JPS61255343A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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- JPS61255343A JPS61255343A JP9877685A JP9877685A JPS61255343A JP S61255343 A JPS61255343 A JP S61255343A JP 9877685 A JP9877685 A JP 9877685A JP 9877685 A JP9877685 A JP 9877685A JP S61255343 A JPS61255343 A JP S61255343A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/3003—Materials characterised by the use of combinations of photographic compounds known as such, or by a particular location in the photographic element
- G03C7/3005—Combinations of couplers and photographic additives
- G03C7/3008—Combinations of couplers having the coupling site in rings of cyclic compounds and photographic additives
- G03C7/301—Combinations of couplers having the coupling site in pyrazoloazole rings and photographic additives
-
- G—PHYSICS
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- G03C7/392—Additives
- G03C7/39208—Organic compounds
- G03C7/39228—Organic compounds with a sulfur-containing function
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はハロゲン化銀写真感光材料に関し、さ料に関す
るものである。
るものである。
[発明の背景]
従来から、へログン化銀カラー写真感光材料を画*vi
光し、発色現像を行なうことにより、芳香族第1級アミ
ン現像主薬の廐化体ど発色剤とがカップリング反応を行
なって、例えばインドフェノール、インドアニリン、イ
ンダミン、アゾメチン、フェノキサジン、フェナジンお
よびそれらに類似する色素を生成し、色素画像が形成さ
れることは良く知られているところである。
光し、発色現像を行なうことにより、芳香族第1級アミ
ン現像主薬の廐化体ど発色剤とがカップリング反応を行
なって、例えばインドフェノール、インドアニリン、イ
ンダミン、アゾメチン、フェノキサジン、フェナジンお
よびそれらに類似する色素を生成し、色素画像が形成さ
れることは良く知られているところである。
イエロー色素画像を形成させるために用いられるカプラ
ーとしては、例えばアシルアセトアニリド系カプラーが
あり、またマゼンタ色素画像を形成させるために用いら
れるカプラーとしては、例えば、ピラゾロン、ピラゾロ
ベンズイミダゾール、ピラゾロトリアゾールまたはイン
ダシロン系カプラーがあり、さらにシアン色素画像形成
用のカプラーとしては、例えば、フェノールまたはナフ
トール系カプラーが一般的に用いられている。
ーとしては、例えばアシルアセトアニリド系カプラーが
あり、またマゼンタ色素画像を形成させるために用いら
れるカプラーとしては、例えば、ピラゾロン、ピラゾロ
ベンズイミダゾール、ピラゾロトリアゾールまたはイン
ダシロン系カプラーがあり、さらにシアン色素画像形成
用のカプラーとしては、例えば、フェノールまたはナフ
トール系カプラーが一般的に用いられている。
特にマゼンタ色素画像を形成されるために広く使用され
ているカプラーは、1.2−ピラゾロ−5−オン類であ
る。このカプラー類から形成される色素は550rv付
近の主吸収以外−に430nl付近に副吸収を有してお
り、この黄色成分の副吸収により色濁りを生じ、色再現
性上大きな問題であった。
ているカプラーは、1.2−ピラゾロ−5−オン類であ
る。このカプラー類から形成される色素は550rv付
近の主吸収以外−に430nl付近に副吸収を有してお
り、この黄色成分の副吸収により色濁りを生じ、色再現
性上大きな問題であった。
ざらに、マゼンタカプラーの場合、未発色部の光、熱お
よび湿度によるイエロースティンが、シアンカプラーや
イエローカプラーに比べて極めて大きいので、画像保存
性を向上させるための欠点となっていた。
よび湿度によるイエロースティンが、シアンカプラーや
イエローカプラーに比べて極めて大きいので、画像保存
性を向上させるための欠点となっていた。
上記黄色成分の副吸収と共にイエロースティンが良好に
改良されたマゼンタカプラーとして、米国特許3,72
5,067号、特開昭59−99437号、特開昭59
−162548号、特開昭59−171956号、リサ
ーチφディスクロージャー誌24220号、同2423
0号及びこれらの公報に記載のピラゾロトリアゾール光
等マゼンタカプラーから形成される色素は、430na
+付近の副吸収が、前記の3位にアニリノ基を有する1
、2−ピラゾロ−5−オン類から形成される色素よりも
著しく小さいので、色再現が良好で、その上、光、熱お
よび湿度に対する未発色部のイエロースティンの発生も
極めて小さく良好な性能を有している。
改良されたマゼンタカプラーとして、米国特許3,72
5,067号、特開昭59−99437号、特開昭59
−162548号、特開昭59−171956号、リサ
ーチφディスクロージャー誌24220号、同2423
0号及びこれらの公報に記載のピラゾロトリアゾール光
等マゼンタカプラーから形成される色素は、430na
+付近の副吸収が、前記の3位にアニリノ基を有する1
、2−ピラゾロ−5−オン類から形成される色素よりも
著しく小さいので、色再現が良好で、その上、光、熱お
よび湿度に対する未発色部のイエロースティンの発生も
極めて小さく良好な性能を有している。
上記ピラゾロトリアゾール光等マゼンタカプラーから形
成される色素は前記のように優れた特性を有しており、
特にカラーベーパーに適用された場合、この優れた特性
が十分に発揮される。
成される色素は前記のように優れた特性を有しており、
特にカラーベーパーに適用された場合、この優れた特性
が十分に発揮される。
一般的に、カラーベーパーで使用されるハロゲン化錫乳
剤はほとんどが塩臭化銀である。この理由は、カラーベ
ーパーの場合、通常イエローフィルタ一層が設けられな
いために色再現上ハロゲン化銀乳剤の固有感度が低い方
が好ましいこと、さらに現像処理工程においてヨードイ
オンが処理液中に流出すると現像阻害、並びに脱銀不良
を生じるので、ハロゲン化銀組成として沃化銀を含まな
いことが好ましいことによる。
剤はほとんどが塩臭化銀である。この理由は、カラーベ
ーパーの場合、通常イエローフィルタ一層が設けられな
いために色再現上ハロゲン化銀乳剤の固有感度が低い方
が好ましいこと、さらに現像処理工程においてヨードイ
オンが処理液中に流出すると現像阻害、並びに脱銀不良
を生じるので、ハロゲン化銀組成として沃化銀を含まな
いことが好ましいことによる。
したがって上記ピラゾロトリアゾール光等マゼンタカプ
ラーをカラーベーパーに適用する場合、ハロゲン化銀乳
剤としては塩臭化銀乳剤と組合せることが最も好ましい
。
ラーをカラーベーパーに適用する場合、ハロゲン化銀乳
剤としては塩臭化銀乳剤と組合せることが最も好ましい
。
しかしながら、上記ピラゾロトリアゾール光等マゼンタ
カプラーと塩臭化銀乳剤を組合せた場合、経時保存にお
いて階調の硬調化が、3位にアニリノ基を有する1、2
−ピラゾロ−5−オン類マゼンタカプラーと比べて大き
いことが判明した。
カプラーと塩臭化銀乳剤を組合せた場合、経時保存にお
いて階調の硬調化が、3位にアニリノ基を有する1、2
−ピラゾロ−5−オン類マゼンタカプラーと比べて大き
いことが判明した。
また、通常、カラーベーパーでは、製造後、ラボで使用
される迄は冷蔵庫に保管されているが、この場合におい
ても階調の変化を生じる。
される迄は冷蔵庫に保管されているが、この場合におい
ても階調の変化を生じる。
一般にカラー写真感光材料は、シアンカプラーを含む赤
感性ハロゲン化銀乳剤層、マゼンタカプラーを含む緑感
性ハロゲン化銀乳剤層、イエローカプラーを含む青感性
八日ゲ〕/化銀乳剤層から成る。
感性ハロゲン化銀乳剤層、マゼンタカプラーを含む緑感
性ハロゲン化銀乳剤層、イエローカプラーを含む青感性
八日ゲ〕/化銀乳剤層から成る。
F記ピラゾロトリアゾール系等マゼンタカプラーを含む
緑感性塩臭化銀乳剤層の階調が経時により硬調化するこ
とで、赤感性、緑感性、ならびにPI感性ハロゲン化銀
乳剤Hの3層の階調バランスがくずれ、良好な仕上りの
カラープリントが得られないことがある。このためラボ
にとっては収率の低下を生じ、またユーザーにとっては
希望するの特性を活かし、色再現性、1iifli>保
存性に優れた仕上りプリントを提供するためには、経時
保存による階調の硬調化を改良する技術の開発が不可欠
となる。
緑感性塩臭化銀乳剤層の階調が経時により硬調化するこ
とで、赤感性、緑感性、ならびにPI感性ハロゲン化銀
乳剤Hの3層の階調バランスがくずれ、良好な仕上りの
カラープリントが得られないことがある。このためラボ
にとっては収率の低下を生じ、またユーザーにとっては
希望するの特性を活かし、色再現性、1iifli>保
存性に優れた仕上りプリントを提供するためには、経時
保存による階調の硬調化を改良する技術の開発が不可欠
となる。
[発明の目的]
本発明の目的は、マゼンタカプラーを使用した場合の緑
感性塩臭化銀乳剤の保存によるNWI化が改良されたハ
ロゲン化銀写真感光材料を提供することにある。
感性塩臭化銀乳剤の保存によるNWI化が改良されたハ
ロゲン化銀写真感光材料を提供することにある。
ざらに本発明の別の目的は色再現性、画像保存性に優れ
たハロゲン化銀カラー写真感光材料を提供することにあ
る。その他の目的は以下の記載から明らかになろう。
たハロゲン化銀カラー写真感光材料を提供することにあ
る。その他の目的は以下の記載から明らかになろう。
[発明の構成]
本発明の上記目的は、支持体上に、少な(とも11のハ
ロゲン化銀乳剤層および少なくとも1層の非感光性層か
ら構成された写真構成前を有するハロゲン化銀写真感光
材料において、前記ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも1
11に下記一般式[I]で示されるマゼンタカプラーの
少なくとも1つおよび塩臭化銀乳剤を含有し、かつ前記
写真構成前の少なくとも一層に下記一般式[Xnlで示
される化合物を含有するハロゲン化銀写真感光材料によ
り達成される。
ロゲン化銀乳剤層および少なくとも1層の非感光性層か
ら構成された写真構成前を有するハロゲン化銀写真感光
材料において、前記ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも1
11に下記一般式[I]で示されるマゼンタカプラーの
少なくとも1つおよび塩臭化銀乳剤を含有し、かつ前記
写真構成前の少なくとも一層に下記一般式[Xnlで示
される化合物を含有するハロゲン化銀写真感光材料によ
り達成される。
一般式[I]
[式中7は含窒素複素環を形成するに必要な非金属原子
群を表し、該Zにより形成される環は置換基を有しても
よい。
群を表し、該Zにより形成される環は置換基を有しても
よい。
Xは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱しつる置換基を表す。
り離脱しつる置換基を表す。
またRは水素原子または置換基を表す。]一般式[XI
rコ o −8H [式中、zOは複素環残基を表わす。][発明の具体的
構成] 以下余白 次に本発明を具体的に説明する。
rコ o −8H [式中、zOは複素環残基を表わす。][発明の具体的
構成] 以下余白 次に本発明を具体的に説明する。
本発明に係る前記一般式(I)
一般式CI)
!
で表されるマゼンタカプラーに於いて、Zは含窒素複素
環を形成するに必要な非金属原子群を表し、該Zにより
形成される環は置換基を有してもよい。
環を形成するに必要な非金属原子群を表し、該Zにより
形成される環は置換基を有してもよい。
Xは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱しうる置換基を表す。
り離脱しうる置換基を表す。
またRは水素原子または置換基を表す。
府記Rの表す置換基としては、例えばハロゲン原子、ア
ルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロア
ルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、
アシル基、スルホニル基、スルフィニル基、ホスホニル
基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、ス
ピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シロキシ!
−7シルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基、
アシルアミノ基、スルポンアミド基、イミド基、ウレイ
ド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル
アミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基が挙げら
れる。
ルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロア
ルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、
アシル基、スルホニル基、スルフィニル基、ホスホニル
基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、ス
ピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シロキシ!
−7シルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基、
アシルアミノ基、スルポンアミド基、イミド基、ウレイ
ド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル
アミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基が挙げら
れる。
ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子が挙
げられ、特に塩素原子が好ましい。
げられ、特に塩素原子が好ましい。
Rで表されるアルキル基としては、炭素数1〜32のも
の、アルケニル基、アルキニル基としては炭素数2〜3
2のもの、シクロアルキル基、シクロアルケニル基とし
ては炭素数3〜■2、特に5〜7のものが好ましく、ア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基は直鎖でも分岐
でもよい。
の、アルケニル基、アルキニル基としては炭素数2〜3
2のもの、シクロアルキル基、シクロアルケニル基とし
ては炭素数3〜■2、特に5〜7のものが好ましく、ア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基は直鎖でも分岐
でもよい。
また、これらアルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、シクロアルキル基、シクロアルケニル基は置換基〔例
えばアリール、シアハハロゲン原子、ヘテロ環、シクロ
アルキル、シクロアルケニル、スピo 化合物NK−t
t虐率ル↓志ル人〜−一一基の他、アシル、カルボキシ
、カルバモイル、アルコキシカルボニル、アリールオキ
シカルボニルの如くカルボニル基を介して置換するもの
、更にはへテロ原子を介して置換するもの(具体的には
ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロ環オ
キシ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモイルオキシ等
の酸素原子を介して置換するもの、ニトロ、アミノ(ジ
アルキルアミノ等を含む)、スルファモイルアミノ、ア
ルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニル
アミノ、アシルアミノ、スルホンアミド、イミド、ウレ
イド等の窒素原子を介して置換するもの、アルキルチオ
、アリールチオ、ヘテロ環チオ、スルホニル、スルフィ
ニル、スルファモイル等の硫黄原子を介して置換するも
の、ホスホニル等の燐原子を介して置換するもの等)〕
を有していてもよい。
、シクロアルキル基、シクロアルケニル基は置換基〔例
えばアリール、シアハハロゲン原子、ヘテロ環、シクロ
アルキル、シクロアルケニル、スピo 化合物NK−t
t虐率ル↓志ル人〜−一一基の他、アシル、カルボキシ
、カルバモイル、アルコキシカルボニル、アリールオキ
シカルボニルの如くカルボニル基を介して置換するもの
、更にはへテロ原子を介して置換するもの(具体的には
ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロ環オ
キシ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモイルオキシ等
の酸素原子を介して置換するもの、ニトロ、アミノ(ジ
アルキルアミノ等を含む)、スルファモイルアミノ、ア
ルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニル
アミノ、アシルアミノ、スルホンアミド、イミド、ウレ
イド等の窒素原子を介して置換するもの、アルキルチオ
、アリールチオ、ヘテロ環チオ、スルホニル、スルフィ
ニル、スルファモイル等の硫黄原子を介して置換するも
の、ホスホニル等の燐原子を介して置換するもの等)〕
を有していてもよい。
具体的には例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基
、t−ブチル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、l
−ヘキシルノニル基、1.1・−ジペンチルノニル基、
2−クロル−t−ブチル基、トリフルオロメチル基、!
−エトキシトリデシル基、1−メトキシイソプロピル基
、メタンスルホニルエチル基、2.4−ジ−t−アミル
フェノキシメチル基、アニリノ基、■−フェニルイソプ
ロピル基、3−m−ブタンスルホンアミノフェノキシプ
ロピル基、3−4・−(α−〔4・・(p−ヒドロキシ
ベンゼンスルホニル)フェノキシフドデカノイルアミノ
)フェニルプロピル基、314・−〔α〜(2・・、4
・I−ジ−t−アミルフェノキシ)ブタンアミド〕フェ
ニル)−プロピル基、4−〔α−(〇−クロルフェノキ
シ)テトラデカンアミドフェノキシフプロピル基、アリ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。
、t−ブチル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、l
−ヘキシルノニル基、1.1・−ジペンチルノニル基、
2−クロル−t−ブチル基、トリフルオロメチル基、!
