボオキシアルキル、特にカルボオキシメチ
ル、ヒドロキシル、メルカプ)(−8R) 並びに炭
素原子各1乃至3をもつヒドロオキシ−又はメルカプト
−アルキル(ヒドロオキシメチル、ヒドロオキシエチル
。
ヒドロオキシプロピル並びにメルカプト基をもつ対応し
た残基)があってもよい。置換基がメルカプト基又はメ
ルカプトアルキル基である場合、式(1)をもつメルカ
プタンはジー又は時にはポリ−メルカプタンである。
た残基)があってもよい。置換基がメルカプト基又はメ
ルカプトアルキル基である場合、式(1)をもつメルカ
プタンはジー又は時にはポリ−メルカプタンである。
橋状構造りが任意に置換された芳脂肪族残基である場合
、それは炭素原子40以下をもち、具体例としてフェニ
ル環にハロゲン(ふっ素、塩素、臭素)、ヒドロキシル
、アミン(−NHt )、−8o、H又は−8o、NH
,で置換されているベンジレン又はフェニルエチレン残
基が例示される。
、それは炭素原子40以下をもち、具体例としてフェニ
ル環にハロゲン(ふっ素、塩素、臭素)、ヒドロキシル
、アミン(−NHt )、−8o、H又は−8o、NH
,で置換されているベンジレン又はフェニルエチレン残
基が例示される。
脂環族残基は特にシクロアルキル環l乃至4をもちかつ
炭素原子5乃至IO1好ましくは5又は6をもつシクロ
アルキルから生じたものである。例えばシクロペンチル
、シクロヘキシル、ノルボルニル又ハ】−アダマンチル
残基テある。
炭素原子5乃至IO1好ましくは5又は6をもつシクロ
アルキルから生じたものである。例えばシクロペンチル
、シクロヘキシル、ノルボルニル又ハ】−アダマンチル
残基テある。
芳香族残基は一般に全部で40迄の炭素原子をもつ1又
は多数の核をもつ任意に置換された芳香族基、特にベン
ゼンから生じたものである。フェニレンが好ましく、置
換基として例えば炭素原子1乃至4をもつアルキル、ハ
ロゲン(ふっ素、塩素又は臭素)、ヒドロキシル、アミ
ン(−NH2)、−COOH,−803H又は−8o、
NH,をもちうるが、置換基はアルキル、ハロゲンおよ
びアミンが好ましい。
は多数の核をもつ任意に置換された芳香族基、特にベン
ゼンから生じたものである。フェニレンが好ましく、置
換基として例えば炭素原子1乃至4をもつアルキル、ハ
ロゲン(ふっ素、塩素又は臭素)、ヒドロキシル、アミ
ン(−NH2)、−COOH,−803H又は−8o、
NH,をもちうるが、置換基はアルキル、ハロゲンおよ
びアミンが好ましい。
橋状構造りが任意に置換された複素環状残基である場合
、それは一般に飽和又は不飽和の窒素、酸素および(又
は)いおう原子をもつ5−又は6−員残基であり、例え
ばピリジル、ピリミジル、ピリミダジル、ピラゾリル、
ピリル、トリアジニル、イミダゾリル、トリゾリルおよ
びテトラゾリル残基、オフサ−およびチア−ゾリル残基
、フリル又はチェニル、更にモルフオリニル、イミダゾ
リニル、イミダ/IJジニル、ピロリジニル、ピロリジ
ノニル、テトラヒドロフリル又はピペリジニルがある。
、それは一般に飽和又は不飽和の窒素、酸素および(又
は)いおう原子をもつ5−又は6−員残基であり、例え
ばピリジル、ピリミジル、ピリミダジル、ピラゾリル、
ピリル、トリアジニル、イミダゾリル、トリゾリルおよ
びテトラゾリル残基、オフサ−およびチア−ゾリル残基
、フリル又はチェニル、更にモルフオリニル、イミダゾ
リニル、イミダ/IJジニル、ピロリジニル、ピロリジ
ノニル、テトラヒドロフリル又はピペリジニルがある。
それ故これら残基は窒素原子1乃至4、酸素原子1およ
び(又は)いおう原子1をもっていてもよい。縮合した
系の例としてベンズイミダゾール、キノオキサリン、ベ
ンズオキサゾールおよびベンズチアゾールがあげられる
。
び(又は)いおう原子1をもっていてもよい。縮合した
系の例としてベンズイミダゾール、キノオキサリン、ベ
ンズオキサゾールおよびベンズチアゾールがあげられる
。
式(1)をもつメルカプト化合物中のWは−COOM。
−P; O,X%−!l O,M又はオキシエチレン単
位2乃至20をもつ任意にスルフォン化されたポリオキ
シエチレン残基である。G、 XおよびYは互に無関係
に水素又は炭素原子1乃至6をもつ置換アルキルであっ
てもよい。その場合置換基トシてはヒドロキシル、カル
ボキシル又は−803Hでもよい。Yはこの他フェニル
、フェニルスルフォン酸もつアルキルスルフォニル(C
H3−8o、−1C,H,−8o、−1C,H7SO,
−5i−C3HtSOx−1C,H,SO,−1C5”
IIG、XおよびYは窒素原子と共に一緒に更に飽和又
は不飽和の5−又は6−員環、例えばピリジニウム環を
形成してもよい。Mは1価陽イオン、特に水素イオン、
(昶)更にアルカリ金属陽イオン(Haω、K■)又は
アンモニウム陽イオン(NH4の)である。A、■は1
価陰イオン、例を表わす。
位2乃至20をもつ任意にスルフォン化されたポリオキ
シエチレン残基である。G、 XおよびYは互に無関係
に水素又は炭素原子1乃至6をもつ置換アルキルであっ
てもよい。その場合置換基トシてはヒドロキシル、カル
ボキシル又は−803Hでもよい。Yはこの他フェニル
