JPS62201441A - 色再現性および退色バランスに優れたハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

［産業上の利用分野］ 本発明はハロゲン化銀写真感光材料に関し、更に詳しく
は色再現性に優れかつ光退色バランスの改善されたハロ
ゲン化銀写真感光材料に関する。 ［発明の背景］ 従来から、ハロゲン化銀写真感光材料を画像露光し、発
色現像することにより発色現像主薬の酸化体と発色剤と
がカップリング反応を行って、例えばインドフェノール
、インドアニリン、インダミン、アゾメチン、フェノキ
サジン、フェナジンおよびそれらに類似する色素が生成
し、色画像が形成されることは良く知られているところ
である。 このような写真方式においては通常減色法による色再現
方法が採られ、青感性、緑感性ならびに赤感性の感光性
ハロゲン化銀乳剤層に、それぞれ余色関係にある発色剤
、すなわちイエロー、マゼンタおよびシアンに発色する
カプラーを含有せしめたハロゲン化銀カラー写真感光材
料が使用される。 上記のイエロー色画像を形成させるために用いられるカ
プラーとしては、例えばアシルアセトアニリド系カプラ
ーが挙げられ、またマゼンタ色画像形成用のカプラーと
しては例えばピラゾロン、ピラゾロベンズイミダゾール
、ピラゾロトリアゾールまたはインダシロン系カプラー
が知られており、さらにシアン色画像形成用のカプラー
としては、例えばフェノールまたはナフトール系カプラ
ーが一般的に用いられる。 マゼンタ色素を形成するために広く使用されているカプ
ラーとしては、例えば１．２−ピラゾロ−５−オン類が
ある。この１．２−ピラゾロ−５−オン類のマゼンタカ
プラーから形成される色素は５５０ｎｍ付近の主吸収以
外に、４３０ｎｍ付近の副吸収を有していることが大き
な問題であり、これを解決するために種々の研究がなさ
れてきた。 １．２−ピラゾロ−５−オン類の３位にアニリノ基を有
するマぜンタカブラーは上記副吸収が小さく、特にプリ
ント用カラー画像を得るために有用である。これらの技
術については、例えば米国特許第２．３４３．７０３号
、英国特許第１，０５９，９９４号等公報に記載されて
いる。 上記マゼンタカプラーの４３０ｎｍ付近の副吸収を更に
減少させるための手段として、例えば英国特許第１．０
４７．６１２号に記載されているピラゾロベンズイミダ
ゾール類、米国特許第３．７７０．４４７号に記載のイ
ンダシロン類、また同第３，７２５，０６７号、英国特
許第１．２５２，４１８号、同第１，３３４，５１５号
、特開昭５９−１６２５４８号、同５９−１７１９５６
号等に記載のピラゾロトリアゾール類等のマゼンタカプ
ラーが提案されている。これらのカプラーから形成され
る色素は、４３０ｎａ＋付近の副吸収が前記の３位にア
ニリノ基を有する１、２−ピラゾロ−５−オン類から形
成される色素に比べて著しく小さく色再現上好ましく、
さらに熱、湿度に対する未発色部のＹ−スティンの発生
も極めて小さく好ましいという利　　゛点を有するもの
である。 しかしながら、前記ピラゾロトリアゾール類等のマゼン
タカプラーから形成されるアゾメチン色素画像の光に対
する堅牢性は慨して著しく低い。 この欠点は感光材料、特に直接観賞用の感光材料におい
て必要な性能である［画像の記録・保存性」を損なうこ
とにつながる。殊に近年、写真の保存状態も多様化して
きており、単なる保存からディスプレイ的な要素が強く
なっているためこの問題は更に深刻であり、大幅な改良
が強く望まれている。 上記の光堅牢性を向上させる技術としては、例えば特開
昭５９−１２５７３２号公報には、１Ｆ（−ピラゾロ−
［３，２−Ｃ１−５−トリアゾール型マゼンタカプラー
にフェノール系またはフェニルエーテル系化合物を併用
する方法が開示されているが、その効果の大きさは未だ
不十分であった。 また、前記のマゼンタカプラーの構造を変化させること
で光堅牢性を改良する技術としては、例えば特開昭６０
−４３６５９号公報には、１日−ビランＯ［１，５−ｂ
　］−ピラゾール系化合物をマゼンタカプラーとして用
いることが提案されているが、形成される色素の分光吸
収特性上、例えば吸収極大が長波化してしまうという問
題が生じてしまう。 又、通常のカラー写真感光材料に用いられるフェノール
系シアンカプラーは、光に対しては堅牢であるが熱及び
湿度に対する堅牢性は低いものが多い。 上記暗退色性を改良したシアンカプラーとして、フェノ
ールの２位および５位がアシルアミノ基で置換された２
、５−ジアシルアミノフェノール系シアンカプラーが知
られており、例えば米国特許第２，８９５，８２６号明
ｍｍ、特開昭５０−１１２０３８号、同５３−１０９６
３０号ｄらびに同５５−１６３５３７Ｍ各公報に記載さ
れている。しかし、これらの２．５−ジアシルアミノフ
ェノール られるシアン色素画像の暗退色性は著しく改良されてい
るものの、光堅牢性において著しく劣るものが多く、後
で述べるニュートラル部の光堅牢性を高レベルに維持す
ることはできない。 更にプリント用写真材料等における光堅牢性は、一般的
には画像を形成する色素単色の光堅牢性で表示される。 実際のプリントにおいては単色部の光堅牢性も重要であ
るがニュートラル部に代表される如き２色素以上の合成
色部における夫々の色素の光堅牢性が更に重要となって
くる。ニュート上がってしまい、退色が大きいと判断さ
れてしまう。前記単色部およびニュートラル部での夫々
の色素の光堅牢性が異なること並びに各色素の光堅牢性
が異なることはよく知られた事実である。このため光堅
牢性の改良には、形成される色素の光堅牢性を改良する
ことと、ニュートラル部の各色素の退色速度を合わせる
、すなわち退色バランスを改善することの２つのアプロ
ーチを同時に行なう必要がある。 以上の如く、前記ピラゾロトリアゾールで代表されるア
ゾール類のマゼンタカプラーを用いた場合の光堅牢性は
、単色部のみならずニュートラル部においても、プリン
ト用写真材料に応用されるレベルには未だ改良されてい
ないのが現状であり、開発研究が強く望まれていた。 ［発明の目的］ 本発明の第１の目的は色再現性に優れ、かつ光退色バラ
ンスの改良されたハロゲン化銀写真感光材料を提供する
ことにある。 本発明の第２の目的は色再現性に優れ且つ、光堅牢性が
改良されたハロゲン化銀写真感光材料を提供することに
ある。 本発明の第３の目的は、ニュートラル部における光退色
バランスが改良されたハロゲン化銀写真感光材料を提供
することにある。 本発明における他の目的は以下の記載より明らかとなろ
う。 ［発明の構成１ 本発明者らは上記の現状に鑑み鋭意研究の結果、本発明
の上記目的は、支持体上に少なくとも、下記一般式［Ｉ
］で示されるマゼンタカプラーを含有するハロゲン化銀
乳剤層、並びに下記一般式［ＩＩ］で示されるシアンカ
プラー及び下記一般式［ＩＩＩ］で示される化合物を油
滴として含有するハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン
化銀写真感光材料により達成された。 一般式［エコ ［式中Ｚは、含窒素複素環を形成するに必要な非金属原
子群を表わし、該Ｚにより形成される環は置換基を有し
てもよい。Ｘは水素原子または発色現像主薬の酸化体と
の反応により離脱しつる置換基を表わす。またＲは水素
原子または置換基を゛表わす。］ 一般式［ＩＩ］ ムＩ ［式中、Ｒ＋＋はアルキル基またはアリールＵを表わす
。ＲＩ２はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基
または複素環基を表わす。ＲＩ３は水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基またはアルコキシ基を表わす。またＲ
＋３はＲ＋＋と結合して環を形成しても良い。Ｚｌは水
素原子または発色現像主薬の酸化体との反応により離脱
可能な塁を表わす。］ 一般式［１］ 〜６員環を形成するのに必要な単なる結合手または原子
群を表わす。Ｒ３１％Ｒ３２、Ｒ３３およびＲ３４はそ
れぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロア
ルキル ル ルバモイル基、アシル基またはシアノ基を表わす。 Ｒ３１，Ｒ３２、Ｒ３３およびＲ３４の中から選ばれる
任意の２つが結合して環を形成してもよく、Ｒ３１、Ｒ
　３２、Ｒ３３およびＲ３４の中から選ばれる任意の少
なくとも１つがＱで表わされる原子群と結合して環を形
成してもよい。］ ・Ｊ　　　　　［発明の具体的構成］ 本発明のハロゲン化銀写真感光材料においては、以下に
詳述する一般式［１］で示されるマゼンタカプラーを含
有するハロゲン化銀乳剤層並びに、一般式［Ｒ１で示さ
れるシアンカプラーおよび一般式［ＩＩ［］で示される
化合物を油滴として含有するハロゲン化銀乳剤層が支持
体上に塗布されている。 以下余白 本発明に係る前記一般式（１） 一般式（１） で表されるマゼンタカプラーに於いて、Ｚは含窒素複素
環を形成するに必要な非金属原子群を表し、該Ｚにより
形成される環は置換基を有してもよい。 Ｘは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱しうる置換基を表す。 またＲは水素原子または置換基を表す。 前記Ｒの表すｒａ＃！Ａ基としては、例えば／Ｘ’ａ　
５’ン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニ
ル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基
、ヘテロ環基、アシル基、スルホニル基、スルフィニル
基、ホスホニル基、カルバモイル基、スル７７モイル基
、シアノ基、スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残
基、アルコキシ基、ア１７　＋ルオキシ基、ヘテロ環オ
キシ基、シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオ
キシ基、アミ７基、アシルアミ７基、スルホンアミド基
、イミド基、ウレイド基、スル７アモイルアミ７基、ア
ルコキシカルボニルアミ７基、７リールオキシカルポニ
ルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、フルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテ
ロ環チオ基が挙げられる。 ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子が挙
げられ、特に塩素原子が好ましい。 Ｒ″Ｃ表されるフルキル基としては、炭素数１〜３２の
もの、アルケニル基、アルキニル基としては炭素数２〜
３２のもの、シクロアルキル基、シクロアルケニル基と
しては炭素数３〜１２、特に５〜７のものが好ましく、
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基は直鎖でも分
岐でもよい。 また、これらアルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、ジクロフルキル基、シクロアルケニル基は置換基〔例
えばアリール、シフ）、ハロゲン原子、ヘテロ環、ジク
ロフルキル、シクロアルケニル、スピロ化合物残基、有
情炭化水素化合物残基の他、アシル、カルボキシ、カル
バモイル、アルコキンカルボニル、アリールオキシカル
ボニルの如くカルボニル基を介して置換するもの、更に
はへテロ原子を介して置換するもの（具体的にはヒドロ
キシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロ環オキシ、
シロキシ、アシルオキシ、カルバモイルオキシ等の酸素
原子を介して置換するもの、ニトロ、アミノ（ノアルキ
ルアミ７等を含む）、スルファモイルアミノ、アルコキ
シカルボニルアミノ、７リールオキシカルポニル７ミノ
、アシルアミノ、スルホンアミド、イミド、ウレイド等
の窒素原子を介して置換するもの、アルキルチオ、アリ
ールチオ、ヘテロ環チオ、スルホニル、スルフィニル、
スルフアモイル等の硫黄原子を介して置換するもの、ホ
スホニル等の燐原子を介して置換するもの等１〕を有し
ていてもよい。 具体的には例えばメチル基、エチル基、インプロピル基
、ｔ−ブチル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、１
−へキシルノニル基、１．１’−ジクロフルキル基、２
−クロル’−ｔ−プ＋ル基、トＩＪフルオロメチル基、
１−エトキシトリデシル基、１−ノドキシイソプロビル
基、メタンスルホニルエチル！、２．４−ノーｔ−７ミ
ルフエノキシメチル基、アニリノ基、１−フェニルイソ
プロピル基、３−ＩＩ＋−ブタンスルホンアミ／フェノ
キシプロピル基、３−４’−（α−（４”（ｐ−ヒドロ
キシベンゼンスルホニル）フェノキシ〕ドデカノイルア
ミノ）フェニルプロピル基、３−［４’−（ｆｆ−（２
”、４”−ノーｔ−７ミルフエノキシ）ブタンアミＦ）
フェニル）−プロピルｉ、４−（α−（０−クロルフェ
ノキシ）テトラデカンアミドフェノキシフプロピル基、
アリル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙
げられる。 Ｒで表される７リール基としてはフェニル基が好ましく
、置換基（例えば、フルキル基、アルコキシ基、アシル
７ミ７基等）を有していてもよい。 具体的には、フェニル基、４−ｔ−ブチル７エ二ル基、
２，４−ノーし一７ミルフエニル基、４−テトラデカン
アミドフェニル基、ヘキサデシロキシフェニル基、４′
−〔α−（４”−ｔ−ブチルフェノキシ）テトラデカン
アミドフェニル基等が挙げられる。 Ｒで表されるヘテロ環基としては５〜７只のものが好ま
しく、置換されていてもよく、又縮合していてもよい、
具体的には２−７リル基、２−チェニル基、２−ピリミ
ジニル基、２−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。 Ｒで表される７シル基としては、例えばアセチル基、フ
ェニル７セチル基、ドデカノイル基、α−２，４−ジ−
ｔ−７ミルフエノキンプタノイル基等のフルキルカルボ
ニル基、ベンゾイル基、３−ペンタデシルオキシベンゾ
イル ンゾイル基等の７リールカルボニル基等が挙げられる。 Ｒで表されるスルホニル基としてはメチルスルホニル基
、ドデシルスルホニル基の如きアルキルスルホニル基、
ベンゼンスルホニル基、ｐ−）ルエンスルホニル基の如
きアリールスルホニル基等が挙げられる。 Ｒで表されるスルフィニル基としては、エチルスルフィ
ニル基、オクチルスルフィニル基、３−フェノキシブチ
ルスルフィニル基の如きアルキルスルフィニル基、フェ
ニルスルフィニル基、鶴−ペンタデシルフェニルスルフ
ィニル基の如％　７１７−ルスルフイニル基等が挙げら
れる。 Ｒで表されるホスホニル基としてはブチルオクチルホス
ホニル基の如きアルキルホスホニル基、オクチルオキシ
ホスホニル基の如きフェニルホスホニル基、フェノキシ
ホスホニル基の如きアリールオキシホスホニル基、フェ
ニルホスホニル基の如きアリールホスホニル基等が挙げ
られる。 Ｒ″ｔ’表されるカルバモイル基は、フルキル基、了り
−ル基（好ましくはフェニル基）等が置換していてもよ
く、例えばＮ−メチルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−クプチ
ルカルバモイル基、Ｎ−（２−ペンタデシルオクチルエ
チル）カルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルカル
バモイル基、Ｎ−１３−（２，４−シーｔ−７ミルフエ
ノキシ）プロピル）カルバモイル基等が挙げられる。 以下余白 Ｒで表されるスル７７モイル基はアルキル基、アリール
基（好ましくはフェニル基）等が置換していてもよく、
例えばＮ−プロピルスルファモイル基、Ｎ、Ｎ−ノエチ
ルスル７Ｔモイル基、Ｎ−（２−ペンタデシルオキシエ
チル）スル７７モイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルス
ルファモイル基、Ｎ−フェニルスルファモイル基等が挙
げられる。 Ｒで表されるスピロ化合物残基としでは例えばスピロ［
３，３］ヘプタン−１−イル等が挙げられる。 Ｒで表される有情炭化化合物残基としては例えばビシク
ロ［２，２，１３へブタン−１−イル、トリシクロ［３
，３，１，１ゴフ］デカン−１−イル、７．７−ツメチ
ルービシクロ［２，２，１］へブタン−１−イル等が挙
げられる。 Ｒで表されるアルコキシ基は、更に前記アルキル基への
置換基として挙げたものを置換していてもよく、例えば
ノドキシ基、プロポキシ基、２−エトキシエトキシ基、
ペンタデンルオキシ基、２−ドデシルオキンエトキシ基
、７エネチルオキシエトキシ基等が挙げられる。 Ｒで表されるアリールオキシ基としては７エ二ルオキシ
が好ましく、７リール核は更に前記アリール基への置換
基又は原子として挙げたもので置換されていてもよく、
例えばフェノキシ基、ｐ−ｔ−プチルフェノキシ基、ｍ
−ベンタデンルフェノキシ基等が挙げられる。 Ｒで表されるヘテロ環オキシ基としては５〜７貝のへテ
ロ環を有するものが好ましく該ヘテロ環は更に置換基を
有していでもよく、例えば、３゜４．５．６−テトラヒ
ドロピラニル−２−オキシ基、１−フェニルテトラゾー
ル−５−オキシ基が挙げられる。 Ｒで表されるシロキシ基は、更にフルキル基等で置換さ
れていてもよく、例えば、トリメチルシロキシ基、トリ
エチルシロキシ基、ツメチルブチルシロキシ基等が挙げ
られる。 Ｒで表されるアシルオキシ基としては、例えばアルキル
カルボニルオキシ基、アリール力、ルポニルオキシ基等
が挙げられ、更に置換基を有していてもよく、具体的に
は７セチルオキシ基、α−クロル７セチルオキシ基、ベ
ンゾイルオキシ基等が挙げられる。 Ｒで表されるカルバモイルオキシ基は、アルキル基、ア
リール基等が置換していてもよ（、例えばＮ−エチルカ
ルバモイルオキシ基、Ｎ、Ｎ−ノエチル力ルバモイルオ
キシ基、Ｎ７ｚニルカルバモイルオキシ基等が挙げられ
る。 Ｒで表されるアミ７基はアルキル基、７リール基（好ま
しくはフェニル基）等で置換されていてもよく、例えば
エチルアミノ基、アニリノ基、ｆｆ１−クロル７ニリ７
基、３−ペンタデシルオキシ力ルポニルアニリ７基、２
−クロル−５−ヘキサデカンアミドアニリ７基等が挙げ
られる。 Ｒで表されるアシルアミ７基としては、アルキルカルボ
ニル７ミ７基、アリールカルボニルアミ／基（Ｕ＊しく
はフェニルカルボニルアミ７基）等が挙げられ、更に置
換基を有してもよ（具体的にはアセトアミド基、ａ−エ
チルプロパンアミド基、Ｎ−フェニルアセトアミド基、
ドデカンアミド基、２，４−ノーｔ−アミルフェノキシ
アセトアミド基、α−３−ｔ−ブチル４−ヒドロキシ７
エ／キシブタンアミド基等が挙げられる。 Ｒ″ｃｈ衰されるスルホンアミド基としては、アルキル
スルホニルアミノ基、了り一ルスルホニルアミ７基等が
挙げられ、更に置換基を有してもよい。 具体的にはメチルスルホニルアミノ基、ベンタデンルス
ルホニルアミ７基、ベンゼンスルホンアミド基、ｐ−ト
ルエンスルホンアミド基、２−メトキシ−５−Ｌ−７ミ
ルベンゼンスルホン７ミド基等が挙げられる。 Ｒ″Ｃｈ表されるイミド基は、開鎖状のものでも、環状
のものでもよく、置換基を有していてもよく、例えばコ
ハク酸イミド基、３−ヘプタデンルコハク酸イミド基、
７タルイミド基、グルタルイミド基等が挙げられる。 Ｒで表されるウレイド基は、フルキル基、７リール基（
好ましくはフェニル基）等により置換されていてもよく
、例えばＮ−エチルウレイド基、Ｎ−メチル−Ｎ−デシ
ルウレイド基、Ｎ−フェニルウレイド基、Ｎ−ｐ−）リ
ルウレイド基等が挙げられる。 Ｒで表されるスルフＴモイルアミ７基は、アルキル基、
アリール基（好ましくはフェニル基）等で置換されてい
てもよく、例えばＮ、Ｎ−ノブチルスルフＴモイルアミ
７基、Ｎ−メチルスル７アモイルアミ７基、Ｎ−フェニ
ルスル７アモイルアミ７基等が挙げられる。 Ｒで表されるアルコキシカルボニルアミ７基としては、
更に置換基を有していてもよく、例えばメトキシカルボ
ニルアミ７基、メトキシエトキシカルボニルアミ７基、
オクタデシルオキシカルボニルアミ７基等が挙げられる
。 Ｒで表されるアリールオキシカルボニルアミ７基は、置
換基を有しでいてもよく、例えばフェノキシカルボニル
アミノ基、４−メチルフェノキシカルボニルアミ７基が
挙げられる。 Ｒで表されるアルコキシカルボニル基は更に置換基を有
していてもよく、例えばメトキシカルボニル基、プチル
オキンカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、オ
クタデシルオキシカルボニル基、エトキシメトキシカル
ボニルオキシ基、ベンシルオキシカルボニル基等が挙げ
られる。 Ｒで表されろ７リールオキシカルボニル基は更に置換基
を有していてもよく、例えばフェノキシカルボニル基、
ｐ−クロル７エ／キシカルボニル基、ｌ−ペンタデンル
オキシフェノキシカルボニル基等が挙げられる。 Ｒで表されろフル斗ルチオ基は、更に置換基を有してい
てもよく、例えば、エチルチオ基、ドデシルチオ基、オ
クタデシルチオ基、７エネチルチオ基、３−フェノキシ
プロピルチオ基が挙げられる。 Ｒで表されるアリールチオ基はフェニルチオ基が好まし
く更に置換基を有してもよく、例えばフェニルチオ基、
ｐ−メトキシフェニルチオ基、２−を−オクチルフェニ
ルチオ基、３−オクタデンル７エエルチオ基、２−カル
ボキンフェニルチオ基、ｐ−７セト７ミノフエニルチオ
基等が挙げられる。 Ｒで表されるヘテロ環チオ基としては、５〜７貝のへテ
ロ環チオ基が好ましく、更に縮合環を有してもよく、又
置換基を有していてもよい０例えば２−ピリノルチオ基
、２−ベンゾチアゾリルチオ基、２．４−ノフェノキシ
ー１．３．５−　）リアゾール−６−チオ基が挙げられ
る。 Ｘの表す発色現像主薬の酸化体との反応により離脱しう
る置換基としては、例えばへロデン原子（塩素原子、臭
素原子、７ツソ原子等）の他炭素原子、酸素原子、硫黄
原子または窒素原子を介して置換する基が挙げられる。 炭素原子を介して置換する基としては、カルボキシル基
の他例えば一般式 （Ｒ１′は前記Ｒと同義であり、Ｚ′は前記Ｚと同義で
あり、Ｒ２′及びＲ３’は水素原子、アリール基、アル
キル基又はヘテロ環基を表す、）で示される基、ヒドロ
キシメチル基、トＩＪフェニルメチル基が挙げられる。 酸素原子を介して置換する基としては例えばアルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、７シルオキ
シ基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルオ
キサリルオキシ基、アルコキシオキサリルオキシ基が挙
げられる。 該アルコキシ基は更に置換基を有してもよ（、例えば、
エトキン基、２−７エ／キシエトキシ基、２−シア／エ
トキシ基、７エネチルオキシ基、ｐ−クロルベンノルオ
キシ基等が挙げられる。 該７リールオキシ基としては、フェノキシ基が好ましく
、該アリール基は、更に置換基を有していてもよい、具
体的にはフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、３−
ドデシルフェノキン基、４−メタンスルホンアミドフェ
ノキシ基、４−［ａ−（３′−ペンタデシル７エ／キシ
）ブタンアミド］フェノキシ基、ヘキシデシルカルバモ
イルメトキシ基、４−シアノフェノキシ基、４−メタン
スルホニルフェノキシ基、１−す７チルオキシ基、ｐ−
メトキシフェノキシ基等が挙げられる。 該ヘテロ環オキシ基としては、５〜７貝のへテロ環オキ
シ基が好ましく、縮合環であってもよく、又置換基を有
していてもよい、具体的には、１−フェニルテトラゾリ
ルオキシ基、２−ベンゾチアゾリルオキシ基等が挙げら
れる。 該アシルオキシ基としては、例えばアセトキシ基、ブタ
ノルオキシ基等のフルキルカルボニルオキシ基、シンナ
モイルオキシ基の如きアルケニルカルボニルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基の如き７リールカルボニルオキシ基
が挙げられる。 該スルホニルオキシ基としては、例えばブタンスルホニ
ルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基が挙げられる。 該アルコキシカルボニルオキシ基としては、例えばエト
キシカルボニルオキシ基、ベンノルオキシカルボニルオ
キシ基が挙げられる。 該アリールオキシカルボニル基としてはフェノキシカル
ボニルオキシ基等が挙げられる。 該アルキルオキサリルオキシ基としては、例えばメチル
オキサリルオキシ基が挙げられる。 該アルコキシオキサリルオキシ基としては、エトキシオ
キサリルオキシ基等が挙げられる。 硫黄原子を介して置換する基としては、例乏ばフルキル
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、フルキルオ
キシチオカルボニルチオ基が挙げられる。 該フルキルチオ基としては、ブチルチオ基、２−シアノ
エチルチオ基、７エネチルチオ基、ベンノルチオ基等が
挙げられる。 該アリールチオ基としてはフェニルチオ基、４−メタン
スルホンアミドフェニルチオ基、４−ドデシル７エネチ
ルチオ基、４−ノナフルオロベンクン７ミド７エ冬チル
チオ基、４−カルボキシフェニルチオ基、２−エトキシ
−５−ｔ−ブチルフェニルチオ基等が挙げられる。 該ヘテロ環チオ基としては、例えば１−７二二ルー１．
２．３．４−テトラゾリル−５−チオ基、２−ベンゾチ
アゾリルチオ基等が挙げられる。 該フルキルオキシチオカルボニルチオ基としては、ドデ
シルオキシチオカルボニルチオ基等が挙げられる。 えば一般式−Ｎ　　　で示されるものが挙げられアリー
ル基、ヘテロ環基、スルフ７モイル基、カルバモイル基
、アシル基、スルホニル基、７リールオキシカルポニル
基、アルコキシカルボニル基を表し、Ｒ１′とＲ，７は
結合してヘテロ環を形成してもよい、但しＲ、ＩとＲ％
’が共に水素原子であることはない。 該アルキル基は直鎖でも分岐でもよく、好ましくは、炭
素数１〜２２のものである。又、アルキル基は、置換基
を有していてもよく、置換基としては例えばアリール基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、フルキルチオ基、
了り−ルチオ基、アルキルアミ７基、アリール７ミノ基
、アシルアミ７基、スルホン７ミド基、イミノ基、アシ
ル基、フルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
カルバモイル基、スル７７モイル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルオキシ
カルボニルアミ７基、アリールオキシカルボニルアミ７
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ハロ
ゲン原子が挙げられる。 該アルキル基の具体的なものとしては、例えばエチル基
、オキチル基、２−エチルヘキシル基、２−クロルエチ
ル基が挙げられる。 Ｒ４′又はＲ，ｚで表されるアリール基としては、炭素
数６〜３２、待にフェニル基、ナフチル基が好ましく、
該７１７−ル基は、置換基を有してもよ（置換基として
は上記Ｒ４′又はＲ５’で表されるアルキル基への置換
基として挙げたもの及びアルキル基が挙げられる。該ア
リール基として具体的なものとしては、例えばフェニル
基、１−す７チル基、４−メチルスルホニルフェニル基
がｉＰ１デられる。 Ｒ４’又はＲ５’で表されるヘテロ環基としては５〜６
貝のものが好ましく、縮合環であってもよ（、置換基を
有してもよい、具体例としては、２−フリル基、２−キ
ノリル基、２−ピリミジル基、２−ベンゾチアゾリル基
、２−ピリジル基等が挙げられる。 Ｒ４’又はＲ５’で表されるスルファモイル基としては
、Ｎ−フルキルスルファモイル基、Ｎ、Ｎ−ジアルキル
スルファモイル基、Ｎ−７リールスル７Ｔモイル基、Ｎ
、Ｎ−ノアリールスル７アモイル基等が挙げられ、これ
らのアルキル基及びアリール基は前記アルキル基及びア
リール基について挙げた置換基を有しでていもよい。ス
ルファモイル基の具体例としては例えばＮ、Ｎ−ノエチ
ルスル７７モイル基、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ
−ドデシルスルファモイル基、Ｎ−ｐ−）リルスル７Ｔ
モイル基が挙げられる。 Ｒ４’又はＲ，７で表されるカルバモイル基としては、
Ｎ−フルキルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ノアリールカル
バモイル基、Ｎ−７リールカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ノ
アリールカルバモイル基等が挙げられ、これらのアルキ
ル基及びアリール基は前記アルキル基及びアリール基に
ついて挙げた置換基を有していてもよい、カルバモイル
基の具体例としでは例えばＮ、Ｎ−ノエチル力ルバモイ
ル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−ドデシルカルバ
モイルＭ、Ｎ−ｐ−シアノフェニルカルバモイル基、Ｎ
−ｐ−）リルカルバモイル基が挙げられる。 Ｒ、を又はＲ５’で表されるアシル基としては、例えば
フルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ
環カルボニル基が挙げられ、該アルキル基、該アリール
基、該ヘテロ環基は置換基を有していてもよい、アシル
基として具体的なものとしては、例えばヘキサフルオロ
ブタ／イル基、２１３．４．５．６−ペンタ７ルオロベ
ンゾイルセチル基、ベンゾイル基、ナフトニル基、２−
７リルカルボニル基等が挙げられる。 Ｒ４’又はＲＳ’で表されるスルホニル基としては、ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環
スルホニル基が挙げられ、置換基を有してもよく、具体
的なものとしては例えばエタンスルホニル基、ベンゼン
スルホニル基、オクタンスルホニル基、ナフタレンスル
ホニル基、ｐ−ｐフルベンゼンスルホニル基等が挙げら
れる。 Ｒ　４’又はＲ５’で表されるアリールオキシカルボニ
ル基は、前記７リール基について挙げたものを置換基と
して有してもよく、具体的にはフェノキシカルボニル基
等が挙げられる。 Ｒ４’又はＲ５’で表されるアルコキシカルボニル基は
、前記アルキル基について挙げた置換基を有してもよく
、具体的なものとしてはメトキシカルボニル基、ドデシ
ルオキシカルボニル基、ベンノルオキシカルボニル基等
が挙げられる。 Ｒ　４’及びＲＳ’が結合して形成するヘテロ環として
は５〜６真のものが好ましく、飽和でも、不飽和でもよ
く、又、芳香族性を有していても、いなくてもよく、又
、縮合環でもよい。該ヘテロ環としては例えばＮ−７タ
ルイミド基、Ｎ−コハク酸イミド基、４−Ｎ−ウラゾリ
ル基、１−Ｎ−ヒダントイニルｉ、３−Ｎ−２．４−ジ
オキンオキサシリノニル基、２−Ｎ−１．１−ジオキソ
−３−（２Ｈ）−オキソ−１．２ーベンズチアゾリル基
、１−ピロリル基、１−ピロリノニル基、１−ピラゾリ
ル基、１−ピラゾリノニル基、１−ビベリジニル基、１
−ピロリニル基、１−イミダゾリル基、１−イミグゾリ
ニル基、１−インドリル基、１−イソインドリニル基、
２−イソインドリル基、２−インインドリニル基、ニー
ベンゾトリ７ゾリル基、１−ペンシイミグゾリル基、１
−（１，２，４−トリアゾリル）基、１−（１，２，３
−）す７ゾリル）基、１−（１，２，３，４−テトラゾ
リル）基、Ｎ−モルホリニルｉ、１，２，３．４−テト
ラヒドロキノリル基、２−オキソ−１−ピロリノニル基
、２−ＩＨ−ピリドン基、７タラノオン基、２−オキソ
−１−ピペリジニル基等が挙げられ、これらへテロ環基
はアルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリー
ルオキシ基、アンル基、スルホニル基、アルキルアミノ
基、了り一ルアミ７基、アシルアミノ基、スルホン７ミ
７基、カルバモイル基、スルフ７モイル基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、ウレイド基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、イミド基、ニト
ロ基、シアノ基、カルボキシル基、ハロゲン原子等によ
り置換されていてもよい。 またＺ又はＺ′により形成される含窒素複素環としては
、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環また
はテトラゾール環等が挙げられ、前記環が有してもよい
置換基としては前記Ｒについて述べたものが挙げられる
。 又、一般式（Ｉ）及び後述の一般式（Ｔ−１）〜（Ｉ−
７）に於ける複葉環上の置換基（例えば、Ｒ９Ｒ１−Ｒ
，）が 部分（ここにＲ”、Ｘ及びＺ　ＩＩは一般式（１）にお
けるＲ　、Ｘ　、Ｚと同義である。）を有する場合、所
謂ビス体型カプラーを形成するが勿論本発明に包含され
る。又、　Ｚ　、　Ｚ　Ｊ、　Ｚ　ＩＩ及び後述のＺ、
により形成される環は、更に他のＩｌ！（例えば５〜７
貝のジクロフルケン）が縮合していてもよい０例えば一
般式（１−４３においてはＲｓとＲ１が、一般式（Ｔ−
５）においてはＲ１とＲ１とが、互いに結合して環（例
えば５〜７貝のシクロアルケン、ベンゼン）を形成して
もよい。 以下余白 一般式

【１〕で表されるものは更に具体的には例えば下
記一般式［ｌ−１３〜ＣＩ−ｇ］により表される。 一般式（Ｉ−１） 一般式（Ｉ−２３ 一般式（Ｉ−３） Ｎ　−Ｎ　−Ｎ）Ｉ 一般式〔Ｉ−午〕 一般式（Ｉ−５） 一般式（Ｉ−Ｇ） 前記一般式Ｃｌ−１）〜（１−（１）に於いてＲ，−Ｒ
，及びＸは前記Ｒ及びＸと同義である。 又、一般式（Ｉ）の中でも好ましいのは、下記一般式Ｃ
ｌ−７３で表されるものである。 一般式（Ｉ−７） 式中Ｒ、、Ｘ及びＺｌは一般式〔１〕におけるＲ。 Ｘ及１ｚと同義である。 前記一般式（ｒ−１）〜（Ｉ−Ｇ〕で表されるマゼンタ
カプラーの中で特に好ましいのものは一般式ＣＩ−ｆ）
で表されるマゼンタカプラーである。 又、一般式（１）〜［Ｉ−７］における複素環上の置換
基についていえば、一般式（１３におｔｌてはＲが、ま
た一般式（Ｅ−１）〜（Ｉ−７）においてはＲ７が下記
条件１を満足する場合が好ましく更に好ましいのは下記
条件１及び２を満足する場合であり、特に好ましいのは
下記条件１，２及Ｖ３−を満足する場合である。 条件１　複素環に直結する根元原子が炭素原子である。 条件２　該炭素原子に水素原子が１個だけ結合しでいる
、または全く結合していない。 条件３　該炭素原子と隣接原子との間の結合が全て単結
合である。 前記複素環上の置換基Ｒ及びＲ１として最も好ましいの
は、下記一般式（１−８３により表されるものである。 一般式（１−８） ％式％ 式中Ｒ，，Ｒ，０及びＲＩ＋はそれぞれ水素原子、ノ１
０デン原子、アルキル基、ジクロフルキル基、アルケニ
ル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基
、ヘテロ環基、７シル基、スルホニル基、スルフィニル
基、ホスホニル基、カルバモイル基、スルファモイル基
、シアノ基、スピａ化＋物残基、有橋炭化水素化合物残
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ
基、シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ
基、アミ７基、７シル７ミ７基、スルホンアミド基、イ
ミド基、ツレイド基、スルファモイルアミフ基、アルコ
キシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルア
ミ７基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、フルキルチオ基、７リールチオ基、ヘテロ環
チオ基な表し、Ｒ５１Ｒ１゜及ＶＲ，，の少なくとも２
つは水素原子ではない。 又、前記Ｒ，，Ｒ，。及びＲ１１の中の２つ例えばＲ，
とＲ＋ｏは結合して飽和又は不飽和の環（例えばジクロ
フルカン、ジクロフルケン、ヘテロ環）を形、成しても
よく、更に該環にＲ１が結合して有橋炭化水素化合物残
基を構成してもよい。 Ｒ９−Ｒ１により表される基は置換基を有してもよく、
Ｒ，〜Ｒ１１により表される基の具体例及１該基が有し
てもよい置換基としては、前述の一般式（１）における
Ｒが表す基の具体例及び置換基が挙げられる。 又、例えばＲ１とＲ５゜が結合して形成する環及びＲ１
−Ｒ１１により形成される有情炭化水素化合物残基の具
体例及１その有してもよい置換基としては、前述の一般
式（Ｉ）におけるＲが表すジクロフルキル、シクロアル
キル、ヘテロｍｉ有橋炭化水素化合物残基の具体例及び
その置換基が挙げられる。 一般式〔■〕の中でも好ましいのは、 （ｉ）Ｒ＝〜Ｒ１１の中の２つがアルキル基の場合、（
ｉｉ）Ｒｓ〜Ｒ８の中の１つ例えばＲ１＋が水素原子で
あって、他の２つＲ会とＲ２゜が結合して根元炭素原子
と共にシクロアルキルを形成する場合、 である。 更に（ｉ）の中でも好ましいのは％ＲＩ〜Ｒ目の中の２
つがアルキル基であって、他の１つが水素原子またはア
ルキル基の場合である。 ここに該アルキル、該シクロアルキルは更に置換基を有
してもよく該フルキル、該シクロアルキル及びその置換
基の具体例としては前巳一般式（１〕におけるＲが表す
アルキル、シクロアルキル及びその置換基の具体例が挙
げられる。 又、一般式（ｆ）におけるＺにより形成される環及び一
般式〔ニー７〕におけるＺＩにより形成される環が有し
てもよい置換基、並びに一般式Ｃｌ−１）−（ｒ−”−
］におけるＲ２〜Ｒ，としては下記一般式ＣＩ−’１）
で表されるものが好ましい。 一般式〔■−１〕 −Ｒ１−８Ｑ、−Ｒ” 式中Ｒ′はアルキレンを％Ｒ’はアルキル、ジクロフル
キルまたはアリールを表す。 Ｒ’で示されるフルキレンは好ましくは直鎖部分の炭素
数が２以上、より好ましくは３ないし６、であり、直鎖
１什岐を問わない、またこのアルキレンは置換基を有し
てもよい。 該置換基の例としては、前述の一般式（１）におけるＲ
がフルキル基の場合該アルキル基が有してもよい置換基
として示したものが挙げられる。 置換基として好ましいものとしてはフェニルが挙げられ
る。 Ｒ１で示されるアルキレンの、好ましい具体例を以下に
示す。 Ｒ２で示されるアルキル基は直鎖１分岐を間わなＩＩｓ
。 具体的にはメチル、エチル、プロピル、　１ｓｏ−プロ
ピル、ブチル、２−エチルヘキシル、オクチル、ドデシ
ル、テトラデシル、ヘキサデシル、オフタグシル、２−
へキシルデシルなどが挙げられる。 Ｒ２で示されるジクロフルキル基としては５〜６貝のも
のが好ましく、例えばシクロヘキシルが挙げられる。 Ｒ２で示されるアルキル、シクロアルキルは置換基を有
してもよく、その例としては、前述のＲ１への置換基と
して例示したものが挙げられる。 Ｒ２で示されるアリールとしては具体的には、フェニル
、ナフチルが挙げられる。該アリール基は置換基を有し
てもよい、該置換基としては例えば直鎖ないし分岐のフ
ルキルの他、前述のＲ１への置換基として例示したもの
が挙げられる。 また、置換基が２個以上ある場合それらの置換基は、同
一であっても異なっていてもよい。 ′　　一般式ＣＩ）で表される化合物の中でも特に好ま
しいのは、下記一般式（Ｉ−１０）で表されるものであ
る。 一般式（Ｉ　−＋ｏ） 式中、Ｒ，Ｘは一般式（１）におけるＲ、Ｘと同義であ
りＲｌ　、　Ｒ２は、一般式（Ｉ　−’！　）における
Ｒ　ｌ。 Ｒ２と同義である。 以下に本発明に用いられる化合物の具体例を示す。 以下余白 雪 ＣＨ。 ｌ１３ Ｈｓ ＣＩ。 ■ ＣＨ３ 以下余白 Ｃ４Ｈ９ １２Ｈ２５ ＣＩ。 ．４０ ＣＨ３ ＣＨ。 ＣツＩｌｌ ・４８ Ｃ３Ｈフ ．５５ Ｃ２Ｈ。 ＣＨ。 ＣＬ ＣＨ。 Ｃ）１３ Ｃ１ｌ。 ・６３ ＣＪ＋ｓ ＣＨ２ ＣＨｚ フ４ ＯＣＲ２ＣＯＮＦＩＣＨ２Ｃ■、ＯＣＨ。 ＱＣ）１２ｃＨ２ｓｏ□Ｃｌ。 Ｃ２Ｈ。 、９２ Ｉ１３ ■ ｌ１３ １０フ じ６Ｈ１３ ＣＢ。 ＣＩ（３ ｏｃ、ｎ。 ．１１８ Ｈ１ Ｈ３ Ｈ３ Ｌ Ｈ３ Ｈｆｆ Ｃ，Ｉ！、５ ＨＩＣＣＨ３ ，１４３ １４フ ０（ＣＨ２）２０じ１２ｔ１２Ｓ １５フ １〉８ １６フ ．１７３ １フフ １フ８ １フ９ ．１８０ Ｎ　−Ｎ　−ＮＨ ｒＮ ■ ■ Ｎ　−Ｎ　ｍＨ また前記カプラーはジャーナル・オプ・ザ・ケミカル・
ソサイアテイ（Ｊ　ｏｕｒｎｉｌ　ｏｆ　　ｔｈｅＣｈ
ｅｍｉｃａｌ　　５ｏｃｉｅｔｙ）　＊パーキン（Ｐ　
ｅｒｋｉｎ）　　Ｉ（１９７７）　、　２０４７〜２０
５２、米国特許３，７２５，０６７号、特開昭５９−９
９４３７号、同５８−４２０４５号、同５９−１６２５
４８号、同５９−１７１９５６号、同６０−３３５５２
号、同６０−４３６５９号、同６０−１７２９８２号及
び同６Ｇ−１９０フフ９号等を参考にして合成すること
ができる。 本発明のカプラーは通常ハロゲン化銀１モル当り１×１
０−コモルー１モル、好ましくはｌＸｌ０−”モ”ル〜
８Ｘ１Ｇ−’モルの範囲で用いることができる。 また本発明のカプラーは他の種類のマゼンタカプラーと
併用することもできる。 以下余白 本発明に係る一般式［Ｉ］で示されるマゼンタカプラー
のハロゲン化銀乳剤層への添加方法としては、一般的な
疎水性化合物の添加方法と同様に、固体分散法、ラテッ
クス分散法、水中油滴型乳化分散法等、種々の方法を用
いる事ができ、これはカプラーの化学構造等に応じて適
宜選択することができる。水中油滴型乳化分散法は、通
常、沸点約１５０℃以上の高沸点有機溶媒に、必要に応
じて低沸点、及びまたは水湿性有機溶媒を併用して溶解
し、ゼラチン水溶液などの親水性バインダー中に界面活
性剤を用いて撹拌器、ホモジナイザー、コロイドミル、
フロージットミキサー、超音波装置等の分散手段を用い
て、乳化分散した侵、目的とする親水性コロイド層中に
添加すればよい。分散液または分散と同時に低沸点有機
溶媒を除去する工程を入れても良い。 カプラーを低沸点溶媒単独又は高沸点溶媒と併用した溶
媒に溶かし、機械的又は超音波を用いて水中に分散する
時の分散助剤として、アニオン性界面活性剤、ノニオン
性界面活性剤、カチオン性界面活性剤を用いる事が出来
る。 高沸点有機溶媒としては現像主薬の酸化体と反応しない
フェノール誘導体、フタル酸エステル、リン酸エステル
、クエン酸エステル、安息香酸エステル、アルキルアミ
ド、脂肪酸エステル、トリメシン酸エステル等のうち沸
点１５０℃以上の誘電率が６．０以下の高沸点有機溶媒
が好ましく用いられる。 好ましく用いられる誘電率６．０以下の高沸点有機溶媒
としては種々のものがあり、例えばフタル酸エステル、
リン酸エステル等のエステル類、有ｎｌＳ！アミド類、
ケトン類、炭化水素化合物等である。好ましくは誘電率
６．０以下１．９以上で１００℃に於ける蒸気圧が０．
５１１１１１８（＋以下の高沸点有機溶媒である。また
より好ましくは、該高沸点有機溶媒中の７タル酸エステ
ル類或いはリン酸エステル類である。尚、有機溶媒は、
２種以上の混合物であってもよく、この場合は混合物の
誘電率が６．０以下であればよい。尚、本発明での誘電
率とは、３０℃に於ける誘電率を示している。 本発明において有利に用いられるフタル酸エステルとし
ては、下記一般式［Ｈ８−１１で示されるものが挙げら
れる。 一般式［ＨＳ−１］ 式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれアルキル基、アルケ
ニル基またはアリール基を表わす。但し、Ｒ１およびＲ
２で表わされる基の炭素原子数の総和は９乃至３２であ
る。また、より好ましくは炭素原子数の総和が１６乃至
２４である。 本発明において、前記一般式［Ｈ８−１１のＲ１および
Ｒ２で表わされるアルキル基は、直鎖もしくは分岐のも
のであり、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデ
シル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、
ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オ
クタ１シル基等である。Ｒ１およびＲ２で表わされるア
リール基はフェニル基、ナフチル基等であり、アルケニ
ル基はへキセニル基、ヘプテニル基、オクタデセニル基
等である。これらのアルキル基、アルケニル基およびア
リール基は、単一もしくは複数の置換基を有していても
良く、アルキル基およびアルケニル基の置換基としては
、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、アリール基、ア
リーロキシ基、アルケニル基、アルコキシカルボニル基
等が挙げられ、アリール基の置換基としては、例えばハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、
アリーロキシ基、アルケニル基、アルコキシカルボニル
基を挙げることができる。これらの置換基の２つ以上が
アルキル基、アルケニル基またはアリール基に導入され
ていても良い。 本発明において有利に用いられるリン酸エステルとして
は、下記一般式［Ｈ８−２］で示されるものが挙げられ
る。 一般式［Ｈ３−２１ υに午 式中、Ｒａ　、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ、アルキル
基、アルケニル基またはアリール基を表わす。但し、Ｒ
３、Ｒ４およびＲ５で表わされる炭素原子数の総和は２
４乃至５４である。 一般式［Ｈ８−２］のＲ３、Ｒ４およびＲ５で表わされ
るアルキル基は、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、ヘプチル基、オクチル基、゛ノニル基、デシル基
、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデ
シル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシ
ル基、オクタデシル基、ノナデシル基等であり、アリー
ル基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等であり
、またアルケニル基としては、例えばヘキセニル基、ヘ
プテニル基、オクタデセニル基等である。 これらのアルキル基、アルケニル基およびアリール基は
、単一もしくは複数の置換基を有していても良い。好ま
しくはＲ３、Ｒ４およびＲ５はアルキル基であり、例え
ば、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、３．５．
５−トリメチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル
基、５ｅＣ−デシル基、５ｅｅ−ドデシル基、ｔ−オク
チル基等が挙げられる。 以下に好ましい高沸点有様溶媒の具体例を示す。 以下余白 例示高沸点有機溶媒 Ｓ−１２Ｃ，Ｈ。 ０Ｃ＊　Ｈｌｓ　（ｉ） ０−Ｃ＊Ｈ＋５（ｎ） 奢 ０−Ｃ＋　ｏ　Ｈｚ　＋　（＋　） ０−Ｃ＋ｏＨｔ＋（ｎ） （Ｊ−に＋ｏ）１２＋（ｎ） ０−Ｃ＋　＋　Ｈ２３（＋　） ■ ０−ＣＩ　２　Ｈｘ　ｓ　（；　） 本発明に用いられる高沸点有機溶媒の添加色は、本発明
に係るマゼンタカプラーに対して１０乃至３００ｆｆｌ
ｆｆｉ％が好ましく、さらに２０乃至１５０ｍｆｆ１％
の範囲が好ましく用いることができる。 本発明においては、一般式［１１］のシアンカプラーが
用いられる。 一般式［１１］ 一般式［ＩＩ］においてＲ１１で表わされるアルキル基
は、直鎖もしくは分岐のものであり、例えば、メチル基
、エチル基、１ｓｏ−プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、オクチル基、ノニル基、トリデシル基等であり、ま
たアリール基は、例えばフェニル基、ナフチル基等であ
る。Ｒ１１で表わされるこれらの基は、単一もしくは複
数の置換基を有するものも含む。これらの基に導入され
る置換基として代表的なものには、ハロゲン原子（例え
ば、フッ素、塩素、臭素等の各原子）、アルキル基（但
し、Ｒ＋＋がアリール基の場合）　（例えば、メチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、ドデシル基等）、