−エトキシトリデシル基、1−メトキシイソプロピル基
、メタンスルホニルエチル基、2.4−ジ−t−アミル
フェノキシメチル基、アニリノ基、■−フェニルイソプ
ロピル基、3−m−ブタンスルホンアミノフェノキシプ
ロピル基、3−4・−(α−〔4・・(p−ヒドロキシ
ベンゼンスルホニル)フェノキシフドデカノイルアミノ
)フェニルプロピル基、314・−〔α〜(2・・、4
・I−ジ−t−アミルフェノキシ)ブタンアミド〕フェ
ニル)−プロピル基、4−〔α−(〇−クロルフェノキ
シ)テトラデカンアミドフェノキシフプロピル基、アリ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。
Rで表されるアリール基としてはフェニル基が好ましく
、置換基(例えば、アルキル基、アルコキシ基、アシル
アミノ基等)を育していてもよい。
、置換基(例えば、アルキル基、アルコキシ基、アシル
アミノ基等)を育していてもよい。
具体的には、フェニル基、4−t−ブチルフェニル基、
2.4−ジ−t−アミルフェニル基、4−テトラデカン
アミドフェニル基、ヘキサデシロキシフェニル基、4・
−〔α−(4・・−t−ブチルフェノキシ)テトラデカ
ンアミドフェニル基等が挙げられる。
2.4−ジ−t−アミルフェニル基、4−テトラデカン
アミドフェニル基、ヘキサデシロキシフェニル基、4・
−〔α−(4・・−t−ブチルフェノキシ)テトラデカ
ンアミドフェニル基等が挙げられる。
Rで表されるヘテロ環基としては5〜7員のものが好ま
しく、置換されていてもよく、又縮合していてもよい。
しく、置換されていてもよく、又縮合していてもよい。
具体的には2−フリル基、2−チェニル基、2−ピリミ
ジニル基、2−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。
ジニル基、2−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。
Rで表されるアシル基としては、例えばアセチル基、フ
ェニルアセチル基、ドデカノイル基、α−2,4−ジ−
t−アミルフェノキシブタノイル基等のアルキルカルボ
ニル基、ベンゾイル基、3−ペンタデシルオキシベンゾ
イル基、p−クロルベンゾイル基等のアリールカルボニ
ル基等が挙げられる。
ェニルアセチル基、ドデカノイル基、α−2,4−ジ−
t−アミルフェノキシブタノイル基等のアルキルカルボ
ニル基、ベンゾイル基、3−ペンタデシルオキシベンゾ
イル基、p−クロルベンゾイル基等のアリールカルボニ
ル基等が挙げられる。
Rで表されるスルホニル基としてはメチルスルホニル基
、ドデシルスルホニル基の如きアルキルスルホニル基、
ベンゼンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基の如
きアリールスルホニル基等が挙げられる。
、ドデシルスルホニル基の如きアルキルスルホニル基、
ベンゼンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基の如
きアリールスルホニル基等が挙げられる。
Rで表されるスルフィニル基としては、エチルスルフィ
ニル基、オクチルスルフィニル基、3−フェノキシブチ
ルスルフィニル基の如きアルキルスルフィニル基、フェ
ニルスルフィニル基、m−ペンタデシルフヱニルスルフ
ィニル基の如きアリールスルフィニル基等が挙げられる
。
ニル基、オクチルスルフィニル基、3−フェノキシブチ
ルスルフィニル基の如きアルキルスルフィニル基、フェ
ニルスルフィニル基、m−ペンタデシルフヱニルスルフ
ィニル基の如きアリールスルフィニル基等が挙げられる
。
Rで表されるホスホニル基としてはブチルオクチルホス
ホニル基の如きアルキルホスホニル基、オクチルオキシ
ホスホニル基の如きアルコキシホスホニル基、フェノキ
シホスホニル基の如きアリールオキシホスホニル基、フ
ェニルホスホニル基の如きアリールホスホニル基等が挙
げられる。
ホニル基の如きアルキルホスホニル基、オクチルオキシ
ホスホニル基の如きアルコキシホスホニル基、フェノキ
シホスホニル基の如きアリールオキシホスホニル基、フ
ェニルホスホニル基の如きアリールホスホニル基等が挙
げられる。
Rで表されるカルバモイル基は、アルキル基、アリール
基(好ましくはフェニル基)等が置換していてもよく、
例えばN−メチルカルバモイル基、N、N−ジブチルカ
ルバモイル基、N−(2−ペンタデシルオクチルエチル
)カルバモイル基、N−エチル−N−ドデシルカルバモ
イル基、N−(3−(2,4−ジ−t−アミルフェノキ
シ)プロピル)カルバモイル基等が挙げられる。
基(好ましくはフェニル基)等が置換していてもよく、
例えばN−メチルカルバモイル基、N、N−ジブチルカ
ルバモイル基、N−(2−ペンタデシルオクチルエチル
)カルバモイル基、N−エチル−N−ドデシルカルバモ
イル基、N−(3−(2,4−ジ−t−アミルフェノキ
シ)プロピル)カルバモイル基等が挙げられる。
以下余白
Rで表されるスルファモイル基はアルキル基、アリール
基(好ましくはフェニル基)等が置換していてもよく、
例えばN−プロピルスルファモイル基、N、N−ジエチ
ルスルファモイル基、N−(2−ペンタデシルオキシエ
チル)スルファモイル基、N−エチル−N−ドデシルス
ルファモイル基、N−フェニルスルファモイル基等が挙
げられる。
基(好ましくはフェニル基)等が置換していてもよく、
例えばN−プロピルスルファモイル基、N、N−ジエチ
ルスルファモイル基、N−(2−ペンタデシルオキシエ
チル)スルファモイル基、N−エチル−N−ドデシルス
ルファモイル基、N−フェニルスルファモイル基等が挙
げられる。
Rで表されるスピロ化合物残基としては例えばスピロ[
3,3]へブタン−1−イル等が挙げられる。
3,3]へブタン−1−イル等が挙げられる。
Rで表される有橋炭化化合物残基としては例えばビシク
ロ[2,2,1]へブタン−1−イル、トリシクロ[3
,3,1,M”コブカン−l−イル、7.7−ノメチル
ービシクロ[2,2,1]へブタン−1−イル等が挙げ
られる。
ロ[2,2,1]へブタン−1−イル、トリシクロ[3
,3,1,M”コブカン−l−イル、7.7−ノメチル
ービシクロ[2,2,1]へブタン−1−イル等が挙げ
られる。
Rで表されるアルコキシ基は、更に前記アルキル基への
置換基として挙げたものを置換していてもよく、例えば
メトキシ基、プロポキシ基、2−エトキシエトキシ基、
ペンタデシルオキシ基、2−ドデンルオキシエトキシ基
、フェネチルオキシエトキシ基等が挙げられる。
置換基として挙げたものを置換していてもよく、例えば
メトキシ基、プロポキシ基、2−エトキシエトキシ基、
ペンタデシルオキシ基、2−ドデンルオキシエトキシ基
、フェネチルオキシエトキシ基等が挙げられる。
Rで表されるアリールオキシ基としてはフェニルオキシ
が好ましく、アリール核は更に前記アリール基への置換
基又は原子として挙げたもので置換されていてもよく、
例えばフェノキシ基、p−t−ブチルフェノキシ基、m
−ペンタデシルフェノキシ基等が挙げられる。
が好ましく、アリール核は更に前記アリール基への置換
基又は原子として挙げたもので置換されていてもよく、
例えばフェノキシ基、p−t−ブチルフェノキシ基、m
−ペンタデシルフェノキシ基等が挙げられる。
Rで表されるヘテロ環オキシ基としては5〜7員のへテ
ロ環を有するものが好ましく該へテロ環は更に置換基を
有していてもよく、例えば、3゜4.5.6−テトラヒ
ドロピラニル−2−オキシ基、■−フェニルテトラゾー
ルー5−オキシ基が挙げられる。
ロ環を有するものが好ましく該へテロ環は更に置換基を
有していてもよく、例えば、3゜4.5.6−テトラヒ
ドロピラニル−2−オキシ基、■−フェニルテトラゾー
ルー5−オキシ基が挙げられる。
Rで表されるシロキシ基は、更にアルキル基等で置換さ
れていてもよく、例えば、トリメチルシロキシ基、トリ
エチルシロキシ基、ジメチルブチルシロキシ基等が挙げ
られる。
れていてもよく、例えば、トリメチルシロキシ基、トリ
エチルシロキシ基、ジメチルブチルシロキシ基等が挙げ
られる。
Rで表されるアシルオキシ基としては、例えばアルキル
カルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基等が
挙げられ、更に置換基を有していてもよく、具体的には
アセチルオキシ基、α−クロルアセチルオキシ基、ベン
ゾイルオキシ基等が挙げられる。
カルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基等が
挙げられ、更に置換基を有していてもよく、具体的には
アセチルオキシ基、α−クロルアセチルオキシ基、ベン
ゾイルオキシ基等が挙げられる。
Rで表されるカルバモイルオキシ基は、アルキル基、ア
リール基等が置換していてもよく、例えばN−エチルカ
ルバモイルオキシ基、N、N−ジエチルカルバモイルオ
キシ基、N−フェニルカルバモイルオキシ基等が挙げら
れる。
リール基等が置換していてもよく、例えばN−エチルカ
ルバモイルオキシ基、N、N−ジエチルカルバモイルオ
キシ基、N−フェニルカルバモイルオキシ基等が挙げら
れる。
Rで表されるアミン基はアルキル基、アリール基(好ま
しくはフェニル基)等で置換されていてもよく、例えば
エチルアミノ基、アニリノ基、m−クロルアニリノ基、
3−ペンタデシルオキシカルボニルアニリノ基、2−ク
ロル−5−ヘキサデカンアミドアニリノ基等が挙げられ
る。
しくはフェニル基)等で置換されていてもよく、例えば
エチルアミノ基、アニリノ基、m−クロルアニリノ基、
3−ペンタデシルオキシカルボニルアニリノ基、2−ク
ロル−5−ヘキサデカンアミドアニリノ基等が挙げられ
る。
Rで表されるアシルアミノ基としては、アルキルカルボ
ニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基(好ましく
はフェニルカルボニルアミノ基)等が挙げられ、更に置
換基を有してもよく具体的にはアセトアミド基、α−エ
チルプロパンアミド基、N−フェニルアセトアミド基、
ドデカンアミド基、2.4−ジ−t−アミルフェノキン
アセトアミド基、α−3−t−ブチル4−ヒドロキシフ
ェノキシブタンアミド基等が挙げられる。
ニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基(好ましく
はフェニルカルボニルアミノ基)等が挙げられ、更に置
換基を有してもよく具体的にはアセトアミド基、α−エ
チルプロパンアミド基、N−フェニルアセトアミド基、
ドデカンアミド基、2.4−ジ−t−アミルフェノキン
アセトアミド基、α−3−t−ブチル4−ヒドロキシフ
ェノキシブタンアミド基等が挙げられる。
Rで表されるスルホンアミド基としては、アルキルスル
ホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げ
られ、更に置換基を有してもよい。
ホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げ
られ、更に置換基を有してもよい。
具体的にはメチルスルホニルアミノ基、ペンタデシルス
ルホニルアミノ基、ベンゼンスルホンアミド基、p−ト
ルエンスルホンアミド基、2−メトキシ−5−t−アミ
ルベンゼンスルホンアミド基等が挙げられる。
ルホニルアミノ基、ベンゼンスルホンアミド基、p−ト
ルエンスルホンアミド基、2−メトキシ−5−t−アミ
ルベンゼンスルホンアミド基等が挙げられる。
Rで表されるイミド基は、開鎖状のものでも、環状のも
のでもよく、置換基を有していてもよく、例えばコハク
酸イミド基、3−ヘプタデシルコハク酸イミド基、フタ
ルイミド基、グルタルイミド基等が挙げられる。
のでもよく、置換基を有していてもよく、例えばコハク
酸イミド基、3−ヘプタデシルコハク酸イミド基、フタ
ルイミド基、グルタルイミド基等が挙げられる。
Rで表されるウレイド基は、アルキル基、アリール基(
好ましくはフェニル基)等により置換されていてもよく
、例えばN−エチルウレイド基、N−メチルーN−デシ
ルウレイド基、N−フェニルウレイド基、N−1)−ト
リルウレイド基等が挙げられる。
好ましくはフェニル基)等により置換されていてもよく
、例えばN−エチルウレイド基、N−メチルーN−デシ
ルウレイド基、N−フェニルウレイド基、N−1)−ト
リルウレイド基等が挙げられる。
Rで表されるスルファモイルアミノ基は、アルキル基、
アリール基(好ましくはフェニル基)等で置換されてい
てもよく、例えばN、N−ジブチルスルファモイルアミ
ノ基、N−メチルスルファモイルアミノ基、N−フェニ
ルスルファモイルアミノ基等が挙げられる。
アリール基(好ましくはフェニル基)等で置換されてい
てもよく、例えばN、N−ジブチルスルファモイルアミ
ノ基、N−メチルスルファモイルアミノ基、N−フェニ
ルスルファモイルアミノ基等が挙げられる。
Rで表されるアルコキシカルボニルアミノ基としては、
更に置換基を有していてもよく、例えばメトキシカルボ
ニルアミノ基、メトキシエトキシカルボニルアミノ基、
オクタデシルオキシカルボニルアミノ基等が挙げられる
。
更に置換基を有していてもよく、例えばメトキシカルボ
ニルアミノ基、メトキシエトキシカルボニルアミノ基、
オクタデシルオキシカルボニルアミノ基等が挙げられる
。
Rで表されるアリールオキシカルボニルアミノ基は、置
換基を存していてもよく、例えばフェノキシカルボニル
アミノ基、4−メチルフェノキシカルボニルアミノ基が
挙げられる。
換基を存していてもよく、例えばフェノキシカルボニル
アミノ基、4−メチルフェノキシカルボニルアミノ基が
挙げられる。
Rで表されるアルコキシカルボニル基は更に置換基を有
していてもよく、例えばメトキシカルボニル基、ブチル
オキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、オ
クタデシルオキシカルボニル基、エトキシメトキシカル
ボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニル基等が挙げ
られる。
していてもよく、例えばメトキシカルボニル基、ブチル
オキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、オ
クタデシルオキシカルボニル基、エトキシメトキシカル
ボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニル基等が挙げ
られる。
Rで表されるアリールオキシカルボニル基は更に置換基
を有していてもよく、例えばフェノキシカルボニル基、
p−クロルフェノキシカルボニル基、m−ペンタデシル
オキシフェノキシカルボニル基等が挙げられる。
を有していてもよく、例えばフェノキシカルボニル基、
p−クロルフェノキシカルボニル基、m−ペンタデシル
オキシフェノキシカルボニル基等が挙げられる。
Rで表されるアルキルチオ基は、更に置換基を有してい
てもよく、例えば、エチルチオ基、ドデシルチオ基、オ
クタデシルチオ基、フェネチルチオ基、3−フェノキシ
プロピルチオ基が挙げられる。
てもよく、例えば、エチルチオ基、ドデシルチオ基、オ
クタデシルチオ基、フェネチルチオ基、3−フェノキシ
プロピルチオ基が挙げられる。
Rで表されるアリールチオ基はフェニルチオ基が好まし
く更に置換基を有してもよく、例えばフェニルチオ基、
p−メトキシフェニルチオ基、2−t−オクチルフェニ
ルチオ基、3−オクタデシルフェニルチオ基、2−カル
ボキシフェニルチオ基、p−アセトアミノフェニルチオ
基等が挙げられる。
く更に置換基を有してもよく、例えばフェニルチオ基、
p−メトキシフェニルチオ基、2−t−オクチルフェニ
ルチオ基、3−オクタデシルフェニルチオ基、2−カル
ボキシフェニルチオ基、p−アセトアミノフェニルチオ
基等が挙げられる。
Rで表されるペテロ環チオ基としては、5〜7員のへテ
ロ環チオ基が好ましく、更に縮合環を有してもよく、又
置換基を有していてもよい。例えば2−ピリジルチオ基
、2−ベンゾチアゾリルチオ基、2.4−ジフェノキシ
−1,3,5−)リアゾール−6−チオ基が挙げられる
。
ロ環チオ基が好ましく、更に縮合環を有してもよく、又
置換基を有していてもよい。例えば2−ピリジルチオ基
、2−ベンゾチアゾリルチオ基、2.4−ジフェノキシ
−1,3,5−)リアゾール−6−チオ基が挙げられる
。
Xの表す発色現像主薬の酸化体との反応により離脱しう
る置換基としては、例えばハロゲン原子(塩素原子、臭
素原子、フッソ原子等)の低炭素原子、酸素原子、硫黄
原子または窒素原子を介して置換する基が挙げられる。
る置換基としては、例えばハロゲン原子(塩素原子、臭
素原子、フッソ原子等)の低炭素原子、酸素原子、硫黄
原子または窒素原子を介して置換する基が挙げられる。
炭素原子を介して置換する基としては、カルボキシル基
の他例えば一般式 (R1・は前記Rと同義であり、Z・は前記Zと同義で
あり、R9・及びR3・は水素原子、アリール基、アル
キル基又はへテロ環基を表す。)で示される基、ヒドロ
キシメチル基、トリフェニルメチル基が挙げられる。
の他例えば一般式 (R1・は前記Rと同義であり、Z・は前記Zと同義で
あり、R9・及びR3・は水素原子、アリール基、アル
キル基又はへテロ環基を表す。)で示される基、ヒドロ
キシメチル基、トリフェニルメチル基が挙げられる。
酸素原子を介して置換する基としては例えばアルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキ
シ基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルオ
キサリルオキシ基、アルコキシオキサリルオキシ基が挙
げられる。
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキ
シ基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルオ
キサリルオキシ基、アルコキシオキサリルオキシ基が挙
げられる。
該アルコキシ基は更に置換基を有してもよく、例えば、
エトキシ基、2−フェノキシエトキシ基、2−シアノエ
トキシ基、フェネチルオキシ基、p−クロルベンジルオ
キシ基等が挙げられる。
エトキシ基、2−フェノキシエトキシ基、2−シアノエ
トキシ基、フェネチルオキシ基、p−クロルベンジルオ
キシ基等が挙げられる。
該アリールオキシ基としては、フェノキシ基が好ましく
、該アリール基は、更に置換基を有していてもよい。具
体的にはフェノキシ基、3−メチルフェノキシ基、3−
ドデシルフェノキシ基、4−メタンスルホンアミドフェ
ノキシ基、4−〔α−(3・−ペンタデシルフェノキシ
)ブタンアミド〕フェノキシ基、ヘキシデシルカルバモ
イルメトキシ基、4−シアノフェノキシ基、4−メタン
スルホニルフェノキシ基、l−ナフチルオキシ基、p−
メトキシフェノキシ基等が挙げられる。
、該アリール基は、更に置換基を有していてもよい。具
体的にはフェノキシ基、3−メチルフェノキシ基、3−
ドデシルフェノキシ基、4−メタンスルホンアミドフェ
ノキシ基、4−〔α−(3・−ペンタデシルフェノキシ
)ブタンアミド〕フェノキシ基、ヘキシデシルカルバモ
イルメトキシ基、4−シアノフェノキシ基、4−メタン
スルホニルフェノキシ基、l−ナフチルオキシ基、p−
メトキシフェノキシ基等が挙げられる。
該へテロ環オキシ基としては、5〜7員のへテロ環オキ
シ基が好ましく、縮合環であってもよく、又置換基を有
していてもよい。具体的には、l−フェニルテトラゾリ
ルオキシ基、2−ベンゾチアゾリルオキシ基等が挙げら
れる。
シ基が好ましく、縮合環であってもよく、又置換基を有
していてもよい。具体的には、l−フェニルテトラゾリ
ルオキシ基、2−ベンゾチアゾリルオキシ基等が挙げら
れる。
該アシルオキシ基としては、例えばアセトキシ基、ブタ
ツルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、シンナ
モイルオキシ基の如きアルケニルカルボニルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基の如きアリールカルボニルオキシ基
が挙げられる。
ツルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、シンナ
モイルオキシ基の如きアルケニルカルボニルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基の如きアリールカルボニルオキシ基
が挙げられる。
該スルホニルオキシ基としては、例えばブタンスルホニ
ルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基が挙げられる。
ルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基が挙げられる。
該アルコキシカルボニルオキシ基としては、例えばエト
キシカルボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニルオ
キシ基が挙げられる。
キシカルボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニルオ
キシ基が挙げられる。
該アリールオキシカルボニル基としてはフェノキシカル
ボニルオキシ基等が挙げられる。
ボニルオキシ基等が挙げられる。
該アルキルオキサリルオキシ基としては、例えばメチル
オキサリルオキシ基が挙げられる。
オキサリルオキシ基が挙げられる。
該アルコキシオキサリルオキシ基としては、エトキシオ
キサリルオキシ基等が挙げられる。
キサリルオキシ基等が挙げられる。
硫黄原子を介して置換する基としては、例えばアルキル
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルオ
キシチオカルボニルチオ基が挙げられる。
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルオ
キシチオカルボニルチオ基が挙げられる。
該アルキルチオ基としては、ブチルチオ基、2−シアノ
エチルチオ基、フェネチルチオ基、ベンジルチオ基等が
挙げられる。
エチルチオ基、フェネチルチオ基、ベンジルチオ基等が
挙げられる。
該アリールチオ基としてはフェニルチオ基、4−メタン
スルホンアミドフェニルチオ基、4−ドデシルフェネチ
ルチオ基、4−ノナフルオロペンタンアミドフェネチル
チオ基、4−カルボキシフェニルチオ基、2−エトキシ
−5〜t−ブチルフェニルチオ基等が挙げられる。
スルホンアミドフェニルチオ基、4−ドデシルフェネチ
ルチオ基、4−ノナフルオロペンタンアミドフェネチル
チオ基、4−カルボキシフェニルチオ基、2−エトキシ
−5〜t−ブチルフェニルチオ基等が挙げられる。
該ヘテロ環チオ基としては、例えば1−フェニル−1,
2,3,4−テトラゾリル−5−チオ基、2−ベンゾチ
アゾリルチオ基等が挙げられる。
2,3,4−テトラゾリル−5−チオ基、2−ベンゾチ
アゾリルチオ基等が挙げられる。
該アルキルオキシチオカルボニルチオ基としては、ドデ
シルオキシチオカルボニルチオ基等が挙げられる。
シルオキシチオカルボニルチオ基等が挙げられる。
F記窒素原子を介して置換する基としては、例えば一般
式−N で示されるものが挙げられアリール基、ヘ
テロ環基、スルファモイル基、カルバモイル基、アシル
基、スルホニル基、アリールオキシカルボニル基、アル
コキシカルボニル基を表し、R4・とR6・は結合して
ヘテロ環を形成しでもよい。但しR4・とR5・が共に
水素原子であることはない。
式−N で示されるものが挙げられアリール基、ヘ
テロ環基、スルファモイル基、カルバモイル基、アシル
基、スルホニル基、アリールオキシカルボニル基、アル
コキシカルボニル基を表し、R4・とR6・は結合して
ヘテロ環を形成しでもよい。但しR4・とR5・が共に
水素原子であることはない。
該アルキル基は直鎖でも分岐でもよく、好ましくは、炭
素数1〜22のものである。又、アルキル基は、置換基