、フェニルスルフォン酸もつアルキルスルフォニル(C
H3−8o、−1C,H,−8o、−1C,H7SO,
−5i−C3HtSOx−1C,H,SO,−1C5”
IIG、XおよびYは窒素原子と共に一緒に更に飽和又
は不飽和の5−又は6−員環、例えばピリジニウム環を
形成してもよい。Mは1価陽イオン、特に水素イオン、
(昶)更にアルカリ金属陽イオン(Haω、K■)又は
アンモニウム陽イオン(NH4の)である。A、■は1
価陰イオン、例を表わす。
式(1)をもつ化合物中の残基Wは水溶性とする基でそ
の数は4迄(%−1から4迄)であり、好ましい化合物
は3.2又は僅か1のWをもつものである。
の数は4迄(%−1から4迄)であり、好ましい化合物
は3.2又は僅か1のWをもつものである。
式(2)をもつ化合物は互変異性可能なC=S基をもち
、それ故に次のとおり表わすことができる。
、それ故に次のとおり表わすことができる。
簡単にする為この表示で単に1互変異性型が与えられる
が、しかし他の型を除外するものではない。Aは窒素原
子、基である。
が、しかし他の型を除外するものではない。Aは窒素原
子、基である。
R2は水素、任意に置換されたアルキル、例えば炭素原
子1乃至10をもちかつ例えば置換基ヒドロキシル、ア
ミノ、アルキル(at ca ) 、 ノ〜ロゲン
、(ふっ素、塩素又は臭素)、−8o8M又は−8o、
NH,をもつアルキル、更に任意にアルキル(ct
C4) 、 ハロゲン(ふっ素、塩素、臭素)、ヒド
ロキシル、アミノ、カルボキシル、−f;O,H又は−
So、NH,で置換されたフェニルである。R1は水素
を除外してR7と同じ意味を表わす。R1とR7が任意
に置換された(フェニルによる様な置換基)飽和又は不
飽和の窒素、酸素および(又は)いおう原子をもつ5−
又は6−員複素環状残基であれば、Dのもとで述べたと
おりとの複素環状残基も本発明で利用できる。場合によ
っては残基R1とR7は基=C−A−又は−C=Aと共
に4−15−又は6−員複素環を形成するなお欠けてい
る原子集団を生成できる。ヘテロ原子としては窒素、酸
素および(又は)いおう原子があげられる。
子1乃至10をもちかつ例えば置換基ヒドロキシル、ア
ミノ、アルキル(at ca ) 、 ノ〜ロゲン
、(ふっ素、塩素又は臭素)、−8o8M又は−8o、
NH,をもつアルキル、更に任意にアルキル(ct
C4) 、 ハロゲン(ふっ素、塩素、臭素)、ヒド
ロキシル、アミノ、カルボキシル、−f;O,H又は−
So、NH,で置換されたフェニルである。R1は水素
を除外してR7と同じ意味を表わす。R1とR7が任意
に置換された(フェニルによる様な置換基)飽和又は不
飽和の窒素、酸素および(又は)いおう原子をもつ5−
又は6−員複素環状残基であれば、Dのもとで述べたと
おりとの複素環状残基も本発明で利用できる。場合によ
っては残基R1とR7は基=C−A−又は−C=Aと共
に4−15−又は6−員複素環を形成するなお欠けてい
る原子集団を生成できる。ヘテロ原子としては窒素、酸
素および(又は)いおう原子があげられる。
式(3)をもつブンテ塩中のEは式(1)ヲもつメルカ
プト化合物中のDと同じ意味をもつが、DとEは同じで
も又は互に異なっていてもよい。結局Eはしかしなお式
(CHt)、 t CQ#g(CH2) 1−+−を
もつ橋状構造(但し8とtはそれぞれ1乃至3の整数を
表わす)である。ZはWの意味を表わすが、この場合こ
れらの記号の意味は同じでも異なっていてもよい。式(
3)をもつブンテ塩中のB=2)残基中の−E−B基は
結局例えば任意にアルキル(C,−C,)、 好甘し
くはメチル又はノ・ロゲン、好1しくは塩素で置換され
たアセチル又はベンゾイル、例えばC3S03M (L
は置換基アルキル又はハロゲン)である。
プト化合物中のDと同じ意味をもつが、DとEは同じで
も又は互に異なっていてもよい。結局Eはしかしなお式
(CHt)、 t CQ#g(CH2) 1−+−を
もつ橋状構造(但し8とtはそれぞれ1乃至3の整数を
表わす)である。ZはWの意味を表わすが、この場合こ
れらの記号の意味は同じでも異なっていてもよい。式(
3)をもつブンテ塩中のB=2)残基中の−E−B基は
結局例えば任意にアルキル(C,−C,)、 好甘し
くはメチル又はノ・ロゲン、好1しくは塩素で置換され
たアセチル又はベンゾイル、例えばC3S03M (L
は置換基アルキル又はハロゲン)である。
特に成分(a)、式(4) HE −D、 (W、)
s、をもつメルカプタンおよび成分(b)、式(5)
(Zl)m+ DI 5505Mをもつフツテ塩の
混合物は本発明の方法に利用される。但し上式のDIは
任意に置換された炭素原子40迄をもつ脂肪族、芳脂肪
族又は芳香族残基又は任意にベンゼン環と縮合した窒素
原子1乃至4、酸素原子1および(又は)いお[子1を
もつ5−又は6−員複素環を表わし、WlはZ、は−C
OOM、−8o、M、−880,M、−OH。
s、をもつメルカプタンおよび成分(b)、式(5)
(Zl)m+ DI 5505Mをもつフツテ塩の
混合物は本発明の方法に利用される。但し上式のDIは
任意に置換された炭素原子40迄をもつ脂肪族、芳脂肪
