JPS62172358A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/392—Additives
- G03C7/39208—Organic compounds
- G03C7/39212—Carbocyclic
- G03C7/39216—Carbocyclic with OH groups
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明はハロゲン化銀写真感光材、料に関し、更に詳し
くは脚部階調の改良されたハロゲン化銀カラー写真感光
材料に関するものである。
くは脚部階調の改良されたハロゲン化銀カラー写真感光
材料に関するものである。
[発明の背m]
従来から、ハロゲン化銀カラー写真感光材料(以下、カ
ラー感光材料と称す)を画象露光し、発色現像を行なう
ことにより、芳香族第1級アミン系現象主薬の酸化体と
発註剤とがカップリング反応を行なって、例えばインド
フェノール、インドアニリン、インダミン、アゾメチン
、フェノキサジン、フェナジンおよびそれらに類似する
色素を生成し、色素画象が形成されることは良く知られ
ているところである。
ラー感光材料と称す)を画象露光し、発色現像を行なう
ことにより、芳香族第1級アミン系現象主薬の酸化体と
発註剤とがカップリング反応を行なって、例えばインド
フェノール、インドアニリン、インダミン、アゾメチン
、フェノキサジン、フェナジンおよびそれらに類似する
色素を生成し、色素画象が形成されることは良く知られ
ているところである。
イエロー色素両会を形成させるために用いられるカプラ
ーとしては、例えばアシルアセトアニリド系カプラーが
あり、またマゼンタ色素側Qを形成させるために用いら
れるカプラーとしては、例えば、ピラゾロン、ピラゾロ
ベンズイミダゾール、ピラゾロ1ヘリアゾールまたはイ
・ンダゾロン系カプラーがあり、ざらにシアン色素画像
形成用のカプラーとしては、例えば、フェノールまたは
ナフトール系カプラーが一般的に用いられている。
ーとしては、例えばアシルアセトアニリド系カプラーが
あり、またマゼンタ色素側Qを形成させるために用いら
れるカプラーとしては、例えば、ピラゾロン、ピラゾロ
ベンズイミダゾール、ピラゾロ1ヘリアゾールまたはイ
・ンダゾロン系カプラーがあり、ざらにシアン色素画像
形成用のカプラーとしては、例えば、フェノールまたは
ナフトール系カプラーが一般的に用いられている。
特にマゼンタ色素画像を形成するために広く使用されて
いるカプラーは、1,2−ヒ°ラゾロー5−オン類であ
る。このカプラー類から形成される色素は550 n
m付近の主吸収以外に430nm付近に副吸収を有して
おり、この黄色成分の01吸収により色濁りを生じ、色
再現性上大きな問題であった。
いるカプラーは、1,2−ヒ°ラゾロー5−オン類であ
る。このカプラー類から形成される色素は550 n
m付近の主吸収以外に430nm付近に副吸収を有して
おり、この黄色成分の01吸収により色濁りを生じ、色
再現性上大きな問題であった。
さらに、マゼンタカプラーの場合、未発色部の光、熱お
よび湿度によるイエロースティンが、シアンカプラーや
イエローカプラーに比べて(框めて大きいので、画像保
存性を向上させるための欠点どなっていた。
よび湿度によるイエロースティンが、シアンカプラーや
イエローカプラーに比べて(框めて大きいので、画像保
存性を向上させるための欠点どなっていた。
上記黄色成分の副吸収と共にイエロースティンが改良さ
れたマゼンタカプラーとして、米国特許3□725,0
67号、特開昭59−99437号、特開昭59−16
2548号、特開f!l159−171956号、リサ
ーチ・ディスクロージャー誌24220号、同2423
0号及び同24531号等に記載されているピラゾロト
リアゾール系カプラー等は、特に優れたものである。
れたマゼンタカプラーとして、米国特許3□725,0
67号、特開昭59−99437号、特開昭59−16
2548号、特開f!l159−171956号、リサ
ーチ・ディスクロージャー誌24220号、同2423
0号及び同24531号等に記載されているピラゾロト
リアゾール系カプラー等は、特に優れたものである。
これら公報に記載のピラゾロトリアゾール系マゼンタカ
プラーから形成される色素は、430 ri m 1を
近の副吸収が、前記の3位にアニリノ塁を有する1、2
−ピラゾロ−5−オン類から形成される色素よりら著し
く小ざいので、色再現が良好で、その上、光、熱および
湿度に対ザる未発色部のイエロースティンの発生も極め
て小さく良好な性能を有している。
プラーから形成される色素は、430 ri m 1を
近の副吸収が、前記の3位にアニリノ塁を有する1、2
−ピラゾロ−5−オン類から形成される色素よりら著し
く小ざいので、色再現が良好で、その上、光、熱および
湿度に対ザる未発色部のイエロースティンの発生も極め
て小さく良好な性能を有している。
上記ピラゾロトリアゾール系マゼンタカプラーから形成
される色素は前記のように1夏れた特性を有しており、
特にカラーペーパーに適用された場合、この優れた特性
が十分に発揮される。
される色素は前記のように1夏れた特性を有しており、
特にカラーペーパーに適用された場合、この優れた特性
が十分に発揮される。
しかしながら、上記ピラゾロトリアゾール系マゼンタカ
プラーは従来の1.2−ピラゾロ−5−オン類と比べて
、特に脚部の階調が軟調になる傾向を有している。
プラーは従来の1.2−ピラゾロ−5−オン類と比べて
、特に脚部の階調が軟調になる傾向を有している。
このためカラー感光材料に適用する場合、赤感光性層、
緑感光性層および青感光性層の三層の階調バランスがく
ずれ、特にハイライト部分でマゼンタ色が目立ち易くな
る。このためカラープリント用感光材料においては、例
えば空や雲がピンクに見えたり、さらに雪が白ではなく
ピンクに見える、いわゆるハイライトピンク現象となる
。人間の目は、特に低濃度でのこれらの微妙な変化を識
別し、好ましくないカラープリントの仕上りであると判
断する。
緑感光性層および青感光性層の三層の階調バランスがく
ずれ、特にハイライト部分でマゼンタ色が目立ち易くな
る。このためカラープリント用感光材料においては、例
えば空や雲がピンクに見えたり、さらに雪が白ではなく
ピンクに見える、いわゆるハイライトピンク現象となる
。人間の目は、特に低濃度でのこれらの微妙な変化を識
別し、好ましくないカラープリントの仕上りであると判
断する。
したがって、カラー感光材料の設計に際しては、特に低
濃度部分の三層のバランスを合わせるために多大な努力
を費している。
濃度部分の三層のバランスを合わせるために多大な努力
を費している。
このため上記ビラゾロトリアゾール系マゼンタカプラー
による脚部の軟調化という現象はハイライトピンク傾向
による著しい商品価値の低下を生じ、致命的と言っても
過言でない欠点どなる。
による脚部の軟調化という現象はハイライトピンク傾向
による著しい商品価値の低下を生じ、致命的と言っても
過言でない欠点どなる。
ハロゲン化銀写真感光月利の諧調をコントロールする方
法は従来から種々検討されてきている。
法は従来から種々検討されてきている。
例えば、一般的に用いられる方法としては、塗布される
ハロゲン化銀aの増、減、塗イ[されるカプラー化の増
、減、並びに塗布されるハロゲン化銀量とカプラー良の
比率を変化させる方法、または例えば特開昭50−71
320号、同53−44016号、同56−78831
号、@57−5813γ号、同 57−150841号
、同57−178235号、同58−14829号等に
記載されている粒径や増感方法の異なる2種以上のハロ
ゲン化銀乳剤を混合する方法、ざらには、一般的に用い
られる方法としてハロゲン化銀粒子を化学増感または色
増感する際に、脚部が硬調化するように条件、添加剤等
を選択する方法、さらに、例えば特りfl昭52−11
029@、同52−18310号、英国特許1,535
,016号、米国特許3,448.709号等に記載の
ハロゲン化銀粒子を形成する際に水溶性ロジウム塩を添
加する方法などがある。
ハロゲン化銀aの増、減、塗イ[されるカプラー化の増
、減、並びに塗布されるハロゲン化銀量とカプラー良の
比率を変化させる方法、または例えば特開昭50−71
320号、同53−44016号、同56−78831
号、@57−5813γ号、同 57−150841号
、同57−178235号、同58−14829号等に
記載されている粒径や増感方法の異なる2種以上のハロ
ゲン化銀乳剤を混合する方法、ざらには、一般的に用い
られる方法としてハロゲン化銀粒子を化学増感または色
増感する際に、脚部が硬調化するように条件、添加剤等
を選択する方法、さらに、例えば特りfl昭52−11
029@、同52−18310号、英国特許1,535
,016号、米国特許3,448.709号等に記載の
ハロゲン化銀粒子を形成する際に水溶性ロジウム塩を添
加する方法などがある。
ところがこれらの方法では、目的とする脚部の階調の硬
調化だけでなく肩部の階調までvJ!調化したり、経時
保存により階調の軟調化を生じたり、又は他の写真性能
、例えば感度、カブリ、露光特待f1などへの悪影響を
生じたりして上記ピラゾロ1〜リアゾール系マゼンタカ
プラーに対して、脚部階調だけを硬調させその他の性能
に影響をおよぼさない有効な手段は従来技術の・中では
見出せていないのが現状である。
調化だけでなく肩部の階調までvJ!調化したり、経時
保存により階調の軟調化を生じたり、又は他の写真性能
、例えば感度、カブリ、露光特待f1などへの悪影響を
生じたりして上記ピラゾロ1〜リアゾール系マゼンタカ
プラーに対して、脚部階調だけを硬調させその他の性能
に影響をおよぼさない有効な手段は従来技術の・中では
見出せていないのが現状である。
そこで上記ピラゾロ!−リアゾール系マゼンタカプラー
の前述したように優れた特性を活用し、色再現性、画像
保存性に優れた仕上りプリントを提供するためには、脚
部階調の硬調化の手段を見出すことが不可欠である。
の前述したように優れた特性を活用し、色再現性、画像
保存性に優れた仕上りプリントを提供するためには、脚
部階調の硬調化の手段を見出すことが不可欠である。
[発明の目的]
本発明の目的は、アゾール系マゼンタカプラーの優れた
特性を活かし、カブリ等の写真性能に悪影響を生じさせ
ないで、該カプラーの欠点である脚部階調の軟調化を改
良したハロゲン化銀写真感光月利を提供することにある
。
特性を活かし、カブリ等の写真性能に悪影響を生じさせ
ないで、該カプラーの欠点である脚部階調の軟調化を改
良したハロゲン化銀写真感光月利を提供することにある
。
さらに本発明の別の目的は色再視性、画像保存性に優れ
たハロゲン化銀写真感光月利を提供することにある。そ
の他の目的は以下の記載から明らかになろう。
たハロゲン化銀写真感光月利を提供することにある。そ
の他の目的は以下の記載から明らかになろう。
〔発明の構成J
本発明の上記目的は、支持体上に少なくとも1層のハロ
ゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料にお
いて、前記ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも1広は下記
一般式CI]で示されるマゼンタカプラー、下記一般式
[XII]で示される化合物および誘電率が6.0以下
の高沸点有機溶媒を含有しているハロゲン化銀母貝感光
材料により達成される。
ゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料にお
いて、前記ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも1広は下記
一般式CI]で示されるマゼンタカプラー、下記一般式
[XII]で示される化合物および誘電率が6.0以下
の高沸点有機溶媒を含有しているハロゲン化銀母貝感光
材料により達成される。
一般式[I]
[式中、2は含窒素複素環を形成するに必要な非金居原
子群を表わし、該2により形成される環は置換基を有し
てもよい。
子群を表わし、該2により形成される環は置換基を有し
てもよい。
Xは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱しうる置換基を表わす。
り離脱しうる置換基を表わす。
またRは水素原子または置換基を表わす。]一般式[X
IIコ H [式中、R1およびR2はそれぞれ炭素数1〜5のアル
キル基°を表わし、nは1〜20の整数を表わし、ハは
1または2を表わす。Aはを表わし、R3は水素原子、
アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基またはア
リール基を表わし、R4は水素原子、アルキル基または
アリール基を表わす。) 、=QY(ここで、YはR3
ま○ 1ま たは一〇−R3を表わし、R3は上記と同義。)、水素
原子、アルキル基、アリール基または−C−R3を表わ
し、R3は上記と同義。)、R3 し、R3は上記と同義、R6は水素原子、アルキル基、
シクロアルキル基、アルケニル基またはアリール基を表
わす。)またはシアノ基を表わす。
IIコ H [式中、R1およびR2はそれぞれ炭素数1〜5のアル
キル基°を表わし、nは1〜20の整数を表わし、ハは
1または2を表わす。Aはを表わし、R3は水素原子、
アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基またはア
リール基を表わし、R4は水素原子、アルキル基または
アリール基を表わす。) 、=QY(ここで、YはR3
ま○ 1ま たは一〇−R3を表わし、R3は上記と同義。)、水素
原子、アルキル基、アリール基または−C−R3を表わ
し、R3は上記と同義。)、R3 し、R3は上記と同義、R6は水素原子、アルキル基、
シクロアルキル基、アルケニル基またはアリール基を表
わす。)またはシアノ基を表わす。
Bはアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、ア
リール基、?!素環基または 【 −C−C内H2□+I−に−(−A ”)l で表わ
される基(ここで、R+ N R2、n 1におよびA
はそれぞれ上記と同義。)を表わす。] [発明の具体的構成] 本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン化銀乳剤
層の少なくとも1層に用いられる一般式[I]で示され
るマぜンタカブラーについて説明する。
リール基、?!素環基または 【 −C−C内H2□+I−に−(−A ”)l で表わ
される基(ここで、R+ N R2、n 1におよびA
はそれぞれ上記と同義。)を表わす。] [発明の具体的構成] 本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン化銀乳剤
層の少なくとも1層に用いられる一般式[I]で示され
るマぜンタカブラーについて説明する。
本発明に係る前記一般式[7)
一般式(1)
で表されるマゼンタカプラーに於いて、Zは含窒素複素
環を形成するに必要な非金属原子群を表し、該Zにより
形成される環は置換基を有してもよい。
環を形成するに必要な非金属原子群を表し、該Zにより
形成される環は置換基を有してもよい。
Xは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱しうる置換基を表す。
り離脱しうる置換基を表す。
またRは水素原子または置換基を表す。
前記Rの表す置換基としては、例えばハロゲン原子、ア
ルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロア
ルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、
アシル基、スルホニル基、スルフィニル基、ホスホニル
基、カルバモイル基、スルファモイル基、シア7基、ス
ピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シロキシ基
、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミ7基、
7シルアミ7基、スルホンアミド基、イミド基、ウレイ
ド基、スル7アモイルアミ7基、アルコキシカルボニル
アミ7基、了り一ルオキシ力ルポニルアミ7基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基が挙げら
れる。
ルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロア
ルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、
アシル基、スルホニル基、スルフィニル基、ホスホニル
基、カルバモイル基、スルファモイル基、シア7基、ス
ピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シロキシ基
、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミ7基、
7シルアミ7基、スルホンアミド基、イミド基、ウレイ
ド基、スル7アモイルアミ7基、アルコキシカルボニル
アミ7基、了り一ルオキシ力ルポニルアミ7基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基が挙げら
れる。
ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子が挙
げられ、特に塩素原子が好ましい。
げられ、特に塩素原子が好ましい。
R′?′表されるアルキル基としては、炭素数1〜32
のもの、アルケニル基、アルキニル基としては炭素数2
〜32のらの、シクロアルキル基、シクロアルケニル基
としてIよ炭素数3〜12、特1こ5〜7のものが好ま
しく、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基は直鎖
でも分岐でもよい。
のもの、アルケニル基、アルキニル基としては炭素数2
〜32のらの、シクロアルキル基、シクロアルケニル基
としてIよ炭素数3〜12、特1こ5〜7のものが好ま
しく、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基は直鎖
でも分岐でもよい。
また、これらアルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、シクロアルキル基、シクロアルケニル基は置換基〔例
えばアリール、シア/、ハロゲン原子、ヘテロ環、シク
ロアルキル、シクロアルケニル、スピロ化合物残基、有
橋炭化水素化合物残基の他、アシル、カルボキシ、カル
バモイル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカル
ボニルの如くカルボニル基を介して置換するもの、更に
はヘテT:!原子を介して置換するもの(具体的にはヒ
ドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロ環オキ
シ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモイルオキシ等の
酸素原子を介し.で置換する゛もの、ニドa17ミ/C
ノフルキル7ミノ等を含む)、スル7アモイルアミ/、
アルコキシカルボニルアミ/、アリールオキシカルボニ
ルアミノ、アシルアミノ、スルホンアミド、イミド、ウ
レイド等の窒素原子を介して置換するもの、アルキルチ
オ、ア17 − ルチt 、ヘテロ環チオ、スルホニル
、スルフィニル、スルフアモイル等の硫黄原子を介して
置換するもの、ホスホニル等の燐原子を介して置換する
もの等1〕を有していてもよい。
、シクロアルキル基、シクロアルケニル基は置換基〔例
えばアリール、シア/、ハロゲン原子、ヘテロ環、シク
ロアルキル、シクロアルケニル、スピロ化合物残基、有
橋炭化水素化合物残基の他、アシル、カルボキシ、カル
バモイル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカル
ボニルの如くカルボニル基を介して置換するもの、更に
はヘテT:!原子を介して置換するもの(具体的にはヒ
ドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロ環オキ
シ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモイルオキシ等の
酸素原子を介し.で置換する゛もの、ニドa17ミ/C
ノフルキル7ミノ等を含む)、スル7アモイルアミ/、
アルコキシカルボニルアミ/、アリールオキシカルボニ
ルアミノ、アシルアミノ、スルホンアミド、イミド、ウ
レイド等の窒素原子を介して置換するもの、アルキルチ
オ、ア17 − ルチt 、ヘテロ環チオ、スルホニル
、スルフィニル、スルフアモイル等の硫黄原子を介して
置換するもの、ホスホニル等の燐原子を介して置換する
もの等1〕を有していてもよい。
具体的には例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基
、t−ブチル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、1
−へキシルノニル基、1.1’−ジベンチルノニル基、
2−クロル−t−ブチル基、ト1Jフルオロメチル基、
1−エトキシトリデシル基、1−ノドキシイソプロビル
基、メタンスルホニルエチル基,2.4−ノーt−7ミ
ル7エ/キシメチル基、アニリノ基、1−フェニルイン
プロピル基、3−m−ブタンスルホンアミノ7二7キシ
プロピル基、3−4’−(α−( 4 ”(p−ヒドロ
キシベンゼンスルホニル)フェノキシフドデカ/イルア
ミノ)フェニルプロピル基、3−14’−[α−(2
”、4”−ジ−t−7ミルフエノキシ)ブタン7ミ1’
)フェニルl−7”ロピル基、4−Cα−(〇ークロル
フェノキシ)テトラデカンアミド7二/キシ〕プロピル
基、アリル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等
が挙げられる。
、t−ブチル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、1
−へキシルノニル基、1.1’−ジベンチルノニル基、
2−クロル−t−ブチル基、ト1Jフルオロメチル基、
1−エトキシトリデシル基、1−ノドキシイソプロビル
基、メタンスルホニルエチル基,2.4−ノーt−7ミ
ル7エ/キシメチル基、アニリノ基、1−フェニルイン
プロピル基、3−m−ブタンスルホンアミノ7二7キシ
プロピル基、3−4’−(α−( 4 ”(p−ヒドロ
キシベンゼンスルホニル)フェノキシフドデカ/イルア
ミノ)フェニルプロピル基、3−14’−[α−(2
”、4”−ジ−t−7ミルフエノキシ)ブタン7ミ1’
)フェニルl−7”ロピル基、4−Cα−(〇ークロル
フェノキシ)テトラデカンアミド7二/キシ〕プロピル
基、アリル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等
が挙げられる。
Rで表される7リール基としてはフェニル基が好ましく
、置換基(例えば、アルキル基、アルコキシ基、アシル
7ミ7基等)を有していてもよい。
、置換基(例えば、アルキル基、アルコキシ基、アシル
7ミ7基等)を有していてもよい。
具体的には、フェニル基、4−t−ブチル7エ二ル基、
2.4−ジーLー7ミルフエニル基、4−テトラデカン
アミドフェニル基、ヘキサデシロキシフェニル基、4′
−〔α−(4”−t−ブチルフェノキシ)テトラデカン
アミドフェニル基等が挙げられる。
2.4−ジーLー7ミルフエニル基、4−テトラデカン
アミドフェニル基、ヘキサデシロキシフェニル基、4′
−〔α−(4”−t−ブチルフェノキシ)テトラデカン
アミドフェニル基等が挙げられる。
RT表されるヘテロ環基としては5〜7貝のものが好ま
しく、置換されていてもよく、又総合していてもよい。
しく、置換されていてもよく、又総合していてもよい。
具体的には2−7リル基、2−チェニル基、2−ピリミ
ジニル基、2−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。
ジニル基、2−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。
Rで表されるアシル基としては、例えばアセチル基、フ
ェニルアセチル基、ドデカノイル基、α−2,4−シー
t−7ミル7エ/キシブタ/イル基等のフルキルカルボ
ニル基、ベンゾイル!、3−ペンタデシルオキシベンゾ
イル基、p−クロルベンゾイル基等の7リールカルボニ
ル基等が挙げられる。
ェニルアセチル基、ドデカノイル基、α−2,4−シー
t−7ミル7エ/キシブタ/イル基等のフルキルカルボ
ニル基、ベンゾイル!、3−ペンタデシルオキシベンゾ
イル基、p−クロルベンゾイル基等の7リールカルボニ
ル基等が挙げられる。
Rで表されるスルホニル基としてはメチルスルホニル基
、ドデシルスルホニル基の如さアルキルスルホニル基、
ベンゼンスルホニル基、p−)ルエンスルホニル基の如
きアリールスルホニル基等が挙げられる。
、ドデシルスルホニル基の如さアルキルスルホニル基、
ベンゼンスルホニル基、p−)ルエンスルホニル基の如
きアリールスルホニル基等が挙げられる。
Rで表されるスルフィニル基としては、エチルスルフィ
ニル基、オクチルスルフィニル基、3−フェノキシブチ
ルスルフィニル基の如きアルキルスルフィニル基、フェ
ニルスルフィニル基、ω−ペンタデシルフェニルスルフ
ィニル基の如キアリールスルフイニル基等が挙げられる
。
ニル基、オクチルスルフィニル基、3−フェノキシブチ
ルスルフィニル基の如きアルキルスルフィニル基、フェ
ニルスルフィニル基、ω−ペンタデシルフェニルスルフ
ィニル基の如キアリールスルフイニル基等が挙げられる
。
Rで表されるホスホニル基としてはプチルオクチルホ入
ホニル基の如!Iフルキルホスホニル基、オクチルオキ
シホスホニル基の如きアルコキシホスホニル基、フェノ
キシホスホニル基の如きアリールオキシホスホニル基、
フェニルホスホニル基の如きアリールホスホニル基等が
挙げられる。
ホニル基の如!Iフルキルホスホニル基、オクチルオキ
シホスホニル基の如きアルコキシホスホニル基、フェノ
キシホスホニル基の如きアリールオキシホスホニル基、
フェニルホスホニル基の如きアリールホスホニル基等が
挙げられる。
Rで表されるカルバモイル基は、アルキル基、アリール
基(好ましくはフェニル基)等が置換していてもよく、
例えばN−メチルカルバモイル基、N,N−:、’メチ
ルカルバモイル基、N−(2−ペンタデシルオクチルエ
チル)カルバモイル基、N−エチル−N−1デシルカル
バモイル基、N−(3−(2.4−ノーt−7ミル7二
7キシ)プロピル)カルバモイル基等が挙げられる。
基(好ましくはフェニル基)等が置換していてもよく、
例えばN−メチルカルバモイル基、N,N−:、’メチ
ルカルバモイル基、N−(2−ペンタデシルオクチルエ
チル)カルバモイル基、N−エチル−N−1デシルカル
バモイル基、N−(3−(2.4−ノーt−7ミル7二
7キシ)プロピル)カルバモイル基等が挙げられる。
R″C表されるスルファモイル基はアルキル基、アリー
ル基(好ましくはフェニル基)等が置換していてもよく
、例えばN−プロピルスルファモイルM、N、N−ジエ
チルスルファモイルi、N−(2−ペンタデシルオキシ
エチル)スルファモイル基、N−エチル−N−ドデシル
スルファモイル基、N−7エコルスル7γモイル基等゛
が挙げられる。
ル基(好ましくはフェニル基)等が置換していてもよく
、例えばN−プロピルスルファモイルM、N、N−ジエ
チルスルファモイルi、N−(2−ペンタデシルオキシ
エチル)スルファモイル基、N−エチル−N−ドデシル
スルファモイル基、N−7エコルスル7γモイル基等゛
が挙げられる。
RT表されるスピロ化合物残基としては例えばスピロ[
3,3]ヘプタン−1−イル等が挙げられる。
3,3]ヘプタン−1−イル等が挙げられる。
R″C表される有橋炭化化合物残基としては例えばビシ
クロ[2,2,1]へブタン−1−イル、トリシクロ[
3,3,1,1”’]デカンー1−イル、7.7−ノメ
チルービシクロ[2,2,1]へブタン−1−イル等が
挙+7ちれる。
クロ[2,2,1]へブタン−1−イル、トリシクロ[
3,3,1,1”’]デカンー1−イル、7.7−ノメ
チルービシクロ[2,2,1]へブタン−1−イル等が
挙+7ちれる。
Rで表されるアルコキシ基は、更に前記アルキル基への
置換基として挙げたものをII!fiLでぃてもよく、
例えばメトキシ基、ブaボキシ基、2−エトキシエトキ
シ基、ペンタデシルオキシ基、2−ドデシルオキシエト
、キシ基、7、エネチルオキシエトキン基等が挙げられ
る。
置換基として挙げたものをII!fiLでぃてもよく、
例えばメトキシ基、ブaボキシ基、2−エトキシエトキ
シ基、ペンタデシルオキシ基、2−ドデシルオキシエト
、キシ基、7、エネチルオキシエトキン基等が挙げられ
る。
Rで表されるアリールオキシ基としてはフェニルオキシ
が好虫しく、アリール核は更に前記アリール基への置換
基又は原子として挙げたもので置換されていてもよく、
例えば7エ/キシ基、p−L−ブチルフェノキシ基、η
−ペンタデシル7エ/キン基等が挙げられる。
が好虫しく、アリール核は更に前記アリール基への置換
基又は原子として挙げたもので置換されていてもよく、
例えば7エ/キシ基、p−L−ブチルフェノキシ基、η
−ペンタデシル7エ/キン基等が挙げられる。
R1’表されるヘテロ環オキシ基としては5〜7貝のへ
テロ環を有するものが好ましく該ヘテロ環1土更に置換
基を有していてもよく、例えば、3゜4.5.6−テト
ラヒドロビラニル−2−オキシ基、1−フェニルテトラ
ゾール−5−オキシ基が挙げられる。
テロ環を有するものが好ましく該ヘテロ環1土更に置換
基を有していてもよく、例えば、3゜4.5.6−テト
ラヒドロビラニル−2−オキシ基、1−フェニルテトラ
ゾール−5−オキシ基が挙げられる。
Rr表されるシロキシ基は、更にアルキル基等で置換さ
れていてもよく、例えば、トリメチルシロキシ基、トリ
エチルシロキシ基、ノメチルブチルンロキシ基等が挙げ
られる。
れていてもよく、例えば、トリメチルシロキシ基、トリ
エチルシロキシ基、ノメチルブチルンロキシ基等が挙げ
られる。
R″C表されるアシルオキシ基としては、例えばフルキ
ルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基等
が挙げられ、更に置換基を有していてもよく、具体的に
はアセチルオキシ基、a−クロルアセチルオキシ基、ベ
ンゾイルオキシ基等が挙げられる。
ルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基等
が挙げられ、更に置換基を有していてもよく、具体的に
はアセチルオキシ基、a−クロルアセチルオキシ基、ベ
ンゾイルオキシ基等が挙げられる。
Rで表されるカルバモイルオキシ基は、アルキル基、ア
リール基等が置換していてもよく、例えばN−エチル力
ルバモイルオキン基、NlN−ジエチルカルバモイルオ
キシa、”pa −7!ニルカルバモイルオキシ基等が
挙げられる。
リール基等が置換していてもよく、例えばN−エチル力
ルバモイルオキン基、NlN−ジエチルカルバモイルオ
キシa、”pa −7!ニルカルバモイルオキシ基等が
挙げられる。
R″c表されるアミ7基はアルキル基、アリール基(好
ましくはフェニル基)等で置換されていてもよく、例え
ばエチルアミノ基、アニリノ基、m−クロルアニリ7基
、3−ペンタデシルオキシヵルボニルアニリノ基、2−
クロル−5−ヘキサテ゛カンアミドアニリノ基等が挙げ
られる。
ましくはフェニル基)等で置換されていてもよく、例え
ばエチルアミノ基、アニリノ基、m−クロルアニリ7基
、3−ペンタデシルオキシヵルボニルアニリノ基、2−
クロル−5−ヘキサテ゛カンアミドアニリノ基等が挙げ
られる。
Rで表されるアシルアミ7基としては、アルキルカルボ
ニルアミ7基、アリールカルボニルアミ7基(好ましく
はフェニルカルボニルアミ7基)等が挙げられ、更に置
換基を有してもよく具体的にはアセトアミド基、α−エ
チルプロパンアミド基、N−7エニルアセトアミド基、
ドデカンアミド基、2,4−ノーt−7ミルフエノキシ
アセトアミド基、α−3−し−ブチル4−ヒドロキシフ
ェノキシブタンアミド基等が挙げられる。
ニルアミ7基、アリールカルボニルアミ7基(好ましく
はフェニルカルボニルアミ7基)等が挙げられ、更に置
換基を有してもよく具体的にはアセトアミド基、α−エ
チルプロパンアミド基、N−7エニルアセトアミド基、
ドデカンアミド基、2,4−ノーt−7ミルフエノキシ
アセトアミド基、α−3−し−ブチル4−ヒドロキシフ
ェノキシブタンアミド基等が挙げられる。
Rで表されるスルホンアミド基としては、アルキルスル
ホニルアミ7基、アリールスルホニルアミ7基等が挙げ
られ、更に置換基を有してもよい。
ホニルアミ7基、アリールスルホニルアミ7基等が挙げ
られ、更に置換基を有してもよい。
具体的にはメチルスルホニルアミ7基、ペンタデシルス
ルホニルアミ/基、ベンゼンスルホンアミドi、p−)
ルエンスルホンアミド基、2−/)キシ−5−t−7ミ
ルベンゼンスルホンアミド基等が挙げられる。
ルホニルアミ/基、ベンゼンスルホンアミドi、p−)
ルエンスルホンアミド基、2−/)キシ−5−t−7ミ
ルベンゼンスルホンアミド基等が挙げられる。
Rで表されるイミド基は、開鎖状のものでも、環状のも
のでもよく、置換基を有していてもよく、例えばコハク
酸イミド基、3−ヘブクデシルコハク酸イミド基、7タ
ルイミド基、グルタルイミド基等が挙げられる。
のでもよく、置換基を有していてもよく、例えばコハク
酸イミド基、3−ヘブクデシルコハク酸イミド基、7タ
ルイミド基、グルタルイミド基等が挙げられる。
Rで表されるウレイド基は、アルキル基、了り−ル基(
好主しくはフェニル基)等により置If!されていてら
よ(、例元ばN−エチルランイド基、N−メチル−N−
?’シルウレイt’基、N−7二二ル貝のへテロ環チオ
基が好ましく、更に綜合環を有してもよく、又置換基を
有していてもよい0例えば2−ピリジルチオ基、2−ベ
ンゾチアゾリルチオ基、2,4−ノフェノキシー1.3
.5− )す7ゾールー6−チオ基が挙げられる。
好主しくはフェニル基)等により置If!されていてら
よ(、例元ばN−エチルランイド基、N−メチル−N−
?’シルウレイt’基、N−7二二ル貝のへテロ環チオ
基が好ましく、更に綜合環を有してもよく、又置換基を
有していてもよい0例えば2−ピリジルチオ基、2−ベ
ンゾチアゾリルチオ基、2,4−ノフェノキシー1.3
.5− )す7ゾールー6−チオ基が挙げられる。
Xの表す発色現像主薬の酸化体との反応により離脱しう
る置換基としては、fiえばハロゲン原子(塩素原子、
臭素原子、ファン原子等)の弛度素原子、酸素原子、硫
黄原子または窒素原子を介して置換する基が挙げられる
。
る置換基としては、fiえばハロゲン原子(塩素原子、
臭素原子、ファン原子等)の弛度素原子、酸素原子、硫
黄原子または窒素原子を介して置換する基が挙げられる