を有していてもよく、置換基としては例えばアリール基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基
、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イミノ基、アシ
ル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルオキシ
カルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ハロ
ゲン原子が挙げられる。
素数1〜22のものである。又、アルキル基は、置換基
を有していてもよく、置換基としては例えばアリール基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基
、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イミノ基、アシ
ル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルオキシ
カルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ハロ
ゲン原子が挙げられる。
該アルキル基の具体的なものとしては、例えばエチル基
、オキチル基、2−エチルヘキシル基、2−クロルエチ
ル基が挙げられる。
、オキチル基、2−エチルヘキシル基、2−クロルエチ
ル基が挙げられる。
R4・又はR2・で表されるアリール基としては、炭素
数6〜32、特にフェニル基、ナフチル基が好ましく、
該アリール基は、置換基を有してもよく置換基としては
上記R6・又はR6・で表されるアルキル基への置換基
として挙げたもの及びアルキル基が挙げられる。該アリ
ール基として具体的なものとしては、例えばフェニル基
、1−ナフチル基、4−メチルスルホニルフェニル基が
挙げられる。
数6〜32、特にフェニル基、ナフチル基が好ましく、
該アリール基は、置換基を有してもよく置換基としては
上記R6・又はR6・で表されるアルキル基への置換基
として挙げたもの及びアルキル基が挙げられる。該アリ
ール基として具体的なものとしては、例えばフェニル基
、1−ナフチル基、4−メチルスルホニルフェニル基が
挙げられる。
R4・又はRs・で表されるヘテロ環基としては5〜6
員のものが好ましく、縮合環であってもよく、置換基を
有してもよい。具体例としては、2−フリル基、2−キ
ノリル基、2−ピリミジル基、2−ベンゾチアゾリル基
、2−ピリジル基等が挙げられる。
員のものが好ましく、縮合環であってもよく、置換基を
有してもよい。具体例としては、2−フリル基、2−キ
ノリル基、2−ピリミジル基、2−ベンゾチアゾリル基
、2−ピリジル基等が挙げられる。
R4・又はR5・で表されるスルファモイル基としては
、N−アルキルスルファモイル基、N、N−ジアルキル
スルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N
、N−ジアリールスルファモイル基等が挙げられ、これ
らのアルキル基及びアリール基は面記アルキル基及びア
リール基について挙げた置換基を有してていもよい。ス
ルファモイル基の具体例としては例えばN、N−ジエチ
ルスルファモイル基、N−メチルスルファモイル基、N
−ドデシルスルファモイル基、N−p−トリルスルファ
モイル基が挙げられる。
、N−アルキルスルファモイル基、N、N−ジアルキル
スルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N
、N−ジアリールスルファモイル基等が挙げられ、これ
らのアルキル基及びアリール基は面記アルキル基及びア
リール基について挙げた置換基を有してていもよい。ス
ルファモイル基の具体例としては例えばN、N−ジエチ
ルスルファモイル基、N−メチルスルファモイル基、N
−ドデシルスルファモイル基、N−p−トリルスルファ
モイル基が挙げられる。
R4・又はR6・で表されるカルバモイル基としては、
N−アルキルカルバモイル基、N、N−ジアルキルカル
バモイル基、N−アリールカルバモイル基、N、N−ジ
アリールカルバモイル基等が挙げられ、これらのアルキ
ル基及びアリール基は前記アルキル基及びアリール基に
ついて挙げた置換基を有していてもよい。カルバモイル
基の具体例としては例えばN、N−ジエチルカルバモイ
ル基、N−メチルカルバモイル基、N−ドデシルカルバ
モイル基、N−p−シアノフェニルカルバモイル基、N
−p−トリルカルバモイル基が挙げられる。
N−アルキルカルバモイル基、N、N−ジアルキルカル
バモイル基、N−アリールカルバモイル基、N、N−ジ
アリールカルバモイル基等が挙げられ、これらのアルキ
ル基及びアリール基は前記アルキル基及びアリール基に
ついて挙げた置換基を有していてもよい。カルバモイル
基の具体例としては例えばN、N−ジエチルカルバモイ
ル基、N−メチルカルバモイル基、N−ドデシルカルバ
モイル基、N−p−シアノフェニルカルバモイル基、N
−p−トリルカルバモイル基が挙げられる。
R4・又はR6・で表されるアシル基としては、例えば
アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ
環カルボニル基が挙げられ、該アルキル基、該アリール
基、該ヘテロ環基は置換基を有していてもよい。アシル
基として具体的なものとしては、例えばヘキサフルオロ
ブタノイル基、2゜3.4.5.6−ペンタフルオロベ
ンゾイル基、アセチル基、ベンゾイル基、ナフトニル基
、2−フリルカルボニル基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ
環カルボニル基が挙げられ、該アルキル基、該アリール
基、該ヘテロ環基は置換基を有していてもよい。アシル
基として具体的なものとしては、例えばヘキサフルオロ
ブタノイル基、2゜3.4.5.6−ペンタフルオロベ
ンゾイル基、アセチル基、ベンゾイル基、ナフトニル基
、2−フリルカルボニル基等が挙げられる。
R4・又はRe’で表されるスルホニル基としては、ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環
スルホニル基が挙げられ、置換基を有してもよく、具体
的なものとしては例えばエタンスルホニル基、ベンゼン
スルホニル基、オクタンスルホニル基、ナフタレンスル
ホニル基、p−クロルベンゼンスルホニル基等が挙げら
れる。
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環
スルホニル基が挙げられ、置換基を有してもよく、具体
的なものとしては例えばエタンスルホニル基、ベンゼン
スルホニル基、オクタンスルホニル基、ナフタレンスル
ホニル基、p−クロルベンゼンスルホニル基等が挙げら
れる。
R4・又はR5・で表されるアリールオキシカルボニル
基は、前記アリール基について挙げたものを置換基とし
て有してもよく、具体的にはフェノキシカルボニル基等
が挙げられる。
基は、前記アリール基について挙げたものを置換基とし
て有してもよく、具体的にはフェノキシカルボニル基等
が挙げられる。
R4・又はR6・で表されるアルコキシカルボニル基は
、前記アルキル基について挙げた置換基を有してもよく
、具体的なものとしてはメトキシカルボニル基、ドデシ
ルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等
が挙げられる。
、前記アルキル基について挙げた置換基を有してもよく
、具体的なものとしてはメトキシカルボニル基、ドデシ
ルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等
が挙げられる。
R4・及びR6・が結合して形成するヘテロ環としては
5〜6員のものが好ましく、飽和でも、不飽和でもよく
、又、芳香族性を有していても、いなくてもよく、又、
縮合環でもよい。該ヘテロ環としては例えばN−フタル
イミド基、N−コハク酸イミド基、4−N−ウラゾリル
基、1−N−ヒダントイニル基、3−N−2,4−ジオ
キソオキサゾリジニル基、2−N−1,1−ジオキソ−
3−(2H)−オキソ−1,2−ベンズチアゾリル基、
l−ピロリル基、1−ピロリジニル基、■−ピラゾリル
基、!−ピラゾリジニル基、■−ピペリジニル基、1−
ピロリニル基、■−イミダゾリル基、■=イミダゾリニ
ル基、l−インドリル基、1−イソインドリニル基、2
−イソインドリル基、2−イソインドリニル基、l−ベ
ンゾトリアゾリル基、l−ベンゾイミダゾリル基、l
−(1,2,4−トリアゾリル)基、1−(12,3−
トリアゾリル)基、1−(1,2,3,4−テトラゾリ
ル)基、N−モルホリニル基、1.2.3.4−テトラ
ヒドロキノリル基、2−オキソ−1−ピロリジニル基、
2−IH−ピリドン基、フタラジオン基、2−オキソ−
1−ピペリジニル基等が挙げられ、これらへテロ環基は
アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリール
オキシ基、アシル基、スルホニル基、アルキルアミノ基
、アリールアミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミノ
基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、ウレイド基、アルコキシカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニル基、イミド基、ニトロ
基、シアノ基、カルボキシル基、ハロゲン原子等により
置換されていてもよい。
5〜6員のものが好ましく、飽和でも、不飽和でもよく
、又、芳香族性を有していても、いなくてもよく、又、
縮合環でもよい。該ヘテロ環としては例えばN−フタル
イミド基、N−コハク酸イミド基、4−N−ウラゾリル
基、1−N−ヒダントイニル基、3−N−2,4−ジオ
キソオキサゾリジニル基、2−N−1,1−ジオキソ−
3−(2H)−オキソ−1,2−ベンズチアゾリル基、
l−ピロリル基、1−ピロリジニル基、■−ピラゾリル
基、!−ピラゾリジニル基、■−ピペリジニル基、1−
ピロリニル基、■−イミダゾリル基、■=イミダゾリニ
ル基、l−インドリル基、1−イソインドリニル基、2
−イソインドリル基、2−イソインドリニル基、l−ベ
ンゾトリアゾリル基、l−ベンゾイミダゾリル基、l
−(1,2,4−トリアゾリル)基、1−(12,3−
トリアゾリル)基、1−(1,2,3,4−テトラゾリ
ル)基、N−モルホリニル基、1.2.3.4−テトラ
ヒドロキノリル基、2−オキソ−1−ピロリジニル基、
2−IH−ピリドン基、フタラジオン基、2−オキソ−
1−ピペリジニル基等が挙げられ、これらへテロ環基は
アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリール
オキシ基、アシル基、スルホニル基、アルキルアミノ基
、アリールアミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミノ
基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、ウレイド基、アルコキシカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニル基、イミド基、ニトロ
基、シアノ基、カルボキシル基、ハロゲン原子等により
置換されていてもよい。
またZ又はZ・により形成される含窒素複素環としては
、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環また
はテトラゾール環等が挙げられ、前記環が有してもよい
置換基としては前記Rについて述べたものが挙げられる
。
、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環また
はテトラゾール環等が挙げられ、前記環が有してもよい
置換基としては前記Rについて述べたものが挙げられる
。
又、一般式CI)及び後述の一般式(II)〜〔■〕に
於ける複素環上の置換基(例えば、R2H,−R8)が 部分(ここにR・・、X及びZ・・は一般式(1)にお
けるR、X、Zと同義である。)を有する場合、所謂ビ
ス体型カプラーを形成するが勿論本発明に包含される。
於ける複素環上の置換基(例えば、R2H,−R8)が 部分(ここにR・・、X及びZ・・は一般式(1)にお
けるR、X、Zと同義である。)を有する場合、所謂ビ
ス体型カプラーを形成するが勿論本発明に包含される。
又、Z、Z・、Z・・及び後述のZlにより形成される
環は、更に他の環(例えば5〜7員のシクロアルケン)
が縮合していてもよい。例えば一般式(V)においては
R6とR6が、一般式(VI)においてはR7とR8と
が、互いに結合して環(例えば5〜7員のシクロアルケ
ン、ベンゼン)を形成してもよい。
環は、更に他の環(例えば5〜7員のシクロアルケン)
が縮合していてもよい。例えば一般式(V)においては
R6とR6が、一般式(VI)においてはR7とR8と
が、互いに結合して環(例えば5〜7員のシクロアルケ
ン、ベンゼン)を形成してもよい。
以下余白
一般式CI)で表されるものは更に具体的には例えば下
記一般式(n)〜〔■〕により表される。
記一般式(n)〜〔■〕により表される。
一般式(II)
一般式〔■〕
N −N −N
一般式(IV)
N −N −NH
一般式(V)
一般式(VT)
N −N −88
一般式〔■〕
N −N −1
前記一般式(II)〜〔■〕に於いてR1−R8及びX
は前記R及びXと同義である。
は前記R及びXと同義である。
又、一般式〔I〕の中でも好ましいのは、下記一般式〔
■〕で表されるものである。
■〕で表されるものである。
一般式〔■〕
N−N、、’
式中R,,X及びZlは一般式CI)におけるRlX及
びZと同義である。
びZと同義である。
前記一般式(II)〜〔■〕で表されるマゼンタカプラ
ーの中で特に好ましいのものは一般式(I[)で表され
るマゼンタカプラーである。
ーの中で特に好ましいのものは一般式(I[)で表され
るマゼンタカプラーである。
又、一般式(I)〜〔■〕における複素環上の置換基に
ついていえば、一般式(I)においてはRが、また一般
式(n)〜〔■〕においてはR。
ついていえば、一般式(I)においてはRが、また一般
式(n)〜〔■〕においてはR。
が下記条件lを満足する場合が好ましく更に好ましいの
は下記条件1及び2を満足する場合であり、特に好まし
いのは下記条件1.2及び3を満足する場合である。
は下記条件1及び2を満足する場合であり、特に好まし
いのは下記条件1.2及び3を満足する場合である。
条件I 複素環に直結する根元原子が炭素原子である。
条件2 該炭素原子に水素原子が1個だけ結合している
、または全く結合していない。
、または全く結合していない。
条件3 該炭素原子と隣接原子との間の結合が全て単結
合である。
合である。
前記複素環上の置換基R及びR8として最も好ましいの
は、下記一般式(ff)により表されるものである。
は、下記一般式(ff)により表されるものである。
一般式(IX)
R。
IaC−
R1□
式中Rs 、 RIa及びR11はそれぞれ水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケ
ニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール
基、ヘテロ環基、アシル基、スルホニル基、スルフィニ
ル基、ホスホニル基、カルバモイル基、スルファモイル
基、シアノ基、スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物
残基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキ
シ基、シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキ
シ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
イミド基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アル
コキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニル
アミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ
環チオ基を表し、R9゜R3゜及びR11の少なくとも
2つは水素原子ではない。
ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケ
ニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール
基、ヘテロ環基、アシル基、スルホニル基、スルフィニ
ル基、ホスホニル基、カルバモイル基、スルファモイル
基、シアノ基、スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物
残基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキ
シ基、シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキ
シ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
イミド基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アル
コキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニル
アミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ
環チオ基を表し、R9゜R3゜及びR11の少なくとも
2つは水素原子ではない。
又、前記R1,RIO及びR11の中の2つ例えばR8
とR8゜は結合して飽和又は不飽和の環(例えばシクロ
アルカン、シクロアルケン、ヘテロ環)を形成してもよ
く、更に該環にR11が結合して有橋炭化水素化合物残
基を構成してもよい。
とR8゜は結合して飽和又は不飽和の環(例えばシクロ
アルカン、シクロアルケン、ヘテロ環)を形成してもよ
く、更に該環にR11が結合して有橋炭化水素化合物残
基を構成してもよい。
R9−R11により表される基は置換基を有してもよく
、R8−R1により表される基の具体例及び該基が有し
てもよい置換基としては、前述の一般式(I)における
Rが表す基の具体例及び置換基が挙げられる。
、R8−R1により表される基の具体例及び該基が有し
てもよい置換基としては、前述の一般式(I)における
Rが表す基の具体例及び置換基が挙げられる。
又、例えばR8とRIOが結合して形成する環及びR8
〜RIIにより形成される有橋炭化水素化合物残基の具
体例及びその有してもよい置換基としては、前述の一般
式CI)におけるRが表すシクロアルキル、シクロアル
ケニル、ヘテロ環基有橋炭化水素化合物残基の具体例及
びその置換基が挙げられる。
〜RIIにより形成される有橋炭化水素化合物残基の具
体例及びその有してもよい置換基としては、前述の一般
式CI)におけるRが表すシクロアルキル、シクロアル
ケニル、ヘテロ環基有橋炭化水素化合物残基の具体例及
びその置換基が挙げられる。
一般式(IX)の中でも好ましいのは、(i)R,〜R
IIの中の2つがアルキル基の場合、(ii)R,〜R
1の中の1つ例えばR11が水素原子であって、他の2
っR8とRIoが結合して根元炭素原子と共にシクロア
ルキルを形成する場合、 である。
IIの中の2つがアルキル基の場合、(ii)R,〜R
1の中の1つ例えばR11が水素原子であって、他の2
っR8とRIoが結合して根元炭素原子と共にシクロア
ルキルを形成する場合、 である。
更に(i)の中でも好ましいのは、R9−R1,の中の
2つがアルキル基であって、他の1つが水素原子または
アルキル基の場合である。
2つがアルキル基であって、他の1つが水素原子または
アルキル基の場合である。
ここに該アルキル、該シクロアルキルは更に置換基を有
してもよく該アルキル、該シクロアルキル及びその置換
基の具体例としては前記一般式(1)におけるRが表す
アルキル、シクロアルキル及びその置換基の具体例が挙
げられる。
してもよく該アルキル、該シクロアルキル及びその置換
基の具体例としては前記一般式(1)におけるRが表す
アルキル、シクロアルキル及びその置換基の具体例が挙
げられる。
以下余白
又1.一般式CI)におけるZにより形成される環及び
一般式〔■〕におけるZIにより形成される環が有して
もよい置換基、並びに一般式(n)〜(VI)における
R2−R8としては下記一般式(X)で表されるものが
好ましい。
一般式〔■〕におけるZIにより形成される環が有して
もよい置換基、並びに一般式(n)〜(VI)における
R2−R8としては下記一般式(X)で表されるものが
好ましい。
一般式(X)
−R’−5ot−R”
式中R1はアルキレンを、R1はアルキル、シクロアル
キルまたはアリールを表す。
キルまたはアリールを表す。
R1で示されるアルキレンは好ましくは直鎖部分の炭素
数が2以上、より好ましくは3ないし6であり、直鎮1
分岐を問わない。またこのアルキレンは置換基を有して
もよい。
数が2以上、より好ましくは3ないし6であり、直鎮1
分岐を問わない。またこのアルキレンは置換基を有して
もよい。
該置換基の例としては、前述の一般式CI)におけるR
がアルキル基の場合該アルキル基が有してもよい置換基
として示したものが挙げられる。
がアルキル基の場合該アルキル基が有してもよい置換基
として示したものが挙げられる。
置換基として好ましいものとしてはフェニルが挙げられ
る。
る。
R1で示されるアルキレンの、好ましい具体例を以下に
示す。
示す。
CH,C5H−C−H4
R1で示されるアルキル基は直鎖3分岐を問わない。
具体的にはメチル、エチル、プロピル、1so−プロピ
ル、ブチル、2−エチルヘキシル、オクチル、ドデシル
、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタダシル、2−ヘ
キシルデシルなどが挙げられる。
ル、ブチル、2−エチルヘキシル、オクチル、ドデシル
、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタダシル、2−ヘ
キシルデシルなどが挙げられる。
R2で示されるシクロアルキル基としては5〜6員のも
のが好ましく、例えばシクロヘキシルが挙げられる。
のが好ましく、例えばシクロヘキシルが挙げられる。
R″で示されるアルキル、シクロアルキルは置換基を有
してもよく、その例としては、前述のR1への置換基と
して例示したものが挙げられる。
してもよく、その例としては、前述のR1への置換基と
して例示したものが挙げられる。
R2で示されるアリールとしては具体的には、フェニル
、ナフチルが挙げられる。該アリール基は置換基を有し
てもよい。該置換基としては例えば直鎖ないし分岐のア
ルキルの他、前述のR1への置換基として例示したもの
が挙げられる。
、ナフチルが挙げられる。該アリール基は置換基を有し
てもよい。該置換基としては例えば直鎖ないし分岐のア
ルキルの他、前述のR1への置換基として例示したもの
が挙げられる。
また、置換基が2個以上ある場合それらの置換基は、同
一であっても異なっていてもよい。
一であっても異なっていてもよい。
一般式CI)で表される化合物の中でも特に好ましいの
は、下記一般式(XI)で表されるものである。
は、下記一般式(XI)で表されるものである。
一般式(XI)
式中、R,Xは一般式(I)におけるR、Xと同義であ
りRI 、 R*は、一般式(X)におけるR1゜R1
と同義である。
りRI 、 R*は、一般式(X)におけるR1゜R1
と同義である。
以下余白
2H5
C41I!