アリール基（例えばフェニル基等）、ヒドロキシル基、
シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ
基、エトキシ基）、アルキルスルホンアミド基（例えば
、メチルスルホンアミド基、オクチルスルホンアミド基
等）、アリールスルホンアミド１１（例えば、フェニル
スルホンアミド基、ナフチルスルホンアミド基等）、ア
ルキルスルファモイル基（例えば、ブチルスルファモイ
ル基等）、アリールスルファモイル基（例えば、フェニ
ルスルファモイル基等）、アルキルオキシカルボニル基
（例えば、メチルオキシカルボニル基等）、アリールオ
キシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル
基等）、アミノスルホンアミド基（例えば、Ｎ、Ｎ−ジ
メチルアミノスルホンアミド基等）、アシルアミノ基、
カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、スル
ホオキシ基、スルホ基、アリールオキシ基、アルコキシ
基、カルボキシル基、アルキルカルボニル基、アリール
カルボニル基などを挙げることができる。 これらの置換基は２種以上が導入されていても良い。 Ｒ＋３で表わされるハロゲン原子は、例えば、フッ素、
塩素、臭素等の各原子であり、アルキル基は、例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ドデシル
基等であり、また、アルコキシ基は、例えばメトキシ基
、エトキシ基、プロピルオキシ基、ブトキシ基等である
。Ｒ１３がＲ＋＋と結合して環を形成してもよい。 本発明において前記一般式［ＩＩ］のＲ＋２で表わされ
るアルキル基は、例えばメチル基、エチル基、ブチル基
、ヘキシル基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘプタ
デシル基、フッ素原子で置換された、いわゆるポリフル
オロアルキル基などである。 Ｒ１２で表わされるアリール基は、例えばフェニル基、
ナフチル基であり、好ましくはフェニル基、である。Ｒ
１２で表わされる複素環基は、例えばピリジル基、７ラ
ン基等である。Ｒ１２で表わされるシクロアルキル基は
、例えば、シクロプロピル基、シクロヘキシル基等であ
る。これらのＲ１２で表わされる基は、単一もしくは複
数の置換基を有するものも含む。例えば、フェニル基に
導入される置換基としては、代表的なものにハロゲン原
子（例えばフッ素、塩素、臭素等の各原子）、アルキル
基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ドデシル基等）、ヒドロキシル基、シアン基、ニトロ
基、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基等）
、アルキルスルホンアミド基（例えばメチルスルホンア
ミド基、オクチルスルホンアミド基等）、アリールスル
ホンアミド基（例えば、フェニルスルホンアミド基、ナ
フチルスルホンアミド基等）、アルキルスルファモイル
基（例えばブチルスルファモイル基等）、アリールスル
ファモイル基（例えば、フェニルスルファモイル基等）
、アルキルオキシカルボニル基（例えば、メチルオキシ
カルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例え
ば、フェニルオキシカルボニル基等）、アミノスルホン
アミド基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホニ
ル基、スルフィニル曇、スルホオキシ基、スルホ基、ア
リールオキシ基、アルコキシ基、カルボキシルアルキル
カルボニル基、アリールカルボニル基などを挙げること
がで，きる。これらの置換基は２種以上がフェニル基に
導入されていても良い。また、Ｒ１２で示されるアルキ
ル基、シクロアルキル基及び複索環基についても同様の
置換基を１種又は２種以上有することができる。 Ｒ＋２で表わされる好ましい基としては、ポリフルオロ
アルキル基、フェニル基またはハロゲン原子、アルキル
基、アルコキシ基、アルキルスルホンアミド基、アリー
ルスルホンアミド基、アルキルスルファモイル基、アリ
ールスルファモイル基、アルギルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アリールカル
ボニル基もしくはシアノ基を置換基として１つまたは２
つ以上有するフェニル基である。 Ｚｌは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応に
よりｍｐｆｌｔ，、得る基を表わす。 一般式［ＩＩで表わされるシアンカプラーのさらに好ま
しいものは、下記一般式［ＩＩ−１］で表わされる化合
物である。 一般式［ＩＩ−１１ 一般式ＩＩＩ−１　１において、Ｒ１４はフェニル基を
表わす。このフェニル基は単一もしくは複数の置換基を
有するものも含む。導入される置換基の例としては代表
的なものにハロゲン原子（例えＩ２フッ素、塩素、臭素
等）、アルキル基（例えＧｊメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基等）、ヒド
ロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基（例え
ばメトキシ基、エトキシ基等）、アルキルスルホンアミ
ド基（例えばメチルスルホンアミド基、オクチルスルホ
ンアミド 〈例えばフェニルスルホンアミド基、ナフチルスルホン
アミド基等）、アルキルスルファモイル基（例えばブチ
ルスルファモイル基等）、アリールスルファ七イル基（
例えばフェニルスルファモイル基等）、アルキルオキシ
カルボニル基（例えばメチルオキシカルボニル基等）、
アリールオキシカルボニル基（例えばフェニルオキシカ
ルボニル基等）などを挙げることができる。これらの置
換基は２種以上がフェニル基に置換されていても良い。 ＲＮで表わされる好ましい基としては、未置換のフェニ
ル基、またはハロゲン原子（好ましくはフッ素、塩素、
臭素）、アルキルスルホンアミド基（好ましくは０−メ
チルスルホンアミド基、ｐ−オクチルスルホンアミド基
、０−ドデシルスルホンアミド基）、アリールスルホン
アミド基（好ましくはフェニルスルホンアミド基）、ア
ルキルスルファモイル基（好ましくはブチルスルファモ
イル基）、アリールスルファモイル基（好ましくはフェ
ニルスルファモイル基）、アルキル基（好ましくはメチ
ル基、トリフルオロメチル基）、アルコキシ基（好まし
くはメトキシ基、エトキシ基）を置換基として１つまた
は２つ以上有するフェニル基である。 Ｒｔｓはアルキル基またはアリール基である。アルキル
基またはアリール基は単一もしくは複数の置換基を有す
るものも含む。この置Ｗｋ基としては代表的なものに、
ハロゲン原子（例えばフッ素、塩素、臭素等）、ヒドロ
キシル基、カルボキシル基、アルキル基（例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、ド
デシル基、ベンジル基等）、シアノ基、ニトロ基、アル
コキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基）、アリール
オキシ基、アルキルスルホンアミド基（例えばメチルス
ルホンアミド基、オクチルスルホンアミド基等）、アリ
ールスルホンアミド基（例えばフェニルスルホンアミド
基、ナフチルスルホンアミド基等）、アルキルスルファ
モイル基（例えばブチルスルファモイル基等）、アリー
ルスルファモイル基（例えばフェニルスルファモイル基
等）、アルキルオキシカルボニル ジカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例
えばフェニルオキシカルボニル基等）、アミノスルホン
アミド基（例えばジメチルアミノスルホンアミド基等）
、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アル
キルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミノカル
ボニルアミド基、カルバモイル基、スルフィニル基など
を挙げることができる。これらの置換基は２種以上が導
入されても良い。 Ｒ１５で表わされる好ましい基としては、ｎ１＝０のと
きはアルキル基、ｎｌ−１以上のときはアリール基であ
る。Ｒ＋５で表わされるさらに好ましい基としては、ｎ
１＝０のときは炭素数１〜２２個のアルキル基（好まし
くはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オク
チル基、ドデシル基）であり、ｎｌ−１以上のときは未
置換のフェニル基、または置換基としてアルキル基（好
ましくはｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、オクチル基）、
アルキルスルホンアミド基（好ましくはブチルスルホン
アミド基、オクチルスルホンアミド基、ドデシルスルホ
ンアミド基）、アリールスルホンアミド基（好ましくは
フェニルスルホンアミド基）、アミノスルホンアミド基
（好ましくはジメチルアミノスルホンアミド基）、アル
キルオキシカルボニル基（好ましくはメチルオキシカル
ボニル基、ブチルオキシカルボニル基）を１つまたは２
つ以上有するフェニル基である。 Ｒ１６はアルキレン基を表わす。好ましくは直鎖または
分岐の炭素原子数１〜２０個のアルキレン基、更に好ま
しくは炭素原子数１〜１２個のアルキレン基である。 Ｒ１７は水素原子またはハロゲン原子（フッ素、塩素、
臭素または沃素）を表わす。好ましくは水素原子である
。 ｎｌはＯまたは正の整数であり、好ましくはＯまたは１
である。 Ｘ　Ｇｔ　−０−１−ＣＯ−１−ＣＯＯ−１−ＯＣＯ−
１−８Ｏ２ＮＲ’−１−ＮＲ”５Ｏ２Ｎ　Ｒ’　−１−
Ｓ−１−８Ｏ−または−８Ｏ２−基の２価基を表わす（
ここで、Ｒ’　、Ｒ“　ＲＩＩ／はそれぞれアルキル基
を表わし、置換基を有するものも含む）。Ｘの好ましく
は、−０−１−Ｓ−１−ＳＯ−１−８０２−基である。 ｚｌは一般式［ＩＩ］の７１　と同義であり、当業者に
知られているこの離脱可能な基はカプラーの反応性を改
質し、またはカプラーから離脱して、ハロゲン化銀カラ
ー写真感光材料中のカプラーを含む塗布層もしくはその
他の層において、現像抑制、漂白抑制、色補正などの機
能を果たすことにより有利に作用するものである。代表
的なものとしては、例えば塩素、フッ素に代表されるハ
ロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリー
ルチオ基、カルバモイルオキシ基、アシルオキシ基、ス
ルホニルオキシ基、スルホンアミド基またはへテロイル
チオ基、ヘテロイルオキシ基などが挙げられる。ｚｌの
特に好ましいものは、水素原子または塩素原子である。 更に具体的には、特開昭５０−１０１３５号、同５０−
１２０３３４号、同５０−１３０４４１号、同５４−４
８２３７号、同　５ｌ−１４Ｇ８２８号、同５４−１４
７３６号、同４７−３７４２５号、同　５〇−１２３３
４１号、同５８−９５３４６号、特公昭４Ｂ−３６８９
４号、米国特許第３，４７６．５６３号、同第３，７３
７，３１６号、同第３．２２７，５５１号各公報に記載
されている。 以下余白 以下に一般式（１１［−３で表わされるシアンカプラー
の代表的具体例を示すが、これらに限定されるものでは
ない。 ００Ｈ （ｎ）Ｃ１□Ｈ，ＳＯ□ＭＥ（ Ｃ４Ｈ９（へ） Ｃ４Ｈ３■ Ｃ４Ｈ３［有］ （□２Ｍ２ｓｌｎ１ ＣＨ（ＣＨ３）２ 以下余白 ｔＪ＆！一般式［■］で表わされるシアンカプラーは通
常、ハロゲン化銀１モル当たりｉ　ｘ　ｉ　Ｏ−３〜２
モルの範囲が好ましく用いられ、さらに好ましくはＩ　
Ｘ　１０−２〜１モルの範囲である。 また、前記一般式［■］で示されるシアンカプラーは、
他の種類のシアンカプラーと併用することもできるが、
前記一般式［ＩＩ］で示されるシアンカプラーは、下記
一般式［ＩＡ］で示されるシアンカプラーと併用するこ
とが好ましい。 一般式［ＩＩＡ］ 式中、Ｒ＋ａは炭素原子数１〜４個の直鎖または分岐の
アルキル基、Ｒ１９はバラスト基を表わす。 ｚ２は一般式［１ｊの７１と同義である。Ｒ＋ａの特に
好ましくは炭素原子数２〜４個の直鎖または分岐のアル
キル基である。 一般式［ＩＩＡ］のＲ＋ａで表わされる炭素原子数１〜
４個の直鎖又は分岐のアルキル基は、例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、１ｓｏ−プロピル基
、１ｓｏ−ブチル基、５ｅｃ−ブチル基、或いはｔｅｒ
ｔ−ブチル基であり、これらは置換基を有するものを含
む。置換基としてはアシルアミノ基（例えばアセチルア
ミノ基）、アルコキシ基（例えばメトキシ基）等が挙げ
られる。 Ｒ＋６は好ましくは炭素数２〜４のアルキル基である。 Ｒ１９により表わされるバラスト基は、カプラーが適用
される層からカプラーを実質的に他層へ拡散できないよ
うにするのに十分なかざばりをカプラー分子に与えると
こかの大きさと形状を有する有ｖ１基である。 代表的なバラスト基としては、全炭素数が８から３２の
アルキル基またはアリール基が挙げられる。 これらのアルキル基またはアリール基は置換基を有する
ものも含む。アリール基の置換基としては、例えばアル
キル基、アリール基、アルコキシ囚、アリールオキシ基
、カルボキシ基、アシル基、エステル基、ヒドロキシ基
、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、カルボンアミ
ド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基
、スルホンアミド基、スルファモイル基、ハロゲン原子
が挙げられる。また、アルキル基の置換ヰとしてはアル
キル基を除く前記アリール基に挙げたｉ１！ｋｉが挙げ
られる。 とりわけ該バラスト基として好ましいものは、下記一般
式［１［Ａ−１］で表わされるものである。 一般式［ＩｒＡ−１］ −Ｃ）−１−０−Ａｒ ＾２０ Ｒ２０は水素原子または炭素原子数１から１２のアルキ
ル基を表わし、Ａｒはフェニル基等のアリール基を表わ
し、このアリール基は置換基を有するものを含む。置換
基としてはアルキル基、ヒドロキシ基、アルキルスルホ
ンアミド基等が挙げられるが、最も好ましいものはｔ−
ブチル基等の分岐のアルキル基である。 次に一般式［ＩＬＡ］で嵌わされるカプラーの具体例を
示すが、これらに眼定される°４０で？嘘力い。 上記一般式［１［Ａ］で示されるシアンカプラーについ
ては、特公昭４９−１１５７２号、特開昭６０−１１７
２４９号、同　６０−２０５４４６号、同　６０−２０
５４４７号、同　６〇−２３２５５０号、米国特許第４
，５４０，６５７号等に記載されている方法に従って合
成することができる。 一般式［ＩＩＡ］で示されるシアンカプラーは、前記一
般式［ＩＩ］で示されるシアンカプラーに対し、その割
合で１を越えない限り任意の割合で併用することができ
るが、好ましいのは一般式［ＩＩ］で示されるシアンカ
プラーに対する一般式［ＩＩＡ］で示されるシアンカプ
ラーのモル％比で１００〜２０モル％であり、さらに好
ましくは１００〜３０モル％の範囲である。 本発明においては、前記一般式［ＩＩ］で示されるシア
ンカプラーと同じハロゲン化銀乳剤層に、一般式［ＩＩ
１］で示される化合物が用いられる。 一般式［ＩＩ［］ 一般式［１１において、Ｒ３＋、Ｒ３２、Ｒ３３および
Ｒ３＋で表わされる基のうち、ハロゲン原子としては例
えば塩素、臭素、フッ素等の原子が挙げられる。アルキ
ル基としては直鎮でも分岐でもよく、好ましくは置換基
を含めた炭素数が１乃至４０のアルキル基（例えば、メ
チル基、エチル基、ｉ　−プロピル基、２−エチルヘキ
シル基、ラウリル基、ステアリル基等）である。このア
ルキル基は置換基を有するものも含み、この場合の置換
基としては具体的にはハロゲン原子（例えば塩素、臭素
、フッ素等の原子）、アルコキシ基（例えばメトキシ基
、１トキシ慕、ステアリルオキシ基等）、アリール基（
例えばフェニル基、ナフチル基等）、アリールオキシ基
（例えばフェノキシ基等）、アリールチオ基（例えばフ
ェニルチオ基等）、アラルキルチオ基（例えばベンジル
チオ基等）、アミノ基（例えばピペリジノ基、ジメチル
アミノ基等）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、
ベンゾイルオキシ基、フラノイルオキシ基、シクロヘキ
サノイルオキシ基等）、アルコキシ力ルポニル基（例え
ばブトキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカ
ルボニル キシカルボニル基（例えばシクロへキシルオキシカルボ
ニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェ
ノキシカルボニル基等）、オキサリルオキシ基（例えば
エトキシオキサリルオキシ基等）、カルバモイルオキシ
基（例えばヘキシルカルバモイルオキシ基等）、スルホ
ニルオキシ基（例えばフェニルスルホニルオキシ基等）
、アミド基（例えばベンゾイルアミノ基等）、ウレイド
基（例えばフェニルウレイド基等）、アミノスルファモ
イル基（例えばジメチルアミノスルファモイル基等）等
が挙げられる。Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３およびＲ３４で
表わされるシクロアルキル基としては好ましくは置換基
を除く炭素数が３乃至６であるシクロアルキル基（例え
ばシクロプロピル基、シクロヘキシル基等）である。こ
のシクロアルキル基は置換基を有するものも含み、その
置換基例としては前記のアルキル基における置換基例お
よびアルキル基などが挙げられる。 Ｒ３＋、Ｒ９２、Ｒ　３３およびＲ３４で表わされるア
寵ノール基としては例えば、フェニル基、ナフチル基等
が挙げられ、これらの基は置換基を有するものも含み、
その置換基例としてはアリール基を除く前記のアルキル
基における置換基例およびアルキル基などが挙げられる
。Ｒ３＋、Ｒ３２、Ｒ３３およびＲ３４で表わされるア
ルコキシカルボニル基としては例えばメトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基等、アルキルカルバモイル
基としてＧ，を例えばブチルカルバモイル基等、アリー
ルカル！＜モイル基としては例えばフェニルカルバモイ
ル基等、またアシル基としては例えばアセチル基、ベン
ゾイル基等がそれぞれ挙げられ、これらの基は置換基を
有するものも含み、そのｒｉ１換基例として（よ前記の
アルキル基における置換基例などが挙Ｇｆられ共同して
３員ＩＩＩ〜６員環を形成するのに必要な単なる結合手
または原子群を表わすが、Ｑで表わされる原子群として
は、後に説明す−る一般式（Ｉ［Ｉ−２）乃至（Ｉ［Ｉ
−５）においてそれぞれ示されるような原子群であるこ
とが特に好ましい。 本発明に係る一般式［ｎ［］で表わされる化合物におい
て、特に下記一般式（Ｉ［Ｉ−１）、（Ｉ［Ｉ−２＞（
Ｉ［−３）、（Ｉ［［−４）および（Ｉ［［−５）で表
わされる化合物を好ましく用いることができる。 一般式（Ｉ［［−１） 一般式（Ｉｌｌ−２） 曹３ 以下余白 一般式（ＩｆＦ−３） 一般式（１−４） 一般式（Ｉ［［−５） 上記一般式（ＩＩＩ−１＞乃至（Ｉ［［−５）において
、Ｒ３１％Ｒ３２、Ｒ３３およびＲ３吟はそれぞれ前記
一般式〔■〕におＣプるＲ３１、Ｒ３２、Ｒ３３および
Ｒ３４と同一である。Ｒ３５、Ｒ３６′、Ｒ３７および
Ｒ３８はそれぞれ前記一般式〔匹〕におけるＲ３１、Ｒ
３２、Ｒ３３およびＲ３４と同義である。一般式（Ｉ［
Ｉ−１）乃至（ＩＩＩ−５）において、Ｒ３＋〜Ｒ３８
の中から選ばれる任意の２つが結合して環を形成しても
よい。 本発明では前記一般式（Ｉ［［−１）で表わされる化合
物の中でも特に下記一般式（Ｉ［［−６）で表わされる
化合物を好ましく用いることができる。 以下余白 一般式（、ｌ［−６） 表３９ 式中、Ｒ３ｑは水素原子またはアルキル基（例えばメチ
ル基、エチル基等）を表わすが、ＲＷｌの好ましくは水
素原子である。Ｙは単なる結合手またはアルキレン基（
側光は−ＣＨ２−１＋ＣＨ２−）−Ｔ。 ｔｃ　Ｈｚｔｓ　、−ｅ−ＣＨ、→Ｔ等）を表わす、ｎ
古よ正の整数を表わすが、好ましくは１〜４である。 ＸはＹがフルキレン基を表わし、かつｎ１＝１のときは
置換基を表わし、ｎｌが２以上のときはｎ１価の結合基
を表わす、Ｘは、Ｙが単なる結合手のときは、前記一般
式［１１１１におけるＲ３１、Ｒ１２、Ｒ３３およびＲ
神と同義である。 上記の置換基としては、例えばアルキル基（エチル基等
）、シクロアルキル基（例えばシクロヘキシル基等）、
アリール基（例えばフェニル基挙げられる。ここで、Ｒ
４０はアルキル基（例えば１ｓｏ−オクチル基等）、ア
リール基（例えば７エ二ル基等）、シクロアルキル基（
例えばシクロヘキシル基等）または複素環基（例えば７
フン、ピリジル等）を表わす、これらのｌ！！換基は、
さらに置換基を有していてもよい。 上記のｎ１ｉｌの結合基としては、ｆｉｌが２の場合に
は、例えば 等が挙げられ、ｎｌが３の場合には、例えば以下余白 ここでＲ４１およびＲ４１はそれぞれアルキレン基これ
らの基にはアルキレン基とアリーレン基が任意に結合し
て形成される２価の基も含む。 ｎ２はＯまたは正の整数を表わす。Ｒ４２，Ｒ４Ｚおよ
びＲ４２はそれぞれ水素原子またはアルキル基（例えば
メチル基、エチル基等）を表わす。 一般式（ＩＩＩ−６）において、ｎ　３１が２以上の場
「 −であっても異なっていてもよい。 本発明に係る一般式［ＩＩＩ］で表わされる化合物〜６
員環を分子中に有するポリマーであってもよい。この場
合、上記の環を分子中に有するモノマーから誘導される
ホモポリマーであってもよいし、また該モノマーと他の
ごニルモノマーとから誘導されるコポリマーであっても
よい。 本発明に係る一般式［ＩＩ［］で表わされる化合物の中
でも、好ましい１群は少なくとも１つのニー〇 チル結合、エステル結合（例えば、−Ｃ○−１一 を有するものである。 又、環中の酸素原子に直結する炭素原子には、少なくと
も１つの水素原子が結合しているものが好ましい。 以下に本発明に係る一般式［ＩＩ］で表わされる化合物
の代表的具体例を示すが、本発明はこれらに限定されな
い。 以下余白 Ｃｘ　）（ｓ 以下余白 Ｑ　　　　　にｌ−１コ 以下余白 ＣＨ。 しＵ　（Ｊ　（、；　２　Ｐｉ　ｓ 以下余白 ＲＲ’ １０’ｌ　　　　Ｈ” ｔｏ８　　　　　Ｃ８２Ｈ ｔｏ（ｌ　　　　　　　ＣＨ２Ｃｌ　　　　　Ｈｌ　１
　Ｏｃｔ−ｔｚｏｃｓＨｓ　　　ＨＩＩＩ　　　　　　
ＣＨ，ＣＩ　　　Ｃα以下余白 ＋　１８　　　　　　Ｒ：　（（ｈｈ）ｚｔ　１ｑ　　
　　　　　　（ＣＨ２＞３＋ｚｏ　　　　　　　　　　
　（ＣＨ２）４＝　　１２１　　　　　　　　（ＣＨ２
）２Ｃ＝ＣＨ２以下余白 本発明に係る一般式［ＩＩＩ］で表わされる化合物は市
販品として購入してもよい。また、予め、二ｍ結合を有
する対応化合物を合成した後、該二重結合を酸化剤（例
えば過酸化水素）により酸化して得ることもできる。ま
た、前述の６員の環状エーテル化合物は、例えばジャー
ナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ、　Ｏ，
Ｃ，）　ｖｏｆｆｉ３６、Ｐ　１１７６　（１９７１）
　、マクロモレキュールス（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌ
ｅｓ　）　１９８０、Ｐ２Ｓ５に記載の方法により、５
員のものは、例えば英国特許第８６７．９１８号、アン
（Ａｎｎ、）　６２３　Ｐ　１９１　（１９５９）に記
載の方法により、４員のものはドイツ特許第１，０２１
，８５８号に記載の方法により合成できる。 前記一般式［１［１］で示される化合物の使用量は、本
発明に係る一般式［ＩＩ］で示されるシアンカプラーを
含む全シアンカプラーの１００重量部に対して１〜１０
００重ω部が好ましく、ざらに５〜２０Ｑ重倒部が好ま
しく、特に好ましくは２０〜１５０重闇部の範囲である
。 本発明においては、ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも１