。
炭素原子を介して置換する基としては、カルボキシル基
の他例えば一般式 (R3′は前記Rと同義であり、Z′は前記Zと同義テ
ア’)、R2′及1/”R3’!!水’X ff、子、
アリール基、アルキル基又はヘテrxfll基を表す、
)で示される基、ヒドロキシメチル基、トリフェニルメ
チル基が挙げられる。
の他例えば一般式 (R3′は前記Rと同義であり、Z′は前記Zと同義テ
ア’)、R2′及1/”R3’!!水’X ff、子、
アリール基、アルキル基又はヘテrxfll基を表す、
)で示される基、ヒドロキシメチル基、トリフェニルメ
チル基が挙げられる。
酸素原子を介して置換する基としては例えばアルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテc1環オキシ基、アシルオ
キシ基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオ
キシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキル
オキサリルオキシ基、フルコキシオキサリルオキシ基が
挙げられる。
基、アリールオキシ基、ヘテc1環オキシ基、アシルオ
キシ基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオ
キシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキル
オキサリルオキシ基、フルコキシオキサリルオキシ基が
挙げられる。
該アルコキシ基は更に置換基を有してもよく、例えば、
ニドキシ基、2−フェノキシエトキシ基、2−シアノエ
トキシ基、7エネチルオキシ基、p−クロルベンノルオ
キシ基等が挙げられる。
ニドキシ基、2−フェノキシエトキシ基、2−シアノエ
トキシ基、7エネチルオキシ基、p−クロルベンノルオ
キシ基等が挙げられる。
該アリールオキシ基としては、フェノキシ基が好ましく
、該アリール基は、更に置換基を有していてもよい、J
iI一体的にはフェノキシ基、3−ノチル7工/キシ基
、3−ドデシルフェノキシ基、4・−メタンスルホンア
ミドフェノキシ基、4−(α−(3′−ペンタデシルフ
ェノキシ)ブタンアミド〕7エ/キシ基、ヘキシデシル
、カルバモイルメトキシ基、4−シア/7エ/キシ基、
4−メタンスルホニル7エ/キシ基、1−す7チルオキ
シ基、pウレイド基sN p )リルウレイr基等
が挙げられる。
、該アリール基は、更に置換基を有していてもよい、J
iI一体的にはフェノキシ基、3−ノチル7工/キシ基
、3−ドデシルフェノキシ基、4・−メタンスルホンア
ミドフェノキシ基、4−(α−(3′−ペンタデシルフ
ェノキシ)ブタンアミド〕7エ/キシ基、ヘキシデシル
、カルバモイルメトキシ基、4−シア/7エ/キシ基、
4−メタンスルホニル7エ/キシ基、1−す7チルオキ
シ基、pウレイド基sN p )リルウレイr基等
が挙げられる。
Rで表されるスル7アモイルアミ7基は、フルキル基、
アリール基(好ましくはフェニル基)等テ置換されてい
てもよく、例えばN、N−ジブチルスル7アモイルアミ
ノ基、N−メチルスル77モイルアミ7基、N−フェニ
ルスル7アモイルアミ7基等が挙げられる。
アリール基(好ましくはフェニル基)等テ置換されてい
てもよく、例えばN、N−ジブチルスル7アモイルアミ
ノ基、N−メチルスル77モイルアミ7基、N−フェニ
ルスル7アモイルアミ7基等が挙げられる。
Rで表されるフルフキジカルボニルアミ7基としては、
更に置換基を有して゛いてもよく、例えばメトキシカル
ボニル7ミ7基、メトキシエトキシカルボニルアミ7基
、オクタデシルオキシカルボニルアミ7基等が挙げられ
る。
更に置換基を有して゛いてもよく、例えばメトキシカル
ボニル7ミ7基、メトキシエトキシカルボニルアミ7基
、オクタデシルオキシカルボニルアミ7基等が挙げられ
る。
Rで表されるアリールオキシカルボニルアミ7基は、置
換基を有していてもよく、例えば7エ7キシカルポニル
7ミ7基、4−メチル7エ/キシカルボニルアミノ基が
挙げられる。
換基を有していてもよく、例えば7エ7キシカルポニル
7ミ7基、4−メチル7エ/キシカルボニルアミノ基が
挙げられる。
Rで表されるアルコキシカルボニル基は更に置換基を有
していてもよく、例えばメトキシカルボニル基、ブチル
オキシカルボニル基、ドデンルオキシ力ルポニル基、オ
クタデシルオキシカルボニル基、エトキシメトキシカル
ボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニル基等が挙げ
られる。
していてもよく、例えばメトキシカルボニル基、ブチル
オキシカルボニル基、ドデンルオキシ力ルポニル基、オ
クタデシルオキシカルボニル基、エトキシメトキシカル
ボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニル基等が挙げ
られる。
Rで表されるアリールオキシカルボニル基は更に置換基
を有していてもよ(、例えばフェノキシカルボニル基、
p−クロルフェノキシカルボニル基、m−ペンタデシル
オキシフェノキシカルボニル基等が挙げられる。
を有していてもよ(、例えばフェノキシカルボニル基、
p−クロルフェノキシカルボニル基、m−ペンタデシル
オキシフェノキシカルボニル基等が挙げられる。
R″C表されるアルキルチオ基は、更に置換基を有して
いてもよく、例えば、エチルチオ基、ドデシルチオ基、
オクタデシルチオ基、7エネチルチオ基、3−7エ/キ
シブaピルチオ基が挙げられる。
いてもよく、例えば、エチルチオ基、ドデシルチオ基、
オクタデシルチオ基、7エネチルチオ基、3−7エ/キ
シブaピルチオ基が挙げられる。
Rで表されるアリールチオ基はフェニルチオ基が好まし
く更に置換基を有してもよく、例えば7エ、ニルチオ基
、p−ノドキシフェニルチオ基、2−を−オクチルフェ
ニルチオ基、3−オクタデシルフェニルチオ基、2−カ
ルボキシフェニルチオ基、p−アセトアミノフェニルチ
オ基等が挙げられる。
く更に置換基を有してもよく、例えば7エ、ニルチオ基
、p−ノドキシフェニルチオ基、2−を−オクチルフェ
ニルチオ基、3−オクタデシルフェニルチオ基、2−カ
ルボキシフェニルチオ基、p−アセトアミノフェニルチ
オ基等が挙げられる。
Rで表されるヘテロ環チオ基としては、5〜7−メトキ
シ7エ/キシ基等が挙げられる。
シ7エ/キシ基等が挙げられる。
該ヘテロ環オキシ基としては、5〜7貝の−\テロ環オ
キシ基が好ましく、縮合環であってもよく、又置換基を
有していてもよい、具体的には、1−7二二ルテトラゾ
リルオキシ基、2−ベンゾチアゾリルオキシ基等が挙げ
られる。
キシ基が好ましく、縮合環であってもよく、又置換基を
有していてもよい、具体的には、1−7二二ルテトラゾ
リルオキシ基、2−ベンゾチアゾリルオキシ基等が挙げ
られる。
該アルコキシ基としては、例えばアセトキシ基、ブタノ
ルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、シンナモ
イルオキシ基の如きアルケニルカルボニルオキシ基、ベ
ンゾ・イルオキシ基の如きアリールカルボニルオキシ基
が挙げられる。
ルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、シンナモ
イルオキシ基の如きアルケニルカルボニルオキシ基、ベ
ンゾ・イルオキシ基の如きアリールカルボニルオキシ基
が挙げられる。
該スルホニルオキシ基としては、例えばブタンスルホニ
ルオキシ基、/タンスルホニルオキシ基が挙げられる。
ルオキシ基、/タンスルホニルオキシ基が挙げられる。
該アルコキシカルボニルオキシ基としては、例えばエト
キシカルボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニルオ
キシ基が挙げられる。
キシカルボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニルオ
キシ基が挙げられる。
該アリールオキシカルボニル基としては7エ7キシカル
ボニルオキシ基等が挙げられる。
ボニルオキシ基等が挙げられる。
該アルキルオキサリルオキシ基としては、例えぼメチル
オキサリルオキシ基が挙げられる。
オキサリルオキシ基が挙げられる。
該アルキルオキサリルオキシ基としては、エトキシオキ
サリルオキシ基等が挙げられる。
サリルオキシ基等が挙げられる。
流黄原子を介して置換する基としては、例えばアルキル
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルオ
キシチオカルボニルチオ基が挙げられる。
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルオ
キシチオカルボニルチオ基が挙げられる。
該アルキルチオ基としては、ブチルチオ基、2−シアノ
エチルチオ基、7エネチルチオ基、ペンクルチオ基等が
挙げられる。
エチルチオ基、7エネチルチオ基、ペンクルチオ基等が
挙げられる。
該アリールチオ基としてはフェニルチオ基、4−メタン
スルホンアミドフェニルチオ基、4−ドデシル7エネチ
ルチオ基、4−7すフルオロペンタンアミド7エネチル
チオ基、4−カルボキシフェニルチオ基、2−二トキシ
−5−t−ブチルフェニルチオ基等が挙げられる。
スルホンアミドフェニルチオ基、4−ドデシル7エネチ
ルチオ基、4−7すフルオロペンタンアミド7エネチル
チオ基、4−カルボキシフェニルチオ基、2−二トキシ
−5−t−ブチルフェニルチオ基等が挙げられる。
該ヘテロ環チオ基としては、例えば1−7エ二ルー1.
2.3.4−テトラゾリル−5−チオ基、2−ベンゾチ
アゾリルチオ基等が挙げられる。
2.3.4−テトラゾリル−5−チオ基、2−ベンゾチ
アゾリルチオ基等が挙げられる。
該アルキルオキシチオカルボニルチオ基としては、ドデ
シルオキシチオカルボニルチオ基等が挙げられる。
シルオキシチオカルボニルチオ基等が挙げられる。
、 えば一般式−N で示されるものが挙げられ
アリール基、ヘテロ環基、スルフ7モイル基、カルバモ
イル基、アシル基、スルホニル基、了り−ルオキシ力ル
ボニル基、アルコキシカルボニル基を表し、R4’とR
6′は結合してヘテロ環を形成してもよい。但しR、/
とRs’が共に水素原子であることはない。
アリール基、ヘテロ環基、スルフ7モイル基、カルバモ
イル基、アシル基、スルホニル基、了り−ルオキシ力ル
ボニル基、アルコキシカルボニル基を表し、R4’とR
6′は結合してヘテロ環を形成してもよい。但しR、/
とRs’が共に水素原子であることはない。
該アルキル基は直鎖でも分岐でもよく、好ましくは、炭
素数1〜22のものである。又、アルキル基は、置換基
を有していてもよく、置換基としては例えば了り−ル基
、アルコキシ基、了り−ルオキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルアミ/基、アリールアミノ基
、アシルアミ/基、スルホンアミド基、イミノ基、アシ
ル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
カルバモイル基、スルフ7モイル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、77レキルオキ
シカルポニル7ミ7基、アリールオキシカルボニルアミ
7基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、へ
ロ2ン原子が挙げられる。
素数1〜22のものである。又、アルキル基は、置換基
を有していてもよく、置換基としては例えば了り−ル基
、アルコキシ基、了り−ルオキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルアミ/基、アリールアミノ基
、アシルアミ/基、スルホンアミド基、イミノ基、アシ
ル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
カルバモイル基、スルフ7モイル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、77レキルオキ
シカルポニル7ミ7基、アリールオキシカルボニルアミ
7基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、へ
ロ2ン原子が挙げられる。
該アルキル基の具体的なものとしては、例えばエチル基
、オキチル基、2−エチルヘキシル基、2−クロルエチ
ル基が挙げられる。
、オキチル基、2−エチルヘキシル基、2−クロルエチ
ル基が挙げられる。
R4’又はR,7で表されるアリール基としては、炭素
数6〜32、待にフェニル基、ナフチル基が好ましく、
該アリール基は、置換基を有してもよく置換基としては
上記R2′又はR9′で表されるアルキル基への置換基
として挙げたもの及びアルキル基が挙げられる。該アリ
ール基として具体的なものとしては、例えぼフェニル基
、1−す7チル基、4−メチルスルホニルフェニル基が
挙げられる。
数6〜32、待にフェニル基、ナフチル基が好ましく、
該アリール基は、置換基を有してもよく置換基としては
上記R2′又はR9′で表されるアルキル基への置換基
として挙げたもの及びアルキル基が挙げられる。該アリ
ール基として具体的なものとしては、例えぼフェニル基
、1−す7チル基、4−メチルスルホニルフェニル基が
挙げられる。
R、を又はR、”c’表されるヘテロ環基としては5〜
6只のものが好ましく、縮合環であってもよく、置換基
を有しでもよい。具体例としては、2−フリル基、2−
キノリル基、2−ビリミノル基、2−ベンゾチアゾリル
基、2−ピリジル基等が挙げられる。
6只のものが好ましく、縮合環であってもよく、置換基
を有しでもよい。具体例としては、2−フリル基、2−
キノリル基、2−ビリミノル基、2−ベンゾチアゾリル
基、2−ピリジル基等が挙げられる。
R47又はR5’で表すれるスルファモイル基としては
、N−アルキルスルファモイル基、N、N−ジアルキル
スルファモイル基、N−7リールスル7アモイル基、N
、N−ノアリールスル、7Tモイル基等が挙げられ、こ
れらの7.ルキル基及び7リール基は前記アルキル基及
びアリール基について挙げた置換基を有してていもよい
、スルファモイル基の具体例としては例えばN、N−ノ
エチルスル7アモイル基、N−メチルスルファモイル基
、N−ドデシルスルファモイル基、N−p−)リルスル
7アモイル基が挙げられる。
、N−アルキルスルファモイル基、N、N−ジアルキル
スルファモイル基、N−7リールスル7アモイル基、N
、N−ノアリールスル、7Tモイル基等が挙げられ、こ
れらの7.ルキル基及び7リール基は前記アルキル基及
びアリール基について挙げた置換基を有してていもよい
、スルファモイル基の具体例としては例えばN、N−ノ
エチルスル7アモイル基、N−メチルスルファモイル基
、N−ドデシルスルファモイル基、N−p−)リルスル
7アモイル基が挙げられる。
R1′又はRS’で表されるカルバモイル基としては、
N−フルキルカルバモイル基、N、N−ジアルキルカル
バモイル基、N−7リールカルバモイル基、N、N−ジ
アリールカルバモイル基等が挙げられ、これらのアルキ
ル基及びアリール基は前記アルキル基及びアリール基に
ついて挙げた置換基を有していてもよい、カルバモイル
基の具体例としでは例えばN、N−ノエチル力ルバモイ
ル基、N−メチルカルバモイル基、N−ドデシルカルバ
モイルJS、N−p−シアノフェニルカルバモイル基、
N−p−トリルカルバモイル基が挙げられる。
N−フルキルカルバモイル基、N、N−ジアルキルカル
バモイル基、N−7リールカルバモイル基、N、N−ジ
アリールカルバモイル基等が挙げられ、これらのアルキ
ル基及びアリール基は前記アルキル基及びアリール基に
ついて挙げた置換基を有していてもよい、カルバモイル
基の具体例としでは例えばN、N−ノエチル力ルバモイ
ル基、N−メチルカルバモイル基、N−ドデシルカルバ
モイルJS、N−p−シアノフェニルカルバモイル基、
N−p−トリルカルバモイル基が挙げられる。
R、を又はR5’で表されるアシル基としては、例えば
アルキルカルボニル基、7リールカルボニル基、ヘテロ
環カルボニル基が挙げられ、該アルキル基、該アリール
基、該ヘテロ環基は置換基を有していてもよい、アシル
基として具体的なものとしては、例えばヘキサフルオロ
ブタメイル基、2゜3.4.5.6−ペンタフルオロベ
ンソイル基、アセチル基、ベンゾイル基、ナフトニル基
、2−7リルカルボニル基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基、7リールカルボニル基、ヘテロ
環カルボニル基が挙げられ、該アルキル基、該アリール
基、該ヘテロ環基は置換基を有していてもよい、アシル
基として具体的なものとしては、例えばヘキサフルオロ
ブタメイル基、2゜3.4.5.6−ペンタフルオロベ
ンソイル基、アセチル基、ベンゾイル基、ナフトニル基
、2−7リルカルボニル基等が挙げられる。
R1′又はR5’で表されるスルホニル基としては、フ
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環
スルホニル基が挙げられ、置換基を有してもよく、具体
的なものとしては例えばエタンスルホニル基、ベンゼン
スルホニル基、オフタンスルミftニル基、ナフタレン
スルホこルTs、p−クロルベンゼンスルホニル基等が
挙げられる。
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環
スルホニル基が挙げられ、置換基を有してもよく、具体
的なものとしては例えばエタンスルホニル基、ベンゼン
スルホニル基、オフタンスルミftニル基、ナフタレン
スルホこルTs、p−クロルベンゼンスルホニル基等が
挙げられる。
R、/又はR5’で表されるアリールオキシガルボニル
基は、前記アリール基について挙げたものを置換基とし
て有してもよく、具体的にはフェノキシカルボニル基等
が挙げられる。
基は、前記アリール基について挙げたものを置換基とし
て有してもよく、具体的にはフェノキシカルボニル基等
が挙げられる。
R%又はRs’で表されるアルコキシカルボニル基は、
前記アルキル基について挙げた置換基を有してもよく、
具体的なものとじてはメトキシカルボニル基、ドデシル
オキシカルボニル基、ベンノルオキシカルボニル基等が
挙げられる。
前記アルキル基について挙げた置換基を有してもよく、
具体的なものとじてはメトキシカルボニル基、ドデシル
オキシカルボニル基、ベンノルオキシカルボニル基等が
挙げられる。
R4’及びR5’が結合して形成するヘテロ環としては
5〜6只のものが好ましく、飽和でも、不飽和でもよく
、又、芳香族性を有していても、いなくてもよく、又、
綜合環でもよい、該ヘテロ環としては例えばN−7タル
イミド基、N−コハク酸イミド基、4−N−ウラゾリル
基、1−N−ヒグントイニル基、3−N−2,4−ジオ
キソオキサシリノニル基、2−N−1,1−!/オキソ
ー3−(2H)−オキソ−1,2−ベンズチアゾリル基
、1−ピロリル基、1−ピロリジニル基、1−ピラゾリ
ル基、1−ピラゾリノニル基、1−ピペリジニル基、l
−ビaリニル基、1−イミダゾリル基、1−インドリル
基、1−インドリル基、1−イソインドリニル基、2−
イソインドリル基、2−イソインドリニル基、1−ベン
ゾトリアゾリル基、1−ペンシイミグゾリル基、1−(
1,2,4−)リアゾリル)基、1−(1,2,3−)
リアゾリル)基、1−(1,2,3,4−テトラゾリル
)基、N−モルホリニル基、1,2,3.4−テトラヒ
ドロキノリル基、2−オキソ−1−ピロリジニル基、2
−IH−ピリドン基、フタラシオン基、2−オキソ−1
−ピペリノニル基等が挙げられ、これらへテa環基はア
ルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオ
キシ基、アシル基、スルホニル基、アルキル7ミノ基、
アリールアミ7基、アシルアミ7基、スルホンアミ7基
、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキルチオ基
、アリールチオ基、フレイド基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシガルボニル基、イミド基、ニドは基
、シアノ基、カルボキシル基、ハロゲン原子等により置
換されていてもよい。
5〜6只のものが好ましく、飽和でも、不飽和でもよく
、又、芳香族性を有していても、いなくてもよく、又、
綜合環でもよい、該ヘテロ環としては例えばN−7タル
イミド基、N−コハク酸イミド基、4−N−ウラゾリル
基、1−N−ヒグントイニル基、3−N−2,4−ジオ
キソオキサシリノニル基、2−N−1,1−!/オキソ
ー3−(2H)−オキソ−1,2−ベンズチアゾリル基
、1−ピロリル基、1−ピロリジニル基、1−ピラゾリ
ル基、1−ピラゾリノニル基、1−ピペリジニル基、l
−ビaリニル基、1−イミダゾリル基、1−インドリル
基、1−インドリル基、1−イソインドリニル基、2−
イソインドリル基、2−イソインドリニル基、1−ベン
ゾトリアゾリル基、1−ペンシイミグゾリル基、1−(
1,2,4−)リアゾリル)基、1−(1,2,3−)
リアゾリル)基、1−(1,2,3,4−テトラゾリル
)基、N−モルホリニル基、1,2,3.4−テトラヒ
ドロキノリル基、2−オキソ−1−ピロリジニル基、2
−IH−ピリドン基、フタラシオン基、2−オキソ−1
−ピペリノニル基等が挙げられ、これらへテa環基はア
ルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオ
キシ基、アシル基、スルホニル基、アルキル7ミノ基、
アリールアミ7基、アシルアミ7基、スルホンアミ7基
、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキルチオ基
、アリールチオ基、フレイド基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシガルボニル基、イミド基、ニドは基
、シアノ基、カルボキシル基、ハロゲン原子等により置
換されていてもよい。
またZ又はZ′により形成される含窒素複索環としては
、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環また
はテトラゾール環等が挙げられ、前記環が有してもよい
置換基としては前記Rについて述べたものが挙げられる
。
、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環また
はテトラゾール環等が挙げられ、前記環が有してもよい
置換基としては前記Rについて述べたものが挙げられる
。
又、一般式rI)及び後述の一般式[’ll)〜〔■〕
に於ける複葉環上の置換基(例えば、R1R1〜Re)
が 部分(ここにR”、X及びZ ttは一般式〔I〕にお
けるR、X、Zと同義である。)を有する場合、所謂ビ
ス体型カプラーを形成するが勿論本発明に包含される。
に於ける複葉環上の置換基(例えば、R1R1〜Re)
が 部分(ここにR”、X及びZ ttは一般式〔I〕にお
けるR、X、Zと同義である。)を有する場合、所謂ビ
ス体型カプラーを形成するが勿論本発明に包含される。
又 Z 、 Z t 、 Z t を及び後述のZ、に
より形成される環は、更に他の環(例えば5〜7貝のシ
クロアルケン)が縮合していてもよい。例えば一般式E
V)においてはR7とR5が、一般式〔■〕においては
R1とR−とが、互いに結合して環(例えば5〜7只の
シクロアルケン、ベンゼン)全形成してもよい。
より形成される環は、更に他の環(例えば5〜7貝のシ
クロアルケン)が縮合していてもよい。例えば一般式E
V)においてはR7とR5が、一般式〔■〕においては
R1とR−とが、互いに結合して環(例えば5〜7只の
シクロアルケン、ベンゼン)全形成してもよい。
以下余白
一般式[1]で表されるものは更に具体的には例えば下
記一般式[11)〜〔■〕により表される。
記一般式[11)〜〔■〕により表される。
一般式〔…〕
一般式[111)
一般式[IV)
N −N−聞
一般式〔V〕
一般式(VI)
一般式〔■〕
前記一般式(II)〜〔■〕に於いてRI−Re及びX
は何記R及VXと同義である。
は何記R及VXと同義である。
又、一般式〔■〕の中でも好ましいのは、下記一般式〔
■〕で表されるものである。
■〕で表されるものである。
一般式〔■〕
式中R、、X及び2.は一般式(I)におけるR。
X及びZと同義″cある。
前記一般式CIり〜〔■〕″C″表されるマゼンタカブ
2−の中で待に好ましいのらのは一般式〔■〕で表され
るマゼンタカプラーである。
2−の中で待に好ましいのらのは一般式〔■〕で表され
るマゼンタカプラーである。
又、一般式〔1〕〜〔■〕における複@環上の置換基に
ついていえば、一般式(1)においてはRが、また一般
式[11)〜〔■〕においてはR3が下記条件1を満足
する場合が好ましく更に好ましいのは下記条件1及び2
を満足する場合であり、特に好ましいのは下記条件1,
2及び3−を満足する場合である。
ついていえば、一般式(1)においてはRが、また一般
式[11)〜〔■〕においてはR3が下記条件1を満足
する場合が好ましく更に好ましいのは下記条件1及び2
を満足する場合であり、特に好ましいのは下記条件1,
2及び3−を満足する場合である。
条件1 複素環に直結する根元原子が炭素原子である。
条件2 該炭素原子に水素原子が1個だけ結合している
、または全く結合していない。
、または全く結合していない。
条件3 該炭素原子と隣#C原子との間の結合が全て単
結合である。
結合である。
前記複素環上の置換基R及びR1として最も好ましいの
は、下記一般式(II)により表されるものである。
は、下記一般式(II)により表されるものである。
一般式(IX)
R9
R,、−〇−
、R1゜
式中RjtRIG及びR,−よそれぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル
基、シクロアルケニル基、アルキニル基、7リール基、
ヘテ・口環基、アシル基、スルホニル基、スルフィニル
基、ホスホニル基、カルバモイル基、スルフィニル基、
シアノ基、スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基
、シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基
、アミ7基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イミ
ド基、フレイド基、スルフTモイルアミ7基、フルコキ
シ力ルポニルアミ7基、アリールオキシカルボニルアミ
ノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボ
ニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チ
オ基を表し、R91Rto及びR11の少なくと62つ
は水素原子ではなり1゜ 又、前記R,,R,。及びR1,の中の2つ例えばR,
とR5゜は結合して飽和又は不飽和の環(例えばシクロ
フルカン、シクロアルケン、ヘテロ環)を形成してもよ
く、更に該環にR++が結合して有橋炭化水素化合物残
基を構成してもよい。
ゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル
基、シクロアルケニル基、アルキニル基、7リール基、
ヘテ・口環基、アシル基、スルホニル基、スルフィニル
基、ホスホニル基、カルバモイル基、スルフィニル基、
シアノ基、スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基
、シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基
、アミ7基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イミ
ド基、フレイド基、スルフTモイルアミ7基、フルコキ
シ力ルポニルアミ7基、アリールオキシカルボニルアミ
ノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボ
ニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チ
オ基を表し、R91Rto及びR11の少なくと62つ
は水素原子ではなり1゜ 又、前記R,,R,。及びR1,の中の2つ例えばR,
とR5゜は結合して飽和又は不飽和の環(例えばシクロ
フルカン、シクロアルケン、ヘテロ環)を形成してもよ
く、更に該環にR++が結合して有橋炭化水素化合物残
基を構成してもよい。
R9〜R11により表される基は置換基を有してもよく
、R,〜R++により表される基の具体例及び数基が有
してもよい置換基としては、前述の一般式(1,)にお
けるRが表す基の具体例及び置換基が挙げられる。
、R,〜R++により表される基の具体例及び数基が有
してもよい置換基としては、前述の一般式(1,)にお
けるRが表す基の具体例及び置換基が挙げられる。
又、例えばR9とR3゜が結合して形成する環及びR3
〜R1+により形成される有橋炭化水素化合物残基の具
体例及びその有してもよい置換基としては、前述の一般
式[1)におけるRが表すシクロアルキル、シクロアル
ケニル、ヘテロ環基有橋炭化水素化合物残基の具体例及
びその置換基が挙げられる。
〜R1+により形成される有橋炭化水素化合物残基の具
体例及びその有してもよい置換基としては、前述の一般
式[1)におけるRが表すシクロアルキル、シクロアル
ケニル、ヘテロ環基有橋炭化水素化合物残基の具体例及
びその置換基が挙げられる。
一般式(IX)の中でも好ましいのは、(i)R,〜R
1の中の2つがアルキル基の場合、(ii)R=〜R+
+の中の1つ例えばRI+が水素原子であって、他の2
つR9とR3゜が結合して根元炭素原子と共にシクロア
ルキルを形成する場合、 である。
1の中の2つがアルキル基の場合、(ii)R=〜R+
+の中の1つ例えばRI+が水素原子であって、他の2
つR9とR3゜が結合して根元炭素原子と共にシクロア
ルキルを形成する場合、 である。
更に(i)の中でも好ましいのは、Rs〜R11の中の
2つがアルキル基であって、他の1つが水素原子または
フルキル基の場合である。
2つがアルキル基であって、他の1つが水素原子または
フルキル基の場合である。
ここに該アルキル、該シクロアルキルは更に置換基を有
してらよく該アルキル、該ジクロフルキル及びその置換
基の具体例としては前記一般式〔[〕におけるRが表ナ
アルキル、シクロアルキル及びそのr11換基の具体例
が挙げられる。
してらよく該アルキル、該ジクロフルキル及びその置換
基の具体例としては前記一般式〔[〕におけるRが表ナ
アルキル、シクロアルキル及びそのr11換基の具体例
が挙げられる。
又、一般式〔[〕におけるZにより形成される環及び一
般式〔■〕におけるZlにより形成される環が有しても
よい置換基、並びに一般式(I11〜〔■〕におけるR
2−R8としては下記一般式(X)で表されるらのが好
ましい。
般式〔■〕におけるZlにより形成される環が有しても
よい置換基、並びに一般式(I11〜〔■〕におけるR
2−R8としては下記一般式(X)で表されるらのが好
ましい。
一般式(X)
−R’−9Q2−R2
式中R1はアルキレンを、R2はアルキル、シクロアル
キルまたはアリールを表す。
キルまたはアリールを表す。
R1で示されるアルキレンは好ましくは直鎖部分の炭素
数が2以上、より好ましくは3ないし6であり、直鎖9
分岐を問わない、またこのアルキレンは置換基を有して
もよい。
数が2以上、より好ましくは3ないし6であり、直鎖9
分岐を問わない、またこのアルキレンは置換基を有して
もよい。
該置換基の例としては、前述の一般式(1)におけるR
がアルキル基の場合該アルキル基が有し。
がアルキル基の場合該アルキル基が有し。
でもよい置換基として示したものが挙げられる。
に換基として好ましいものとしてはフェニルが挙げられ
る。
る。
R1で示されるアルキレンの、好ましい具体例を以下に
示す。
示す。
R2で示されるアルキル基は直鎖1分岐を問わない。
具体的にはメチル、エチル、プロピル、1so−プロピ
ル、ブチル、2−エチ、ルヘキシル、オクチル、ドデシ
ル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタダシル、2−
へキシルデシルなどが挙げられる。
ル、ブチル、2−エチ、ルヘキシル、オクチル、ドデシ
ル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタダシル、2−
へキシルデシルなどが挙げられる。
R2″C示されるシクロアルキル基としては5〜6只の
ものが好ましく、例えばシクロヘキシルが挙げられる。
ものが好ましく、例えばシクロヘキシルが挙げられる。
R2で示されるフルキル、シクロアルキルは置換基を有
してらよく、その例としては、前述のR1への置換基と
して例示したものが挙げられる。
してらよく、その例としては、前述のR1への置換基と
して例示したものが挙げられる。
R2で示されるアリールとしては具体的には、フェニル
、ナフチルが挙げられる。該アリール基は置換基を有し
てもよい。該置換基としては例えば直鎖ないし分岐のア
ルキルの他、前述のR1への置換基として例示したちの
が挙げられる。
、ナフチルが挙げられる。該アリール基は置換基を有し
てもよい。該置換基としては例えば直鎖ないし分岐のア
ルキルの他、前述のR1への置換基として例示したちの
が挙げられる。
また、置換基が2個以上ある場合それらの置換基は、同
一であっても異なっていてもよい。
一であっても異なっていてもよい。
一般式〔1〕で表される化合物の中でも待に好ましいの
は、下記一般式(XI)で表されるものである。
は、下記一般式(XI)で表されるものである。
一般式(XI)
式中、RlXは一般式(1)におけるR、Xと同義であ
ワR’、R2は、一般式(X)におけるR1゜R2と同
義である。
ワR’、R2は、一般式(X)におけるR1゜R2と同
義である。
以下に本発明に用いられる化合物の具体例を示す。
以下余白
CL2)125
i
CI。
CH5
CH。
Hj
CH。
CH。
2H5
以下余白
CJI9
01□H25
J9
3H7
C=IIs
CM)
■
CH3
フ
CH。
CH。
CH1
C1lLs
Ctb
L;5ilt(tJ■ CHl 8H13 H3 H3 ocH2coh旧(CLClhOCll 3QC)12
C)I2SO□C1(3 C2H3 C21(。
L;5ilt(tJ■ CHl 8H13 H3 H3 ocH2coh旧(CLClhOCll 3QC)12
C)I2SO□C1(3 C2H3 C21(。
ゴ
C2+1゜
CH3
し2115
6H13
C)!3
H3
C2H5
(Jl。
CM。
C11゜
U611+v(t)
CI。
―
CH3
C1゜
CL U・H1フ(t
)CH。
)CH。
■
しIIコ
C711,。
H3CCH3
0(ClhJzOUtzHzs
)1− N −N
「N
188
0HH N −N −NH L また前記カプラーはジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・