C121125
C,lI。
C2+11
以下余白
C2H。
C,H。
CH
CH,Cll3
C,H,り
10H21
C,、lI宜う
4H9
C,2H門
以下余白
C2115
2H5
C1l H
CaH++(t)
Jls
CJIy(t)
CJフ
Js
Hs
L
CマH□%
C,11%
以下余白
■
−ICs
Js
C4H1
0CII2CONHCH2CIItOCH30CH2C
II2SO2CH3 C211゜ ■ C,lIう C211ツ C,H。
II2SO2CH3 C211゜ ■ C,lIう C211ツ C,H。
C4H。
C2H。
C2H。
曇
CH。
以下余白
C,lI。
C,Il。
C,H9
IJ25
(:ll H
12H25
5llti
以下余白
11g
CH。
0C,II。
NIISOtC+5Hiz
C1l。
CJIt(t)
CaL(t)
CI。
CH。
CI13 CJ+t(1)■
L
C2+11
C7H,う
11、c CH。
以下余白
N −N −N
5O
N N N C+J
HN −N N C,Itm Cl。I□ N −N −N8N N N −N CJs ’ N N
H6O N N NH N N NH CJs (H,N−N NnN
N NH C,lI、 HH−N11C
Js C,lI。
HN −N N C,Itm Cl。I□ N −N −N8N N N −N CJs ’ N N
H6O N N NH N N NH CJs (H,N−N NnN
N NH C,lI、 HH−N11C
Js C,lI。
N N NH
N N NH
N N NH
+91
Ca Jts N N
NN N−N C山 Ca1ls ” ” 以下余白 また前記カプラーの合成はジャーナル・オブ・ザ・ケミ
カル・ソサイテイー、パーキンエ(Journal
of the Chemical 5ociety。
NN N−N C山 Ca1ls ” ” 以下余白 また前記カプラーの合成はジャーナル・オブ・ザ・ケミ
カル・ソサイテイー、パーキンエ(Journal
of the Chemical 5ociety。
Perkin I ) (1977) 、 2047
〜2052、米国特許3.725,06γ号、特開昭5
9−99437号及び特開昭58−42045号等を参
考にして合成を行った。
〜2052、米国特許3.725,06γ号、特開昭5
9−99437号及び特開昭58−42045号等を参
考にして合成を行った。
本発明のカプラーは通常ハロゲン化銀1モル当す1×1
0 モル乃至1モル好ましくは1 X 10=モル乃至
8X10 モルの範囲で用いることができる。
0 モル乃至1モル好ましくは1 X 10=モル乃至
8X10 モルの範囲で用いることができる。
また本発明のカプラーは他の種類のマゼンタカプラーと
併用することもできる。
併用することもできる。
前記本発明のカプラーを、ハロゲン化銀乳剤層に添加す
る方法としては、例えば固体分散法、ラテックス分散法
、水中油滴型乳化分散法、種々の方法を用いることがで
き、これはカプラーの化学構造等に応じて適宜選択する
ことができる。水中油滴型乳化分散法は、カプラー等の
疎水性添加物を分散させる方法が適用でき、通常、沸点
約150℃以上の高沸点有機?WIJXに、必要に応じ
て低沸点及びまたは水溶性有機溶媒を併用し溶解し、ゼ
ラチン水溶液などの親水性バインダー中に界面活性剤を
用いて撹拌器、ホモジナイザー、コロイドミル、フロー
ジットミキサー、超音波装置等の分散手段を用いて、乳
化分散した後、ハロゲン化銀乳剤層中に添加すればよい
。分散液または分散と同時に低沸点有機溶媒を除去する
工程を入れても良い。
る方法としては、例えば固体分散法、ラテックス分散法
、水中油滴型乳化分散法、種々の方法を用いることがで
き、これはカプラーの化学構造等に応じて適宜選択する
ことができる。水中油滴型乳化分散法は、カプラー等の
疎水性添加物を分散させる方法が適用でき、通常、沸点
約150℃以上の高沸点有機?WIJXに、必要に応じ
て低沸点及びまたは水溶性有機溶媒を併用し溶解し、ゼ
ラチン水溶液などの親水性バインダー中に界面活性剤を
用いて撹拌器、ホモジナイザー、コロイドミル、フロー
ジットミキサー、超音波装置等の分散手段を用いて、乳
化分散した後、ハロゲン化銀乳剤層中に添加すればよい
。分散液または分散と同時に低沸点有機溶媒を除去する
工程を入れても良い。
疎水性化合物を低沸点有機溶媒単独又は高沸点溶媒と併
用した溶液に溶かし、機械的又は超音波を用いて水中に
分散する時の分散助剤として、アニオン性界面活性剤、
ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤を用いる
事が出来る。
用した溶液に溶かし、機械的又は超音波を用いて水中に
分散する時の分散助剤として、アニオン性界面活性剤、
ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤を用いる
事が出来る。
高沸点有1fil媒としては現像主薬の酸化体と反応し
ないフェノール誘導体、フタル酸エステル、リン酸エス
テル、クエン酸エステル、安患香酸エステル、アルキル
アミド、脂肪酸エステル、トリメシン酸エステル等の沸
点150℃以上の有機溶媒が用いられる。
ないフェノール誘導体、フタル酸エステル、リン酸エス
テル、クエン酸エステル、安患香酸エステル、アルキル
アミド、脂肪酸エステル、トリメシン酸エステル等の沸
点150℃以上の有機溶媒が用いられる。
本発明に係る塩臭化銀乳剤はどの様なタイプであっても
本発明に適用tきる。
本発明に適用tきる。
塩化銀と臭化銀の組成比率は任意のものが用いられるが
、カブリの点から臭化銀25〜99モル%が好ましく、
更に臭化銀40〜99モル%が好ましく用いられる。
、カブリの点から臭化銀25〜99モル%が好ましく、
更に臭化銀40〜99モル%が好ましく用いられる。
本発明の塩臭化銀粒子は、どの様な結晶形を用いても良
い。例えば規則的な結晶形のを持つものでもよいし、球
状の板状のような変則的な結晶形を持つものでも良い。
い。例えば規則的な結晶形のを持つものでもよいし、球
状の板状のような変則的な結晶形を持つものでも良い。
ざらにこれら粒子において、(100)面と(111)
面の比率は任意のものが使用できる。又、これら結晶形
の複合形を持つものでもよく、様々な結晶形の粒子が混
合されてもよい。本発明においては特に、規則的な結晶
形を持つ八面体、十四面体、および立方体粒子が好まし
く、さらに好ましくは立方体粒子および/または14面
体粒子であり、ざらに好ましくは特開昭59−2924
3@に記載されているX線回折分析法によって測定され
るに−((200)面に帰属される回折線の強度’J/
((222)面に帰属される回折線の強度」で表わさ
れたとき、5≦に≦s、oooを満足する立方体粒子お
よび/または十四面体塩臭化銀粒子である。
面の比率は任意のものが使用できる。又、これら結晶形
の複合形を持つものでもよく、様々な結晶形の粒子が混
合されてもよい。本発明においては特に、規則的な結晶
形を持つ八面体、十四面体、および立方体粒子が好まし
く、さらに好ましくは立方体粒子および/または14面
体粒子であり、ざらに好ましくは特開昭59−2924
3@に記載されているX線回折分析法によって測定され
るに−((200)面に帰属される回折線の強度’J/
((222)面に帰属される回折線の強度」で表わさ
れたとき、5≦に≦s、oooを満足する立方体粒子お
よび/または十四面体塩臭化銀粒子である。
本発明の塩臭化銀粒子は、粒子分布が多分散でも単分散
であっても分布のいかんを問わず達成されるが、より好
ましくは単分散塩臭化銀粒子である。
であっても分布のいかんを問わず達成されるが、より好
ましくは単分散塩臭化銀粒子である。
ここで言う単分散塩臭化銀粒子とけ、粒径分布の標準偏
差S(下記)を平均粒軒下で削った値(以下、変動係数
という)が0.20以下のものをいい、好ましくはこの
値が0.15以下のものである。
差S(下記)を平均粒軒下で削った値(以下、変動係数
という)が0.20以下のものをいい、好ましくはこの
値が0.15以下のものである。
ここでいう平均粒径とは、球状のハロゲン化銀粒子の場
合は、その直径または立方体や球状以外の形状の粒子の
場合は、その投影像を同面積の円像に換算した時の直径
の平均値であって、個々のその粒径が「iであり、その
数がniである時、下記の式によって下が定義されたも
のである。
合は、その直径または立方体や球状以外の形状の粒子の
場合は、その投影像を同面積の円像に換算した時の直径
の平均値であって、個々のその粒径が「iであり、その
数がniである時、下記の式によって下が定義されたも
のである。
以下余白
なお上記粒子径は、上記の目的のために当該技術分野に
おいて一般に用いられる各種の方法によってこれを測定
することができる。代表的な方法としては、ラブラウン
ドの「粒子径分析法JA。
おいて一般に用いられる各種の方法によってこれを測定
することができる。代表的な方法としては、ラブラウン
ドの「粒子径分析法JA。
S、T、M、シンポジウム・オン・ライト・マイクロス
コピー、1955年、94〜122頁または「写真プロ
セスの理論」ミースおよびジエームズ共著、第3版、マ
クミラン社発行(1966年)の第2章に記載されてい
る。この粒子径は粒子の投影面積か直径近似値を使って
これを測定することができる。
コピー、1955年、94〜122頁または「写真プロ
セスの理論」ミースおよびジエームズ共著、第3版、マ
クミラン社発行(1966年)の第2章に記載されてい
る。この粒子径は粒子の投影面積か直径近似値を使って
これを測定することができる。
粒子が実質的に均一形状である場合は、粒径分布は直径
か投影面積とし゛【かなり正確にこれを表わすことがで
きる。
か投影面積とし゛【かなり正確にこれを表わすことがで
きる。
本発明において好ましく用いられる単分散塩臭化銀粒子
を有する塩臭化銀乳剤は、公知の方法を用いて製造する
ことができ、例えば特開昭54−48521号公報に記
載されている方法を適用して製造することができる。例
えば、塩臭化カリウム−ゼラチン水溶液とアンモニア性
硝酸銀水溶液とをハロゲン化銀種粒子を含むゼラチン水
溶液中に添加速度を時間の関数として変化させて添加す
る方法によって製造する。この際添加速度の時間関数、
pAg、濃度等を適宜に選択することにより、高度の単
分散塩臭化銀乳剤を得ることができる。
を有する塩臭化銀乳剤は、公知の方法を用いて製造する
ことができ、例えば特開昭54−48521号公報に記
載されている方法を適用して製造することができる。例
えば、塩臭化カリウム−ゼラチン水溶液とアンモニア性
硝酸銀水溶液とをハロゲン化銀種粒子を含むゼラチン水
溶液中に添加速度を時間の関数として変化させて添加す
る方法によって製造する。この際添加速度の時間関数、
pAg、濃度等を適宜に選択することにより、高度の単
分散塩臭化銀乳剤を得ることができる。
また本発明の塩臭化銀粒子の構造は内部から外部まで均
一なものであっても、内部と外部とが異質の層状構造を
したものであってもよい。
一なものであっても、内部と外部とが異質の層状構造を
したものであってもよい。
また、潜像を主として表面に形成する型のものでも、粒
子内部に形成する型のものでもよい。
子内部に形成する型のものでもよい。
本発明の塩臭化銀粒子の平均粒径は特に限定されるもの
ではないが、好ましくは0.2〜0.9μ−の範囲であ
る。平均粒径が0.2μ−より小さい場合は現像処理条
件の変動に対し階調変化およびカブリの増加が大きくな
り易く、また0、9μ鶴より大きいと現像進行性の低下
、および特にカラーベーパーの場合に固有感度の増加に
より色分離が悪くなり易くなるという別の問題を生じる
可能性がある。さらに平均粒径の範囲は好ましくは0.
25〜0.7μ−の範囲である。なお、平均粒径は前記
の方法で測定すればよい。
ではないが、好ましくは0.2〜0.9μ−の範囲であ
る。平均粒径が0.2μ−より小さい場合は現像処理条
件の変動に対し階調変化およびカブリの増加が大きくな
り易く、また0、9μ鶴より大きいと現像進行性の低下
、および特にカラーベーパーの場合に固有感度の増加に
より色分離が悪くなり易くなるという別の問題を生じる
可能性がある。さらに平均粒径の範囲は好ましくは0.
25〜0.7μ−の範囲である。なお、平均粒径は前記
の方法で測定すればよい。
前記一般式[XII]のZOで示される複素環残基は置
換基を有してもよく、この置換基としては、例えばアル
キル基、アリール基、アルケニル基、スルファモイル基
、カルバモイル基、アシル基等が挙げられる。
換基を有してもよく、この置換基としては、例えばアル
キル基、アリール基、アルケニル基、スルファモイル基
、カルバモイル基、アシル基等が挙げられる。
本発明で用いられる前記一般式[Xn]で示されるメル
カプト複素環化合物において、好ましく用いられるのは
、下記一般式[XIra ]で示されるメルカプト複素
環化合物である。
カプト複素環化合物において、好ましく用いられるのは
、下記一般式[XIra ]で示されるメルカプト複素
環化合物である。
一般式rXIIa ]
一一一+一
式中 7 o l はイミダシリン環、イミダゾール環
、イミダシロン環、ピラゾリン環、ピラゾール環、ピラ
ゾロン環、オキサゾリン環、オキサゾール環、オキサシ
ロン環、チアゾリン環、チアゾール環、チアゾロン環、
セレナゾリン環、セレナゾ−ル環、セレナゾロン環、オ
キサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環
、テトラゾール環、ベンツイミダゾール環、ベンツトリ
アゾール環、インダゾール環、ベンツオキサゾール環、
ベンツチアゾール環、ベンツセレナゾール環、ピラジン
環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン還、オキ
サジン環、チアジン環、テトラジン環、キナゾリン環、
フタラジン環およびポリアザインデン環(例えばトリア
ザインデン環、テトラザインデン環、ペンタザインデン
環等。)等の複素環を形成するのに必要な原子群を表わ
す。
、イミダシロン環、ピラゾリン環、ピラゾール環、ピラ
ゾロン環、オキサゾリン環、オキサゾール環、オキサシ
ロン環、チアゾリン環、チアゾール環、チアゾロン環、
セレナゾリン環、セレナゾ−ル環、セレナゾロン環、オ
キサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環
、テトラゾール環、ベンツイミダゾール環、ベンツトリ
アゾール環、インダゾール環、ベンツオキサゾール環、
ベンツチアゾール環、ベンツセレナゾール環、ピラジン
環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン還、オキ
サジン環、チアジン環、テトラジン環、キナゾリン環、
フタラジン環およびポリアザインデン環(例えばトリア
ザインデン環、テトラザインデン環、ペンタザインデン
環等。)等の複素環を形成するのに必要な原子群を表わ
す。
7・−・
素環残基は、前記一般式[Xff:!のzOで示したと
同様の置換基な有してもよい。
同様の置換基な有してもよい。
一般式[XIIa ]で示されるメルカプト複素環化合
物において、さらに好ましくは、トリアゾール環からな
るメルカプトトリアゾール系化合物である。
物において、さらに好ましくは、トリアゾール環からな
るメルカプトトリアゾール系化合物である。
本発明に用いられる前記一般式(Xll) で示され
る化合物の具体例を次にあげるか、これらに限定される
ものではない。
る化合物の具体例を次にあげるか、これらに限定される
ものではない。
例示メルカプト複素理化合物
Hs
膚
本発明に用いられる一般式[XII]で示されるメルカ
プト複素環化合物は、例えば特公昭48−42974号
、同57−51686号、特開昭48−102621号
、フランス特許第701,053号、同701,301
号、同1,563.019号、米国特許第3.457,
078号およびザ・ジャーナル・オプ・フォトグラフィ
ック・サイエンス(The Journal of
Photograhic 5cience)19、
p 83〜81等に記載されている。
プト複素環化合物は、例えば特公昭48−42974号
、同57−51686号、特開昭48−102621号
、フランス特許第701,053号、同701,301
号、同1,563.019号、米国特許第3.457,
078号およびザ・ジャーナル・オプ・フォトグラフィ
ック・サイエンス(The Journal of
Photograhic 5cience)19、
p 83〜81等に記載されている。
本発明のメルカプト複素環化合物の添加量は、塩臭化銀
乳剤の条件、例えば塩臭化銀粒子の塩化銀含有量、粒径
、結晶形等により広範囲に及ぶが、塩臭化銀1モル当り
1X10 〜1X10 モル、より好ましくは1×10
〜1×10 モル程度が良好な結果を示す。また、添加
方法としては、通常の写真添加剤の添加方法、例えば水
、あるいは適当なpH値を有する酸またはアルカリ水溶
液、あるいはメタノール、エタノール等の有機溶媒に溶
解して、塩臭化銀乳剤に添加される。
乳剤の条件、例えば塩臭化銀粒子の塩化銀含有量、粒径
、結晶形等により広範囲に及ぶが、塩臭化銀1モル当り
1X10 〜1X10 モル、より好ましくは1×10
〜1×10 モル程度が良好な結果を示す。また、添加
方法としては、通常の写真添加剤の添加方法、例えば水
、あるいは適当なpH値を有する酸またはアルカリ水溶
液、あるいはメタノール、エタノール等の有機溶媒に溶
解して、塩臭化銀乳剤に添加される。
本発明のメルカプト複素環化合物は単独でも、二種類以
上併用しても良く、さらに写真業界においてカブリ防止
剤又は安定剤として知られている他の化合物を追加して
加えることもさしつかえない。
上併用しても良く、さらに写真業界においてカブリ防止
剤又は安定剤として知られている他の化合物を追加して
加えることもさしつかえない。
本発明のメルカプト襖素環化合の物添加位♂としては、
本発明のマゼンタカプラーを含有する塩臭化銀乳剤層お
よび/またはそれ以外の写真構成前のいずれでも本発明
の効果が達成されるが、特に本発明のマゼンタカプラー
を含有する塩臭化銀乳剤層が好ましく用いられる。マゼ
ンタカプラーを含有する塩臭化銀乳剤層に添加する時期
としては特に制限はないが、好ましくは化学増感終了後
から、マゼンタカプラーを含有する塩臭化銀乳剤の塗布
直前迄が好ましく、この間で一度に添加されても、分割
して添加してもさしつかえない。
本発明のマゼンタカプラーを含有する塩臭化銀乳剤層お
よび/またはそれ以外の写真構成前のいずれでも本発明
の効果が達成されるが、特に本発明のマゼンタカプラー
を含有する塩臭化銀乳剤層が好ましく用いられる。マゼ
ンタカプラーを含有する塩臭化銀乳剤層に添加する時期
としては特に制限はないが、好ましくは化学増感終了後
から、マゼンタカプラーを含有する塩臭化銀乳剤の塗布
直前迄が好ましく、この間で一度に添加されても、分割
して添加してもさしつかえない。
ざらに本発明においては、下記一般式[XIII]で示
される化合物を併用することでさらに好ましい効果が得
られる。
される化合物を併用することでさらに好ましい効果が得
られる。
以下余白
一般式[X■コ
式中、RJI 、R32、Rヨ3.83本およびR3!
