JPS62180367A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

ハロゲン化銀写真感光材料

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JPS62180367A
JPS62180367A JP2317386A JP2317386A JPS62180367A JP S62180367 A JPS62180367 A JP S62180367A JP 2317386 A JP2317386 A JP 2317386A JP 2317386 A JP2317386 A JP 2317386A JP S62180367 A JPS62180367 A JP S62180367A
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高田 ▲しゅん▼
Kaoru Onodera
薫 小野寺
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C7/00Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
    • G03C7/30Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
    • G03C7/392Additives
    • G03C7/39296Combination of additives

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野] 本発明はハロゲン化銀写真感光材料に関し、詳しくは、
熱や光に対して色素画像が安定で、かつ脚部階調が良好
であり、しかもスティンの発生が防止されたハロゲン化
銀写真感光材料に関する。 [発明の背景] 従来から、ハロゲン化銀カラー写真感光材料を両画露光
し、発色現像することにより芳香族第1級アミン系発色
現株主薬の酸化体と発色剤とがカップリング反応を行っ
て、例えばインドフェノール、インドアニリン、インダ
ミン、アゾメチン、フェノキサジン、フェナジンおよび
それらに類似する色素が生成し、色画Qが形成されるこ
とは良く知られているところである。このような写真方
式においては通常減色法による色再現方法が採られ、青
感性、緑感性ならびに赤感性の感光性ハロゲン化銀乳剤
層に、それぞれ余色関係にある発色剤、すなわちイエロ
ー、マゼンタおよびシアンに発色するカプラーを含有せ
しめたハロゲン化銀カラー写真感光材料が使用される。 上記のイエロー色画像を形成させるために用いられるカ
プラーとしては、例えばアシルアセトアニリド系カプラ
ーがあり、またマゼンタ色画象形成用のカプラーとして
は例えばピラゾロン、ピラゾロベンズイミダゾール、ビ
ラ・ゾロトリアゾールまたtよインダシロン系カプラー
が知られており、さらにシアン色画1争形成用のカプラ
ーとしては、例えばフェノールまたはナフトール系カプ
ラーが一般的に用いられる。 このようにして得られる色素画像は、長時間光に曝され
ても、Is温、高湿下に保存されても変褪色しないこと
が望まれている。また、ハロゲン化銀カラー写真感光o
n(以下、カラー写真材料と称する)の未発色部が光や
湿熱で黄変(以下、Y−スティンと称する)しないもの
が望まれている。 しかしながら、マゼンタカプラーの場合、未発色部の光
、湿熱によるY−スティン、色素画像部の光よる褪色が
イエローカプラーやシアンカプラーに比べて極めて大き
くしばしば問題となっている。 マゼンタ色素を形成するために広く使用されているカプ
ラーは、1.2−ピラゾロ−5−オン類である。この1
.2−ピラゾロ−5−オン類のマゼンタカプラーから形
成される色素は550nm付近の主吸収以外に、430
n−付近の副吸収を有していることが大きな問題であり
、これを解決するために種々の研究がなされてきた。 1、2−ピラゾロ−5−オン類の3位にアニリノ基を有
するマゼンタカプラーが上記副吸収が小さく、特にプリ
ント用カラー画θを得るために右用である。これらの技
術については、例えば米国特許第2.343.703号
、英国Vf許第1.059.994号等公報に記載され
ている。 しかし、上記マゼンタカプラーは、画像保存性、特に光
に対する色素画像の堅牢性が著しく劣っており、未発色
部のY−スティンが大きいという欠点を有している。 上記マゼンタカプラーの430nm付近の副吸収を減少
させるだめの別の手段として、英国特許第1.047,
612Qに記載されているピラゾロベンズイミダゾール
類、米国特許第3.770.447号に記載のインダシ
ロン類、また同第3,725,067号、英国特許第1
,252,418号、同第1,334,515号に記載
のピラゾロトリアゾール類等のマゼンタカプラーが提案
されている。これらのカプラーから形成される色素は、
430nm付近の副吸収が、前記の3位にアニリノ基を
有する1、2−ピラゾロ−5−オン類から形成される色
素に比べて著しく小さく色再現上好ましく、さらに、光
、熱、湿度に対する未発色部のY−スティンの発生も極
めて小さく好ましい利点を有するものである。 しかしながら前記ピラゾロ1−リアゾール類等のマゼン
タカプラーから形成されるアゾメチン色素の光に対する
堅牢性は茗しく低く、かつ未発色部のマゼンタスティン
(以下、M−スティンど称する)の発生があり、カラー
写真材料、特にプリント系カラー写真材料の性能を著し
く損なうものであり、プリント系カラー写真材料には実
用化されていない。 また、特開昭59−125732号には、1H−ピラゾ
0− [3,2−CI −s −トリアゾール型マゼン
タカプラーに、フェノール系化合物、または、フェニル
エーテル系化合物を併用することにより、1日−ビラゾ
ロ−[3,2−CI−3−トリアゾール型マゼンタカプ
ラーから得られるマゼンタ色素画像の光に対する堅牢性
を改良する技術が提案されている。しかし上記技術にお
いても、前記マゼンタ色素画像の光に対する褪色を防止
するには未だ十分とはいえず、しかも光に対する変色を
防止することはほとんど不可能であることが認められた
。 また、上記ビラゾロトリアゾール系マゼンタカプラーは
従来の1.2−ビランo−5−オン類と比べて、特に脚
部の階調が軟調になる傾向を有している。 このためカラー感光材料に適用する場合、赤感光性層、
緑感光性層および青感光性層の三層の階調バランスがく
ずれ、特にハイライト部分でマゼンタ色が目立ち易くな
る。このためカラープリント用感光材料においては、例
えば空や雲がピンクに見えたり、さらに雪が白ではなく
ピンクに見える、いわゆるハイライトピンク現象となる
。人間の目は、特に低濃度でのこれらの微妙な変化を識
別し、好ましくないカラープリントの仕上りであると判
断する。 したがって、カラー感光材料の設計に際しては、特に低
濃度部分の三層のバランスを合わせるために多大な努力
を費している。 このため上記ビラゾロトリアゾール系マゼンタカプラー
による脚部の軟調化という現象はハイライトピンク傾向
による著しい商品価値の低下を生じ、致命的とも言って
も過言でない欠点となる。 ハロゲン化銀写真感光材料の階調をコントロールする方
法は従来から種々検討されてきている。 例えば、一般的に用いられる方法としては、塗布される
ハロゲン化銀mの増、減、塗布されるカプラーmの増、
減、並びに塗布されるハロゲン化11ffiとカプラー
mの比率を変化させる方法、または例えば特開昭50−
71320@、同53−44016号、同56−788
31号、同57−58137号、同 57−15084
1号、同57−178235号、同58−14829号
等に記載されている粒径や増感方法の異なる2種以上の
ハロゲン化銀乳剤を混合する方法、さらには、一般的に
用いられる方法としてハロゲン化銀粒子を化学増感また
は色増感する際に、脚部が軟調化するように条件、添加
剤等を選択する方法、ざらに、例えば特開昭52−11
029号、同52−18310号、英国特許1,535
,016号、米国特許3.448.709号等に記載の
ハロゲン化銀粒子を形成する際に水溶性ロジウム塩を添
加する方法などがある。 ところがこれらの方法では、目的とする脚部の階調の硬
調化だけでなく肩部の階調まで快調化したり、経時保存
により階調の軟調化を生じたり、又は曲の写真性能、例
えば感度、カブリ、露光時特性などへの悪影響を生じた
りして上記ピラゾロトリアゾール系マゼンタカプラーに
対して、脚部階調だけを硬調させその他の性能に影響を
およぼさない有効な手段は従来技術の中では見出せてい
ないのが現状である。 さらにまた、リサーチ・ディスクロージャー誌176号
(1978年) 017643項(7) V[(7) 
I ニ記載すしているような化合物を用いて階調をコン
トロールする方法がある。しかしながら、これらの化合
物を本発明の一般式[I]で示されるマゼンタカプラー
と組み合せて使用したときは、階調をコントロールする
ことはできるが、他方において光に対する堅牢性が10
なわれ、階調バランスもまだ充分ではないという欠点が
判った。 そこで上記アゾール系マゼンタカプラーの前述したよう
な優れた特性を活用し、ざらに画像保存性、脚部階調お
よびスティンが改良されたハロゲン化銀写真感光材料の
出現が望まれている。 [発明の目的] 本発明は上記の問題点に鑑み為されたもので、本発明の
第1の目的は、色再現性に優れ、しかもマゼンタ色素画
像の光堅牢性が著しく改良されたハロゲン化銀写真感光
材料を提供することにある。 本発明の第2の目的は、前記アゾール系マゼンタカプラ
ーの欠点である脚部階調の軟調化を改良し、同時に階調
バランスを改良したハロゲン化銀写真感光材料を提供す
ることにある。 本発明の第3の目的は、未発色部のM−スティンの発生
が防止されたハロゲン化銀写真感光材料を提供すること
にある。 本発明の第4の目的は、湿熱に対して未発色部のY−ス
ティンの発生が防止されたハロゲン化銀写真感光材料を
提供することにある。 [発明の構成] 本発明の上記目的は、支持体上に少なくとも一層のハロ
ゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料にお
いて、前記ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも一層には、
下記一般式[I]で表わされるマゼンタカプラー、下記
一般式[a ]で表ねされる化合物および下記一般式[
b]で表わされる化合物が含有されているハロゲン化銀
写真感光材料を提供することによって達成される。 一般式[I] [式中2は含窒素複索環を形成するに必要な非金属原子
群を表わし、該Zにより形成される環は置換基を有して
もよい。 Xは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱しうる置換基を表わす。 またRは水素原子または置換基を表わす。]E式中、R
4は水素原子、ヒドロキシル基、オキシラジカル基(−
δ基)、−8OR’基、=802 R’基(R’ は1
価の有機基を表わす)、アルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基または−COR”基(R″は水素原子または
1価の有機基を表わす。)を表わす。R5、R6、R;
、R’6およびR9はそれぞれアルキル基を表わす。 R7およびR8は、それぞれ水素原子または一0COR
+oE4(R+oは1価の有ti基を表わす。)を表わ
すか、あるいはR7およびR8が共同して複素環基を形
成しても良い。nはO〜4の整数を表わす。] 一般式[b ] [式中、R2+及びR22はそれぞれ水素原子、アルキ
ル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、シクロア
ルキル基または複素環基を表わし、R23、R24、R
25及びR26はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基、アルケニル基、アリール基、シクロアルキル
基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アシル基、アルキルアシルアミノ基、
アリールアシルアミノ基、アルキルカルバモイル基、ア
リールカルバモイル基、アルキルスルホンアミド基、ア
リールスルボンアミド基、アルキルスルファモイル基、
アリールスルファモイル基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基、ニトロ基、シアムLアルキルオキ
シカルボニル ニル アシルオキシ基を表わす。但し、R23、R24、R2
5及びR2Bが同時に水素原子であるとき、R21及び
R22が同時に水素原子であることはない。][発明の
具体的構成] 以下余白 次に本発明を具体的に説明する。 本発明に係る前記一般式〔I〕 一般式(1) で表されるマゼンタカプラーに於いて、Zは含窒素複葉
環を形成するに必要な非金属原子群を表し、該Zにより
形成される環は置換基を有してもよい。 Xは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱しうる置換基を表す。 またRは水素原子または置換基を表す。 前記Rの表す置換基としては、例えば)Sロデン原子、
アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロ
アルケニル基、アルキニル基、了りール基、ヘテロ環基
、アシル基、スルホニル基、スルフィニル基、ホスホニ
ル基、カルバモイル基、スル77モイル基、シアノ基、
スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シロキシ
基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミ7基
、7シルアミ7基、スルホンアミド基、イミド基、ウレ
イド基、スル7アモイルアミ7基、アルコキシカルボニ
ルアミ7基、アリールオキシカルボニル7ミ7基、フル
コキシ力ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
ルキルチオ基、7リールチオ基、ヘテロ環チオ基が挙げ
られる。 ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子が挙
げられ、特に塩素原子が好ましい。 Rで表されるアルキル基としては、炭素数1〜32のも
の、アルケニル基、アルキニル基としては炭素数2〜3
2のもの、シクロアルキル基、シクロアルケニル基とし
ては炭素数3〜12、特に5〜7のものが好ましく、ア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基は直鎖でも分岐
でもよい。 また、これらアルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、シクロアルキル基、シクロアルケニル基は置換基〔例
えばアリール、シアノ、ハロゲン原子、ヘテロ環、シク
ロアルキル、シクロアルケニル、スピロ化合物残基、有
m炭化水素化合物残基の他、アシル、カルボキシ、カル
バモイル、フルコキシ力ルポニル、アリールオキシカル
ボニルの如くカルボニル基を介してffi換するもの、
更にはへテロ原子を介して置換するもの(具体的にはヒ
ドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロ環オキ
シ、シロキシ、7シルオキシ、カルバモイルオキシ等の
酸素原子を介して置換するもの、ニトロ、アミノ(ジア
ルキル7ミ7等を含む)、スル7アモイル7ミハアルコ
キシカルボニルアミ/、7リールオキシカルポニル7ミ
ノ、アシルアミノ、スルホンアミド、イミドJウレイド
等の窒素原子を介して置換するもの、フルキルチオ、7
リールチオ、ヘテロ環チオ、スルホニル、スルフィニル
、スルファモイル等の硫黄原子を介して置換するもの、
ホスホニル等の燐原子を介して置換するもの等1〕を有
していてもよい。 具体的には例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基
、t−ブチル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、1
−へキシルノニル基、1.1’−ノペンチルノニル基、
2−クロル−t−ブチル基、トIJフルオロメチル基、
1−エトキシトリデシル基、1−メトキシイソプロピル
基、メタンスルホニルエチルt2,4−ジーt−7ミル
フエノキシメチル基、アニリノ基、1−フェニルインプ
ロピル基、3−ロープタンスルホンアミノフェノキシプ
ロピル基、3−4’−1ff−(4”(p−ヒドロキシ
ベンゼンスルホニル)フェノキシ〕ドデカノイル7ミ/
1フェニルプaピルa、3−14’−Cα−(2”、4
”−ノーt−7ミルフエノキシ)ブタンアミド〕フェニ
ル)−プロピル基、4(cr−(1)−クロルフェノキ
シ)テトラデカンアミドフェノキシ〕プロピル基、7リ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。 R″r表される7リール基としてはフェニル基が好まし
く、置換基(例えば、アルキル基、アルコキシ基、7シ
ルアミノ基等)を有していてもよい。 具体的には、フェニル基、4−t−ブチル7エ二ル基、
2,4−ノーt−7ミルフエニル基、4−テトラデカン
アミドフェニル基、ヘキサデシロキシフェニル基、4′
−〔α−(4”−t−ブチルフェノキシ)テトラデカン
アミドフェニル基等が挙げられる。 Rで表されるヘテロ環基としては5〜7真のものが好ま
しく、置換されていてもよく、又縮合していてもよい、
具体的には2−7リル基、2−チェニル基、2−ピリミ
ジニル基、2−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。 R″ch表されるアシル基としては、例えば7セチル基
、フェニルアセチル基、ドデカ/イル基、a−2!4−
ジ−t−7ミルフエノキシブタ/イル基等のフルキルカ
ルボニル基、ベンゾイル基、3−ペンタデシルオキシベ
ンゾイル基、p−クロルベンゾイル基等の7リールカル
ボニル基等が挙げられる。 Rで表されるスルホニル基としてはメチルスルホニル基
、ドデシルスルホニル基の如きアルキルスルホニル基、
ベンゼンスルホニル基、p−)ルエンスルホニル基の如
きアリールスルホニル基等が挙げられる。 Rで表されるスルフィニル基としては、エチルスルフィ
ニル基、オクチルスルフィニルfi+、3−フェノキシ
ブチルスルフィニル基の如きフルキルスルフィニルM、
7xニルスルフイニル基、ff1−ペンタデフルフェニ
ルスルフイニル基のm P 717−ルスルフイニル基
等が挙げられる。 Rで表されるホスホニル基としてはブチルオクチルホス
ホニル基の如きフルキルホスホニル基、オクチルオキシ
ホスホニル基の如きアルコキシホスホニル基、フェノキ
シホスホニル基の如きアリールオキシホスホニル基、フ
ェニルホスホニル基の如き7リールホスホニル基等が挙