ソサイアテイ(J ournal of LheCh
e+aical S ocieLy) 、 バーキン
(P erkin) I(1977) 、 2047
〜2052、米国特許3,725,067号、待、4昭
59−99437号、同58−42045号、同59−
162548号、同59−171956号、同60−3
3552号、同60−43659号、同60−1729
82号及び同60−190779号等を参考にして合成
することができる。
0HH N −N −NH L また前記カプラーはジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・
ソサイアテイ(J ournal of LheCh
e+aical S ocieLy) 、 バーキン
(P erkin) I(1977) 、 2047
〜2052、米国特許3,725,067号、待、4昭
59−99437号、同58−42045号、同59−
162548号、同59−171956号、同60−3
3552号、同60−43659号、同60−1729
82号及び同60−190779号等を参考にして合成
することができる。
本発明のカプラーは通常ハロゲン化銀1モル当りIXL
O−’モル−1モル、好ましくはlXl0−”モル〜8
X10−’モルの範囲で用いることができる。
O−’モル−1モル、好ましくはlXl0−”モル〜8
X10−’モルの範囲で用いることができる。
また本発明のカプラーは他の種類のマゼンタカプラーと
併用することもできる。
併用することもできる。
以下余白
前記本発明のマゼンタカプラーを、ハロゲン化銀乳剤層
に添加する方法としては、例えば固体分散法、ラテック
ス分散法、水中油滴型乳化分散法、種々の方法を用いる
ことができるが、好ましくは水中油滴型乳化分散法であ
る。水中油滴型乳化分散法は、当該分野で通常用いられ
る疎水性添加物を分散させる方法が適用でき、具体的に
は、以下に詳述する本発明に用いられる誘電率6.0以
下の高沸点有機溶媒に、必要に応じて低沸点及びまたは
水溶性有機溶媒を併用し溶解し、ゼラチン水溶液などの
親水性バインダー中に、アニオン性界面活性剤、ノニオ
ン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤等の界面活性剤
を用いて撹拌器、ホモジナイザー、コロイドミル、フロ
ージットミキナー、超音波装置等の分散手段を用いて、
乳化分散した後、ハロゲン化銀乳剤府中に添加すること
が好ましい。分散液または分散と同時に低沸点有機溶媒
を除去する工程を入れても良い。
に添加する方法としては、例えば固体分散法、ラテック
ス分散法、水中油滴型乳化分散法、種々の方法を用いる
ことができるが、好ましくは水中油滴型乳化分散法であ
る。水中油滴型乳化分散法は、当該分野で通常用いられ
る疎水性添加物を分散させる方法が適用でき、具体的に
は、以下に詳述する本発明に用いられる誘電率6.0以
下の高沸点有機溶媒に、必要に応じて低沸点及びまたは
水溶性有機溶媒を併用し溶解し、ゼラチン水溶液などの
親水性バインダー中に、アニオン性界面活性剤、ノニオ
ン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤等の界面活性剤
を用いて撹拌器、ホモジナイザー、コロイドミル、フロ
ージットミキナー、超音波装置等の分散手段を用いて、
乳化分散した後、ハロゲン化銀乳剤府中に添加すること
が好ましい。分散液または分散と同時に低沸点有機溶媒
を除去する工程を入れても良い。
本発明に係る一般式[XU]
一般式[XI]
H
で示される化合物において、R1およびR2で表わされ
る炭素数1〜5のアルキル基としては、例えばメチル基
ミニチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブ
チル基、S−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル
基等が挙げられる。
る炭素数1〜5のアルキル基としては、例えばメチル基
ミニチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブ
チル基、S−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル
基等が挙げられる。
nは1〜20の整数を表わし、好ましくは2〜15の整
数である、kは1ま−たは2を表わす。
数である、kは1ま−たは2を表わす。
−N−を表わし、R3は水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、シクロアルキル基またはアリール基を表わし、
R4は水素原子、アルキル基またはアリール基を表わす
。)、−0Y(ここでYは−C−R3を表わし、R3は
上記と同義。)、R3 し、R3は上記と間伐、R6は水素原子、アルキル基、
シクロアルキル基、アルケニル基またはアリール基を表
わす。)またはシアノ基を表わす。
ニル基、シクロアルキル基またはアリール基を表わし、
R4は水素原子、アルキル基またはアリール基を表わす
。)、−0Y(ここでYは−C−R3を表わし、R3は
上記と同義。)、R3 し、R3は上記と間伐、R6は水素原子、アルキル基、
シクロアルキル基、アルケニル基またはアリール基を表
わす。)またはシアノ基を表わす。
Bはアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、ア
リール基、複素環基または 「 こで、R+ 、R2、n、におよびAはそれぞれ上記と
同義。)を表わすが、R3で表わされるアルキル基、ア
ルケニル基、1シクロアルキル基、アリ−ル基、R4で
表わされるアルキル基、アリール基、R5で表わされる
アルキル基、アリール基、R6で表わされるアルキル基
、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、さら
にBで表わされるアルキルU、アルケニル基、シクロア
ル4ル基、アリール基、複素環基は、それぞれ置換基を
有するものを含み、上記アルキル基の置換基としては、
例えばハロゲン原子、シクロアルキル基、アルケニル基
、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシ
ル基、複素環基、シアノ基等が挙げられ、上記アルケニ
ル基、シクロアルキル基、アリール基、複素環基の置換
基としては、例えばハロゲン原子、アルキル基、シクロ
アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基
、アリールオキシ基、アシル基、複素環基、シアノ基等
が挙げられる。
リール基、複素環基または 「 こで、R+ 、R2、n、におよびAはそれぞれ上記と
同義。)を表わすが、R3で表わされるアルキル基、ア
ルケニル基、1シクロアルキル基、アリ−ル基、R4で
表わされるアルキル基、アリール基、R5で表わされる
アルキル基、アリール基、R6で表わされるアルキル基
、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、さら
にBで表わされるアルキルU、アルケニル基、シクロア
ル4ル基、アリール基、複素環基は、それぞれ置換基を
有するものを含み、上記アルキル基の置換基としては、
例えばハロゲン原子、シクロアルキル基、アルケニル基
、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシ
ル基、複素環基、シアノ基等が挙げられ、上記アルケニ
ル基、シクロアルキル基、アリール基、複素環基の置換
基としては、例えばハロゲン原子、アルキル基、シクロ
アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基
、アリールオキシ基、アシル基、複素環基、シアノ基等
が挙げられる。
R3、R4、Rs 、RsおよびBで表わされるアルキ
ル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ロープロ
ピル基、n−ブチル基、S−ブチル基、0−ヘキシル基
、2−エチル−ヘキシル基、n−ドデシル基、n−ヘキ
サデシル基、ベンジル塞等が挙げられ、R3、Rsおよ
びBで表わされるアルケニル基としては、例えばアリル
基等が挙げられ、R3、ReおよびBで表わされるシク
ロアルキル基としては、例えばシクロヘキシル基等が挙
げられ、R3、R4、Rs、RsおよびBで表わされる
アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等
が挙げられる。
ル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ロープロ
ピル基、n−ブチル基、S−ブチル基、0−ヘキシル基
、2−エチル−ヘキシル基、n−ドデシル基、n−ヘキ
サデシル基、ベンジル塞等が挙げられ、R3、Rsおよ
びBで表わされるアルケニル基としては、例えばアリル
基等が挙げられ、R3、ReおよびBで表わされるシク
ロアルキル基としては、例えばシクロヘキシル基等が挙
げられ、R3、R4、Rs、RsおよびBで表わされる
アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等
が挙げられる。
前記一般式[XII]で示される化合物は、さらに下記
一般式[XI]で示される化合物またはその前駆体が好
ましい。
一般式[XI]で示される化合物またはその前駆体が好
ましい。
一般式[XI[I]
1式中、R+ 、R2、R3、Xおよびn +、を一般
式[X[]のR+ 、R2、Rs 、Xおよびnと同義
である。] 以下、本発明に用いられる一般式[XINで示される化
合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない
。
式[X[]のR+ 、R2、Rs 、Xおよびnと同義
である。] 以下、本発明に用いられる一般式[XINで示される化
合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない
。
以下余白
H(1)
H(2)
!((3)
Hx
H(4)
H(5)
H(6)
H(7)
H(8)
H(9)
し2 t’l s CMコH(10)
H(11)
H(12)
H(13)
H(14)
H(15)
H(1,6)
H(17)
以下余白
上記一般式[XII]で示される化合物(以下、本発明
に係る一般式[XII]で示される化合物という)につ
いては、特開昭58−24141号に記載の化合物が基
本的に包含され、同号に記載の合成法が参照できる。
に係る一般式[XII]で示される化合物という)につ
いては、特開昭58−24141号に記載の化合物が基
本的に包含され、同号に記載の合成法が参照できる。
本発明に係る一般式[XII]で示される化合物は、ハ
ロゲン化銀写真感光材料の前記一般式[I]で示したマ
ゼンタカプラーを含有するハロゲン化銀乳剤層に添加さ
れ、その添加口は化合物の種類により異なり、感度等の
写真性能への影響、本発明の効果、即も、脚部階調の軟
調化を改良する効果等を考慮して、マゼンタカプラー1
モルに対して、1モル〜I X 10−3モルの範囲が
好ましく、より好ましくは5X10−1モル−5X 1
0−3モルであり、さらに好ましくは2 X 10−1
モル−1×10−2モルの範囲で用いられる。本発明に
係る一般式[Xnlで示される化合物は1種をI11独
で用いても2種以上を組み合わUて用いてもよい。
ロゲン化銀写真感光材料の前記一般式[I]で示したマ
ゼンタカプラーを含有するハロゲン化銀乳剤層に添加さ
れ、その添加口は化合物の種類により異なり、感度等の
写真性能への影響、本発明の効果、即も、脚部階調の軟
調化を改良する効果等を考慮して、マゼンタカプラー1
モルに対して、1モル〜I X 10−3モルの範囲が
好ましく、より好ましくは5X10−1モル−5X 1
0−3モルであり、さらに好ましくは2 X 10−1
モル−1×10−2モルの範囲で用いられる。本発明に
係る一般式[Xnlで示される化合物は1種をI11独
で用いても2種以上を組み合わUて用いてもよい。
なお、上記特開昭58−24141号に記載の化合物は
、同公報において発色剤イ添加する際の発色剤の酸化を
抑制する画像安定剤として用いられており、本発明に係
る一般式[I]で示されるマゼンタカプラー〇よび誘電
率が6.0以下の高沸点有様溶媒と組み合せて用いて得
られる本発明の効果、即ち脚部階調の軟調化を改良する
効果についてはその記載なく、予想し得ない効果である
。
、同公報において発色剤イ添加する際の発色剤の酸化を
抑制する画像安定剤として用いられており、本発明に係
る一般式[I]で示されるマゼンタカプラー〇よび誘電
率が6.0以下の高沸点有様溶媒と組み合せて用いて得
られる本発明の効果、即ち脚部階調の軟調化を改良する
効果についてはその記載なく、予想し得ない効果である
。
本発明に係る一般式[Xnlで示される化合物は、前記
本発明に係るマゼンタカプラーと同様の方法で分散添加
することができる。この時カプラーと同時に添加しても
よく、別々に添加することもできる。また、水溶性であ
れば、水と混合可能な有i溶W(例えば、メタノール、
エタノール、アセトン等)に溶解して添加することもで
きる。
本発明に係るマゼンタカプラーと同様の方法で分散添加
することができる。この時カプラーと同時に添加しても
よく、別々に添加することもできる。また、水溶性であ
れば、水と混合可能な有i溶W(例えば、メタノール、
エタノール、アセトン等)に溶解して添加することもで
きる。
本発明に用いられる誘電率6.0以下の高沸点有機溶媒
を本発明に係る一般式[I]で示されるマゼンタカプラ
ーおよび本発明に係る一般式[XII]で示される化合
物を含有するハロゲン化銀乳剤層に含有させる形態は特
に制限はないが、好ましくは前記本発明に係るマゼンタ
カプラーおよび本発明に係る化合物を分散添加する際の
分散媒とじて用いられる形態であり、この際の分散法の
好ましくは、前記水中油滴型乳化分散法である。
を本発明に係る一般式[I]で示されるマゼンタカプラ
ーおよび本発明に係る一般式[XII]で示される化合
物を含有するハロゲン化銀乳剤層に含有させる形態は特
に制限はないが、好ましくは前記本発明に係るマゼンタ
カプラーおよび本発明に係る化合物を分散添加する際の
分散媒とじて用いられる形態であり、この際の分散法の
好ましくは、前記水中油滴型乳化分散法である。
本発明に用いられる誘電率6.0以下の高沸点有機溶媒
としては種々のものがあり、例えばフタル酸エステル、
リン酸エステル等のエステル類、有機酸アミド類、ケト
ン類、炭化水素化合物等である。好ましくは誘電率6.
0以下1.9以上で100 ’Cに於ける蒸気圧が0.
5mmHQ以下の高沸点有機溶媒である。またより好ま
しくは、該高沸点有機溶媒中のフタル酸エステル類或い
はリン酸エステル類であり、さらに好ましくはフタル酸
エステル類である。尚、右は溶媒は、2種以上の混合物
であってもよく、この場合は混合物の誘電率が6.0以
下であればよい。尚、本発明での誘電率とは、30℃に
於ける誘電率を示している。
としては種々のものがあり、例えばフタル酸エステル、
リン酸エステル等のエステル類、有機酸アミド類、ケト
ン類、炭化水素化合物等である。好ましくは誘電率6.
0以下1.9以上で100 ’Cに於ける蒸気圧が0.
5mmHQ以下の高沸点有機溶媒である。またより好ま
しくは、該高沸点有機溶媒中のフタル酸エステル類或い
はリン酸エステル類であり、さらに好ましくはフタル酸
エステル類である。尚、右は溶媒は、2種以上の混合物
であってもよく、この場合は混合物の誘電率が6.0以
下であればよい。尚、本発明での誘電率とは、30℃に
於ける誘電率を示している。
本発明において最も右利に用いられる誘電率6.0以下
の高沸点石門溶媒であるフタル酸エステル類としては、
下記一般式[X IV ]で示されるものが挙げられる
。
の高沸点石門溶媒であるフタル酸エステル類としては、
下記一般式[X IV ]で示されるものが挙げられる
。
一般式[X IV ]
式中、R33およびR34は、それぞれアルキル基、ア
ルケニル基またはアリール基を表わす。但し、R33お
よびR34で表わされる基の炭素原子数の総和は9乃至
32である。また、より好ましくは炭素原子数の総和が
16乃至24である。
ルケニル基またはアリール基を表わす。但し、R33お
よびR34で表わされる基の炭素原子数の総和は9乃至
32である。また、より好ましくは炭素原子数の総和が
16乃至24である。
本発明において、前記・一般式[X IV ]のR33
およびR34で表わされるアルキル基は、直鎖もしくは
分岐のものであり、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキ
シル基、ヘプチル基、゛オクチル基、ノニル基、デシル
基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラ
デシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデ
シル基、オクタデシル基等である。R33およびR34
で表わされるアリール基はフェニル基、ナフチル基等で
あり、アルケニル基はヘキセニル基、ヘプテニル基、オ
クタデセニル基等である。これらのアルキル基、アルケ
ニル基およびアリール基は、単一もしくは複数の置換基
を有していても良く、アルキル基およびアルケニル基の
置換基としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、
アリール基、アリーロキシ基、アルケニル基、アルコキ
シカルボニル基等が挙げられ、アリール基の置換基とし
ては、例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基
、アリール基、アリーロキシ基、アルケニル基、アルコ
キシカルボニル基を挙げることができる。これらの置換
基の2つ以上がアルキル基、アルケニル基またはアリー
ル基に導入されていても良い。
およびR34で表わされるアルキル基は、直鎖もしくは
分岐のものであり、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキ
シル基、ヘプチル基、゛オクチル基、ノニル基、デシル
基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラ
デシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデ
シル基、オクタデシル基等である。R33およびR34
で表わされるアリール基はフェニル基、ナフチル基等で
あり、アルケニル基はヘキセニル基、ヘプテニル基、オ
クタデセニル基等である。これらのアルキル基、アルケ
ニル基およびアリール基は、単一もしくは複数の置換基
を有していても良く、アルキル基およびアルケニル基の
置換基としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、
アリール基、アリーロキシ基、アルケニル基、アルコキ
シカルボニル基等が挙げられ、アリール基の置換基とし
ては、例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基
、アリール基、アリーロキシ基、アルケニル基、アルコ
キシカルボニル基を挙げることができる。これらの置換
基の2つ以上がアルキル基、アルケニル基またはアリー
ル基に導入されていても良い。
本発明において有利に用いられる誘電率6.0以下のリ
ン酸エステル類としては、下記一般式[XV]で示され
るものが挙げられる。
ン酸エステル類としては、下記一般式[XV]で示され
るものが挙げられる。
一般式[XV]
式中、R35、R36およびR37は、それぞれ、アル
キル基、アルケニル基またはアリール基を表わす。但し
、R35、R36およびR37で表わされる炭素原子数
の総和は24乃至54である。
キル基、アルケニル基またはアリール基を表わす。但し
、R35、R36およびR37で表わされる炭素原子数
の総和は24乃至54である。
一般式[XV]のR35、R36およびR37で表わさ
れるアルキル基は、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキ
シル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基
、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデ
シル基、・ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデ
シル基、オクタデシル基、ノナデシル基等であり、アリ
ール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等であ
り、またアルケニル基としては、例えばヘキセニル基、
ヘプテニル基、オクタデセニル基等である。
れるアルキル基は、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキ
シル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基
、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデ
シル基、・ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデ
シル基、オクタデシル基、ノナデシル基等であり、アリ
ール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等であ
り、またアルケニル基としては、例えばヘキセニル基、
ヘプテニル基、オクタデセニル基等である。
これらのアルキル基、アルダ4ニル基およびアリール基
は、単一もしくは複数の置換基を有していても良い。好
ましくはR35、R36およびR37はアルキル基であ
り、例えば、2−エチルヘキシル基、D−オクチル基、
3.5.5−トリメチルヘキシル%、n−ノニル基、ロ
ーデシル基、5ec−デシル基、5ec−ドデシル基、
t−オクチル基等が挙げられる。
は、単一もしくは複数の置換基を有していても良い。好
ましくはR35、R36およびR37はアルキル基であ
り、例えば、2−エチルヘキシル基、D−オクチル基、
3.5.5−トリメチルヘキシル%、n−ノニル基、ロ
ーデシル基、5ec−デシル基、5ec−ドデシル基、
t−オクチル基等が挙げられる。
以下に好ましい誘電率6.0以下の高沸点有機溶媒の具
体例を示ず。
体例を示ず。
以下余白
例示有Wl溶媒
5−」
S−2C28S
C,H。
S−12C2)Is
鵞
0C* Hl−(i )
0−C*H+5(n)
0−C,、H,、(i)
0−CIDH2I(n)
「
o−c、、 Hzpに)
し
o−c、2H−rts(i)
上記誘電率6.0以下の高沸点有機溶媒は、前記本発明
に係る一般式[I]で示されるマゼンタカプラーに対し
10〜200i 1%の割合で用いられることが好まし
く、より好ましくは20〜150重岱%である。
に係る一般式[I]で示されるマゼンタカプラーに対し
10〜200i 1%の割合で用いられることが好まし
く、より好ましくは20〜150重岱%である。
また、前記本発明に係る一般2式[XIr]で示される
化合物は上記高沸点有機溶媒に対し0,1〜50ffi
fi%の割合で用いられることが好ましく、より好まし
くは1〜201ffi%である。
化合物は上記高沸点有機溶媒に対し0,1〜50ffi
fi%の割合で用いられることが好ましく、より好まし
くは1〜201ffi%である。
以上の如く、本発明においては、本発明に係る一般式[
I]で示されるマゼンタカプラー、本発明に係る一般式
[Xn]で示される化合物および誘電率6.0以下の高
沸点有機溶媒を組み合わせて用いることにより、カブリ
等の写真性能に悪影響を与えないで脚部階調の軟調化が
改良されるという本発明の効果が得られるものである。
I]で示されるマゼンタカプラー、本発明に係る一般式
[Xn]で示される化合物および誘電率6.0以下の高
沸点有機溶媒を組み合わせて用いることにより、カブリ
等の写真性能に悪影響を与えないで脚部階調の軟調化が
改良されるという本発明の効果が得られるものである。
本発明に係る一般式[I]で示されるマゼンタカプラー
、本発明に係る一般式[X]I]で示される化合物およ
び誘電率6.0以下の高沸点有機溶媒を含有するハロゲ
ン化銀乳剤VB(以下、本発明のハロゲン化銀乳剤層と
いう)には、ハロゲン化銀粒子として臭化銀、沃臭化銀
、沃塩化銀、塩臭化銀、沃塩臭化銀および塩化銀等の通
常のハロゲン化銀乳剤に使用される任意のものを用いる
ことができるが、本発明においては実質的に塩臭化銀粒
子であることが好ましい。ここで実質的に塩臭化銀粒子
とは、ハロゲン化銀乳剤に含まれるハロゲン化銀粒子の
ハロゲン化銀組成が、沃化銀1モル%未満で、残りが塩
化銀と臭化銀からなるハロゲン化銀粒子である。さらに
、沃化銀が1モル%未満で、臭化銀が25モル%以上で
残りが塩化銀からなるハロゲン化銀粒子であることが好
ましい。
、本発明に係る一般式[X]I]で示される化合物およ
び誘電率6.0以下の高沸点有機溶媒を含有するハロゲ
ン化銀乳剤VB(以下、本発明のハロゲン化銀乳剤層と
いう)には、ハロゲン化銀粒子として臭化銀、沃臭化銀
、沃塩化銀、塩臭化銀、沃塩臭化銀および塩化銀等の通
常のハロゲン化銀乳剤に使用される任意のものを用いる
ことができるが、本発明においては実質的に塩臭化銀粒
子であることが好ましい。ここで実質的に塩臭化銀粒子
とは、ハロゲン化銀乳剤に含まれるハロゲン化銀粒子の
ハロゲン化銀組成が、沃化銀1モル%未満で、残りが塩
化銀と臭化銀からなるハロゲン化銀粒子である。さらに
、沃化銀が1モル%未満で、臭化銀が25モル%以上で
残りが塩化銀からなるハロゲン化銀粒子であることが好
ましい。
また、本発明のハロゲン化銀乳剤層における全ハロゲン
化銀粒子に対して、上記実質的にm臭化銀粒子が50重
M%以上であることが好ましく、さらに好ましくは75
1ffi%以上である。
化銀粒子に対して、上記実質的にm臭化銀粒子が50重
M%以上であることが好ましく、さらに好ましくは75
1ffi%以上である。
本発明のハロゲン化銀乳剤層に用いられるハロゲン化銀
粒子は、どの様な結晶形を有するものを用いても良い。
粒子は、どの様な結晶形を有するものを用いても良い。
例えば規則的な結晶形を持つものでもよいし1球状や板
状のような変則的な結晶形を持つものでも良い。さらに
これら粒子において、(1oo)面と(111)面の比
率は任意のものが使用できる。又、これら結晶形の複合
形を持つものでもよく、様々な結晶形の粒子が混合され
てもよい。本発明においては特に、規則的な結晶形を持
つ八面体、十四面体、および立方体粒子が好ましい効果
が得られる。、 本発明のハロゲン化銀乳剤層に用いられるハロゲン化銀
粒子は:粒子分布が多分散でも単分散であっても分布の
いかんを問わず達成されるが、より好ましくは単分散ハ
ロゲン化銀粒子である。
状のような変則的な結晶形を持つものでも良い。さらに
これら粒子において、(1oo)面と(111)面の比
率は任意のものが使用できる。又、これら結晶形の複合
形を持つものでもよく、様々な結晶形の粒子が混合され
てもよい。本発明においては特に、規則的な結晶形を持
つ八面体、十四面体、および立方体粒子が好ましい効果
が得られる。、 本発明のハロゲン化銀乳剤層に用いられるハロゲン化銀
粒子は:粒子分布が多分散でも単分散であっても分布の
いかんを問わず達成されるが、より好ましくは単分散ハ
ロゲン化銀粒子である。
ここで言う単分散ハロゲン化銀粒子とは、粒径の分布の
標準偏差S(下記)を平均粒径rで割った値(以下、変
動係数という)が0.20以下のものをいい、好ましく
はこの値が0.15以下のものである。
標準偏差S(下記)を平均粒径rで割った値(以下、変
動係数という)が0.20以下のものをいい、好ましく
はこの値が0.15以下のものである。
ここでいう平均粒径とは、球状のハロゲン化銀粒子の場
合は、その直径または立方体や球状以外の形状の粒子の
場合は、その投影像を同面積の円像に換算した時の直径
の平均値であって、個々のその粒径がrtであり、その
数がniである時、下記の式によって7が定義されたも
のである。
合は、その直径または立方体や球状以外の形状の粒子の
場合は、その投影像を同面積の円像に換算した時の直径
の平均値であって、個々のその粒径がrtであり、その
数がniである時、下記の式によって7が定義されたも
のである。
なお上記粒子径は、上記の目的のために当該技術分野に
おいて一般に用いられる各種の方法によってこれを測定
することができる。代表的な方法としては、ラブラウン
ドの「粒子径分析法JA。
おいて一般に用いられる各種の方法によってこれを測定
することができる。代表的な方法としては、ラブラウン
ドの「粒子径分析法JA。
S、T、M、シンポジウム・オン・ライト・マイクロス
コピー、1955年、94〜122頁または「写真プロ
セスの理論」ミースおよびジエームズ共著、第3版、マ
クミラン社発行(1966年)の第2章に記載されてい
る。この粒子径は粒子の投影面積か直径近似値を使って
これを測定することができる。
コピー、1955年、94〜122頁または「写真プロ
セスの理論」ミースおよびジエームズ共著、第3版、マ
クミラン社発行(1966年)の第2章に記載されてい
る。この粒子径は粒子の投影面積か直径近似値を使って
これを測定することができる。
粒子が実質的に均一形状である場合は、粒径分布は直径
か投影面積としてかなり正確にこれを表わすことができ
る。
か投影面積としてかなり正確にこれを表わすことができ
る。
本発明において好ましく用いられる単分散ハロゲン化銀
粒子を有するハロゲン化銀7L剤は、公知の方法を用い
て¥7造づることができ、例えば特開昭54−4852
1号公報に記載されている方法を適用して装造すること
ができる。例えば、塩臭化カリウム−ゼラチン水溶液と
アンモニア性硝酸銀水溶液とをハロゲン化銀種粒子を含
むゼラチン水溶液中に添加速度を時間の関数として変化
させて添加する方法によって製造する。この際添加速度
の時間関数、I)At)、温度等を適宜に選択すること
により、高度の単分散塩臭化銀乳剤を得ることができる
。
粒子を有するハロゲン化銀7L剤は、公知の方法を用い
て¥7造づることができ、例えば特開昭54−4852
1号公報に記載されている方法を適用して装造すること
ができる。例えば、塩臭化カリウム−ゼラチン水溶液と
アンモニア性硝酸銀水溶液とをハロゲン化銀種粒子を含
むゼラチン水溶液中に添加速度を時間の関数として変化
させて添加する方法によって製造する。この際添加速度
の時間関数、I)At)、温度等を適宜に選択すること
により、高度の単分散塩臭化銀乳剤を得ることができる
。
また本発明のハロゲン化銀乳剤層に用いられるハロゲン
化銀粒子の構造は内部から外部まで均一なものであって
も、内部と外部とが異質の層状横進をしたものであって
もよい。
化銀粒子の構造は内部から外部まで均一なものであって
も、内部と外部とが異質の層状横進をしたものであって
もよい。
また、潜像を主として表面に形成する型のものでも、粒
子内部に形成する型のものでもよい。
子内部に形成する型のものでもよい。
本発明のハロゲン化銀乳剤層に用いられるハロゲン化銀
粒子の平均粒径は待に限定されるものではないが、好ま
しくは02〜0.9μmの範囲である。さらに好ましく
は0.25〜0.7μmの範囲である。なお、平均粒径
は前記の方法で測定す゛ればよい。
粒子の平均粒径は待に限定されるものではないが、好ま
しくは02〜0.9μmの範囲である。さらに好ましく
は0.25〜0.7μmの範囲である。なお、平均粒径
は前記の方法で測定す゛ればよい。
本発明において、このような単分散ハロゲン化銀粒子は
、本発明のハロゲン化銀乳剤層中に含まれる全ハロゲン
化銀粒子の少なくとも50重」%が好ましくさらに(少
なくとも75重ffi%)を占める場合により好ましい
効果が得られる。
、本発明のハロゲン化銀乳剤層中に含まれる全ハロゲン
化銀粒子の少なくとも50重」%が好ましくさらに(少
なくとも75重ffi%)を占める場合により好ましい
効果が得られる。
本発明のハロゲン化銀写爽感光材料は、例えばカラーネ
ガのネガ及びポジフィルム、ならびにカラー印画紙など
であることができるが、とりわけ直接鑑賞用に供される
カラー印画紙に用いた場合に本発明の効果が有効に発揮
される。
ガのネガ及びポジフィルム、ならびにカラー印画紙など
であることができるが、とりわけ直接鑑賞用に供される
カラー印画紙に用いた場合に本発明の効果が有効に発揮
される。
このカラー印画紙をはじめとする本発明のハロゲン化銀
写真感光材料は、141色用のものでも多色用のもので
も良い。多色用ハロゲン化銀写真感光材料の場合には、
減色法色再現を行うために、通常は写真用カプラーとし
て、本発明のマゼンタカプラーの他、イエロー、及びシ
アンの各カプラーを含有づるハロゲン化銀乳剤層ならび
に非感光性位が支持体上に適宜の層数及び層順で積層し
た構造を有しているが、該層数及び層順は重点性能、使
用目的によって適宜変更しても良い。
写真感光材料は、141色用のものでも多色用のもので
も良い。多色用ハロゲン化銀写真感光材料の場合には、
減色法色再現を行うために、通常は写真用カプラーとし
て、本発明のマゼンタカプラーの他、イエロー、及びシ
アンの各カプラーを含有づるハロゲン化銀乳剤層ならび
に非感光性位が支持体上に適宜の層数及び層順で積層し
た構造を有しているが、該層数及び層順は重点性能、使
用目的によって適宜変更しても良い。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は多色カラー感光材
料である場合が好ましくその場合、具体的な層構成とし
ては、支持体上に支持体側より順次、イエロー色素画像
形成層、中間層、本発明のマゼンタ色素画像形成層、中
間層、シアン色素画像形成層、中間層、保護層と配列し
たものが特に好ましい。
料である場合が好ましくその場合、具体的な層構成とし
ては、支持体上に支持体側より順次、イエロー色素画像
形成層、中間層、本発明のマゼンタ色素画像形成層、中
間層、シアン色素画像形成層、中間層、保護層と配列し
たものが特に好ましい。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料において、イエロー
色素画像形成層に用いられるイエロー色素形成カプラー
としては、下記の一般式[Ylで表わされる化合物が好
ましい。
色素画像形成層に用いられるイエロー色素形成カプラー
としては、下記の一般式[Ylで表わされる化合物が好
ましい。
一般式[Yl
式中、R1はアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
ブOビル基、ブチル基等)またはアリール基(例えばフ
ェニル基、p−メトキシフェニル等)を表わし、R2は
アリール基を表わし、Ylは水素原子または発色現像反
応の過程で脱離する基を表わす。
ブOビル基、ブチル基等)またはアリール基(例えばフ