iは、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、スルホン酸基
(その塩を含む)、または1価の有柵基を表す。
iは、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、スルホン酸基
(その塩を含む)、または1価の有柵基を表す。
ただし、R31、R33およびR汐の少なくとも一つは
、とドロキシ基である。ざらに、R,R,2、l R33、R3I+およびR35,は互いに結合して環を
形成してもよい。
、とドロキシ基である。ざらに、R,R,2、l R33、R3I+およびR35,は互いに結合して環を
形成してもよい。
一般式[XI[[]で表わされる化合物のうち、さらに
好ましくは、下記一般式[3Nlra ]で表わされる
化合物である。
好ましくは、下記一般式[3Nlra ]で表わされる
化合物である。
一般式[XIIIa ]
に42
式中、R+7、R+2、R+3およびR4+は、それぞ
れ水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキ
ル基、シクロアルキルオキシ基、アリール基、アリール
オキシ基、アルキルカルボニルオキシ基ま1ζはアルキ
ルオキシカルボニル基、カルボンi!基(その塩を含む
)、スルホン酸基(その塩を含む)を表わす。
れ水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキ
ル基、シクロアルキルオキシ基、アリール基、アリール
オキシ基、アルキルカルボニルオキシ基ま1ζはアルキ
ルオキシカルボニル基、カルボンi!基(その塩を含む
)、スルホン酸基(その塩を含む)を表わす。
一般式[XIIIa ]において、R47、R42、R
43およびR4で表わされるアルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オク
チル基、ヒドロキシエチル基等が挙げられ、アルコキシ
基としては、例えば、メトキシ基エトキシ基、ブトキシ
基等が挙げられ、シクロアルキル基としては、例えば、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基
等が挙げられシクロアルキルオキシ基としては、例えば
、シクロペンチルオキシ基、シクロへキシルオキシ基等
が挙げられ、アリール基としては、例えば、フェニル基
、ヒドロキシフェニル基、トリル基等が挙げられ、アリ
ールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、トリル
オキシ基等が挙げられ、アルキルカルボニルオキシ基と
しては、例えば、メチルカルボニルオキシ基、エチルカ
ルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基等が挙げ
られ、アルキルオキシカルボニル基としては、例えば、
メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基
、プロピルオキシカルボニル基等が挙げられる。ざらに
R44、R42’ R+36よびR44は互いに結合し
て環を形成してもよい。
43およびR4で表わされるアルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オク
チル基、ヒドロキシエチル基等が挙げられ、アルコキシ
基としては、例えば、メトキシ基エトキシ基、ブトキシ
基等が挙げられ、シクロアルキル基としては、例えば、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基
等が挙げられシクロアルキルオキシ基としては、例えば
、シクロペンチルオキシ基、シクロへキシルオキシ基等
が挙げられ、アリール基としては、例えば、フェニル基
、ヒドロキシフェニル基、トリル基等が挙げられ、アリ
ールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、トリル
オキシ基等が挙げられ、アルキルカルボニルオキシ基と
しては、例えば、メチルカルボニルオキシ基、エチルカ
ルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基等が挙げ
られ、アルキルオキシカルボニル基としては、例えば、
メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基
、プロピルオキシカルボニル基等が挙げられる。ざらに
R44、R42’ R+36よびR44は互いに結合し
て環を形成してもよい。
次に一般式[XIII]で表わされる化合物の具体例を
列記するが、これらにのみ限定されるもので、 はな
い。
列記するが、これらにのみ限定されるもので、 はな
い。
OOH
OOH
C,H,CHs
2122oH
03NJL
COOC2)ム C00Cy
Ht5本発明で使用する一般式[XIII]で表わされ
る化合物は、一部を除いて当業界では現像主薬として公
知な化合物であり、公知の方法により容易に合成できる
。
Ht5本発明で使用する一般式[XIII]で表わされ
る化合物は、一部を除いて当業界では現像主薬として公
知な化合物であり、公知の方法により容易に合成できる
。
本発明に係る一般式[XII[]で表わされる化合物を
、感光材料に含有させるには、水もしくは、水と任意に
混和可能な有機WJ!lf[(例えばメタノール、エタ
ノール等)に溶解するか、または有機溶(1K(水に混
和可能でなくてもよい)に溶解後、親水性コロイド中に
分散して、溶液または分散物として添加することかでき
る。添加量は、好ましく一層 は、ハロゲン化銀1モル当り 1.OX 10 〜1,
0モルであり、ざらに好ましくは1,2X 10 〜1
.QxlQモルである。添加の時期は、ハロゲン化銀乳
剤の調製時から塗布時までの任意の時期でよいが、好ま
しくは、ハロゲン化銀乳剤の化学熟成終了後から塗布時
までの時期である。、添加する場所は、ハロゲン化銀乳
剤層の少なくとも一層であるが、特に緑感光性ハロゲン
化銀乳剤層が好ましい。
、感光材料に含有させるには、水もしくは、水と任意に
混和可能な有機WJ!lf[(例えばメタノール、エタ
ノール等)に溶解するか、または有機溶(1K(水に混
和可能でなくてもよい)に溶解後、親水性コロイド中に
分散して、溶液または分散物として添加することかでき
る。添加量は、好ましく一層 は、ハロゲン化銀1モル当り 1.OX 10 〜1,
0モルであり、ざらに好ましくは1,2X 10 〜1
.QxlQモルである。添加の時期は、ハロゲン化銀乳
剤の調製時から塗布時までの任意の時期でよいが、好ま
しくは、ハロゲン化銀乳剤の化学熟成終了後から塗布時
までの時期である。、添加する場所は、ハロゲン化銀乳
剤層の少なくとも一層であるが、特に緑感光性ハロゲン
化銀乳剤層が好ましい。
さらに、本発明のマゼンタカプラーを分散するために用
いられる高沸点有機溶媒としては、どの様なものを用い
てもよいが誘電率660以下の高沸点有機溶媒がざらに
好ましい結果を示す。
いられる高沸点有機溶媒としては、どの様なものを用い
てもよいが誘電率660以下の高沸点有機溶媒がざらに
好ましい結果を示す。
好ましく用いられる誘電率6.0以下の高沸点有機溶媒
としては種々のものがあり、例えばフタル酸エステル、
リン酸エステル等のエステル類、有機酸アミド類、ケト
ン類、炭化水素化合物等である。好ましくは誘電率6.
0以下1.9以上で100℃に於ける蒸気圧が0.5m
−142以下の高沸点有機溶媒である。またより好まし
くは、該高沸点有機溶媒中のフタル酸エステル類或はリ
ン酸エステル類である。尚、有機溶媒は、2種以上の混
合物であってもよく、この場合は混合物の誘電率が6.
0以下であればよい。尚、本発明での誘電率とは、30
℃に於ける誘電率を示している。
としては種々のものがあり、例えばフタル酸エステル、
リン酸エステル等のエステル類、有機酸アミド類、ケト
ン類、炭化水素化合物等である。好ましくは誘電率6.
0以下1.9以上で100℃に於ける蒸気圧が0.5m
−142以下の高沸点有機溶媒である。またより好まし
くは、該高沸点有機溶媒中のフタル酸エステル類或はリ
ン酸エステル類である。尚、有機溶媒は、2種以上の混
合物であってもよく、この場合は混合物の誘電率が6.
0以下であればよい。尚、本発明での誘電率とは、30
℃に於ける誘電率を示している。
本発明において有利に用いられるフタル酸エステルとし
ては、下記一般式[XIV]で示されるものが挙げられ
る。
ては、下記一般式[XIV]で示されるものが挙げられ
る。
一般式[XrVl
式中、R9+およびR92は、それぞれアルキル基、ア
ルケニル基またはアリール基を表わす。但し、Rflお
よびR52で表わされる基の炭素原子数の総和は8乃至
32である。またより好ましくは炭素原子数の総和が1
6乃至24である。
ルケニル基またはアリール基を表わす。但し、Rflお
よびR52で表わされる基の炭素原子数の総和は8乃至
32である。またより好ましくは炭素原子数の総和が1
6乃至24である。
本発明において、前記一般式[X IV ]のRilお
よびRqzで表わされるアルキル基は、直鎖でも分岐の
ものでもよく、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基
、オクタデシル基等である。Rシ1およびR5Zで表わ
されるアリール基は、例えばフェニル基、ナフチル基等
であり、アルケニル基は、例えばヘキセニル基、ヘプテ
ニル基、オクタデセニル基等である。これらのアルキル
基、アルケニル基およびアリール基は、単一もしくは複
数の置換基を有していても良く、アルキルMおよびアル
ケニル基の置換基としては、例えばハロゲン原子、アル
コキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル
基、アルコキシカルボニル基等が挙げられ、アリール基
の置換基としては、例えばハロゲン原子、アルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルケ
ニル基、アルコキシカルボニル基等を挙げることができ
る。
よびRqzで表わされるアルキル基は、直鎖でも分岐の
ものでもよく、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基
、オクタデシル基等である。Rシ1およびR5Zで表わ
されるアリール基は、例えばフェニル基、ナフチル基等
であり、アルケニル基は、例えばヘキセニル基、ヘプテ
ニル基、オクタデセニル基等である。これらのアルキル
基、アルケニル基およびアリール基は、単一もしくは複
数の置換基を有していても良く、アルキルMおよびアル
ケニル基の置換基としては、例えばハロゲン原子、アル
コキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルケニル
基、アルコキシカルボニル基等が挙げられ、アリール基
の置換基としては、例えばハロゲン原子、アルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルケ
ニル基、アルコキシカルボニル基等を挙げることができ
る。
本発明において有利に用いられるリン酸エステルとして
は、下記一般式[XV]で示されるものが挙げられる。
は、下記一般式[XV]で示されるものが挙げられる。
一般式[XV] 。
困
R55OP 0Rss
OR。
式中、R,3、R1j4.およびR9甘は、それぞれア
ルキル基、アルケニル基またはアリール基を表わす。
ルキル基、アルケニル基またはアリール基を表わす。
但し、R53、RKおよびR95−で表わされる炭素原
子数の総和は24乃至54である。
子数の総和は24乃至54である。
一般式[XV]のR51、R眸およびR55−で表わさ
れるアルキル基は、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキ
シル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基
、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデ
シル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシ
ル基、オクタデシル基、ノナデシル基等であり、アリー
ル基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等であり
、またアルケニル基としては、例えばヘキセニル基、ヘ
プテニル基、オクタデセニル基等である。
れるアルキル基は、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキ
シル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基
、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデ
シル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシ
ル基、オクタデシル基、ノナデシル基等であり、アリー
ル基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等であり
、またアルケニル基としては、例えばヘキセニル基、ヘ
プテニル基、オクタデセニル基等である。
これらのアルキル基、アルケニル基およびアリール基は
、単一もしくは複数の置換基を有していても良い。好ま
しくはR+;1 、R4およびR55−はアルキル基で
あり、例えば、2−エチルヘキシル基、n−オクチル基
、3,5.5−トリメチルヘキシル基、n−ノニル基、
ローデシル基、5eC−デシル基、5ec−ドデシル基
、t−オクチル基等が挙げられる。
、単一もしくは複数の置換基を有していても良い。好ま
しくはR+;1 、R4およびR55−はアルキル基で
あり、例えば、2−エチルヘキシル基、n−オクチル基
、3,5.5−トリメチルヘキシル基、n−ノニル基、
ローデシル基、5eC−デシル基、5ec−ドデシル基
、t−オクチル基等が挙げられる。
以下に本発明に用いられる有機WI蝮の代表的兵体例を
示すが、これらに限定されるものではない。
示すが、これらに限定されるものではない。
例示有機溶媒
12 C2H50Cs Hls
(! ) ■ 0 =P OC*H+s(り 酵 0−CsH+1(i) o−coHts(n) ■ 0=P−0−C,HII(n) 0 CsH+5(n) O−C,。H21(i) 0=P−0−CI。H21(i) 0 C+ o H21(i ) 0 C+ o H21(n ) ()−P OCIoH2+(n) 0 CI。H21(n) これらの有機溶媒は、本発明に係るマゼンタカプラーに
対し、25乃至150重量%の割合で用いられる。好ま
しくはカプラーに対し50乃至100重量%である。
(! ) ■ 0 =P OC*H+s(り 酵 0−CsH+1(i) o−coHts(n) ■ 0=P−0−C,HII(n) 0 CsH+5(n) O−C,。H21(i) 0=P−0−CI。H21(i) 0 C+ o H21(i ) 0 C+ o H21(n ) ()−P OCIoH2+(n) 0 CI。H21(n) これらの有機溶媒は、本発明に係るマゼンタカプラーに
対し、25乃至150重量%の割合で用いられる。好ま
しくはカプラーに対し50乃至100重量%である。
本発明に用いられるマゼンタカプラーと高沸点有機溶媒
の組合せとしては、前記誘電率6.0以下の高沸点有機
溶媒の組合せが好ましく、さらに好ましくは一般式[X
rV]および[XV]で示される高沸点有機溶媒の組合
せである。
の組合せとしては、前記誘電率6.0以下の高沸点有機
溶媒の組合せが好ましく、さらに好ましくは一般式[X
rV]および[XV]で示される高沸点有機溶媒の組合
せである。
家発明においては色素画像、特にマゼンタ色素画像の劣
化を防止する目的で下記一般式[A]〜[H]および[
J]、[K]で示される画像安定剤を用いることが好ま
しい。
化を防止する目的で下記一般式[A]〜[H]および[
J]、[K]で示される画像安定剤を用いることが好ま
しい。
以下余白
一般式[AI
式中、R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
リール基、又は複素環基を表し、R2、Rs、RいR6
はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ア
ルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基ま
たはアシルアミノ基をあられし、R1はアルキル基、ヒ
ドロキシ基、7リール基又はアルコキシ基を表す。
リール基、又は複素環基を表し、R2、Rs、RいR6
はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ア
ルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基ま
たはアシルアミノ基をあられし、R1はアルキル基、ヒ
ドロキシ基、7リール基又はアルコキシ基を表す。
又RIとR2は互いに閉環し、5)91!たは6貝環を
形成してもよく、その時のR4はヒドロキシ基またはア
ルコキシ基をあられす、又R5とR4が閉環し、531
の炭化水素環を形成してもよく、そのときのR4はアル
キル基、アリール基、または複素環基をあられす、但し
、R8が水素原子で、かつ、R1がヒドロキシ基の場合
を除く。
形成してもよく、その時のR4はヒドロキシ基またはア
ルコキシ基をあられす、又R5とR4が閉環し、531
の炭化水素環を形成してもよく、そのときのR4はアル
キル基、アリール基、または複素環基をあられす、但し
、R8が水素原子で、かつ、R1がヒドロキシ基の場合
を除く。
前記一般式[AIにおいて、R4は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、717−ル基または複素環基をあら
れすが、このうち、フルキル基としては、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、n−オクチル基、tert
−オクチル基、ヘキサデシル基などの直[虫たは分岐の
アルキル基を挙げることができる。*たR1であられさ
れるアルケニル基としては、例えばアリル、ヘキセニル
、オクテニル基などが挙げられる。さらに、R9のアリ
ール基としては、フェニル、ナフチルの各基が挙げられ
る。さらにR+で示される複素環基としては、テトラヒ
ドロピラニル基、ピリミジル基などが具体的に挙げられ
る。これら各基は置換基を有することができ、例えば置
換基を有するアルキル基としてベンシル基、ニドキシメ
チル基、置換基をあられすが有するアリール基としてメ
トキシフェニル基、クロルフェニル基、4−ヒドロキシ
−3,5−ノブチルフェニル基などが挙げられる。
基、アルケニル基、717−ル基または複素環基をあら
れすが、このうち、フルキル基としては、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、n−オクチル基、tert
−オクチル基、ヘキサデシル基などの直[虫たは分岐の
アルキル基を挙げることができる。*たR1であられさ
れるアルケニル基としては、例えばアリル、ヘキセニル
、オクテニル基などが挙げられる。さらに、R9のアリ
ール基としては、フェニル、ナフチルの各基が挙げられ
る。さらにR+で示される複素環基としては、テトラヒ
ドロピラニル基、ピリミジル基などが具体的に挙げられ
る。これら各基は置換基を有することができ、例えば置
換基を有するアルキル基としてベンシル基、ニドキシメ
チル基、置換基をあられすが有するアリール基としてメ
トキシフェニル基、クロルフェニル基、4−ヒドロキシ
−3,5−ノブチルフェニル基などが挙げられる。
一般式[AIにおいて、R2、R5、R6およびR8は
水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルキル基、
アルケニル基、アリール基、アルコキシ基またはアシル
アミ7基をあられすが、このうち、アルキル基、アルケ
ニル基、アリール基については前記R1について述べた
アルキル基、アルケニル基、アリール基と同一のものが
挙げられる。また前記ハロゲン原子とl、では、例えば
7−/素、塩素、臭素など、を挙げることができる。さ
らに前記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ
基などを具体的に挙げることができる。さらに前記アシ
ルアミ7基はR’C0NH−で示され、ここにおいで、
R′はアルキル基(例えばメチル、エチル、n−プロピ
ル、n−ブチル、n−オクチル、tert−オクチル、
ベンシルなとの各基)、アルケニル基(例えばアリル、
オクテニル、オレイルなどの各基)、アリール基(例え
ばフェニル、メトキシフェニル、ナフチルなどの各基)
、またはへテロ環基(例えばピリジル、ピリミジルの各
基)を挙げることができる。
水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルキル基、
アルケニル基、アリール基、アルコキシ基またはアシル
アミ7基をあられすが、このうち、アルキル基、アルケ
ニル基、アリール基については前記R1について述べた
アルキル基、アルケニル基、アリール基と同一のものが
挙げられる。また前記ハロゲン原子とl、では、例えば
7−/素、塩素、臭素など、を挙げることができる。さ
らに前記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ
基などを具体的に挙げることができる。さらに前記アシ
ルアミ7基はR’C0NH−で示され、ここにおいで、
R′はアルキル基(例えばメチル、エチル、n−プロピ
ル、n−ブチル、n−オクチル、tert−オクチル、
ベンシルなとの各基)、アルケニル基(例えばアリル、
オクテニル、オレイルなどの各基)、アリール基(例え
ばフェニル、メトキシフェニル、ナフチルなどの各基)
、またはへテロ環基(例えばピリジル、ピリミジルの各
基)を挙げることができる。
また前記一般式[AIにおいて、R4はアルキル基、ヒ
ドロキシ基、アリール基またはアルコキシ基を表すが、
このうちアルキル基、アリール基についでは、前記R1
で示されるフルキル基、アリール基と同一のものを具体
的に挙げることができる。またR4のアルケニル基につ
いては前記R2、Rs、RsおよびR6についC述べた
アルコキシ基と同一のものを挙げることができる。
ドロキシ基、アリール基またはアルコキシ基を表すが、
このうちアルキル基、アリール基についでは、前記R1
で示されるフルキル基、アリール基と同一のものを具体
的に挙げることができる。またR4のアルケニル基につ
いては前記R2、Rs、RsおよびR6についC述べた
アルコキシ基と同一のものを挙げることができる。
R+とR2は互いに閉環してベンゼン環と共に形成する
環としては、例えばクロマン、クマラン、メチレンジオ
キシベンゼンが挙げられる。
環としては、例えばクロマン、クマラン、メチレンジオ
キシベンゼンが挙げられる。
また、R1とR4が閉環してベンゼン環と共に形成する
環としでは、たとえばインゲンが挙げられる。これらの
環は、置換基(例えばアルキル、アルコキシ、アリール
)を有してもよい。
環としでは、たとえばインゲンが挙げられる。これらの
環は、置換基(例えばアルキル、アルコキシ、アリール
)を有してもよい。
又、R1とR2、またはR、とR4が閉環して形成する
環中の原子をスピロ原子としてスピロ化合物を形成しで
もよいし、R2、R4などを連結基としで、ビス体を形
成してもよい。
環中の原子をスピロ原子としてスピロ化合物を形成しで
もよいし、R2、R4などを連結基としで、ビス体を形
成してもよい。
前記一般式[AIで表される7エ/−ル系化合物または
フェニルエーテル系化合物のうち、好ましいものは、R
O−・基(Rはアルキル基、アルケニル基、アリール基
、またはへテロ環基を表す、)を4個有するビイングン
化合物であり、特に好ましくは下記一般式[A −1]
で表すことができる。
フェニルエーテル系化合物のうち、好ましいものは、R
O−・基(Rはアルキル基、アルケニル基、アリール基
、またはへテロ環基を表す、)を4個有するビイングン
化合物であり、特に好ましくは下記一般式[A −1]
で表すことができる。
一般式[A−13
式中Rはアルキル基(例えばメチル、エチル、プロピル
、n−オクチル、tert−オクチル、ペンシル、ヘキ
サデシル)、アルケニル基(例えば、7リル、オクテニ
ル、オレイル)、アリール基(例えば、フェニル、ナフ
チル)またはへテロ環基(例えば、テトラヒドロピラニ
ル、ピリミジル)で表される基をあられす、R−および
IL+は各々水素原子、ハロゲン原子、(例えば、フッ
素、塩素、臭素)、アルキル基(例えばメチル、エチル
、n−ブチル、ベンクル)、アルコキシ基(例えばアリ
ル、ヘキセニル、オクテニル)、またはアルコキシ基(
例えばメトキシ、エトキシ、ベンジルオキシ)を表し、
R1は水素原子、アル六・ル基(例えばメチル5゜エチ
ル、n−ブチル、ベンジル)、アルケニル基(例えば、
2−プロペニル、ヘキセニル、オクテニル)、またはア
リール基(例えば7ヱニル、メトキシフェニル、クロル
フヱニル、ナフチル)を表す。
、n−オクチル、tert−オクチル、ペンシル、ヘキ
サデシル)、アルケニル基(例えば、7リル、オクテニ
ル、オレイル)、アリール基(例えば、フェニル、ナフ
チル)またはへテロ環基(例えば、テトラヒドロピラニ
ル、ピリミジル)で表される基をあられす、R−および
IL+は各々水素原子、ハロゲン原子、(例えば、フッ
素、塩素、臭素)、アルキル基(例えばメチル、エチル
、n−ブチル、ベンクル)、アルコキシ基(例えばアリ
ル、ヘキセニル、オクテニル)、またはアルコキシ基(
例えばメトキシ、エトキシ、ベンジルオキシ)を表し、
R1は水素原子、アル六・ル基(例えばメチル5゜エチ
ル、n−ブチル、ベンジル)、アルケニル基(例えば、
2−プロペニル、ヘキセニル、オクテニル)、またはア
リール基(例えば7ヱニル、メトキシフェニル、クロル
フヱニル、ナフチル)を表す。
前記一般式[AIで表される化合物は、米国特許第3,
935.016号、同第3.!:182,944号、同
第4.254.216号、* 1m III 55−2
1004’!、同54−145530号、英国特許公開
2,077.455号、同2,082号、888号、米
国特許第3,764,337、同第3 、432300
号、同第3,574,827号、同第3,573,05
0号、特開昭52−152225号、同53−2032
7号、同53−17729号、同55−8321号、英
国特許第1,347,556号、同公開Z、06619
75号、特公昭54−12337号、同48−3162
5号、米国特許PIS3,700,455号などに記載
の化合物をも含む。
935.016号、同第3.!:182,944号、同
第4.254.216号、* 1m III 55−2
1004’!、同54−145530号、英国特許公開
2,077.455号、同2,082号、888号、米
国特許第3,764,337、同第3 、432300
号、同第3,574,827号、同第3,573,05
0号、特開昭52−152225号、同53−2032
7号、同53−17729号、同55−8321号、英
国特許第1,347,556号、同公開Z、06619
75号、特公昭54−12337号、同48−3162
5号、米国特許PIS3,700,455号などに記載
の化合物をも含む。
前記一般式[AIで表される化合物の使用t +、)、
、マゼンタカプラーに対して5〜300モル%が好まし
く、より好ましくは10〜200モル%である。
、マゼンタカプラーに対して5〜300モル%が好まし
く、より好ましくは10〜200モル%である。
以下に前記一般式[AIで表される化合物の代表的具体
例を示す。
例を示す。
タイプ(1)
RI
タイプ(2)
タイプ(3)
タイプ(4)
タイプ(5)
タイプ(6)
タイプ(7)
タ イ プ (4)
タ イ プ (5)
タ イ プ (6)
以下余白
A−7
以下余白
一般式[B]
(式中R3およびR1はそれぞれ水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケ
ニルオキシ基、ヒト四キシ基、アリール基、アリールオ
キシ基、アシル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、
スルホンアミド基、シクロアルキルまたはアルコキシカ
ルボニル基をあられし、Rtは水素原子、アルキル基、
アルケニル基、アリール基、アシル基、シクロアルキル
基またはへテロ環基をあられし、Rsは水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ア
リールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、スルホン
アミド基、シクロアルキル基またはアルコキシカルボニ
ル基をあられす。
子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケ
ニルオキシ基、ヒト四キシ基、アリール基、アリールオ
キシ基、アシル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、
スルホンアミド基、シクロアルキルまたはアルコキシカ
ルボニル基をあられし、Rtは水素原子、アルキル基、
アルケニル基、アリール基、アシル基、シクロアルキル
基またはへテロ環基をあられし、Rsは水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ア
リールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、スルホン
アミド基、シクロアルキル基またはアルコキシカルボニ
ル基をあられす。
以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもよ
い0例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ルアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、スルファモイル基などが挙げられる。
い0例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ルアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、スルファモイル基などが挙げられる。
またR1とR1は互いに閉環し、5員または6貝環を形
成してもよい、R2とRsが閉環しベンゼン環と共に形
成する環としでは例えばクロマン環、メチレンツオキシ
ベンゼン環が挙げられる。
成してもよい、R2とRsが閉環しベンゼン環と共に形
成する環としでは例えばクロマン環、メチレンツオキシ
ベンゼン環が挙げられる。
Yはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群をあらbす。
原子群をあらbす。
クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アシ
ルオキシ基、もしくはヘテロ環で置換されでもよ(、さ
らにスピロ環を形成してもよい。
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アシ
ルオキシ基、もしくはヘテロ環で置換されでもよ(、さ
らにスピロ環を形成してもよい。
一般式[B]で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式[B−1]、[B−2]、[I3−
3 ]、[B −4]、[B−5]で示される化合物に
包含される。
用な化合物は一般式[B−1]、[B−2]、[I3−
3 ]、[B −4]、[B−5]で示される化合物に
包含される。
一般式[B−1]
h′
一般式[B −2]
一般式[B −3]
一般式[B −4]
一般式[B−5]
一般式[B−11、[B −21、[B−3]、[B−
41お上り[B−51におけるR8、R1、R5および
R4は前記一般式[B]におけるのと同じ意味を持ち・
Rs%R,%Rt−Re%R1およびR1・は水素原子
、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキン基、ヒレ1シ
基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アリール基、
アリールオ却ン基もしくはヘテロ環基をあられす。
41お上り[B−51におけるR8、R1、R5および
R4は前記一般式[B]におけるのと同じ意味を持ち・
Rs%R,%Rt−Re%R1およびR1・は水素原子
、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキン基、ヒレ1シ
基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アリール基、
アリールオ却ン基もしくはヘテロ環基をあられす。
さらにR1とR6、R6とR7、R2とR,、R8とR
1およびR1とR1゜とが互いに環化して炭素環を形成
してもよく、さらに該炭素環はフルキル基で置換されで
もよい。
1およびR1とR1゜とが互いに環化して炭素環を形成
してもよく、さらに該炭素環はフルキル基で置換されで
もよい。
前記一般式[B−1]、[13−2]、[B−3]、[
B −4]および[B −5]においでR8およびR1
が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基
またはシクロアルキル基、R,、R・、R丁、R,、R
,およりR+。が水素原子、アルキル基、またはシクロ
アルキル基である化合物が特に有用である。
B −4]および[B −5]においでR8およびR1
が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基
またはシクロアルキル基、R,、R・、R丁、R,、R
,およりR+。が水素原子、アルキル基、またはシクロ
アルキル基である化合物が特に有用である。
一般式[D]で表される化合物はテトラヘドロン(Te
trahedron)、197G、vo126.474
3〜4751頁、日本化学会誌、19フ2.No10.