族又は芳香族残基又は任意にベンゼン環と縮合した窒素
原子1乃至4、酸素原子1および(又は)いお[子1を
もつ5−又は6−員複素環を表わし、WlはZ、は−C
OOM、−8o、M、−880,M、−OH。
1乃至3の整数を表わしM、X、Yは前に定義したとお
りの意味を表わす。
りの意味を表わす。
式(4)と(5)におけるり、は同じでも又は互に異な
っていてもよい。
っていてもよい。
式(4)をもつ適当するメルカプタンは式(b):(b
1H’;;−7)2 (W+ )%2(式中り、は炭
素原子20迄をもつ脂肪族又は芳脂肪族残=17= 基又は任意に置換されたベンゼン基を表わし、九、は1
又は2でありかつW、は前に定義した意味を表わす)で
表わされ、好ましくは式(7): %式%) (式中W、は−COOH又は−8o、Mを表わし3.は
1又は2を表わす)で表わされまた式(8)二(81(
Zt)ユ、−D、−8SO,M(式中り、は上に定義し
た意味を表わし、Z、は−COOM、−8osM、 −
f;f;08M、−NH,又は−OHを表わし、Mは1
価陽イオンを表わし、かつ常1ま1又は2を表わす)を
もつブンテ塩との組合せに使用できる。
1H’;;−7)2 (W+ )%2(式中り、は炭
素原子20迄をもつ脂肪族又は芳脂肪族残=17= 基又は任意に置換されたベンゼン基を表わし、九、は1
又は2でありかつW、は前に定義した意味を表わす)で
表わされ、好ましくは式(7): %式%) (式中W、は−COOH又は−8o、Mを表わし3.は
1又は2を表わす)で表わされまた式(8)二(81(
Zt)ユ、−D、−8SO,M(式中り、は上に定義し
た意味を表わし、Z、は−COOM、−8osM、 −
f;f;08M、−NH,又は−OHを表わし、Mは1
価陽イオンを表わし、かつ常1ま1又は2を表わす)を
もつブンテ塩との組合せに使用できる。
ベンゼン残基の置換基は例えば炭素原子1乃至4をもつ
アルキル、ノ・ロゲン(ふっ素、又は臭素)、ヒドロキ
シル、アミン、カルボキシル、スルフオ(−8O3H)
又はスルフォンアミド(−8O,NH,)であり、この
場合これら置換基1又は2以上があってもよい。
アルキル、ノ・ロゲン(ふっ素、又は臭素)、ヒドロキ
シル、アミン、カルボキシル、スルフオ(−8O3H)
又はスルフォンアミド(−8O,NH,)であり、この
場合これら置換基1又は2以上があってもよい。
式(7)と(8)中のり、は同じであっても異っていて
もよ℃)。
もよ℃)。
式(7)をもつメルカプタンにおいてそれが芳香族橋状
構造り、をもつ限り式(9):H8−D、−COOMを
もつものが特に好ましい。上式のり、はフェニレンを表
わし、それは任意に炭素原子1乃至4をもつアルキル、
ハロゲン、特に塩素、又はアミン(−NH,)で置換さ
れていてもよい。
構造り、をもつ限り式(9):H8−D、−COOMを
もつものが特に好ましい。上式のり、はフェニレンを表
わし、それは任意に炭素原子1乃至4をもつアルキル、
ハロゲン、特に塩素、又はアミン(−NH,)で置換さ
れていてもよい。
また上式のMは1価陽イオン、特に水素(H■)である
。
。
本発明の方法に利用できる成分(a)と(b”)の特に
適当な組合せは成分(a)として式(10) :をもつ
ブンテ塩を含む。上2式中R3は水素、炭素1乃至5を
もつアルキル、カルボキシル、アルキル部分に炭素原子
1乃至3をもつカルボオキシアルキル、任意に炭素原子
1乃至4をもつアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、ア
ミノ、−8o3H,C0OH又は−8O7NH,で置換
されたフェニル、フリール、チェニル、ピリミジル、ピ
リジル又は2−ベンズイミダゾリルを表わし、R4は水
素、炭素原子l乃至5をもつアルキル、それぞれ炭素原
子1乃至3をもつヒドロオキシアルキルおよびメルカプ
トアルキル、任意ニ炭素原子1乃至4をもつアルキル、
ハロゲン、ヒドロキシル、アミノ、−8o3H又は−S
O,NH,で置換されたフェニル又はベンジルを表わし
、Ik(pが1又は2の場合)は任意に炭素原子1乃至
4をもつアルキル、フェニル、ハロゲン、ヒドロキシル
、メルカプト、又はアミンで置換された炭素原子6迄を
もつアルキレン又はアルキリデン、任意に炭素原子1乃
至4をもつアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、アミノ
−COOH,−8O8H又は−!EO,NH,で置換す
したフェニレン、α、2−1α、3−又Uα、4−ペン
ジレンを表わし、R81は水素、炭素原子1乃至5をも
つアルキル、アルキル部分に炭素原子1乃至3を本つカ
ルボオキシアルキル、任意に炭素原子1乃至4をもつア
ルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、アミノ、−80,H
又Fi−F;O,NH2で置換されたフェニル又はベン
ジル又はp=lの場合はまた直接化学結合も表わし、R
lt (qが1又は2の場合)は任意に炭素原子1乃至
4をもつアルキル、フェニル、ノ・ロゲン、ヒドロキシ
ル又はアミノで置換された炭素原子6迄をもつアルキレ