ェニル基、p−メトキシフェニル等)を表わし、R2は
アリール基を表わし、Ylは水素原子または発色現像反
応の過程で脱離する基を表わす。
さらに、イエロー色素両会を形成するイエローカプラー
として特に好ましいもめは、下記一般式[Y′ ]で表
わされる化合物が好ましい。
として特に好ましいもめは、下記一般式[Y′ ]で表
わされる化合物が好ましい。
一般式[Y′1
式中R3はハロゲン原子、アルコキシ基またはアリーロ
キシ基を表わし、R4、R5,R6およびR7は、それ
ぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アリール基、アリーロキシ基、カル
ボニル基、スルフAニル基、カルボキシル 基、カルバミル基、スルフォン基、スルファミル基、ス
ルフAンアミド基、アシルアミノ基、ウレイド基または
アミノ基を表わし、Ylは前jホの意味を右する。
キシ基を表わし、R4、R5,R6およびR7は、それ
ぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アリール基、アリーロキシ基、カル
ボニル基、スルフAニル基、カルボキシル 基、カルバミル基、スルフォン基、スルファミル基、ス
ルフAンアミド基、アシルアミノ基、ウレイド基または
アミノ基を表わし、Ylは前jホの意味を右する。
R3の好ましくはハロゲン原子であり、R7の好ましく
は水素原子である。
は水素原子である。
これらは、例えば米国特訂第2, 778, 658@
、同第2, 875, 057号、同第2,908,5
73号、同第3.227、155号、同第3,227,
550号、同第3,253,924号、同第3,265
,506号、同第3, 277、 155@、同第3,
341、331号、同第3, 369, 895号、同
第3,384,657号、同第s, 4(18, 19
4N、同第3,415,652号、同第3,447、9
28号、同第3,551,155号、同第3,582,
322号、同第3,725,072号、3,894,8
75号等の各明細書、ドイツ特許公開筒1,547,8
68号、同第2□057.941号、同第2,162,
899号、同第2,163,812号、同第2、213
,461号、同第2,219,917号、同第2,26
1,361号、同第2,263,875号、特公昭49
−13576号、特開昭48−29432号、同48−
66834号、同49−10736@、同49ー122
335号,同50−28834号、および同50−13
2926号公報等に記載されている。
、同第2, 875, 057号、同第2,908,5
73号、同第3.227、155号、同第3,227,
550号、同第3,253,924号、同第3,265
,506号、同第3, 277、 155@、同第3,
341、331号、同第3, 369, 895号、同
第3,384,657号、同第s, 4(18, 19
4N、同第3,415,652号、同第3,447、9
28号、同第3,551,155号、同第3,582,
322号、同第3,725,072号、3,894,8
75号等の各明細書、ドイツ特許公開筒1,547,8
68号、同第2□057.941号、同第2,162,
899号、同第2,163,812号、同第2、213
,461号、同第2,219,917号、同第2,26
1,361号、同第2,263,875号、特公昭49
−13576号、特開昭48−29432号、同48−
66834号、同49−10736@、同49ー122
335号,同50−28834号、および同50−13
2926号公報等に記載されている。
以下、本発明に好ましく用いられるイエローカプラーの
具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
以下余白
以下余白
本発明に用いられるシアン色素画像形成カプラーとして
は、フェノール系、ナフトール系の4当Rもしくは2当
良型シアン色素画像形成カプラーが代表的であり、その
具体例は米国特許第2,306.410号、同第2.3
56.475号、同第2,362,598号、同第2,
367.531号、同第2,359.929号、同第2
.423、730号、同第2,474,293号、同第
2,476.008号、同第2.498.4G6号、同
第2,545,687号、同第2,728.660号、
同第2,772.162号、同第2.895.826号
、同第2.976、146号、同第3,002,836
号、同第3,419.39o@、同第3.446.62
2号、同第3.476、563号、同第3,737,3
16号、同第3.758.308号、同第3.839.
044号、英国特許第478,991号、同第945,
542号、同第1,084,480号、同第1.377
.233@、同第1 、388.0211@及び同第1
,543.04(1号の各明細書、並びに特開1134
7−37425号、同50−10135号、同50−2
5228号、同 50−112038号、同 50−1
17422号、同 50−130441号、同 51−
6551号、同51−37647号、同51−5282
8号、同51−108841号、同53−109630
号、同54−48237号、同54−66129号、同
54−131931号、同55−32071号の各公報
などに記載されている。
は、フェノール系、ナフトール系の4当Rもしくは2当
良型シアン色素画像形成カプラーが代表的であり、その
具体例は米国特許第2,306.410号、同第2.3
56.475号、同第2,362,598号、同第2,
367.531号、同第2,359.929号、同第2
.423、730号、同第2,474,293号、同第
2,476.008号、同第2.498.4G6号、同
第2,545,687号、同第2,728.660号、
同第2,772.162号、同第2.895.826号
、同第2.976、146号、同第3,002,836
号、同第3,419.39o@、同第3.446.62
2号、同第3.476、563号、同第3,737,3
16号、同第3.758.308号、同第3.839.
044号、英国特許第478,991号、同第945,
542号、同第1,084,480号、同第1.377
.233@、同第1 、388.0211@及び同第1
,543.04(1号の各明細書、並びに特開1134
7−37425号、同50−10135号、同50−2
5228号、同 50−112038号、同 50−1
17422号、同 50−130441号、同 51−
6551号、同51−37647号、同51−5282
8号、同51−108841号、同53−109630
号、同54−48237号、同54−66129号、同
54−131931号、同55−32071号の各公報
などに記載されている。
さらに本発明のハロゲン化銀乳剤に用いるシアンカプラ
ーとしては、下記一般式[C−1]および[C−2]が
好ましい。
ーとしては、下記一般式[C−1]および[C−2]が
好ましい。
一般式[C−11
式中、R8はアルキル基またはアリール基を表わすaR
’はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基または
複素環基を表わす、、R10は水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基またはアルコキシ基を表わす。またR 1
0 lよR8と結合して環を形成しても良いoZ’は水
素原子または芳香族第1級アミン系発色現像主薬の酸化
体との反応により雛脱可能な基を表わす。
’はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基または
複素環基を表わす、、R10は水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基またはアルコキシ基を表わす。またR 1
0 lよR8と結合して環を形成しても良いoZ’は水
素原子または芳香族第1級アミン系発色現像主薬の酸化
体との反応により雛脱可能な基を表わす。
以下余白
一般式[C−2]
式中、R1+は炭素原子数1−?4個の直鎖または分岐
のアルキル基、Rはバラスト基を表わす。
のアルキル基、Rはバラスト基を表わす。
Zlは一般式[”C−1]の21と同義である。
R1+ の特に好ましくは炭素原子数2〜4個の直鎖又
は分岐のアルキル基である。
は分岐のアルキル基である。
本発明において、一般式[C−1]のR8で表わされる
アルキル基は、直鎖もしくは分岐のものであり、例えば
、メチル基、エチル基、1so−プロピル基、ブチル基
、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、トリデシル基等
であり、またアリール基は、例えばフェニル基、ナフチ
ル基等である。
アルキル基は、直鎖もしくは分岐のものであり、例えば
、メチル基、エチル基、1so−プロピル基、ブチル基
、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、トリデシル基等
であり、またアリール基は、例えばフェニル基、ナフチ
ル基等である。
これらのR8で表わされる基は、単一もしくは複数の置
換基を有するものを含み、例えばフェニル基に導入され
る置換基としては、代表的なものにハロゲン原子(例え
ば、フッ素、塩素、臭素等の各原子)、フルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ド
デシル基等)、ヒドロキシル基、シアン基、ニトロ基、
アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基)、ア
ルキルスルホンアミド基(例えば、メチルスルホンアミ
ド基、オクチルスルホンアミド基等)、アリールスルホ
ンアミド基(例えば、フェニルスルホンアミド基、ナフ
チルスルホンアミド基等)、アルキルスルファモイル基
(例えば、ブチルスルファモイル基等)、アリールスル
ファモイル塁(例えば、フェニルスルファモイル基等)
、アルキルオキシカルボニル基(例えば、メチルオキシ
カルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例え
ば、フェニルオキシカルボニル基等)、アミノスルホン
アミド基(例えば、N、N−ジメチルアミノスルホンア
ミド基等)、アシルアミムLカルバモイル基、スルホニ
ル基、スルフィニル基、スルホオキシ基、スルホ基、ア
リールオキシ基、アルコキシ基、カルボキシル基、アル
キルカルボニル基、アリールカルボニル基などを挙げる
ことができる。
換基を有するものを含み、例えばフェニル基に導入され
る置換基としては、代表的なものにハロゲン原子(例え
ば、フッ素、塩素、臭素等の各原子)、フルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ド
デシル基等)、ヒドロキシル基、シアン基、ニトロ基、
アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基)、ア
ルキルスルホンアミド基(例えば、メチルスルホンアミ
ド基、オクチルスルホンアミド基等)、アリールスルホ
ンアミド基(例えば、フェニルスルホンアミド基、ナフ
チルスルホンアミド基等)、アルキルスルファモイル基
(例えば、ブチルスルファモイル基等)、アリールスル
ファモイル塁(例えば、フェニルスルファモイル基等)
、アルキルオキシカルボニル基(例えば、メチルオキシ
カルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例え
ば、フェニルオキシカルボニル基等)、アミノスルホン
アミド基(例えば、N、N−ジメチルアミノスルホンア
ミド基等)、アシルアミムLカルバモイル基、スルホニ
ル基、スルフィニル基、スルホオキシ基、スルホ基、ア
リールオキシ基、アルコキシ基、カルボキシル基、アル
キルカルボニル基、アリールカルボニル基などを挙げる
ことができる。
これらの置換基は2種以上がフェニル基に導入されてい
ても良い。
ても良い。
R1oで表わされるハロゲン原子は、例えば、フッ素、
塩素、臭素等の各原子であり、アルキル基は、例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ドデシル
基等であり、また、アルコキシ基は、例えばメトキシ基
、エトキシ基、プロピルオキシ基、ブトキシ基等である
。R1oがR8と結合して環を形成してもよい。
塩素、臭素等の各原子であり、アルキル基は、例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ドデシル
基等であり、また、アルコキシ基は、例えばメトキシ基
、エトキシ基、プロピルオキシ基、ブトキシ基等である
。R1oがR8と結合して環を形成してもよい。
本発明において前記一般式[C−1]のR9で表わされ
るアルキル基は、例えばメチル基、エチル基、ブチル基
、ヘキシル基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘプタ
デシル基、フッ素原子で置換された、いわゆるポリフル
オロアルキル基などである。
るアルキル基は、例えばメチル基、エチル基、ブチル基
、ヘキシル基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘプタ
デシル基、フッ素原子で置換された、いわゆるポリフル
オロアルキル基などである。
R9で表わされるアリール基は、例えばフェニル基、ナ
フチル基であり、好ましくはフェニル基、である。R9
で表わされる複素環基は、例えばピリジル基、フラン基
等である。R9で表わされるシクロアルキル基は、例え
ば、シクロプロピル基、シクロヘキシル基等である。こ
れらのR9で表わされる基は、単一もしくは複数の置換
基を有するものを含み、例えば、フェニル基に導入され
る置換基としては、代表的なものにハロゲン原子(例え
ばフッ素、塩素、臭素等の各原子)、アルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ドデシ
ル基等)、ヒドロキシル基、シアムLニトロ基、アルコ
キシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基等)、アルキル
スルホンアミド基(例えばメチルスルホンアミド基、オ
クチルスルホンアミド基等)、アリールスルホンアミド
基(例えば、フェニルスルホンアミド基、ナフチルスル
ホンアミド基等)、アルキルスルファモイル基(例えば
ブチルスルファモイル基等)、アリールスルフ1モイル
基(例えば、フェニルスルファモイル基等)、アルキル
オキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル
基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニ
ルオキシカルボニル基等)、アミノスルホンアミド基、
アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホニル基、スル
フィニル基、スルホオキシ基、スルホ基、アリールオキ
シ基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルギルカルボ
ニル基、アリールカルボニル基などを挙げることができ
る。これらの置換基は2種以上がフェニル基に導入され
て、いても良い。
フチル基であり、好ましくはフェニル基、である。R9
で表わされる複素環基は、例えばピリジル基、フラン基
等である。R9で表わされるシクロアルキル基は、例え
ば、シクロプロピル基、シクロヘキシル基等である。こ
れらのR9で表わされる基は、単一もしくは複数の置換
基を有するものを含み、例えば、フェニル基に導入され
る置換基としては、代表的なものにハロゲン原子(例え
ばフッ素、塩素、臭素等の各原子)、アルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ドデシ
ル基等)、ヒドロキシル基、シアムLニトロ基、アルコ
キシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基等)、アルキル
スルホンアミド基(例えばメチルスルホンアミド基、オ
クチルスルホンアミド基等)、アリールスルホンアミド
基(例えば、フェニルスルホンアミド基、ナフチルスル
ホンアミド基等)、アルキルスルファモイル基(例えば
ブチルスルファモイル基等)、アリールスルフ1モイル
基(例えば、フェニルスルファモイル基等)、アルキル
オキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル
基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニ
ルオキシカルボニル基等)、アミノスルホンアミド基、
アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホニル基、スル
フィニル基、スルホオキシ基、スルホ基、アリールオキ
シ基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルギルカルボ
ニル基、アリールカルボニル基などを挙げることができ
る。これらの置換基は2種以上がフェニル基に導入され
て、いても良い。
R9で表わされる好ましい基としては、ポリフルオロア
ルキル基、フェニル基またはハロゲン原子、アルキル基
、アルコキシ基、アルキルスルホンアミド基、アリール
スルホンアミド基、アルキルスルフアミイル基、アリー
ルスルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボ
ニル基もしくはシアノ基を置換基として1つまたは2つ
以上有するフェニル基である。
ルキル基、フェニル基またはハロゲン原子、アルキル基
、アルコキシ基、アルキルスルホンアミド基、アリール
スルホンアミド基、アルキルスルフアミイル基、アリー
ルスルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボ
ニル基もしくはシアノ基を置換基として1つまたは2つ
以上有するフェニル基である。
本発明に好ましく用いられる前記一般式[C−1]で表
わされるシアンカプラーのさらに好ましくは、下記一般
式[C−3]で表わされる化合物である。
わされるシアンカプラーのさらに好ましくは、下記一般
式[C−3]で表わされる化合物である。
一般式[(,3]
一般式[C−3]において 33はフェニル基を表わす
。このフェニル基は単一もしくは複数の置換基を有する
ものを含み、導入される置換基としては代表的なものに
ハロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等)、アルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、オクチル基、ドデシル基等)、ヒドロキシル基、シ
アノ基、ニトロ基、アルコキシ基(例えばメトキシ基、
エトキシ基等)、アルキルスルホンアミド基(例えばメ
チルスルホンアミド基、オクチルスルホンアミド基等)
、アリールスルホンアミド基(例えばフェニルスルホン
アミド基、ナフチルスルホンアミド基等)、アルキルス
ルファモイル基(例えばブチルスルファモイル基等)、
アリールスルファモイル基(例えばフェニルスルファモ
イル基等)、アルキルオキシカルボニル基(例えばメチ
ルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル
基(例えばフェニルオキシカルボニル基等)などを挙げ
ることができる。これらの置換基は2棟以上がフェニル
基に置換されていても良い、R;3で表わされる好まし
い基としては・2、フェニル、またはハロゲン原子(好
ましくはフッ素、塩素、臭素)、アルキルスルホンアミ
ド基(好ましくは〇−メチルスルホンアミド基、p−オ
クチルスルホンアミド基、O−ドデシルスルホンアミド
基)、アリールスルホンアミド基(好ましくはフェニル
スルホンアミド基)、アルキルスルファモイル基(好ま
しくはブチルスルファモイル基)、アリールスルファモ
イル基(好ましくはフェニルスルファモイル基)、アル
キル基(好ましくはメチル基、1〜リフルオロメヂル基
)、アルコキシ基(好ましくはメトキシ基、エトキシ基
)を置換基として1つまたは2つ以上有するフェニル基
である。
。このフェニル基は単一もしくは複数の置換基を有する
ものを含み、導入される置換基としては代表的なものに
ハロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等)、アルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、オクチル基、ドデシル基等)、ヒドロキシル基、シ
アノ基、ニトロ基、アルコキシ基(例えばメトキシ基、
エトキシ基等)、アルキルスルホンアミド基(例えばメ
チルスルホンアミド基、オクチルスルホンアミド基等)
、アリールスルホンアミド基(例えばフェニルスルホン
アミド基、ナフチルスルホンアミド基等)、アルキルス
ルファモイル基(例えばブチルスルファモイル基等)、
アリールスルファモイル基(例えばフェニルスルファモ
イル基等)、アルキルオキシカルボニル基(例えばメチ
ルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル
基(例えばフェニルオキシカルボニル基等)などを挙げ
ることができる。これらの置換基は2棟以上がフェニル
基に置換されていても良い、R;3で表わされる好まし
い基としては・2、フェニル、またはハロゲン原子(好
ましくはフッ素、塩素、臭素)、アルキルスルホンアミ
ド基(好ましくは〇−メチルスルホンアミド基、p−オ
クチルスルホンアミド基、O−ドデシルスルホンアミド
基)、アリールスルホンアミド基(好ましくはフェニル
スルホンアミド基)、アルキルスルファモイル基(好ま
しくはブチルスルファモイル基)、アリールスルファモ
イル基(好ましくはフェニルスルファモイル基)、アル
キル基(好ましくはメチル基、1〜リフルオロメヂル基
)、アルコキシ基(好ましくはメトキシ基、エトキシ基
)を置換基として1つまたは2つ以上有するフェニル基
である。
R14はアルキル基またはアリール基である。アルキル
基またはアリール基は単一もしくは複数の置換基を有す
るものを含み、この置換基としては代表的なものに、ハ
ロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等)、ヒドロキ
シル基、カルボキシル基、アルキル基(例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、ドデ
シル基、ベンジル基等)、シアノ基、二5ト0基、アル
コキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基)、アリール
オキシ基、アルキルスルホンアミド基(例えばメチルス
ルホンアミド基、オクチルスルホンアミド基等)、アリ
ールスルホンアミド基(例えばフェニルスルホンアミド
基、ナフチルスルホンアミド基等)、アルキルスルフ1
モイル基(例えばブチルスルファモイル基等)、アリー
ルスルファモイル基(例えばフェニルスルファモイル基
等)、アルキルオキシカルボニル基(例えばメチルオキ
シカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例
えばフェニルオキシカルボニル基等)、アミノスルホン
アミド基(例えばジメチルアミノスルホンアミド基簀)
、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アル
キルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミノカル
ボニルアミド基、カルバモイル基、スルフィニル基など
を挙げることができる。これらの置換基は2種以上が導
入されても良い。
基またはアリール基は単一もしくは複数の置換基を有す
るものを含み、この置換基としては代表的なものに、ハ
ロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等)、ヒドロキ
シル基、カルボキシル基、アルキル基(例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、ドデ
シル基、ベンジル基等)、シアノ基、二5ト0基、アル
コキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基)、アリール
オキシ基、アルキルスルホンアミド基(例えばメチルス
ルホンアミド基、オクチルスルホンアミド基等)、アリ
ールスルホンアミド基(例えばフェニルスルホンアミド
基、ナフチルスルホンアミド基等)、アルキルスルフ1
モイル基(例えばブチルスルファモイル基等)、アリー
ルスルファモイル基(例えばフェニルスルファモイル基
等)、アルキルオキシカルボニル基(例えばメチルオキ
シカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例
えばフェニルオキシカルボニル基等)、アミノスルホン
アミド基(例えばジメチルアミノスルホンアミド基簀)
、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アル
キルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミノカル
ボニルアミド基、カルバモイル基、スルフィニル基など
を挙げることができる。これらの置換基は2種以上が導
入されても良い。
R14で表わされる好ましい基としては、nl −Oの
ときはアルキル基、n+=、1以上のときはアリール基
である。RI4で表わされているさらに好ましい基とし
ては、n1=Qのときは炭素数1〜22個のアルキル基
(好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、オクチル基、ドデシル基)であり、nl−1以上の
ときは未H換のフェニル基、またはアルキル基(好まし
くはt−ブチル基、t−アミル基、オクチル基)、アル
キルスルホンアミド基(好ましくはブチルスルホンアミ
ド基、オクチルスルホンアミド基、ドデシルスルホンア
ミド基)、アリールスルホンアミド基(好ましくはフェ
ニルスルホンアミド基)、アミノスルホンアミド基(好
ましくはジメチルアミノスルホンアミド基)、アルキル
オキシカルボニル基(好ましくはメチルオキシカルボニ
ル基、ブチルオキシカルボニル基)を置換基として1つ
または2つ以上有するフェニル基である。
ときはアルキル基、n+=、1以上のときはアリール基
である。RI4で表わされているさらに好ましい基とし
ては、n1=Qのときは炭素数1〜22個のアルキル基
(好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、オクチル基、ドデシル基)であり、nl−1以上の
ときは未H換のフェニル基、またはアルキル基(好まし
くはt−ブチル基、t−アミル基、オクチル基)、アル
キルスルホンアミド基(好ましくはブチルスルホンアミ
ド基、オクチルスルホンアミド基、ドデシルスルホンア
ミド基)、アリールスルホンアミド基(好ましくはフェ
ニルスルホンアミド基)、アミノスルホンアミド基(好
ましくはジメチルアミノスルホンアミド基)、アルキル
オキシカルボニル基(好ましくはメチルオキシカルボニ
ル基、ブチルオキシカルボニル基)を置換基として1つ
または2つ以上有するフェニル基である。
R1にはアルキレン基を表わす。直鎖または分岐の炭素
原子数1〜20個、更には炭素原子数1〜12個のアル
キレン基を表わす。
原子数1〜20個、更には炭素原子数1〜12個のアル
キレン基を表わす。
RI6は水素原子またはハロゲン原子(フッ素、塩素、
臭素または沃素)を表わす。好ましくは水素原子である
。
臭素または沃素)を表わす。好ましくは水素原子である
。
nlは0または正の整数であり、好ましくはOまたは1
である。
である。
Xは−0−1−CO−1−COO−1
−OCO−1−3O2NR’−1−NR″5O2N R
”−1−S−1−8〇−または−8O2−Mの2価基を
表わす。(ここで、 Rl 、 RII 、R/″はそ
れぞれアルキル基を表わし、置換基を有するものを含む
、、)Xの好ましくは、−0−1−S−1−8O−1−
8O2−基である。
”−1−S−1−8〇−または−8O2−Mの2価基を
表わす。(ここで、 Rl 、 RII 、R/″はそ
れぞれアルキル基を表わし、置換基を有するものを含む
、、)Xの好ましくは、−0−1−S−1−8O−1−
8O2−基である。
Zlは一般式[C−1]の71と同義である。
本発明において、前記一般式[C−2]のR11で表わ
される炭素原子数1〜4個の直鎖又は分岐のアルキル基
は、例えばエチル基、プロピル基、ブチル基、1so−
プロピル基、1so−ブチル基、5ec−ブチル基、或
いはtert−ブチル基であり、これらは置換基を有す
るものを含む。置換基としてはアシルアミノ基(例えば
アセチルアミノ基)、アルコキシ基(例えばメトキシ−
M)等が挙げられる。
される炭素原子数1〜4個の直鎖又は分岐のアルキル基
は、例えばエチル基、プロピル基、ブチル基、1so−
プロピル基、1so−ブチル基、5ec−ブチル基、或
いはtert−ブチル基であり、これらは置換基を有す
るものを含む。置換基としてはアシルアミノ基(例えば
アセチルアミノ基)、アルコキシ基(例えばメトキシ−
M)等が挙げられる。
R1+ は好ましくは炭素数2〜4のアルキル基である
。
。
R11により表わされるバラスト基は、カプラーが適用
される層からカプラーを実質的に他層へ拡散できないよ
うにするのに十分ながさばりをカプラー分子に与えると
ころの大きさと形状を有する有機基である。
される層からカプラーを実質的に他層へ拡散できないよ
うにするのに十分ながさばりをカプラー分子に与えると
ころの大きさと形状を有する有機基である。
代表的なバラスト基としては、全炭素数が8から32の
アルキル基またはアリール基が挙げられる。
アルキル基またはアリール基が挙げられる。
これらのアルキル基またはアリール基は置換基を有する
ものを含む。アリール基の置換基としては、例えばアル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基
、カルボキシ基、アシル基、エステル基、ヒドロキシ基
、シアムLニドO基、カルバモイル基、カルボンアミド
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、
スルホンアミド基、スルファモイル基、ハロゲン原子が
挙げられる。また、アルキル基の、置換基としてはアル
キル基を除く前記アリール基に挙げた置換基が挙げられ
る。
ものを含む。アリール基の置換基としては、例えばアル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基
、カルボキシ基、アシル基、エステル基、ヒドロキシ基
、シアムLニドO基、カルバモイル基、カルボンアミド
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、
スルホンアミド基、スルファモイル基、ハロゲン原子が
挙げられる。また、アルキル基の、置換基としてはアル
キル基を除く前記アリール基に挙げた置換基が挙げられ
る。
とりわけ該バラスト基として好ましいものは、下記一般
式[C−4]で表わされるものである。
式[C−4]で表わされるものである。
一般式[C−4]
−CH−0−Ar
R1’tは水素原子または炭素原子数1から12のアル
キル基を表わし、Arはフェニル基等のアリール基を表
わし、このアリール基は置換基を有するものを含む。置
換基としてはアルキル基、ヒドロキシ基、アルキルスル
ホンアミド基等が挙げられるが、最も好ましいものはt
−ブチル基等の分岐のアルキル基である。
キル基を表わし、Arはフェニル基等のアリール基を表
わし、このアリール基は置換基を有するものを含む。置
換基としてはアルキル基、ヒドロキシ基、アルキルスル
ホンアミド基等が挙げられるが、最も好ましいものはt
−ブチル基等の分岐のアルキル基である。
一般式[C−1]および[C−2]において、それぞれ
Zlで表わされる芳香族第1級アミン系発色現像主話の
酸化体との反応により超脱可能な基は、当業者に知られ
ているものが挙げられ、カプラーの反応性を改質し、ま
たはカプラーから口説して、ハロゲン化銀カラー写真感
光材料中のカプラーを含む塗布圧もしくはその他の層に
おいて、現像抑制、漂白抑制、色補正などの機能を彫た
すことにより有利に作用するものも挙げられる。代表的
なものとしては、例えば塩素、フッ素に代表されるハロ
ゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリール
チオ基、カルバモイルオキシ基、アシルオキシ基、スル
ホニルオキシ基、スルボンアミド基またはへテロイルチ
オ基、ヘテロイルオキシ基などが挙げられる。Zlの特
に好ましいものは、水素原子または塩素原子である。
Zlで表わされる芳香族第1級アミン系発色現像主話の
酸化体との反応により超脱可能な基は、当業者に知られ
ているものが挙げられ、カプラーの反応性を改質し、ま
たはカプラーから口説して、ハロゲン化銀カラー写真感
光材料中のカプラーを含む塗布圧もしくはその他の層に
おいて、現像抑制、漂白抑制、色補正などの機能を彫た
すことにより有利に作用するものも挙げられる。代表的
なものとしては、例えば塩素、フッ素に代表されるハロ
ゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリール
チオ基、カルバモイルオキシ基、アシルオキシ基、スル
ホニルオキシ基、スルボンアミド基またはへテロイルチ
オ基、ヘテロイルオキシ基などが挙げられる。Zlの特
に好ましいものは、水素原子または塩素原子である。
更に具体的には、待同昭50−10135号、同50−
420334号、同50−130441号、同54−4
8237@、同51−146828号、同54−147
36号、同47−37425号、同5〇−123341
号、同58−95346号、特公昭48−36894号
、米国特許3.476、563号、同3,737,31
6号、同3,227.551号各公報に記載されている
。
420334号、同50−130441号、同54−4
8237@、同51−146828号、同54−147
36号、同47−37425号、同5〇−123341
号、同58−95346号、特公昭48−36894号
、米国特許3.476、563号、同3,737,31
6号、同3,227.551号各公報に記載されている
。
以下余白
以下(C一般式[C−l1lで表わされるシアンカブ7
−の代表的具体例を示すが、これらに限定さ九るもので
はないつ Cn)C1sHss SChNH 012比5(n) C−3’2 L 次に一般式[C−2:lで表わされるカプラーの具体例
を示すが、これらに限定されるものではない。
−の代表的具体例を示すが、これらに限定さ九るもので
はないつ Cn)C1sHss SChNH 012比5(n) C−3’2 L 次に一般式[C−2:lで表わされるカプラーの具体例