0987〜1990買、ケミカル(ahem、Lett
、)t19フ2(4)315−316頁、 特151g
@55−139383号に記1m@れている化合物を表
し、含み、かつこれらに記載されている方法に従って合
成することができる。
trahedron)、197G、vo126.474
3〜4751頁、日本化学会誌、19フ2.No10.
0987〜1990買、ケミカル(ahem、Lett
、)t19フ2(4)315−316頁、 特151g
@55−139383号に記1m@れている化合物を表
し、含み、かつこれらに記載されている方法に従って合
成することができる。
前記一般式[B]″Q表される化合物のうち使用量は、
前記本発明乳剤係るマゼンタカプフーに対して5〜30
0モル%該好ましく、より好ましくは10〜200モル
%である。
前記本発明乳剤係るマゼンタカプフーに対して5〜30
0モル%該好ましく、より好ましくは10〜200モル
%である。
以下にこれらの化合物の代表的具体例を示す。
一般式[C]
P
一般式[D]
[1
式中R1およびR1は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ
基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホンア
ミド基もしくはアルコキシカルボニル基をあられす。
ル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ
基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホンア
ミド基もしくはアルコキシカルボニル基をあられす。
以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもよ
い0例えばハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
シルアミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ス
ル77モイル基などが挙げられる。
い0例えばハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
シルアミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ス
ル77モイル基などが挙げられる。
Yはベンゼン環と共にシクロマンもしくはジクマラン環
を形成するのに必要な原子群をあられす。
を形成するのに必要な原子群をあられす。
クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されでもよく、
さらにスピロ環を形成しでもよい。
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されでもよく、
さらにスピロ環を形成しでもよい。
一般式[01゛およ(/[D]で示される化合物のうち
、本発明に特に有用な化合物は一般式[C−1]、[C
−21、[D −11# ヨ(/[D 2 ]”C’
示t’ ttル化合物に包含される。
、本発明に特に有用な化合物は一般式[C−1]、[C
−21、[D −11# ヨ(/[D 2 ]”C’
示t’ ttル化合物に包含される。
一般式[C−1]
一般式[C−2]
1′t1
一般式[D−11
一般式[D −2]
一般式[C−1]、[C−2]、[D−1]および[D
−2]におけるR1およびR8は前記一般式[C]お
よび[D]におけるのと同じ意味を持ち、R3、R4、
R5、R1、RマおよIRlは水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルコキン基、ヒドロキシ基、アルケニ
ル基、アルケニルオキシ基、アリール基、アリールオキ
シ基もしくはヘテ豐環基をあられす、さらにR3とR1
、R4とR3,11,とR,、R1とR2およびR2と
R8とが互いに環化して炭素環を形成しでもよく、さら
に該炭素環はアルキル基で置換されでもよい。
−2]におけるR1およびR8は前記一般式[C]お
よび[D]におけるのと同じ意味を持ち、R3、R4、
R5、R1、RマおよIRlは水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルコキン基、ヒドロキシ基、アルケニ
ル基、アルケニルオキシ基、アリール基、アリールオキ
シ基もしくはヘテ豐環基をあられす、さらにR3とR1
、R4とR3,11,とR,、R1とR2およびR2と
R8とが互いに環化して炭素環を形成しでもよく、さら
に該炭素環はアルキル基で置換されでもよい。
前記一般式[C−1]、[C−・2]、[D−1]およ
び[D −2]荷おいで、RIおよびR1が水素原子、
アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基またはシクロ
アルキル基、R5、R4、R1、R6、R2およびRm
が水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基であ
る化合物が特に有用である。
び[D −2]荷おいで、RIおよびR1が水素原子、
アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基またはシクロ
アルキル基、R5、R4、R1、R6、R2およびRm
が水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基であ
る化合物が特に有用である。
一般式[C]、[D]で表される化合物は日本化学学会
誌(J、 Chew、 Soc、 part C) 1
96B、(14)r 193フ〜18頁、有慨介或化学
協会誌19フ0.2B(1)、 80〜65頁、テトラ
ヘドロン(Tetrahedron Letters)
1973、 (29)、2707〜2710真に記載さ
れている化合物を含み、かつこれらに記載されている方
法に従って合成することがでbる。
誌(J、 Chew、 Soc、 part C) 1
96B、(14)r 193フ〜18頁、有慨介或化学
協会誌19フ0.2B(1)、 80〜65頁、テトラ
ヘドロン(Tetrahedron Letters)
1973、 (29)、2707〜2710真に記載さ
れている化合物を含み、かつこれらに記載されている方
法に従って合成することがでbる。
前記一般式[CI、[D]で表される化合物の使用量は
、前記本発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜30
0モル%が好ましく、より好ましくは10〜200モル
%である。
、前記本発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜30
0モル%が好ましく、より好ましくは10〜200モル
%である。
以下にこれらの化合物の具体的代表例を示す。
以下余白
一般式(E)
式中・R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
リール基、アシル基、シクロアルキル基もしくはヘテロ
環基を表わし、R3は水素原子、ノ10デン原子、アル
キル基、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基
、アシル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホ
ンアミド基、シクロアルキル基もしくはアルコキシカル
ボニル基を表わす。
リール基、アシル基、シクロアルキル基もしくはヘテロ
環基を表わし、R3は水素原子、ノ10デン原子、アル
キル基、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基
、アシル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホ
ンアミド基、シクロアルキル基もしくはアルコキシカル
ボニル基を表わす。
R2お上りR4は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
、アルケニル基、アリール基、アシル基、アシルアミノ
基、スルホンアミド基、シクロアルキル基もしくはアル
コキシカルボニル基を表わす。
、アルケニル基、アリール基、アシル基、アシルアミノ
基、スルホンアミド基、シクロアルキル基もしくはアル
コキシカルボニル基を表わす。
以上にあげた基はそれぞれ他の置換基で置換されていて
もよい6例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、ヒト四キシ基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
アシルアミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、
スルファモイル基等が挙げられる。
もよい6例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、ヒト四キシ基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
アシルアミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、
スルファモイル基等が挙げられる。
虫たR1 とR意は互いに閉環し、5Jl*たは6貝
環を形成してもよい。
環を形成してもよい。
その時I(3およびR4は水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオ
キシ基、ヒドロ鈴シ基、アリール基、アリールオキシ基
、アシル基、アシルアミ7基、7シルオキシ基、スルホ
ンアミド基もしく1土アルコキシカルボニル基を表わす
。
ルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオ
キシ基、ヒドロ鈴シ基、アリール基、アリールオキシ基
、アシル基、アシルアミ7基、7シルオキシ基、スルホ
ンアミド基もしく1土アルコキシカルボニル基を表わす
。
Yはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群を表わす。
原子群を表わす。
クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されていでもよ
く、さらにスピ四環を形成してもよい。
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されていでもよ
く、さらにスピ四環を形成してもよい。
一般式(E)で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式(E−1)。
用な化合物は一般式(E−1)。
(E−2) t(E−3) t(E−4)および(E−
5)で示される化合物に包含される。
5)で示される化合物に包含される。
一般式(E−1)
八1
一般式(E−2)
RI
一般式(E−3)
+ぜ K′v OR’
一般式(E−4)
一般式(E−5)
一般式(E−1)〜(E−5)におけるR1、R2、R
3およびR4は前記一般式(E)におけるのと同じ意味
を持ち、R’、R’、Rフ、R”、It嘗お上りR”は
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、
ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、ア
リール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基を表わ
す、さらにR5とR@、■(優とR)、R’とR’、R
@とR”およt/R”とRIOとが互いに環化して炭素
環を形成してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置
換されてもよい。
3およびR4は前記一般式(E)におけるのと同じ意味
を持ち、R’、R’、Rフ、R”、It嘗お上りR”は
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、
ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、ア
リール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基を表わ
す、さらにR5とR@、■(優とR)、R’とR’、R
@とR”およt/R”とRIOとが互いに環化して炭素
環を形成してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置
換されてもよい。
前記一般式(E−1)〜(E−5)において、R’ t
R” = R”お上りR4が水素原子、アルキル基、
またはシクロアルキル基、前記一般式(E−5)におい
て、R3お上りR4が水素原子、アルキル基、アルコキ
シ基、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、さらに前
記一般式(E−1)〜(E−51において、R’、R’
、R’、R”、R−およびR目が水素原子、アルキル基
、またはシクロアルキル基である化合物が特に有用であ
る。
R” = R”お上りR4が水素原子、アルキル基、
またはシクロアルキル基、前記一般式(E−5)におい
て、R3お上りR4が水素原子、アルキル基、アルコキ
シ基、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、さらに前
記一般式(E−1)〜(E−51において、R’、R’
、R’、R”、R−およびR目が水素原子、アルキル基
、またはシクロアルキル基である化合物が特に有用であ
る。
一般式[E]により表される化合物はテトラヘト四ン(
Tetrahedron Letters) 1965
.(8)、457〜460頁日本北日本会誌(J、 C
hew、 Soc、 part C) 1966゜(2
2)、 2013−2016頁、(Zh、 Org、
Khim) 1970.(6)。
Tetrahedron Letters) 1965
.(8)、457〜460頁日本北日本会誌(J、 C
hew、 Soc、 part C) 1966゜(2
2)、 2013−2016頁、(Zh、 Org、
Khim) 1970.(6)。
1230〜1237真に記載されている化合物を含み、
かつこれらに記載されている方法に従って合成すること
ができる。
かつこれらに記載されている方法に従って合成すること
ができる。
前記一般式[E−1]で表される化合物の使用量は、前
記本発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜300モ
ル%が好ましく、より好ましくは10〜200モル%で
ある。
記本発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜300モ
ル%が好ましく、より好ましくは10〜200モル%で
ある。
以下にこれらの化合物の具体的代表例を示す。
以下余白
一般式CF)
式中R+は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アシル基、シクロアルキル基もしくはヘテロ環
基を表し、R2は水素原子、ノ為ロデン原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホンア
ミド基、ジクロフルキル基、もしくはアルコキシカルボ
ニル基をあられす。
ール基、アシル基、シクロアルキル基もしくはヘテロ環
基を表し、R2は水素原子、ノ為ロデン原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホンア
ミド基、ジクロフルキル基、もしくはアルコキシカルボ
ニル基をあられす。
Rsは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基、アシル基、アシルアミ−ノ基、スル
ホンアミド基、シクロアルキル基もしくはアルコキシカ
ルボニル基をあられす。
ル基、アリール基、アシル基、アシルアミ−ノ基、スル
ホンアミド基、シクロアルキル基もしくはアルコキシカ
ルボニル基をあられす。
R4は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アル;キシ基、アルケニルオキシ基、ヒドロキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、アシル
アミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、もしく
はアルコキシカルボニル基をあられす。
ル基、アル;キシ基、アルケニルオキシ基、ヒドロキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、アシル
アミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、もしく
はアルコキシカルボニル基をあられす。
以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもい
い0例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ルアミノ基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スル
ファモイル基などが挙げられる。
い0例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ルアミノ基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スル
ファモイル基などが挙げられる。
又It 、とR2は互いに閉環し、5H士たは6貝環を
形成してもよい、その時Rsお上びR1は水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アル;キシ基
、アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、ア
リールオキシ基、アシル基、アシルアミ/基、アシルオ
キシ基、スルホンアミド基、もしくはアルコキシカルボ
ニル基をあられす。
形成してもよい、その時Rsお上びR1は水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アル;キシ基
、アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、ア
リールオキシ基、アシル基、アシルアミ/基、アシルオ
キシ基、スルホンアミド基、もしくはアルコキシカルボ
ニル基をあられす。
Yはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群をあられす。
原子群をあられす。
クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されていでもよ
(、さらにスビr′J!!1を形成してもよい。
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されていでもよ
(、さらにスビr′J!!1を形成してもよい。
一般式[Flで示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式[F−1]、[F −2]、[F
−3]、[F −41おより[F −51”示3 j’
L ロ化合物に包含される。
用な化合物は一般式[F−1]、[F −2]、[F
−3]、[F −41おより[F −51”示3 j’
L ロ化合物に包含される。
以下余白
一般式(F−1)
一般式[F−2]
一般式(F−3)
一般式(F−4)
一般式CF−5)
一般式(r’−zlお上り[F−5]におけるR1%R
z、RaおよびR4は前記一般式[Flにおけるのと同
じ意味を持ち、Rs、tts、R7、iCs、ttsお
よびR1・は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ア
ルコキシ基、ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニル
オキシ基、アリール基、アリールオキシ基もしくはヘテ
ロ環基をあらゎす・ さらにRsとR,、R6とR?、R?とR1、R1とR
9およびR1とRIoとが互いに環化して炭素環を形成
しでもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換されて
もよい。
z、RaおよびR4は前記一般式[Flにおけるのと同
じ意味を持ち、Rs、tts、R7、iCs、ttsお
よびR1・は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ア
ルコキシ基、ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニル
オキシ基、アリール基、アリールオキシ基もしくはヘテ
ロ環基をあらゎす・ さらにRsとR,、R6とR?、R?とR1、R1とR
9およびR1とRIoとが互いに環化して炭素環を形成
しでもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換されて
もよい。
また[F−31、[F −4]お上り[F5]において
2つのR3〜RIGはそれぞれ同一でも異なうでいでも
よい。
2つのR3〜RIGはそれぞれ同一でも異なうでいでも
よい。
前記一般式rl”−11,、[F−23、[F’ −3
]、[I”−4]および[F −5]においてR,SR
2、およびR3が水素原子、アルキル基、シクロアルキ
ル基、R4が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒ
ドロキシ基またはシクロアルキル基、さらにR1、■(
いR2、R1、R1およびR10が水素原子、アルキル
基、またはシクロアルキル基である化合物が特に有用で
ある。
]、[I”−4]および[F −5]においてR,SR
2、およびR3が水素原子、アルキル基、シクロアルキ
ル基、R4が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒ
ドロキシ基またはシクロアルキル基、さらにR1、■(
いR2、R1、R1およびR10が水素原子、アルキル
基、またはシクロアルキル基である化合物が特に有用で
ある。
一般式[Flにより表される化合物はテトラヘト1)ン
(Tetrahedron Letters) 1
9フO,Vol 26,4743〜4751頁、日本
化学学会誌1972. No、10.1987〜199
0頁、シンセサイX” (Synthesis) 19
フ5. Vol B。
(Tetrahedron Letters) 1
9フO,Vol 26,4743〜4751頁、日本
化学学会誌1972. No、10.1987〜199
0頁、シンセサイX” (Synthesis) 19
フ5. Vol B。
392〜393頁、(Ilul 5oct ChilI
、 Delg ) 1975. Vtl84())、7
47〜759真に記載されている化合物を含み、かつこ
れらに記載されている方法に従って合成することができ
る。
、 Delg ) 1975. Vtl84())、7
47〜759真に記載されている化合物を含み、かつこ
れらに記載されている方法に従って合成することができ
る。
前記一般式[F]で表される化合物の使用量は、前記本
発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜300モル%
が好ましく、より好ましくは10〜200モル%である
。
発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜300モル%
が好ましく、より好ましくは10〜200モル%である
。
以下に一般式IFIで表される化合物の具体的代表例を
示す。
示す。
以下余白
クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ苓、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ*−X″t’ft!換され
ていでもよ(、さらにスビを1を形成してもよい。
基、シクロアルキル基、アルコキシ苓、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ*−X″t’ft!換され
ていでもよ(、さらにスビを1を形成してもよい。
一般式[F]で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式[F−11、[F −21、[F
−3]、[F −493J: (1’[F −5l″?