ン又はアルキリデン、任意に炭素原子1乃至4をもつア
ルキル、ノ・ロゲン、ヒドロキシル、アミン、2l− −COOH,−8OsH又は−So、NH,で置換され
たフェニレン又はアラルキレン(ベンジシン又はフェニ
ルエチレン)、(CHz ) a −* CONH(
CHt ) t 1又はqが1である場合は直接化学
結合を表わしまた時としてRは任意に炭素原子1乃至3
をもつアルキル又はハロゲンで置換されたアセチル又は
ベンゾイルを表わし、W、は−COOM又は−8o、M
を表わし、yは1価陽イオンを表わし、かつ町、pおよ
びqはそれぞれ1又は2を表わしまた8とtはそれぞれ
1乃至3の整数を表わす。特に好ましい式(1o)をも
っメルカプタンは式(12): (式中R6は水素、メチル、エチル又はフェニルを表わ
し、R1は水素、メチル、フェニル、トリル又はカルボ
オキシメチル、を表わしR8は直接化学結合、−(CH
2)%−1を表わしかつUは1乃至3の整数とする)お
よび式(13):R9 (式中R,と椙。はそれぞれ水素、メチル又はフェニル
を表わしかつUは1乃至3の整数とする)で表わされる
。一方特に適当するブンテ塩としては式(14) :(
式中R+ sは水素、メチル、エチル、フェニル、又は
カルボオギシメチル、を表わし、R14は面接化学結合
、−(GHz′)v−1−CH(CH3)−1−C(C
B、)、−1−CH,CH(CH,)−1−CH=CH
−1−CHz CH(Cs R7) −1わし、W、は
−COOH又は−8o、M を表わし、Mは1価陽イオ
ンを表わし、υは1乃至6の整数とする)および式%式
%): (式中R15は水素、メチル又はフェニルを表わし、M
は1価陽イオンを表わしかつりは1又は2とする)をも
つ化合物がある。
適当な組合せは成分(a)として式(10) :をもつ
ブンテ塩を含む。上2式中R3は水素、炭素1乃至5を
もつアルキル、カルボキシル、アルキル部分に炭素原子
1乃至3をもつカルボオキシアルキル、任意に炭素原子
1乃至4をもつアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、ア
ミノ、−8o3H,C0OH又は−8O7NH,で置換
されたフェニル、フリール、チェニル、ピリミジル、ピ
リジル又は2−ベンズイミダゾリルを表わし、R4は水
素、炭素原子l乃至5をもつアルキル、それぞれ炭素原
子1乃至3をもつヒドロオキシアルキルおよびメルカプ
トアルキル、任意ニ炭素原子1乃至4をもつアルキル、
ハロゲン、ヒドロキシル、アミノ、−8o3H又は−S
O,NH,で置換されたフェニル又はベンジルを表わし
、Ik(pが1又は2の場合)は任意に炭素原子1乃至
4をもつアルキル、フェニル、ハロゲン、ヒドロキシル
、メルカプト、又はアミンで置換された炭素原子6迄を
もつアルキレン又はアルキリデン、任意に炭素原子1乃
至4をもつアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、アミノ
−COOH,−8O8H又は−!EO,NH,で置換す
したフェニレン、α、2−1α、3−又Uα、4−ペン
ジレンを表わし、R81は水素、炭素原子1乃至5をも
つアルキル、アルキル部分に炭素原子1乃至3を本つカ
ルボオキシアルキル、任意に炭素原子1乃至4をもつア
ルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、アミノ、−80,H
又Fi−F;O,NH2で置換されたフェニル又はベン
ジル又はp=lの場合はまた直接化学結合も表わし、R
lt (qが1又は2の場合)は任意に炭素原子1乃至
4をもつアルキル、フェニル、ノ・ロゲン、ヒドロキシ
ル又はアミノで置換された炭素原子6迄をもつアルキレ
ン又はアルキリデン、任意に炭素原子1乃至4をもつア
ルキル、ノ・ロゲン、ヒドロキシル、アミン、2l− −COOH,−8OsH又は−So、NH,で置換され
たフェニレン又はアラルキレン(ベンジシン又はフェニ
ルエチレン)、(CHz ) a −* CONH(
CHt ) t 1又はqが1である場合は直接化学
結合を表わしまた時としてRは任意に炭素原子1乃至3
をもつアルキル又はハロゲンで置換されたアセチル又は
ベンゾイルを表わし、W、は−COOM又は−8o、M
を表わし、yは1価陽イオンを表わし、かつ町、pおよ
びqはそれぞれ1又は2を表わしまた8とtはそれぞれ
1乃至3の整数を表わす。特に好ましい式(1o)をも
っメルカプタンは式(12): (式中R6は水素、メチル、エチル又はフェニルを表わ
し、R1は水素、メチル、フェニル、トリル又はカルボ
オキシメチル、を表わしR8は直接化学結合、−(CH
2)%−1を表わしかつUは1乃至3の整数とする)お
よび式(13):R9 (式中R,と椙。はそれぞれ水素、メチル又はフェニル
を表わしかつUは1乃至3の整数とする)で表わされる
。一方特に適当するブンテ塩としては式(14) :(
式中R+ sは水素、メチル、エチル、フェニル、又は
カルボオギシメチル、を表わし、R14は面接化学結合
、−(GHz′)v−1−CH(CH3)−1−C(C