を示すが、これらに限定されるものではない。
−股式[C−2〕
本発明に好ましく用いられる前記イより一カブラーJ3
よびシアンカプラーは、それぞれハロゲン化銀乳剤層中
にハロゲン化銀1モル当たり、oO5〜2′Iニル程度
、好ましくは01〜1′UOルのし囲で含有せしめられ
る。
よびシアンカプラーは、それぞれハロゲン化銀乳剤層中
にハロゲン化銀1モル当たり、oO5〜2′Iニル程度
、好ましくは01〜1′UOルのし囲で含有せしめられ
る。
前記好ましく併用されるイエ20−カプラーJ3よびシ
アンカプラーをハロゲン化銀乳剤層に添加する方法とし
ては、例えば固体分散法、ラテックス分散法、水中油滴
型乳化分散法、種々の方法を用いることができ、これは
カプラーの化学構造等に応じて適宜選択することができ
る。水中油滴型乳化分散法は、カプラー等の疎水性添加
物を分散させる方法が適用でき、通常、沸点約150℃
以上の高沸点有機溶媒に、必要に応じて低沸点及びまた
は水溶性有改溶媒を併用し溶解し、ゼラヂン水溶液など
の親水性バインダー中に、アニオン性界面活性剤、ノニ
オン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤等の界面活性
剤を用いて撹拌器、ホモジナイザー、コロイドミル、フ
ロージットミキサー、超音波装置等の分散手段を用いて
、乳化分散した後、ハロゲン化銀乳剤層中に添加すれば
よい。分散液または分散と同時に低沸点有機溶媒を除去
する工程を入れても良い。
アンカプラーをハロゲン化銀乳剤層に添加する方法とし
ては、例えば固体分散法、ラテックス分散法、水中油滴
型乳化分散法、種々の方法を用いることができ、これは
カプラーの化学構造等に応じて適宜選択することができ
る。水中油滴型乳化分散法は、カプラー等の疎水性添加
物を分散させる方法が適用でき、通常、沸点約150℃
以上の高沸点有機溶媒に、必要に応じて低沸点及びまた
は水溶性有改溶媒を併用し溶解し、ゼラヂン水溶液など
の親水性バインダー中に、アニオン性界面活性剤、ノニ
オン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤等の界面活性
剤を用いて撹拌器、ホモジナイザー、コロイドミル、フ
ロージットミキサー、超音波装置等の分散手段を用いて
、乳化分散した後、ハロゲン化銀乳剤層中に添加すれば
よい。分散液または分散と同時に低沸点有機溶媒を除去
する工程を入れても良い。
イエローカプラーおよびシアンカプラーを含有する各ハ
ロゲン化銀乳剤層に用いられるハロゲン化銀としては、
臭化銀、沃臭化銀、沃塩化銀、塩臭化銀および塩化銀等
の通常のハロゲン化銀乳剤に使用される任意のものを用
いることができる。
ロゲン化銀乳剤層に用いられるハロゲン化銀としては、
臭化銀、沃臭化銀、沃塩化銀、塩臭化銀および塩化銀等
の通常のハロゲン化銀乳剤に使用される任意のものを用
いることができる。
このハロゲン化銀乳剤層に用いられるハロゲン化銀粒子
は、内部と表面が均一な層から成っていても良いし、異
なる層から成っても良い。また、ハロゲン化銀粒子は、
潜像が主として表面に形成されるような粒子であっても
良く、また主として粒子内部に形成されるような粒子で
も良い。ハロゲン化銀粒子は、規則的な結晶形を持つも
のでも良いし、球状や板状のような変則的な結晶形を持
つものでも良い。これら粒子において、(100)而と
(111)面の比率は任意のものが使用出来る。又、こ
れら結晶形の複合形を持つものでも良く、様々な結晶形
の粒子が混合されても良い。
は、内部と表面が均一な層から成っていても良いし、異
なる層から成っても良い。また、ハロゲン化銀粒子は、
潜像が主として表面に形成されるような粒子であっても
良く、また主として粒子内部に形成されるような粒子で
も良い。ハロゲン化銀粒子は、規則的な結晶形を持つも
のでも良いし、球状や板状のような変則的な結晶形を持
つものでも良い。これら粒子において、(100)而と
(111)面の比率は任意のものが使用出来る。又、こ
れら結晶形の複合形を持つものでも良く、様々な結晶形
の粒子が混合されても良い。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料において、本発明に
係るマゼンタカプラーを含有するハロゲン化銀乳剤層お
よび他のハロゲン化銀乳剤層に用いられるハロゲン化銀
乳剤(以下、本発明のハロゲン化銀乳剤という)に用い
られるハロゲン化銀粒子は、酸性法、中性法、アン、モ
ニア法のいずれかで(qられたものでもよい。該粒子は
一時に成長させても良いし、種粒子をつくった後成長さ
せても良い。種粒ミをつくる方法と成長させる方法は同
じであっても、異なっても良い。
係るマゼンタカプラーを含有するハロゲン化銀乳剤層お
よび他のハロゲン化銀乳剤層に用いられるハロゲン化銀
乳剤(以下、本発明のハロゲン化銀乳剤という)に用い
られるハロゲン化銀粒子は、酸性法、中性法、アン、モ
ニア法のいずれかで(qられたものでもよい。該粒子は
一時に成長させても良いし、種粒子をつくった後成長さ
せても良い。種粒ミをつくる方法と成長させる方法は同
じであっても、異なっても良い。
本発明のハロゲン化銀乳剤の製造時に、必要に応じてハ
ロゲン化銀溶剤を用いる事により、ハロゲン化銀粒子の
粒子サイズ、粒子の形状、粒子サイズ分布、粒子の成長
速度をコントロール出来る。
ロゲン化銀溶剤を用いる事により、ハロゲン化銀粒子の
粒子サイズ、粒子の形状、粒子サイズ分布、粒子の成長
速度をコントロール出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、粒子を形成する過程及び/又は成長させる過程で
、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウ
ム塩又は錯塩、ロジウム塩又は錯塩、鉄塩又は錯塩、を
用いて金属イオンを添加し、粒子内部に及び/又は粒子
表面に包含させる事が出来、また適当な還元的雰囲気に
おく事により、粒子内部及び/又は粒子表面に還元増感
核を付与出来る。
子は、粒子を形成する過程及び/又は成長させる過程で
、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウ
ム塩又は錯塩、ロジウム塩又は錯塩、鉄塩又は錯塩、を
用いて金属イオンを添加し、粒子内部に及び/又は粒子
表面に包含させる事が出来、また適当な還元的雰囲気に
おく事により、粒子内部及び/又は粒子表面に還元増感
核を付与出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀粒子の成長
の終了後に不要な可溶性塩類を除去しても良いし、ある
いは含有させたままで良い。該塩類を除去する場合には
、リサーチディスクロジャー 17643号記載の方法
に基づいて行う事が出来る。
の終了後に不要な可溶性塩類を除去しても良いし、ある
いは含有させたままで良い。該塩類を除去する場合には
、リサーチディスクロジャー 17643号記載の方法
に基づいて行う事が出来る。
本発明のハロゲン化銀fL剤は、常法により化学増感さ
れる。即ち、銀イオンと反応できる硫黄を含む化合物や
、活性ゼラチンを用いる硫黄1(1感法、けレン化合物
を用いるヒレン増感法、還元性物質を用いる還元増感法
、金その他の貴金属化合物を用いる貴金属増感法などを
単独又は組み合わせて用いる事が出来る。
れる。即ち、銀イオンと反応できる硫黄を含む化合物や
、活性ゼラチンを用いる硫黄1(1感法、けレン化合物
を用いるヒレン増感法、還元性物質を用いる還元増感法
、金その他の貴金属化合物を用いる貴金属増感法などを
単独又は組み合わせて用いる事が出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤は、写真業界において、増感
色素として知られている色素を用いて、所望の波長域に
光学的に増感出来る。、増感色素は単独で用いても良い
が、2種以上を粗み合わせて用いでも良い。増感色素と
ともにそれ自身分光増感作用を持たない色素、あるいは
可視光を実質的に吸収しない化合物であって、増感色素
の増感作用を強める強色増感剤を乳剤中に含有させても
良い。
色素として知られている色素を用いて、所望の波長域に
光学的に増感出来る。、増感色素は単独で用いても良い
が、2種以上を粗み合わせて用いでも良い。増感色素と
ともにそれ自身分光増感作用を持たない色素、あるいは
可視光を実質的に吸収しない化合物であって、増感色素
の増感作用を強める強色増感剤を乳剤中に含有させても
良い。
本発明のハロゲン化銀乳剤には、感光材料の製造工程、
保存中、あるいは写真孤埋中のカブリ防止、及び/又は
写真性能を安定に保つ事を目的として化学熟成中、及び
/又は化学熟成の終了時、及び/又は化学熟成の終了後
、ハロゲン化銀乳剤を塗布するまでに、写真業界におい
てカブリ防止剤又は安定剤として知られている化合物を
加える事が出来る。
保存中、あるいは写真孤埋中のカブリ防止、及び/又は
写真性能を安定に保つ事を目的として化学熟成中、及び
/又は化学熟成の終了時、及び/又は化学熟成の終了後
、ハロゲン化銀乳剤を塗布するまでに、写真業界におい
てカブリ防止剤又は安定剤として知られている化合物を
加える事が出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤のバインダー(又は保護コロ
イド)としては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、
それ以外にゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子のグ
ラフトポリマー、蛋白質、糖M ’4体、セルロース誘
導体、単一あるいは共重合体の如き合成親水性高分子物
質等の親水性コロイドも用いる事が出来る。
イド)としては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、
それ以外にゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子のグ
ラフトポリマー、蛋白質、糖M ’4体、セルロース誘
導体、単一あるいは共重合体の如き合成親水性高分子物
質等の親水性コロイドも用いる事が出来る。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層、その
他の親水性コロイド層は、バインダー(又は保護コロイ
ド)分子を架橋させ、膜強度を高める硬膜剤を単独又は
併用することにより硬膜される。硬膜剤は、処理液中に
硬膜剤を加える必要がない程度に、感光材料を硬膜出来
る農添加する事が望ましいが、処理液中に硬膜剤を加え
る事も可能である。
他の親水性コロイド層は、バインダー(又は保護コロイ
ド)分子を架橋させ、膜強度を高める硬膜剤を単独又は
併用することにより硬膜される。硬膜剤は、処理液中に
硬膜剤を加える必要がない程度に、感光材料を硬膜出来
る農添加する事が望ましいが、処理液中に硬膜剤を加え
る事も可能である。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン化銀乳剤
層及び/又は他の親水性コロイド層の柔軟性を高める目
的で可塑剤を添加出来る。
層及び/又は他の親水性コロイド層の柔軟性を高める目
的で可塑剤を添加出来る。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層その他
の親水性コロイド層に寸度安定性の改良などを目的とし
て、水不溶又は難溶性合成ポリマーの分散物(ラテック
ス)を含む事が出来る。
の親水性コロイド層に寸度安定性の改良などを目的とし
て、水不溶又は難溶性合成ポリマーの分散物(ラテック
ス)を含む事が出来る。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の乳剤層間で(同−
感色性層間及び/又は異なった感色性層間)、発色現像
主薬の酸化体又は電子移動剤が移動して色濁りが生じた
り、鮮鋭性の劣化、粒状性が目立つのを防止するために
色カブリ防止剤が用いられる。
感色性層間及び/又は異なった感色性層間)、発色現像
主薬の酸化体又は電子移動剤が移動して色濁りが生じた
り、鮮鋭性の劣化、粒状性が目立つのを防止するために
色カブリ防止剤が用いられる。
本発明に好ましく用いられる色カブリ防止剤としては、
下記一般式[X VI ]で表わされる化合物が挙げら
れる。
下記一般式[X VI ]で表わされる化合物が挙げら
れる。
一般式[XVI]
式中、R44およびR4zはそれぞれ水素原子、アルキ
ル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、シクロア
ルキル基または複素mWを表わす。但し、R午1および
R+zが共に水素原子であることはない。
ル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、シクロア
ルキル基または複素mWを表わす。但し、R午1および
R+zが共に水素原子であることはない。
前記一般式[XVI]において、R44およびR/+2
で表わされるアルキル基としては、例えばメチル、エチ
ル、ロープロピル、i−プロピル、ローブチル、t−ブ
チル、n−アミル、i−アミル、n−オクチル、n−ド
デシル、n−オクタデシルの各基等が挙げられ、特に炭
素数1〜32のアルキル基が好ましい。
で表わされるアルキル基としては、例えばメチル、エチ
ル、ロープロピル、i−プロピル、ローブチル、t−ブ
チル、n−アミル、i−アミル、n−オクチル、n−ド
デシル、n−オクタデシルの各基等が挙げられ、特に炭
素数1〜32のアルキル基が好ましい。
アルケニル基としては例えばアリル、オクテニル、オレ
イルの各基等が挙げられ、特に炭素数2〜32のアルケ
ニル基が好ましい。
イルの各基等が挙げられ、特に炭素数2〜32のアルケ
ニル基が好ましい。
アリール基としては、例えばフェニル、ナフチルの各基
等が挙げられる。
等が挙げられる。
アシル基としては、例えばアセチル、オクタノイル、ラ
ウロイルの各基等が挙げられる。
ウロイルの各基等が挙げられる。
シクロアルキル基としては、例えばシクロヘキシル、シ
クロペンチルの各基等が挙げられる。
クロペンチルの各基等が挙げられる。
複素環基としては、例えばイミダゾリル、フリル、ピリ
ジル、トリアジニル、チアゾリルの各基等が挙げられる
。
ジル、トリアジニル、チアゾリルの各基等が挙げられる
。
R4−1およびR42−で表わされるアルキル基、アル
ケニル基、アリール基、アシル基、シクロアルキル基、
複素環基はそれぞれ置換基を有するものも含む。
ケニル基、アリール基、アシル基、シクロアルキル基、
複素環基はそれぞれ置換基を有するものも含む。
前記一般式[XVI]において、R4a とR42で表
わされる原子または各基のさらに好ましくは、R牛1と
R41が同じ基で互いにp−位であることである。
わされる原子または各基のさらに好ましくは、R牛1と
R41が同じ基で互いにp−位であることである。
本発明に用いられる前記一般式[X VI ]で表わさ
れる化合物の具体例を以下に挙げるが、もちろんこれら
に限定されるものではない。
れる化合物の具体例を以下に挙げるが、もちろんこれら
に限定されるものではない。
(HQ−1) oH
○H
oH
(HQ−6) 。□
oH
oH
(HQI−9) ♀H
oH
(HQ−10)
ν〜 C12H2S(t)
1、 11
(t)H2S C12べど
oH
(HQ−11)oH
oH
oH
oH
H
0H
(HQ−21) 0H
(HQ−26)
(HQ−27)
(HQ−30)
(HQ−31)
(HQ−32)
以下余白
これらの化合物は、り1えばり(ナーチ・ディスクロー
ジャー誌、176号(1978年)の17G43項目の
Wの1に記・戎されている。
ジャー誌、176号(1978年)の17G43項目の
Wの1に記・戎されている。
上記一般式[X Vf ]で示される化合物は、ハロゲ
ン化工ツL剤層、非感光性層のいずれの層にも含有させ
ることができ、その添加0は1?jに制限はないが、好
ましくはI X 10−”〜1 X ’10−4 ’C
ル/(1712である。
ン化工ツL剤層、非感光性層のいずれの層にも含有させ
ることができ、その添加0は1?jに制限はないが、好
ましくはI X 10−”〜1 X ’10−4 ’C
ル/(1712である。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料には、色素画像の劣
化を防止する画像安定剤を用いる字が出来る。
化を防止する画像安定剤を用いる字が出来る。
本発明において好ましく用いられる画像安定剤どしては
、下記一般式[A]〜[)4]及び[J]、[K、]を
挙げることができ、特に前記一般式[゛工]のマゼンタ
カプラーを含有する本発明に係るハロゲン化銀乳剤層に
用いることが好ましい。
、下記一般式[A]〜[)4]及び[J]、[K、]を
挙げることができ、特に前記一般式[゛工]のマゼンタ
カプラーを含有する本発明に係るハロゲン化銀乳剤層に
用いることが好ましい。
一般式[A]
式中、R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
リール基、又は複素環基を表し、R2、R3、R6、R
6はそれぞれ水素原子、ノー10デン原子、ヒドロキシ
基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキ
シ基またはアシルアミ7基をあられし、R4はアルキル
基、ヒドロキシ基、アリール基又はアルコキシ基を表す
。
リール基、又は複素環基を表し、R2、R3、R6、R
6はそれぞれ水素原子、ノー10デン原子、ヒドロキシ
基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキ
シ基またはアシルアミ7基をあられし、R4はアルキル
基、ヒドロキシ基、アリール基又はアルコキシ基を表す
。
又R+とR2は互いに閉環し、5貝または6貝環を形成
してもよく、その時のR4はヒドロキシ基またはアルコ
キシ基をあらj> t、又R3とRイが閉環し、5貝の
炭化水素環を形成してもよく、そのときのR,はアルキ
ル基、アリール基、または複素環基をあられす。但し、
R5が水素原子で、かつ、R1がヒドロキシ基の場合を
除く。
してもよく、その時のR4はヒドロキシ基またはアルコ
キシ基をあらj> t、又R3とRイが閉環し、5貝の
炭化水素環を形成してもよく、そのときのR,はアルキ
ル基、アリール基、または複素環基をあられす。但し、
R5が水素原子で、かつ、R1がヒドロキシ基の場合を
除く。
前記一般式[A]において、RIは水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基または複索環基をあられ
tが、このうち、アルキル基としては、例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、n−オクチル基、tcrt−
オクチル基、ヘキサデシル基などの直鎖±たは分岐のア
ルキル基を挙げることができる。主たR9であられされ
るアルケニル基としては、例えばアリル、ヘキセニル、
オクテニル基などが挙げられる。さらに%R1のアリー
ル基としでは、フェニル、ナフチルの各基が挙げられる
。さらにR4で示さハ、る複素環基としては、テトラヒ
にロビラニル基、ピリミジル基などがへ体的に挙げられ
ろ、これら各基は置換基を有することができ、例えば置
換基を有するアルキル基としてベンジル基、エトキシメ
チル基、置換基をあられすが有するアリール基としてメ
トキシフェニル基、クロルフェニル基、4−ヒドロキシ
−3,5−ジブチルフェニル基などが挙げられるゆ一般
式[A]において、R2、R1、R9およびR1は水素
原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルキル基、アル
ケニル基、アリール基、アルコキシ基またはアシルアミ
7基をあられすが、このうち、アルキル基、アルケニル
基、アリール基については前記R+!二ついて述べたア
ルキル基、アルケニル基、アリール基と同一のものが挙
げられろ、また前記ハロゲン原子としては、例えばフッ
素、塩素、臭素などを挙げることができる。さらにtJ
記アルコキシ基としては、メトキシ基、ニドキシ基など
を具体的に挙げることができる。さらに前記アシルアミ
/基はR’C0NH−で示され、ここにおいて、R′は
アルキル基(例えばメチル、エチル、n−プロピル、D
−ブチル、n−オクチル、tert−オクチル、ベンジ
ルなどの各基)、アルケニル基(例えばアリル、オクテ
ニル、オレイルなどの各基)、アリール基(例えばフェ
ニル、メトキシフェニル、ナフチルなどの各基)、また
はへテロR基(例えばピリジル、ピリミジルの各基)を
挙げることがでトる。
基、アルケニル基、アリール基または複索環基をあられ
tが、このうち、アルキル基としては、例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、n−オクチル基、tcrt−
オクチル基、ヘキサデシル基などの直鎖±たは分岐のア
ルキル基を挙げることができる。主たR9であられされ
るアルケニル基としては、例えばアリル、ヘキセニル、
オクテニル基などが挙げられる。さらに%R1のアリー
ル基としでは、フェニル、ナフチルの各基が挙げられる
。さらにR4で示さハ、る複素環基としては、テトラヒ
にロビラニル基、ピリミジル基などがへ体的に挙げられ
ろ、これら各基は置換基を有することができ、例えば置
換基を有するアルキル基としてベンジル基、エトキシメ
チル基、置換基をあられすが有するアリール基としてメ
トキシフェニル基、クロルフェニル基、4−ヒドロキシ
−3,5−ジブチルフェニル基などが挙げられるゆ一般
式[A]において、R2、R1、R9およびR1は水素
原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルキル基、アル
ケニル基、アリール基、アルコキシ基またはアシルアミ
7基をあられすが、このうち、アルキル基、アルケニル
基、アリール基については前記R+!二ついて述べたア
ルキル基、アルケニル基、アリール基と同一のものが挙
げられろ、また前記ハロゲン原子としては、例えばフッ
素、塩素、臭素などを挙げることができる。さらにtJ
記アルコキシ基としては、メトキシ基、ニドキシ基など
を具体的に挙げることができる。さらに前記アシルアミ
/基はR’C0NH−で示され、ここにおいて、R′は
アルキル基(例えばメチル、エチル、n−プロピル、D
−ブチル、n−オクチル、tert−オクチル、ベンジ
ルなどの各基)、アルケニル基(例えばアリル、オクテ
ニル、オレイルなどの各基)、アリール基(例えばフェ
ニル、メトキシフェニル、ナフチルなどの各基)、また
はへテロR基(例えばピリジル、ピリミジルの各基)を
挙げることがでトる。
また前記一般式[A]において、R4はアルキル基、ヒ
ドロキシ基、アリール基本たばアルコキシ基を表すが、
このうちアルキル基、了り−ル基については、前記R9
で示されるアルキル基、アリール基と同一のものを具体
的に挙げることができる。またR1のアルケニル基につ
いては前記R2、R,、R,お上vR1について述べた
アルコキシ基と同一のものを挙げることができる。
ドロキシ基、アリール基本たばアルコキシ基を表すが、
このうちアルキル基、了り−ル基については、前記R9
で示されるアルキル基、アリール基と同一のものを具体
的に挙げることができる。またR1のアルケニル基につ
いては前記R2、R,、R,お上vR1について述べた
アルコキシ基と同一のものを挙げることができる。
R,とR2は互いに閉環してベンゼン環と共に形成する
環としては、例えばクロマン、クマラン、メチレンジオ
キシベンゼンが挙げられる。
環としては、例えばクロマン、クマラン、メチレンジオ
キシベンゼンが挙げられる。
また、R7とR4が閉環してベンゼン環と共に形成する
環としては、たとえばインダンが挙げられる。これらの
環は、置換基(例えばアルキル、アルコキシ、7リール
)を有しでもよい。
環としては、たとえばインダンが挙げられる。これらの
環は、置換基(例えばアルキル、アルコキシ、7リール
)を有しでもよい。
又、R1とR2、またはRsとR4が閉環して形成する
環中の原子をスピロ原子としてスピロ化合物を形成して
もよいし% R2、R1などを2!!結基として、ビス
体を形成してもよい。
環中の原子をスピロ原子としてスピロ化合物を形成して
もよいし% R2、R1などを2!!結基として、ビス
体を形成してもよい。
前記一般式[Alt’表される7エ/−ル系化合物また
はフェニルエーテル系化合物のうも、好ましいものは、
R〇−基(Rはアルキ、ル基、アルケニ□ ル基、ア
リール基、またはへテロ環基を表す、)を4gA有する
ビインダン化合物であり、特に好ましくは下記一般式[
A−1]で表すことができる。
はフェニルエーテル系化合物のうも、好ましいものは、
R〇−基(Rはアルキ、ル基、アルケニ□ ル基、ア
リール基、またはへテロ環基を表す、)を4gA有する
ビインダン化合物であり、特に好ましくは下記一般式[
A−1]で表すことができる。
一般式[A−1]
式中Rはアルキル基(例えばメチル、エチル、プロピル
、n−オクチル、tart−オクチル、ベンクル、ヘキ
サテ゛シル)、アルケニル基(例えば、アリル、オクテ
ニル、オレイル)、アリール基(例えば、フェニル、ナ
フチル)またはへテロ環基(例えば、テトラヒドロピラ
ニル、ビリミノル)で表される基をあられす、R,およ
びR8゜は各々水素原子、ハロゲン原子、(例えば、フ
ッ素、塩素、臭素)、アルキル基(例えばメチル、エチ
ル、n−ブチル、ペンシル)、アルコキシ基(例えばア
リル、ヘキセニル、オクテニル)、またはアルコキシ基
(例えばメトキシ、エトキシ、ベンジルオキシ)を表し
、R8は水素原子、アルキル基(例えばメチル、エチル
、n−ブチル、ペンシル)、アルケニル基(例えば、2
−プロペニル、ヘキセニル、オクテニル)、またはアリ
ール基(例えばフェニル、メトキシフェニル・クロルフ
ェニル、ナフチル)をat。
、n−オクチル、tart−オクチル、ベンクル、ヘキ
サテ゛シル)、アルケニル基(例えば、アリル、オクテ
ニル、オレイル)、アリール基(例えば、フェニル、ナ
フチル)またはへテロ環基(例えば、テトラヒドロピラ
ニル、ビリミノル)で表される基をあられす、R,およ
びR8゜は各々水素原子、ハロゲン原子、(例えば、フ
ッ素、塩素、臭素)、アルキル基(例えばメチル、エチ
ル、n−ブチル、ペンシル)、アルコキシ基(例えばア
リル、ヘキセニル、オクテニル)、またはアルコキシ基
(例えばメトキシ、エトキシ、ベンジルオキシ)を表し
、R8は水素原子、アルキル基(例えばメチル、エチル
、n−ブチル、ペンシル)、アルケニル基(例えば、2
−プロペニル、ヘキセニル、オクテニル)、またはアリ
ール基(例えばフェニル、メトキシフェニル・クロルフ
ェニル、ナフチル)をat。
前記一般式[A]で表される化合物は、米国特許第3,
935,016号、同第3,982,944号、同第4
.254.216号、特開昭55−21004号、同5
4−145530号、英国特許公開2,077.455
号、同2.062号、888号、米国特許第3,764
,337、同Pt53,432300号、同第3,57
4,627号、同第3,573,050号、特開昭52
−152225号、同53−20327号、同53−1
7729号、同55−6321号、英国特許r:tS1
,347,556号、同公開2 、088 、975号
、特公昭54−12337号、同48−31625号、
米国特許第3,700,455号などに記載の化合物を
も含む。
935,016号、同第3,982,944号、同第4
.254.216号、特開昭55−21004号、同5
4−145530号、英国特許公開2,077.455
号、同2.062号、888号、米国特許第3,764
,337、同Pt53,432300号、同第3,57
4,627号、同第3,573,050号、特開昭52
−152225号、同53−20327号、同53−1
7729号、同55−6321号、英国特許r:tS1
,347,556号、同公開2 、088 、975号
、特公昭54−12337号、同48−31625号、
米国特許第3,700,455号などに記載の化合物を
も含む。
前記一般式[A]で表される化合物の使用量は、マゼン
タカプラーに対して5〜300モル%が好ましく、より
好ましくは10〜200モル%である。
タカプラーに対して5〜300モル%が好ましく、より
好ましくは10〜200モル%である。
以下に前記一般式[A]で表される化合物の代表的具体
例を示す。
例を示す。
タイプ(1)
RI
タイプ(2)
タイプ(3)
タイプ(4)
タイプ(5)
タイプ(6)
R’ Rコ
タイブ(7)
タ イ プ (4)
以下余白
タ イ プ (5)
以下余白
タ イ プ (6)
以下余白
A−7
以下余白
一般式[B]
(式中R+およびR1はそれぞれ水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケ
ニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオ
キシ基、7シル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、
スルホンアミド基、シクロアルキルまたはアルコキシカ
ルボニル基をあられし% R2は水素原子、アルキル基
、アルケニル基、アリール基、7シル基、ジクロフルキ
ル基またはへテロR基をあられし、R1は*素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、了り−ル基、
アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、スルホ
ンアミド基、シクロアルキル基またはアルコキシカルボ
ニル基をあられす。
子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケ
ニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオ
キシ基、7シル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、
スルホンアミド基、シクロアルキルまたはアルコキシカ
ルボニル基をあられし% R2は水素原子、アルキル基
、アルケニル基、アリール基、7シル基、ジクロフルキ
ル基またはへテロR基をあられし、R1は*素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、了り−ル基、
アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、スルホ
ンアミド基、シクロアルキル基またはアルコキシカルボ
ニル基をあられす。
以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基でe換されてもよ
い0例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、7リールオキシ基、ヒどロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、7り−ルオキシカルボニル基、アシ
ルアミ7基、アシルオキシ基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、スルファモイル基などが挙げられる。
い0例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、7リールオキシ基、ヒどロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、7り−ルオキシカルボニル基、アシ
ルアミ7基、アシルオキシ基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、スルファモイル基などが挙げられる。
またR7とR1は互いに閉環し、5貝または6貝環を形
成してもよい、R2とR3が閉環しベンゼン環と共に形
成する環としては例えばクロマン環、メチレンジオキシ
ベンゼン環が挙げられる。
成してもよい、R2とR3が閉環しベンゼン環と共に形
成する環としては例えばクロマン環、メチレンジオキシ
ベンゼン環が挙げられる。
Yはりaマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群をあられす。
原子群をあられす。
クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、ジクロフルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、もしくはヘテロ環で置換されてもよく、
さらにスピロ環を形成してもよい。
基、ジクロフルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、もしくはヘテロ環で置換されてもよく、
さらにスピロ環を形成してもよい。
一般式[B]で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式[B−1]、[B −2]、[B
−33、[B −4]、[B −53で示される化合物
に包含される。
用な化合物は一般式[B−1]、[B −2]、[B
−33、[B −4]、[B −53で示される化合物
に包含される。
一般式[B−1]
K+
一般式[B −2]
に1
一般式[B−3]
一般式[B −4]
一般式[B −5]
に1
一般式[B−1]、[B−21、[B −3]、[B
−4]およゾ[B−51におけるR4、R7、R2およ
びR4は前記一般式[B]におけるのと同じ意味を持ち
、R1、R6、R7、R,、R,およびR+。
−4]およゾ[B−51におけるR4、R7、R2およ
びR4は前記一般式[B]におけるのと同じ意味を持ち
、R1、R6、R7、R,、R,およびR+。
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基
、ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、
了り−ル基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基をあ
られす。
、ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、
了り−ル基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基をあ
られす。
さらにR1とRい R6とRア、R7とR,S R,と
R,およびR1とR3゜とが互いに環化して炭素環を形
成してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換され
てもよい。
R,およびR1とR3゜とが互いに環化して炭素環を形
成してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換され
てもよい。
前記一般式[B−1]、[B−23、[B−3]、[B