層に、一般式［１１］で示されるシアンカプラー、一般
式［１１１］で示される化合物が油滴として含有される
ものであるが、このハロゲン化銀乳剤層への添加方法と
しては、例えば水中油滴型乳化分散法が好ましく用いら
れる。水中油滴型乳化分散法は、一般式［ｎ］で示され
るシアンカプラーを、一般式［ＩＩ［］で示される化合
物および必要に応じて前記一般式［Ｉ］のマゼンタカプ
ラーの分散に用いたと同様な高沸点有機溶媒を併用して
溶解し、ゼラチン水溶液などの親水性バインダー中に界
面活性剤を用いて撹拌器、ホモジナイザー、コロイドミ
ル、フロージェットミキサー、超音波装置等の分散手段
により乳化分散した後、目的とするハロゲン化銀乳剤中
に添加し塗布すればよい。これにより、本発明に係る一
般式［ＩＩ］で示されるシアンカプラー、一般式［１１
１］で示される化合物をハロゲン化銀乳剤層に油滴とし
て含有させることができる。 ができる。 前記一般式［Ｉ］のマゼンタカプラーの分散に用いたと
同様な高沸点有機溶媒を併用する場合には、一般式［■
］で示される化合物に対して１０〜１００重世％の範囲
で用いればよい。 また、写真用添加剤（例えば画像安定剤、色にこり防止
剤等）は、一般式［ＩＩ］で示されるシアンカプラーと
一般式［ＩＩ１］で示される化合物と同一油滴中に溶解
してもよいし、前記したような低誘電率の高沸点有機溶
媒に溶解してハロゲン化銀乳剤中に添加してもよい。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、例えばカラーネ
ガのネガ及びポジフィルム、ならびにカラー印画紙など
であることができるが、とりわけ直接観賞用に供される
カラー印画紙に用いた場合に本発明の効果が有効に発揮
される。 このカラー印画紙をはじめとする本発明のハロゲン化銀
写真感光材料は、減色法色再現を行なうために、通常は
写真用カプラーとして本発明のマゼンタカプラー、本発
明のシアンカプラー、及びイエＯ−の各カプラーを含有
するハロゲン化銀乳剤層ならびに非感光性層が支持体上
に適宜の層数及び層順で積層した構造を有しているが、
該層数及び層順は重点性能、使用目的によって適宜変更
してもよい。 本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の層構成として
は如何なる構成をもとることができるが、本発明におけ
る主たる目的である光堅牢性における退色バランスの改
良が十二分に発揮されるためには一般式［１］で示され
るシアンカプラーを含有する層が一般式［Ｉ］で示され
るマゼンタカプラー含有層よりも支持体からみて遠い側
にある事が好ましい。更に、一般式［Ｉ］で示されるマ
ゼンタカプラー含有層及び一般式［ＩＩ］で示されるシ
アンカプラー含有層との間に紫外線吸収剤を含有する中
間層を有することが好ましい。単色での光堅牢性のみな
らずニュートラル部における光堅牢性の大幅な改良は一
般式［Ｉ］で示されるマゼンタカプラー、一般式［１［
］で示されるシアンカプラー及び一般式［１１１〕でし
めされる化合物の組合せにより得られるが前記の如く、
層順又は層構成を適宜最適化することにより最大の効果
を得ることができるものである。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の具体的な層構成と
しては支持体上に支持体側より順次、イエロー色素画像
形成層、中間層、本発明のマゼンタ色素画像形成層、紫
外線吸収剤を含有する中間層、本発明のシアン色素画像
形成層、紫外線吸収剤を含有する中間層、保護層と配列
したものが特に好ましい。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料において、イエロー
色素画像形成層に用いられるイエロー色素形成カプラー
としては、下記の一般式［Ｙｌで表わされる化合物が好
ましい。 一般式［Ｙｌ 式中、Ｒ１はアルキル基（例えばメチル基、エチルキ、
プロピル基、ブチル基等）またはアリール基（例えばフ
ェニル基、ｐ−メトキシフェニル等）を表わし、Ｒ２は
アリール基を表わし、Ｙｏｌは水素原子または発色現像
反応の過程でｌＮ１２ｍする基を表わす。 さらに、イエロー色素画像を形成するイエローカプラー
として特に好ましいものは、下記一般式［Ｙｏｌで表わ
される化合物が好ましい。 一般式［Ｙｏｌ 式中Ｒ３はハロゲン原子、アルコキシ基またはアリーロ
キシ基を表わし、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、それ
ぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アリール基、アリーロキシ基、カル
ボニル基、スルフォニル基、カルボキシル基、アルコキ
シカルボニル基、カルバミル基、スルフォン基、スルフ
７ミル基、スルフォンアミド基、アシルアミノ基、ウレ
イド基またはアミノ基を表わし、Ｙｌは前述の意味を有
する。 Ｒ３の好ましくはハロゲン原子であり、Ｒ７の好ましく
は水素原子である。 これらは、例えば米ｌ特許第２，７７８，６５８号、同
第２，８７５，０５７号、同第２，９０８，５７３号、
同第３．２２７１１５５号、同第３，２２７，５５０号
、同第３．２５３．９２４号、同第３．２６５．５０６
号、同第３，２７７、１５５号、同第３．３４１．３月
号、同第３，３６９，８９５号、同第３，３８４，６５
７号、同第３，４０８．１９４号、同第３，４１５，６
５２号、同第３．４４７．９２８号、同第３，５５１．
１５５号、同第３．５８２．３２２号、１ｉｉ１　第３
．７２５．０７２号、３．８９４．８７５号等の各町ｉ
ｓ、ドイツ特許公開用１，５４７，８６８号、同第２，
０５７，９４１号、同第２，１６２，８９９号、同第２
．１６３．８１２号、同第２．２１３，４６１号、同第
２，２１９，９１７号、同第２，２６１，３６１号、同
第２，２６３，８７５号、特公昭４９−１３５７６号、
特開昭４８−２９４３２号、同４８−６６８３４号、同
４９−１０７３６号、同４９−１２２３３５号、同５０
−２８８３４号、および同５０−１３２９２６号公報等
に記載されている。 以下本発明に好ましく用いられるイエローカプラーの具
体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。 以下余白 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いられるハロゲ
ン化銀乳剤（以下本発明のハロゲン化銀乳剤という）に
は、ハロゲン化銀として臭化銀、沃臭化銀、沃塩化銀、
塩臭化銀、及び塩化銀等の通常のハロゲン化銀乳剤に使
用される任意のものを用いることができる。 本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、酸性法、中性法、アンモニア法のいずれかで得ら
れたものでもよい。該粒子は一時に成長させても良いし
、種粒子をつくった俊成長させても良い。種粒子をつく
る方法と成長させる方法は同じであっても、異なっても
良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤はハライドイオンと銀イオン
を同時に混合しても、いずれか一方が存在する中に、他
方を混合してもよい。また、ハロゲン化銀結晶の臨界成
長速度を考慮しつつ、ハライドイオンと銀イオンを混合
釜内のＩ）Ｈ，ｐＡ。 をコントロールしつつ逐次同時に添加する事により、生
成させても良い。成長後にコンバージョン法を用いて、
粒子のハロゲン組成を変化させても良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤の製造時に、必要に応じてハ
ロゲン化銀溶剤を用いる事により、ハロゲン化銀粒子の
粒子サイズ、粒子の形状、粒子サイズ分布、粒子の成長
速度をコントロール出来る。 本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、粒子を形成する過程及び／又は成長させる過程で
、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウ
ム塩又は錯塩、ロジウム塩又は錯塩、鉄塩又は錯塩、を
用いて金属イオンを添加し、粒子内部に及び／又は粒子
表面に包合させる事が出来、また適当な還元的雰囲気に
お（事により、粒子内部及び／又は粒子表面に還元増感
核を付与出来る。 本発明のハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀粒子の成長
の終了後に不要な可溶性塩類を除去しても良いし、ある
いは含有させたままで良い。該塩類を除去する場合には
、リサーチディスクロジャー　１７６４３号記載の方法
に基づいて行う事が出来る。 本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、内部と表面が均一な層から成っていても良いし、
異なる層から成っても良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、潜像が主として表面に形成されるような粒子であ
っても良く、また主として粒子内部に形成されるような
粒子でも良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、規則的な結晶形を持つものでも良いし、球状や板
状のような変則的な結晶形を持つものでも良い。これら
粒子において、（１ｏｏ）面と（１１１）面の比率は任
意のものが使用出来る。 又、これら結晶形の複合形を持つものでも良く、様々な
結晶形の粒子が混合されても良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤は、別々に形成した２種以上
のハロゲン化銀乳剤を混合して用いても良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤は、常法により化学増感され
る。即ち、銀イオンと反応できる硫黄を含む化合物や、
活性ゼラチンを用いる硫黄増感法、セレン化合物を用い
るセレン増感法、還元性物質を用いる還元増感法、金そ
の他の貴金属化合物を用いる員金居増感法などを単独又
は組み合わせて用いる事が出来る。 本発明のハロゲン化銀乳剤は、写真業界において、増感
色素として知られている色素を用いて、所望の波長域に
光学的に増感出来る。増感色素は単独で用いても良いが
、２種以上を組み合わせて用いても良い。増感色素とと
もにそれ自身分光増感作用を持たない色素、あるいは可
視光を実質的に吸収しない化合物であって、増感色素の
増感作用を強める強色増感剤を乳剤中に含有させても良
い。 本発明のハロゲン化銀乳剤には、感光材料の製造工程、
保存中、あるいは写真処理中のカブリ防止、及び／又は
写真性能を安定に保つ事を目的として化学熟成中、及び
／又は化学熟成の終了時、及び／又は化学熟成の終了後
、ハロゲン化銀乳剤を塗布するまでに、写真業界におい
てカブリ防止剤又は安定剤として知られている化合物を
加える事が出来る。 本発明のハロゲン化銀乳剤のバインダー（又は保護コロ
イド）としては、ゼラチンを用いるのが右利であるが、
それ以外にゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子のグ
ラフトポリマー、蛋白質、糖誘導体、セルロース誘導体
、単一あるいは共重合体の如き合成親水性高分子物質等
の親水性コロイドも用いる事が出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層、その
他の親水性コロイド層は、バインダー（又は保護コロイ
ド）分子を架橋させ、膜強度を高める硬膜剤を単独又は
併用することにより硬膜される。硬膜剤は、処理液中に
硬膜剤を加える必要がない程度に、感光材料を硬膜出来
る伍添加する事が望ましいが、処理液中に硬膜剤を加え
る事も可能である。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン化銀乳剤
層及び／又は他の親水性コロイド層の柔軟性を高める目
的で可塑剤を添加出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層その他
の親水性コロイド層に寸度安定性の改良などを目的とし
て、水不溶又は離溶性合成ポリマーの分散物（ラテック
ス）を含む事が出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の乳剤層間で（同−
感色性層間及び／又は異なった感色性層間）、発色現像
主薬の酸化体又は電子移動剤が移動して色濁りが生じた
り、鮮鋭性の劣化、粒状性が目立つのを防止するために
色カブリ防止剤が用いられる。 該色カブリ防止剤は乳剤層自身に用いても良いし、中間
層を隣接乳剤層間に設けて、該中間層に用いても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料には、色素画像の劣
化を防止する退色防止剤を用いる事が出来る。 本発明において、本発明に係る一般式［Ｉ］で示される
マゼンタカプラーを含有するハロゲン化銀乳剤層には、
下記一般式（Ａ）〜（Ｈ）およびＬｊ）〜（Ｎ）で示さ
れる化合物から選ばれる少なくとも１つの化合物を退色
防止剤として用いることが好ましい。 一般式［ＡＩ 式中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、了
り−ル基、又は複素環基を表し、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ５１Ｒ
ｓはそれぞれ水素原子、／’％ロデン原子、ヒドロキシ
基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキ
シ基またはアシルアミノ基をあられし、Ｒ１はアルキル
基、ヒドロキシ基、アリール基又はアルコキシ基を表す
。 又Ｒ３とＲ２は互いに閉環し、５貝または６貝環を形成
してもよく、その時のＲ４はヒドロキシ基またはアルコ
キシ基をあられす。又Ｒ１とＲ４が閉環し、５貝の炭化
水素環を形成してもよく、そのと外のＲ，はアルキル基
、アリール基、または複索環基をあられす、但し、Ｒ３
が水素原子で、かつ、Ｒ４がヒドロキシ基の場合を除く
。 前記一般式［ＡＩにおいて、Ｒ３は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基または複素環基をあられ
すが、このうち、アルキル基としては、例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒＬ−
オクチル基、ヘキサデシル基なとの直鎖または分岐のフ
ルキル基を挙げることができる。またＲ１であられされ
るアルケニル基としては、例えば７リル、ヘキセニル、
オクテニル基などが挙げられる。さらに、Ｒ１の７リー
ル基としては、フェニル、ナフチルの各基が挙げられる
。さらにＲ１で示される複素環基としては、テトラヒド
ロピラニル基、ピリミジル基などが具体的に挙げられる
。これら各基は置換基を有することができ、例えば置換
基を有するフルキル基としてペンシル基、ニドキシメチ
ル基、置換基をあられすが有するアリール基としてメト
キシフェニル基、クロルフェニル基、４−ヒドロキシ−
３，５−ノブチルフェニル基などが挙げられる。 一般式［ＡＩにおいて、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１およびＲ６は
水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルキル基、
アルケニ／に基、アリール基、アルコキシ基または７シ
ル７ミ７基をあられすが、このうち、アルキル基、アル
ケニル基、アリール基については前記Ｒ３について述べ
たアルキル基、アルケニル基、７リール基と同一のもの
が挙げられる。また前記ハロゲン原子としては、例えば
フッ素、塩素、臭素などを挙げることができる。さらに
前記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基な
どを具体的に挙げることができる。さらに前記７シル７
ミ７基はＲ’　Ｃ０ＮＨ−で示され、ここにおいて、Ｒ
″はフルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル
、ｎ−ブチル、ｎ−オクチル、ｔｅｒｔ−オクチル、ペ
ンツルなとの各基）、アルケニル基（例えばアリル、オ
クテニル、オレイルなどの各基）、７リール基（例えば
フェニル、メトキシ７ヱニル、ナフチルなどの各基）、
またはへテロ環基（例えばピリジル、ピリミジルの各基
）を挙げることができる。 また前記一般式［ＡＩにおいて、Ｒ１はアルキル基、ヒ
ドロキシ基、アリール基またはアルコキシ基を表すが、
このうちフルキル基、アリール基については、前記Ｒ１
で示されるフルキル基、７リール基と同一のものを具体
的に挙げることかで島る。またＲ４のアルケニル基につ
いては前記Ｒ２、Ｒコ、ＲｓおよびＲ６について述べた
アルコキシ基と同一のものを挙げることができる。 Ｒ１とＲ２は互いに閉環してベンゼン環と共に形成する
環としては、例えばクロマン、クマラン、メチレンツオ
キシベンゼンが挙げられる。 また、Ｒ１とＲ１が閉環してベンゼン環と共に形成する
環としては、たとえばインゲンが挙げられる。これらの
環は、置換基（例えばアルキル、アルコキシ、７リール
）を有してもよい。 又、Ｒ３とＲ２、またはＲ１とＲ１が閉環して形成する
環中の原子なスピロ原子としてスピロ化合物を形成して
もよいし、Ｒ２、Ｒ４などを連結基として、ビス体を形
成してもよい。 前記一般式［ＡＩで表されるフェノール系化合物または
フェニルエーテル系化合物のうち、好ましいものは、Ｒ
Ｏ−基（Ｒはアルキル基、アルケニル基、了り−ル基、
またはへテロ環基を表す、）を４個有するビインダン化
合物で島９、待に好ましくは下記一般式［Ａ−１］で表
すことができる。 一般式［Ａ−１］ 式中Ｒはフルキル基（例えばメチル、エチル、プロピル
、ｎ−オクチル、ｔｅｒｔ−オクチル、ベンジル、ヘキ
サデシル）、アルケニル基（例えば、７リル、オクテニ
ル、オレイル）、７リール基（例えば、フェニル、ナフ
チル）またはへテロ環基（例えば、テトラヒドロピラニ
ル、ピリミジル）で表される基をあられす、Ｒ１お上り
Ｒ１０は各々水素原子、ハロゲン原子、（例えば、フッ
素、塩素、臭素）、アルキル基（例えばメチル、エチル
、ｎ−ブチル、ベンジル）、アルコキシ基（例えばアリ
ル、ヘキセニル、オクテニル）、またはアルコキシ基（
例乏ばメトキシ、エトキシ、ペンシルオキシ）を表し、
Ｒ１，は水素原子、アルキル基（例えばメチル、エチル
、ｎ−ブチル、ベンジル）、アルケニルＭ（例エバ、２
−７’ロベニル、ヘキセニル、オクテニル）、または了
り−ル基（例えばフェニル、メトキシフェニル、クロル
７ヱニル、ナフチル）ヲ表ス。 前記一般式［Ａ］で表される化合物は、米国特許第３，
９３５，０１６号、同第３，９８２，９４４号、同第４
．２５４，２１６号、特開昭５５−２１００４号、同５
４−１４５５３０号、英国特許公開２，０７７．４５５
号、同２　、０６２号、８８８号、米国特許第３，７６
４，３３７、同第３　、４３２３００号、同第３，５７
４，６２７号、同第３，５７３．０５０号、特開昭５２
−１５２２２５号、同５３−２０３２７号、同５３−１
７７２９号、同５５−６３２１号、英国特許第１．．３
４７，５５６号、同公開２．０６６．９７５号、特公昭
５４−１２３３７号、同４８−３１６２５号、米国特許
第３，７００，４５５号などに記載の化合物をも含む。 前記一般式［Ａ］で表される化合物の使用量は、マゼン
タカプラーに対して５〜３００モル％が好ましく、より
好ましくは１０〜２００モル％である。 以下に前記一般式［Ａ］で表される化合物の代表的具体
例を示す。 タイプ（１） ＲＩ タイプ（２） タイプ（３） タイプ（４） タイプ（５） タイプ（６） タイプ（７） タ　　イ　　プ　　（２） 以下余白 タ　　イ　　プ　　（４） タ　　イ　　プ　　（５） タ　　イ　　プ　　（６） 以下余白 Ａ−７ 以下余白 一般式［Ｂ］ （式中Ｒ１およびＲ１はそれぞれ水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキ
シ基、アシル基、アシルアミ７基、７シルオキシ基、ス
ルホンアミド基、ジクロフルキルまたはアルコキシカル
ボニル基をあられし％　Ｒ２は水素原子、アルキル基、
アルケニル基、７リール基、７シル基、シクロアルキル
基またはへテロ環基をあられし、Ｒ１は水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、７
１）−ルオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、スルホ
ンアミド基、シクロアルキル基またはアルコキシカルボ
ニル基をあられす。 以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもよ
い０例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
了り−ル基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ルアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、スル７７モイル基などが挙げられる。 またＲ２とＲ３は互いに閉環し、５貝または６貝環を形
成してらよい、Ｒ２とＲ３が閉環しベンゼン環と共に形
成する環としては例えばクロマン環、メチレンツオキシ
ベンゼン環が挙１デられる。 Ｙはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群をあられす。 クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、フルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、７リール基、アリ
ールオキシ基、もしくはヘテロ環で置換されてもよく、
さらにスピロ環を形成してもよい。 一般式［Ｂ］で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式［Ｂ−１］、［Ｂ　−２１、［Ｂ−
３］、［Ｂ　−４］、［Ｂ　−５］で示される化合物に
包含される。 一般式［Ｂ−１］ ｔ％１ 一般式［Ｂ−２］ 一般式［Ｂ−３］ 一般式［Ｂ−４］ 一般式［Ｂ　−５］ 一般式［Ｂ−１１、［Ｂ−２］、［Ｂ　−３］、［Ｂ　
−４１および［Ｂ　−５］におけるＲ２、Ｒ２、Ｒ１お
よびＲ４は前記一般式［Ｂ］におけるのと同じ意味を持
ち、Ｒ６、Ｒ６、Ｒ２、Ｒ，、Ｒ１およびＲ１゜は水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒド
ロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アリー
ル基、７リールオキシ基もしくはヘテロ環基をあられす
。 さらにＲ１とＲい　Ｒ６とＲ２、ＲテとＲ８、Ｒ，とＲ
９およびＲ９とＲ１゜と、が互いに環化して炭素環を形
成してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換され
てもよい。 前記一般式［Ｂ−１３、［Ｂ　−２］、［Ｂ　−３］、
［Ｂ　−４］および［Ｂ−５］においてＲ１およびＲ４
が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキン基
またはシクロアルキル基％　Ｒ５、Ｒｓ、Ｒ丁、Ｒ６、
Ｒ１およびＲ８゜が水素原子、フルキル基、またはシク
ロアルキル基である化合物が特に有用である。 一般式［Ｂ］で表される化合物はテトラヘドロン（Ｔｅ
ｔｒａｈｅｄｒｏｎ）、１９フＯ，ｖｏ１２６．４７４
３〜４７５１頁、日本化学会誌、１９７２．Ｎｏ１０，
０９８７−１９９０Ｔｃ、ケミカル（ｃｈｅｍ、Ｌｅｔ
ｔ、）、１９７２（４）３１５〜３１６頁、特開昭５５
−１３９３８３号に記載されている化合物を表し、含み
、かつこれらに記載されている方法に従って合成するこ
とができる。 前記一般式［Ｂ］で表される化合物のうち使用量は、前
記本発明乳剤係るマゼンタカプラーに対して５〜３００