げられる。 Rで表されるカルバモイル基は、フルキル基、アリール
基(好ましくはフェニル基)等が置換していてもよく、
例えばN−メチルカルバモイル基、N、N−ジプチルカ
ルバモイル基、N−(2−ペンタデシルオクチルエチル
)カルバモイル基、N−エチル−N−ドデシルカルバモ
イル!、N−+3−(2,4−ジー
【−アミルフェノキ
シ)プロピル1カルバモイル基等が挙げられる。 以下余白 Rで表されるスル77モイル基はアルキル基、7リール
基(好ましくはフェニル基)等が置換していてもよく、
例えばN−プaビルスルフγモイル基、N、N−ジエチ
ルスルファモイル基、N−(2−ペンタデシルオキシエ
チル)スルファモイル基、N−エチル−N−ドデシルス
ルファモイル基、N−フェニルスル77モイル基等が挙
げられる。 Rで表されるスピロ化合物残基としては例えばスピロ[
3,3]ヘプタン−1−イル等が挙げられる。 R″Ck表される有橋炭化化合物残基としては例えばビ
シクロ[2,2,1]へブタン−1−イル、トリシクロ
[3,3,1,1コ゛7]デカン−1−イル、7.7−
シメチルービシクロ[2,2,1]ヘプタン−1−イル
等が挙げられる。 Rで表されるアルコキシ基は、更に前記アルキル基への
置換基として挙げたものを置換していてもよく、例えば
メトキシ基、プロポキシ基、2−エトキシエトキシ基、
ペンタデシルオキシ基、2−ドデシルオキシエトキシ基
、7エネチルオキシエトキシ基等が挙げられる。 Rで表されるアリールオキシ基としては7エ二ルオキシ
が好ましく、アリール核は更に前記アリール基への置換
基又は原子として挙げたもので置換されていてもよく、
例えばフェノキシ基、p−を−ブチルフェノキシ基、m
−ペンタデシル7エ/キシ基等が挙げられる。 Rで表されるヘテロ環オキシ基としては5〜7貝のへテ
ロ環を有するものが好ましく該ヘテロ環は更に置換基を
有していてもよく、例えば、3I4.5.6−テトラヒ
ドロピラニル−2−オキシ基、1−フェニルテトラゾー
ル−5−オキシ基が挙げられる。 Rで表されるシロキシ基は、更にアルキル基等で置換さ
れていてもよく、例えば、トリメチルシロキシ基、トリ
エチルシロキシ基、ジメチルブチルシロキシ基等が挙げ
られる。 R′Ch表されるアシルオキシ基としては、例えばフル
キルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基
等が挙げられ、更に置換基を有してtlてもよく、具体
的にはアセチルオキシ基、a−クロルアセチルオキシ基
、ベンゾイルオキシ基等が挙げられる。 Rで表されるカルバモイルオキシ基は、アルキル基、ア
リール基等が置換していてもよく、例えばN−エチルカ
ルバモイルオキシ基、N、N−ノエチル力ルパモイルオ
キシ基、N−フェニルカルバモイルオキシ基等が挙げら
れる。 Rで表されるアミ7基はアルキル基、アリール基(好ま
しくはフェニル基)等で置換されていてもよく、例えば
エチルアミノ基、アニリノ基、m −クロルアニリ7基
、3−ペンタデシルオキシ力ルポニルアニリ7基、2−
クロル−5−ヘキサデカンアミドアニリノ基等が挙げら
れる。 Rで表されるアシルアミ7基としては、アルキルカルボ
ニルアミ7基、了り一ルカルポニルアミ7基(好ましく
はフェニルカルボニルアミ7基)等が挙げられ、更に置
換基を有してもよく具体的にはアセトアミド基、a−エ
チルプロパンアミド基、N−フェニルアセトアミド基、
ドデカンアミド基、2.4−ノー1−アミルフェノキシ
7セトアミド基、α−3−t−ブチル4−ヒドロキシフ
ェノキシブタン7ミド基等が挙げられる。 Rで表されるスルホンアミド基としでは、フルキルスル
ホニルアミ7基、アリールスルホニルアミ7基等が挙げ
られ、更に置換基を有してもよい。 具体的にはメチルスルホニルアミノ基、ベンタテシルス
ルホニルアミ7基、ベンゼンスルホンアミド基、p−)
ルエンスルホンアミド基、2−メトキシ−5−t−7ミ
ルベンゼンスルホン7ミド基等が挙げられる。 Rで表されるイミド基は、#i鎖状のものでも、環状の
ものでもよく、置換基を有していてもよく、例えばコハ
ク酸イミド基、3−ヘプタデシルコハク酸イミド基、7
タルイミド基、グルタルイミド基等が挙げられる。 Rで表されるウレイド基は、アルキル基、了り−ル基(
好ましくはフェニル基)等により置換されていてもよく
、例えばN−エチルウレイド基、Nウレイド基、N−p
  )リルウレイド基等が挙げられる。 Rで表されるスル77モイルアミ7基は、アルキル基、
了り−ル基(好ましくはフェニル基)等で置換されてい
てもよく、例えばN、N−ジブチルスル77モイルアミ
7基、N−メチルスル7アモイルアミノi、N−フェニ
ルスルフTモイルアミ7基等が挙げられる。 R″Ch表されるフルコキシ力ルポニル7ミ7基として
は、更に置換基を有していてもよく、例えばメトキシカ
ルボニル7ミ7基、メトキシエトキシカルボニルアミ7
基、オクタデシルオキシカルボニルアミ7基等が挙げら
れる。 Rで表されるアリールオキシカルボニルアミ7基は、置
換基を有していてもよく、例えばフェノキシカルボニル
アミ7基、4−メチルフェノキシカルボニルアミ7基が
挙げられる。 Rで表されるアルコキシカルボニル基は更に置換基を有
していてもよく、例えばメ)キシカルボニル基、ブチル
オキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、オ
クタデシルオキシカルボニル基、エトキシメトキシカル
ボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニル基等が挙げ
られる。 Rで表される7リールオキシカルボニル基は更に置換基
を有していてもよく、例えばフェノキシカルボニル基、
p−クロルフェノキシカルボニル基、ω−ペンタデシル
オキシフェノキシカルボニル基等が挙げられる。 Rで表されるフルキルチオ基は、更に置換基を有してい
てもよく、例えば、エチルチオ基、ドデシルチオ基、オ
クタデシルチオ基、7エネチルチオ基、3−フェノキシ
プロピルチオ基が挙げられる。 −Rで表される7リールチオ基はフェニルチオ基が好ま
しく更に置換基を有してもよく、例えばフェニルチオ基
、p−7トキシフエニルチオ基、2−し−オクチルフェ
ニルチオ基、3−オクタデシルフェニルチオ基、2−カ
ルボキシフェニルチオ基、p−アセトアミノフェニルチ
オ基等が挙げられる。 Rで表されるヘテロ環チオ基としては、5〜7貝のへテ
ロ環チオ基が好ましく、更に縮合環を有してもよく、又
置換基を有していてもよい0例えば2−ピリジルチオ基
、2−ベンゾチアゾリルチオ基、2,4−ジ7工/キシ
−1,3,5−トリアゾール−6−チオ基が挙げられる
。 Xの表す発色現像主薬の酸化体との反応により離脱しう
る置換基としては、例えばへロデン原子(塩素原子、臭
素原子、77ソ原子等)の弛度素原子、酸素原子、硫黄
原子または窒素原子を介して置換する基が挙げられる。 炭素原子を介して置換する基としては、カルボキシル基
の他例えば一般式 (R1′は前記Rと同義であり、Z′は前記Zと同義で
あり、R2′及びR3’は水素原子、7リール基、アル
キル基又はヘテロ環基を表す。)で示される基、ヒドロ
キシメチル基、トリフェニルメチル基が挙げられる。 酵素原子を介して置換する基としては例えばフルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、7シルオキ
シ基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、7リールオキシカルポニルオキシ基、アルキルオ
キサリルオキシ基、フルコキシオキサリルオキシ基が挙
げられる。 該フルコキシ基は更に置換基を有してもよく、例えば、
ニドキシ基、2−フェノキシエトキシ基、2−シアノエ
トキシ基、7エネチルオキシ基、p−クロルペンシルオ
キシ基等が挙げられる。 該7リールオキシ基としては、7エ7キシ基が好ましく
、該アリール基は、更に置換基を有していてらよい。具
体的にはフェノキシ基、3−メチルフェノキシ基、3−
ドデシルフェノキシ基、4−7タンスルホン7ミドフエ
ノキシ基、4−(a−(3’−ペンタデシルフェノキシ
)ブタン7ミド〕フエノキシ基、ヘキシデシルカルバモ
イルメトキシ基、4−シアノフェノキシ基、4−メタン
スルホニルフェノキシ基、1−す7チルオキシ基、p−
ノドキシフェノキシ基等が挙げられる。 該ヘテロ環オキシ基としては、5〜7貝のへテロ環オキ
シ基が好ましく、縮合環であってもよく、又置換基を有
していてもよい、具体的には、1−フェニルテトラゾリ
ルオキシ基、2−ベンゾチアゾリルオキシ基等が挙げら
れる。 該7シルオキシ基としては、例えば7セトキシ基、ブタ
ツルオキシ基等のフルキルカルボニルオキシ基、シンナ
モイルオキシ基の如きフルヶニル力ルポニルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基の如きアリールカルボニルオキシ基
が挙げられる。 該スルホニルオキシ基としては、例えばブタンスルホニ
ルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基が挙げられる。 該アルコキシカルボニルオキシ基としては、例えばエト
キシカルボニルオキシ基、ベンノルオキシカルボニルオ
キシ基が挙げられる。 該アリールオキシカルボニル基としてはフェノキシカル
ボニルオキシ基等が挙げられる。 該アルキルオキサリルオキシ基としては、例えばメチル
オキサリルオキシ基が挙げられる。 該アルコキシオキサリルオキシ基としては、エトキシオ
キサリルオキシ基等が挙げられる。 硫黄原子を介して置換する基としては、例えばアルキル
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルオ
キシチオカルボニルチオ基が挙げられる。 該フルキルチオ基としては、ブチルチオ基、2−シアノ
エチルチオ基、7エネチルチオ基、ベンノルチオ基等が
挙げられる。 該717−ルチオ基としてはフェニルチオ基、4−ノタ
ンスルホン7ミドフェニルチオ基、4−ドデシル7エネ
チルチオ基、4−7すフルオロペンタン7ミド7エネチ
ルチオ基、4−カルボキシフェニルチオ基、2−エトキ
シ−5−t−ブチルフェニルチオ基等が挙げられる。 該ヘテロ環チオ基としてIよ、例えば1−7二二ルー1
.2.3.4−テトラゾリル−5−チオ基、2−ベンゾ
チアゾリルチオ基等が挙げられる。 該フルキルオキシチオカルボニルチオ基とじては、ドデ
シルオキシチオカルボニルチオ基等が挙げられる。 えば一般式−N   で示されるものが挙げられ7リー
ル基、ヘテロ環基、スルファモイル基、カルバモイル基
、アシル基、スルホニル基、7リールオキシカルボニル
基、アルコキシカルボニル基を表し、R1′とR,7は
結合してヘテロ環を形成してもよい、但しR4’とRs
’が共に水素原子であることはない。 該アルキル基は直鎖でも分岐でもよく、好ましくは、炭
素数1〜22のものである。又、アルキル基は、置換基
を有していてもよく、置換基としては例えば7リール基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルアミ7基、アリールアミ7基
、アシルアミ7基、スルホンアミド基、イミノ基、アシ
ル基、アルキルスルホニル基、7リールスルホニル基、
カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、フルキルオキシ
カルボニルアミ7基、アリールオキシカルボニル7ミ7
基、ヒトaキフル基、カルボキシル基、シアノ基、へロ
グン原子が挙げられる。 該アルキル基の具体的なものとしては、例えばエチル基
、オキチル基、2−エチルヘキシル基、2−クロルエチ
ル基が挙げられる。 R4′又はR5′で表されるアリール基としては、炭素
数6〜32、特にフェニル基、ナフチル基が好ましく、
該7リール基は、置換基を有してもよく置換基としては
上記R、J又はR5’で表されるアルキル基への置f!
3基として挙げたもの及びフルキル基が挙げられる。該
7リール基として具体的なものとしては、例えばフェニ
ル基、1−す7チル基、4−メチルスルホニルフェニル
基が挙げられる。 R1′又はR5’で表されるヘテロ環基としては5〜6
ftのらのが好ましく、縮合環であってもよく、置換基
を有してもよい、具体例としては、2−7すJし8−9
−にノ瞥IJl−jt9vn:yノn−−V仁り−ベン
ゾチアゾリル基、2−ピリジル基等が挙げられる。 R4’又はR5’で表されるスルフ1モイル基としては
、N−フルキルスルファモイル基、N、N−ノアルキル
スル7アモイル基、N−7リールスル7Tモイル基、N
、N−ノアリールスル77モイル基等が挙げられ、これ
らのフルキル基及びアリール基は前記アルキル基及びア
リール基について挙げた置換基を有してていもよい。ス
ル77モイル基の具体例としては例えばN、N−ノエチ
ルスルアアモイル基、N−メチルスルファモイル基、N
−ドデシルスルファモイル基、N−p−トリルスルファ
モイル基が挙げられる。 R4’又はRS7で表されるカルバモイル基としては、
N−フルキルカルバモイル基、N、N−ノアルキル力ル
バモイル基、N−アリールカルバモイル基、N、N−ジ
アリールカルバモイル基等が挙げられ、これらのアルキ
ル基及びアリール基は前記アルキル基及び7リール基に
ついて挙げた置換基を有していてもよい。カルバモイル
基の兵体例としでは例えばN、N−ノエチル力ルバモイ
ル基、N−メチルカルバモイル基、N−ドデシルカルパ
ー1ニイルJJ、N−p−シアノフェニルカルバモイル
基、N−p−)リルカルバモイル基が挙げられる。 R,′又はR,7で表される7シル基としては、例えば
フルキルカルボニル基、7リールカルポニル基、ヘテロ
環カルボニル基が挙げられ、該フルキル基、該アリール
基、該ヘテaIA基は置換基を有していてもよい、アシ
ル基として具体的なものとしては、例えばヘキサフルオ
ロブタノイル基、2゜3.4.5.6−ペンタフルオロ
ベンゾイル基、アセチル基、ベンゾイル基、ナフトニル
基、2−7リルカルポニル基等が挙げられる。 R、z又はR5′で表されるスルホニル基としては、フ
ルキルスルホニル基、7リールスルホニル基、ヘテロ環
スルホニル基が挙げられ、置換基を有してもよく、具体
的なものとしては例えばエタンスルホニル基、ベンゼン
スルホニル基、オクタンスルホニル基、ナフタレンスル
ホニル基、p−クロルベンゼンスルホニル基等が挙げら
れろ。 R4′又はRs’で表されるアリールオキシカルボニル
基は、前記7リール基について挙げたものを置換基とし
て有してもよく、具体的には72/キシカルボニル基等
が挙げられる。 R4’又はR,Jで表されるアルコキシカルボニル基は
、前記アルキル基について挙げた置換基を有してもよく
、具体的なものとしてはノドキシカルボニル基、ドデシ
ルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等
が挙げられる。 R、/及びR%’が結合して形成するヘテロ環としては
5〜6貝のものが好ましく、飽和でも、不飽和でもよく
、又、芳香族性を有していても、いなくてもよく、又、
縮合環でもよい、該ヘテロ環としては例えばN−7タル
イミド基、N−コハク酸イミド基、4−N−ウラゾリル
基、1−N−ヒグントイニル基、3−N−2,4−ジオ
キソオキサゾリジニル基、2−N−1,1−ジオキン−
3−(2H)−オキソ−1,2−zンズチアゾリル基、
1−ピロリル基、1−ピロリノニル基、1−ピラゾリル
基、1−ピラゾリジニル基、1−ピペリノニル基、1−
ピロリニル基、1−イミダゾリル基、1−インドリル基
、1−インドリル基、1−インインドリニル基、2−イ
ソインドリル基、2−インインドリニル基、1−ベンゾ
トリアゾリル基、1−ペンシイミグゾリル基、1−(1
,2,4−)+77ゾリル)基、1−(1,2,3−)
 177ゾリル)基、1−(1,2,3,4−テトラゾ
リル)基、N−モルホリニル基、1,2,3.4−テト
ラヒドロキノリル基、2−オキソ−1−ピロリジニル基
、2−IH−ピリドン基、7タラシオン基、2−オキソ
−1−ピペリノニル基等が挙げられ、これらへテロ環基
はフルキル基、7リール基、フルキルオキシ基、7リー
ルオキシ基、7シル基、スルホニル基、フルキル7ミノ
基、7リール7ミ7基、7シル7ミ7基、スルホン7ミ
7基、カルバモイル基、スルフ1モイル基、フルキルチ
オ基、7リールチオ基、ウレイド基、アルコキシカルボ
ニル基、7リールオキシカルボニル基、イミド基、二ト
ク基、シアノ基、カルボキシル基、ハロゲン原子等によ
り置換されていてもよい。 またZ又はZ′により形成される含窒素複素環としては
、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環また
はテトラゾール環等が挙げられ、前記環が有してもよい
置換基としては前記Rについて述べたものが挙げられる
。 又、一般式(1)及び後述の一般式(If)〜〔■〕に
於ける複葉環上の置換基(例えば、R1R1〜R,)が 部分くここにR”、X及びZ IIは一般式〔l〕にお
けるR、X、Zと同義である。)を有する場合、所謂ビ
ス体型カプラーを形成するが勿論本発明に包含される。 又、z、z’、z”及び後述のZ、により形成される環
は、更に他の環(例えば5〜7真のジクロフルケン)が
縮合していてもよい1例えば一般式(V)においてはR
3とR6が、一般式(■)においてはR7とR,とが、
互いに結合して環(例えば5〜7貝のシクロアルケン、
ベンゼン)を形成してもよい。 以下余白 一般式〔1〕で表されるものは更に具体的には例えば下
記一般式(II)〜〔■〕により表される。 一般式(n) 一般式(DI) N −N −N 一般式(?%’) −N−NH 一般式(V) 一般式(VH 一般式〔■〕 前記一般式〔「〕〜〔■〕に於いてR5−Ra及びXは
前記R及びXと同義である。 又、一般式([)の中でも好ましいのは、下記一般式〔
■〕で表されろものである。 一般式〔11〕 式中R、、X及びZlは一般式([)におけるRlX及
びZと同a″C″ある。 前記一般式(ff)〜〔■〕で表されるマゼンタカプラ
ーの中で特に好ましいのものは一般式〔■〕で表される
マゼンタカプラーである。 又、一般式(1)〜〔■〕における複素環上の置換基に
ついていえば、一般式(1)においてはRが、また一般
式(U)〜〔■〕においてはR。 が下記条件1を満足する場合が好ましく更に好ましいの
は下記条件1及び2を満足する場合であり、特に好まし
いのは下記条件1.2及び3を満足する場合である。 条件1 複素環に直結する根元原子が炭素原子である。 条件2 該炭素原子に水素原子が1個だけ結合している
、または全く結合していない。 条件3 該炭素原子と隣接原子との間の結合が全て単結
合である。 前記複素環上の置換基R及V R+として最も好ましい
のは、下記一般式(IX)に上り表されるものである。 一般式(IX) Rり R1゜−C− R1 式中R,,R,o及びR11はそれぞれ水素原子、ノ)
ロデン原子、フルキル基、ンクロアルキル暴、アルケニ
ル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基