−4]および[B −5]においてR,およびR、が
水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基ま
たはシクロアルキル基% R5、R6、R2、Rs、R
=お上vR,oが水素原子、アルキル基、またはシクロ
アルキル基である化合物が衿に有用である。
−4]および[B −5]においてR,およびR、が
水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基ま
たはシクロアルキル基% R5、R6、R2、Rs、R
=お上vR,oが水素原子、アルキル基、またはシクロ
アルキル基である化合物が衿に有用である。
一般式[i3]で表される化合物はテトラヘドロン(T
ctrahedron)、1970.vo12B、47
43−4751頁、日本化学会誌、1972.)4o1
0,0987−1990頁、ケミカル(chew、Le
tL、)、1972(4)315−316頁、待1m昭
55−139383号に記載されている化合物を表し、
含み、かつこれらに記載されている方法に従って合成す
ることができる。
ctrahedron)、1970.vo12B、47
43−4751頁、日本化学会誌、1972.)4o1
0,0987−1990頁、ケミカル(chew、Le
tL、)、1972(4)315−316頁、待1m昭
55−139383号に記載されている化合物を表し、
含み、かつこれらに記載されている方法に従って合成す
ることができる。
前記一般式[B]l!2される化合物のうち使用量は、
前記本発明乳剤係るマゼンタカプラーに対して5〜30
0モル%該好ましく、より好虫しくは10〜200モル
%である。
前記本発明乳剤係るマゼンタカプラーに対して5〜30
0モル%該好ましく、より好虫しくは10〜200モル
%である。
以下にこれらの化合物の代表的具体例を示す。
以下余白
一般式[C]
R’
R′
一般式[DJ
R+
式中R1およびR2は水素原子、ハロゲン原子、フルキ
ル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ
基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホンア
ミド基もしくはアルコキシカルボニル基をあられす。
ル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ
基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホンア
ミド基もしくはアルコキシカルボニル基をあられす。
以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもよ
い0例えばハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、7
シルアミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ス
ルファモイル基などが挙げられる。
い0例えばハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、7
シルアミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ス
ルファモイル基などが挙げられる。
Yはベンゼン環と共にシクロマンもしくはシクマラン環
を形成するのに必要な原子群をあられす。
を形成するのに必要な原子群をあられす。
クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されてもよく、
さらにスピロ環を形成してもよい。
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されてもよく、
さらにスピロ環を形成してもよい。
一般式IC]および[DJで示される化合物のうち、本
発明に特に有月な化8物は一般式[C−1]。
発明に特に有月な化8物は一般式[C−1]。
[C−2]、[D−1]および[D −2]で示される
化合物に包含される。
化合物に包含される。
一般式[C−1]
一般式[C−2]
R4
h+
一般式[D−1]
一般式[D−2]
一般式に−11,EC−21,[D−1]および[D−
2]におけるR、およびR2は前記一般式[CIおよび
[DIにおけるのと同じ意味を持ち、Ri、iL、R,
、R1、R1およゾR8は水′X原子、ハロゲン原子、
アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アルケニル
基、アリールオキシ基、アリール基、アリールオキシ基
もしくはヘテロ環基をあられす、さらにR1とR,、R
,とR1、R6とR6、R6とRアおよびR1とR6と
が互いに環化して炭素環を形成しても上く、さらに該炭
素環はアルキル基で置換されてもよい。
2]におけるR、およびR2は前記一般式[CIおよび
[DIにおけるのと同じ意味を持ち、Ri、iL、R,
、R1、R1およゾR8は水′X原子、ハロゲン原子、
アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アルケニル
基、アリールオキシ基、アリール基、アリールオキシ基
もしくはヘテロ環基をあられす、さらにR1とR,、R
,とR1、R6とR6、R6とRアおよびR1とR6と
が互いに環化して炭素環を形成しても上く、さらに該炭
素環はアルキル基で置換されてもよい。
前記一般式[C−1]、[C−2]、[D−コ]および
[D−21荷おいて、R,およびR2が水素原子、フル
キル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基またはシクロアル
キル基、R,1,R,、R6、R6、R7およVF6が
水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基である
化合物が時に有用である。
[D−21荷おいて、R,およびR2が水素原子、フル
キル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基またはシクロアル
キル基、R,1,R,、R6、R6、R7およVF6が
水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基である
化合物が時に有用である。
一般式[CI、[DIで表される化合物は日本化学学会
誌(J、 Chew、 Soc、 part C) 1
96B、(14)、 1937〜18頁、有概合成化字
協会誌1970.28(1)、 60〜65頁、テトラ
ヘドロン(Tetrabeciron Letters
)1973、 (29)、2707〜2710頁に記載
されている化合物を含み、かつこれらに記載されている
方法に従うて合成することができる。
誌(J、 Chew、 Soc、 part C) 1
96B、(14)、 1937〜18頁、有概合成化字
協会誌1970.28(1)、 60〜65頁、テトラ
ヘドロン(Tetrabeciron Letters
)1973、 (29)、2707〜2710頁に記載
されている化合物を含み、かつこれらに記載されている
方法に従うて合成することができる。
前記一般式EC]、[DIで表される化合物の使眉量は
、前記本発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜30
0モル%が好ましく、より好ましくは10〜200モル
%である。
、前記本発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜30
0モル%が好ましく、より好ましくは10〜200モル
%である。
以下にこれらの化合物の具体的代表例を示す。
以下余白
以下余白
一般式(E)
R2Rコ
式中R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、了り
−ル基、アシル基、シクロアルキル基もしくはヘテロ環
基を表わし、R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルアミノ基、7シルオキシ基、スルホンア
ミド基、ジクロフルキル基もしくはアルコキシカルボニ
ル基を表わす。
−ル基、アシル基、シクロアルキル基もしくはヘテロ環
基を表わし、R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルアミノ基、7シルオキシ基、スルホンア
ミド基、ジクロフルキル基もしくはアルコキシカルボニ
ル基を表わす。
R2お上りR4は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
、アルケニル基、了り−ル基、アシル基、アシルアミ7
基、スルホンアミド基、シクロアルキル基もしくはアル
フキジカルボニル基を表わす6以上にあげた基はそれぞ
れ他の置換基で置換されていてもよい。例えばアルキル
基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、了り−
ルオキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、
7リールオキシカルボニル基、アシルアミ7基、カルバ
モイル基、スルホンアミド基、スルファモイル基等が挙
げられる。
、アルケニル基、了り−ル基、アシル基、アシルアミ7
基、スルホンアミド基、シクロアルキル基もしくはアル
フキジカルボニル基を表わす6以上にあげた基はそれぞ
れ他の置換基で置換されていてもよい。例えばアルキル
基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、了り−
ルオキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、
7リールオキシカルボニル基、アシルアミ7基、カルバ
モイル基、スルホンアミド基、スルファモイル基等が挙
げられる。
またR1 とR2は互いに閉環し、5貝*たは6貝環を
形成してもよい。
形成してもよい。
その時R1およびR4は水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキ
シ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、
アシル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホン
アミド基もしくはアルコキシカルボニル基を表わす。
キル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキ
シ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、
アシル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホン
アミド基もしくはアルコキシカルボニル基を表わす。
Yはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群を表わす。
原子群を表わす。
クロマンもしくはクマラン環はノ10ゲン原子、アルキ
ル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基
、アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、ア
リールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されでいても
よく、さら1ニスピロ環を形成してもよい。
ル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基
、アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、ア
リールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されでいても
よく、さら1ニスピロ環を形成してもよい。
一般式(E)で示される化合物のうち、本発明に待に有
用な化合物は一般式(E−1)。
用な化合物は一般式(E−1)。
(E−2)、(E−3)、(E−4)および(E−5)
で示される化合物に包含される。
で示される化合物に包含される。
一般式[E−1]
RI
It”
一般式(E−2)
R1
一般式(E−3)
一般式(E−4)
a
一般式(E−51
一般式(E−1)−(E−5)におけるR1、R2、R
3およびR4は前記一般式(E)におけるのと同じ意味
を持ち、R’、R’、R?、R1,R”お上りRloは
水素原子、ノ為ロデン原子、アルキル基、アルコキシ基
、ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、
アリール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基を表
わす、さらにR5とR“、R6とRフ、RフとR1、R
”とR自およびR嘗とR111とが互いに環化して炭素
環を形成してもよく、さらに該R素環はアルキル基で置
換されでもよい。
3およびR4は前記一般式(E)におけるのと同じ意味
を持ち、R’、R’、R?、R1,R”お上りRloは
水素原子、ノ為ロデン原子、アルキル基、アルコキシ基
、ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、
アリール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基を表
わす、さらにR5とR“、R6とRフ、RフとR1、R
”とR自およびR嘗とR111とが互いに環化して炭素
環を形成してもよく、さらに該R素環はアルキル基で置
換されでもよい。
前記一般式(E−1)〜(E−5)において、R1,R
”、R3およびR4が水素原子、アルキル基、またはシ
クロアルキル基、前記一般式(E−5)において、R1
お上りR4が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒ
ドロキシ基またはシクロアルキル基、さらに前記一般式
(E−13〜(E−5)ニオイテ、Rs、 R’、 R
’、 Ra、 R’およびRIoが水素原子、アルキル
基、またはシクロアルキル基である化合物が特に有用で
ある。
”、R3およびR4が水素原子、アルキル基、またはシ
クロアルキル基、前記一般式(E−5)において、R1
お上りR4が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒ
ドロキシ基またはシクロアルキル基、さらに前記一般式
(E−13〜(E−5)ニオイテ、Rs、 R’、 R
’、 Ra、 R’およびRIoが水素原子、アルキル
基、またはシクロアルキル基である化合物が特に有用で
ある。
一般式[E]により表される化合物はテトラヘドロン(
Tetrahedron Letters) 1965
.(8)、457−460頁日本化学学会誌(J、 C
hem、 Soc、 part C) 1966゜(2
2)、 2013−2016TX、 (Zh、Org、
Khim) 1970.(6)。
Tetrahedron Letters) 1965
.(8)、457−460頁日本化学学会誌(J、 C
hem、 Soc、 part C) 1966゜(2
2)、 2013−2016TX、 (Zh、Org、
Khim) 1970.(6)。
1230〜1237頁に記載されている化合物を含み・
力iつこれらに記載されている方法に従って合成するこ
とができる。
力iつこれらに記載されている方法に従って合成するこ
とができる。
前記一般式[E−11で表される化合物の使用量は、前
記本発明に係る7ゼンタカプラーに対して5〜300モ
ル%が好ましく、より好ましくは10〜200モル%で
ある。
記本発明に係る7ゼンタカプラーに対して5〜300モ
ル%が好ましく、より好ましくは10〜200モル%で
ある。
以下にこれらの化合物の具体的代表例を示す。
以下余白
一般式CF)
R’ Rり
式中R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アシル基、シクロアルキル基もしくはヘテロ環
基を表し9、R2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホンア
ミド基、シクロアルキル基、6しくはアルコキシカルボ
ニル基をあられす。
ール基、アシル基、シクロアルキル基もしくはヘテロ環
基を表し9、R2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホンア
ミド基、シクロアルキル基、6しくはアルコキシカルボ
ニル基をあられす。
R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基、アシル基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、シクロアルキル基もしくはアルコキシカル
ボニル基を島られす。
ル基、アリール基、アシル基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、シクロアルキル基もしくはアルコキシカル
ボニル基を島られす。
l(4は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アルコキン基、アルケニルオキシ基、ヒドロキ
シ基、アリール基、7リールオキシ基、アシル基、アシ
ルアミ/基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、もし
くはアルコキシカルボニル基をあられす。
ニル基、アルコキン基、アルケニルオキシ基、ヒドロキ
シ基、アリール基、7リールオキシ基、アシル基、アシ
ルアミ/基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、もし
くはアルコキシカルボニル基をあられす。
以上に挙げた基はそれぞれ他の醒換基で置換されてもい
い0例疋1rアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基
、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
シルアミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ス
ルファモイル基などが挙げられる。
い0例疋1rアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基
、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
シルアミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ス
ルファモイル基などが挙げられる。
又R1とR2は互いに閉環し、5貝または6貝環を形成
してもよい、その時R,bよびR1は水素原子% ハt
l’ン[子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基
、アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、ア
リールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アシルオ
キシ基、スルホンアミド基、もしくはアルコキシカルボ
ニル基をあらゎす。
してもよい、その時R,bよびR1は水素原子% ハt
l’ン[子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基
、アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、ア
リールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アシルオ
キシ基、スルホンアミド基、もしくはアルコキシカルボ
ニル基をあらゎす。
Y バクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要
な原子群をあられす。
な原子群をあられす。
クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もし、<はヘテロ環基でご換されていても
よしさらにスピロ環を形成してもよい。
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もし、<はヘテロ環基でご換されていても
よしさらにスピロ環を形成してもよい。
一般式[F]で示される化合倫のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式[F−17、[F−2]、[F −
3]、[F−4]およV[F −5]で示される化合物
に包含される。
用な化合物は一般式[F−17、[F−2]、[F −
3]、[F−4]およV[F −5]で示される化合物
に包含される。
以下余白
一般式[F−1)
一般式(F−2)
一般式(F−3)
一般式CF−4)
一般式CF−53
一般式[F−1]および[F −5]におけるR1、R
2、R3およびR4は前記一般式[F]におけるのと同
じ意味を持ち、R6、R6、R7、R1、R9およりR
8゜は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキ
シ基、ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ
基、了り−ル基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基
をあられす。
2、R3およびR4は前記一般式[F]におけるのと同
じ意味を持ち、R6、R6、R7、R1、R9およりR
8゜は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキ
シ基、ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ
基、了り−ル基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基
をあられす。
さらにR1とRい R,とR1、R1とR6、R,とR
1およびR1とRIOとが互いに環化して炭素環を形成
してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換されて
もよい。
1およびR1とRIOとが互いに環化して炭素環を形成
してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換されて
もよい。
また[F−3]、[F−4]および[F−5]において
2つのR8−R1゜はそれぞれ同一でも異なっていても
よい。
2つのR8−R1゜はそれぞれ同一でも異なっていても
よい。
前記一般式[F−1]、[F” −2]、[F−3]、
[F −4]および[F −5]においてR1、R7、
およびR3が水素原子、アルキル基、シクロアルキル基
% R4が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒド
ロキシ基またはシクロアルキル基、さらにR9、R6、
R1、RいR9およびR1゜が水素原子、アルキル基、
またはシクロアルキル基である化合物が特に有用である
。
[F −4]および[F −5]においてR1、R7、
およびR3が水素原子、アルキル基、シクロアルキル基
% R4が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒド
ロキシ基またはシクロアルキル基、さらにR9、R6、
R1、RいR9およびR1゜が水素原子、アルキル基、
またはシクロアルキル基である化合物が特に有用である
。
一般式[F]により表される化合物はテトラヘドロン(
Tetrahedron Letters) 1970
y Vol 26+4743〜4751頁、日本化学学
会誌1972. No、10.1987〜1990i、
シンセサイズ(Synthesis) 197L Vo
l L392−393頁、 (Bul Soe、
Chin@ Delg ) 1975. Va
t84(7)、 747〜759真に記載されている化
合物を含み、かつこれらに記載されている方法に従って
合成することができる。
Tetrahedron Letters) 1970
y Vol 26+4743〜4751頁、日本化学学
会誌1972. No、10.1987〜1990i、
シンセサイズ(Synthesis) 197L Vo
l L392−393頁、 (Bul Soe、
Chin@ Delg ) 1975. Va
t84(7)、 747〜759真に記載されている化
合物を含み、かつこれらに記載されている方法に従って
合成することができる。
前記一般式[F]で表される化合物の使用量は、前記本
発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜300モル%
が好ましく、より好ましくは10〜200モル%である
。
発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜300モル%
が好ましく、より好ましくは10〜200モル%である
。
以下に一般式[F]で表される化合物の具体的代表例を
示す。
示す。
以下余白
一般式CG)
R
式中R1及IR1は、それぐれ水素原子、ノ)ロデン原
子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロ
キシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、ア
シルアミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、シ
クロアルキル基またはアルフキジカルボニル基を表す。
子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロ
キシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、ア
シルアミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、シ
クロアルキル基またはアルフキジカルボニル基を表す。
R2は水素原子、ノーロデン原子、アルキル基、アルケ
ニル基、ヒドロキシ基、アリール基、アシル基、アシル
アミ7基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、シクロ
アルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す。
ニル基、ヒドロキシ基、アリール基、アシル基、アシル
アミ7基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、シクロ
アルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す。
上に挙げた基は、それぞれ他の置換基で置換されてもよ
い、置換基として、例えばアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリール基、了り一ルオキシ基、ヒドロ
キシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、アシルアミ/基、カルバモイル基、スルホン
アミド基、スルファモイル基等が挙げられる。
い、置換基として、例えばアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリール基、了り一ルオキシ基、ヒドロ
キシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、アシルアミ/基、カルバモイル基、スルホン
アミド基、スルファモイル基等が挙げられる。
またR2とlじは互いに閉環し、5Iまたは6貝の炭化
水素環を形成してもよい。この511主たは6貝の炭化
水素環はハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基
、アルコキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アリー
ル基、アリールオキシ基またはへテロ環基等で置換され
てもよい。
水素環を形成してもよい。この511主たは6貝の炭化
水素環はハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基
、アルコキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アリー
ル基、アリールオキシ基またはへテロ環基等で置換され
てもよい。
Yはインゲン環を形成するのに必要な原子群を表す、イ
ンゲン環はハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、シクロアルキル基、ヒドロキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基、またはへテロ環基等で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成してもよい。
ンゲン環はハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、シクロアルキル基、ヒドロキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基、またはへテロ環基等で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成してもよい。
一般式CG)で示される化合物の中、本発明に特に有用
な化合物は−・般式[G−1’l〜rG−3]で示され
る化合物に包含される。。
な化合物は−・般式[G−1’l〜rG−3]で示され
る化合物に包含される。。
一般式CG−1)
一般式[G−2)
一般式(G−3)
一般式[G−1]〜[G−3〕におけろR’ 、 R2
及びR3は一般式〔G)I:おけるものと同義″C′あ
り、R’tR5yR’+R’tR″及びR5は、そhe
れ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基
、アルケニル基、ヒドロキシ基、アリール基、アリール
オキシ基土たはへテロ環基を表す、R1とR’、R5と
Ra、R’とR’S R’とR”及!/R1とR”は互
いに閉環して炭化水素環を形成してもよく、更に該炭化
水素環はアルキル基で置換さ八てもよい。
及びR3は一般式〔G)I:おけるものと同義″C′あ
り、R’tR5yR’+R’tR″及びR5は、そhe
れ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基
、アルケニル基、ヒドロキシ基、アリール基、アリール
オキシ基土たはへテロ環基を表す、R1とR’、R5と
Ra、R’とR’S R’とR”及!/R1とR”は互
いに閉環して炭化水素環を形成してもよく、更に該炭化
水素環はアルキル基で置換さ八てもよい。
前記一般式(G−13〜(G−3:Iにおいで、R1及
びR3が水素原子、フルキル基、フルフキシ基、ヒドロ
キシ基またはジクロフルキル基% R2が水素原子、ア
ルキル基、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、R’
、R’、R・、R’、R1及(/R’!+(水素原子、
フルキル基またはシクロアルキル基である化合物が特に
有用である。
びR3が水素原子、フルキル基、フルフキシ基、ヒドロ
キシ基またはジクロフルキル基% R2が水素原子、ア
ルキル基、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、R’
、R’、R・、R’、R1及(/R’!+(水素原子、
フルキル基またはシクロアルキル基である化合物が特に
有用である。
前記一般式[G]で表される化合物のうち使用量は、マ
ゼンタカプラーに対して5〜300モル%が好ましく、
より好ましくは10〜200モル%である。
ゼンタカプラーに対して5〜300モル%が好ましく、
より好ましくは10〜200モル%である。
以下に一般式[G]で212iLれる化合物の代表的具
体例を示す。
体例を示す。
以下余白
一般式(H)
′に″
式中R1及1/R”は、それぞれ水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基
、アシルアミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基
、ジクロフルキル基またはアルコキシカルボニル基を表
す。
子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基
、アシルアミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基
、ジクロフルキル基またはアルコキシカルボニル基を表
す。
R3は水素原子、ハロゲン原子、フルキル基、アルケニ
ル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アシルオキ
シ基、スルホンアミド基、シクロアルキル基またはアル
コキシカルボニル基を表す。
ル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アシルオキ
シ基、スルホンアミド基、シクロアルキル基またはアル
コキシカルボニル基を表す。
上に挙げた基は、それぞれ他の置換基で置換されてもよ
く、例えばフルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、7リールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ル7ミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スル
ファモイル基等が苧げられる。
く、例えばフルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、7リールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ル7ミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スル
ファモイル基等が苧げられる。
虫たI?’とR2及びR2とl’i()は互いに閉環し
、5貝または6貝の炭化水素環を形成してもよく、該炭
化水素環はハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル
基、アルコキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、7リ
ール基、7リールオキシ基、ヘテロ環基等で置換されて