B、)、−1−CH,CH(CH,)−1−CH=CH
−1−CHz CH(Cs R7) −1わし、W、は
−COOH又は−8o、M を表わし、Mは1価陽イオ
ンを表わし、υは1乃至6の整数とする)および式%式
%): (式中R15は水素、メチル又はフェニルを表わし、M
は1価陽イオンを表わしかつりは1又は2とする)をも
つ化合物がある。
本発明に使われるメルカプト化合物およびブンテ塩はそ
れ自体知られた化合物であり既知の方法により製造でき
る。
れ自体知られた化合物であり既知の方法により製造でき
る。
(例えばR,ケルバーのTatr、 Lattara
3007(1966)、B、ミリガンのJ、 Swan
、 Rgv、純化学および応用化学、12.72(19
62)、H,ディストラ−のAngaw、Cham、7
9.520(1967)を参照)メルカプタンの例〔成
分(a)〕 CH。
3007(1966)、B、ミリガンのJ、 Swan
、 Rgv、純化学および応用化学、12.72(19
62)、H,ディストラ−のAngaw、Cham、7
9.520(1967)を参照)メルカプタンの例〔成
分(a)〕 CH。
HOOC−C2H4−8o、−CH,−CH,−8H2
6一 fit’5P(Cgt)s 5HC H。
6一 fit’5P(Cgt)s 5HC H。
CH。
So、に
ブンテ塩の例〔成分(b)〕
Naps−CHz−CHt−8S OsMKOsS(C
Ht)s SSOsM NaOsS (CHt)i SSOsMNaO,S (
CHt )y SSO,MHa−OQC−CH,−8S
O,M HOOC−CH,−CH,−;SSO,MH,N−C−
CH,−f;So3M H,N−C−CH,−CH,−”;505MH,N−C
H,−CH,−f;SosM−34= HOOC(CH,)、−8!;:0.MHOOC−CH
,−NH−Co−NH,−8SO,M但しMは1価陽イ
オン、好ましくはナトリウム、カリウム又ハアンモニウ
ム陽イオンである。
Ht)s SSOsM NaOsS (CHt)i SSOsMNaO,S (
CHt )y SSO,MHa−OQC−CH,−8S
O,M HOOC−CH,−CH,−;SSO,MH,N−C−
CH,−f;So3M H,N−C−CH,−CH,−”;505MH,N−C
H,−CH,−f;SosM−34= HOOC(CH,)、−8!;:0.MHOOC−CH
,−NH−Co−NH,−8SO,M但しMは1価陽イ
オン、好ましくはナトリウム、カリウム又ハアンモニウ
ム陽イオンである。
濃縮物は普通のハロゲン化銀現像化合物として例えばジ
ヒドロオキシベンゼン、アミンフェノール、ジアミノベ
ンゼン、ピラゾリジノン、レドワクトン又はヒドロキシ
ルアミン誘導体を含んでいる。
ヒドロオキシベンゼン、アミンフェノール、ジアミノベ
ンゼン、ピラゾリジノン、レドワクトン又はヒドロキシ
ルアミン誘導体を含んでいる。
普通の水溶性ハロゲン化銀用溶媒としては例えばチオエ
ーテル又はチオアミド、ロダン水素酸塩、高濃度の亜硫
酸塩、好ましくはチオ硫酸塩がある。濃縮物を希釈して
現像液とした際亜硫酸塩は例えば一般に209/lより
多量に、場合によっては10乃至201/lの様に少量
でも、またチオ硫酸塩は0.1乃至2009/lの濃度
で調合水溶液中に加えられる。
ーテル又はチオアミド、ロダン水素酸塩、高濃度の亜硫
酸塩、好ましくはチオ硫酸塩がある。濃縮物を希釈して
現像液とした際亜硫酸塩は例えば一般に209/lより
多量に、場合によっては10乃至201/lの様に少量
でも、またチオ硫酸塩は0.1乃至2009/lの濃度
で調合水溶液中に加えられる。
現像液に希釈したときチオ硫酸塩濃度は1浴使用には1
0乃至200?/lが好ましく、銀カラー漂白材料のマ
スク現像においては0.1乃至10f/lである。この
場合いおう化合物として特に式(9)から(15)迄を
もつものが適している。いおう化合物はまた反転−、ク
ロモーゲンー、レントゲン−又は黒白−フィルム材料の
現像調合液中に使用できる。
0乃至200?/lが好ましく、銀カラー漂白材料のマ
スク現像においては0.1乃至10f/lである。この
場合いおう化合物として特に式(9)から(15)迄を
もつものが適している。いおう化合物はまた反転−、ク
ロモーゲンー、レントゲン−又は黒白−フィルム材料の
現像調合液中に使用できる。
成分(a)および(b)は0.01乃至111/l、又
は0.1乃至10 ?/lの量で現像水溶液に存在する
よう用いることが好ましい。
は0.1乃至10 ?/lの量で現像水溶液に存在する
よう用いることが好ましい。
適当する濃縮物はしたがって2〜25倍に希釈した場合
に、0.1乃至20 t/lのハロゲン化銀現像性化合
物、0.1乃至2009/lのハロゲン化銀用溶媒およ
び0.05乃至109/lの成分(a)と(b)の混合
物で(Q) : (b)のモル比5:1乃至1:100
、好ましくは1:1乃至1:20をもつものを含むこと
が好ましい。
に、0.1乃至20 t/lのハロゲン化銀現像性化合
物、0.1乃至2009/lのハロゲン化銀用溶媒およ
び0.05乃至109/lの成分(a)と(b)の混合
物で(Q) : (b)のモル比5:1乃至1:100