、ヘテロ環基、アシル基、スルホニル基、スルフィニル
基、ホスホニル基、カルバモイル基、スルフ1モイル基
、シアノ基、スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残
基、フルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ
基、ンロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ
基、アミ7基、7シルアミ7基、スルホンアミド基、イ
ミド基、ウレイド基、スル7アモイル7ミ7基、アルコ
キシカルボニル7ミ7基、アリールオキシカルボニルア
ミ7基、アルコキシカルボニル基、7リールオキンカル
ボニル基、アルキルチオ基、7リールチオ基、ヘテロ環
子オ基を表し、RatRl。及びR1,の少なくとも2
つは水素原子ではな−1゜ 又、前記R,,R,。及びRoの中の2つ例えばR9と
R1゜は結合して飽和又は不飽和の環(例えばジクロフ
ルカン、シクロアルケン、ヘテロ環)を形成してもよく
、更に註環にRoが結合して有情炭化水素化合物残基を
構成してもよい。 R9−R11により表される基は置換基を有してもよく
、R9−R11により表される基の具体例及び該基が有
してもよい置換基としては、前述の一般式(1)におけ
るR !Jf表す基の具体例及び置換基が挙げられる。 又、例えばR9とR+oが結合して形成する環及びR9
〜RIIにより形成される有情炭化水素化合物残基の具
体例及びその有しても・よい置換基としては、前述の一
般式(1)における′Rが表すシクロアルキル、シクロ
アルキル、ヘテロ環基有橋炭化水素化合物残基の具体例
及びその置換基が挙げられる。 一般式CIX)の中でも好ましいのは、(i)R=〜R
0の中の2つがフルキル基の場合、(ii)Rs〜R1
+の中の1つ例えばR8が水素原子であって、他の2つ
R,とR1゜が結合して根元炭素原子と共にシクロアル
キルを形成する場合、 である。 更に(i)の中でも好ましいのは%R9〜R口の中の2
つがアルキル基であって、池の1つが水素原子またはフ
ルキル基の場合である。 ここに該アルキル、該シクロアルキルは更に置換基を有
してもよ(該アルキル、該シクロアルキル及びその置換
基の具体例としては前記一般式(1)におけろRが表す
フルキル、シクロアルキル及びその置換基の具体例が挙
げられろ。 又、一般式(11における2に上り形成される環及び一
般式〔■〕におけるZ、により形成される環が有しても
よいr11喚基、並び1こ一般式[[b〜(Vl)にお
けるR2〜R,lとしては下記一般式(X)で及される
ものが好ましい。 一般式(X) −R1−3o2−R2 式中R1はアルキレンを、R2はアルキル、シクロアル
キルまたは7リールを表す。 R1で示されろアルキレンは好ましくは直鎖部分の炭素
数が2以上、より好ましくは3ないし6であり、直鎖1
分岐を問わない、またこのアルキレンは置換基を有して
もよい。 該置換基の例としては、前述の一般式(1)におけるR
がアルキル基の場合該アルキル基が有してもよい置換基
として示したものが挙げられる。 置換基として好ましいものとしてはフェニルが挙げられ
る。 R1で示されるアルキレンの、好ましい具体例を以下に
示す。 R2で示されるアルキル基は直鎖1分岐を間わな+11
゜ 具体的にはメチル、エチル、プロピル、1so−プロピ
ル、ブチル、2−エチルヘキシル、オクチル、ドデシル
、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタダシル、2−へ
キシルデシルなどが挙げられる。 R2で示されるジクロフルキル基としては5〜6貝のも
のが好主しく、例えばシクロヘキシルが挙げられろ。 R2で示されるアルキル、ジクロフルキルは置換基を有
してもよく、その例としては、前述のR1への置換基と
して例示したものが挙げられる。 R2で示される7リールとしては具体的には、フェニル
、ナフチルが挙げられる。該アリール基は置換基を有し
てもよい、該置換基としでは例えば直鎖ないし分岐のフ
ルキルの池、前述のR1への置換基として例示したらの
が挙げられる。 また、に換基が2個以上ある場合それらの置換基は、同
一であっても異なっていてもよい。 一般式([)′c表される化合物の中でも特に好ましい
のは、下記一般式〔訂〕で表されるものである。 一般式は〕 式中、R,Xは一般式(1)におけるR、Xと同義であ
りR’、R2は、一般式(X)におけるR I。 R2と同義である。 以下に本発明に用いられる化合物の具体例を示す。 以下余白 H3 ■ rl、 CH。 O CH3 CH3 CH1 211s 以下余白 C4H。 Cl21h!I C4H。 CH3 CH3 C9HI。 Js I2 H3 C11゜ ■ L C11゜ 冒 CsH+s H3 0CHzCONHCH2CH20CHi0CthCtl
zS(hCH3 C,H。 Js H1 CH。 し2NS 6H13 CH3 CH3 0C211,J Ctl。 011゜ ■ CH* 12フ ■ Ctl。 C1l、                 Uatl
t?ttJH3 C1l。 ■ c’rnts 13フ H3CC113 N −N −N 16フ 1フ2 1フ4 1フ5 N−t(−N 1フ7 N −H−NH N C,II。 ■ C11゜ また前記カプラーはジャーナル・オプ・ザ・ケミカルQ
ソサイ7ティ(J ournal of  theCh
emical  S ocieLy) tパーキン(P
 erkin)  1(1977) 、 2047〜2
052、米国特許3,725,067号、特開昭59−
99437号、同58−42045号、同59−162
548号、同59−171956号、同60−3355
2号、同60−43659号、同60−172982号
及び同60−190779号等を参考にして合成するこ
とがでさる。 本発明のカプラーは通常ハロゲン化銀1モル当りlXl
0−’モル−1モル、好ましくはlXl0−”モル〜a
xio−’モルの範囲で用いることができる。 また本発明のカプラーは他の!’fiHのマゼンタカプ
ラーと併用することもできる。 以下余白 次に一般式[a ]で表わされる化合物について説明す
る。 本発明において一般式[a ]のR4で表わされるアル
キル基の炭素原子数は1へ12個であり、アルケニル基
またはアルキニル基の炭素原子数は2〜4個であり、R
′、R″で表わされる111IIiの有機基は、例えば
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基
等である。R4で表わされる好ましい基としては、水素
原子、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、クロOメチル基、ヒドロキシメチル基
、ベンジル基等)、アルケニル基(例えばビニル基、ア
リル基、イソプロペニル基等)、アルキニル基(例えば
エチニル基、プロピニル基等)、または−〇OR”Iで
あり、Rnは、例えばアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ベンジル基等)、アル
ケニル基(例えばビニル基、アリル基、イソプロペニル
基等)、アルキニル基(例えばエチニル基、プロピニル
基等)、アリール基(例えばフェニル基、トリル基等)
である。 R5、R6、R’5 、R’6およびR9で表わされる
アルキル基の好ましくは、炭素原子数1〜5個の直鎖ま
たは分岐のアルキル基であり、特に好ましくはメチル基
である。 R7およびR8において、Rloで表わされる1価の有
v1基としては、例えばアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、オクチ
ル基、ドデシル基、オクタデシル基等)、アルケニルM
(例えばビニル基等)、アルキニル基(例えばエチニル
基等)、アリール基(例えばフェニル基、ナフチル基等
)、アルキルアミノ基(例えばエチルアミノ基等)、ア
リールアミノ基(例えばアニリノ基)等である。R7お
よびR8が共同して形成する複素環基としては、例えば 等(R14は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基
またはフェニル基である。)などが挙げられる。 本発明において一般式[a ]で表わされる化合物の好
ましくは、下記一般式[a′ ]で表わされるものであ
る。 一般式[a′ ] R+5はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基、ベンジル基等)、ア
ルケニル基(例えばビニル基、アリル基、イソプロペニ
ル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、ブ0ベ
ニル基等)、アシル基(例えばホルミル基、アセチル基
、プロピオニル塁、ブチリル基、アクリロイル基、プロ
ピオロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基等)
を表わす。 R15の更に好ましい基としては、メチル基、エチル基
、ビニル基、アリル基、プロピニル基、ベンジル基、ア
セチル基、プロピオニル暴、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基、クロトノイル基である。 以下に一般式[alで表わされる具体的化合物を挙げる
が、本発明はこれらに限定されない。 以下余白 (1〕 CH3 C)IJ L:at 0ム Hs 以下全白 (35〕 (41〕 (42〕 (46ン (49〕 L;jis 上記一般式[a ]で表わされる化合物は、一般式[I
]で表わされるマゼンタカプラー1モルに対して、5 
X 10−2〜3モル、更には1 X 10−1〜2E
ルの割合で用いるのが好ましい。 本発明では、上記一般式[a ]で表わされる化合物と
ともに下記一般式[C]で表わされる化合物を併用する
ことは効果の上からはより好ましいことである。 一般式[C] 式中、R1およびR2は、それぞれアルキル基を表わす
。R3はアルキル基、−NR’R″基、−8R’ 基(
R’ は1価の有R基を表わす。)、または−G OO
R”基(R″は水素原子または1価の有機基を表わす、
″)を表わす。1はO〜3の整数を表わす。 本発明において一般式(C)のR1およびR2で表わさ
れるアルキル基の好ましくは、炭素原子数1〜12個の
アルキル基、更に好ましくは炭素原子数3〜8個のα位
が分岐のアルキル基である。 R1およびR2の特に好ましくは、t−ブチルエ、■ま
たは【−ベンブール基である。 R3で表わされるアルキル基は、直鎖または分岐のもの
であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、ドデシル基
、オクタデシル基等である。 このアルキル基は置換基を有するものも含み、これらの
fi1tk基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基
、ニトロ基、シアノ基、アリール基(例えばフェニル基
、ヒドロキシフェニル)l、3.5−ジー【−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル基、3゜5−ジ−t−ベンチル
ー4−ヒドロキシフェニル基等)、アミノ基(例えばジ
メチルアミノ基、ジエチルアミノ塁、1.3.5−トリ
アジニルアミノ基等)、アルキルオキシカルボニル基(
例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、
プロピルオキシカルボニル基、ブトギシ力ルポニル以、
ペンチルオキシカルボニル キシカルボニル阜、ノニルオキシカルボニルドデシルオ
キシカルボニル塁、オクタデシルオキシカルボニル基等
)、アリールオキシカルボニル基(例えばフェノキシカ
ルボニル基等)、カルバモイル基(例えばメチルカルバ
モイル ルバモイル ルカルバモイルキ、ヘプチルカルバモイル基等のアルキ
ルカルバ 基等のアリールカルバ七イル基、シクロヘキシルカルバ
モイル 基等)、イソシアフリル基、1,3.5−トリアジニル
縫等の複素環基が挙げられる。R3で表わされるアミノ
基は、例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ塁、メ
チルエチルアミノ基等のアルキルアミノ塁、フェニルア
ミノ基、ヒドロキシルフェニルアミノ基等のアリールア
ミノ基、シクロへキシル基等のシクロアルキルアミノ基
、1,3。 5−トリアジニルアミツキ、イソシアフリル基等の複素
環アミノ基などを包含する。R′およびR IIで表わ
される1価の有機基は、例えばアルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、デ
シル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基
等)、アリール基(例えばフェニル基、ナフチル基等)
、シクロアルキル基(例えばシクロヘキシル基等)、複
素環基(例えば1,3.5−トリアジニル基、イソシア
フリル基等)を包含する。これらの有機基は置換基を有
するものも含み、この置換基としては、例えばハロゲン
原子(例えばフッ素、塩素、臭素等)、ヒドロキシルu
に1−0基、シアノ基、アミノ基、アルキル基(例えば
メチル基、エチル基、;−プロピル基、【−ブチル基、
t−アミル基等)、アリール基(例えばフェニル基、ト
リル基等)、アルケニル阜(例えばフリル基等)、アル
キルカルボニルオキシ基(例えばメチルカルボニルオキ
シ基、■チルカルボニルオキシ ルカルボニルオキシ基等)、アリールカルボニルオキシ
!3(例えばベンゾイルオキシ基等)などが挙げられる
。 本発明において一般式(C)で表わされる化合物の好ま
しくは下記一般式[C゛ ]で表わされる化合物である
。 一般式[C′ ] [式中、R++およびR+2は、それぞれ炭素原子数3
〜8個の直鎖または分岐のアルキル基、特に【−ブチル
基、【−ペンチル基を表わす。R+3はkIIIの有機
基を表わす。kは1〜6の整数を表わす。] R13で表わされるに価の有I1Mとしては、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基
、オクチル基、ヘキサデシル基、メトキシエチル基、ク
ロロメチル基、1,2−ジブロモエチル基、2−りOロ
エチル基、ベンジル基、フェネチル基等のアルキル基、
アリル基、プロベニル基、ブテニル基等のアルケニル基
、エヂレン、トリメチレン、プロピレン、ヘキサメチレ
ン、2−クロロトリメチレン等の多価不飽和炭化水素基
、グリセリル、ジグリセリル、ペンタエリスリデル、ジ
ペンタエリスリプル等の不飽和炭化水素基、シクロプロ
ピル、シクロヘキシル、シクロへキセニル基等の脂環式
炭化水素基、フェニル基、p−オクチルフェニルu、2
.4−ジメチルフェニル基、2.4−ジ−t−ブチルフ
ェニル)3.2.4−ジー1−ペンチルフェニル基、p
−り0ロフエニル基、2.4−ジブロモフェニル基、ナ
フチル基等のアリール基、1.2−.1.3−または1
.4−フェニレン基、3.5−ジメチル−1,4−フェ
ニレン基、2−t−ブチル−1,4−フェニレン基、2
−クロロ−1,4−フェニレン基、ナフタレン基等のア
リーレン基、1.3.5−三置換ベンゼン基等が挙げら
れる。 RI3は、更に上記の基以外に、上記基のうち任意の基
を−0−、−3−、−802−基を介して結合したに価
の有機基を包含する。 RI3の更に好ましくは、2.4−ジ−t−ブチルフェ
ニル基、2.4−ジ−t−ペンチルフェニル基、p−オ
クチルフェニル基、p−ドデシルフェニル基、3.5−
ジー【−ブチル−4−ヒドロキシフェニル基、3.5−
ジ−t−ペンチル−4−ヒドロキシフェニル基である。 kの好ましくは、1〜4の整数である。 以下に前記一般式(C)で表わされる具体的化合物を挙
げるが、本発明はこれらに限定されない。 以下余白 04H9(t) C4He(t)        b t、:tルC8B
)           (89)C92)     
         (93)(9リ         
 (97) C4H9(t) (99〕 C5Ho(t) C4凡(1) CIIHIテ Cs&xLuJ Cslム1(t) CS I−1?(リ                
 しr−C4kb(L)        L;ukis
s (BeC)C4H9(t)       C5Ht
t(t)Ca Hs(t)          Cs 
Ht i(t)C4H9(t) 上記一般式[C]で表わされる化合物は一般式[I]で
表わされるマゼンタカプラー1モルに対して、5X10
−2〜3モル、更にはI X 10−1〜2モルの割合
で用いるのが好ましい。 次に一般式[b ]で表わされる化合物について説明す
る。 前記一般式[b ]において、R2+およびR22で表
わされるアルキル基としては、例えばメチル、エチル、
n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、【−ブチル
、n−アミル、i−アミル、n−オクチル、n−ドデシ
ル、n−オクタデシルの各基等が挙げられ、特に炭素数
1〜32のアルキル基が好ましい。 アルケニル基としては、例えばアリル、オクテニル、オ
レイルの各基等が挙げられ、特に炭素数2〜32のアル
ケニル基が好ましい。 アリール基としては、例えばフェニル、ナフチルの各基
等が挙げられる。 アシル基としては、例えばアセチル、オクタノイル、ラ
ウロイルの各基等が挙げられる。 シクロアルキル基としては、例えばシクロヘキシル、シ
クロペンチルの各塁等が挙げられる。 複素環基としては、例えばイミダゾリル、フリル、ピリ
ジル、トリアジニル、チアゾリルの各基等が挙げられる
。 これらの基は置換基を有するものも含み、置換基として
は例えばアルキル基、アリール基、アリールオキシ基、
アルキルチオ基、シアノ基、アシルオギシ基、アルコキ
シカルボニル基、アシル基、スルファモイル基、とドロ
キシ基、ニトロ基、アミノ基および複素環基等が挙げら
れる。 前記一般式[blにおいて、R23、R24、R25お
よびR2Bで表わされるハロゲン原子としては、例えば
、フッ素、塩素、臭素の各原子が挙げられ、アルキル基
としては、例えばメチル、エチル、n−プロピル、i−
プロピル、n−ブチル、t−ブチル、n−アミル、i−
アミル、n−オクチル、n−ドデシル、n−オクタデシ
ルの各基等が挙げられ、特に炭素数1〜32のアルキル
基が好ましい。 アルケニル基としては例えばアリル、オクテニル、オレ
イルの各基等が挙げられ、特に炭素数2〜32のアルケ
ニル基が好ましい。 アリール基としては、例えばフェニル、ナフチルの各基
等が挙げられる。 アシル基としては、例えばアセチル、オクタノイル、ラ
ウロイルの各基等が挙げられる。 シクロアルキル基としては例えば、シクロヘキシル、シ
クロペンチルの各基等が挙げられる。 アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、ド