もよい。
、5貝または6貝の炭化水素環を形成してもよく、該炭
化水素環はハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル
基、アルコキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、7リ
ール基、7リールオキシ基、ヘテロ環基等で置換されて
もよい。
Yはインゲン環を形成するのに必要な原子群を表し、該
インダン環は上記炭化水素環を置換し得る置換基で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成してもよい。
インダン環は上記炭化水素環を置換し得る置換基で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成してもよい。
一般式[H]で示される化合物の中、本発明に特に有用
な化合物は一般式(H−1)〜[H−2]で示される化
合物に包含される。
な化合物は一般式(H−1)〜[H−2]で示される化
合物に包含される。
一般式(H−23
一般式(H−33
一般式(H−1)〜(H−3)におけるR’、R2及び
R’は一般式(H)におけるものと同義であり、R’、
R’、R’、R7,Ri及(FR@は、それぞれ水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロ
キシ基、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基
またはへテロ環基を表す、またR4とR’% R’とR
i、R6とR1、RiとR”及びR3とR1は互いに閉
環して炭化水素環を形成してもよく、更に該炭化水素環
はアルキル基で置換されてもよい。
R’は一般式(H)におけるものと同義であり、R’、
R’、R’、R7,Ri及(FR@は、それぞれ水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロ
キシ基、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基
またはへテロ環基を表す、またR4とR’% R’とR
i、R6とR1、RiとR”及びR3とR1は互いに閉
環して炭化水素環を形成してもよく、更に該炭化水素環
はアルキル基で置換されてもよい。
前記一般式(H−1)−(H−3)において、R1及び
R2がそれぞれ水素原子、アルキル基またはジクロフル
キル基% R3が水素原子、アルキル基、アルコキシ基
、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基1.R’、Ri
、R’、Ri、Ra及tpR”が、ツレぞれ水素原子、
フルキル基またはシクロアルキル基である化合物が特に
有用である。
R2がそれぞれ水素原子、アルキル基またはジクロフル
キル基% R3が水素原子、アルキル基、アルコキシ基
、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基1.R’、Ri
、R’、Ri、Ra及tpR”が、ツレぞれ水素原子、
フルキル基またはシクロアルキル基である化合物が特に
有用である。
前記一般式[H,]で表される化合物の合成方法は既知
であって、米国特許3.057929号、Chell。
であって、米国特許3.057929号、Chell。
B er、 1972. 95(5)t isフ
3〜16フ4頁、 Chemist−ry L ct
ters* 1980,739−742頁に従って製
造できる。
3〜16フ4頁、 Chemist−ry L ct
ters* 1980,739−742頁に従って製
造できる。
前記一般式[H]で衰される化合物マゼンタカプラーに
対して5〜300モル%が好ましく、より好忠しくは1
0〜200モル%である。
対して5〜300モル%が好ましく、より好忠しくは1
0〜200モル%である。
以下に一般式[)11で表される具体的代表例を示す。
以下余白
〔式中、R1はHIji族基、シクロアルキル基または
アリール基を表し、Yは窒素原子と共に5〜7貝環の複
素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す、但し、
該複索環を形成する窒素原子を含む非命14原子中、2
以上のへタロ原子がある場合、少なくとも2つのへテロ
原子は互いに隣接しないヘテロ原子である。〕 Rで表される脂肪族基としては、置換基を有してもよい
飽和アルキル基、及び置換基を有してもよい不飽和フル
キル基が挙げられる。fQ和アルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデ
シル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ
、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基、プ
ロペニル基等が挙げられる。
アリール基を表し、Yは窒素原子と共に5〜7貝環の複
素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す、但し、
該複索環を形成する窒素原子を含む非命14原子中、2
以上のへタロ原子がある場合、少なくとも2つのへテロ
原子は互いに隣接しないヘテロ原子である。〕 Rで表される脂肪族基としては、置換基を有してもよい
飽和アルキル基、及び置換基を有してもよい不飽和フル
キル基が挙げられる。fQ和アルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデ
シル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ
、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基、プ
ロペニル基等が挙げられる。
R1で表されるジクロフルキル基としでは、置換基を有
してもよい5〜7只のシクロアルキル基で例えば、シク
ロペンチル基、シクロアキル基等が挙げられる。
してもよい5〜7只のシクロアルキル基で例えば、シク
ロペンチル基、シクロアキル基等が挙げられる。
R’で表されるアリール基としては、それぞれf1換基
を有してもよいフェニル基、ナフチル基を表土。
を有してもよいフェニル基、ナフチル基を表土。
R’で表される脂肪族基、シクロアルキル基、了り−ル
基の置換基としては、アルキル基、アリール基、フルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、7シルアミ7
基、スルファモイル基、スルホンアミド基、カルボニル
オキシ基、フルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置換
基を有してもよい。
基の置換基としては、アルキル基、アリール基、フルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、7シルアミ7
基、スルファモイル基、スルホンアミド基、カルボニル
オキシ基、フルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置換
基を有してもよい。
前記一般式(J)において、Yは窒素原子と共に5〜7
貝環の複葉環を形成するのに必要な非金属原子群を表す
が、該複素環を形成する窒素原子を含む非金属原子群の
少な(とも2つはへテロ原子でなければならず、また、
この少なくとも2つのヘテaR子は互いに隣接してはな
らない、一般式(J)で表される化合物の複素環におい
で、全てのヘテロ原子が互いに隣接した場合は、マゼン
タ色素画像安定化剤としての機能を発揮することが出来
ないので好ましくない。
貝環の複葉環を形成するのに必要な非金属原子群を表す
が、該複素環を形成する窒素原子を含む非金属原子群の
少な(とも2つはへテロ原子でなければならず、また、
この少なくとも2つのヘテaR子は互いに隣接してはな
らない、一般式(J)で表される化合物の複素環におい
で、全てのヘテロ原子が互いに隣接した場合は、マゼン
タ色素画像安定化剤としての機能を発揮することが出来
ないので好ましくない。
前記一般式(J)で表される化合物の前記5〜7貫環の
複葉環は置換基を有してもよく、置換基としては、アル
キル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、フル
キルスルホニル基、スルホニル基、スル77モイル基等
であり、更に置換基を有してもよい、また、該5〜7貝
環のvl素環は飽和であってもよいが、飽和の複索環が
好ましい。又、該複素環にベンゼン環等が縮合していて
もよ(、スピロ環を形成してもよい。
複葉環は置換基を有してもよく、置換基としては、アル
キル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、フル
キルスルホニル基、スルホニル基、スル77モイル基等
であり、更に置換基を有してもよい、また、該5〜7貝
環のvl素環は飽和であってもよいが、飽和の複索環が
好ましい。又、該複素環にベンゼン環等が縮合していて
もよ(、スピロ環を形成してもよい。
本発明の前記一般式(J)で衰される化合物の使用量は
、本発明の前記一般式(I)で表されるマゼンタカプラ
ーに対して5〜300モル%が好ましく、より好ましく
は10・−200モル%である。
、本発明の前記一般式(I)で表されるマゼンタカプラ
ーに対して5〜300モル%が好ましく、より好ましく
は10・−200モル%である。
以下に一般式(J)で表される代表的具体例を示す。
J−63
J−64
C1コ1125
前記一般式(J)で表される化合物の中で、ピペラジン
系化合物及びホモビベラノン系化合物は特に好ましく、
さらに好ましくは、下記一般式( J−1 )または(
J−2 )で表されろ化合物である。
系化合物及びホモビベラノン系化合物は特に好ましく、
さらに好ましくは、下記一般式( J−1 )または(
J−2 )で表されろ化合物である。
一般式( J−1 )
一般式( J−2 )
式中、Rz及びR’は、それぞれ水素原子、アルキル基
またはアリール基を表す.但し、R2とR3が同時に水
素となることはない.R4〜R”は、それぐれ水素原子
、アルキル基または了りール基を表す。
またはアリール基を表す.但し、R2とR3が同時に水
素となることはない.R4〜R”は、それぐれ水素原子
、アルキル基または了りール基を表す。
前記一般式(J−1)及び[:J−2]においてR友及
びR2は、それぞれ水素原子、アルキル基またはアリー
ル基を表すが、R1たはRコで!2されるアルキル基と
しでは、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オク
チル基、ドデシル基、テトラデンル基、ヘキサデンル基
、オクタデシル基等が挙げられる R2またはR3で太
されるアリール基としては、フェニル基等が挙げられる
dR2またはR3で表されるアルキル基、アリール基は
置換基を有してもよく、置換基としては、ハロゲン原子
、アルキル基、アリール基、フルコキシ基、アリールオ
キシ基、複素環基等が挙げられる。
びR2は、それぞれ水素原子、アルキル基またはアリー
ル基を表すが、R1たはRコで!2されるアルキル基と
しでは、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オク
チル基、ドデシル基、テトラデンル基、ヘキサデンル基
、オクタデシル基等が挙げられる R2またはR3で太
されるアリール基としては、フェニル基等が挙げられる
dR2またはR3で表されるアルキル基、アリール基は
置換基を有してもよく、置換基としては、ハロゲン原子
、アルキル基、アリール基、フルコキシ基、アリールオ
キシ基、複素環基等が挙げられる。
R2とR責置換基を含む)の炭素原子数の合計は6〜4
0が好ましい。
0が好ましい。
前記一般式( J−1 )または( J−2 )におい
て、R4〜R1′は、それぞれ水素原子、アルキル基ま
たはアリール基を衰tが、R4〜R”で表されるフルキ
ル基としては、例えば、メチル基、エチル基等が挙げら
れる.R4〜R1’で表されるアリール基としてはフェ
ニル基等が挙げられる。
て、R4〜R1′は、それぞれ水素原子、アルキル基ま
たはアリール基を衰tが、R4〜R”で表されるフルキ
ル基としては、例えば、メチル基、エチル基等が挙げら
れる.R4〜R1’で表されるアリール基としてはフェ
ニル基等が挙げられる。
前記一般式(J−1)または(J−2)で表される化合
物の具体例は、前記した例示ピペラジン系化合物(J−
1)〜(J−30)及び例示ホモピペラジン系化合物(
J−51)〜(J−62)の中に記載した通りである。
物の具体例は、前記した例示ピペラジン系化合物(J−
1)〜(J−30)及び例示ホモピペラジン系化合物(
J−51)〜(J−62)の中に記載した通りである。
次に、前記一般式(J)で表される本発明の代表的なマ
ゼンタ色@画像安定化剤の合成例を示す。
ゼンタ色@画像安定化剤の合成例を示す。
合成例−1(化合物J−2の合成)
ピペラジン9.08及びミリスチルブロマイド55gを
溶解した100m1のアセトン中に、無水炭酸カリウム
15gを加え、10時間煮沸還流して反lsさせた。
溶解した100m1のアセトン中に、無水炭酸カリウム
15gを加え、10時間煮沸還流して反lsさせた。
反応後、反応液を500mfの水にあけた後、酢酸エチ
ル500m/で抽出した。酢酸エチル屑を硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると、白色結晶の目
的物が得られた。アセトン300m1で再結晶して、白
色鱗片状の結晶34g(収率70%)を得た。
ル500m/で抽出した。酢酸エチル屑を硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると、白色結晶の目
的物が得られた。アセトン300m1で再結晶して、白
色鱗片状の結晶34g(収率70%)を得た。
融点55〜58℃
合成例−2(化合物J−34の合成)
4−モルホリノアニリ”718gを酢酸エチル100諺
!に溶解した後、攪拌下、反応液を20℃に保ちながら
、無水酢酸12s+1’を少しずつ加えた。無水酢酸添
加後、水冷し、析出する結晶をろ取した後、酢酸エチル
で再結晶し、白色粉末状結晶18.5g(収率75%)
を得た。
!に溶解した後、攪拌下、反応液を20℃に保ちながら
、無水酢酸12s+1’を少しずつ加えた。無水酢酸添
加後、水冷し、析出する結晶をろ取した後、酢酸エチル
で再結晶し、白色粉末状結晶18.5g(収率75%)
を得た。
融点207〜210℃
一般式(K)
式中、R1は脂肪族基、シクロアルキル基またはアリー
ル基を表し、Yは窒素原子と共に5〜7貝環の複″X環
を形成するのに必要な単なる結合手または2価の炭化水
素基を表す、 R”、R”、I?4tR’、R@、R?
は、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロアルキル基ま
たはアリール基を表す、但し、R2とR4及びR3とR
6は互いに結合して単なる結合手を形成して窒素原子、
Yと共に不飽和の5〜7Jl環の複索環を形成してもよ
い、また、Yが単なる結合手のときは、R6とR?が互
いに結合して単なる結合手を形成して窒素原子、Yと共
に不飽和の5貝環の複f8環を形成してもよい。また、
Yが単なる結合手でないときは、R5とY、R’とYま
たはY自身で不飽和結合を形成して窒象原子、Yと共に
不飽和の6貝または7貝の複索環な形成してもよい。
ル基を表し、Yは窒素原子と共に5〜7貝環の複″X環
を形成するのに必要な単なる結合手または2価の炭化水
素基を表す、 R”、R”、I?4tR’、R@、R?
は、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロアルキル基ま
たはアリール基を表す、但し、R2とR4及びR3とR
6は互いに結合して単なる結合手を形成して窒素原子、
Yと共に不飽和の5〜7Jl環の複索環を形成してもよ
い、また、Yが単なる結合手のときは、R6とR?が互
いに結合して単なる結合手を形成して窒素原子、Yと共
に不飽和の5貝環の複f8環を形成してもよい。また、
Yが単なる結合手でないときは、R5とY、R’とYま
たはY自身で不飽和結合を形成して窒象原子、Yと共に
不飽和の6貝または7貝の複索環な形成してもよい。
R’?’表される脂肪族基としては、置換基を有しても
よい飽和アルキル基、及び置換基を有してもよい不飽和
アルキル基が挙げられる。飽和アルキル基としては、例
えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ド
デシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げら
れ、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基、
プロペニル基箸が挙げられる。
よい飽和アルキル基、及び置換基を有してもよい不飽和
アルキル基が挙げられる。飽和アルキル基としては、例
えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ド
デシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げら
れ、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基、
プロペニル基箸が挙げられる。
R1で表されるシクロアルキル基としては、置換基を有
してもよい5〜7貝のシクロアルキル基で例えば、シフ
ペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
してもよい5〜7貝のシクロアルキル基で例えば、シフ
ペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
R1で表される7リール基としては、置換基を有しても
よいフェニル基、ナフチル基を表す。
よいフェニル基、ナフチル基を表す。
R1で衰される脂肪族基、シクロアルキル基、アリール
基の置換基としては、アルキル基、アリール基、フルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ
基、スルファモイル基、スルホンアミド基、カルボニル
オキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置換
基を有してらよい。
基の置換基としては、アルキル基、アリール基、フルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ
基、スルファモイル基、スルホンアミド基、カルボニル
オキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置換
基を有してらよい。
前記一般式(K)において、Yは窒素原子と共に5〜7
Jl環の複索環を形成するのに必要な弔なる結合手また
は2価の炭化水素基を衰tが、Yが単なる結合手のとき
は、さらにRSとR7が互いに結合して岸なる結合手を
形成して不飽和の5貝環の複葉環な形成してもよく、ま
たYが2価の単価水素基の場合、即ち、メチレン基の場
合には、R5とYまたはR7とYとで不飽和結合を形成
し、不飽和の6貝環の複素環を形成してもよく、またエ
チレン基の場合には% R’とY、R’とY虫たはY自
身で不飽和結合を形威し、不飽和の7貝環の複′X環を
形成してもよい、さらにYで表される2価の炭化水素基
は置換基を有してもよく、この置換基には、アルキル基
、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、7シ
ルアミ7基、スルホンアミド基、スルファモイル基、7
リール基、ヘテロ環基等が苧げられる。
Jl環の複索環を形成するのに必要な弔なる結合手また
は2価の炭化水素基を衰tが、Yが単なる結合手のとき
は、さらにRSとR7が互いに結合して岸なる結合手を
形成して不飽和の5貝環の複葉環な形成してもよく、ま
たYが2価の単価水素基の場合、即ち、メチレン基の場
合には、R5とYまたはR7とYとで不飽和結合を形成
し、不飽和の6貝環の複素環を形成してもよく、またエ
チレン基の場合には% R’とY、R’とY虫たはY自
身で不飽和結合を形威し、不飽和の7貝環の複′X環を
形成してもよい、さらにYで表される2価の炭化水素基
は置換基を有してもよく、この置換基には、アルキル基
、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、7シ
ルアミ7基、スルホンアミド基、スルファモイル基、7
リール基、ヘテロ環基等が苧げられる。
前記一般式(K)において、R2JR”tR41R’#
R6及びR1は、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロ
アルキル基またはアリール基を表すが、R2−R7で表
される脂肪族基としては、置換基を有してもよい飽和フ
ルキル基及び置換基を有してもよい不飽和フルキル基が
挙げられる。飽和アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、テ
トラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ、不飽和ア
ルキル基としでは、例えば、エチニル基、プロベニル基
等が挙げられる。
R6及びR1は、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロ
アルキル基またはアリール基を表すが、R2−R7で表
される脂肪族基としては、置換基を有してもよい飽和フ
ルキル基及び置換基を有してもよい不飽和フルキル基が
挙げられる。飽和アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、テ
トラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ、不飽和ア
ルキル基としでは、例えば、エチニル基、プロベニル基
等が挙げられる。
R2−R7で表されるシクロアルキル基としては翫置換
基を有してもよい5〜7貝環のシクロアルキル基で、例
えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。
基を有してもよい5〜7貝環のシクロアルキル基で、例
えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。
Rz〜R7で表される7リール基としては、W1換基を
有してもよいフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
有してもよいフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
上記R2〜R7で表される脂肪族基、シクロアルキル基
、アリール基の置換基としては、アルキル基、アリール
基、アルコキシ基、カルボニル基、カルバモイル基、ア
シルアミノ基、スルファモイル基、スルホンアミド基、
カルボニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、フルキルチ
オ基等が挙げられる。
、アリール基の置換基としては、アルキル基、アリール
基、アルコキシ基、カルボニル基、カルバモイル基、ア
シルアミノ基、スルファモイル基、スルホンアミド基、
カルボニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、フルキルチ
オ基等が挙げられる。
前記一般式(K)で表される化合物は、5〜7貝環の飽
和の複索環を有する場合が、不飽和であるよりも好まし
い。
和の複索環を有する場合が、不飽和であるよりも好まし
い。
以下に前記一般式UK)で表される化合物の使用量は、
本発明の前記一般式(1)で表されるマゼンタカプラー
に対して5〜300モル%が呼出しく、より好ましくは
10〜200モル%である。
本発明の前記一般式(1)で表されるマゼンタカプラー
に対して5〜300モル%が呼出しく、より好ましくは
10〜200モル%である。
前記一般式[K)で表される化合物の代表的へ体例を示
す。
す。
に−34
に−35
に−36
に−37
に−38
に−39
に−40
に−41
次に、前記一般式(K)で表される化合物の代表的合成
例を示す。
例を示す。
合成例−1(化合物に−14の合成)
ピペラジン9.Og及1ミリスチルブロマイド28gを
溶解した60m!1の7七トン中に、熱水炭酸カリウム
6、 ogを加え、20時間煮沸還流して反応させた。
溶解した60m!1の7七トン中に、熱水炭酸カリウム
6、 ogを加え、20時間煮沸還流して反応させた。
反応後、反応液を300 u+Uの水に注ぎ込んだ後、
酢酸エチル300 r!IQで抽出した。酢酸エチル層
を硫酸マグネシウムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると
、白色結晶の目的物が得られた。アセトン100 m’
i で再M品して、白色鱗片状の結晶12g(収率43
%)を得た。
酢酸エチル300 r!IQで抽出した。酢酸エチル層
を硫酸マグネシウムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると
、白色結晶の目的物が得られた。アセトン100 m’
i で再M品して、白色鱗片状の結晶12g(収率43
%)を得た。
融A175〜180℃
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の保護層、中間層等
の親水性コロイド層に感光材料が摩擦等で帯電する事に
起因する放電によるカブリ防止、画像のU■光による劣
化を防止するために紫外線吸収剤を含んでいても良い。
の親水性コロイド層に感光材料が摩擦等で帯電する事に
起因する放電によるカブリ防止、画像のU■光による劣
化を防止するために紫外線吸収剤を含んでいても良い。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料には、フィルタ一層
、ハレーション防止層及び/又はイラジェーション防止
層等の補助層を設ける事が出来る。
、ハレーション防止層及び/又はイラジェーション防止
層等の補助層を設ける事が出来る。
これらの苦中及び/又は乳剤層中には、現像処理中にカ
ラー感光材料より流出するか、もしくは漂白される染料
が含有させられても良い。
ラー感光材料より流出するか、もしくは漂白される染料
が含有させられても良い。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン化銀乳剤
層及び/又はその他の親水性コロイド層に感光材料の光
沢を低減する、加筆性を高める、感材相互のくっつき防
止等を目標としてマット剤を添加出来る。
層及び/又はその他の親水性コロイド層に感光材料の光
沢を低減する、加筆性を高める、感材相互のくっつき防
止等を目標としてマット剤を添加出来る。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の滑り摩擦を低減さ
せるために滑剤を添加出来る。
せるために滑剤を添加出来る。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料に、帯電防止を目的
とした帯電防止剤を添加出来る。帯電防止剤は支持体の
乳剤を積層してない側の帯電防止層に用いられる事もあ
るし、乳剤層及び/又は支持体に対して乳剤層が積層さ
れている側の乳剤層以外の保護コロイド層に用いられて
も良い。
とした帯電防止剤を添加出来る。帯電防止剤は支持体の
乳剤を積層してない側の帯電防止層に用いられる事もあ
るし、乳剤層及び/又は支持体に対して乳剤層が積層さ
れている側の乳剤層以外の保護コロイド層に用いられて
も良い。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤層及び/
又は他の親水性コロイド層には、塗布性改良、帯電防止
、スベリ性改良、乳化分散、接着防止及び(現像促進、
硬調化、増感等の)写真特性改良等を目的として、種々
の界面活性剤が用いられる。
又は他の親水性コロイド層には、塗布性改良、帯電防止
、スベリ性改良、乳化分散、接着防止及び(現像促進、
硬調化、増感等の)写真特性改良等を目的として、種々
の界面活性剤が用いられる。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、写真乳剤層およ
びその他の層はバライタ紙又はα−オレフレインポリマ
ー等をラミネートした紙、合成紙等の可撓性反射支持体
、酢酸セルロース、硝酸セルロース、ボリスヂレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカー
ボネイト、ポリアミド等の半合成又は合成高分子からな
るフィルムや、ガラス、金属、陶器などの剛体等に塗布
出来る。これらのうちで反射支持体が好ましく、例えば
、酸化チタン等の白色顔料をポリエチレン等のポリマー
に添加し、紙をラミネートにした支持体が好ましい。
びその他の層はバライタ紙又はα−オレフレインポリマ
ー等をラミネートした紙、合成紙等の可撓性反射支持体
、酢酸セルロース、硝酸セルロース、ボリスヂレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカー
ボネイト、ポリアミド等の半合成又は合成高分子からな
るフィルムや、ガラス、金属、陶器などの剛体等に塗布
出来る。これらのうちで反射支持体が好ましく、例えば
、酸化チタン等の白色顔料をポリエチレン等のポリマー
に添加し、紙をラミネートにした支持体が好ましい。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、必要に応じて支
持体表面にコロナ放電、紫外線照射、火焔!2!1理等
を施した後、直接又は(支持体表面の接着性、帯電防止
性、寸度安定性0、耐摩耗性、硬さ、ハレーション防止
性、摩擦特性、及び/又はその他の特性を向上するため
の、1または2JJ、上の下塗層)を介して塗布されて
も良い。
持体表面にコロナ放電、紫外線照射、火焔!2!1理等
を施した後、直接又は(支持体表面の接着性、帯電防止
性、寸度安定性0、耐摩耗性、硬さ、ハレーション防止
性、摩擦特性、及び/又はその他の特性を向上するため
の、1または2JJ、上の下塗層)を介して塗布されて
も良い。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の塗布に際して、塗
布性を向上させる為に増粘剤を用いても良い。塗布法と
しては2種以上の層を同時に塗布する事の出来るエクス
ドールジョンコーティング及びカーテンコーティングが
特に有用である。
布性を向上させる為に増粘剤を用いても良い。塗布法と
しては2種以上の層を同時に塗布する事の出来るエクス
ドールジョンコーティング及びカーテンコーティングが
特に有用である。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、本発明の感光材
料を構成する乳剤層が感度を有しているスペクトル領域
の電磁波を用いて露光出来る。光源としては、自然光(
日光)、タングステン電灯、蛍光灯、水銀灯、キセノン
アーク灯、炭素アーク灯、キセノンフラッシュ灯、陰極
線管フライングスポット、各種レーザー光、発光ダイオ
ード光、電子線、X線、γ線、α線などによって励起さ
れた蛍光体から放出する光等、公知の光源のいずれでも
用いることが出来る。
料を構成する乳剤層が感度を有しているスペクトル領域
の電磁波を用いて露光出来る。光源としては、自然光(
日光)、タングステン電灯、蛍光灯、水銀灯、キセノン
アーク灯、炭素アーク灯、キセノンフラッシュ灯、陰極
線管フライングスポット、各種レーザー光、発光ダイオ
ード光、電子線、X線、γ線、α線などによって励起さ
れた蛍光体から放出する光等、公知の光源のいずれでも
用いることが出来る。
露光時間は通常カメラで用いられる1ミリ秒から1秒の
露光時間は勿論、1マイクロ秒より短い露光、例えば陰
極線管やキセノン閃光灯を用いて100マイクロ秒〜1
マイクロ秒の露光を用いることも出来るし一、1秒以上
より長い露光も可能である。該露光は連続的に行なわれ
ても、間欠的に行なわれても良い。
露光時間は勿論、1マイクロ秒より短い露光、例えば陰
極線管やキセノン閃光灯を用いて100マイクロ秒〜1
マイクロ秒の露光を用いることも出来るし一、1秒以上
より長い露光も可能である。該露光は連続的に行なわれ
ても、間欠的に行なわれても良い。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、当業界公知のカ
ラー現像を行う事により画像を形成することが出来る。
ラー現像を行う事により画像を形成することが出来る。
本発明において発色現像液に使用される芳香族第1級ア
ミン発色現像主薬は、種々のカラー写真プロセスにおい
て広範囲に使用されている公知のものが包含される。こ
れらの現像剤はアミノフェノール系及びp−フェニレン
ジアミン系誘導体が含まれる。これらの化合物は遊離状
態より安定のため一般に塩の形、例えば塩酸塩または硫
酸塩の形で使用される。また、これらの化合物は一般に
発色現像液11について約0.1g〜約30(+の濃度
、好ましくは発色現像液12について約1g〜約150
の濃度で使用する。
ミン発色現像主薬は、種々のカラー写真プロセスにおい
て広範囲に使用されている公知のものが包含される。こ
れらの現像剤はアミノフェノール系及びp−フェニレン
ジアミン系誘導体が含まれる。これらの化合物は遊離状
態より安定のため一般に塩の形、例えば塩酸塩または硫
酸塩の形で使用される。また、これらの化合物は一般に
発色現像液11について約0.1g〜約30(+の濃度
、好ましくは発色現像液12について約1g〜約150
の濃度で使用する。
アミンフェノール系現像剤としては、例えば0−アミノ
フェノール、p−アミンフェノール、5−アミノ−2−
オキシトルエン、2−アミノ−3−オキシトルエン、2
−オキシ−3−アミノ−1,4−ジメチルベンゼンなど
が含まれる。
フェノール、p−アミンフェノール、5−アミノ−2−
オキシトルエン、2−アミノ−3−オキシトルエン、2
−オキシ−3−アミノ−1,4−ジメチルベンゼンなど
が含まれる。
特に有用な第1級芳香族アミン系発色現像剤はN、N’
−ジアルキル−p−フェニレンジアミン系化合物であり
、アルキル基及びフェニル基は任意の置換基で置換され
ていてもよい。その中でも特に有用な化合物例としては
、N、N’ −ジエチル−p−フェニレンジアミン塩酸
塩、N−メチル−p−フェニレンジアミン塩酸塩、N、
N’ −ジメチル−p−フェニレンジアミン塩酸塩、2
−アミノ−5−(N−エチル−N−ドデシルアミノ)−
トルエン、N−エチル−N−β−メタンスルホンアミド
エチル−3−メチル−4−アミノアニリン硫酸塩、N−
エチル−N−β−ヒドロキシエチルアミノアニリン、4
−アミノ−3−メチル−N。
−ジアルキル−p−フェニレンジアミン系化合物であり
、アルキル基及びフェニル基は任意の置換基で置換され