、好ましくは1:1乃至1:20をもつものを含むこと
が好ましい。
現像液は本発明の濃縮物を水で稀釈して、任意に有機溶
媒と混合して生成できる。
媒と混合して生成できる。
濃縮物は液状又はペースト状、場合によっては固体状で
ありうる。
ありうる。
本発明の濃縮物から得られた現像配合液を用いて望まし
くない余色濃度の減少に適した層構成を示す銀カラー漂
白材料を現像することができる。
くない余色濃度の減少に適した層構成を示す銀カラー漂
白材料を現像することができる。
特別にこれらは露出、銀現像、カラー漂白、銀漂白およ
び定着によりまた少なくとも2層中に各々像の様に漂白
可能な、吸収最大が三原色赤、緑および青の各々に相応
する色素をもち各色素に一定スベクトルに敏感なハロゲ
ン化銀乳剤層が付属しておる、写真材料使用のもとての
マスクされた減少されたカラー陽画の生成法に関する。
び定着によりまた少なくとも2層中に各々像の様に漂白
可能な、吸収最大が三原色赤、緑および青の各々に相応
する色素をもち各色素に一定スベクトルに敏感なハロゲ
ン化銀乳剤層が付属しておる、写真材料使用のもとての
マスクされた減少されたカラー陽画の生成法に関する。
この場合上記材料において染料の望ましくない余色濃度
を補償する必要のある染料に少なくも一部よう化銀から
生成されたハロゲン化銀乳剤層が付属しており、この場
合他の1層に第1染料の補償されている余色濃度に適合
する様な生色濃度をもつ少なくも第2染料およびよう素
イオンのないノ・ログン化銀乳剤が存在し、更に第2染
料を含む層の隣りにある層は可溶性銀錯塩から鉄金属を
分離する能力をもつコロイド種を示し、この種をもつ層
とその余色濃度を補償されるべき染料層の間に分離層が
あり、また上記材料を露出された後処理する銀現像浴は
水溶性拡散性銀錯塩を生成できる配位子並びに式(1)
又H(2)および(3)をもつ化合物の混合物を含んで
いる。特に式(13)と(15)をもつ化合物からの混
合物が好ましい。
を補償する必要のある染料に少なくも一部よう化銀から
生成されたハロゲン化銀乳剤層が付属しており、この場
合他の1層に第1染料の補償されている余色濃度に適合
する様な生色濃度をもつ少なくも第2染料およびよう素
イオンのないノ・ログン化銀乳剤が存在し、更に第2染
料を含む層の隣りにある層は可溶性銀錯塩から鉄金属を
分離する能力をもつコロイド種を示し、この種をもつ層
とその余色濃度を補償されるべき染料層の間に分離層が
あり、また上記材料を露出された後処理する銀現像浴は
水溶性拡散性銀錯塩を生成できる配位子並びに式(1)
又H(2)および(3)をもつ化合物の混合物を含んで
いる。特に式(13)と(15)をもつ化合物からの混
合物が好ましい。
本発明において使用されるメルカプト化合物とフツテ塩
の混合物はとりわけ長時間現像液中の釧分離防止の点で
優秀である。その上従来使用されていた汚泥防止剤と反
対に本発明において使用される(a)と(b)の混合物
は写真実用に不活性でありまた普通の意味で非常に安定
であり、このことは上記現像の連続操作に対して好まし
いものである。
の混合物はとりわけ長時間現像液中の釧分離防止の点で
優秀である。その上従来使用されていた汚泥防止剤と反
対に本発明において使用される(a)と(b)の混合物
は写真実用に不活性でありまた普通の意味で非常に安定
であり、このことは上記現像の連続操作に対して好まし
いものである。
次の実施例において記載の部およびパーセントはすべて
重量基準である。
重量基準である。
実施例1゜
顔料を加えた酢酸セルロース支持体上に赤を増感した下
塗り層中に式: 使用した写真材料は次のとおり構成した。(ドイツ公開
公報2,036,918号、2,132,836号およ
び2,547゜720号参照) 裏層、ゼラチン この層構成は他の2像染料漂白に従って黄色像染料の追
加的漂白により青緑と紫の染料の青い余色濃度の補正を
可能にする。(青感光性層は黄染料無よう化物乳剤をも
ち、残りの色素層はよ5化物含有乳剤をもつ。)芽をも
つ層は黄色染料層に隣近している。これは補足的に黄色
光濾過染料を含み無色乳剤層(緑感光性Ayl含有乳剤
層、同時に分離層)によって紫層から分けられている。
塗り層中に式: 使用した写真材料は次のとおり構成した。(ドイツ公開
公報2,036,918号、2,132,836号およ
び2,547゜720号参照) 裏層、ゼラチン この層構成は他の2像染料漂白に従って黄色像染料の追
加的漂白により青緑と紫の染料の青い余色濃度の補正を
可能にする。(青感光性層は黄染料無よう化物乳剤をも
ち、残りの色素層はよ5化物含有乳剤をもつ。)芽をも
つ層は黄色染料層に隣近している。これは補足的に黄色
光濾過染料を含み無色乳剤層(緑感光性Ayl含有乳剤
層、同時に分離層)によって紫層から分けられている。
よう化物含有乳剤層はよう化銀2,6モル%および臭化
鋼97.4モル%を含む結晶をもつ。像染料はその許容
濃度が常に2.0、即ち22μ厚さ層の金銀含量が2.
O? / tn”となる様々濃度で使われる。
鋼97.4モル%を含む結晶をもつ。像染料はその許容
濃度が常に2.0、即ち22μ厚さ層の金銀含量が2.