モル％該好ましく、より好ましくは１０〜２００モル％
である。 以下にこれらの化合物の代表的具体例を示す。 以下余白 一般式［ｃ］ ＲＩ 一般式［Ｄ］ Ｉ＝ 式中Ｒ１およびＲ２は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ
基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、７
シル基、アシルアミ／基、７シルオキシ基、スルホンア
ミド基もしくはアルコキシカルボニイレ基をあられす。 以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもよ
い０例えばハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、フル
コキシ力ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
シルアミ７基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ス
ルフ７モイル基などが挙げられる。 Ｙはベンゼン環と共にジクロマンもしくはジクマラン環
を形成するのに必要な原子群をあられす。 クロマンもしくはクマラン環はノ）ロデン原子、アルキ
ル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基
、アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、ア
リールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されてもよく
、さらにスピロ環を形成してもよい。 一般式［ｃ］および［ＤＩで示される化合物のうち、本
発明に特に有用な化合物は一般式［ｃ−１］、［ｃ−２
］、［Ｄ−１］および［Ｄ　−２］で示される化合物に
包含される。 一般式［ｃ−１３ 一般式［ｃ−２３ に’ 一般式［Ｄ−１］ 一般式［Ｄ　−２］ 一般式［ｃ−１］、［ｃ−２］、［０−１］お上り［Ｄ
−２］におけるＲ、およびＲ２は前記一般式［ｃ］お上
り［ＤＩにおけるのと同じ意味を持ち、　Ｒ３、Ｒ４、
Ｒ１、Ｒ，、Ｒ，およ（／Ｒ，は水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アルケ
ニル基、アルケニルオキシ基、了り−ル基、アリールオ
キシ基もしくはヘテロ環基をあられす。さらにＲ１とＲ
１、Ｒ４とＲ６、Ｒ１とＲいＲ６とＲ７およびＲ６とＲ
８とが互いに環化して炭素環を形成してもよく、さらに
該炭素環はアルキル基で置換されてもよい。 前記一般式（ｃ−ｉ’）、［ｃ−２］、［Ｄ−１］およ
び［Ｄ　−２］荷おいて、Ｒ１およびＲ２が水ｙＡ原子
、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基またはシク
ロアルキル基、Ｒ１、Ｒイ、Ｒ３、ＲいＲ２およびＲ１
が水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基であ
る化合物が特に有用である。 一般式［ｃ］、［ＤＩで表される化合＼、物は日本化学
学会Ｌｔ（Ｊ、　ＣｈｅＩｍ、　Ｓｏｃ、　ｐａｒｔ　
Ｃ）　１９６８．（１４）、　１９３７〜１８頁、有機
合成化生協会誌１９フ０．２８（１）、　６０〜６５ｒ
ｃ、テトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔ
ｔｅｒｓ）１９７３、（２９）、２７０７〜２７１０真
に記載されている化合物を含み、かつこれらに記ａされ
ている方法に従って合成することがでさる。 前記一般式［ｃ］、［ＤＪ″ｌｌ′表される化合物の使
用量は、前元本発明に係るマゼンタカプラーに対して５
〜３００モル％が好ましく、より好ましくは１０〜２０
０モル％である。 以下にこれらの化合物の具体的代表例を示す。 以下余白 一般式（Ｅ） 式中Ｒ１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、７リ
ール基、アシル基、ジクロフルキル基らしくはへテロ環
基を表わし、Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アルケニルｔｓ、７１７−ル基、アリールオキシ基
、アシル基、アシルアミ７基、７シルオキシ基、スルホ
ンアミド基、ジクロフルキル基らしくはアルコキシカル
ボニル基を表わす。 Ｒ２およびＲ４は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
、アルケニル基、７リール基、アシル基、７シルアミノ
基、スルホンアミド基、シクロアルキル基らしくはアル
コキシカルボニル基を表わす。 以上にあげた基はそれぞれ池の置換基で置換されていて
もよい。例えばフルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、７
＞レコキシカルボニル基、７リールオキシカルボニル基
、アシルアミ７基、カルバモイル基、スルホンアミド基
、スルファモイル基等が挙げられる。 またＲ゛とＲ２は互いに閉環Ｃ１５貝または６貝環を形
成してもよい。 その時Ｒ３お上りＲ４は水素原子、ハロゲン原子、フル
キル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキ
シ基、ヒドロキシ基、アリール基、了り一ルオキシ基、
７シル基、アシルアミノ基、７シルオキシ基、スルホン
７ミド基もしくはアルコキシカルボニル基を表ｂｔ。 Ｙはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群を表わす。 クロマンらしくはクマラン環はハロゲン原子、フルキル
基、ジクロフルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、７リ
ールオキシ基もしくはへテロ環基で置換されていてもよ
く、さらにスピロ環を形成してもよい。 一般式（Ｅ）で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式（Ｅ−１）。 （Ｅ−２）、（Ｅ−３）、（Ｅ−４）および（Ｅ−５３
で示される化合物に包含される。 一般式（Ｅ−１） ＯＲ＋ 一般式（Ｅ−２） ＯＲ＋ 一般式（Ｅ−３３ Ｈ”　　＋１”’　　０ＲＩ 一般式（Ｅ−４） 一般式（Ｅ−５３ 一般式（Ｅ−１）〜（Ｅ−５）におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ
３およびＲ４は前記一般式（Ｅ）におけるのと同じ意味
を持ち、Ｒｓ、　Ｒｓ、　Ｒ’、　Ｒ”、　Ｒ９お上り
Ｒ１０は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコ
キシ基、ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキ
シ基、アリール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環
基を表わす。さらにＲ５とＲ１、Ｒ’とＲ’、Ｒ’とＲ
’％　Ｒ”とＲ’ｔ１．びＲ９とＲＩ”とが互いに環化
して炭素環を形成してもよく、さらに該炭素環はアルキ
ル基で置換されてもよい。 前記一般式（Ｅ−１）〜（Ｅ−５）において、ＲＩ　、
　Ｒ２、Ｒ３およびＲ″が水素原子、アルキル基、また
はシクロアルキル基、前記一般式（Ｅ−５）において、
Ｒ３お上りＲ４が水素原子、アルキル基、アルコキシ基
、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、ｉらに前記一
般式（Ｅ−１）〜（Ｅ−５）＋、：　オイテ、Ｒ５，Ｒ
’、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ’お、Ｊ：（／Ｒ１’が水素原子、
フルキル基、またはシクロアルキル基である化合物が特
に有用である。 一般式［Ｅ］により表される化合物はテトラヘドロン（
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ）　１９６５
．（８）＊４５７−４６０頁日本化学学会誌（Ｊ、　Ｃ
ｈｅｗ、Ｓｏｃ、　ｐａｒｔ　Ｃ）　１９６６゜（２２
）、　２０１３−２０１６頁、（Ｚｈ、　Ｏｒｇ、にｈ
ｉｍ）　１９７０．（６）−１２３０〜１２３７頁に記
載されている化合物を含み、かつこれらに記載されてい
る方法に従って合成することができる。 前記一般式［Ｅ−１］で表される化合物の使用量は、前
記本発明に係るマゼンタカプラーに対して５〜３００モ
ル％が好ましく、より好ましくは１０〜２００モル％で
ある。 以下にこれらの化合物の具体的代表例を示す。 以下余白 一般式（Ｆ） Ｒ２Ｒ３ 式中Ｒ，は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アシル基、シクロアルキル基もしくはヘテロ環
基を表し、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基、アシ
ル基、アシルアミ７基、アシルオキシ基、スルホンアミ
ド基、シクロアルキル基、もしくはアルコキシカルボニ
ル基をあられす。 Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基、アシル基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、ジクロフルキル基もしくはアルフキジカル
ボニル基をあられす。 Ｒ４は水素原子、ハロゲン原子、フルキル基、アルケニ
ル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、ヒドロキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、アシル
アミノ基、アシルオキシ基、スルホン７ミド基、もしく
はアルコキシカルボニル基をあられす。 以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもい
い０例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、７シ
ル７ミ７基、カルバモイル基、スルホン７ミド基、スル
ファモイル基などが挙げられる。 又Ｒ１とＲ２は互いに閉環し、５貝または６貝環を形成
してもよい、その時Ｒ３お上りＲ１は水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ア
ルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリー
ルオキシ基、アシル基、アシルアミ７基、アシルオキシ
基、スルホンアミド基、もしくはアルコキシカルボニル
基をあられす。 Ｙはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群をあられす。 クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されていてもよ
く、さらにスピロ環を形成してもよい。 一般式［Ｆ］で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式［Ｆ−１］、［Ｆ−２］、［Ｆ　−
３］、［Ｆ　−４］および［Ｆ−５］で示される化合物
に包含される。 以下余白 一般式（Ｆ−１） 一般式ＣＦ−２） 一般式（Ｆ−３） 一般式（Ｆ−４） 一般式（Ｆ−５） 一般式［Ｆ−１］および［Ｆ−５］におけるＲ３、Ｒ，
、Ｒ，およびＲ４は前記一般式［Ｆ］におけるのと同じ
意味を持ち、Ｒ２、Ｒ，、Ｒ１、Ｒ，、Ｒ５およびＲ１
゜は水素原子、ハロゲン原子、フルキル基、アルコキシ
基、ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基
、アリール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基を
あられす。 さらにＲ１とＲい　Ｒ６とＲ１、Ｒ７とＲ８、Ｒ１とＲ
１およびＲ１とＲ１゜とが互いに環化して炭素環を形成
してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換されて
もよい。 また［Ｆ−３］、［Ｆ　−４］お上り［Ｆ−５１におｔ
ｌて２つのＲ１−Ｒ１゜はそれぞれ同一でも異なってい
てもよい。 前記一般式［Ｆ　−１］、［Ｆ　−２］、［Ｆ　−３３
、［Ｆ　−４１および［Ｆ−５］においてＲ１、Ｒ２、
およびＲｉが水素原子、アルキル基、シクロアルキル基
、Ｒ１が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロ
キシ基またはシクロアルキル基、さらにＲ１、Ｒ１、Ｒ
２、Ｒ１、Ｒ，お上びＲ１゜が水素原子、フルキル基、
またはシクロアルキル基である化合物が符に有用である
。 一般式［Ｆ］により表される化合物はテトラヘドロン（
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　ＬｅＬｔｅｒｓ）　Ｌ９７０
＋　Ｖｏｌ　２Ｌ４７４３〜４７５１頁、日本化学学会
誌１９７２．　Ｎｏ、ｔｏ、　１９８７〜１９９０頁、
シンセサイズ（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）　１９７５．　Ｖ
ｏｌ　６゜３９２−３９３頁、（Ｂｕｌ　Ｓｏｃ、　Ｃ
ｈｉｓ、　８ｅ１ｇ　）　１９７５．　Ｖｏｌ８４（７
）、　７４７〜７５９真に記載されている化合物を含み
、かつこれらに記載されている方法に従って合成するこ
とができる。 前記一般式［Ｆ］で表される化合物の使用量は、前記本
発明に係るマゼンタカプラーに対して５〜３００モル％
が好ましく、より好ましくは１０〜２００モル％である
。 以下に一般式［Ｆ］で表される化合物の具体的代表例を
示す。 以下余白 一般式（Ｇ） Ｒ Ｒゴ 式中Ｒ’及びＲ３は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基、アリール基、アリールオキシ基、７シル基、アシ
ルアミ／基、アシルオキシ基、スルホン７ミド基、シク
ロアルキル基またはアルフキジカルボニル基を表す。 Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、ヒドロキシ基、アリール基、アシル基、アシルア
ミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、シクロア
ルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す。 上に挙げた基は、それぞれ他の置換基で置換されてもよ
い、置換基として、例えばアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロ
キシ基、アルコキシ力ルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、アシルアミ７基、カルバモイル基、スルホン
アミド基、スルファモイル基等が挙げられる。 またＲ２とＲ３は互いにｔｙ！環し、５貝または６貝の
炭化水素環を形成してもよい、この５貝または６真の炭
化水素環はハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル
基、アルコキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、７リ
ール基、アリールオキシ基またはへテロ環基等で置換さ
れてもよい。 Ｙはインダン環を形成するのに必要な原子群を表す、イ
ンダン環はハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、ジクロフルキル基、ヒドロキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基、またはへテロ環基等で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成してもよい。 一般式〔Ｇ〕で示される化合物の中、本発明に待に有用
な化合物は一般式（Ｇ−１）〜（Ｇ−３）で示される化
合物に包含されろ。 とＲ５、Ｒ５とＲ６、Ｒ′とＲ７、Ｒ７とＲ’及びＲ１
とＲ１は互いに閉環して炭化水素環を形成してもよく、
更に該炭化水素環はアルキル基で置換されてもよい。 前記一般式（Ｇ−１）〜（Ｇ−３）において、Ｒ１及び
Ｒ３が水素原子、フルキル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基またはシクロアルキル基％Ｒ２が水素原子、アルキ
ル基、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、Ｒ’、　
Ｒｓ、　Ｒ’、　Ｒｔ、　Ｒ”及びＲ１が水素原子、ア
ルキル基またはシクロアルキル基である化合物が特に有
用である。 前記一般式［Ｇ］で表される化合物のうち使用量は、マ
ゼンタカプラーに対して５〜３００モル％が好ましく、
より好ましくは１０〜２００モル％である。 以下に一般式［Ｇ］で表される化合物の代表的具体例を
示す。 以下余白 一般式（Ｇ−１） 八゛ 一般式（Ｇ−２） 一般式（Ｇ−３） 一般式ＣＧ−１）〜（Ｇ−３）におけるＲ’、Ｒ２及び
Ｒ１は一般式（Ｇ）におけるものと同義であり、Ｒ＋　
、　Ｒ５、Ｒｇ　、　Ｒ？　、　Ｒ１１及びＲ１は、そ
れぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキ
シ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、了り−ル基、７リ
ールオキシ基またはへテロ環基を表す、　Ｒ１ルオキシ
カルポニル基、アシル７ミ７基、カルバモイル基、スル
ホンアミド基、スルファモイル基等が挙げられる。 またＲ１とＲ２及びＲ２とＲ３は互いに閉環し、５貝ま
たは６真の炭化水素環を形成してもよく、該炭化水素環
はハロゲン原子、フルキル基、シクロアルキル基、アル
コキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アリール基、
７リールオキシ基、ヘテロ環基等で置換されてらよい。 Ｙはインゲン環を形成するのに必要な原子群を表し、該
インゲン環は上記炭化水素環を置換し得る置換基で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成してもよい。 一般式（Ｈ）で示される化合物の中、本発明に。 特に有用な化合物は一般式（Ｈ−１３〜（Ｈ−２）で示
される化合物に包含される。 一般式（Ｈ−１） 一般式（Ｈ−２） 一般式（Ｈ−３） 一般式（Ｈ−１３〜（Ｈ−３）におけるＲ１．Ｒ２及び
Ｒ１は一般式（Ｈ）におけるものと同義であり、Ｒ’、
　Ｒｓ、　Ｒ’、　ＲフｔＲ”及びＲ１は、それぞれ水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒ
ドロキシ基、アルケニル基、アリール基、アリールオキ
シ基またはへテロ環基を表す、またＲ４とＲ５、Ｒ５と
Ｒ′、Ｒ６とＲ７、Ｒ７とＲ１及びＲ８とＲ′は互いに
閉環して炭化水素環を形成してもよく、更に該炭化水素
環はフルキル基で置換されてもよい。 前記一般式（Ｈ−１）〜（Ｈ−３３において、Ｒ１及び
Ｒ２がそれぞれ水素原子、アルキル基またはジクロフル
キル基、Ｒ３が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ
’、Ｒ’、Ｒ”及びＲ９が、それぞれ水素原子、アルキ
ル基またはシクロアルキル基である化合物が特に有用で
ある。 前記一般式［Ｈ］で表される化合物の合成方法は既知で
あって、米国特許３．０５７９２９号、Ｃｈｅｍ。 Ｂｅｒ、　１９７２．９５（５）ｔ　　１６７３１６７
４頁、Ｃｈｅｍｉｓｔ−ｒｙ　　Ｌｅｔｔｅｒｓ＊　　
１９８０ｔ７３９〜７４２頁に従って製造できる。 前記一般式［Ｈ］で表される化合物マゼンタカプラーに
対して５〜３００モル％が好ましく、より好ましくは１
０〜２００モル％である。 以下に一般式［Ｈ］で表される具体的代表例を示す。 以下余白 一般式（Ｈ） Ｒコ 式中Ｒ’及びＲ２は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、
アシルアミ／基、アシルオキシ基、スルホン７ミド基、
シクロアルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す
。 Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、了り
一ルオキシ基、７シル基、アシルアミ７基、アシルオキ
シ基、スルホンアミド基、ジクロフルキル基またはアル
コキシカルボニル基を表す。 上に挙げた基は、それぞれ他の置換基で置換されてもよ
く、例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、７シ
ル７ミ７基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スル
ファモイル基等が挙げられる。 またＲ１とＲ２及びＲ２とＲ３は互いに閉環し、５貝ま
たは６真の炭化水素環を形成してもよく、該炭化水素環
はハロゲン原子、フルキル基、シクロアルキル基、アル
コキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、７１７−ル基
、アリールオキシ基、ヘテロ環基等で置換されてもよい
。 Ｙはインゲン環を形成するのに必要な原子群を表し、該
インゲン環は上記炭化水素環を置換し得る置換基で置換
されてもよ（、更にスピロ環を形成してもよい。 一般式（Ｈ）で示される化合物の中、本発明に。 特に有用な化合物は一般式（Ｈ−１）〜（Ｈ−２）で示
される化合物に包含される。 一般式（Ｈ−１） 一般式（Ｈ−２） 一般式（Ｈ−３） 一般式（Ｈ−１）〜（Ｈ−３）におけるＲ１．Ｒ２及び
Ｒ３は一般式（Ｈ）におけるものと同義であり、Ｒ〜Ｒ
５，Ｒ１，Ｒ７，Ｒ＠及びＲ慢は、それぞれ水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ
基、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基また
はへテロ環基を表す、またＲ　４　トＲ’、Ｒ５とＲ’
、Ｒ’とＲ’、Ｒ７とＲ＠及びＲεとＲ９は互いに閉環
して炭化水素環を形成してもよく、更に該炭化水素環は
アルキル基で置換されてもよい。 前記一般式（Ｈ−１３〜（Ｈ−３）において、Ｒ’及び
Ｒ２がそれぞれ水素原子、アルキル基またはシクロアル
キル基％　Ｒ’が水素原子、アルキル基、アルコキシ基
、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、Ｒ’、　ＲＳ
、　Ｒ’、　Ｒｔ、　Ｒ”及びＲ％が、それぞれ水素原
子、アルキル基またはシクロアルキル基である化合物が
特に有用である。 前記一般式［Ｈ］″Ｃ衰される化合物の合成方法は既知
であって、米国特許３．０５７９２９号、Ｃｈｅｍ。 Ｂｅｒ、　１９７２．９５（５Ｌ　　１６７３−１６７
４７（、Ｃｈｅａ＋１ｓｔ−ｒｙ　　Ｌ　ｅｎｔｅｒｓ
、　　１９８０ｙ７３９−７４２頁に従って製造できる
。 前記一般式［Ｈ］で表される化合物マゼンタカプラーに
対して５〜３００モル％が好ましく、より好ましくは１
０〜２００モル％である。 以下に一般式［Ｈ］で表される具体的代表例を示す。 以下余白 一般式（Ｊ）　　　、−１ Ｒ”−吋　　ｙ 〔式中、Ｒ″は脂ぎ族基、シクロアルキル基またはアリ
ール基を表し、Ｙは窒素原子と共に５〜７貝環の複素環
を形成するのに必要な非金属原子群を表す、但し、該複
素環を形成する窒素原子を含む非金属原子群、２以上の
ヘタａ原子がある場合、少なくとも２つのへテロ原子は
互いに隣接しないヘテロ原子である。〕 Ｒで表される脂肪族基としては、置換基を有してもよい
飽和アルキル基、及び置換基を有してもよい不飽和アル
キル基が挙げられる。飽和アルキル基としては、例えば
、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシ
ル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ、
不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基、プロ
ペニル基等が挙げられる。 Ｒ１で表されるシクロアルキル基としては、置換基を有
してもよい５〜７貝のシクロアルキル基で例ｔば、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 Ｒ１で表されるアリール基としては、それぞれ置換基を
有してもよい７ヱニル基、ナフチル基を表す。 Ｒ’で表される脂肪族基、シクロアルキル基、アリール
基の置換基としては、アルキル基、アリール基、フルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、７シル７ミ７
基、スルファモイル基、スルホン７ミド基、カルボニル
オキシ基、フルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、フルキルチオ基、７リ
ールチオ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置換
基を有してもよい。 前記一般式（Ｊ）において、Ｙ　ｌｉ：窒素原子と共に
５〜７貝環の複素環を形成するのに必要な非金属原子群
を表すが、Ｍ複素環を形成する窒素原子を含む非金属原
子群の少なくとも２つはへテロ原子でなければならず、
また、この少なくとも２つのへテロ原子は互いにｌ！ｊ
Ｉ接してはならない、一般式（Ｊ）で表される化合物の
複素環において、全てのヘテロ原子が互いに隣接した場
合は、マゼンタ色素画像安定化剤としての機能を発揮す
ることが出来ないので好ましくない。 前記一般式（Ｊ）で表される化合物の前記５〜７貝環の
複＃、環は置換基を有してもよく、置換基としては、ア
ルキル基、７リール基、アシル基、カルバモイル基、ア
ルコキンカルボニル基、スルホニル基、スルファモイル
基等であり、更に置換基を有してもよい、また、該５〜
７貝環の複素環は飽和でありでもよいが、飽和の複索環
が好ましい、又、該複素環にベンゼン環等が縮合してい
てもよ（、スピロ環を形成してもよい。 本発明の前記一般式（Ｊ）で表される化合物の使用量は
、本発明の前記一般式（１）で表されるマゼンタカプラ
ーに対して５〜３００モル％が好ましく、より好ましく
は１０〜２００モル％である。 以下に一般式（Ｊ）で表される代表的具体例を示す。 以下余白 Ｊ−６３ Ｊ−６４ ■ ■ 区 Ｃ戊８２ｓ 前記一般式（Ｊ）で表される化合物の中で、ピペラジン
系化合物及びホモピペラジン系化合物は特に好ましく、
さらに好ましくは、下記一般式（Ｊ−１）または（Ｊ−
２）で表される化合物である。 一般式（Ｊ−１３ 一般式［Ｊ−２） 式中、Ｒ２及びＲ）は、それぞれ水素原子、アルキル基
またはアリール基を表す、但し、Ｒ２とＲ３が同時に水
素となることはない、Ｒ４−Ｒ１３は、それぞれ水素原
子、アルキル基または７リール基を表す。 前記一般式ＣＪ−ＩＥ及び（Ｊ−２）においてＲ２及び
Ｒ１は、それぞれ水素原子、アルキル基またはアリール
基を表すが、Ｒ２またはＲ３で表されるアルキル基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチ
ル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、
オクタデシル基等が挙げられる。Ｒ２またはＲ３で表さ
れるアリール基としては、フェニル基等が挙げられる。 Ｒ２またはＲ３で表されるフルキル基、アリール基は置
換基を有してもよく、置換基としては、ハａｆン原子、
フルキル基、７リール基、アルコキシ基、７リールオキ
シ基、複素環基等が挙げられる。 Ｒ２とＲ’（ｆ！を換基を含む）の炭素原子数の合計は
６〜４０が好ましい。 前記一般式（Ｊ−１）または（Ｊ−２３において、Ｒ４
〜Ｒ”は、それぞれ水素原子、アルキル基またはアリー
ル基を表すが、Ｒ４〜ＲＩ　３で表されるアルキル基と
しては、例えば、メチル基、エチル基等が挙げられる。 Ｒ４〜Ｒ＋３で表される７リール基としではフェニル基
等が挙げられる。 前記一般式（Ｊ−１）または（Ｊ−２）で表される化合
物の具体例は、前記した例示ピペラジン系化合物（Ｊ−
１）〜（Ｊ−ｊＯ）及び例示ホモピペラジン系化合＠（
Ｊ−５１）〜（Ｊ−６２）の中に記載した通りである。 次に、前記一般式（Ｊ）で表される本発明の代表的なマ
ゼンタ色素画像安定化剤の合成例を示す。 合成例−１（化合物Ｊ−２の合成） ピペラジン９．Ｏｇ及びミリスチルブロマイド５５ｇを
溶解した１００．Ｑの７七トン中に、無水炭酸カリウム
１５ｇを加゛え、１０時間煮沸還流して反応させた。 反応後、反応液を５００　ｍ（ｌの水にあけた後、酢酸
エチル５００１１１ｕで抽出した。酢酸エチル層を硫酸
マグネシワムで乾燥後、酢酸エチルを留去す諷と、白色
精品の目的物が得られた。７セＦン３０ｏ−で再結晶し
て、白色鱗片状の結晶３４ｇ（収率７０％）を得た。 蔵置５５〜５８℃ 合成例−２（化合物Ｊ−３４の合成） ４−モルホリノアニリン１８ｇをＷＰ酸エチル１００ｄ
に溶解した後、攪拌下、反応液を２０′Ｃに保ちながら
、無水酢酸１２ｆｉＱを少しずつ加えた。無水酢酸添加
後、水冷し、析出する結晶をろ取した後、酢酸エチルで
再結晶し、白色粉末状結晶１６．５ｇ（収率７５％）を
得た。 融、α２０７〜２１０℃ 一般式（Ｋ） 式中、Ｒ’は脂肪族基、シクロアルキル基またはアリー
ル基を表し、Ｙは窒素原子と共に５〜７貝環の複索環を
形成するのに必要な単なる結合手または２価の炭化水素
基を衰すａ　Ｒ”ｔＲ３，Ｒ４゜Ｒｓ、　Ｒ’、　Ｒ’
は、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロアルキル基ま
たはアリール基を表す、但し、Ｒ２とＲ４及びＲ３とＲ
６は互いに結合して単なる結合手を形成して窒素原子、
Ｙと共に不飽和の５〜７貝環の複素環を形成してもよい
、また、Ｙが単なる結合手のときは、Ｒ５とＲ７が互い
に結合して単なる結合手を形成して窒素原子、Ｙと共に
不飽和の５貝環の複索環を形成してもよい、＊た、Ｙが
単なる結合手でないときは、Ｒ５とＹ、Ｒ７とＹまたは
Ｙ自身で不飽和結合を形成して窒素原子、Ｙと共に不飽
和の６貝または７Ｆ！の複索環を形成してもよい。 Ｒ１で表される脂肪族基としては、置換基を有してもよ
い飽和アルキル基、及び置換基を有してもよい不飽和フ
ルキル基が挙げられる。飽和アルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデ
シル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ
、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基、プ
ロペニル基等が挙げられる。 Ｒ１で表されるジクロフルキル基としては、置換基を有
してもよい５〜７Ｈのジクロフルキル基で例えば、シフ
ペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 Ｒ１で表されるアリール基としては、置換基を有しても
よいフェニル基、ナフチル基を表す。 Ｒ１で表される脂肪族基、シクロアルキル基、アリール
基の置換基としては、アルキル基、アリール基、フルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ
基、スルフアモイル基、スルホンアミド基、カルボニル
オキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、了り
−ルチオ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置換
基を有してもよい。 前記一般式（Ｋ）において、Ｙは窒素原子と共に５〜７
貝環の複索環を形成するのに必要な単なる結合手または
２価の炭化水素基を表すが、Ｙが単なる結合手のと外は
、さらにＲ５とＲ？が互いに結合して単なる結合手を形
成して不飽和の５貝環の複素環を形成してもよく、また
Ｙが２価の単価水素基の場合、即ち、メチレン基の場合
には、Ｒ５とＹまたはＲ７とＹとで不飽和結合を形成し
、不飽和の６貝環の複素環を形成してもよく、またエチ
レン基の場合には、Ｒ５とＹ％Ｒ７とＹまたはＹ自身で
不飽和結合を形成し、不飽和の７貝環の複索環を形成し
てもよい、さらにＹで表される２価の炭化水素基は置換
基を有してもよく、この置換基には、アルキル基、カル
バモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アシル７ミ
７基、スルホンアミド基、スルファモイル基、アリール
基、ヘテロ環基等が挙げられる。 前記一般式（Ｋ）において、Ｒ２，Ｒコ、Ｒ４，Ｒ’ｔ
Ｒ６及びＲ７は、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロ
アルキル基またはアリール基を表すが％　Ｒ２−Ｒ７で
表される脂肪族基としては、置換基を有してもよい飽和
アルキル基及び置換基を有してもよい不飽和アルキル基
が挙げられる。飽和フルキル基としては、例えば、メチ
ル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、
テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ、不飽和
アルキル基としては、例えば、エチニル基、プロペニル
基等が苧げられる。 Ｒ２〜Ｒ？で表されるシクロアルキル基としては、置換
基を有してもよい５〜７貝環のシクロアルキル基で、例
えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。 Ｒ２−Ｒ７で表されるアリール基としては、置換基を有
してもよいフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 上記Ｒ２〜Ｒ７で表される脂肪族基、シクロアルキル基
、アリール基の置換基としては、アルキル基、アリール
基、アルコキシ基、カルボニル基、カルバモイル基、ア
シルアミ７基、スルファモイル基、スルホンアミド基、
カルボニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチ
オ基等が挙げられる。 前記一般式（Ｋ）で表される化合物は、５〜７貝環の飽
和の複素環を有する場合が、不飽和であるよりも好まし
い。 以下に前記一般式［Ｋ）で表される化合物の使用量は、
本発明の前記一般式（＋）で表されるマゼンタカプラー
に対して５〜３００モル％が好ましく、より好ましくは
１０〜２００モル％である。 前記一般式（Ｋ）で表される化合物の代表的具体例を示
す。 以下余白 に−３４ に−３５ に−３６ に−３９ に−４１ 次に、前記一般式（Ｋ）で衰される化合物の代量的合成
例を示す。 合成例−１（化合物に一１博の合成） ピペラジン９．０ｇ及び生リスチルブロマイド２Ｂ。 をｆＦ！解した６０ｔｎＱのア七（ン中に、無水Ｒ酸カ
リウム６、ｏｇを加え、２０Ｅ９間煮沸還流して反応°
させた。 反応後、反応液を’３０Ｇ−の水に注ぎ込んだ後、酢酸
エチル３００　ｍ＋１１で抽出した。酢酸エチル層をｍ
酸マグネシウムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると、白
色結晶の目的物が得られた。７セトン１００■ｑ　で再
結晶しそ、白色鱗片状の結晶１２ｇ（［率４３％）を得
た。 ｒ！ｉｉ％ｔ７ｓ−１８ａ℃ 一般式〔Ｌ〕 Ｒ１−Ｎ−Ｒ３ ↓ 一般式（Ｍ） （Ｒ？）ｄ　　　　　　　　　　　　（Ｒｓ）ｆ［−ｔ
［ＬおにびＭ中、×１、×２および×４は、それぞれ酸
素原子、イオウ原子または−ＮＲ＋ｏ−（Ｒ＋ｏは水素
原子、アルキル基、アリール基またはヒドロキシル基を
表わす）を表わす。×３はヒドロオキシ基またはメルカ
プト基を表わす。ＹはＭ！原子またはイオウ原子を表わ
す。Ｒｈ　、Ｒ２およびＲ３は水素原子、アルキル基ま
たはアリール基を表わす。但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のう
ち少なくとも一つは、アルキル基またはアリール基を表
わす。Ｒ４、Ｒｓ　、Ｒｓ　、Ｒ？　、ＲａおよびＲ９
は、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルアミ
ノ基、カルバモイルルファモイル基、スルホンアミド基
、スルホニル基、またはシクロアルキル基を表わす。ま
た、お互いに連結して５員又は６員の環を形成してもよ
い。Ｍは金属原子を表わす。ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅおよび
ｆは、それぞれＯ〜４の整数を表わす。］本発明におい
て、前記一般式［Ｌ］及び一般式［Ｍ］で示される金Ｂ
錯体は、１種でもよいし各一般式で示される化合物を２
種以上或いは各一般式で示される化合物をそれぞれ１種
以上併用することもできる。何れの場合にも本発明の目
的を十分に達成することができる。 一般式［Ｌ１及ヒ［Ｍ］　ノＸ＋　、Ｘ２　ｊ５Ｊ：Ｕ
ｘ４は互いに同じでも異なってもよいが、それぞれ酸素
原子、イオウ原子または一ＮＲ＋ｏ−（Ｒｈ。 は水素原子、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、（−
ブチル基、ｉ−ブチル基、ベンジル基等）、アリール基
（例えばフェニル基、トリル基、ナフチル基等）または
ヒドロキシル基を表わす。）を表わし、好ましくは酸素
原子またはイオウ原子であり、更に好ましくは酸素原子
である。 一般式［Ｍ］の×３は、ヒドロキシル基またはメルカプ
ト基を表わすが、好ましくはヒドロキシル基である。 一般式［Ｌ］及び一般式［Ｍ］のＹは、（一般式［Ｍ］
においては２個存在するがＹが互いに同じでも異なって
もよい〉酸素原子またはイオウ原子を表ね寸が、好まし
くはイオウ原子である。 一般式［し］、一般式［Ｍ］において、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ
６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９はそれぞれアルキル基（例え
ばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基
、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基、ｔ−オクチル基、
ｎ−ヘキサデシル基等の炭素原子数１〜２０直鎖または
分岐のアルキル基）、アリール基（例えばフェニル基、
ナフチル基等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、ｎ
−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基等の直鎖または分岐のア
ルキルオキシ基）、アリールオキシ基（例えばフェニル
基等）、アルコキシカルボニル基（例えばｎ−ペンチル
オキシカルボニル基、【−ペンチルオキシカルボニル基
、ｎ−オクチルオキシ力ルボニＪし基、ｔ−オクチルオ
キシカルボニル基等の直鎖または分岐のアルキルオキシ
カルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えば
フェノキシカルボニル基等）、アシル基（例えばアセチ
ル基、ステアロイル基等の直鎖または分岐のアルキルカ
ルボニル基等）、アシルアミノ基（例えばアセトアミド
基等の直鎖または分岐のアルキルカルボニルアミノ アリールカルボニルアミノ Ｍ（例えばアミノ基（例えばＮ−フェニルアミノ基等）
、アルキルアミノ基（例えばＮ−ｎ−ブチルアミノ基、
Ｎ．Ｎ−ジエチルアミノ基等の直鎖または分岐のアルキ
ルアミノ基）、カルバモイル基（例えばｎ−ブチルカル
バモイルＭ等の直鎖または分岐のアルキルカルバモイル
基等）、スルファモイル基（例えばＮ．Ｎ−ジ−ｎ−ブ
チルスルファモイル基、Ｎ−ｎ−ドデシルスルファモイ
ル基等の直鎖または分岐のアルキルスルファモイル基等
）、スルホンアミド基（例えばメチルスルホニルアミノ
基等の直鎖または分岐のフルキルスルホニル基、フェニ
ルスルホニルアミレ塁等のアリールスルホニルアミノ基
）、スルホニル基（例えばメシル基等の直鎖または分岐
のアルキルスルホニル基、トシル基等のアリールスルホ
ニル基）またはシクロアルキル基（例えばシクロヘキシ
ル基等）を表わす。また２個の置換基が閉環して５員ま
たは６員環を形成してもよい。（例えばベンゼン環）。 また一般式［Ｌ］及び［Ｍ］のＭは金属原子を表わすが
好ましくはニッケル原子、銅原子、コバルト原子、パラ
ジウム原子、鉄原子または白金原子等の遷移金属であり
、特に好ましくはニッケル原子である。 一般式［Ｌ］のＲ１、Ｒ２及びＲ３は直鎖または分岐の
アルキル基（例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ヘキサデシル
基等）、アリール基（例えば）工二ル基、ナフチル基等
）を表わす。 これらのアルキル基及びアリール基には置換基（例えば
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシル
アミムＬアリールアミノ基、アルキルアミノ基、カルバ
モイル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、スル
ホニル基、シクロアルキル基等）を有するものも含む。 次に本発明に係わる代表的な金属錯体の具体例を示すが
、これらによって限定されるものではないＯ ＮＨ（　Ｃ２Ｈ９（ｎ））ｚ ↓ Ｎｕ　（　Ｃ４　Ｈｓ（ｎ）　）　２ ↓ Ｎ（Ｃ２Ｈ５）３ ↓ Ｃ＋＋Ｈｔ妃ｔ）　Ｃ　ｓ　Ｈｉｔ（ｔ）２Ｈ５ Ｈ−Ｎ　　　Ｃ１１Ｈ１７（ｎ） ↓ Ｃ５ｚＨｚｓＣｎ） ＨＮ−Ｃｌ２Ｈ２５（ｎ） ↓ （ｎ）ＨｏＣｓＯＯＣＣ００ＣｓＨｏ（ｎ）Ｌ　−７（
ＣＨ２）４　０−Ｃ２Ｈ５ Ｈ５Ｃ２Ｎ　　Ｃ２Ｈ５ ↓ Ｃ１１Ｈ１７（ｔ）　　Ｃ３ＨＩ７（ｔ）ＮＨ（ＣＩｌ
　ＨＩ３（ｔ））　２ ↓ Ｃ３Ｈ１？（ｎ）　　Ｃ５Ｈｔｙ（ｎ）Ｌ　−１０ＮＨ
（Ｃ４Ｈ９（ｉ））２ ↓ ＮＨ（ＣＨ２ＣＨ−Ｃ４Ｈ９）２ ↓ Ｎｕ　（Ｃｌ２Ｈ２５（ｎ））ｚ ↓ Ｃａ＆ｔ（ｔ）　　Ｃ８Ｈ１？（ｔ） ＮＨ（Ｃｌ２Ｈ２５（ｎ））３ ↓ Ｎ　（０８ＨＩ３（ｎ）　）　３ ＫＮ（ＣＨ２ＣＨＣ４Ｈ９）２ （ｔ）ＨＩ３　Ｃ８Ｃａｌ　ＨＩ３（をンＬ−１７ ＮＨ２Ｃ４Ｒ９（ｎ） ↓ Ｌ−１８ＣｚＨｓ ＮＨ２ＣＩ（２ＣＨＣ４Ｈｓ（ｎ） ↓ ＮＨ２Ｃ１２Ｈｚ　５（ｎ） ↓ −２Ｏ ＮＨ２Ｃ１ｇＨ３ｙ（ｎ） ↓ 以下余白 −Ｉ 一般式（Ｎ） ［一般式（Ｎ）中Ｒｚ＋ｙ　Ｒ２２＊　Ｒｚｚ及びＲ２
４はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、
シアノ基または直接もしくは２価の連結基を介して間接
的にベンゼン環上の炭素原子に結合するアルキル基、ア
リール基、シクロアルキル基もしくは複素環基を表わす
、またＲ２１と　Ｒ２□、Ｒ２２とＲ２，または　Ｒ２
ｊとＲ２４とが互いに結合して６貝環を形成してもよい
。 Ｒ２Ｓは、水素原子、アルキル基またはアリール基を表
わす、Ａは水素原子、アルキル基、アリール基又はヒド
ロキシ基を表わす０Ｍは金属原子を表わす、】 一般式（Ｎ）において、Ｒ２目Ｒ２１ｔ　Ｒ２コ及ＶＲ
２４で表わされるハロゲン原子は、弗素原子、Ｒ２１１
Ｒ２１１Ｒ２３及び［（２４で表わされるアルキル基は
、好ましくは炭素数１ないし１９のアルキル基であり、
直鎖アルキル基、分岐アルキル基のいずれであってもよ
く、また置換基を有してもよい。 Ｒ２１＊　Ｒｌｔｅ　Ｒ２３及びＲ２４で表わされるア
リール基は、好ましくは炭素数が６ないし１４の７リー
ル基であり、置換基を有してもよい。 Ｒ２＋ｙ　Ｒａｚｅ　Ｒ２コ及びＲ２４で表わされる複
素環基は、好ましくは５貝環または６貝環であり、置換
基を有してもよい。 Ｒｌｔｅ　Ｒ２ｔ＊　Ｒ２３及びＲ２４で表わされるシ
クロアルキル基は好ましくは５貝環基または６貝環基で
あり、置換基を有してもよい。 Ｒ２１とＲａｔとが互いに結合して形成される６貝環は
、例えば などを挙げることができる。 Ｒ２２と１２３もしくはＲ２，とＲ２４とが互いに結合
して形成される６貝環は、好ましくはベンゼン環であり
、このベンゼン環は置換基を有してもく、また、結合し
たものであってもよい。 Ｒｌｔｅ　ＩＬｚｔ　Ｒ２）及びＲ２４で表わされるア
ルキル基としては、たとえば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、オク
チル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキ
サデシル基、オクタデシル基をあげることができる。 Ｒｚ＋ｔＲｚ□Ｒ２）及びＲ２４で表わされるアリール
基としては、たとえば、フェニル基、ナフチル基をあげ
ることができる。 Ｒｌｔｅ　Ｒｚｚｔ　Ｒ２３及びＲ２４で表わされる複
索環基は、好ましくはへテロ原子として、環中に少なく
とも１個の窒素原子、酸素原子もしくはイオウ原子を含
む５ないし６貝の複素環基であり、たとえば、７リル基
、ヒドロ７リル基、チェニル基、ピラゾリル基、ピロリ
ノル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、
キノリル基、インドリル基、オキサシリル基、チアゾリ
ル基などをあげることができる。 Ｒ２１１Ｒｚｚｔ　Ｒ２３及びＲ２４で表わされるシク
ロアルキル基としては、たとえば、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロヘキサ
ジェニル基などをあげることができる。 Ｒｘ＋ｔ　Ｒ２ｚｔ　Ｒ２ｚ及びＲ２４とが互いに結合
して形成される６貝環としては、たとえばベンゼン環、
ナフタレン環、イソベンゾチオフェン環、イソベンゾフ
ラン環、インイントン環などをあげることができる。 上記のＲ２□Ｒ２□、Ｒｏ及ＶＲ２４で表わされるアル
キル基、シクロアルキル基、アリール基または複索環基
は２価の連結基、たとえば、オキシ基（−〇−）、チオ
基（−３−）、アミ７基、オキシカルボニル基、カルボ
ニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、カルボニ
ルアミ７基、スルホニルアミ７基、スルホニル基または
カルボニルオキシ基などを介して、ベンゼン環上の炭素
原子に結合してもよく、この中に好ましい基があるもの
らある。 Ｒｚ＋＋　Ｒｌｔｅ　Ｒ２ｘ及びＲ２４で表わされるア
ルキル基が上記の２価の連結基を介してベンゼン環上の
炭素原子に結合している例としては、アルコキシ基　（
たとえば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、プロ
ポキシ基、２−エチルへキシルオキシ基、ｎ−デシルオ
キシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、またはｎ−ヘキサデシ
ルオキシ基など）、アルコキシカルボニル基（たとえば
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキ
シカルボニル基、ｎ−テ°シルオキシカルボニル基また
はｎ−ヘキサテ゛シルオキシカルボニル基など）、アシ
ル基（たとえば、アセチル基、バレリル基、ステアロイ
ル基、ベンゾイル基またはトルオイル基など）、アシル
オキシ基（たとえばアセトキシ基またはヘキサデシルカ
ルボニルオキシ基など）、アルキルアミノ基（たとえば
、ローブチルアミ７基、Ｎ、Ｎ−ジエチルアミ７基また
はＮ、Ｎ−ノブシルアミ／基など）、アルキルカルバモ
イル基（たとえば、ブチルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−シ
エチルカルバモイル基、またはｎ−ドデシルカルバモイ
ル基すど）、アルキルスルファモイル基（たとえば、ブ
チルスル７７モイル基、Ｎ、Ｎ−ノエチルスル７アモイ
ル基またはｎ−ドデシルスルファモイル基など）、スル
ホニルアミノ基（たとえば、メチルスルホニルアミ７基
、またはブチルスルホニルアミ７基など）、スルホニル