ていてもよい。その中でも特に有用な化合物例としては
、N、N’ −ジエチル−p−フェニレンジアミン塩酸
塩、N−メチル−p−フェニレンジアミン塩酸塩、N、
N’ −ジメチル−p−フェニレンジアミン塩酸塩、2
−アミノ−5−(N−エチル−N−ドデシルアミノ)−
トルエン、N−エチル−N−β−メタンスルホンアミド
エチル−3−メチル−4−アミノアニリン硫酸塩、N−
エチル−N−β−ヒドロキシエチルアミノアニリン、4
−アミノ−3−メチル−N。
N′−ジエチルアニリン、4−アミノ−N−(2−メト
キシエチル)−N−エチル−3−メチルアニリン−1]
−)−ルエンスルホネートなどを挙げることができる。
キシエチル)−N−エチル−3−メチルアニリン−1]
−)−ルエンスルホネートなどを挙げることができる。
本発明の処理において使用される発色現像液には、前記
第1級芳香族アミン系発色現像剤に加えて、更に発色現
像液に通常添加されている種々の成分、例えば水酸化ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカ
リ剤、アルカリ金腐亜硫酸塩、アルカリ金属重亜硫酸塩
、アルカリ金属チオシアン酸塩、アルカリ金属ハロゲン
化物、ベンジルアルコール、水軟化剤及び濃厚化剤など
を任意に含有せしめることもできる。この発色現像液の
pHIUは、通常7以上であり、最も一般的には約10
〜約13である。
第1級芳香族アミン系発色現像剤に加えて、更に発色現
像液に通常添加されている種々の成分、例えば水酸化ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカ
リ剤、アルカリ金腐亜硫酸塩、アルカリ金属重亜硫酸塩
、アルカリ金属チオシアン酸塩、アルカリ金属ハロゲン
化物、ベンジルアルコール、水軟化剤及び濃厚化剤など
を任意に含有せしめることもできる。この発色現像液の
pHIUは、通常7以上であり、最も一般的には約10
〜約13である。
本発明においては、発色現像処理した後、定着能を有す
る処理液で処理するが、該定着能を有する処理液が定着
液である場合、その前に漂白処理が行なわれる。該漂白
工程に用いる漂白剤としては有機酸の金泥錯塩が用いら
れ、該金泥錯塩は、現像によって生成した金ヱ銀を酸化
してハロゲン化銀にかえすと同時に発色剤の未発色部を
発色させる作用を有するもので、その構成はアミノポリ
カルボン酸または蓚酸、クエン酸等の有機酸で鉄、コバ
ルト、銅等の金属イオンを配位したものである。このよ
うな有機酸の金属錯塩を形成するために用いられる最も
好ましい有殿酸としては、ポリカルボン酸またはアミノ
ポリカルボン酸が挙げられる。これらのポリカルボン酸
またはアミノポリカルボン酸はアルカリ金属塩、アンモ
ニウム塩もしくは水溶性アミン塩であってもよい。
る処理液で処理するが、該定着能を有する処理液が定着
液である場合、その前に漂白処理が行なわれる。該漂白
工程に用いる漂白剤としては有機酸の金泥錯塩が用いら
れ、該金泥錯塩は、現像によって生成した金ヱ銀を酸化
してハロゲン化銀にかえすと同時に発色剤の未発色部を
発色させる作用を有するもので、その構成はアミノポリ
カルボン酸または蓚酸、クエン酸等の有機酸で鉄、コバ
ルト、銅等の金属イオンを配位したものである。このよ
うな有機酸の金属錯塩を形成するために用いられる最も
好ましい有殿酸としては、ポリカルボン酸またはアミノ
ポリカルボン酸が挙げられる。これらのポリカルボン酸
またはアミノポリカルボン酸はアルカリ金属塩、アンモ
ニウム塩もしくは水溶性アミン塩であってもよい。
これらの具体的代表例としては、次のものを挙げること
ができる。
ができる。
[1]エチレンジアミンテトラ酢酸
[2]ニトリロトリ酢酸
[3]イミノジ酢酸
[4]エチレンジアミンテトラ酢酸ジナトリウム塩
[51エチレンジアミンテトラ酢酸テトラ(トリメチル
アンモニウム)塩 [61エチレンジアミンテトラ酢酸テトラナトリウム塩 [7]ニトリロトリ酢酸ナトリウム塩 使用される漂白剤は、前記の如き有線酸の金属錯塩を漂
白剤として含有すると共に、種々の添加剤を含むことが
できる。添加剤としては、特にアルカリハライドまたは
アンモニウムハライド、例えば臭化カリウム、臭化ナト
リウム、塩化ナトリウム、臭化アンモニウム等の再ハロ
ゲン化剤、金属塩、キレート剤を含有させることが望ま
しい。
アンモニウム)塩 [61エチレンジアミンテトラ酢酸テトラナトリウム塩 [7]ニトリロトリ酢酸ナトリウム塩 使用される漂白剤は、前記の如き有線酸の金属錯塩を漂
白剤として含有すると共に、種々の添加剤を含むことが
できる。添加剤としては、特にアルカリハライドまたは
アンモニウムハライド、例えば臭化カリウム、臭化ナト
リウム、塩化ナトリウム、臭化アンモニウム等の再ハロ
ゲン化剤、金属塩、キレート剤を含有させることが望ま
しい。
また硼酸塩、健酸塩、酢酸塩、炭M塩、燐酸塩等のpH
1l剤、アルキルアミン類、ポリエチレンオキサイド類
等の通常漂白液に添加することが知られているものを適
宜撚haすることができる。
1l剤、アルキルアミン類、ポリエチレンオキサイド類
等の通常漂白液に添加することが知られているものを適
宜撚haすることができる。
更に、定着液及び漂白定着液は、亜硫酸アンモニウム、
亜&’ffi !カリウム、重亜硫酸アンモニウム、重
亜硫酸カリウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸ア
ンモニウム、メタ重亜硫酸カリウム、メタ千亜硫酸す1
ヘリウム等の亜lii!を酸塩や硼酸、硼砂、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、重亜硫酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸
カリウム、酢酸、酢酸す1ヘリウム、水酸化アンモニウ
ム等の各種の塩から成るpH緩衝剤を単独或いは2種以
上含むことができる。
亜&’ffi !カリウム、重亜硫酸アンモニウム、重
亜硫酸カリウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸ア
ンモニウム、メタ重亜硫酸カリウム、メタ千亜硫酸す1
ヘリウム等の亜lii!を酸塩や硼酸、硼砂、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、重亜硫酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸
カリウム、酢酸、酢酸す1ヘリウム、水酸化アンモニウ
ム等の各種の塩から成るpH緩衝剤を単独或いは2種以
上含むことができる。
漂白定着液(浴)に漂白定着補充剤を補充しながら本発
明の処理を行なう場合、該漂白定着液(浴)にチオ硫酸
塩、チオシアン酸塩又は亜@酸塩等を含有せしめてもよ
いし、該漂白定着補充液にこれらの塩類を含有せしめて
処理浴に補充してもよい。
明の処理を行なう場合、該漂白定着液(浴)にチオ硫酸
塩、チオシアン酸塩又は亜@酸塩等を含有せしめてもよ
いし、該漂白定着補充液にこれらの塩類を含有せしめて
処理浴に補充してもよい。
本発明においては漂白定着液の活性度を高める為に、漂
白定着浴中及び漂白定着補充液の貯蔵タンク内で所望に
より空気の吹き込み、又は酸素の吹き込みをおこなって
もよく、或いは適当な酸化剤、例えば過酸化水素、臭素
酸塩、過@酸塩等を適宜添加してもよい。
白定着浴中及び漂白定着補充液の貯蔵タンク内で所望に
より空気の吹き込み、又は酸素の吹き込みをおこなって
もよく、或いは適当な酸化剤、例えば過酸化水素、臭素
酸塩、過@酸塩等を適宜添加してもよい。
[発明の具体的効果]
本発明においては、前記一般式[I]のマゼンタカプラ
ーの優れた特性を活かし、カブリ等の写真性催に悲影野
を与えないで該カプラーの欠点である脚部階調の軟調化
が改良され、マゼンタ色素の分光吸収特性に優れ良好な
色再現性を有し、かつイエロースティンの少ない良好な
画像保存特性を有するハロゲン化銀感光材料を提供する
ことができる。
ーの優れた特性を活かし、カブリ等の写真性催に悲影野
を与えないで該カプラーの欠点である脚部階調の軟調化
が改良され、マゼンタ色素の分光吸収特性に優れ良好な
色再現性を有し、かつイエロースティンの少ない良好な
画像保存特性を有するハロゲン化銀感光材料を提供する
ことができる。
[発明の具体的実施例]
以下に具体的実施例を示して、本発明を更に詳しく説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例−1
ゼラチン水溶液に塩臭化カリウムと硝酸銀水溶液を同時
に添加する方法にて臭化銀70モル%を含む平均粒径0
.5μm、変動係数が0,23の不定型粒子から成る塩
臭化銀乳剤を調製した。(平均粒径、変動係数は本文中
に記載の方法に従い測定した。)次いで、化学増感を施
し、緑感光性増感色素を添加し、緑色増感した塩臭化銀
乳剤(乳剤A)を1ηだ。
に添加する方法にて臭化銀70モル%を含む平均粒径0
.5μm、変動係数が0,23の不定型粒子から成る塩
臭化銀乳剤を調製した。(平均粒径、変動係数は本文中
に記載の方法に従い測定した。)次いで、化学増感を施
し、緑感光性増感色素を添加し、緑色増感した塩臭化銀
乳剤(乳剤A)を1ηだ。
一方、本発明の例示マゼンタカプラー、および下記比較
マゼンタカプラーMC−1を用いてマゼンタカプラー分
散液を調製した。
マゼンタカプラーMC−1を用いてマゼンタカプラー分
散液を調製した。
[XII]で示される化合物を、高沸点有は溶媒と低沸
点溶媒どして酢酸エチルの混合溶媒に溶カフし、この溶
液をドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む5%
ゼラブン水溶液に添加した後、超音波ホモジナイザーに
て分散しカプラー分散液を調製した。
点溶媒どして酢酸エチルの混合溶媒に溶カフし、この溶
液をドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む5%
ゼラブン水溶液に添加した後、超音波ホモジナイザーに
て分散しカプラー分散液を調製した。
上記で得られtこ塩臭化銀乳剤(乳剤A)とマゼンタカ
プラー分散液とを混合してマゼンタカプラー含有の縁感
性ハロゲン化銀乳剤層用の塗布液とした。
プラー分散液とを混合してマゼンタカプラー含有の縁感
性ハロゲン化銀乳剤層用の塗布液とした。
次いで上記塗布液、さらに下記表−1および表−2に示
す層構成になるように各層の塗布液を調製し、ポリエヂ
レン被葭紙支持体上に支持体側がら順次塗設して、多層
カラー感光材料を(qた。
す層構成になるように各層の塗布液を調製し、ポリエヂ
レン被葭紙支持体上に支持体側がら順次塗設して、多層
カラー感光材料を(qた。
表−1
府 構成
第7層 ゼラチン(i、og/v’ )(保訛層
) 第6層 ゼラチン(・1.Oa/v’)(第3中
間層) 紫外線吸収剤 UV −1(0,2(] /v’ ) UV −2(0,1(1/II’ ) 高沸点有機溶tsS−6 (0,2(1/v’ ) 第5層 ゼラチン(1,2(] /v2)(赤感
!rl) 塩臭化銀乳剤 [70モル%のAgBr含有] (銀伍換算0.25Mf) シアンカプラー [C−47/C−29] (ハロゲン化銀1モル当り0.4モル)一般式[XVI
]の化合物 HQ−6(0,01り/i2> 高沸点有機溶媒 5−2 (0,2g/プ) 第4層 ゼラチン< 1.5Q /v’ )(
第2中間層) 紫外線吸収剤 UV −1(0,5g/l’ ) [J V −2(0,2Q /v’ )一般式[XVl
]の化合物 HQ −6(0,03fll/w2) 高沸点有R溶媒 5−6 (o、3c) / v’ ) 第3B ゼラチン(1,5(1/v’ )(緑感
層) 塩臭化銀乳剤(前記で1′9L)(銀岳換算
0.20Q/f ) (ただし比較カプラーMC−1を 用いた場合は0.401J/m’とした)マゼンタカプ
ラー★(0,4g /f )一般式[XI]の化合物★ (0,08モル/マゼンタカプラー 1モル) 高沸点有機溶媒★(0,30/12) 第2層 ゼラチン(1,0G /v’ )(第1
中間層) 一般式[XVI]の化合物H06(0,07
g/i’ ) 高沸点有機溶媒 S−11 (0,04Q /v2) 第1層 ゼラチン(2,0g/f)(青感層)
塩臭化銀乳剤 [90モル%のAgBr含有コ (銀洛換算0.3(+/1I2) イエローカプラーY−5 (0,h /イ) 一般式[X Vl ]の化合物 HQ −6(0,02(i/l’ ) 高沸点有機溶tiXS−6 (、o、3g / v2) 支持体 ポリエチレン被覆紙 ()内は塗布Gまたは添加量を表わす。
) 第6層 ゼラチン(・1.Oa/v’)(第3中
間層) 紫外線吸収剤 UV −1(0,2(] /v’ ) UV −2(0,1(1/II’ ) 高沸点有機溶tsS−6 (0,2(1/v’ ) 第5層 ゼラチン(1,2(] /v2)(赤感
!rl) 塩臭化銀乳剤 [70モル%のAgBr含有] (銀伍換算0.25Mf) シアンカプラー [C−47/C−29] (ハロゲン化銀1モル当り0.4モル)一般式[XVI
]の化合物 HQ−6(0,01り/i2> 高沸点有機溶媒 5−2 (0,2g/プ) 第4層 ゼラチン< 1.5Q /v’ )(
第2中間層) 紫外線吸収剤 UV −1(0,5g/l’ ) [J V −2(0,2Q /v’ )一般式[XVl
]の化合物 HQ −6(0,03fll/w2) 高沸点有R溶媒 5−6 (o、3c) / v’ ) 第3B ゼラチン(1,5(1/v’ )(緑感
層) 塩臭化銀乳剤(前記で1′9L)(銀岳換算
0.20Q/f ) (ただし比較カプラーMC−1を 用いた場合は0.401J/m’とした)マゼンタカプ
ラー★(0,4g /f )一般式[XI]の化合物★ (0,08モル/マゼンタカプラー 1モル) 高沸点有機溶媒★(0,30/12) 第2層 ゼラチン(1,0G /v’ )(第1
中間層) 一般式[XVI]の化合物H06(0,07
g/i’ ) 高沸点有機溶媒 S−11 (0,04Q /v2) 第1層 ゼラチン(2,0g/f)(青感層)
塩臭化銀乳剤 [90モル%のAgBr含有コ (銀洛換算0.3(+/1I2) イエローカプラーY−5 (0,h /イ) 一般式[X Vl ]の化合物 HQ −6(0,02(i/l’ ) 高沸点有機溶tiXS−6 (、o、3g / v2) 支持体 ポリエチレン被覆紙 ()内は塗布Gまたは添加量を表わす。
★は表−2に示す。
但し、表−1で用いた比較のマゼンタカプラー(MC−
1>、紫外線吸収剤(IJV−1)オJ:ヒ(tJV−
2)の構造式を以下に示す。
1>、紫外線吸収剤(IJV−1)オJ:ヒ(tJV−
2)の構造式を以下に示す。
比較マゼンタカプラー
紫外(2吸収剤
紫外4p、吸収剤
表−2
−DBPニジブチルフタレート
TCP ニトリクレジルホスフェート
但し、表−2で用いた比較化合物△J3よびBは以下の
とおりである。
とおりである。
比較化合物A
比較化合物B
このように作製した重層試It(試ねN011〜21)
を感光Xt (小西六写真工業株式会社製KS=7型)
を使用して白色光を光楔を通して露光後、下記の処理工
稈に従って処理を施した。処理して得られた試料につい
て光学濃度計(小西六写真工業株式会社装PDA−5型
)を用いてマゼンタ発色色素!l!度を測定し、感度、
カブリ並びに脚部階調どして濃度0.3〜0.8のガン
マ値(γ2どする)を求めた。
を感光Xt (小西六写真工業株式会社製KS=7型)
を使用して白色光を光楔を通して露光後、下記の処理工
稈に従って処理を施した。処理して得られた試料につい
て光学濃度計(小西六写真工業株式会社装PDA−5型
)を用いてマゼンタ発色色素!l!度を測定し、感度、
カブリ並びに脚部階調どして濃度0.3〜0.8のガン
マ値(γ2どする)を求めた。
さらに現像処理終了後の試11を65℃、80%RHの
高温、高湿の雰囲気中に14日間放置したときの未発色
部のイエロースティン(青色温度り。
高温、高湿の雰囲気中に14日間放置したときの未発色
部のイエロースティン(青色温度り。
の試験前後の差ΔD、)を測定した。
さらに、カラーアブライザー677型(日立社製)を用
いて、各試料のマゼンタ単色色素の分光吸収工:度を測
定し、最大吸収団=度に対する430nmでの副吸収濃
度の相対値ΔMを求めた。
いて、各試料のマゼンタ単色色素の分光吸収工:度を測
定し、最大吸収団=度に対する430nmでの副吸収濃
度の相対値ΔMを求めた。
(9られた結果を表−3に示す。
填i丁処理工稈(処理温度と処理時間)[1]発色現像
38℃ 3分30秒し2]漂白定6 33
℃ 1分30秒[3]水洗処理 25〜30℃ 3分 [4]乾 燥 75−80℃ 約2分処理液組成 (発色現aI液) ベンジルアルコール 151gエヂレン
グリコール 15籠亜硫酸カリウム
2.0(1臭化カリウム
0.79堪化す1〜リウム
o、2g炭酸カリウム 3
0.0(1ヒドロキシアミン硫酸塩 3.0
gポリリン酸(TPPS) 2.5(]
]3−メチルー4−アミノーN−エチルN−(β−メタ
ンスルホンアミドエチル)アニリン硫酸塩 5.5g 蛍光増白剤(4,4’ −ジアミノスチルベンズスルボ
ン酸誘導体) 1.og水酸化カリ
ウム 2.0g水を加えて全岱を1
2とし、pH10,20に調整する。
38℃ 3分30秒し2]漂白定6 33
℃ 1分30秒[3]水洗処理 25〜30℃ 3分 [4]乾 燥 75−80℃ 約2分処理液組成 (発色現aI液) ベンジルアルコール 151gエヂレン
グリコール 15籠亜硫酸カリウム
2.0(1臭化カリウム
0.79堪化す1〜リウム
o、2g炭酸カリウム 3
0.0(1ヒドロキシアミン硫酸塩 3.0
gポリリン酸(TPPS) 2.5(]
]3−メチルー4−アミノーN−エチルN−(β−メタ
ンスルホンアミドエチル)アニリン硫酸塩 5.5g 蛍光増白剤(4,4’ −ジアミノスチルベンズスルボ
ン酸誘導体) 1.og水酸化カリ
ウム 2.0g水を加えて全岱を1
2とし、pH10,20に調整する。
(漂白定着液)
エヂレンジアミンテトラ酢酸第2鉄アンモニウム2水塩
60gエチレンジアミンテ
トラ酢酸’ 30ヂオ硫酸アンモニウム(7
0%溶液) 100d2亜@酸アンモニウム(40%
溶液) 27.5i12炭酸カリウムまたは氷酢酸で
+))l 7.1に調整し水を加えて全2を11とする
。
60gエチレンジアミンテ
トラ酢酸’ 30ヂオ硫酸アンモニウム(7
0%溶液) 100d2亜@酸アンモニウム(40%
溶液) 27.5i12炭酸カリウムまたは氷酢酸で
+))l 7.1に調整し水を加えて全2を11とする
。
以下余白
表−3
表−3の結果から明らかなように、比較試料において、
比較マゼンタカプラーを用いた比較試料1〜7に比べて
、本発明のマゼンタカプラーを用いた比較試料8〜15
は、イエロースティンの増加が少なく、副吸収も小さい
良好な特性を有するが、脚部階調γ2が軟調であること
が判る。ざらに細かく見れば、本発明マゼンタカプラー
を用いて、ざらに一般式[XI]の化合物、即ち、本発
明の化合物、該本発明の化合物の比較化合物、本発明の
誘電率6.0以下の高沸点有機溶媒、本発明外の高沸点
有機溶媒のそれぞれを種々組み合わせても本発明外の組
み合わせでは脚部階調γ2はほとんど改良されていない
。これに対し、本発明の試1116〜21においては、
本発明のマゼンタカプラー、本発明の化合物および本発
明の高沸点有機溶媒を用いているため、色再現に悪影響
、を与えるイエロースディンおJ:び副吸収も少なく、
カブリに悪影響を与えることなく脚部階調γ2が顕著に
改良されていることがわかる。
比較マゼンタカプラーを用いた比較試料1〜7に比べて
、本発明のマゼンタカプラーを用いた比較試料8〜15
は、イエロースティンの増加が少なく、副吸収も小さい
良好な特性を有するが、脚部階調γ2が軟調であること
が判る。ざらに細かく見れば、本発明マゼンタカプラー
を用いて、ざらに一般式[XI]の化合物、即ち、本発
明の化合物、該本発明の化合物の比較化合物、本発明の
誘電率6.0以下の高沸点有機溶媒、本発明外の高沸点
有機溶媒のそれぞれを種々組み合わせても本発明外の組
み合わせでは脚部階調γ2はほとんど改良されていない
。これに対し、本発明の試1116〜21においては、
本発明のマゼンタカプラー、本発明の化合物および本発
明の高沸点有機溶媒を用いているため、色再現に悪影響
、を与えるイエロースディンおJ:び副吸収も少なく、
カブリに悪影響を与えることなく脚部階調γ2が顕著に
改良されていることがわかる。
実施例−2
実施例−1と同様にして多層カラー感光材料を作製した
。ただし、下記表−4に示すようにマゼンタカプラー、
一般式[XII]で示される化合物、ならびに高沸点有
機溶媒の種類を変化させた。
。ただし、下記表−4に示すようにマゼンタカプラー、
一般式[XII]で示される化合物、ならびに高沸点有
機溶媒の種類を変化させた。
これらの試料を実施例−1と同様に処理し、緑感性層の
感度、γ2、カブリ(ピついて評価した。
感度、γ2、カブリ(ピついて評価した。
得られた結果を併せて表−4に示す。
以下余白
表−4の結果から明らかなように、本発明のマゼンタカ
プラーの種類、本発明の化合物の種類、添カl償、高沸
点有機溶媒の種類の組み合わせを変えても、感度、カブ
リ等の写真性能に悪影響を与えることなく脚部階調γ2
の軟調が良好に改良されていることがわかる。
プラーの種類、本発明の化合物の種類、添カl償、高沸
点有機溶媒の種類の組み合わせを変えても、感度、カブ
リ等の写真性能に悪影響を与えることなく脚部階調γ2
の軟調が良好に改良されていることがわかる。
実施例−3
特開昭54−48521号に記載の方法に準じ、硝酸銀
水溶液と1m臭化カリウム水溶液を塩臭化銀様粒子を含
むゼラチン水18液中に、添加速度を時間の関数として
変化させて同時に添加し、この際DA(]と温度をコン
トロールして平均粒径05μm、変1リノ係数0.13
の臭化銀70モル%を含む8面体、14面体および立方
体の単分散塩臭化銀乳剤、さらに 0.5/1m、変動
係数0.13の臭化銀15モル%を含む14面体および
立方体の単分散塩臭化銀乳剤を調製した。
水溶液と1m臭化カリウム水溶液を塩臭化銀様粒子を含
むゼラチン水18液中に、添加速度を時間の関数として
変化させて同時に添加し、この際DA(]と温度をコン
トロールして平均粒径05μm、変1リノ係数0.13
の臭化銀70モル%を含む8面体、14面体および立方
体の単分散塩臭化銀乳剤、さらに 0.5/1m、変動
係数0.13の臭化銀15モル%を含む14面体および
立方体の単分散塩臭化銀乳剤を調製した。
次いで、これらの各乳剤に化学増感を施し、緑感光性増
感色素を添加し、緑色居!5された塩臭化銀乳剤(乳剤
B、C,D、EおよびFと呼ぶ)を(ワた。
感色素を添加し、緑色居!5された塩臭化銀乳剤(乳剤
B、C,D、EおよびFと呼ぶ)を(ワた。
これらの乳剤B、C,D、[EおよびFとさらに実施例
−1で調製した乳剤Aを用いて緑感層のみを下記表−5
に示ずように変更し、その他の層は実施例−1と同様に
して、多層カラー感光材料を得 Iこ 。
−1で調製した乳剤Aを用いて緑感層のみを下記表−5
に示ずように変更し、その他の層は実施例−1と同様に
して、多層カラー感光材料を得 Iこ 。
これらの試11を実施例−1と同様に処理、緑感層の感
度、T2ならびにカブリについて評価した。
度、T2ならびにカブリについて評価した。
19られた結果を表−5に示す。
以下余白
表−5から分るように、単分散乳剤を用いた本発明の試
オー4(43〜45.4つ、50)においても多分散乳
剤を用いた本発明の試料42と同様に本発明の効果が得
られることがわかる。さらに詳しく見れば、単分散乳剤
を用いても臭化銀含有率が所定量以下の塩臭化銀を用l
/(1こ試料49および5oに比べて、臭化銀含有率が
所定M以上の塩臭化銀を用いた試料43〜45が感度が
高くカブリも低くなっており、特に好ましい結果を示し
ていることがわかる。
オー4(43〜45.4つ、50)においても多分散乳
剤を用いた本発明の試料42と同様に本発明の効果が得
られることがわかる。さらに詳しく見れば、単分散乳剤
を用いても臭化銀含有率が所定量以下の塩臭化銀を用l
/(1こ試料49および5oに比べて、臭化銀含有率が
所定M以上の塩臭化銀を用いた試料43〜45が感度が
高くカブリも低くなっており、特に好ましい結果を示し
ていることがわかる。
実施例−4
下記表−6に示す本発明のマゼンタカプラー、本発明の
化合物、本発明の高沸点有i溶媒にさらに一般式[Xl
で示される色カブリ防止剤をマゼンタカプラーの分散時
にマゼンタカプラー1モル当たり0.05モル添加した
以外は実施例1と同様にして多層カラー感光材料を作製
した。
化合物、本発明の高沸点有i溶媒にさらに一般式[Xl
で示される色カブリ防止剤をマゼンタカプラーの分散時
にマゼンタカプラー1モル当たり0.05モル添加した
以外は実施例1と同様にして多層カラー感光材料を作製
した。
上記の試料を実施例1と同様に処理し、緑感層の感度、
T2およびカブリについて評価した。
T2およびカブリについて評価した。
得られた結果を併せて表−6に示す。
表−6から分るように、一般式[XV?]で示される化
合物を添加しても本発明の効果が同様に得られると共に
ざらにカブリが低下し、より好ましい結果を示すことが
分る。
合物を添加しても本発明の効果が同様に得られると共に
ざらにカブリが低下し、より好ましい結果を示すことが
分る。
実施例−5
実施例−1と同様にして多層カラー感光材料を作製した
。ただし、下記表−7に示すように一般式(A−に:画
像安定剤)の化合物をマゼンタカプラー分散時にマゼン
タカプラーに対して30モル%添加した。
。ただし、下記表−7に示すように一般式(A−に:画
像安定剤)の化合物をマゼンタカプラー分散時にマゼン
タカプラーに対して30モル%添加した。
これらの試料を実施例−1と同様に処理し、緑感層の感
度、γ2、カブリ並びにマゼンタ発色色素の耐光性につ
いて評価した。結果を併せて表−7に示す。
度、γ2、カブリ並びにマゼンタ発色色素の耐光性につ
いて評価した。結果を併せて表−7に示す。
(耐光性試験)
アンダーグラス屋外曝露台を用いて、14日間太陽光を
照射した時、マゼンタ発色画像の書澄度DO=1.0の
残存率で示した。
照射した時、マゼンタ発色画像の書澄度DO=1.0の
残存率で示した。
残存率= (D/Do ) x 1o。
表−7カ目ら分るように、一般式(A)〜LJ)で示さ
れる画像安定剤を併用しても本発明の効果が同様に得ら
れることが分る。マゼンタ画像の耐光性について着眼す
れば、上記画像安定剤を用いない試(゛」においては、
本発明の構成を有しない比較の試料58に比べて、本発
明の構成の試r159はマゼンタ画像の残存率は多少向
上するものの充分ではなかった。これに対し、上記画像
安定剤を併用した試14においては、本発明の構成を有
しない比較の試II 60でも、従来、耐光性は比較的
良いどされてきたピラゾロン色素マゼンタカプラーを用
いた場合とほぼ同等のレベルまでマゼンタ画像の耐光性
は向上する。さらに本発明の構成の試料61〜71にお
いては、上記画像安定剤を併用することにより本発明の
効果、即ち、感度、カブリ等に悪影野を与えることなく
脚部の階調γ2が改良されると共に、マゼンタ画像の耐
光性も大幅に改良されており、非常に好ましい結果を示
していることがわかる。
れる画像安定剤を併用しても本発明の効果が同様に得ら
れることが分る。マゼンタ画像の耐光性について着眼す
れば、上記画像安定剤を用いない試(゛」においては、
本発明の構成を有しない比較の試料58に比べて、本発
明の構成の試r159はマゼンタ画像の残存率は多少向
上するものの充分ではなかった。これに対し、上記画像
安定剤を併用した試14においては、本発明の構成を有
しない比較の試II 60でも、従来、耐光性は比較的
良いどされてきたピラゾロン色素マゼンタカプラーを用
いた場合とほぼ同等のレベルまでマゼンタ画像の耐光性
は向上する。さらに本発明の構成の試料61〜71にお
いては、上記画像安定剤を併用することにより本発明の
効果、即ち、感度、カブリ等に悪影野を与えることなく
脚部の階調γ2が改良されると共に、マゼンタ画像の耐
光性も大幅に改良されており、非常に好ましい結果を示
していることがわかる。
手続ネ[11正書 (自発)
1「(和61年12月16 日
昭和61年特乳′[願 第14594月2、発明の名称
ハl」ゲン化根写真感光月11
3、補正をりる者
事件との関係 待訂出願人
住所 東京都新宿区西新宿17目26番2号名称
(127) 小西六写真工業株式会社代表取締役
弁子 恵生 4、代理人 〒102 (Y所 東京都千代111区九段北4丁目1番1号九
段−ロ坂ビル電話263−952/I6、補正の内容 明1111用第300頁の表−2において、試料No。
(127) 小西六写真工業株式会社代表取締役
弁子 恵生 4、代理人 〒102 (Y所 東京都千代111区九段北4丁目1番1号九
段−ロ坂ビル電話263−952/I6、補正の内容 明1111用第300頁の表−2において、試料No。
21のマゼンタカプラーの欄に「354Jどあるしのを
「54」と訂正づる。
「54」と訂正づる。
以上
Claims (3)
- (1)支持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層
を有するハロゲン化銀写真感光材料において、前記ハロ
ゲン化銀乳剤層の少なくとも1層は下記一般式[ I ]
で示されるマゼンタカプラー、下記一般式[XII]で示
される化合物および誘電率が6.0以下の高沸点有機溶
媒を含有していることを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料。 一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Zは含窒素複素環を形成するに必要な非金属原
子群を表わし、該Zにより形成される環は置換基を有し
てもよい。 Xは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱しうる置換基を表わす。 またRは水素原子または置換基を表わす。]一般式[X
II] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R_1およびR_2はそれぞれ炭素数1〜5の
アルキル基を表わし、nは1〜20の整数を表わし、k
は1または2を表わす。Aは ▲数式、化学式、表等があります▼(ここでXは−0−
または▲数式、化学式、表等があります▼ を表わし、R_3は水素原子、アルキル基、アルケニル
基、シクロアルキル基またはアリール基を表わし、R_
4は水素原子、アルキル基またはアリール基を表わす。 )、−OY(ここで、YはR_3または▲数式、化学式
、表等があります▼を表わし、R_3は上記と同義。)
、▲数式、化学式、表等があります▼(ここで、R_4
は上記と同義、R_5は水素原子、アルキル基、アリー
ル基または ▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、R_3は
上記と同義。)、▲数式、化学式、表等があります▼(
ここで、lは0または1を表わ し、R_3は上記と同義、R_6は水素原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルケニル基またはアリール基
を表わす。)またはシアノ基を表わす。 Bはアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、ア
リール基、複素環基または ▲数式、化学式、表等があります▼で表わされる基(こ こで、R_1、R_2、n、kおよびAはそれぞれ上記
と同義。)を表わす。] - (2)前記誘電率6.0以下の高沸点有機溶媒がフタル
酸エステル類であることを特徴とする特許請求の範囲第
(1)項記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - (3)前記一般式[ I ]で示されるマゼンタカプラー
を含有するハロゲン化銀乳剤層に含まれるハロゲン化銀
粒子は臭化銀が25モル%以上の実質的に塩臭化銀であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項または第
(2)項記載のハロゲン化銀写真感光材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1459486A JPH0711694B2 (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1459486A JPH0711694B2 (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62172358A true JPS62172358A (ja) | 1987-07-29 |
JPH0711694B2 JPH0711694B2 (ja) | 1995-02-08 |
Family
ID=11865499
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1459486A Expired - Lifetime JPH0711694B2 (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0711694B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6330846A (ja) * | 1986-07-24 | 1988-02-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感材材料 |
EP0326406A2 (en) * | 1988-01-28 | 1989-08-02 | Konica Corporation | Silver halide photographic light-sensitive material |
-
1986
- 1986-01-24 JP JP1459486A patent/JPH0711694B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6330846A (ja) * | 1986-07-24 | 1988-02-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感材材料 |
EP0326406A2 (en) * | 1988-01-28 | 1989-08-02 | Konica Corporation | Silver halide photographic light-sensitive material |
EP0326406B1 (en) * | 1988-01-28 | 1995-11-08 | Konica Corporation | Silver halide photographic light-sensitive material |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0711694B2 (ja) | 1995-02-08 |
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