?示@ロ化合物に包含される。
用な化合物は一般式[F−11、[F −21、[F
−3]、[F −493J: (1’[F −5l″?
?示@ロ化合物に包含される。
一般式CG)
R
式中R1及びR3は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、7シ
ルアミ7基、アシルオキシ基、スルホン7ミド基、シク
ロアルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す。
、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、7シ
ルアミ7基、アシルオキシ基、スルホン7ミド基、シク
ロアルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す。
R2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、ヒドロキシ基、アリール基、アシル基、アシル7
ミ7基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、シクロア
ルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す。
ル基、ヒドロキシ基、アリール基、アシル基、アシル7
ミ7基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、シクロア
ルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す。
上に挙げた基は、それぞれ他の置換基で置換されてもよ
い、fl!換基として、例えばアルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ヒ
ドロキシ基、アルコキシ力ルボニル基、アリールオキレ
カルボニル基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スル
ホンアミド基、スルファモイル基等が挙げられる。
い、fl!換基として、例えばアルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ヒ
ドロキシ基、アルコキシ力ルボニル基、アリールオキレ
カルボニル基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スル
ホンアミド基、スルファモイル基等が挙げられる。
またR1とR3は互いに閉環し、5貝または6貝の炭化
水素環を形成しでもよい、この5貝または6貝の炭化水
素環はハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、
アルコキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アリール
基、アリールオキシ基またはへテロ環基等で置換されて
もよい。
水素環を形成しでもよい、この5貝または6貝の炭化水
素環はハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、
アルコキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アリール
基、アリールオキシ基またはへテロ環基等で置換されて
もよい。
Yはインゲン環を形成するのに必要な原子群を表す、イ
ンゲン環はハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、シクロアルキル基、ヒドロキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基、またはへテロ環基等で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成しでもよい。
ンゲン環はハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、シクロアルキル基、ヒドロキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基、またはへテロ環基等で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成しでもよい。
一般式CG)で示される化合物の中、本発明に特に有用
な化合物は一般式(G−1)−(G−3)で示される化
合物に包含される。
な化合物は一般式(G−1)−(G−3)で示される化
合物に包含される。
以下余白
一般式(G−1)
K’
一般式(G−2)
一般式(G−3)
一般式(G−1)〜(G−3)におけるR1.Rり及び
[(3は一般式CG)におけるものと同義であり、R4
,R”、R’、Rアtr<’及びR”は、+れeh水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アル
ケニル基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ
基またはへテロ環基を表す。R’とR’、R’とR’、
R’とr(’、R’とR”及びR’とR1は互いに閉環
して炭化水素環を形成してもよく、更に該炭化水素環は
アルキル基で置換されてもよい。
[(3は一般式CG)におけるものと同義であり、R4
,R”、R’、Rアtr<’及びR”は、+れeh水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アル
ケニル基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ
基またはへテロ環基を表す。R’とR’、R’とR’、
R’とr(’、R’とR”及びR’とR1は互いに閉環
して炭化水素環を形成してもよく、更に該炭化水素環は
アルキル基で置換されてもよい。
前記一般式(G−1)〜(G−3)において、R1及び
、R3が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロ
キシ基またはシクロアルキル基、R”が水素原子、アル
キル基、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、re’
、R’、R”、RマtR”及びR@が水素原子、フルキ
ル基またはシクロアルキル基である化合物が特に有用で
ある。
、R3が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロ
キシ基またはシクロアルキル基、R”が水素原子、アル
キル基、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、re’
、R’、R”、RマtR”及びR@が水素原子、フルキ
ル基またはシクロアルキル基である化合物が特に有用で
ある。
前記一般式[G]で表される化合物のうち使用量は、マ
ゼンタカプラーに対して5−300モル%が好ましく、
より好ましくは10〜200モル%である。
ゼンタカプラーに対して5−300モル%が好ましく、
より好ましくは10〜200モル%である。
以下に一般式[G]で表される化合物の代表的具体例を
示す。
示す。
以下余白
一般式(H)
R3
式中R1及びRtは、それぞれ水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、
アシルアミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、
シクロアルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す
。
、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、
アシルアミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、
シクロアルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す
。
R)は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アシ
ルオキシ基、アシル基、アシルアミ7基、アシルオキシ
基、スルホンアミド基、シクロアルキル基またはアルコ
キシカルボニル基を表す。
ル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アシ
ルオキシ基、アシル基、アシルアミ7基、アシルオキシ
基、スルホンアミド基、シクロアルキル基またはアルコ
キシカルボニル基を表す。
上に亭げた基は、それぞれ他の置換基で置換されてもよ
く、例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アシルオキシ基、ヒドロキシ基、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル
7ミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルフ
ァモイル基等が挙げられる。
く、例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アシルオキシ基、ヒドロキシ基、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル
7ミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルフ
ァモイル基等が挙げられる。
またR1とR2及びR2と1(3は互いに閑環し、5j
t*たは6Rの炭化水素環を形成してもよく、該炭化水
素環はハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、
アルコキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アリール
基、7リールオキシ基、ヘテセ環基等で置換されでもよ
い。
t*たは6Rの炭化水素環を形成してもよく、該炭化水
素環はハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、
アルコキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アリール
基、7リールオキシ基、ヘテセ環基等で置換されでもよ
い。
Yはインゲン環を形成するのに必要な原子群を表し、該
インダン環は上記炭化水素環を置換し得る置換基で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成しでもよい。
インダン環は上記炭化水素環を置換し得る置換基で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成しでもよい。
一般式〔I(〕で示される化合物の中、本発明に特に有
用な化合物は一般式(II−13〜(H−23で示され
る化合物に包含される。
用な化合物は一般式(II−13〜(H−23で示され
る化合物に包含される。
一般式〔夏]−2〕
一般式(H−3)
一般式(H−1)〜(H−3)におけるR l、R2及
びR3は一般式(H)におけるものと同義であり、R4
,R8,R”、RテIR1及CFR’li、ツレツレ水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒ
ドロキシ基、アルケニル基、アリール基、アリールオキ
シ基またはへテロ環基を表す、またR’とR’% R’
lR@、RIとR’、R7とRI及びR・とR1は互い
に閉環して炭化水素環を形成してもよく、更に該炭化水
素環はアルキル基で置換されてもよい。
びR3は一般式(H)におけるものと同義であり、R4
,R8,R”、RテIR1及CFR’li、ツレツレ水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒ
ドロキシ基、アルケニル基、アリール基、アリールオキ
シ基またはへテロ環基を表す、またR’とR’% R’
lR@、RIとR’、R7とRI及びR・とR1は互い
に閉環して炭化水素環を形成してもよく、更に該炭化水
素環はアルキル基で置換されてもよい。
前記一般式(H−1)〜(If−3)において、RI及
びR2がそれぞれ水素原子、フルキル基またはシクロア
ルキル基、R3が水素原子、アルキル基、アルコキシ基
、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、R’、R’、
R1,Rテ、R8及びR自が、それぞれ水素原子、アル
キル基またはジクロフルキル基である化合物が特に有用
である。
びR2がそれぞれ水素原子、フルキル基またはシクロア
ルキル基、R3が水素原子、アルキル基、アルコキシ基
、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、R’、R’、
R1,Rテ、R8及びR自が、それぞれ水素原子、アル
キル基またはジクロフルキル基である化合物が特に有用
である。
前記一般式[H]で表される化合物の合成方法は既知で
あって、米国特許3.057929号、Chem。
あって、米国特許3.057929号、Chem。
B cr、 1972. 95(5L 1673
−1674頁、 Chemist−ry L ett
ers、 1980*739−742頁に従って製造
できる。
−1674頁、 Chemist−ry L ett
ers、 1980*739−742頁に従って製造
できる。
前記一般式[H]で表される化合物マゼンタカプラーに
対して5〜300モル%が好ましく、より好ましくは1
0〜200モル%である。
対して5〜300モル%が好ましく、より好ましくは1
0〜200モル%である。
以下に一般式[■1]で表される具体的代表例を示す。
以下余白
一般式(J) 、+、
R’−N Y
〔式中、R1は脂肪°族基、シクロアル幹ル基またはア
リール基を表し、Yは窒素原子と共に5〜7員環の複素
環を形成するのに必要な非金属原子群を表す、但し、該
複素環を形成する窒素原子を含む非金)slWl中子中
以上のへタロ原子がある場合、少なくとも2つのへテロ
原子は互いに隣接しないヘテロ原子である。〕 R1%表される脂肪族基としては、置換基を有してもよ
い飽和アルキル基、及びIf置換基有してもよい不飽和
アルキル基が挙げられる。飽和アルキル基としでは、例
えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ド
デシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げら
れ、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基、
プロペニル基等が挙げられる。
リール基を表し、Yは窒素原子と共に5〜7員環の複素
環を形成するのに必要な非金属原子群を表す、但し、該
複素環を形成する窒素原子を含む非金)slWl中子中
以上のへタロ原子がある場合、少なくとも2つのへテロ
原子は互いに隣接しないヘテロ原子である。〕 R1%表される脂肪族基としては、置換基を有してもよ
い飽和アルキル基、及びIf置換基有してもよい不飽和
アルキル基が挙げられる。飽和アルキル基としでは、例
えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ド
デシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げら
れ、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基、
プロペニル基等が挙げられる。
R1で表されるシクロアル坪ル基としでは、置換基を有
しでもよい5〜7Itのシクロアルキル基で例えば、シ
クロペンチル基、ンクロヘキレル基等が挙げられる。
しでもよい5〜7Itのシクロアルキル基で例えば、シ
クロペンチル基、ンクロヘキレル基等が挙げられる。
R1で表される了り−ル基としては、それぞれ置換基を
有してもよいフェニル基、ナフチル基を表す。
有してもよいフェニル基、ナフチル基を表す。
R1で表される脂肪族基、シクロアルキル基、アリール
基の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミ7
基、スルファモイル基、スルホンアミド基、カルボニル
オ〜シ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ヒドロキン基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基等が帯げられ、これらの置換基はさらに置換
基を有してもよい。
基の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミ7
基、スルファモイル基、スルホンアミド基、カルボニル
オ〜シ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ヒドロキン基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基等が帯げられ、これらの置換基はさらに置換
基を有してもよい。
前記一般式(J)において、Yは窒素原子と共に5〜7
貝環の複索環を形成するのに必要な非金属原子群を表す
が、該複素環を形成するvL索原子を含む非金属原子群
の少なくとも2つはへテロ原子でなければならず、また
、この少なくとも2つのへテロ原子は互いに隣接しては
ならない。一般式(J)で表される化合物の複索環にお
いで、全てのヘテロ原子が互いに隣接した場合は、マゼ
ンタ色素画像安定化剤としての機能を発揮することが出
来ないので好ましくない。
貝環の複索環を形成するのに必要な非金属原子群を表す
が、該複素環を形成するvL索原子を含む非金属原子群
の少なくとも2つはへテロ原子でなければならず、また
、この少なくとも2つのへテロ原子は互いに隣接しては
ならない。一般式(J)で表される化合物の複索環にお
いで、全てのヘテロ原子が互いに隣接した場合は、マゼ
ンタ色素画像安定化剤としての機能を発揮することが出
来ないので好ましくない。
前記一般式(J)で表される化合物の前記5〜7貝環の
複素環は置換基を有してもよく、置換基としては、アル
今ル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、アル
コキシカルボニル基、スルホニル基、スル77モイル基
等であり、更に置換基を有してもよい、また、該5〜7
貝環の複素環は飽和であってもよいが、飽和の複素環が
好ましい、又、該複素環にベンゼン環等が縮合していて
もよく、スピロ環を形成してもよい。
複素環は置換基を有してもよく、置換基としては、アル
今ル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、アル
コキシカルボニル基、スルホニル基、スル77モイル基
等であり、更に置換基を有してもよい、また、該5〜7
貝環の複素環は飽和であってもよいが、飽和の複素環が
好ましい、又、該複素環にベンゼン環等が縮合していて
もよく、スピロ環を形成してもよい。
本発明の前記一般式(J)で表される化合物の使用量は
、本発明の前記一般式(13で表されるマゼンタカプラ
ーに対して5〜300モル%が好ましく、よn好ましく
は10〜200モル%である。
、本発明の前記一般式(13で表されるマゼンタカプラ
ーに対して5〜300モル%が好ましく、よn好ましく
は10〜200モル%である。
以下に一般式CJ)で2:、f!−れろ代表的共体洲を
示す。
示す。
以下余白
J−63
J−64
J−8フ
+r
■
C+z HJ望
前記一般式(Jlで表される化合物の中で、ピペラジン
系化合物及びホモピペラジン系化合物は特に好ましく、
さらに好ましくは、下記一般式(J−1)または(J−
2)で表される化合物である。
系化合物及びホモピペラジン系化合物は特に好ましく、
さらに好ましくは、下記一般式(J−1)または(J−
2)で表される化合物である。
一般式(J−1)
一般式(J−23
式中、R2及びR’は、それぞれ水素原子、アルキル基
またはアリール基を表す。但し、R2とR3が同時に水
素となることはない、R4〜R”は、それぞれ水素原子
、アルキル基またはアリール基を表す。
またはアリール基を表す。但し、R2とR3が同時に水
素となることはない、R4〜R”は、それぞれ水素原子
、アルキル基またはアリール基を表す。
前記一般式(J−1)及び(J−2)においでR2及び
R3は、それぞれ水素原子、アルキル基またはアリール
基を表すが% R”またはR”で表されるアルキル基と
しては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オク
チル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基
、オクタデシル基等が挙げられる。R3*たはR3で表
されるアリール基としては、フェニル基等が率げられる
。R1またはR3で表されるアルキル基、アリール基は
置換基を有してもよく、置換基としては、ハロゲン原子
、アルキル基、71J−ル基、アルコ袴シ基、アリール
オキシ基、複素R’l、等が挙げられる。
R3は、それぞれ水素原子、アルキル基またはアリール
基を表すが% R”またはR”で表されるアルキル基と
しては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オク
チル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基
、オクタデシル基等が挙げられる。R3*たはR3で表
されるアリール基としては、フェニル基等が率げられる
。R1またはR3で表されるアルキル基、アリール基は
置換基を有してもよく、置換基としては、ハロゲン原子
、アルキル基、71J−ル基、アルコ袴シ基、アリール
オキシ基、複素R’l、等が挙げられる。
RzとHa(置換基を含む)/)炭素原子数の合計は6
〜40が好ましい。
〜40が好ましい。
前記一般式(J−1)または(J−2)において、R’
〜RI!は、それぞれ水素原子、アルキル基土たはアリ
ール基を表すが、R4〜l(+3で表されるアルキル基
としては、例えば、メチル基、エチル基等が挙げられる
* r<4〜R”で表されるアリール基としてはフェニ
ル基等が挙げられ、る。
〜RI!は、それぞれ水素原子、アルキル基土たはアリ
ール基を表すが、R4〜l(+3で表されるアルキル基
としては、例えば、メチル基、エチル基等が挙げられる
* r<4〜R”で表されるアリール基としてはフェニ
ル基等が挙げられ、る。
前記一般式(J−1)または(J−2)で表される化合
物の共体例は、前記した例示ピペラジン系化合物(J−
1)〜(J−30)及び例示ホモピペラジン系化合物(
J−51)〜(J−82)の中に記載した通りである。
物の共体例は、前記した例示ピペラジン系化合物(J−
1)〜(J−30)及び例示ホモピペラジン系化合物(
J−51)〜(J−82)の中に記載した通りである。
次に、前記一般式(J)で表される本発明の代表的なマ
ゼンタ色素lW像安定化剤の合成例を示す。
ゼンタ色素lW像安定化剤の合成例を示す。
合成例−1(化合物J−2の合成)
ピペラジン9.0g及びミリスチルブロマイド55gを
溶解した1ooJlのアセトン中に、無水炭酸カリウム
15gを加え、10時闇煮沸還流して反応させた。
溶解した1ooJlのアセトン中に、無水炭酸カリウム
15gを加え、10時闇煮沸還流して反応させた。
反応後、反応液を5ooJ/の水にあけた後、酢酸エチ
ル500−で抽出した。酢酸エチル層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると、白色結晶の目的
物が得られた。アセトン300Jで再結晶して、白色鱗
片状の結晶34g(収率)0%)を得た。
ル500−で抽出した。酢酸エチル層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると、白色結晶の目的
物が得られた。アセトン300Jで再結晶して、白色鱗
片状の結晶34g(収率)0%)を得た。
融点55〜58℃
合成例−2(化合物J−34の合成)
4−モルホリノアニリン18gを酢酸エチル100Jに
溶解した後、攪拌下、反応液を20℃に保ちながら、無
水酢酸12Jを少しずつ加えた。無水酢酸添加後、水冷
し、析出する結晶を3取した後、酢酸エチルで再結晶し
、白色粉末状結晶18.5g(収率)5%)を得た。
溶解した後、攪拌下、反応液を20℃に保ちながら、無
水酢酸12Jを少しずつ加えた。無水酢酸添加後、水冷
し、析出する結晶を3取した後、酢酸エチルで再結晶し
、白色粉末状結晶18.5g(収率)5%)を得た。
融点207〜210℃
一般式(K)
式中、R1は脂肪族基、シクロアルキル基またはアリー
ル基を表し、Yは窒素原子と共に5〜7員環の複素環を
形成するのに必要な単なる結合手または2価の炭化水素