デシルオキシの各基等が挙げられ、アリーロキシ基とし
ては、例えばフェノキシ基等が挙げられ、アルキルチオ
基としては、例えばメチルチオ、n−ブチルチオ、n−
ドデシルチオの各基等が挙げられ、アリールチオ基とし
ては、例えばフェニルチオ基等が挙げられ、アルキルア
シルアミノ基としては、例えばアセデルアミノ基等が挙
げられ、アリールアシルアミノ基としては、例えばベン
ゾイルアミノ基等が挙げられ、アルキルカルバモイル基
としては、例えばメチルカルバモイル基等が挙げられ、
アリールカルバモイル基としては、例えばフェニルカル
バモイル基等が挙げられ、アルキルスルホンアミド基と
しては、例えばメチルスルホンアミド基等が挙げられ、
アリールスルホンアミド基としては、例えばフェニルス
ルホンアミド基等が挙げられ、アルキルスルファモイル
基としては、例えばメチルスルファモイル基等が挙げら
れ、アリールスルファモイル基としては、例えばフェニ
ルスルファモイル基等が挙げられ、アルキルスルホニル
基としては、例えば、メチルスルホニル基等が挙げられ
、アリールスルホニル基としては、例えばフェニルスル
ホニル基等が挙げられ、アルキルオキシカルボニル基と
しては、例えばメチルオキシカルボニル基等が挙げられ
、アリールオキシカルボニル基としては、例えばフェニ
ルオキシカルボニル基等が挙げられ、アルキルアシルオ
キシ基としては、例えばアセチルオキシ基等が挙げられ
、アリールアシルオキシ基としては、例えばベンゾイル
オキシ基等が挙げられる。 これらの基は置換基を有するものも含み、置換基として
は前記R21およびR22の基で挙げたと同様の置換基
を挙げることができる。 本発明に用いられる前記一般式[b ]で示される化合
物のうち下記一般式[b′]で示される化合物が本発明
において特に好ましく用いられる。 式中、R31及びR32はそれぞれ水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、アシル基、シクロアル
キル基または複素環基を表わすが、。 R3+およびR32が共に水素原子であることはない。 前記一般式[b′]において、R3tおよびR32で表
わされるアルキル基としては、例えばメチル、エチル、
n−プロピル、1−プロピル、n−ブチル、t−ブチル
、n−アミル、i−アミル、n−オクチル、n−ドデシ
ル、n−オクタデシルの各基等が挙げられ、特に炭素数
1〜32のアルキル基が好ましい。 アルケニル基としては例えばフリル、オクテニル、オレ
イルの各基等が挙げられ、特に炭素数2〜32のアルケ
ニル基が好ましい。 アリール基としては、例えばフェニル、ナフチルの各基
等が挙げられる。 アシル基としては、例えばアセチル、オクタノイル、ラ
ウロイルの各基等が挙げられる。 シクロアルキル基としては、例えばシクロヘキシル、シ
クロペンチルの各基等が挙げられる。 複素環基としては、例えばイミダゾリル、フリル、ピリ
ジル、トリアジニル、チアゾリルの61−4等が挙げら
れる。 前記一般式[b′]において、R3+とR32で表わさ
れる原子または各基の炭素原子数の総和が8以上で非拡
散性を付与する塁であることがさらに好ましい。 本発明に用いられる前記一般式[b ]で表わされる化
合物の具体例を以下に挙げるが、もらろんこれらに限定
されるもので1まない。 (HQ−1)        0H (HQ−6)        □H 0H (HQ−26) CHQ−27) (HQ−28) (HQ−29) H (HQ−30) ()(Q−31) コ ム (1(Q−32) これらの化合物は、例えばリサーチ・ディスクロージャ
ー誌、176号(1978年)の17643項の■の工
に記載されている。 本発明で用いられる前記一般式[blで示される化合物
の添加りとしては、用いられるハロゲン化銀乳剤並びに
マゼンタカプラーの種類により異なり、特に制限はない
が、好ましくはマゼンタカプラー1モルに対してlX1
0−3モル〜1モル、さらに好ましくはi x i O
−2モル〜5 X 10 ”モルである。 本発明に係るマゼンタカプラー、一般式(a)および(
b )で表わされる化合物のハロゲン化銀写真感光材料
への添加方法としては、一般的な疎水性化合物の添加方
法と同様に、固体分散法、ラテックス分散法、水中油滴
型孔化分nk法等、種々の方法を用いる事ができ、これ
はカプラー等の疎水性化合物の化学構造等に応じて適宜
選択することができる。水中油滴型乳化分散法は、カプ
ラー等の疎水性化合物を分散させる種々の方法が適用で
き、通常、沸点約150℃以上の高沸点有様溶媒に、必
要に応じて低沸点、及びまたは水溶性有機溶媒を併用し
て溶解し、ゼラチン水溶液などの親水性バインダー中に
界面活性剤を用いて撹拌器、ホモジナイザー、コロイド
ミル、フロージットミキサー、超音波装置等の分散手段
を用いて、乳化分散した後、目的とする親水性コロイド
層中に添加すればよい。分散液または分散と同時に低沸
点有機溶媒を除去する工程を入れても良い。 高沸点有機溶媒としては、現像主薬の酸化体と反応しな
いフェノール誘導体、フタル酸エステル、リン酸エステ
ル、クエン酸エステル、安り香酸エステル、アルキルア
ミド、脂肪酸エステル、トリメシン酸エステル等の沸点
150℃以上の何間溶媒が用いられる。 本発明において、一般式(a )および(b)で表わさ
れる化合物を分散する際に好ましく用いることのできる
高沸点有機溶媒としては、誘電率が6.0以下の化合物
であり、例えば、誘電率6.0以下のフタル酸エステル
、リン酸エステル等のエステル類、有機酸アミド類、ケ
トン類、炭化水素化合物等である。好ましくは誘電率6
.0以下1.9以上で100℃における蒸気圧が0.5
11111H(l以下の高沸点有機溶媒である。またよ
り好ましくは、該高沸点有は溶媒中のフタル酸エステル
類あるいはリン酸エステル類である。更に該高沸点有機
溶媒は2!I以上の混合物であってもよい。 なお、本発明における誘電率とは、30”Cにおける誘
電率を示している。 本発明において有利に用いられるフタル酸エステルとし
ては、下記一般式[d ]で示されるものが挙げられる
。 一般式[d ] 式中、R+sおよびR1?は、それぞれアルキル基、ア
ルケニル基またはアリール基を表わす。但し、R+sお
よびR1?で表わされる基の炭素原子数の総和は8乃至
32である。また、より好ましくは炭素原子数の総和が
16乃至24である。 本発明において、前記一般式[d ]のR+sおよびR
17で表わされるアルキル基は、直鎖でも分岐のもので
もよく、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシ
ル基、ドデシル基、トリ1シル基、テトラデシル基、ペ
ンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オク
タデシル基等である。R+sおよびRI7で表わされる
アリール基は、例えばフェニル基、ナフチル基等であり
、アルケニル基は、例えばヘキセニル基、ヘプテニル基
、オクタデセニル基等である。これらのアルキル基、ア
ルケニル基およびアリール基は、単一もしくは複数の置
換基を有していても良く、アルキル基およびアルケニル
基の置換基としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル基、ア
ルコキシカルボニル基等が挙げられ、アリール基の置換
基としては、例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコ
キシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル基
、アルコキシカルボニル基等を挙げることができる。 本発明において有利に用いられるリン酸エステルとして
は、下記一般式[8]で示されるものが挙げられる。 一般式[e ] R3゜O−P −ORr s ■ 0R1゜ 式中、R18、RtsおよびR20は、それぞれアルキ
ル基、アルケニル基またはアリール基を表わす。 但し、R+a、R+sおよびR20で表わされる炭素原
子数の総和は24乃至54である。 一般式[e ]のR+a、R19およびR20で表わさ
れるアルキル基は、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキ
シル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、。 デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、
テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘ
プタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基等であり
、アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基
等であり、またアルケニル基としては、例えばヘキセニ
ル基、ヘプテニル基、オクタデセニル基等である。 これらのアルキル基、アルケニル基およびアリール基は
、単一もしくは複数の置換基を有してぃてら良い。好ま
しくはR+a、R+sおよびR20はアルキル基であり
、例えば、2−エチルヘキシル基、n−オクチル基、3
,5.5−トリメチルヘキシル阜、n−ノニル基、n−
デシル基、5ec−デシル基、5ec−ドデシル基、(
−オクチル基等が挙げられる。 以下に本発明に用いられる有機溶媒の代表的具体例を示
すが、本発明はこれらに限定されるらのではない。 以下余白 例示有機溶媒 Cz Hs S−12C,Hs 0−Cs Hl−(i ) ■ 0=P  OC*H+*(i) ■ 0−CsH+s(り 0CsH+*(n) 醜 0−C3゜Hzl(i) 0=P−0−C,、H,、l) 0−01゜R21(i) 0C+oH=+(n) υ−(、。M2+(n) S−17 −2O これらの有機溶媒は、一般式(a )および(b )で
表わされる化合物の総最に対し、5乃至100重恒%の
割合で用いられ、好ましくは30乃至80重8%である
。なお、本発明に係るマゼンタカプラーは上記一般式(
a )および(b)で表わされる化合物と同−油滴中に
溶かすことが好ましい。 カプラー等の疎水性化合物を高沸点′fJam独又は低
沸点溶媒と併用した溶媒に溶かし、機械的又は超音波を
用いて水中に分散する時の分散助剤として、アニオン性
界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カヂオン性界面活
性剤を用いる事が出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、例えばカラーネ
ガのネガ及びポジフィルム、ならびにカラー印画紙など
であることができるが、とりわけ直接鑑賞用に供される
カラー印画紙を用いた場合に本発明の効果が有効に発揮
される。 このカラー印画紙をはじめとする本発明のハロゲン化銀
写真感光材料は、単色用のものでも多色用のものでも良
い。多色用ハロゲン化銀写真感光材料の場合には、減色
法色再現を行うために、通常は写真用カプラーとして、
マゼンタ、イエO−1及びシアンの各カプラーを含有す
るハロゲン化銀乳剤層ならびに非感光性層が支持体上に
適宜の暦数及び相順で81層した構造を有しているが、
該層数及び相順は重点性能、使用目的によって適宜変更
しても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料が多色用感光材料で
ある場合、具体的な層構成としては、支持体上に、支持
体側より順次、黄色色素両画形成居、中間層、マゼンタ
色素画性形成層、中間層、シアン色素画像形成層、中間
層、保護居と配列したものが特に好ましい。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いられるハロゲ
ン化銀乳剤(以下、本発明のハロゲン化銀乳剤という。 )には、ハロゲン化銀としての臭化銀、沃臭化銀、沃塩
化銀、塩臭化銀、及び塩化銀等の通常のハロゲン化銀乳
剤に使用される任意のものを用いる事が出来る。 本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、酸性法、中性法、アンモニア法のいずれかで得ら
れたものでもよい。該粒子は一時に成長させても良いし
、種粒子をつくった後、成長させても良い。種粒子をつ
くる方法と成長させる方法は同じであっても、異なって
も良い。 ハロゲン化銀乳剤はハライドイオンと銀イオンを同特に
混合しても、いずれか一方が存在する中に、他方を混合
してもよい。また、ハロゲン化銀結品の臨界成長速度を
考慮しつつ、ハライドイオンと銀イオンを混合釜内のE
IH,EIA(+をコントロールしつつ逐次同時に添加
する事により、生成させても良い。成長後にコンバージ
ョン法を用いて、粒子のハロゲン組成を変化させても良
い。 本発明のハロゲン化銀乳剤の製造時に、必要に応じてハ
ロゲン化銀溶剤を用いる事により、ハロゲン化銀粒子の
粒子サイズ、粒子の形状、粒子サイズ分布、粒子の成長
速度をコントロール出来る。 本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、粒子を形成する過程及び/又は成長させる過程で
、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウ
ム塩又は錯塩、ロジウ、ム塩又は錯塩、鉄塩又は錯塩、
を用いて金属イオンを添加し、粒子内部に及び/又は粒
子表面に包含させる事が出来、また適当な還元的雰囲気
におく事により、粒子内部及び/又は粒子表面に還元増
感核を付与出来る。 本発明のハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀粒子の成長
の終了後に不要な可溶性塩類を除去しても良いし、ある
いは含有させたままで良い。該塩類を除去する場合には
、リサーチ・ディスクロージャ−17f343号記載の
方法に基づいて行う事が出来る。 本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、内部と表面が均一な居から成っていても良いし、
異なる層から成ってb良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、満作が主として表面に形成されるような粒子であ
っても良く、また主として粒子内部に形成されるような
粒子でも良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀乳
剤は、規則的な結晶形を持つものでも良いし、球状や板
状のような変則的な結晶形を持つものでも良い。これら
粒子において、(100)面と(111)面の比率は任
意のものが使用出来る。 又、これら結晶形の複合形を持つものでも良く、様々な
結晶形の粒子が混合されても良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤は、別々に形成した2種以上
のハロゲン化銀乳剤を混合して用いても良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤は、常法により化学増感され
る。即ち、銀イオンと反応できる硫黄を含む化合物や、
活性ゼラチンを用いる硫黄増感法、セレン化合物を用い
るセレン増感法、還元性物質を用いる還元増感法、金そ
の他の貴金属化合物を用いる貴金属増感法などを単独又
は組み合わせて用いる事が出来る。 本発明のハロゲン化銀乳剤は、写真業界において増感色
素として知られている色素を用いて、所望の波長域に光
学的に増感出来る。増感色素は単独で用いても良いが、
2種以上を組み合わせて用いても良い。増感色素と共に
それ自身分光増感作用を持たない色素、あるいは可視光
を実質的に吸収しない化合物であって、増感色素の増感
作用を強める強色増感剤を乳剤中に含有させても良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤には、感光材料の製造工程、
保存中、あるいは写真処理中のカブリの防止及び/又は
写真性能を安定に保つ事を目的として、化学熟成中、及
び/又は化学熟成の終了時、及び/又は化学熟成の終了
後、ハロゲン化銀乳剤を塗布するまでに、写真業界にお
いてカブリ防止剤又は安定剤として知られている化合物
を加える事が出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料のバインダー(又は
保護コロイド)としては、ゼラチンを用いるのが有利で
あるが:それ以外にゼラチン誘導体、ゼラチンと曲の高
分子のグラフトポリマー、蛋白質、糖誘導体、セルロー
ス誘導体、甲−あるいは共重合体の如き合成親水性高分
子物71等の親水性コロイドも用いる事が出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層、その
池の親水性コロ°イド層は、バインダー(又は保護コロ
イド)分子を架橋させ、膜強度を高める硬膜剤を単独又
は併用することにより硬膜される。硬膜剤は、処理液中
に硬膜剤を加える必要がない程度に、感光材料を硬膜出
来るm添加する事が望ましいが、処理液中に硬膜剤を加
える事も可能である。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン化銀乳剤
層及び/又は他の親水性コロイド層の柔軟性を高める目
的で可塑剤を添加出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層、その
他の親水性コロイド層に寸度安定性の改良などを目的と
して、水不溶又は難溶性合成ポリマーの分散物(ラテッ
クス)を含む事が出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の乳剤層には、発色
現性処理において、芳香族第1級アミン現像剤(例えば
p−フェニレンジアミン誘導体や、アミノフェノール誘
導体など)の酸化体とカップリング反応を行い色素を形
成する色素形成力1ラーが用いられる。該色素形成カプ
ラーは、各々の乳剤層に対して乳剤層の感光スペクトル
光を吸収する色素が形成されるように選択されるのが普
通であり、青色光感光性乳剤層にはイエロー色素形成カ
プラーが、緑色光感光性乳剤層にはマゼンタ色素形成カ
プラーが、赤色光感光性乳剤層にはシアン色素形成カプ
ラーが用いられる。しかしながら目的に応じて上記組み
合わせと異なった用い方でハロゲン化銀カラー写真感光
材料をつくっても良い。 本発明に用いられるシアン色素形成カプラーどしては、
フェノール系、ナフトール系の4当Mらしくは2当山型
シアン色素形成カプラーが代表的であり、その具体例は
米国時り第2.306,410号、同第2.356.4
75号、同第2,362,598号、同第2.367.
531号、同第2.369.929号、同第2.423
.730号、同第2.474.293号、同第2.47
6、008@、同第2,498、466号、同第2,5
45,687号、同第2,728,660号、同第2.