基（たとえば、メシル基、またはエタンスルホニル基な
ど）、またはアシルアミ７基（たとえば、アセチル７ミ
７基、バレリル７ミ７基、バルミトイルアミ７基、ベン
ゾイル７ミ７基またはトルオイルアミ７基など）などを
あげることができる。 Ｒｔｌ＊　Ｒ２２１Ｒ２３及びＲ２４で表わされるジク
ロフルキル基が上記の２価の連結基を介して環上の炭素
原子に結合している例としては、シクロヘキシルオキシ
基、シクロヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルオキ
シカルボニル−基、シクロヘキシルアミ７基、シクロヘ
キセニルカルボニル基またはシクロへキセニルオキシ基
などをあ：デることができる。 Ｒ２目Ｒ２２＊Ｒ２コ及びＲ２４で表わされるアリール
基が上記の２価の連結基を介して環上の炭素原子に結合
している例としては、アリールオキシ基（たとえば、フ
ェノキシ基またはす７トキシ基など）、アリールオキシ
カルボニル基（たとえば、７エ／キシカルボニル基また
はす７トキシカルボニル基など）、アシル基（たとえば
、ベンゾイル基またはす７トイル基など）、アニリノ基
（たとえばフェニルアミノ基、Ｎ−メチルアニリノ基ま
たはＮ−７セチルアニリ７基など）、　アシルオキシ基
（たとえば、ベンゾイルオキシ基またはトルオイルオキ
シ基など）、７リールカルバモイル基（たとえばフェニ
ルカルバモイル基など）、アリールスルファモイル基（
たとえばフェニルスルファモイル基など）、７リールス
ルホニルアミノ基（たとえば、フェニルスルホニル７ミ
７基、　ｐ−トリルスルホニルアミ７基など）、アリー
ルスルホニル基（たとえば、ベンゼンスルホニル基、ト
シル基など）、またはアシルアミ７基（たとえばベンゾ
イル７ミ７基など）をあげることができる。 上記のＲ２□Ｒ２２ｔ　Ｒ２）及びＲ２４で麦すされる
アルキル基、了り−ル基、ｖｉ素環基、シクロアルキル
基またはＲ２１とＲ２２、Ｒ２２とＲ才、もしくはＲ，
、とＲ２，とが互いに結合して形成される６Ｒ環は、ハ
ロゲン原子（たとえば塩素原子、臭素原子または弗素原
子など）、シアノ基、アルキル基（たとえば、メチル基
、エチル基、ｉ−プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、
オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、
ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ま
たはメトキシエトキシエチル基など）、アリール基（た
とえば、フェニル基、トシル基、ナフチル基、クロロフ
ェニル基、メトキシフェニル基またはアセチルフェニル
基なと）、アルコキシ基（たとえば、メトキシ基、エト
キシ基、ブトキシ基、プロポキシ基またはメトキシエト
キシ基など）、アリールオキシ基（たとえば７エ／キシ
基、トリロキシ基、ナフトキシ基またはメトキシフェノ
キシ基など）、アルコキシカルボニル基（たとえば、メ
トキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基または７２
ツキジメトキシカルボニル基など〕、アリーロキシカル
ボニル基（たとえば、フェノキシカルボニル基、トリロ
キシカルボニル基またはメトキシフェノキシカルボニル
基など）、７シル基（たとえば、ホルミル基、７セチル
基、バレリル基、ステア０イル基、ベンゾイル基、トル
オイル基、ナフトイル基またはｐ−ノドキシベンゾイル
基など）、７シルオキシ基（たとえば、アルコキシ基ま
たはアシルオキシ基など）、７シルアミ７基（たとえば
、７セトアミド基、ベンズアミド基、またはメトキシア
七ドアミド基など）、アニリノ基（たとえば、フェニル
７ミ７基、Ｎ−メチルアニリノ基、Ｎ−７二二ルアニリ
７基、またはＮ−７セチルアニリ７基など）、アルキル
アミ７基（たとえばロープチルアミ７基、Ｎ、Ｎ−クエ
チルアミノ基、４−メトキシ−ｎ−ブチルアミ７基など
）、カルバモイル基（たとえば、ｎ−ブチルカルバモイ
ル基、Ｎ、Ｎ−ノエチル力ルバモイル基、ローブチルス
ルファモイル基、Ｎ、Ｎ−ジエチルスル７７モイル基、
ｎ−ドデシルスルファモイル基、またはＮ−（４−メト
キシ−ｎ−ブチル）スルフ１モイル基など）、スルホニ
ルアミ／基（たとえば、メチルスルホニルアミ７基、フ
ェニルスルホニルアミ７基、またはメトキシメチルスル
ホニル７ミ７基など）、またはスルホニル基（たとえば
、メシル基、トシル基またはメトキシメタンスルホニル
基など）＊の基で置換されていて°もよい。 Ｒｉｓ及びＡで表わされるアルキル基は置換基を有して
もよ（、直鎖または分岐のいずれであってもよい、これ
らのアルキル基は、置換基部分の炭素原子を除いて、好
虫しくは炭素数１ないし２０のアルキル基であり、たと
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラ
デシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基またはオク
タデシル基などをあげることができる。 Ｒ２Ｓ及ｖＡ″Ｃ１″表わされるアリール基は、置換基
を有してもよ＜、ｒ！ＩＰＡ基部分の炭素原子を除いて
、好ましくは炭素数６ないし１４の７リール基であり、
たとえば、フェニル基、トリル基またはす７チル基など
をあげることができる。又Ａを介して、２つの配位子が
連結されていてもよい。 式中Ｍは金属原子を表わす、好ましくは遷移金属原子で
ある。さらに好ましくはＣｕ、Ｃｏｌ　Ｎ　ｉ　ｔＰｄ
、Ｆｅまたはｐｔであり、待に好ましくはＮｉである。 Ａの好ましい基はヒドロキシ基である。 また、上記した一般式（Ｎ）で表わされるｌｉ体の中で
、好ましく用いられるものは、Ｒ２１がオキシ基、チオ
基、カルボニル基を介したアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基または複索環基、ヒドロキシ基またはフ
ッ素であり、Ｒ２２、Ｒ２２またはＲ２４で表わされる
基の少なくとも１つが水素原子、ヒドロキシ基、フルキ
ル基またはフルコキシ基である。その中でも更に好まし
いものは、Ｒ２、が水素原子であるものであり、Ｒ２１
ｔ　Ｒ２２１Ｒ２、またはＲ２４で表わされる基の炭素
数の合計が少なくとも４以上である錯体である。 以下余白 例示化合物 −Ｉ Ｎ−９ Ｎ−１Ｏ ｏｃｎ２Ｃ１ｌ（ＣＪｓ）Ｃｊｌ。 Ｎ−２２Ｃ２Ｈ。 Ｎ−２３Ｃ１１・ Ｎ−２６ Ｎ−２７ −９Ｏ −３Ｏ Ｎ−４１ Ｎ−４２ −５Ｏ Ｎ−５７ Ｎ−５８ −６Ｏ さ１−６５ −７Ｏ Ｎ−７３ Ｎ−７４ −８Ｏ ＰＪ−ＱＱ Ｎ−９Ｏ ｒ（夏−９７ Ｎ−１０１ Ｎ−１０５ Ｎ−１０６ 前記一般式（Ｌ）〜（Ｎ＞で示される化合物の添加位は
、本発明に係る一般式［Ｉ］で示されるマゼンタカプラ
ーに対して５〜３００モル％が好ましく、より好ましく
は１０〜２００モル％で競る。 前記一般式（Ａ）〜（Ｈ）および（Ｊ）〜（Ｎ）で示さ
れる化合物は１種を単独で用いてもよいし、２種以上併
用してもよい。 以下余白 本発明において、本発明に係る一般式［Ｉ］で示される
シアンカプラーおよび一般式［１１１１で示される化合
物を油滴として含有するハロゲン化銀乳剤層には、ざら
に以下に示す一般式［ａ　］、［ｂ　］および［ｃ］で
示される化合物から選ばれる少なくとも１つの化合物を
退色防止剤として用いることが好ましい。 一般式［ａ　Ｉ ｃ式中、Ｒ’？＋およびＲ＋ｚは、それぞれアルキル基
を表わす。Ｒ伯はアルキル基、−ＮＲ’Ｒ”基−８Ｒ’
基または−Ｇ　ＯＯＲ”基（ここで、Ｒ′は１価の有機
基を表わし、Ｒｔｔは水素原子または１（ｉＩｌｉの有
機基を表わす。）を表わす。ｍはＯ〜３の整数を表わす
。］ 以下余白 一般式［ｂ　］ １式中、Ｒｇは水素原子、ヒドロキシル基、オキシラジ
カル基（−δ基）、−８ＯＲ’基、−８Ｏ２Ｒ’基（Ｒ
’　は１価の有機基を表わす）、アルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基または−ＣＯＲ’！４（Ｒ”は水素
原子または１価の有機基を表わす。）を表わす。ＲＩ６
、Ｒ砧、曙　　、ＲシおよびＲ４？はそれぞれアルキル
基を表わす。 、　Ｒ竹および８倍は、それぞれ水素原子または−ＯＣ
ＯＲ廠基（Ｒ５０ハ１　（１０）有ｍＢ’ｌｒ：表ワス
。）を表わすか、あるいはＲ＋７およびＲ姥が共同して
複素環基を形成しても良い。ｎはＯ〜４の整数を表わす
。］ 以下余白 一般式［ｃ］ ［式中、Ｒ７１％Ｒ？２およびＲ？３は、それぞれ水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルケニル基、ニトロ基ま
たは水酸基を表わす。１ 本発明において前記一般式［ａ　］のＲ＋１およびＲ４
２で表わされるアルキル基の好ましくは、炭素原子数１
〜１２個のアルキル基、更に好ましくは炭素原子数３〜
８個のα位が分岐のアルキル基である。Ｒ４１およびＲ
１）１の特に好ましくは、【−ブチル基または【−ペン
チル基である。 Ｒ４３で表わされるアルキル基は、直鎮または分岐のも
のであり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、ドデシル
基、オクタデシル基等である。 このアルキル基は置換基を有するものを含み、置換基と
しては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、シ
アン基、アリール基（例えばフェニル基、ヒドロキシフ
ェニル基、３．５−ジ−ｔ−ブチルー４−ヒドロキシフ
ェニル基、３．５−ジ−ｔ−ベンチルー４−ヒドロキシ
フェニル基等）、アミノ基（例えばジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、１．３．５−トリアジニルアミノ基
等）、アルキルオキシカルボニル基（例えばメトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカ
ルボニル基、ブトキシカルボニル基、ベン′グルオキシ
カルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ノニルオ
キシカルボニル基、ドアシルオキシカルボニル基、オク
タデシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカル
ボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、カルバ
モイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバ
モイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイ
ル基、ヘプチルカルバモイル ルバモイル リールカルバモイル イル基等のシクロアルキルカルバモイル曇等）、イソシ
アヌリル基、１．３．５−トリアジニル基等の複素環基
が挙げられる。Ｒ４３で表わされるアミノ基は、例えば
ジメブールアミムＬジエチルアミノ基、メチルエチルア
ミノ基等のフルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ヒド
ロキシルフェニルアミノ基等のアリールアミノ基、シク
ロヘキシル基等のシクロアルキルアミノ基、１．３．５
−トリアジニルアミムＬイソシアヌリル基等の複素環ア
ミノ基などを包含する。Ｒ′およびＲ　ｎで表わされる
１価の有機基は、例えばアルキル基（例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、デシル基
、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等）、
アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基等）、シク
ロアルキル基（例えばシクロヘキシル基等）、複素環Ｍ
（例えば１．３．５−トリアジニル基、イソシアヌリル
基等）を包含する。これらの有機基は置換基を有するも
のを含み、この置換基としては、例えばハロゲン原子（
例えばフッ素、塩素、臭素等）、ヒドロキシル基、ニト
ロ基、シアノ基、アミノ基、アルキルＭ（例えばメチル
基、エチル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｔ−７
ミル基等）、アリール基（例えばフェニル基、トリル基
等）、アルケニル基（例えばアリル基等）、アルキルカ
ルボニルオキシＭ（例えばメチルカルボニルオキシ基、
ニゲルカルボニルオキシ ルオキシ （例えばベンゾイルオキシ基等）などが挙げられる。 未発．明において前記一般式［ａ　］で表わされる化合
物の好ましくは下記一般式［ａ′　］で表わされる化合
物である。 一般式［ａ′　］ ［式中、Ｒ，およびＲ−は、それぞれ炭素原子数３〜８
個の直鎖または分岐のアルキル基、特にｔ−ブチル基、
［−ペンチル基を表わす。Ｒ５３はに価の有［３を表わ
す。ｋは１〜６の整数を表わす。］ ＲＳ３で表わされるに価の有ｉ基としては、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、
オクチル基、ヘキサデシル塁、メトキシエチル基、クロ
ロメチル基、１．２−ジブロモエチル基、２−クロロエ
チル基、ベンジル基、フェネチル基等のアルキル基、ア
リル基、プロベニル基、ブテニル基等のアルケニル基、
エチレン、トリメアレン、プロピレン、ヘキサメチレン
、２−クロロトリメチレン等の多価不飽和炭化水素基、
グリセリル、ジグリセリル、ペンタエリスリチル、ジペ
ンタエリスリチル等の不飽和炭化水素基、シクロプロピ
ル、シクロヘキシル、シクロへキセニル基等のＩＩＩ環
式炭化水素基、フェニル基、ｐ−オクチルフェニル基、
２，４−ジメチルフェニル基、２．４−ジー【−ブチル
フェニル基、２．４−ジー（−ペンチルフェニル基、ｐ
−クロロフェニル基、２．４−ジブロモフェニル基、ナ
フチル基等のアリール基、１．２−または１．３−ある
いは１．４−フェニレン基、３，５−ジメチル−１゜４
−フェニレン基、２−ｔ−ブチル−１，４−フェニレン
基、２−りｎｏ−１，４−フェニレン麩、ナフタレン基
等のアリーレン基、１．３．５−三置換ベンゼン基等が
挙げられる。 Ｒ，は、更に上記の基以外に、上記基のうち任意の基を
一〇−、−８＋、−８Ｏ２−基を介して結合したに価の
有機基を包含する。 Ｒぢ３の更に好ましくは、２．４−ジーｔ−プチルフ１
ニル基、２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェニル基、ｐ−オ
クチルフェニル基、ｐ−ドデシルフェニル基、３，５−
ジ−ｔ−７チルー４−ヒドロキシルフェニル基、３，５
−ジ−ｔ−ペンチル−４−ヒドロキシフェニル基である
。 ｋの好ましくは、１〜４の整数である。 以下に前記一般式［ａ　］で表わされる具体的化合物を
挙げるが、本発明はこれらに限定されない。 Ｃ４Ｈｓ（ｔ） ａ−６Ｃ４Ｈ１ｌ（ｔ） Ｃ４Ｈ９（ｔ） ａ　−２１ ａ　−２２ Ｃ４Ｈ９（ｔ）　　　　　　　Ｓ　Ｃ２Ｈ５ａ−２９８
−３０ ａ−３，ａ　−３２ ａ　−２３ ａ　−２４ ａ　　−３３ａ　　−３４ ａ　　−３５ａ　−３６ ａ　　−３７ａ　　−３８ Ｃ４Ｈ９（ｔ） ＣｓＨｔｔ（ｔ） Ｃ４Ｈ９（ｔ） Ｃ８Ｈ１？ Ｃ７ＨＩＳ　（ｓｅｅ） Ｃ８Ｈ１７（ｔ） Ｃ５Ｈ１１（ｔ） Ｃ５Ｈ１１（ｔ） Ｃ４Ｈｓ（ｔ）　　　　Ｃ３Ｈ１１（ＳｅすＣ４）ｆｓ
（ｔ）　　　　　　　　Ｃｌ２Ｈ２５（Ｓｅｃ）Ｃａ）
Ｌｓ（ｔ） Ｃ４Ｈ９（ｔ） ａ　−８１ ａ　−８８ 本発明において前記一般式［ｂ　］のＲ４＋で表わされ
るアルキル基の好ましくは、炭素原子数は１〜１２個で
あり、アルケニル基またはアルキニル基の炭素原子数は
２〜４個であり、Ｒ′、Ｒ″で表わされる１価の有機基
は、例えばアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
アリール基等である。Ｒ４＋で表わされる好ましい基と
しては、水素原子、アルキル基（例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、クロロメチル基、ヒドロ
キシメチル基、ベンジル基等）、アルケニル基（例えば
ビニル基、アリル基、イソプロペニル基等）、アルキニ
ル基（例えばエチニル基、プロピニル基等）、または−
〇　ＯＲ”基であり、Ｒ“の好ましくは、例えばアルキ
ル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ベンジル基等）、アルケニル基（例えばビニル基、
アリル基、イソプロペニル基等）、アルキニル基（例え
ばエチニル基、プロピニル基等）、アリール基（例えば
フェニル基、トリル基等）である。 Ｒ軸、Ｒ砧、Ｒ祷、Ｒ４およびＲ竹で表わされるアルキ
ル基の好ましくは、炭素原子数１〜５個の直鎮または分
岐のアルキル基であり、特に好ましくはメチル基である
。 Ｒ４７およびＲ崎において、Ｒｒｏで表わされる１価の
有機基としては、例えばアルキル基（例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、オクチ
ル基、ドデシル基、オクタデシル基等）、アルケニル基
（例えばビニル基等）、アルキニル基（例えばエチニル
基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基等
）、アルキルアミノ基（例えばエチルアミノ基等）、ア
リールアミノ基（例えばアニリノ基）等である。Ｒ＋７
およびＲ４８が共同して形成する複素環基としては、例
えば （Ｒ詐は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基また
はフェニル基である−０）などが挙げられる。 本発明において前記一般式［ｂ］で表わされる化合物の
好ましくは、下記一般式［ｂ′　］で表わされるもので
ある。 一般式［ｂ′］ Ｒｉはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ペンチル基、ベンジル基等）、アル
ケニル基（例えばビニル基、アリル基、イソプロペニル
基等）、アルキニル基（例えば、エチニル基、プロペニ
ル基等）、アシル基（例えばホルミル基、アセチル基、
プロピオニル基、ブチリル基、アクリロイル基、プロピ
オロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基若）を
表わす。 Ｒｉの更に好ましい基としては、メチル基、エチル基、
ビニル基、アリル基、プロピニル基、べンジル基、アセ
チル基、プロピオニル基、アクリロイル基、メタクリロ
イル基、クロトノイル基である。 以下に前記一般式［ｂ　］で表わされる具体的化合物を
挙げるが、本発明はこれらに限定されない。 以下余白 Ｃ市 Ｈ３ Ｌ：１ら し由　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　Ｃ
：ｋｂｂ　−１７ ｂ−１２′ｃ市 Ｈ３ Ｈ３ ｂ−２ケ Ｃ）Ｌｉ ｂ　−２９ ＣＨ３ＣＭ１３ ｂ−３う ｂ−３午 ｂ−３デ −３ｃＩ ｂ　　−ｎ。 ｂ　−４２ １１−４ワ −４Ｑ ｂ　−呟Ｏ ｂ　−引 ｂ　−号２ ｂ−５午 ｂ−ｓら ｂ　−５８ Ｌ：ｋｉ３ 一般式［ｃ］ 上記一般式［ｃ］において、Ｒ７／　−Ｒ７２およびＲ
？３はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、
アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルケ
ニル基、ニトロ基または水ｗｉ基を表わすが、Ｒ７／　
、Ｒ７ｍおよびＲり３で表わされるハロゲン原子として
は、例えば、弗素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げら
れ、特に塩素原子が好ましい。 Ｒ？／　ｓ　Ｒ？λおよびＲ？３で表わされるアルキル
基、アルコキシ基としては、炭素数１〜２０のもの、“
アルケニル基としては、炭素数２〜２０のものが好まし
く、直鎖でも分岐でもよい。 また、これらアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基
は、さらに置換基を有するものも含む。 置換基としては、例えばアリール、シアノ、ハロゲン原
子、ペテロ環、シクロアルキル、シクロアルケニル、ス
ピロ化合物残塁、有橋炭化水素化合物残基の他、アシル
、カルボキシ、カルバモイル、アルコキシカルボニル、
アリールオキシカルボニルの如くカルボニル基を介して
置換するもの、更にはへテロ原子を介して置換するもの
（具体的にはヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ
、ヘテロ環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモ
イルオキシ等の酸素原子を介して置換するもの、ニトロ
、アミノ（ジアルキルアミノ等を含む）、スルファモイ
ルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキ
シカルボニルアミノアミノ、スルホンアミド、イミド、
ウレイド等の窒素原子を介して買換するもの、アルキル
チオ、アリールチオ、ヘテロ環チオ、スルホニル、スル
フィニル、スルファモイル等の硫黄原子を介して置換す
るもの、ホスホニル等の燐原子を介して置換するもの等
）が挙げられる。 具体的には、例えばメｆール基、エチル基、イソプロピ
ル基、ｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ブチル基
、ｎ−アミル基、ｓｅｃ−アミル基、（−アミル基、α
，αージメチルベンジル基、オクチルオキシカルボニル
エヂル基、メトキシ基、エトキシ基、オクチルオキシ基
、アリル基等が挙げられる。 Ｒｔ１％Ｒ？２オよびＲ？３で表わされるアリール基、
アリールオキシ基としては、例えばフェニル基、フェニ
ルオキシ基が特に好ましく、置換基（例えばアルキル基
、アルコキシ基等）を有するものも含む。置換基として
は、例えばフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、２
．４−ジー【−アミルフェニル基等が挙げられる。 Ｒ７７およびＲり２で表わされる基のうち、水素原子、
アルキル基、アルコキシ基およびアリール基が好ましく
、特に水素原子、アルキル基およびアルコキシ基が好ま
しい。 Ｒ７３で表わされる基のうち特に水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基が好ましい。 更に前記一般式［ｃ　］で表わされる化合物のうち、常
温にて液体である化合物は、本発明に係るカプラー等の
退色防止剤等の高沸点有機溶媒としても用いることがで
きるため、塗膜中のオイル比率を下げることができる点
、および析出性の点から有利に用いることができる。 ここで常温にて液体であるとは、本発明に係るハロゲン
化銀カラー写真感光材料に一般式［ｃ］で表わされる化
合物を含有させる工程の温度条件下において液状であれ
ばよく、特にその融点が３０℃以下である化合物が好ま
しい。更に好ましくは融点が１５℃以下の化合物である
。 またこの場合、上記条件下にて液状であれば、２−（２
’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール系化合物
のうち、いかなる化合物をも用いられ、単一化合物であ
っても混合物であってもよい。混合物としては構造異性
体群から構成されるものを好ましく用いることができる
。 以下余白 以下に前記一般式ＣＣ〕で表わされる化合物の代表的具
体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。 Ｃ４Ｈ９（ｔ） Ｈ３ Ｈ３ Ｃ４Ｈ９（ｔ） Ｃ４Ｈ９（ｔ） Ｃ４Ｈ９（ｔ） Ｃ４Ｈ９（ｔ） ０４Ｈ９（８６’：） Ｃ４Ｈ９（ｔ） ＣｓＨｏ（ｔ） （Ｃ−２２） 前記一般式［ａ　］〜［ｃ］で示される化合物は、く、
より好ましくは５〜２００重量部の範囲で用いられる。 前記一般式［ａ　］〜［ｃ］で示される化合物は１種を
単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。 本発明のハロゲン化銀写真感光材Ｆｌの保護層、中間層