O? / tn”となる様々濃度で使われる。
引伸ばし機においてこの材料上にカラー透明陽画を焼付
けた。露出された材料は次の規準(フランス特許2,2
47゜755号)により処理した。この場合処理温度は
30℃であった。
けた。露出された材料は次の規準(フランス特許2,2
47゜755号)により処理した。この場合処理温度は
30℃であった。
1、銀像浴3分間
水で10倍に希釈した場合次の濃度になるペースト状濃
縮物を調製した。そして使用時に希釈して現像液をつく
った。
縮物を調製した。そして使用時に希釈して現像液をつく
った。
エチレンジアミンテトラ酢酸 29/14ナ
トリウム塩 水酸化カリウム 85% 30り/lはう酸
169/lメタ重亜硫酸カリ
ウム 269/11−フェニル−3−ピ
ラゾリ 0.35f/lジノン ハイドロキノン 51/lベ
ンズトリアゾール 0.8t/を臭化
カリウム 29/を無水チ
オ硫酸ナトリウム 0.8tlt式(10
4)をもつ化合物 0.5tlt式(10
5)をもつ化合物 0.85 f/を2、水
洗・1分間 3、漂白浴 5分間 スルファミン酸 100グ/を惧−ニ
トロペンゾールスルフォン 10 t/を酸ナトリ
ウム l−チオグリセリン 1−/lよう
化カリウム 6?/12.3
.6−ドリメチルキノクサ 22/lリン 4、水洗 1分間 5、定着浴 4分間 チオ硫酸アンモニウム 2509/をメタ重
硫酸カリウム 509/を水酸化カリ
ウム 85% 20ft/16、水洗 6
分間 全操作時間 20分間 乾燥後に得た透明陽画の試験焼付は元のままの色調模写
および正確な色再現において特に優秀であった。
トリウム塩 水酸化カリウム 85% 30り/lはう酸
169/lメタ重亜硫酸カリ
ウム 269/11−フェニル−3−ピ
ラゾリ 0.35f/lジノン ハイドロキノン 51/lベ
ンズトリアゾール 0.8t/を臭化
カリウム 29/を無水チ
オ硫酸ナトリウム 0.8tlt式(10
4)をもつ化合物 0.5tlt式(10
5)をもつ化合物 0.85 f/を2、水
洗・1分間 3、漂白浴 5分間 スルファミン酸 100グ/を惧−ニ
トロペンゾールスルフォン 10 t/を酸ナトリ
ウム l−チオグリセリン 1−/lよう
化カリウム 6?/12.3
.6−ドリメチルキノクサ 22/lリン 4、水洗 1分間 5、定着浴 4分間 チオ硫酸アンモニウム 2509/をメタ重
硫酸カリウム 509/を水酸化カリ
ウム 85% 20ft/16、水洗 6
分間 全操作時間 20分間 乾燥後に得た透明陽画の試験焼付は元のままの色調模写
および正確な色再現において特に優秀であった。
現像は2化合物(式(104)および(105)をもつ
)の添加によりより長時間が必要である。多数のカラー
引伸ばし操作後も現像液は透明の寸まであった、即ち鉄
金属の分離は起らなかった。
)の添加によりより長時間が必要である。多数のカラー
引伸ばし操作後も現像液は透明の寸まであった、即ち鉄
金属の分離は起らなかった。
式(104)をもつ化合物のみを加えた濃縮物から得た
現像液は充分長時間透明であるが、現像液性質は変化し
現像したカラー印画材料中で蔭における黄色ばかしが平
坦となり、それによってばかしのバランスがくずれた。
現像液は充分長時間透明であるが、現像液性質は変化し
現像したカラー印画材料中で蔭における黄色ばかしが平
坦となり、それによってばかしのバランスがくずれた。
この現像液を用いて操作したカラー印画は満足な黄色調
を与えない。
を与えない。
その上暗い画像部分は青味がかつて見えた。
式(105)をもつ化合物のみを含む濃縮液の希釈液は
使用後短時間で着色し金属銀を分離した。
使用後短時間で着色し金属銀を分離した。
式(104)と(105)をもつ化合物類の混合物の代
りに前記光に示したメルカプタンとブンテ地の他の組合
せを使用しても良好な結果が得られた。
りに前記光に示したメルカプタンとブンテ地の他の組合
せを使用しても良好な結果が得られた。
実施例2゜
実施例1の方法により銀カラー漂白用材料を処理したが
、但し式: をもつ化合物類を加えた濃縮物をつくり、これを希釈し
て銀現像浴とした。
、但し式: をもつ化合物類を加えた濃縮物をつくり、これを希釈し
て銀現像浴とした。
現像時間は30℃で2分とした。乾燥後良質画像をもつ
試験焼付を得た。現像液の反復使用(液リットル当り合
計0.1m”の材料)においても画像品質変化も液の汚
濁もないことが認められた。
試験焼付を得た。現像液の反復使用(液リットル当り合
計0.1m”の材料)においても画像品質変化も液の汚
濁もないことが認められた。
実施例3゜
次の配合の濃縮物をつくった。
炭酸カリウム 3(H’亜硫酸
ナトリウム 100グ臭化カリウム
31ハイドロキノン
4(1エチレンジアミン−4酢酸2
1−5?ナトリウム塩 水酸化カリウム 171これを2等
分し、前者(,4)に式(1,04)をもつ化合物0.
52を加え、後者(B)に2−アミノエタン−チオスル
フォン酸0.57および式(104)をもつ化合物0.
5rを加え−48= た。
ナトリウム 100グ臭化カリウム
31ハイドロキノン
4(1エチレンジアミン−4酢酸2
1−5?ナトリウム塩 水酸化カリウム 171これを2等
分し、前者(,4)に式(1,04)をもつ化合物0.
52を加え、後者(B)に2−アミノエタン−チオスル
フォン酸0.57および式(104)をもつ化合物0.
5rを加え−48= た。
かくして得られた濃縮物AとBに使用時に水を加えてそ
れぞれ500−にした。
れぞれ500−にした。
この両液を用いて黒白カメラフィルムを現像した。A部
分はしばらく透明であったが、間もなく調泥による濁り
が認められた。この液の現像性は前記実施例1における
とおり変化した。B部分はこれに反して透明のままで長
時間使用後もよい現像性を保持していた。
分はしばらく透明であったが、間もなく調泥による濁り
が認められた。この液の現像性は前記実施例1における
とおり変化した。B部分はこれに反して透明のままで長
時間使用後もよい現像性を保持していた。
実施例4゜
次の配合:
4−メチルアミノフェノール硫酸塩29ハイドロキノン
5f亜像酸ナトリウム
(無水) 100′?はう砂
37式(104)をもつ化合物
0.Fl−49= 式(105)をもつ化合物 0.85r
により濃縮物をつくった。使用直前に水を加えて全量を
1tとした。
5f亜像酸ナトリウム
(無水) 100′?はう砂
37式(104)をもつ化合物
0.Fl−49= 式(105)をもつ化合物 0.85r
により濃縮物をつくった。使用直前に水を加えて全量を
1tとした。
槽中のこの液を用いて黒白カメラフィルムを20℃で6
分間現像した。各36枚撮り135型のフィルム10重
金部を現像後に液は消耗しはじめ新液と取かえるか又は
新液を追加する必要を生じた。式(104)と(105
)をもつ化合物類の存在しない現像液とは反対にこの時
点まで調泥発生の痕跡も認められなかった。
分間現像した。各36枚撮り135型のフィルム10重
金部を現像後に液は消耗しはじめ新液と取かえるか又は
新液を追加する必要を生じた。式(104)と(105
)をもつ化合物類の存在しない現像液とは反対にこの時
点まで調泥発生の痕跡も認められなかった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ハロゲン化銀現像性化合物、水溶性ハロゲン化銀用
溶媒及び(a)有機チオール化合物又は互変異性可能な
チオン化合物及び(b)親水性基を持つブンテ塩を組合
せてなる有機いおう化合物類を含有する非水液状、ペー
スト状又は固体状物からなることを特徴とする現像濃縮
物。 2、該濃縮物を2〜25倍量に希釈した場合に各成分が
次の関係即ち ハロゲン化銀現像性化合物が0.1乃至20g/l、ハ
ロゲン化銀用溶媒が0.1乃至200g/l、成分(a
):(b)のモル比が5:1乃至1:100、成分(a
)と(b)の合計が0.05乃至10g/lである関係
を満足することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の現像濃縮物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH347878A CH641281A5 (de) | 1978-03-31 | 1978-03-31 | Organische schwefelverbindungen enthaltende photographische entwicklerloesungen. |
CH3478/78-6 | 1978-03-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62215268A true JPS62215268A (ja) | 1987-09-21 |
JPH0126048B2 JPH0126048B2 (ja) | 1989-05-22 |
Family