772.162号、同第2,895,826号、同第2
.976、146号、同第3.002.836号、同第
’3,419,390号、同第3.446.622号、
同第3,476、563号、同第3,137、316号
、同第3.758.301@、同第3.839.044
号、英El 特n 第478.991号、rEipi 
945.542M、同第1.084,480号、同第1
,377.233号、同第1.388.024号及び同
第1,543,040号の各明細♂、並びに1)開明4
7−37425号、同50−10135号、同5o−2
5228号、同50−112038号、同 5G−11
7422号、同 50−130441号、同51−65
51号、同51−37647号、同51−52828号
、同51−108841号、同 53−109630号
、同54−48237号、同54−613129号、同
54−131931号、同55−32071号の各公報
などに記載されている。 さらに本発明のハロゲン化銀乳剤に用いるシアン色素形
成カプラーとしては、下記一般式[CG−1]および[
CC−2]が好ましい。 一般式[CG−1] 式中、R1はアルキル基またはアリール基を表わす。R
2はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基または
複素環基を表わす、R3は水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基またはアルコキシ基を表わす。またR3はR1
と結合して環を形成しても良い。Zは水素原子または芳
香族第1級アミン系発色現Q主薬の酸化体との反応によ
りw1脱可能な基を表わす。 一般式[CC−21 式中、R4は炭素原子数1〜4個の直鎖または分岐のア
ルキル基、R5はバラスト基を表わず。 Zは一般式[CG−1]の2と同義である。R4の特に
好ましくは炭素原子数2〜4個の直鎖又は分岐のアルキ
ル基である。 本発明において、一般式[CG−11のR1で表わされ
るアルキル基は、直鎖もしくは分岐のものであり、例え
ば、メチル基、エチル基、iso −プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、トリデシル
基等であり、またアリール基は、例えばフェニル基、ナ
フチル基等である。 これらのR1で表わされる基は、単一もしくは複数の置
換基を有するものも含み、例えばフェニル基に導入され
る置換基としては、代表的なものにハロゲン原子(例え
ば、フッ素、塩素、臭素等の各原子)、アルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ド
デシル基等)、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、
アルコキシ基(例えば、メトキシ丼、エトキシ基)、ア
ルキルスルホンアミド基(例えば、メチルスルホンアミ
ド基、オクチルスルホンアミド基等)、アリールスルホ
ンアミド基(例えば、フェニルスルホンアミド基、ナフ
ヂルスルホンアミド基等)、アルキルスルファモイル塁
(例えば、ブチルスルファモイル基等)、アリールスル
ファモイルU(例えば、フェニルスルファモイル基等)
、アルキルオキシカルボニル基(例えば、メチルオキシ
カルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例え
ば、フェニルオキシカルボニル基等)、アミノスルホン
アミド基(例えば、N、N−ジメヂルアミノスルホンア
ミド基等)、アシルアミノ基、カルバ上イル基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、スルホオキシ基、スルホ基、
アリールオキシ基、アルコキシ基、カルボキシル ができる。 これらの置換基は2種以上がフェニル基に導入されてい
ても良い。 R3で表わされるハロゲン原子は、例えば、フッ素、塩
素、臭素等の各原子であり、アルキル基は、例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ドデシル1
等であり、また、アルコキシ基は、例えばメトキシ旦、
エトキシ基、プロピルオキシ基、アルキル基等である。 R3がR1と結合して環を形成してもよい。 本発明において前記一般式[CC−1]のR2で表わさ
れるアルキル基は、例えばメチル基、エチル基、ブチル
基、ヘキシル基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘプ
タデシル基、フッ素原゛子で置換された、いわゆるポリ
フルオロアルキル基などである。 R2で表わされるアリール基は、例えばフェニル基、ナ
フチル基であり、好ましくはフェニル基、である。R2
で表わされる複索環基は、例えばピリジル基、7ラン基
等である。R2で表わされるシクロアルキル基は、例え
ば、シクロプロピル基、シクロヘキシル基等である。こ
れらのR2で表わされる基は、単一もしくは複数の置換
基を有するものも含み、例えば、フェニル基に尋人され
る置換基としては、代表的なものにハロゲン原子(例え
ばフッ素、塩素、臭素等の各原子)、アルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ドデシ
ル基等)、ヒドロキシル基、シアノ基、ニド0M1アル
コキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基等)、アルキ
ルスルホンアミド基(例えばメチルスルホンアミド基、
オクチルスルホンアミド基等)、アリールスルホンアミ
ド基(例えば、フェニルスルホンアミド基、ナフチルス
ルホンアミド基等)、アルキルスルファモイル基(例え
ばブチルスルファモイル基等)、アリールスルファモイ
ル基(例えば、フェニルスルファモイル基等)、アルキ
ルオキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニ
ル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェ
ニルオキシカルボニル基等)、アミノスルホンアミド基
、アシルアミノ基、カルバモイル ルフィニル基、スルホオキシ基、スルホ基、アリールオ
キシ基、アルコキシ基、カルボキシルアルキルカルボニ
ル どを挙げることができる。これらの置換基は2種以上が
フェニル基に導入されていても良い。 R2で表わされる好ましい基としては、ポリフルオロア
ルキル基、フェニル基またはハロゲン原子、アルキル基
、アルコキシ基、アルキルスルホンアミド基、アリール
スルホンアミド基、アルキルスルファモイル基、アルキ
ルスルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、アリールカルボニルリ、アリールカルボ
ニルしくはシアノ基を置換基として1つまたは2つ以上
有するフェニル基であ′る。 本発明において一般式[CC−1]で表わされるシアン
色素形成カプラーの好ましくは、下記一般式[CG−3
]で表わされる化合物である。 一般式[CG−31 一般式[CC−3]において、R6はフェニル基を表わ
す。このフェニル基は単一もしくは複数の置換基を有す
るものも含み、導入される置換基゛としては代表的なも
のにハロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等の各原
子)、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基等)、ヒドロ
キシル基、シアノ基、ニド0%、アルコキシ基(例えば
メトキシ基、エトキシ基等)、アルキルスルホンアミド
基(例えばメチルスルホンアミド基、オクチルスルホン
アミド基等)、アリールスルホンアミド基(例えばフェ
ニルスルホンアミド基、ナフチルスルホンアミド基等)
、アルキルスルファモイル基(例えばブチルスルファモ
イル基等)、アリールスルファモイル基(例えばフェニ
ルスルファモイル基等)、アルキルオキシカルボニル基
(例えばメチルオキシカルボニル基等)、アリールオキ
シカルボニル基(例えばフェニルオキシカルボニル基等
)などを挙げることができる。これらの置換基は2種以
上がフェニル基に置換されていても良い。R6で表わさ
れる好ましい基としては、フェニル基、またはハロゲン
原子(好ましくはフッ素、J!!素、臭素の各原子)、
アルキルスルホンアミド基(好ましくは0−メチルスル
ホンアミド基、p−オクチルスルホンアミド基、0−ド
デシルスルボンアミド基)、アリールスルホンアミド基
(好ましくはフェニルスルホンアミド基)、アルキルス
ルファモイル基(好ましくはブチルスルファモイル基)
、アリールスルファモイル基(好ましくはフェニルスル
ファモイル基)、アルキル基(好ましくはメチル基、ト
リフルオロメチル基)、アルコキシ!!(好ましくはメ
トキシ基、エトキシ基)を置換基として1つまたは2つ
以上有するフェニル基である。 R7はアルキル基またはアリール基である。アルキル基
またはアリール基は単一もしくは複数の置換Uを有する
ものも含み、この置換基としては代表的なものに、ハロ
ゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等の各原子)、ヒ
ドロキシル基、カルボキシル基、アルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基
、ドデシル基等)、アラルキル基、シアン基、ニトロ基
、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基)、ア
リールオキシ基、アルキルスルホンアミド基(例えばメ
チルスルホンアミド基、オクチルスルホンアミド基等)
、アリールスルホンアミド基(例えばフェニルスルホン
アミド基、ナフチルスルホンアミド基等)、アルキルス
ルファモイル基(例えばブチルスルファモイル基等)、
アリールスルファモイル基(例えばフェニルスルファモ
イル基等)、アルキルオキシカルボニル基(例えばメチ
ルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル
基(例えばフェニルオキシカルボニル基等)、アミノス
ルホンアミド基(例えばジメチル7ミノスルホンアミド
基等)、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基
、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミ
ノカルボニルアミド基、カルバモイル基、スルフィニル
基などを挙げることができる。これらの置換基は2種以
上が尋人されても良い。 R7で表わされる好ましい基としては、n1=Oのとき
はアルキルW、n+=1以上のときはアリール基である
。R7で表わされているさらに好ましい基としては、n
+=oのときは炭素数1〜22叫のアルキル基(好まし
くはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オク
ヂル駐、ドデシル基)であり、n1=1以上のときはフ
ェニル基、またはアルキル基(好ましくは【−ブチル基
、【−アミル基、オクチル基)、アルキルスルホンアミ
ド基(好ましくはブチルスルホンアミド基、オクチルス
ルホンアミド基、ドデシルスルホンアミド基)、アリー
ルスルホンアミドES(好ましくはフェニルスルホンア
ミド基)、アミノスルホンアミド基(好ましくはジメチ
ルアミノスルホンアミド基)、アルキルオキシカルボニ
ル基(好ましくはメチルオキシカルボニル基、ブチルオ
キシカルボニル基)を置換基として1つまたは2つ以上
有するフェニル基である。 R8はアルキレン基を表わす。直鎖または分岐の炭素原
子数1〜20個、更には炭素原子数1〜12個のアルキ
レン基を表わす。 R9は水素原子またはハロゲン原子(フッ素、塩素、臭
素または沃素等の各原子)を表わす。好ましくは水素原
子である。 nlはOまたは正の整数であり、好ましくはOまたは1
である。 x バーo −1−CO−1−COO−1−OCO−1
−8O2NR−1−NR’ 802NR”−1−S−1
−8〇−または−8O2−基の2価塁を表わす。ここで
、R’、R”はアルキル基を表わし、Rt 、Rhはそ
れぞれ置換基を有するものも含む。Xの好ましくは、−
〇−1−5−1−SO−1−8O2−塁である。 Zは一般式[CC−1]のZと同義である。 本発明において、前記一般式[CG−2]のR4で表わ
される炭素原子数1〜4個の直鎖又は分岐のアルキル基
は、例えばエチル基、プロピル基、ブチル基、1so−
プロピル基、1so−ブチル基、5ec−ブチル基、或
いはtert−ブチル基であり、これらは置換基を有す
るものも含む。置換基としてはアシルアミノ基(例えば
アセチルアミノ基)1.アルコキシ基(例えばメトキシ
基)笠が挙げられる。 R4は好ましくは炭素原子数2〜4のアルキル基である
。 R5により表わされるバラスト基は、カプラーが適用さ
れる届からカプラーを実質的に他層へ拡散できないよう
楊するのに十分ながさばりをカプラー分子に与えるとこ
ろの大きさと形状を有する有機基である。 代表的なバラスト基としては、全炭素数が8から32の
アルキル基またはアリール基が挙げられる。 これらのアルキル基またはアリール基はv1換基を有す
るものも含む。アリール基の置換基としては、例えばア
ルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、カルボキシ塁、アシル林、エステル基、とドロキシ
基、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル アミド基、スルフ1モイル基、ハロゲン原子が挙げられ
る。また、アルキル基の置換基としてはアルキル基を除
く前記アリール基に挙げた置換基が挙げられる。 とりわけ該バラスト基として好ましいものは、下記一般
式[CG−41で表わされるものである。 一般式[CG−4] 一CH−0−Ar Rhoは水素原子または炭素原子数1から12のアルキ
ル基を表わし、Arはフェニル基等のアリール基を表わ
し、このアリール基は置換基を右するものも含む。置換
基としてはアルキル基、ヒドロキシ基、アルキルスルホ
ンアミド基等が挙げられるが、最も好ましいものは【−
ブチル基等の分岐のアルキル基である。 一般式[CC−1]、[CC−2]および[CC−31
において、それぞれ2で表わされる芳香族第1級アミン
系発色現株主薬の酸化体との反応によりfIi脱可能な
基は、当業者に周知のものであり、カプラーの反応性を
改質し、またはカプラーからm脱して、ハロゲン化銀カ
ラー写真感光材料中のカプラーを含む塗布層もしくはそ
の他の層において、現り抑制、漂白抑制、色補正などの
機能を果たすことにより有利に作用するものである。代
表的なものとしては、例えば塩素、フッ素に代表される
ハロゲン原子、置換・無置換のアルコキシ基、7リール
オキシ基、アリールチオ基、カルバモイルオキシ基、ア
シルオキシ基、スルホニルオキシ基、スルホンアミド基
またはへテロイルチオ基、ヘテロイルオキシ基などが挙
げられる。 2の特に好ましいものは、水素原子または塩素原子であ
る。 更に具体的には、特開昭50−10135号、同50−
120334号、同50−130441号、同54−4
8237号、同51−146828号、同54−147
36号、同47−37425号、同5〇−123341
号、同58−95346号、特公昭48−36894号
、米国特許3,476、563M、同3, 737, 
316号、同3,227、551号各公報に記載されて
いる。 以下余白 以下に一般式[CC−+]で表わされるシアンカプラー
の代表的具体例を示すが、これらに限定されるも(n)
CtsHu S(hNH C4ル(n) COOC16H13(n) C12H25(n) C−3°2 t 次ニ一般式[CC−23で表わされるカプラーの具体例
を示すが、これらに限定されるものではない。 本発明に用いられるイエロー色素形成カプラーとしては
、下記の一般式[Ylで表わされる化合物が好ましい。 一般式[Yl 式中、R++はアルキル基(例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基等)またはアリール基(例えば
フェニル基、p−メトキシフェニル等)を表わし、R+
2はアリール基を表わし、Ylは水素原子または発色現
像反応の過程で離脱する基を表わす。 さらに、イエロー色素形成カブラーとして特に好ましい
ものは、下記一般式[Y′]で表わされる化合物が好ま
しい。 一般式[Y′ ] 式中R13はハロゲン原子、アルコキシ基またはアリー
ロキシ基を表わし、R+4、R15、およびR16は、
それぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アルコキシ基、アリール基、アリーロキシ基、
カルボニル基、スルフォニル基、カルボキシル基、アル
コキシカルボニル塁、カルバミル基、スルフォン基、ス
ルファミル基、スルフォンアミド基、アシルアミド基、
ウレイド基またはアミノ基を表わし、Ylは前述の意味
を有する。 これらは、例えば米国特許第2.778.658号、同
第2,875,057号、同第2,908,573号、
同第3.2271155号、同第3.227.550号
、同第3,253,924号、同第3,265,506
号、同第3,277.155号、同第3.341.33
1号、同第3.369.895号、同第3,384,6
57号、同第3,408,194号、同第3,415,
652号、同第3.447.928号、同第3,551
,155号、同第3,582,322号、同第3.72
5.072号、3,894,875号等の各明111書
、ドイツ特許公開筒1,547,868号、同第2,0
57,941号、同第2.162.899号、同第2,
163,812号、同第2、213.461号、同第2
,219,917@、同第2,261,361号、同第
2,263,875号、特公昭49−13576号、特
開昭48−29432号、同48−66834号、同4
9−10736号、同49−122335@、同50−
28834号、J3よび同5O−13292(i%公報
等に記載されている。 以下に一般式[Y]で表わされるイエロー色素形成カプ
ラーの代表的具体例を示すが、これらに限定されるもの
ではない。 以下余白 υi 本発明のハロゲン化銀写真感光材料には、色素画像の劣
化を防止する目的で画像安定剤を用いることができる。 本発明において好ましく用いることのできる画像安定剤
としては、下記一般式[△]〜[H]及び[J]、[K
]で表わされる化合物を挙げることができる。 一般式[AI 式中、RIは水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
リール基、又は複素環基を褒し、R2、R,、R5、R
1はそれぞれ水素原子1.、ロデン原子、ヒドロキシ基
、アルキル基、アルケニル基、7リール基、アルコキシ
基または7シルアミノ基をあられし、R4はフルキル基
、ヒドロキシ基、アリール基又はアルコキシ基を表す。 又R,とR,1士互いに閉環し、5貝または6貝環を形
成してもよく、その時のR1はヒドロキシ基またはアル
コキシ基をあられす、又R)とR4が閉環し、5只の炭
化水素環を形成してもよく、そのときのR,はフルキル
基、アリール基、または複素環基をあらbす、但し、R
1が水素原子で、かつ、R1がヒドロキシ基の場合を除
く。 前記一般式[AIにおいて、R,は水素原子、フルキル
基、アルケニル基、7リール基または複素環基をあられ
すが、このうち、フルキル基としては、例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、n−オクチル基、Lert−
オクチル基、ヘキサデシル基などの直鎖または分岐のフ
ルキル基を挙げることができる。またR8であられされ
るアルケニル基としては、例えばアリル、ヘキセニル、
オクテニル基などが挙げられる。さらに、R3の7リー
ル基としては、フェニル、ナフチルの各基が挙げられる
。さらにR1で示される複素環基としては、テトラヒド
ロピラニル基、ピリミジル基などが具体的に挙げられる
。これら各基はram基を有することができ、例えば置
換基を有するアルキル基としてベンジル基、エトキシメ
チル基、置換基をあられすが有する了り−ル基としてメ
トキシ7エ二ル基、クロルフェニル基、4−ヒドロキシ
−3,5−ジブチルフェニル基などが挙げられる。 一般式[AIにおいて、R2、R1、R1およびR6は
水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、フルキル基、
アルケニル基、7リール基、フルコキシ基または7シル
アミ7基をあられすが、このうち、アルキル基、アルケ
ニル基、7リール基については前記R1について述べた
アルキル基、アルケニル基、アリール基と同一のものが
挙げられる。また前記へaデン原子としては、例えばフ
ッ素、塩素、臭素などを挙げることができる。さらに前
記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基など
を具体的に挙げることができる。さらに前記アシル7ミ
7基はR’ C0NH−で示され、ここにおいて、R′
はアルキル基(例えばメチル、エチル、n−プロピル、
n−ブチル、n−オクチル、tert−オクチル、ベン
ジルなとの各基)、アルケニル基(例えばアリル、オク
テニル、オレイルなとの各基)、7リール基(例えばフ
ェニル、メトキシフェニル、ナフチルなどの各基)、ま
たはへテロ環基(例えばピリジル、ピリミジルの各基)
を挙げることができる。 また前記一般式[A]において、R4はアルキル基、ヒ
ドロキシ基、7リール基またはアルコキシ基を表すが、
このうちアルキル基、7リール基については、前記R3
で示されるアルキル基、アリール基と同一のものを具体
的に挙げることができる。またR1のアルケニル基につ
いては前記R2、R,、R,およびR6について述べた
アルコキシ基と同一のものを挙げることができる。 R,とR7は互いに閉環してベンゼン環と共に形成する
環としては、例えばクロマン、クマラン、/テレンクオ
キシベンゼンが挙げられる。 また% R3とR4が閉環してベンゼン環と共に形成す
る環としては、たとえばインゲンが挙げられる。これら
の環は、置換基(例えばアルキル、アルコキシ、7リー
ル)を有してもよい。 又・R1とR2、またはRコとR1が閉環して形成する
環中の原子なスピロ原子としてスピロ化合物を形成して
もよいL%R2、R1などを連結基として、ビス体を形
成してもよい。 前記一般式IAIで表されるフェノール系化合物マタは
7工二ルエーテル系化合物のうち、好ましイ(、のけ、
Ro−基(Rはフルキル基、アルケニル基゛・7リール
基、またはへテロR基を表す、)を4個有するビインダ
ン化合物であり、特に好;しくは下記一般式[A −1
]で褒すことができる。 一般式[A−1] 式中Rはアルキル基(例えばメチル、エチル、。 プロピル、n〜オクチル、tert−オクチル、ベンジ
ル、ヘキサデシル)、アルケニル基(例えば、アリル、
オクテニル、オレイル)、アリール基(例えば、フェニ
ル、ナフチル)またはへテロ環基(例えば、テトラヒド
ロピラニル、ピリミジル)で表される基をあられす、R
9およびR10は各々水素原子、へロデン原子、(91
えば、フッ素、塩素、臭素)、アルキル基(例えばメチ
ル、エチル、n−ブチル、ベンノル)、アルコキシ基(
例えばアリル、ヘキセニル、オクテニル)、またはアル
コキシ基(例えば))キシ、エトキシ、ベンシルオキシ
)を褒し、Roは水素原子、アルキル基(例えばメチル
、エチル、n−)fル、ベンシル)、アルテニル基(例
L If 、 2−7” aベニル、ヘキセニル、オク
テニル)、または7リール基(例えばフェニル、ノドキ
シフェニル、りaルフェニル、ナフチル) を衰t。 前記一般式IAIで表される化合物は、米国特許第3,
935,016号、同tJ3,982,944号、同第