等の親水性コロイド層に感光材料がＢＰＭ、等で帯電す
る事に起因する放電によるカブリ防止、画像のＵ■光に
よる劣化を防止するために紫外線吸収剤を含んでいても
良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料には、フィルタ一層
、ハレーション防止層、及び／又はイラジェーション防
止層等の補助層を設ける事が出来る。これらの居中及び
／又は乳剤層中には、現椴処理中にカラー感光材料より
流出するか、もしくは漂白される染料が含有させられて
も良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン化銀乳剤
層及び／又はその他の親水性コロイド層に感光材料の光
沢を低減する、加筆性を高める、感材相互のくつつき防
止等を目標としてマット剤を添加出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の滑りｓｔｙを低減
させるために滑剤を添加出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に、帯電防止を目的
とした帯電防止剤を添加出来る。帯電防止剤は支持体の
乳剤を積層してない側の帯電防止層に用いられる事もあ
るし、乳剤層及び／又は支持体に対して乳剤層が積層さ
れている側の乳剤層以外の保護コロイド層に用いられて
も良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層及び／
又は他の親水性コロイド層には、塗布性改良、帯電防止
、スベリ性改良、乳化分散、接着防止、及び（現像促進
、硬調化、増感等の）写真特性改良等を目的として、種
々の界面活性剤が用いられる。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、写真乳剤層およ
びその伯の層をバライタ紙又はα−オレフレインボリマ
ー等をラミネートした紙、合成紙等の可撓性反射支持体
、酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカー
ボネイト、ポリアミド等の半合成又は合成高分子からな
るフィルムや、ガラス、金属、陶器などの剛体等に塗布
出来る。これらのうちで反射支持体が好ましく、例えば
、酸化チタン等の白色顔料をポリエチレン等のポリマー
に添加し、紙をラミネートした支持体が好ましい。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、必要に応じて支
持体表面にコロナ放電、紫外線照射、火焔処理等を施し
た後、直接又は（支持体表面の接着性、帯電防止性、寸
度安定性、１ｌｉｌｌ＊耗性、硬さ、ハレーション防止
性、ｒ！１ｍ特性、及び／又はその伯の特性を向上する
ための、１または２以上の下塗層）を介して塗布されて
も良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の塗布に際して、塗
布性を向上させる為に増結剤を用いても良い。塗布法と
しては２種以上の層を同時に塗布する事の出来るエクス
ドールジョンコーティング及びカーテンコーティングが
特に有用である。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、本発明の感光材
料を構成する乳剤層が感度を有しているスペクトル領域
のｆｆ１ｌａ波を用いて露光出来る。光源としては、自
然光（日光）、タングステン電灯、蛍光灯、水銀灯、キ
セノンアーク灯、炭素アーク灯、キセノンフラッシュ灯
、陰極線管フライングスポット、各種レーザー光、発光
ダイオード光、電子線、Ｘ線、γ線、α線などによって
励起された蛍光体から放出する光等、公知の光源のいず
れでも用いることが出来る。 露光時間は通常カメラで用いられる１ミリ秒から１秒の
露光時間は勿論、１マイクロ秒より短い露光、例えば陰
極線管やキセノン閃光灯を用いて１００マイクロ秒〜１
マイクロ秒の露光を用いることも出来るし、１秒以上よ
り長い露光も可能である。該露光は連続的に行なわれて
も、間欠的に行なわれても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、当業界公知のカ
ラー現像を行う事により画像を形成することが出来る。 本発明において発色現像液に使用される芳香族第１級ア
ミン系発色現像主薬は、種々のカラー写真プロセスにお
いて広範囲に使用されている公知のものが包含される。 これらの現像剤はアミノフェノール系及びｐ−フェニレ
ンジアミン系誘導体が含まれる。これらの化合物は遊離
状態にり安定のため一般に塩の形、例えば塩ＦＩＩＭｇ
または硫′ＰＩｉ塩の形で使用される。また、これらの
化合物は一般に発色現像液１１について約０．１ｇ〜約
３０（＋の濃度、好ましくは発色現像液１２について約
１ｇ〜約１５０の濃度で使用する。 アミノフェノール系現椴剤としては、例えば０−アミン
フェノール、ｐ−アミノフェノール、５−アミ・ノー２
−オキシトルエン、２−アミノ−３−オキシトルエン、
２−オキシ−３−アミノ−１，４−ジメチルベンゼンな
どが含まれる。 特に有用な第１＠芳香族アミン系発色現像剤はＮ、Ｎ’
−ジアルキル−ｐ−フェニレンジアミン系化合物であり
、アルキル基及びフェニル基は任意の置換基で置換され
ていてもよい。その中でも特に有用な化合物例としては
、Ｎ、Ｎ’　−ジエチル−ｐ−フェニレンジアミン塩酸
塩、Ｎ−メチル−ｐ−フェニレンジアミン塩酸塩、Ｎ、
Ｎ’　−ジメチル−ｐ−フェニレンジアミン塩１ｔ３．
２−アミノ−５−（Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルアミノ）
−トルエン、Ｎ−エチル−Ｎ−β−メタンスルホンアミ
ドエチル−３−メチル−４−アミノアニリン［Ｑ塩、Ｎ
−エチル−Ｎ−β−ヒドロキシエチルアミノアニリン、
４−アミノ−３−メチル−Ｎ。 Ｎ′−ジエチルアニリン、４−アミノ−Ｎ−（２−メト
キシエチル）−Ｎ−エチル−３−メチルアニリン−ｐ−
トルエンスルホネートなどを挙げることができる。 本発明の処理において使用される発色現像液には、前記
第１級芳香族アミン系発色現像剤に加えて更に発色現像
液に通常添加されている種々の成分、例えば水酸化ナト
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ
剤、アルカリ金ぶ亜硫Ｍ塩、アルカリ金属重亜硫酸塩、
アルカリ金属チＡシアン酸塩、アルカリ金属ハロゲン化
物、ベンジルアルコール、水軟化剤及び濃厚化剤などを
任意に含有せしめることもできる。この発色現像液のｐ
）−１（ｉｌＩは、通常７以上であり、最も一般的には
約１０〜約１３である。 本発明においては、発色現像処理した優、定着能を有す
る処理液で処理するが、該定着能を有する処理液が定着
液である場合、その前に漂白処理が行なわれる。該漂白
工程に用いる漂白剤としては有ｉ酸の金属錯塩が用いら
れ、該金属錯塩は、現像によって生成した金属銀を酸化
してハロゲン化銀にかえすと同時に発色剤の未発色部を
発色させる作用を有するもので、その構成はアミノポリ
カルボン酸またはＢＦＩＪ、クエン酸等の有ＩＩで鉄、
コバルト、銅等の金属イオンを配位したものである。こ
のような有ＲＭの金Ｂ錯塩を形成するために用いられる
最も好ましい有機酸としては、ポリカルボン酸またはア
ミノポリカルボン酸が挙げられる。これらのポリカルボ
ン酸またはアミノポリカルボン酸はアルカリ金属塩、ア
ンモニウム塩もしくは水溶性アミン塩であってもよい。 これらの具体的代表例としては、次のものを挙げること
ができる。 ［１］エチレンジアミンテトラ酢酸 ［２］ニトリロトリ酢酸 ［３］イミノジ酢酸 ［４］エチレンジアミンテトラ酢酸ジナトリウム塩 ［５］エチレンジアミンテトラ酢酸テトラ（トリメチル
アンモニウム）塩 ［６］エチレンジアミンテトラ酢醒テトラナトリウム塩 ［７］ニトリロトリ酢酸ナトリウム塩 使用される漂白剤は、前記の如き有機酸の金属ｇａＷを
漂白剤として含有すると共に、秤々の添加剤を含むこと
ができる。添加剤としては、特にアルカリハライドまた
はアンモニウムハライド、例えば臭化カリ１クム、臭化
ナトリウム、塩化ナトリウム、臭化アンモニウム等の再
ハロゲン化剤、金属塩、キレート剤を含有させることが
望ましい。 またｆ＃酸塩、蓚酸塩、酢酸塩、炭酸塩、燐酸塩等のｐ
Ｈ緩衝剤、アルキルアミン類、ポリエチレンオキサイド
類等の通常漂白液に添加することが知られているものを
適宜添加することができる。 更に、定着液及び漂白定着液は、亜硫酸アンモニウム、
亜＠酸カリウム、重亜硫酸アンモニウム、ｆｆｌ！硫酸
カリウム、重亜硫酸ナトリウム、メタｍ亜硫酸アンモニ
ウム、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム
等の亜硫酸塩や硼酸、硼砂、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重亜硫酸ナ
トリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、酢酸、
酢酸ナトリウム、水酸化アンモニウム等の各種の塩から
成るｐｔ−１！ＸｔＩｒ剤を単独或いは２種以上含むこ
とができる。 漂白定着液（浴）に漂白定着補充剤を補充しながら本発
明の処理を行なう場合、該漂白定着液（浴）にチオ硫酸
塩、ブオシアン酸塩又は亜硫酸塩等を含有せしめてもよ
いし、該漂白定着補充液にこれらの塩類を含有せしめて
処理浴に補充してもよい。 本発明においては漂白定着液の活性度を高める為に、漂
白定着浴中及び漂白定着補充液の貯蔵タンク内で所望に
より空気の吹き込み、又は酸素の吹き込みをおこなって
もよく、或いは適当な酸化剤、例えば過酸化水素、臭素
１２塩、過硫酸塩等を適宜添加してもよい。 以下余白 ［発明の具体的効果］ 以上説明した如くの本発明の構成を有するハロゲン化銀
写真感光材料においては、色再現性に優れ、かつ光退色
バランスも改良されたハロゲン化銀写真感光材料であっ
た。 ［発明の具体的実施例］ 以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが
本発明の実施の態様がこれらに限定されるものではない
。 実施例−１ 表−１，２に示すような構成になる様に各層の塗布液も
ｗ４製し、支持体側より順次塗設して多層ハロゲン化銀
カラー感光材料を作成した。 表−１ ☆は表−２に示す。 表　−１（つづき） （）内は塗布量または添加量を表わす。 ☆は表−２に示す。 表−１で用いた紫外線吸収剤（ＬＪＶ−１）、（ｔＪＶ
−２）およヒスティン防止剤（ＡＳ−１）は以下のとお
りである。 紫外線吸収剤 （ＵＶ−１） 紫外線吸収剤 （ＵＶ−２） スティン防止剤 ○ｈ これらの試料に感光計（小西六写真１ｆｆｉ株式会社製
、ＫＳ−７型）を用いて常法に従って光模露光を行った
後、以下の処理を施した。但し、反射潤度が１．０付近
にてニュートラルを示すようにフィルター補正を行い、
ニュートラル試料と単色分解試料の２通りの試料を作成
した。 処理工程（処理温度と処理時間） 発色現像　　　３８℃　　　３分３０秒漂白定着　　　
３３℃　　　１分３０秒水洗処理　２５〜３０℃　　３
分 乾　　　燥　　７５〜８０℃　　　　約２分処理液組成 （発色現像液） ベンジルアルコール　　　　　　　　　１５ｄエチレン
グリコール　　　　　　　　　１５ｄ亜硫酸カリウム　
　　　　　　　　　　２．ＯＱ臭化カリウム　　　　　
　　　　　　　０．７ｇ塩化ナトリウム　　　　　　　
　　　　０．２ｇ炭酸カリウム　　　　　　　　　　　
３０．０　（１ヒドロキシルアミン硫１！ｌ！ｍ　　　
　　　　３．０　ｇポリリン酸（ＴＰＰＳ）　　　　　
　　　２．５（１３−メチル−４−アミノ−Ｎ− エチル−Ｎ−（β−メタンスルホン アミドエヂル）−アニリン硫酸塩　　５．５ｇ蛍光増白
剤（４，４’　−ジアミノ スチルベンジスルホン酸誘導体）　　　　１．０ｇ水酸
化カリウム　　　　　　　　　　２．０　Ｑ水を加えて
全量を１２とし、Ｅ）Ｈ１０，２０に調整する。 （漂白定着液） エチレンジアミンテトラ酢酸第２鉄 アンモニウム２水塩　　　　　　　　　６０１）エチレ
ンジアミンテトラ酢酸３ｇ チオ硫酸アンモニウム（７０％溶液）　　　ｉｏｏｍ１
２亜硫酸アンモニウム（４０％溶液）、　　　２７．５
．Ｑ炭酸カリウムまたは氷酢酸でＩ）Ｈ７，１に調整し
水を加えて全量を１２とする。 処理後、得られた単色試料及びニュートラル発色試料に
ついて下記の光堅牢性試験、単色部における暗退色保存
性試験、さらに実写ネガを用いての色再現性評価を行な
い、１ｑられた結果を表−２に示した。 く光堅牢性試験〉 アンダーグラス屋外日光曝露台を用いて、６０日間太陽
光を照射した時の初濃度Ｄｏ−１，０の残存率で示した
。 （但し、Ｄ＝退色後の濃度） 〈暗退色性試験〉 暗所にて７０℃、４０％ＲＨにて２週間保存した後の退
色性を上記光堅牢性と同様にして残存率として求めた。 く色再現性評価〉 実写ネガを用いて得られた実焼プリントを観察し、比較
試料１に対して下記グレードにて視感評価を行なった。 Ａ　比較試料１に比べて優れる Ｂ　比較試料１に比べて若干優れる Ｃ　比較試料１と同等 Ｄ　比較試料１に比べて若干力る 日　比較試料１に比べてかなり劣る 表−２において用いた比較マゼンタカプラー１および比
較シアンカプラー１は以下のとおりである。 比較マゼンタカプラー１ ｔ 比較シアンカプラー１ ｔ 以下余白 表−２の結果から、第３豹に比較のマゼンタカプラー、
第５層に比較のシアンカプラーを用いて一般式［１［１
］の化合物を用いず従来の高沸点有機溶媒を用いた比較
の試料−１に対して、第３層のマゼンタカプラーを本発
明のマゼンタカプラーに代えた比較の試料−２では、色
再現性が少し改良されるが単色部およびニュートラル部
の両方においてマゼンタの光堅牢性が劣化している。試
料−２において、第５層のシアンカプラーを本発明のシ
アンカプラーに代えた比較の試料３では色再現性は良好
となり、暗所保存性も改良されるが、光−堅牢性は試料
−２と同等であった。試料−３において、第５層に一般
式［’Ｉ］の化合物を用いて本発明の構成となる試料−
４では、試料−３に比べてさらに単色部、ニュートラル
部のシアンの光堅牢性が改良されると共に、驚くべきこ
とにマゼンタの光堅牢性も改良された。特にマゼンタの
ニュートラル部での光堅牢性は他のイエローおよびシア
ンとの退色バランスをみると、その差がそれぞれ１０％
前後となっており、従来の試料に比べて実用上の改良が
みられる。 試料−４において、第３層のマゼンタの溶媒に低誘電率
の高沸点有機溶媒を用いた試料−５では、ざらに若干の
光堅牢性の改良がみられた。試料−１において、第３層
および第５層にそれぞれ退色防止剤を用いた比較の試料
−６では、単色部、ニュートラル部での光堅牢性が改良
されるが、色再現性が悪く、暗所保存性も不充分である
。試料−６において、第３層のマゼンタカプラーを本発
明のマゼンタカプラーに代えた比較の試料−６では、色
再現性が少し改良されるが、単色部、ニュートラル部の
特にマゼンタの光堅牢性の改良が不、充分であり、さら
にニュートラル部でのマゼンタの光堅牢性は、他のイエ
ロー、シアンとの退色バランスの点でその差が２０％前
後となっており、実用上問題があった。試料−７におい
て、第５層に一般式［ＩＩ［］の化合物を用いた比較の
試料−８では、試料−６と同等であった。試料−７にお
いて、第５層のシアンカプラーを本発明のシアンカプラ
ーに代えた比較の試料−９では、色再現性は改良され、
光堅牢性も若干改良されるが、特にニュートラル部での
マゼンタカプラー光堅牢性は、他のイエロー、シアンと
の退色バランスの点で未だその差が１５％前後となって
おり充分ではなかった。 また、試料−９において、本発明のマゼンタカプラーの
種類を代え、第３層の退色防止剤の種類を代えた比較の
試Ｆｌ−１２は試料−９と同等であった。 本発明の試料−４，５の３層と５層にそれぞれ退色防止
剤を用いた本発明の試料−１０，１１，１３〜３１にお
いては、試料−４，５に比べて単色部とニュートラル部
での光堅牢性がさらに改良され、特にニュートラル部で
のマゼンタと他のシアン、イエローとの差が５％前後と
なっており、電めて優れた試料であることがわかる。ま
た、第５層の一般式［１１１］の化合物に通常用いられ
る高沸点有機溶媒を併用しても本発明の効果は同様に得
られ、第５層のシアンカプラーに一般式［ＩＩＡ１で示
されるシアンカプラーを組み合わせて用いた試料−３１
においても同様の効果が得られた。 実施例２ さらに本発明のマゼンタカプラー、シアンカプラー、一
般式［ＩＩ１］の化合物の組み合わせを種々変化させて
、カラープリントとしての実技的評価を行なうべ〈実施
例１と同様の層構成にて表−３に示す試料を作成し、実
写ネガを用いて実炉プリントを作成した。 実施例１と同様にして実炉プリントの色再現性を評価し
、さらに下記のように光堅牢性を評価した。結果を表−
３に示す。 く光堅牢性評価〉 色再現性評価と同一絵柄のプリントを用いて実施例１と
同様の実験後のプリントを下記グレードにて視感評価し
た。 Ａ　退色が検知不可 Ｂ　退色が若干検知される Ｃ　かなり退色が検知でき、カラーバランスもくずれて
きている。 表−３で用いた比較マゼンタカプラー２．３ｊ′５よび
比較シアンカプラー２は以下のとおりである。 比較マゼンタカプラー２ 比較マゼンタカプラー３ α 比較シアンカプラー２ 表−３の結果より、本発明のマゼンタカプラー、シアン
カプラー、一般式［ＩＩ１］の化合物の組み合わせを種
々変化させても実施例１の結果が実技的な絵焼プリント
系でも確認でき、本発明に係る試料３５〜４１において
は、特に紫色が鮮やかに再現され、かつ光堅牢性も全（
改良されたことが明らかである。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）支持体上に少なくとも、下記一般式［ I ］で示
   されるマゼンタカプラーを含有するハロゲン化銀乳剤層
   、並びに下記一般式［II］で示されるシアンカプラー及
   び下記一般式［III］で示される化合物を油滴として含
   有するハロゲン化銀乳剤層を有することを特徴とするハ
   ロゲン化銀写真感光材料。 一般式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中Ｚは、含窒素複素環を形成するに必要な非金属原
   子群を表わし、該Ｚにより形成される環は置換基を有し
   てもよい。Ｘは水素原子または発色現像主薬の酸化体と
   の反応により離脱しうる置換基を表わす。またＲは水素
   原子または置換基を表わす。］ 一般式［II］ ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＿１＿１はアルキル基またはアリール基を表
   わす。Ｒ＿１＿２はアルキル基、シクロアルキル基、ア
   リール基または複素環基を表わす。Ｒ＿１＿３は水素原
   子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表
   わす。またＲ＿１＿３はＲ＿１＿４と結合して環を形成
   しても良い。Ｚ＿１は水素原子または発色現像主薬の酸
   化体との反応により離脱可能な基を表わす。 一般式［III］ ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｑは▲数式、化学式、表等があります▼と共同
   して３員環〜６員環を形成するのに必要な単なる結合手
   または原子群を表わす。Ｒ＿３＿１、Ｒ＿３＿２、Ｒ＿
   ３＿３およびＲ＿３＿４はそれぞれ水素原子、ハロゲン
   原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ア
   ルコキシカルボニル基、アルキルカルバモイル基、アリ
   ールカルバモイル基、アシル基またはシアノ基を表わす
   。 Ｒ＿３＿１、Ｒ＿３＿２、Ｒ＿３＿３およびＲ＿３＿４
   の中から選ばれる任意の２つが結合して環を形成しても
   よく、Ｒ＿３＿１、Ｒ＿３＿２、Ｒ＿３＿３およびＲ＿
   ３＿４の中から選ばれる任意の少なくとも１つがＱで表
   わされる原子群と結合して環を形成してもよい。］
2. （２）前記一般式［II］で示されるシアンカプラーを含
   有するハロゲン化銀乳剤層に、さらに下記一般式［ａ］
   、［ｂ］および［ｃ］で示される化合物から選ばれる少
   なくとも１つの化合物を含有することを特徴とする特許
   請求の範囲第（１）項記載のハロゲン化銀写真感光材料
   。 一般式［ａ］ ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＿４＿１およびＲ＿４＿２は、それぞれアル
   キル基を表わす。Ｒ＿４＿３はアルキル基、−ＮＲ′Ｒ
   ″基、−ＳＲ′基または−ＣＯＯＲ″基（ここで、Ｒ′
   は１価の有機基を表わし、Ｒ″は水素原子または１価の
   有機基を表わす。）を表わす。ｍは０〜３の整数を表わ
   す。］ 一般式［ｂ］ ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＿４＿４は水素原子、ヒドロキシル基、オキ
   シラジカル基（−■基）、−ＳＯＲ′基、−ＳＯ＿２Ｒ
   ′基（Ｒ′は１価の有機基を表わす）、アルキル基、ア
   ルケニル基、アルキニル基または−ＣＯＲ″基（Ｒ″は
   水素原子または１価の有機基を表わす。）を表わす。Ｒ
   ＿４＿５、Ｒ＿４＿６、Ｒ＿４＿５′、Ｒ＿４＿６′お
   よびＲ＿４＿９はそれぞれアルキル基を表わす。 Ｒ＿４＿７およびＲ＿４＿８は、それぞれ水素原子また
   は−ＯＣＯＲ＿５＿０基（Ｒ＿５＿０は１価の有機基を
   表わす。）を表わすか、あるいはＲ＿４＿７およびＲ＿
   ４＿８が共同して複素環基を形成しても良い。ｎは０〜
   ４の整数を表わす。］ 一般式［ｃ］ ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＿７＿１、Ｒ＿７＿２およびＲ＿７＿３はそ
   れぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール
   基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルケニル基、
   ニトロ基または水酸基を表わす。］
3. （３）前記一般式［ I ］で示されるマゼンタカプラー
   を含有するハロゲン化銀乳剤層に、さらに退色防止剤を
   含有することを特徴とする特許請求の範囲第（１）項ま
   たは第（２）項記載のハロゲン化銀写真感光材料。
4. （４）支持体上に支持体側より順次、イエロー色素画像
   形成層、第１中間層、マゼンタ色素画像形成層、第２中
   間層、シアン色素画像形成層、第３中間層、保護層と配
   列し、マゼンタ色素画像形成層に、さらに退色防止剤を
   含有し、シアン色素画像形成層に、さらに前記一般式［
   ａ］、［ｂ］および［ｃ］で示される化合物ら選ばれる
   少なくとも１つの化合物を含有し、第２中間層および第
   ３中間層に紫外線吸収剤を含有することを特徴とする特
   許請求の範囲第（１）項記載のハロゲン化銀写真感光材
   料。
5. （５）前記一般式［II］で示されるシアンカプラーを下
   記一般式［IIＡ］で示されるシアンカプラーと組み合わ
   せて用いることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項
   、第（２）項、第（３）項または第（４）項記載のハロ
   ゲン化銀写真感光材一般式［ I Ａ］ ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＿１＿８は炭素原子数１〜４個の直鎖または分
   岐のアルキル基、Ｒ＿１＿９はバラスト基を表わす。 Ｚ＿２は一般式［ I ］のＺ＿１と同義の基を表わす。
6. （６）前記一般式［ I ］で示されるマゼンタカプラー
   が、誘電率が６．０以下である高沸点有機溶媒を用いて
   ハロゲン化銀乳剤層に分散されたものであることを特徴
   とする特許請求の範囲第（１）項、第（３）項または第
   （４）項記載のハロゲン化銀写真感光材料。