ID=4256835
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3633779A Granted JPS54133331A (en) | 1978-03-31 | 1979-03-29 | Method of preventing dark color and sludge from occurring in photographic developer |
JP62005198A Granted JPS62229143A (ja) | 1978-03-31 | 1987-01-14 | 写真材料の現像方法 |
JP62005199A Granted JPS62215268A (ja) | 1978-03-31 | 1987-01-14 | 濃縮物 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3633779A Granted JPS54133331A (en) | 1978-03-31 | 1979-03-29 | Method of preventing dark color and sludge from occurring in photographic developer |
JP62005198A Granted JPS62229143A (ja) | 1978-03-31 | 1987-01-14 | 写真材料の現像方法 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
JP (3) | JPS54133331A (ja) |
AU (1) | AU527404B2 (ja) |
BE (1) | BE875173A (ja) |
CA (1) | CA1152800A (ja) |
CH (1) | CH641281A5 (ja) |
DE (1) | DE2912501A1 (ja) |
ES (1) | ES479092A1 (ja) |
FR (1) | FR2421407B1 (ja) |
GB (1) | GB2029037B (ja) |
ZA (1) | ZA791530B (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH641281A5 (de) * | 1978-03-31 | 1984-02-15 | Ciba Geigy Ag | Organische schwefelverbindungen enthaltende photographische entwicklerloesungen. |
JP2876078B2 (ja) * | 1989-07-20 | 1999-03-31 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀感光材料の現像処理方法 |
JPH0355541A (ja) * | 1989-07-25 | 1991-03-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀感光材料の現像処理方法 |
JPH0429135A (ja) * | 1990-05-24 | 1992-01-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 現像処理剤組成物 |
EP1061414A1 (en) * | 1999-06-14 | 2000-12-20 | Agfa-Gevaert N.V. | Developer composition for use in the processing of light-sensitive silver halide photographic materials |
EP1061413A1 (en) * | 1999-06-14 | 2000-12-20 | AGFA-GEVAERT naamloze vennootschap | Processing method of light-sensitive silver halide photographic materials showing less tendency to sludge formation. |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1157173A (en) * | 1967-05-08 | 1969-07-02 | Agfa Gevaert Nv | Sulphonated S-Alkyl and S-Aralkyl Thiosulphates |
AU456094B2 (en) * | 1971-05-15 | 1974-12-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | New development composition for radiographic film |
JPS5037436A (ja) * | 1973-08-03 | 1975-04-08 | ||
CH595650A5 (ja) * | 1975-09-11 | 1978-02-15 | Ciba Geigy Ag | |
CH641281A5 (de) * | 1978-03-31 | 1984-02-15 | Ciba Geigy Ag | Organische schwefelverbindungen enthaltende photographische entwicklerloesungen. |
-
1978
- 1978-03-31 CH CH347878A patent/CH641281A5/de not_active IP Right Cessation
-
1979
- 1979-03-26 GB GB7910518A patent/GB2029037B/en not_active Expired
- 1979-03-26 CA CA000324106A patent/CA1152800A/en not_active Expired
- 1979-03-28 FR FR7907847A patent/FR2421407B1/fr not_active Expired
- 1979-03-29 BE BE0/194280A patent/BE875173A/xx not_active IP Right Cessation
- 1979-03-29 JP JP3633779A patent/JPS54133331A/ja active Granted
- 1979-03-29 DE DE19792912501 patent/DE2912501A1/de not_active Withdrawn
- 1979-03-30 ES ES479092A patent/ES479092A1/es not_active Expired
- 1979-03-30 AU AU45630/79A patent/AU527404B2/en not_active Ceased
- 1979-03-30 ZA ZA791530A patent/ZA791530B/xx unknown
-
1987
- 1987-01-14 JP JP62005198A patent/JPS62229143A/ja active Granted
- 1987-01-14 JP JP62005199A patent/JPS62215268A/ja active Granted
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Publication number | Publication date |
---|---|
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AU527404B2 (en) | 1983-03-03 |
JPS6228459B2 (ja) | 1987-06-20 |
AU4563079A (en) | 1979-10-04 |
BE875173A (fr) | 1979-10-01 |
GB2029037B (en) | 1982-06-16 |
CA1152800A (en) | 1983-08-30 |
JPS62229143A (ja) | 1987-10-07 |
JPS54133331A (en) | 1979-10-17 |
GB2029037A (en) | 1980-03-12 |
FR2421407A1 (fr) | 1979-10-26 |
DE2912501A1 (de) | 1979-10-11 |
CH641281A5 (de) | 1984-02-15 |
JPH0126048B2 (ja) | 1989-05-22 |
FR2421407B1 (fr) | 1985-06-28 |
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