4.254.216号、特開昭55−21004号、同
54−145530号、英@特許公開2,077.45
5号、同2,062号、88B号、米国特許第3,76
4,337、同第3.432300号、同第3,574
,627号、同第3,573,050号、特開昭52−
152225号、同53−20327号、同53−17
729号、同55−6321号、英国特許第1,347
,556号、同公開2.066.975号、特公昭54
−12337号、同4B−31625号、米国特許第3
,700,455号などに記載の化合物をも含む。 前記一般式[A]で衰される化合物の使用量は、マゼン
タカプラーに対して5〜300モル%が好ましく、より
好ましくは10〜200モル%である。 以下に前記一般式[A]で表される化合物の代表的具体
例を示す。 タイプ(1) ORI タイプ(2) タイプ(3) タイプ(4) タイプ(5) タイプ(6) タイプ(7) タ  イ  プ (2) 以下余白 タ  イ  プ (4) 以下余白 タ  イ  プ  (5) 以下余白 タ  イ  プ  (6) 以下余白 A−7 以下余白 一般式[B] (式中R3およびR4はそれぞれ水素原子、)10デン
原子、アルキル基、アルクニル基、アルコキシ基、アル
ケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリール
オキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基
、スルホンアミド基、シクロアルキルまたはアルコキシ
カルボニル基をあられし、R2は水素原子、アルキル基
、アルケニル基、アリール基、アシル基、シクロアルキ
ル基またはへテロ環基なあられし、Rコは水素原子、ハ
ロゲン原子、フルキル基、アルケニル基、了り−ル基、
アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、スルホ
ン7ミド基、シクロアルキル基またはアルコキシカルボ
ニル基をあられす。 以上に挙げた基はそれぞれ他のffi換基で置換されて
もよい0例えばフルキル基、アルクニル基、アルコキシ
基、了り−ル基、7リールオキシ基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカル5ニル基、
7シルアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイル基、ス
ルホンアミド基、スルフアモイル基などが挙げられる。 またR2とR7は互いに閉環し、5貝または6貝環を形
成してもよい、R2とR3が閉環しベンゼン環と共に形
成する環としては例えばクロマン環、メチレンクオキシ
ベンゼン環が挙げられる。 Yはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群をあられす。 クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、フルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、了り
一ルオキシ基、もしくはヘテロ環で置換されてもよく、
さらにスピロ環を形成してもよい。 一般式[B]で示される化合物のうち、本発明に特に有
泪な化合物は一般式[B−1]、[B−2]、[B −
33、[B = 4 ]、[B−5]で示される化合物
に包含される。 一般式[B−1] れ1 一般式[B−2] に1 一般式[B −3] 一般式[I3−4 ] 一般式[B −5] 一般式[B−1]、[B−2]、[B−3]、[B −
41および[B −5]におけるR1、R2、R1およ
びR4は前記一般式[B]におけるのと同じ意味を待ち
、R,、R,、R,、R1、R9およ(/R,。 は水素原子、へロゲン原子、フルキル基、アルコキシ基
、ヒドロキシ基、フルケニル基、フルケニルオキシ基、
717−ル基、717−ルオキシ基もしくはヘテロ環基
をあらbす。 さらにR6とR6、R6とR1、R1とR1、R,とR
1およびR1とR3゜とが互いに環化して炭%、Rを形
成してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換され
てもよい。 前記一般式[B−1]、[B −2]、[B −3]、
[B −41および[B −5]においてR,およびR
1が水素原子、フルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ
基またはシクロアルキル基、R,% R,、Ry、R3
、R9およびR18が水素原子、アルキル基、またはジ
クロフルキル基である化合物が特に有用である。 一般式[B]で表される化合物はテトラヘドロン(Te
trabedron)、1970.vo128,474
3−4751頁、日本化学会誌、1972.No10,
0987−1990頁、ケミカル(chew、Lett
、 )、1972(4)315〜316頁、特開昭55
−139383号に記載されている化合物を表し、含み
、かつこれらに記載されている方法に従って合成するこ
とができる。 前記一般式[B]で表される化合物のうち使yfi量は
、前記本発明乳剤係るマゼンタカプラーに対して5〜3
00モル%該好ましく、より好ましくは10〜200モ
ル%である。 以下にこれらの化合物の代表的具体例を示す。 以下余白 一般式[Cl R1 に2 一般式[DI I 式中R3お上りR2は水素原子、ハロゲン原子、フルキ
ル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ
基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、スルホンア
ミド基もしくはアルコキシカルボニル基をあられす。 以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもよ
い1例えばハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
シルアミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ス
ルフ1モイル基などが挙げられる。 Yはベンゼン環と共にジクロマンもしくはノクマラン環
を形成するのに必要な原子群をあらbす。 クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、ジクロフルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、717−ル基、ア
リールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されてもよく
、さらにスピロ環を形成してもよい。 一般式IC]お上び[DIで示される化合物のうち、本
発明に特に有用な化合物は一般式[C−1]、[C−2
]、[D −1]および[D −2]で示される化合物
に包含される。 一般式[C−13 一般式[C−21 八1 一般式[D−13 一般式[D−2] 一般式[C−1]、[C−2・]、[D−1]および[
D −2]におけるR3およびR2は前記一般式[CI
および[DIにおけるのと同じ意味を持ち、Rコ、R1
、R5−Ra、R7およびR,は水素原子、へUデン原
子、フルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アルケ
ニル基、フルケニルオキシ基、アリール基、アリールオ
キシ基もL(はヘテロ環基をあらbす、さらにR3とR
4、R1とRs%RsとR6、R6とR1およびR1と
R1とが互いに環化して炭素環を形成してもよく、さら
に該炭素環はフルキル基で置換されてもよい。 前記一般式[C−1]、[C−23、[D−1]および
[D −2]荷おいて、R6お上りR2が水素原子、ア
ルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基またはジクロフ
ルキル基、R3、R4、R1、R,、R1およびR,が
水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基である
化合物が待に有月である。 一般式[CI、[D]で表される化合物は日本化学学会
誌(J、 Chew、Soc、part C) 196
g、(14)* 1937〜18頁、有機合成化学協会
誌1970.2B(1)、 60〜65頁、テトラヘド
ロン(Tetrmhedron Letters)19
73、 (29)、2707〜271O真に記載されて
いる化合物を含み、かつこれらに記載されている方法に
従うて合成することができる。 前記一般式[CI、[D]で表される化合物の使用量は
、前記本発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜30
0モル%が好ましく、より好ましくは10〜200モル
%である。 以下にこれらの化合物の具体的代表例を示す。 以下余白 以下余白 一般式[E] 式中R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、7リ
ール基、アシル基、ジクロフルキル基もしくはヘテロ環
基を衰わし、R3は水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アルケニル基、了り−ル基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホンア
ミド基、シクロアルキル基もしくはアルコキシカルボニ
ル基を表わす。 R2およびR4は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
、アルケニル基、アリール基、アシル基、7シルアミノ
基、スルホン7ミド基、シクロアルキル基もしくはアル
コキシカルボニル基を表わす。 以上にあげた基はそれぞれ他の置換基で置換されていて
もよい0例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシカルボ2ル基1アリールオキシカルボニル基、
7シル7ミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、
スル77モイル基等が挙げられる。 またR1とR2は互いに閉環し、5貝または6貝環を形
成してもよい。 その時R2およびR4は水素原子、ハロゲン原子、フル
キル基、アルケニル基、アルコキシ基、フルケニルオキ
シ基、゛ヒドロキシ基、7リール基、7リールオキン基
、アシル基、7シルアミノ基、7ンルオキン基、スルホ
ンアミド基もしくはアルコキシカルボニル基を表わす。 Yはクロマンらしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群を表わす。 クロマン4L(はクマラン環ハハロrン原子、フルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
フルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、7リール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で5!換されていても
よく、さらにスピロ環を形成してもよい。 一般式[E)で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式(E−1)。 [E−2]、(E−3)、(E−4)および(E−5)
で示される化合物に包含される。 一般式(E−1) 1R1 一般式[E−2] 一般式(E−3) K”  K”  υK” 一般式(E−4) 一般式(E−5) 一般式(E−1)〜(E−5)におけるR I。 R1、R3およびR4は前記一般式(E)におけるのと
同じ意味を持ち、R’、R’、RテtR@tR’およy
 R1aは水素原子、ハロゲン原子、フルキル基、アル
コキン基、ヒドロキン基、フルケニル基、フルケニルオ
キシ基、7リール基、7リールオキシ。 基もL(はへテロ環基を衰すす、さらにR5とR“、R
@とR’、R’とR”、R”とR”lkl/RIとR1
’とが互いに環化して炭素環を形成してもよく、さらに
該炭素環はフルキル基で1換されてもよい。 前記一般式(E−1)−(E−5)において、ft I
 、 R2、R3およびR4が水素原子、フルキル基、
またはシクロアルキル基、前記一般式(E−5)におい
て% R’お上りR4が水素原子、フルキル基、アルコ
キン基、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、さらに
前記一般式(E−1)−(E−5)において、RS、R
!、R’、Rl、R”およびRloが水素原子、アルキ
ル基、またはシクロアルキル基である化合物が符に有用
である。 一般式[E]により表される化合物はテトラヘドロン(
Tetrahedron Letters) 1965
.(8)、457−460頁日本化学学会誌(J、 C
hew、 Soc、 part C) 1966゜(2
2)、 201B−2016頁、(Zh、 Org、K
bim) 1970−(6)−1230〜1237真に
記載されている化合物を含み、かつこれらに記faされ
ている方法に従って合成することができる。 前記一般式[E−11で表される化合物の使用量は、豹
記本発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜300モ
ル%が好ましく、より好虫しくは10〜200モル%で
ある。 以下にこれらの化合物の具体的代表例を示す。 以下余白 一般式(F) 式中RIは水素原子、フルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、7ンル基、シクロアルキル基もL(はヘテロ環
基を2!L%R2は水素原子、ハロゲン原子、フルキル
基、アルケニル基、了り−ル基、アリールオキシ基、ア
シル基、7シルアミ7基、アシルオキシ基、スルホン7
ミr基、シクロアルキル基、もしくはアルコキシカルボ
ニル基をあられす。 R3は水素原子、ハロ、デン原子、フルキル基、アルケ
ニル基、7リール基、7シル基、アシル7ミだしスルホ
ン7ミr基、シクロアルキル基もL(はアルコキシカル
ボニル基をあらbす。 R4は水′ri、fX子、ハロゲン原子、フルキル基、
アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、ヒ
ドロキシ基、7リール基、アリールオキン基、7シル基
、7シルアミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基
、もしくはアルコキシカルボニル基をあられす。 以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもい
い0例えばフルキル基、アルケニル基、アルコキン基、
了り−ル基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、7リールオキシカルボニル基、アシ
ルアミノ基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スル
ファモイル基などが挙げられる。 又R1とR2は互いに閉環し、5貝または6貝環を形成
しでもよい、その時R3お上りR4は水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ア
ルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、71J−ル基、アリ
ールオキシ基、7シル基、アシル7ミ7基、7シルオキ
シ基、スルホンアミド基、もしくはアルコキシカルボニ
ル基をあらbす。 Yはり台マンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群をあられす。 クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、フルキル
基、ジクロフルキル基、アルコキシ基、アルテニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、了り−ル基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ!i!基でf換されていて
もよく、さらにスピロ環を形成してもよい。 一般式[F]で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式IF−11、[F−2]、[F −
31、[F−43および[F−5]で示されゐ化合物に
包含される。 以下余白 一般式(F−13 一般式[F−2] 一般式(F−3) 一般式[F−4] 一般式[F−5] 一般式[F−1]および[F−5]におけるR 1%R
2、R3およびR1は前記一般式[FIにおけるのと同
じ意味を持ち、R5、R5、R7、R1、R1およびR
8・は水素原子、ハロゲン原子、フルキル基、アルコキ
シ基、七ドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ
基、アリール基、了り一ルオキシ基もしくはヘテロ環基
をあられす。 さらにR1とR1、R,とR7、R7とR1、R8とR
1およVRlとR1,とが互いに環化して炭素環を形成
してもよく、さらに該炭素環はフルキル基でr!!換さ
れてもよい。 *た[F−3]、[F−41オ!v[F−5]1:l:
t;イて2つのR8−R1,はそれぞれ同一でも異なっ
ていてもよい。 前記一般式[F−11、[F −23、[F −31、
[F  4 ] ji ヨV [F −5] ニb イ
’CRr、R2、オヨ1/R3が水素原子、アルキル基
、ジクロフルキル基、R4が水素原子、フルキル基、ア
ルコキシ基、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、さ
らにR1、R,、R1、R1、R1およびRIoが水素
原子、フルキル基、またはジクロフルキル基である化合
物が待に有用である。 一般式[FIにより表される化合物はテトラヘトロン(
Tetrihedron Letters) 197G
、 Mol 26,4743−4751頁、日本化学学
会g 1972. No、10t 1987−1990
頁、シン七サイX: (Synthesis) 197
5. Yol 6y392−393頁、(Bal 5o
ap Chin、 Be1g ) 197L Vo18
4(7)、フ4フー759頁に記載されている化合物を
含み、かつこれらに記載されている方法に従って合成す
ることができる。 前記一般式IFIで表される化合物の使M量は、前記本
発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜300モル%
が好ましく、より好ましくは10〜200モル%である
。 以下に一般式[FIで表される化合物の具体的代表例を
示す。 以下余白 一般式〔G〕 R′ R】 式中R1及びR”は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子
、フルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基、アリール基、7リールオキシ基、7シル基、7シ
ル7ミ゛7基、7シルオキシ基、スルホン7ミド基、ジ
クロフルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す。 R8は水素原子、ハロゲン原子、フルキル基、アルケニ
ル基、ヒドロキシ基、アリール基、アシル基、7シル7
ミノ基、アシルオキシ基、スルホン7ミr基、ジクロフ
ルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す。 上に挙げた基は、それぞれ他のrIt換基で置換さにて
もよい、置換基として、例えばアルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、7リール基、711−ルオキシ基、
ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、アシルアミノ基、カルバモイル基、ス
ルホンアミr基、スル77モイル基等が挙げられる。 またR2とR3は互いに閉環し、5貝または6貝の炭化
水素環を形成してもよい、この5貝または6貝の炭化水
素環はハロゲン原子、フルキル基、シクロアルキル基、
アルコキシ基、アルケニル基、ヒドロキン基、了り−ル
基、7リールオキシ基またはへテロ環基等でffl換さ
れてもよい。 Yはインゲン環を形成するのに必要な原子群を褒す、イ
ンゲン環はハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、シクロアルキル基、ヒドロキシ基、アリ
ール基、7リールオキシ基、またはへテロ環基等で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成してもよい。 一般式CG)で示される化合物の中、本発明に特に有用
な化合物は一般式(G−1)〜(G−3)で示される化
合物に包含される。 以下余白 一役式(G−1) 八〇 一般式(G−2) 一般式(G−3) 一般式(G−1)〜(G−3)におけるR I、R2及
1.FR”は一般式CG)におけるものと同義であり、
R’、R’、R恒、RフtR’及びR9は、それぞれ水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ア
ルケニル基、ヒドロキシ基、7リール基、7リールオキ
シ基またはヘテI7環基を褒す R4トRs 、  R
SとR’% R’とR’、R7とR@及(/R”とR9
は互いに閉環して炭化水素環を形*してもよく、更に該
炭化水素環はフルキル基で置換されてもよい。 前記一般式(G−1)〜(G−3)において、R1及び
R3が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基またはジクロフルキル基、R2が水素原子、アルキ
ル基、ヒドロキシ基またはシ9t27にキル基、R’、
R5,R’、Rフ、R@及vR’が水素原子、アルキル
基またはシクロアルキル基である化合物が特に有用であ
る。 前記一般式[G]で表される化合物のうち使用量は、マ
ゼンタカプラーに対して5〜300モル%が好ましく、
より好ましくは10〜200モル%である。 以下に一般式[G]で表される化合物の代表的具体例を
示す。 以下余白 一般式(H) R7 式中R′及びR2は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、
アシルアミノ基、7シルオキシ基、スルホンアミド基、
シクロアルキル:M!したはアルコキシカルボニル基を
衰す。 R3は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、了り−ル基、7リ
ールオキシ基、7シル基、アシルアミ7基、アシルオキ
シ基、スルホンアミド基、ジクロフルキル基またはアル
コキシカルボニル基を表す。 上に挙げた基は、それぞれ他の置換基で置換されてもよ
く、例えばフルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルざニル基、アシ
ル7ミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スル
77モイル基等が挙げられる。 またR’とR2及(/″R2とR3は互いに閉環し、5
貝または6貝の炭化水素環を形成してもよく、該炭化水
素環はハロゲン原子、フルキル基、シクロアルキル基、
アルコキシ基、フルケニル基、ヒドロキシ基、7リール
基、アリールオキシ基、ヘテロ環基等で置換されてもよ
い。 Yはインゲン環を形成するのに必要な原子群を麦し、該
インゲン環は上記炭化水素環を置換し得る置換基で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成してもよい。 一般式(Hlで示される化合物の中、本発明に待に有眉
な化合物は一般式(H−1)〜(H−2)で示される化
合物に包tされる。 一般式(H−1) 一般式(I(−23 一般式(H−3) 一般式(H−13−(I(−33におけるR ’、R2
及びR3は一般式(H)におけるものと同義であり、R
4,Rs、 Rs、 Rt、Ha及tlR”は、それぞ
h水素原子、ハロゲン原子、フルキル基、アルコキシ基
、ヒドロキシ基、フルケニル基、7リール基、7リール
オキシ基またはへテロ!1基を表す、またR4とRs%
 R覧とRa、HsとR7、R’とR’及びR1とR1
は互いにa’lilして炭化水素環を形成してもよく、
更に該炭化水素環はフルキル基で置換されてもよい。 府記一般式(H−1)−(H−33において、R’及(
/R”がそれぞれ水素原子、アルキル基またはジクロフ
ルキル基% R’が水素原子、フルキル基、アルコキシ
基、ヒドロキシ基またはジクロフルキル基、R’、R’
、R’、R’、R”及1/R’が、それ(’a*索原子
2.フルキル基またはジクロフルキル基である化合物が
待に有眉である。 前記一般式[Hlで表される化合物の合成方法は既知で
あって、米国特許3.057929号、Chern。 Ber、 1972.95(5)w  1673=16
74頁、Cbemist−ry  L etters、
  1980y739−742頁に従って製造できる。 前記一般式[HI′t1′表される化合物マゼンタカプ
ラーに対して5〜300モル%が好ましく、より好まし
くは10〜200モル%である。 以下に一般式[Hlで表される具体的代表例を示す。 以下余白 たはアリール基を云し、Yは窒素原子と共に5〜7貝環
のyl系環を形成するのに必要な非金属原子中を表す、
但し、該複素環を形成する窒素原子を含む非金属原子中
、2以上のへタロ原子がある場合、少なくとも2つのへ
テロ原子は互いに隣接しないヘテロ原子である。〕 R′で汲される脂肪族基としては、は換基を有してもよ
い飽和フルキル基、及びは換基を有してもよい不飽和ア
ルキル基が挙げられる。飽和フルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデ
シル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ
、不飽和フルキル基としては、例えば、エチニル基、プ
ロペニル基等が挙げられる。 R1で衰されるジクロフルキル基としては、置換基を有
してもよい5−7貝のシクロアルキル基で例乏ば、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 R1で表される7リール基としては、それぞれ置換基を
有してもよいフェニル基、ナフチル基を衰す。 R’i’衰される脂肪族基、シクロアルキル基、アリー
ル基の置換基としては、フルキル基、アリール基、アル
コキシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミ
7基、スル77モイル基、スルホン7ミド基、カルボニ
ルオキシ基、フルキルスルホニル基、アリールスルホニ
ル基、ヒドロキシ基、ヘテロR基、アルキルチオ基、7
リールチオ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置
換基を有してもよい。 前記一般式〔J〕において、Yは窒素原子と共に5〜7
貝環の複素環を形成するのに必要な非金ltM原子群を
表すが、該v1素環を形成する窒素原子を含む非金属原
子中の少なくとも2つはへテロ原子でなければならず、
また、この少なくとも2つのへテロ原子は互いに隣接し
てはならない、一般式(J)で表される化合物の複素環
において、全てのヘテロ原子が互いに隣接した場合は、
マゼンタ色素画像安定化剤としての51nを発揮するこ
とが出来ないので好まL(ない。 前記一般式[Jlで2!される化合物の前記5−7貝環
の複索環は置換基を有してもよく、f1換基としては、
アルキル基、アリール基、7シル基、カルバモイル基、
アルコキシカルボニル基、スルホニル基、スルフ1モイ
ル基等であり、更に置換基を有してもよい、また、該5
〜7貝環のa素環は飽和であってもよいが、飽和の複索
環が好ましい、又、該複素環にベンゼン環等が綿合して
警1てもよく、スピロ環を形成してもよい。 本発明の前記一般式(Jlで表される化合物の使用量は
、本発明の前記一般式(I)で表すれるマゼンタカプラ
ーに対して5−300モル%が好ましく、より好ましく
は10−200モル%である。 以下に一般式[Jlで褒される代表的具体例を示す。 以下余白 J−63 J−64 J−69 J−71 ■ 駆 ctzllzs 前記一般式(J)で褒される化合物の中で、ピペラジン
系化合物及びホモピペラジン系化合物は特に好ましく、
さらに好ましくは、下記一般式(J−1)または[J−
2]で衰される化合物である。 一般式(J−1) 一般式(J−2) 式中、R2及びR3は、それぞれ水素原子、フルキル基
またはアリール基を衰す、但し% R2とR3が同時に
水素となることはない、 R4〜RI3は、それぞれ水
素原子、フルキル基または7リール基を衰す。 前記一般式(J−1)及び(J−2)におり1てR2及
びR】は、それぞれ水素原子、アルキル基または了り−
ル基を衰すが、R2またはR3で表されるアルキル基と
しては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オク
チル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基
、オクタデシル基等が挙げられる R2またはR3で表
されるアリール基としては、フェニル基等が挙げられる
 R2またはR3で表されるフルキル基、了り−ル基は
置換基を有してもよく、置換基としては、ノ10デン原
子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、複索環基等が挙げられる。 R2とR”(rIL換基を含む)の炭素原子数の合計は
6〜40が好ましい。 前記一般式(J−1)または(J−2)におtlて、R
4〜R′′は、それぞれ水素原子、アルキル基土た1土
7リール基を表すが、R4〜R1’で9%れるアルキル
基としては、例えば、メチル基、エチル基等が挙げられ
る R4〜R+ffで表されるアリール基としてはフェ
ニル基等が挙げられる。 前記一般式(J−1)または(J−2)で表される化合
物の具体例は、前記した例示ピペラジン系化合!(J−
1)−(J−30)及び例示ホモピペラジン系化合物(
J−51)〜(J−62)の中に記載した通りである。 次に、前記一般式(J)で表される本発明の代表的なマ
ゼンタ色素画像安定化剤の合成例を示す。 合成例−1(化合物J−2の合成)   −ピペラジン
9.Og及びミリスチルブロマイド55gを溶解した1
00.Qのアセトン中に、無水炭酸カリウム15gを加
え、10時間煮沸還流して反応させた。 反応後、反応液を500−の水にあけた後、酢酸エチル
500mIlで抽出した。酢酸エチル層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると、白色結晶の目
的物が得られた。アセトン300m1I で再結晶して
、白色鱗片状の結晶34g(収率70%)を得た。 融庶55〜58℃ 合成例−2(化合物J−34の合成) 4−モルホリノアニリン18gを酢酸エチル10〇−に
溶解した後、攪拌下、反応液を20℃に保ちながら、無
水酢酸12.Qを少しずつ加えた。無水′#酸添加後、
水冷し、析出する結晶を濾取した後、酢酸エチルで再結
品し、白色粉末状結晶1a、5g(収率75%)を得た
。 融1zo7−zto℃ 一般式(K) 式中、R’は脂肪族基、シクロアルキル基または7リー
ル基を表し、Yは窒素原子と共に5−7貝環の複葉環を
形成するのに必要な単なる結合手または2価の炭化水素
基を表す、R”、R’、R4゜Hs、Rs、Htは、そ
れぞれ水素原子、脂肪族基、シクロアルキル基またはア
リール基を表す、但し、R2とR4及びRコとR6は互
いに結合して単なる結合手を形成して窒素原子、Yと共
に不飽和の5〜7貝環のv1葉環を形成してもよい、ま
た、Yが単なる結合手のときは、R5とR7が互いに結
合して阜なる結合手を形成して窒素原子、Yと共に不飽
和の5貝環の複葉環を形成してもよい、また、Yが単な
る結合手でないときは、R5とY、R’とYまたはY自
身で不飽和結合を形成して窒素原子、Yと共に不飽和の
6貫またはフ只の複葉環を形成してもよい。 R1″C表される脂肪族基としでは、置換基を有しても
よい!@8フルキル基、及び置換基を有してもよい不飽
和アルキル基が挙げられる。飽和フルキル基としては、
例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、
ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げ
られ、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基
、プロペニル基等が挙げられる。 R′で表されるジクロフルキル基としては、置換基を有
してもよい5−7貝のシクロアルキル基で例えば、シフ
ベンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 R1で褒される7リール基としては、置換基を有しても
よいフェニル基、ナフチル基を表す。 R1で表される脂肪族基、シクロアルキル基、717−
ル基の置換基としては、アルキル基、了り一ル[、フル
コキシ基、カルボニル基、カルバモイル基、7シル7ミ
7基、スルファモイル基、スルホンアミド基、カルボニ
ルオキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスル水ニ
ル基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、フルキルチオ基、7
リールチオ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置
換基を有してもよい。 前記一般式(K)において、Yは窒素原子と共に5〜7
貝環の複素環を形成するのに必要な単なる結合手または
2価の炭化水素基を表すが、Yが単なる結合手のときは
、さらにR5とR7が互いに結合して単なる結合手を形
成して不飽和の5貝環の複葉環を形成してもよく、また
Yが2価の単価水素基の場合、即ち、エチレン基の場合
には、R5とYまたはR7とYとで不飽和結合を形成し
、不飽和の6貝環の複素環を形t、シてもよく、またエ
チレン基の場合には、R5とY、R’とYまたはY自身
で不飽和結合を形成し、不飽和の7貝環の複素環を形成
してもよい、さらにY″C表される。2価の炭化水素基
は置換基を有してもよく、この置換基には、アルキル基
、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、7シ
ルアミ7基、スルホンアミド基、スル77モイル基、ア
リール基、ヘテ口環基等が挙げられる。 前記一般式(K)において、R’1R31R’sR’。 R6及びR7は、それぞれ水素原子、脂肪族基、ジクロ
フルキル基または7リール基を表すが、R2−R’で表
される脂肪族基としては、置換基を有してもよい飽和フ
ルキル基及び置換基を有してもよい不飽和フルキル基が
挙げられる。飽和フルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、テ
トラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ、不飽和ア
ルキル基としては、例えば、エチニル基、プロペニル基
等が挙げられる。 R2−R7で褒されるジクロフルキル基としては、置換
基を有してもよい5〜7貝環のシクロアルキル基で、例
えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。 R2−R7で麦される7リール基としては、置換基を有
してもよいフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 上記R2〜RTで表される脂肪族基、ジクロフルキル基
、アリール基のra置換基しては、アルキル基、アリー
ル基、アルコキシ基、カルボニル基、カルバモイル基、
アシルアミノ基、スルファモイル基、スルホンアミド基
、カルボニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキル
チオ基等が挙げられる。 前記一般式(K)で衰される化合物は、5〜7貝環の飽
和の複素環を有する場合が、不飽和であるよりも好まし
い。 以下に前記一般式(K)で表される化合物の使用量は、
本発明の前記一般式(I)で表されるマゼンタカプラー
に対して5〜300モル%が好ましく、より好ましくは
10〜200モル%である。 前記一般式(K)で表される化合物の代表的具体例を示
す。 以下余白 に−34 に−35 に−36 に−37 に−38 に−39 に−40 に−41 次に、前記一般式(K)で表される化合物の代汲的合成
例を示す。 合成例−1(化合物に−14の合成) ピペラジン9.0g及びミリスチルブロマイド28gを
溶解した60m1!の7七トン中に、無水R酸カリウム
6.08を加え、20時間煮沸還流して反応させた。 反応後、反応液を300 mllの水に注ぎ込んだ後、
酢酸エチル300□aで抽出した。酢酸エチル層を硫酸
マグネシウムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると、白色
結晶の目的物が得られた。アセトン100mQ で再結
晶して、白色鱗片状の結晶12g(収率43%)を得た
。 融i1フ5−180℃ 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の保4層、中間層等
の親水性コロイド層に感光材料が摩擦等で帯電する事に
起因する放電によるカブリ防止、画像のUv光による劣
化を防止するために紫外線吸収剤を含んでいても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料には、フィルタ一層
、ハレーション防止層、及び/又はイラジェーション防
止層等の補助層を設ける事が出来る。これらの層中及び
/又は乳剤層中には、現顔処理中にカラー感光材料より
流出するか、もしくは漂白される染料が含有させられて
も良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン化銀乳剤
層、及び/又はその他の親水性コロイド層に感光材料の
光沢を低減する加筆性を高める、感材相互のくつつき防
止等を目標としてマット剤を添加出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の滑り摩擦を低減さ
せるために滑剤を添加出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に、帯電防止を目的
とした帯電防止剤を添加出来る。帯゛電防止剤は支持体
の乳剤を積層してない側の帯電防止層に用いられる事も
あるし、乳剤層及び/又は支持体に対して乳剤層が積層
されている側の乳剤層以外の保護コロイド層に用いられ
ても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層及び/
又は他の親水性コロイド層には、塗布性改良、帯電防止
、スベリ性改良、乳化分散、接着防止、及び(現像促進
、硬調化、増感等の)写真特性改良等を目的として、種
々の界面活性剤が用いられる。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、写真乳剤層、そ
の他の層はバライタ紙又はα−オレフレインボリマー等
をラミネートした紙、合成紙等の可撓性反射支持体、酢
酸セルロース、硝酸セルロース、ボリスヂレン、ポリ塩
化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネ
イト、ポリアミド等の半合成又は合成高分子からなるフ
ィルムや、ガラス、金属、陶器などの剛体等に塗布出来
る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、必要に応じて支
持体表面にコロナ放電、紫外線照射、火焔処理等を施し
た後、直接又は(支持体表面の接着性、帯電防止性、寸
度安定性、耐摩耗性、硬さ、ハレーション防止性、摩擦
特性、及び/又はその他の特性を向上するための、1ま
たは2以上の下塗層)を介して塗布されても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の塗布に際して、塗
布性を向上させる為に増粘剤を用いても良い。塗布法と
しては2種以上の層を同時に塗布する事の出来るエクス
ドールジョンコーティング及びカーテンコーティングが
特に有用である。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、該感光材料を構
成する乳剤層が感度を有しているスペクトル領域の電磁
波を用いて露光出来る。光源としては、自然光(日光)
、タングステン電灯、蛍光灯、水銀灯、キセノンアーク
灯、炭素アーク灯、キセノンフラッシュ灯、陰!参線管
フライングスポット、各種レーデ−光、発光ダイオード
光、電子線、X線、γ線、α線などによって励起された
蛍光体から放出する光等、公知の光源のいずれでも用い
ることが出来る。 露光時間は通常カメラで用いられる1ミリ秒から1秒の
露光時間は勿論、1マイクロ秒より短い露光、例えば陰
極線管やキセノン閃光灯を用いて100マイクロ秒〜1
マイクロ秒の露光を用いることも出来るし、1秒以上よ
り長い露光も可能である。該露光は連続的に行なわれて
も、間欠的に行なわれても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、当業界公知のカ
ラー現像を行う事により画像を形成することが出来る。 本発明において発色現像液に使用される芳香族第1級ア
ミン系発色現像主薬は、種々のカラー写真プロセスにお
いて広範囲に使用されている公知のものが包含される。 これらの現像剤はアミンフェノール系及びp−フェニレ
ンジアミン系誘導体が含まれる。これらの化合物はyt
L離状前状態安定のため一般に塩の形、例えば塩酸塩ま
たは硫酸塩の形で使用される。また、これらの化合物は
一般に発色現像液1tについて約0.1g〜約30gの
濃度、好ましくは発色現像液12について約1g〜約1
5gの濃度で使用する。 アミンフェノール系現象剤としては、例えばO−アミン
フェノール、p−7ミノフエノール、5−アミノ−2−
オキシトルエン、2−アミノ−3−オキシトルエン、2
−オキシ−3−アミノ−1,4−ジメチルベンゼンなど
が含まれる。 特に有用な第1級芳香族アミン系発色現像剤はN、N’
−ジアルキル−p−フェニレンジアミン系化合物であり
、アルキル基及びフェニル嚢は任意の置換基で置換され
ていてもよい。その中でも特に有用な化合物例としては
、N、N’ −ジエチル−p−フェニレンジアミン塩酸
塩、N−メチル−p−フェニレンジアミン塩酸塩、N、
N’ −ジメチル−p−フェニレンジアミン塩′FIi
塩、2−アミノ−5−(N−エチル−N−ドデシルアミ
ノ)−トルエン、N−エチル−N−β−メタンスルホン
アミドエチル−3−メチル−4−アミノアニリン硫酸塩
、N−エチル−N−β−ヒドロキシエヂルアミノアニリ
ン、4−アミノ−3−メチル−N。 N′−ジエチルアニリン、4−アミノ−N−(2−メト
キシエチル)−N−エチル−3−メチルアニリン−p−
トルエンスルホネートなどを挙げることができる。 本発明の処理において使用される発色現像液には、前記
第1級芳香族アミン系発色現像剤に加えて更に発色現像
液に通常添加されている優々の成分、例えば水酸化すI
−リウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカ
リ剤、アルカリ金属亜硫酸塩、アルカリ金属m亜硫酸塩
、アルカリ全屈チオシアン酸塩、アルカリ全屈ハロゲン
化物、ベンジルアルコール、水軟化剤及び濃厚化剤など
を任意に含有せしめることもできる。この発色現像液の
pH値は、通常7以上であり、最も一般的には約10〜
約13である。 本発明においては、発色現像処理した侵、定着能を有す
る処理液で処理するが、該定着能を有する処理液が定着
液である場合、その前に漂白処理が行なわれる。該漂白
工程に用いる漂白剤としては有機酸の金属錯塩が用いら
れ、該金属錯塩は、現像によって生成した金属銀を酸化
してハロゲン化銀にかえすと同時に発色剤の未発色部を
発色させる作用を有するもので、その構成はアミノポリ
カルボン酸または蓚酸、クエン酸等の有B[で鉄、コバ
ルト、銅等の金属イオンを配位したものである。このよ
うな有線酸の金属錯塩を形成するために用いられる最も
好ましい有機酸としては、ポリカルボン酸またはアミノ
ポリカルボン酸が挙げられる。これらのポリカルボン酸
またはアミノポリカルボン酸はアルカリ金属塩、アンモ
ニウム塩もしくは水溶性アミン塩であってもよい。 これらの具体的代表例としては、次のものを挙げること
ができる。 [1]エチレンジアミンテトラ酢酸 [2]ニトリロトリ酢酸 [31イミノジ酢酸 [4]エチレンジアミンテトラ酢醒ジナトリウム塩 [5]エチレンジアミンテトラ酢酸テトラ(トリメチル
アンモニウム)塩 [6]エチレンジアミンテトラ酢酸テトラナトリウム塩 [7]ニトリロトリ[すトリウム塩 使用される漂白剤は、前記の如き有機酸の金属錯塩を漂
白剤として含有すると共に、種々の添加剤を含むことが
できる。添加剤としては、特にアルカリハライドまたは
アンモニウムハライド、例えば臭化カリウム、臭化ナト
リウム、塩化ナトリウム、臭化アンモニウム等の再ハロ
ゲン化剤、金属塩、キレート剤を含有させることが望ま
しい。 またIII酸塩、蓚M塩、酢酸塩、炭酸塩、燐酸塩等の
pH緩衝剤、アルキルアミン類、ポリエチレンオキサイ
ド類等の通常漂白液に添加することが知られているもの
を適宜添加することができる。 更に、定着液及び漂白定着液は、亜硫酸アンモニウム、
亜硫酸カリウム、垂亜1i1ii!10アンモニウム、
重亜硫酸カリウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸
アンモニウム、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナ
トリウム等の亜硫酸塩や硼酸、硼砂、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重
亜硫酸ナトリウム、重炭酸ナトリ・クム、重炭酸カリウ
ム、酢酸、酢酸ナトリウム、水l!り化アンモニウム等
の各種の塩から成るpH緩衝剤を単独或いは2種以上会
むことができる。 漂白定着液(浴)に漂白定着補充剤を補充しながら本発
明の処理を行なう場合、該漂白定着液(浴)にチオ硫酸
塩、チオシアン酸塩又は亜硫酸塩等を含有せしめてもよ
いし、該漂白定着補充液にこれらの塩類を含有せしめて
処理浴に補充してもよい。 本発明においては漂白定着液の活性度を高める為に、漂
白定着浴中及び漂白定着補充液の貯蔵タンク内で所望に
より空気の吹き込み、又は酸素の吹き込みをおこなって
もよく、或いは適当な酸化剤、例えば過酸化水素、臭素
酸塩、過硫R塩等を適宜添加してもよい。 以下余白 [発明の効果] 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、色再瑣性に優れ
、かつマゼンタ色素画像の光堅牢性が署しく改良され、
しかもアゾール系マゼンタカプラー、とりわけピラゾロ
トリアゾール系マゼンタカプラーの欠点である脚部!?
[の軟調化が改良されると同時に階調バランスにも優れ
、さらには未発色部のM−スティンおよびY−スティン
の発生が防止された。 [実施例] 以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明する。 〈実施例−1〉 表−1に示した本発明に係るマゼンタカプラーまたは下
記比較マゼンタカプラー−1を各400と表−1に示し
た本発明に係る一般式<a >の化合物または下記比較
化合物(A>をそれぞれマゼンタカプラーに対して50
モル%と表−1に示した本発明に係る一般式(b)の化
合物2gを高沸点有機溶媒S −230vQと酢酸エチ
ル100 v(lの混合溶媒に溶解し、この溶液をドデ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む5%のゼラチ
ン水溶液300 vQに添加した後、超音波ホモジナイ
ザーにて分散し、得られた分散液を下記に示すb!感性
塩臭化銀乳剤に混合し、下記に示す構成になる様にポリ
エチレン被覆紙支持体上に塗布乾燥して表−1に示す試
料1〜18を得た。 比較マゼンタカプラー1 F 比較化合物(A> 〈塩臭化銀乳剤の調製方法〉 同時混合法により55℃にてI)ACl  7.3、p
H30に一定に保ちながら銀塩溶液とハライド溶液の各
々の添加訂をコン1〜ロールしながら粒子成長を行い、
成長終了後、pl−16,0に調節し常法により脱塩水
洗した。 この様にして作製した塩臭化銀乳剤は下表のごとくの1
4面体粒子からなる乳剤であった。 次にこの乳剤を分割してイオウ増感および色増感した。 (構成条件) ゼラチン           1.50/n’塩臭化
銀乳剤         0.2す/ TA2[70モ
ル%のAp Br含有] マゼンタカプラー       0.41J/mオ一般
式(a )化合物 カプラーに対し50モル% 一般式(b)化合vA0.02(1/12高沸点有灘溶
奴         0.3g/z2これらの試料1乃
至18に感光計(小西六写真工業株式会社装KS−7型
)を用いて緑色光により光模露光を行なった後、以下の
処理を施した。 基準処理工F’l<処理温度と処理時間)[1]発色現
象   38℃  3分30秒[2]漂白定着   3
3℃  1分30秒[3]水洗処理 25〜30℃  
 3分[4]乾  燥 75〜80”C約2分処理液組
成 (発色現像液) ベンジルアルコール         151Qエチレ
ングリコール         15顧亜硫酸カリウム
           2.0g臭化カリウム    
        0.7g塩化ナトリウム      
     0.2g炭酸カリウム          
 30.0 Qヒドロキシルアミン硫酸塩      
3.0gポリリン酸(TPPS)        2.
593−メチル−4−アミノ−N−エチル −N−(β−メタンスルホンアミド エチル)−アニリン硫酸塩      5.5g蛍光増
白剤(4,4’ −ジアミノ スヂルベンズスルホン酸誘導体)    1.0(J水
酸化カリウム           2゜0g水を加え
て全岱を1yとし、p)l 10.20に調整する。 (漂白定着液) エチレンジアミンテトラ酢酸第2鉄 アンモニウム2水塩         60 (]エチ
レンジアミンテトラ酢H3g ヂオfa酸アンモニウム(70%溶液)   100m
Q曲硫酸アンモニウム(40%溶液)   27.5輩
炭酸カリウムまたは氷酢酸でl)H7,1に調整し水を
加えて今市を12とする。 処理してjqられた試料について光学濃度計(小西六写
真工業株式会社製PDA−65型)を用いてマゼンタ発
色色素濃度を測定し、濃度0.8〜1.8のガンマ値(
γ1とする)、脚部階調として温度0.3〜0.8のガ
ンマIt(γ2とする)を求めた。 ざらにMスティン、光堅牢性、耐湿Yスティン、分光吸
収特性は下記のごとく求めた。 くMスティン(MS)> 前記処理後の試料の未発色部の緑色濃度Dq を測定し
、比較試料No、17の値を100とした相対値で表わ
した。 比較試料No、17のレベルであれば問題のない笥囲で
ある。 く耐湿Yスティン〉 試料を65℃、80%RHの高温、高湿の雰囲気中に1
4日間放置したときの未発色部のイエロースティン(青
色濃度りの試験前後の差ΔDB  ’)を測定した。 く光堅牢性試験〉 アンダーグラス屋外曝露台を用いて、7日間太陽光を照
射し、初濃度Do = 1.0に対する7日間照射模の
濃度りの残存率で示した。 く分光吸収特性試験〉 17られたマゼンタ発色試料の分光反射スペクトルをカ
ラーアナライザー〇〇7型(日立製作所製)を用いて測
定した。この際多試料の可視部の吸収スペクトルの最高
濃度を1.0に規格化して測定した。各試料の420n
mにお【プる反射ご度を副吸収として色純度の指標とし
た。 これらの結果を表−1に示す。 以下余白 表−1の結果から明らかなように本発明のカプラーを単
独で使用した試料N0.1に対し、本発明の一般式(b
)の化合物を単独で用いた試料N。 2は脚部軟調化は改良されるが光堅牢性が劣化し、Mス
ティンは改良されない。ただし比較カプラー−1を用い
た試料No、17に対して一般式(b)の1ヒ合物を用
いた試料No、18は脚部軟調化は改良され、かつ光堅
牢性には彰習を与えていない。 また本発明の一般式(a )の化合物を単独で用いた試
FilNo、3は比較化合物(A>を用いた試料N01
4に比較して光堅牢性および〜1スティンは改良される
ものの、脚部軟調化は改良されない。これらに対し本発
明の試料N015〜13は比較試料N 0.3に比較し
て光堅牢性およびMスティンの改良を損うことなく脚部
軟調化が改良されている。 ざらに本発明の試料N0.5〜N0.13は比較カプラ
ー−1を用いた試料No、17.18に比較して、v1
湿Yスティンの増加が少なく、また色再現性に悪>52
を与える副吸収が少ないことがわかる。 〈実施例−2〉 実施例−1と同様な方法で表−2に示す試料を作成し、
同様に処理して得られた試料について同様な試験を行っ
た。結果を表−2に示す。 以下余白 表−2の結果から明らかな様に実施例−1の本発明の試
料NO19に対し、一般式(a ”)の化合物、一般式
(b)の化合物を変化させても実施例−1と同様に実施
例−1の比較試料N091〜4.17.18に比較して
光堅牢性、Mスティンおよび脚部軟調化が改良されてい
る。 〈実施例−3〉 表−3,4に示す様な構成になる様に各層の塗布液を調
整し、支持体側より順次塗設して多層ハロゲン化銀カラ
ー写真感光材料を作製した。 かくして作成した試料を試験に応じて露光した後、前記
処理工程に従って処理をし、以下の試験を行った。 くマゼンタ色素画伝の階調〉 実施例1と同様にγ1 γ2で評価。 く三層の階調バランス〉 グレイ発色色素画像を青色(B)、緑色(G)、赤色(
R)光で測定し、各々γ1B、γ2B、γ1G、γ2G
、γ+ R1γ2Rで表わしγ+G%γ2Gを中心に下
記の様にバランスを評価した。 γ1バランス γ+B/G=(γIB/γ、Q)X100γ+ R/G
= (T+ R/γIG)×10012バランス γ2 B/G= (γ2 B/γ2G)X100γ2R
/G=(γ2 R/γ2G)X100プリント画象とし
て観賞する場合、 γ+  B/G’=  100   γ2 B/G’=
、100γ+ R/G’=  110   γ2 R/
G’=、 105が好ましい。 くMスティン〉 実施例−1と同様に評価した。 く光堅牢性〉 マゼンタ発色色素画像にアンダーグラス屋外曝露台を用
いて20日間太陽光を照射し、以F実施例−1と同様に
評価した。 く耐湿Yスティン〉 実施例−1と同様に評価した。 く分光吸収特性〉 実施例−1と同様に評価した。 表−3 層  構成 第7層   ゼラチン(1,OQ/11” )(保41 第6層   ゼラチン(1,0(]/1’ )(第3中
間層)紫外線吸収剤 UV−1(0,2o/f) UV −2(0,1(1/n’ ) HQ −6(0,02(1/11’ )高沸点溶媒ジノ
ニルフタレート (0,2(1/m2) 第5層   ゼラチン(1,2(1/m’ )(赤感層
)  塩臭化銀乳剤 [7G−T−ル%のAgBr含有1 (銀量0.25<1/1!’ ) シアンカプラー[C−29/C−47](ハロゲン化銀
1モル当り0.4モル)HQ −6(0,011J/m
” ) 高沸点溶媒ジオクチルフタレート (0,21J/i” ) 第4層   ゼラチン(1,5M2B5)(第2中間層
)紫外線吸収剤 UV−1(0,5M2B5) tJV −2(0,2u/m” ) HQ −6(0,03Mm2) 高沸点溶媒ジノニルフタレート (0,3Mf) 第3層   ゼラチン(1,5(1/i’ )(緑感層
)  塩臭化銀乳剤 [7O−EAz%のAQ 3r含有] マゼンタカプラー[表−41 (0,4(1/1’ ) 一般式(a )化合物 (0,2(1/m” ) 一般式(b)化合物 (0,020/m” ) 高沸点溶媒ジオクチルフタレート (0,25g/w2> 第2層   ゼラチン(CO(J/i’ )(第1中間
層) HQ −6(0,07Q/m’ )高沸点溶媒ジ
イソデシルフタレート (0,04(J/ v2) 第1層   ゼラチン(2,0M2B5)(青感層) 
 塩臭化銀乳剤(@但0.3(J/v”)イエローカプ
ラーY−5 (0,8Q/12) HQ −6(0,02(1/ v’ )高沸点溶媒ジノ
ニルフタレ−1− (0,3Q/v’ ) 支持体  、ポリエチレン被覆紙 ()内は塗布mまたは添加Rを表わす。 以下余白 比較マゼンタカプラー2 紫外線吸収剤 (UV−1) 紫外線吸収剤 c、:、ti、(t) 表−4の結果から明らかな様に、重層試料において本発
明のカプラーを単独で使用した試料No。 32に対し、本発明の一般式(b)の化合物を単独で用
いた試料No、33は脚部軟調化が改良されるが、γ2
バランスがまだ充分ではなく、光堅牢性が劣化し、Mス
ティンは改良されない。ただし比較カプラー−2を用い
た試料N 0.53に対して一般式(b)の化合物を用
いた試料No、54は脚部軟調化は改良され、γ1バラ
ンス、γ2バランスも良好であり、かつ光堅牢性には影
響を与えない。 また、本発明の一般式(a )の化合物を単独で用いた
試料No、34は比較化合物(A)を用いた試料No、
35に比較して光堅牢性およびMスティンは改良される
ものの脚部の軟調化およびγ1バランス、γ2バランス
は改良されない。これらに対し、本発明の試料No、3
6〜52は比較試料No、34に比較して光堅牢性およ
びMスティンの改良を損うことなく、脚部軟調化および
γ1バランス、γ2バランスが改良されている。 さらに本発明の試料N0.36〜No、52は比較カプ
ラー−2を用いた試料NO,53,54に比較して耐湿
Yスティンの増加が少なく、また色再現性に悪影費を与
える01吸収が少ないことがわかる。 〈実施例−4〉 実施例−3の表−4の試料No、36の構成条件より高
沸点溶媒と画像安定剤を表−5の様に変化して試料を作
成し、実施例−3と間柱な試験を行い、結果を表−5に
示した。ただし、マぜンタ色素画像の光堅牢性試験の太
陽光照射時間は30日間とした。また画像安定剤の塗布
1は0.211/i2とした。 以下余白 表−5の結果より、明am中に述べた様に本発明におい
て誘電率が6.0以下の高沸点溶媒の使用および画像安
定剤の併用が、脚部階調の改良おJ:びマゼンタ色素画
像の光堅牢性の改良にJ:り効果を示していることが判
る。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層
    を有するハロゲン化銀写真感光材料において、前記ハロ
    ゲン化銀乳剤層の少なくとも一層には、下記一般式[
    I ]で表わされるマゼンタカプラー、下記一般式[a]
    で表わされる化合物および下記一般式[b]で表わされ
    る化合物が含有されていることを特徴とするハロゲン化
    銀写真感光材料。 一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中Zは含窒素複素環を形成するに必要な非金属原子
    群を表わし、該Zにより形成される環は置換基を有して
    もよい。 Xは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
    り離脱しうる置換基を表わす。 またRは水素原子または置換基を表わす。]一般式[a
    ] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R_1は水素原子、ヒドロキシル基、オキシラ
    ジカル基(−O基)、−SOR′基、−SO_2R′基
    (R′は1価の有機基を表わす)、アルキル基、アルケ
    ニル基、アルキニル基または−COR″基(R″は水素
    原子または1価の有機基を表わす。)を表わす。R_5
    、R_6、R_5′、R_6′およびR_9はそれぞれ
    アルキル基を表わす。 R_7およびR_8は、それぞれ水素原子または−OC
    OR_1_0基(R_1_0は1価の有機基を表わす。 )を表わすか、あるいはR_7およびR_8が共同して
    複素環基を形成しても良い。nは0〜4の整数を表わす
    。] 一般式[b] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R_2_1及びR_2_2はそれぞれ水素原子
    、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、
    シクロアルキル基または複素環基を表わし、R_2_3
    、R_2_4、R_2_5及びR_2_6はそれぞれ水
    素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、ア
    リール基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリーロ
    キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、
    アルキルアシルアミノ基、アリールアシルアミノ基、ア
    ルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基、アル
    キルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、ア
    ルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基、
    アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ニトロ
    基、シアノ基、アルキルオキシカルボニル基、アリール
    オキシカルボニル基、アルキルアシルオキシ基又はアリ
    ールアシルオキシ基を表わす。但し、R_2_3、R_
    2_4、R_2_5及びR_2_6が同時に水素原子で
    あるとき、R_2_1及びR_2_2が同時に水素原子
    であることはない。]
  2. (2)前記一般式[a]で表わされる化合物および前記
    一般式[b]で表わされる化合物は誘電率が6.0以下
    の高沸点有機溶媒を用いてハロゲン化銀乳剤層に添加さ
    れたものであることを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載のハロゲン化銀写真感光材料。
JP2317386A 1986-02-05 1986-02-05 ハロゲン化銀写真感光材料 Granted JPS62180367A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02208653A (ja) * 1989-02-08 1990-08-20 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH02217845A (ja) * 1989-02-20 1990-08-30 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02208653A (ja) * 1989-02-08 1990-08-20 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
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