基を表す@ R”FR”FR4゜RS 、 Rs 、
Rtは、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロアルキル
基またはアリール基を表す、但し、R2とR4及びR3
とR−は互いに結合して単なる結合手を形成して窒素原
子、Yと共に不飽和の5〜7貝環の複素環を形成しても
よい。また、Yが単なる結合手のときは% R1とR7
が互いに結合して単なる結合手を形成して窒素原子、Y
と共に不飽和の5貝環の複素環を形成してもよい、また
、Yが単なる結合手でないときは、RsとY、R’とY
またはY自身で不飽和結合を形成して窒素原子、Yと共
に不飽和の6員または7員の複素環を形成してもよい。
ル基を表し、Yは窒素原子と共に5〜7員環の複素環を
形成するのに必要な単なる結合手または2価の炭化水素
基を表す@ R”FR”FR4゜RS 、 Rs 、
Rtは、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロアルキル
基またはアリール基を表す、但し、R2とR4及びR3
とR−は互いに結合して単なる結合手を形成して窒素原
子、Yと共に不飽和の5〜7貝環の複素環を形成しても
よい。また、Yが単なる結合手のときは% R1とR7
が互いに結合して単なる結合手を形成して窒素原子、Y
と共に不飽和の5貝環の複素環を形成してもよい、また
、Yが単なる結合手でないときは、RsとY、R’とY
またはY自身で不飽和結合を形成して窒素原子、Yと共
に不飽和の6員または7員の複素環を形成してもよい。
R1で表される脂肪族基としては、置換基を有して6よ
い飽和アルキル基、及び置換基を有してもよい不飽和ア
ルキル基が挙げられる。飽和フルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデ
シル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が亭げられ
、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基、プ
ロペニル基等が挙げられる。
い飽和アルキル基、及び置換基を有してもよい不飽和ア
ルキル基が挙げられる。飽和フルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデ
シル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が亭げられ
、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基、プ
ロペニル基等が挙げられる。
R1で表されるシクロアルキル基としては、置換基を有
しでもよい5〜7貝のシクロアルキル基で例えば、シフ
ペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
しでもよい5〜7貝のシクロアルキル基で例えば、シフ
ペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
R’?表されるアリール基としでは、置換基を有しても
よいフェニル基、ナフチル基を表す。
よいフェニル基、ナフチル基を表す。
R1で表される脂肪族基、シクロアルキル基、アリール
基の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ
基、スルファモイル基、スルホンアミド基、カルボニル
オキシ基、アルキルスルホニル基、7リールスルホニル
基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基弊が挙げられ、これらの置換基はさらに置換
基を有して一一よい。
基の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ
基、スルファモイル基、スルホンアミド基、カルボニル
オキシ基、アルキルスルホニル基、7リールスルホニル
基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基弊が挙げられ、これらの置換基はさらに置換
基を有して一一よい。
前記一般式(K)において、Yは窒素原子と共に5〜7
)l環の複索環を形成するのに必要な単なる結合手また
は2価の炭化水素基を表すが、Yが単なる結合手のとき
は、さらにRsとR7が互いに結合して単なる結合手を
形成しで不飽和の55!環の複葉環を形成してもよく、
またYが2価の単価水素基の場合、即ち、メチレン基の
場合には、R5とYまたはR’とYとで不飽和結合を形
成し、不飽和の6js、11の複索環を形成しでもよく
、またエチレン基の場合には、【($とY、E<’とY
またはY自身で不飽和結合を形成し、不飽和の7員環の
複素環を形成してもよい、さらにYで表される2価の炭
化水素基は置換基を有してもよく、この置換基には、ア
ルキル基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイ
ル基、アリール基、ヘテロ環基等が挙げられる。
)l環の複索環を形成するのに必要な単なる結合手また
は2価の炭化水素基を表すが、Yが単なる結合手のとき
は、さらにRsとR7が互いに結合して単なる結合手を
形成しで不飽和の55!環の複葉環を形成してもよく、
またYが2価の単価水素基の場合、即ち、メチレン基の
場合には、R5とYまたはR’とYとで不飽和結合を形
成し、不飽和の6js、11の複索環を形成しでもよく
、またエチレン基の場合には、【($とY、E<’とY
またはY自身で不飽和結合を形成し、不飽和の7員環の
複素環を形成してもよい、さらにYで表される2価の炭
化水素基は置換基を有してもよく、この置換基には、ア
ルキル基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイ
ル基、アリール基、ヘテロ環基等が挙げられる。
前記一般式(K)において、R”、RコtR’WR5e
R1及びR1は、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロ
アルキル基またはアリール基を表すが、R2〜R?で表
される脂肪族基としては、置換基を有してもよい飽和ア
ルキル基及び置換基を有してもよい不飽和アルキル基が
挙げられる。飽和アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、テ
トラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ、不飽和ア
ルキル基としでは、例えば、エチニル基、プロペニル基
等が挙げられる。
R1及びR1は、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロ
アルキル基またはアリール基を表すが、R2〜R?で表
される脂肪族基としては、置換基を有してもよい飽和ア
ルキル基及び置換基を有してもよい不飽和アルキル基が
挙げられる。飽和アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、テ
トラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ、不飽和ア
ルキル基としでは、例えば、エチニル基、プロペニル基
等が挙げられる。
R”−Rマで表されるシクロアルキル基としては、置換
基を有しでもよい5〜7員環のシクロアルキル基で、例
えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。
基を有しでもよい5〜7員環のシクロアルキル基で、例
えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。
R8−R7で表されるアリール基としては、置換基を有
してもよいフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
してもよいフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
上記R3〜R7で表される脂肪族基、シクロアルキル基
、7リール基の置換基としては、フルキル基、アリール
基、アルコキシ基、カルボニル基、カルバモイル基、ア
シルアミ7基、スルファモイル基、スルホンアミド基、
カルボニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチ
オ基等が挙げられる。
、7リール基の置換基としては、フルキル基、アリール
基、アルコキシ基、カルボニル基、カルバモイル基、ア
シルアミ7基、スルファモイル基、スルホンアミド基、
カルボニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチ
オ基等が挙げられる。
前記一般式(K〕で表される化合物は、5〜7員環の飽
和の複素環を有する場合が、不飽和であるよりも好まし
い。
和の複素環を有する場合が、不飽和であるよりも好まし
い。
以下に前記一般式(K)で表される化合物の使用監は、
本発明の前記一般式(1)で表されるマゼンタカプラー
に対して5〜300モル%が好ましく、より好ましくは
10〜200モル%である。
本発明の前記一般式(1)で表されるマゼンタカプラー
に対して5〜300モル%が好ましく、より好ましくは
10〜200モル%である。
前記一般式(K)で表される化合物の代表的具体例を示
す。
す。
以下余白
に−34
に−35
に−36
に−37
に−38
に−39
に−40
に−41
次に、前記一般式(K)で表される化合物の代表的合成
例を示す。
例を示す。
合成例−1(化合物に−14の合成)
ピペラジン9.0g及びミリスチルブロマイド28gを
溶解した60Tll+1の7七トン中に、無水炭酸カリ
ウム6.0gを加え、20時間煮沸還流して反応させた
。
溶解した60Tll+1の7七トン中に、無水炭酸カリ
ウム6.0gを加え、20時間煮沸還流して反応させた
。
反応後、反応液を300 m(Iの水に注ぎ込んだ後、
酢酸エチル300−で抽出した。酢酸エチル層を硫酸マ
グネシウムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると、白色結
晶の目的物が得られた。アセトン100 mll で再
結晶して、白色鱗片状の結晶12g(収率43%)を得
た。
酢酸エチル300−で抽出した。酢酸エチル層を硫酸マ
グネシウムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると、白色結
晶の目的物が得られた。アセトン100 mll で再
結晶して、白色鱗片状の結晶12g(収率43%)を得
た。
融点175〜180℃
本発明のハロゲン化銀カラー写真感光材料は、いかなる
タイプの写真感光材料にも適用でき、例えばカラーネガ
及びポジフィルム、ならびにカラー印画紙などであるこ
とができるが、とりわけ直接鑑賞用に供されるカラー印
画紙を用いた場合に本発明の効果が有効に発揮される。
タイプの写真感光材料にも適用でき、例えばカラーネガ
及びポジフィルム、ならびにカラー印画紙などであるこ
とができるが、とりわけ直接鑑賞用に供されるカラー印
画紙を用いた場合に本発明の効果が有効に発揮される。
このカラー印画紙をはじめとする本発明のハロゲン化銀
写真感光材料は、m急用のものでも多色用のものでも良
い。多色用ハロゲン化銀写′R感光材料の場合には減色
法再現を行うために、通常は写真用カラーとして、マゼ
ンタ、イエロー、及びシアンの各カプラーを含有するハ
ロゲン化銀乳剤層ならびに非感光性層が支持体上に適宜
の暦数及び層間で積層した構造を有しているが、該暦数
及び層間は重点性能、使用目的によって適宜変更しても
良い。
写真感光材料は、m急用のものでも多色用のものでも良
い。多色用ハロゲン化銀写′R感光材料の場合には減色
法再現を行うために、通常は写真用カラーとして、マゼ
ンタ、イエロー、及びシアンの各カプラーを含有するハ
ロゲン化銀乳剤層ならびに非感光性層が支持体上に適宜
の暦数及び層間で積層した構造を有しているが、該暦数
及び層間は重点性能、使用目的によって適宜変更しても
良い。
以下余白
本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、酸性法、中性法、アンモニア法のいずれかで得ら
れたものでもよい。該粒子は一時に成長させても良いし
、種粒子をつくった後、成長させても良い。種粒子をつ
くる方法と成長させる方法は同じであっても、異なって
も良い。
子は、酸性法、中性法、アンモニア法のいずれかで得ら
れたものでもよい。該粒子は一時に成長させても良いし
、種粒子をつくった後、成長させても良い。種粒子をつ
くる方法と成長させる方法は同じであっても、異なって
も良い。
ハロゲン化銀乳剤はハライドイオンと銀イオンを同時に
混合しても、いずれか一方が存在する中に、他方を混合
してもよい。また、ハロゲン化銀結晶の臨界成長速度を
考慮しつつ、ハライドイオンと銀イオンを混合釜内のI
)H,I)AQをコントロールしつつ逐次同時に添加す
る事により、生成させても良い。成長後にコンバージョ
ン法を用いて、粒子のハロゲン組成を変化させても良い
。
混合しても、いずれか一方が存在する中に、他方を混合
してもよい。また、ハロゲン化銀結晶の臨界成長速度を
考慮しつつ、ハライドイオンと銀イオンを混合釜内のI
)H,I)AQをコントロールしつつ逐次同時に添加す
る事により、生成させても良い。成長後にコンバージョ
ン法を用いて、粒子のハロゲン組成を変化させても良い
。
本発明のハロゲン化銀乳剤の製造時に、必要に応じてハ
ロゲン化銀溶剤を用いる事により、ハロゲン化銀粒子の
粒子サイズ、粒子の形状、粒子サイズ分布、粒子の成長
速度をコントロール出来る。
ロゲン化銀溶剤を用いる事により、ハロゲン化銀粒子の
粒子サイズ、粒子の形状、粒子サイズ分布、粒子の成長
速度をコントロール出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、粒子を形成する過程及び/又は成長させる過程で
、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウ
ム塩又は錯塩、ロジウム塩又は錯塩、鉄塩又は錯塩、等
を用いて金属イオンを添加し、粒子内部に及び/又は粒
子表面に包合させる事が出来、また適当な還元的雰囲気
におく事により、粒子内部及び/又は粒子表面に還元増
感核を付与出来る。
子は、粒子を形成する過程及び/又は成長させる過程で
、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウ
ム塩又は錯塩、ロジウム塩又は錯塩、鉄塩又は錯塩、等
を用いて金属イオンを添加し、粒子内部に及び/又は粒
子表面に包合させる事が出来、また適当な還元的雰囲気
におく事により、粒子内部及び/又は粒子表面に還元増
感核を付与出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀粒子の成長
の終了後に不要な可溶性塩類を除去しても良いし、ある
いは含有させたままで良い。該塩類を除去する場合には
、リサーチ・ディスクロージャー17843号記載の方
法に基づいて行う事が出来る。
の終了後に不要な可溶性塩類を除去しても良いし、ある
いは含有させたままで良い。該塩類を除去する場合には
、リサーチ・ディスクロージャー17843号記載の方
法に基づいて行う事が出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤は、別々に形成した2種以上
のハロゲン化銀乳剤を混合して用いても良い。
のハロゲン化銀乳剤を混合して用いても良い。
本発明のハロゲン化銀乳剤は、常法により化学増感され
る。即ち、銀イオンと反応できる硫黄を含む化合物や、
活性ゼラチンを用いる硫黄壜感法、セレン化合物を用い
るセレン増感法、還元性物質を用いる還元増感法、金そ
の他の貴金属化合物を用いる貴金属増感法などを単独又
は組み合わせて用いる事が出来る。
る。即ち、銀イオンと反応できる硫黄を含む化合物や、
活性ゼラチンを用いる硫黄壜感法、セレン化合物を用い
るセレン増感法、還元性物質を用いる還元増感法、金そ
の他の貴金属化合物を用いる貴金属増感法などを単独又
は組み合わせて用いる事が出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤は、写真業界において増感色
素として知られている色素を用いて、所望の波長域に光
学的に増感出来る。増感色素は単独で用いても良いが、
2種以上を組み合わせて用いても良い。増感色素と共に
それ自身分光増感作用を持たない色素、あるいは可視光
を実質的に吸収しない化合物であって、増感色素の増感
作用を強める強色増感剤を乳剤中に含有させても良い。
素として知られている色素を用いて、所望の波長域に光
学的に増感出来る。増感色素は単独で用いても良いが、
2種以上を組み合わせて用いても良い。増感色素と共に
それ自身分光増感作用を持たない色素、あるいは可視光
を実質的に吸収しない化合物であって、増感色素の増感
作用を強める強色増感剤を乳剤中に含有させても良い。
本発明のハロゲン化銀乳剤には、感光材料の製造工程、
保存中、あるいは写真処理中のカブリの防止及び/又は
写真性能を安定に保つことを目的として、化学熟成中及
び/又は化学熟成の終了時、及び/又は化学熟成の終了
後、ハロゲン化銀乳剤を塗布するまでに、写真業界にお
いてカブリ防止剤又は安定剤として知られている化合物
を加える事が出来る。
保存中、あるいは写真処理中のカブリの防止及び/又は
写真性能を安定に保つことを目的として、化学熟成中及
び/又は化学熟成の終了時、及び/又は化学熟成の終了
後、ハロゲン化銀乳剤を塗布するまでに、写真業界にお
いてカブリ防止剤又は安定剤として知られている化合物
を加える事が出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤のバインダー(又は保護コロ
イド)としては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、
それ以外にゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子のグ
ラフトポリマー、蛋白質、糖誘導体、セルロース誘導体
、単一あるいは共重合体の如き合成親水性高分子物質等
の親水性コロイドも用いる事が出来る。
イド)としては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、
それ以外にゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子のグ
ラフトポリマー、蛋白質、糖誘導体、セルロース誘導体
、単一あるいは共重合体の如き合成親水性高分子物質等
の親水性コロイドも用いる事が出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料の写真乳剤
層、その他の親水性コロイド層は、バインダー(又は保
護コロイド)分子を架橋させ、膜強度を高める硬膜剤を
単独又は併用することにより硬膜される。硬膜剤は、処
理液中に硬膜剤を加える必要がない程度に、感光材料を
硬膜出来る量添加する事が望ましいが、処理液中に硬膜
剤を加える事も可能である。
層、その他の親水性コロイド層は、バインダー(又は保
護コロイド)分子を架橋させ、膜強度を高める硬膜剤を
単独又は併用することにより硬膜される。硬膜剤は、処
理液中に硬膜剤を加える必要がない程度に、感光材料を
硬膜出来る量添加する事が望ましいが、処理液中に硬膜
剤を加える事も可能である。
本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料のハロゲン
化銀乳剤層及び/又は他の親水性コロイド層の柔軟性を
高める目的で可塑剤を添加出来る。
化銀乳剤層及び/又は他の親水性コロイド層の柔軟性を
高める目的で可塑剤を添加出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料の写真乳剤
層その他の親水性コロイド層に、寸度安定性の改良など
を目的として、水不溶又は難溶性合成ポリマーの分散物
(ラテックス)を含む事が出来る。
層その他の親水性コロイド層に、寸度安定性の改良など
を目的として、水不溶又は難溶性合成ポリマーの分散物
(ラテックス)を含む事が出来る。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の乳剤層には、発色
坦像処理において、芳香族第1級アミン現像剤(例えば
p−フェニレンジアミン誘導体や、アミノフェノール誘
導体など)の酸化体とカップリング反応を行い色素を形
成する、色素形成カプラーが用いられる。該色素形成性
カプラーは、各々の乳剤層に対して乳剤層の感光スペク
トル光を吸収する色素が形成されるように選択されるの
が普通であり、青色光感光性乳剤層にはイエロー色素形
成カプラーが、緑色光感光性乳剤層にはマゼンタ色素形
成カプラーが、赤色光感光性乳剤層にはシアン色素形成
カプラーが用いられる。しかしながら目的に応じて上記
組み合わせと異なった用い方でハロゲン化銀写真感光材
料を作っても良い。
坦像処理において、芳香族第1級アミン現像剤(例えば
p−フェニレンジアミン誘導体や、アミノフェノール誘
導体など)の酸化体とカップリング反応を行い色素を形
成する、色素形成カプラーが用いられる。該色素形成性
カプラーは、各々の乳剤層に対して乳剤層の感光スペク
トル光を吸収する色素が形成されるように選択されるの
が普通であり、青色光感光性乳剤層にはイエロー色素形
成カプラーが、緑色光感光性乳剤層にはマゼンタ色素形
成カプラーが、赤色光感光性乳剤層にはシアン色素形成
カプラーが用いられる。しかしながら目的に応じて上記
組み合わせと異なった用い方でハロゲン化銀写真感光材
料を作っても良い。
イエロー色素形成カプラーとしては、アシルアセトアミ
ドカプラー(例えば、ベンゾイルアセトアニリド類、ピ
バロイルアセトアニリド類)、マゼンタ色素形成カプラ
ーとしては、本発明のカプラー以外に5−ピラゾロンカ
プラー、開鎖アシルアセトニトリルカプラー等があり、
シアン色素形成カプラーとしては、ナフトールカプラー
及びフェノールカプラー等がある。
ドカプラー(例えば、ベンゾイルアセトアニリド類、ピ
バロイルアセトアニリド類)、マゼンタ色素形成カプラ
ーとしては、本発明のカプラー以外に5−ピラゾロンカ
プラー、開鎖アシルアセトニトリルカプラー等があり、
シアン色素形成カプラーとしては、ナフトールカプラー
及びフェノールカプラー等がある。
これら色素形成カプラーは分子中にバラスト基と呼ばれ
るカプラーを非拡散化する、炭素数8以上の基を有する
事が望ましい。又、これら色素形成カプラーは、1分子
の色素が形成されるために4個の銀イオンが還元される
必要がある4当量性であっても、2個の銀イオンが還元
されるだけで良い2当」性のどちらでも良い。
るカプラーを非拡散化する、炭素数8以上の基を有する
事が望ましい。又、これら色素形成カプラーは、1分子
の色素が形成されるために4個の銀イオンが還元される
必要がある4当量性であっても、2個の銀イオンが還元
されるだけで良い2当」性のどちらでも良い。
ハロゲン化銀結晶表面に吸着させる必要のない色素形成
性カプラー等の疎水性化合物は、固体分散法、ラテック
ス分散法、水中油滴型乳化分散法等種々の方法を用いて
分散する事ができ、これはカプラー等の疎水性化合物の
化学構造等に応じて適宜選択することができる。水中油
滴型乳化分散法は、≠カプラー等の疎水性添加物を分散
させる方法が適用でき、中通常、沸点約150℃以上の
高沸点有機溶媒に、必要に応じて低沸点及び/または水
溶性有機溶媒を併用し溶解し、ゼラチン水溶液などの親
水性バインダー中に界面活性剤を用いて撹拌器、ホモジ
ナイザー、コロイドミル、フロージットミキサー、超音
波装置等の分散手段を用いて、乳化分散した後、目的と
する親水性コロイド層中に添加すればよい。十分散液ま
たは分散と同時に低沸点有機溶媒を除去する工程を入れ
ても良い。十 ^沸点者el?m媒としては、現像主薬の酸化体と反応
しないフェノール誘導体、フタル酸エステル、リン酸エ
ステル、クエン酸エステル、安息香酸エステル、アルキ
ルアミド、脂肪酸エステル、トリメシン酸エステル等の
沸点150℃以上の有機溶媒が用いられる。
性カプラー等の疎水性化合物は、固体分散法、ラテック
ス分散法、水中油滴型乳化分散法等種々の方法を用いて
分散する事ができ、これはカプラー等の疎水性化合物の
化学構造等に応じて適宜選択することができる。水中油
滴型乳化分散法は、≠カプラー等の疎水性添加物を分散
させる方法が適用でき、中通常、沸点約150℃以上の
高沸点有機溶媒に、必要に応じて低沸点及び/または水
溶性有機溶媒を併用し溶解し、ゼラチン水溶液などの親
水性バインダー中に界面活性剤を用いて撹拌器、ホモジ
ナイザー、コロイドミル、フロージットミキサー、超音
波装置等の分散手段を用いて、乳化分散した後、目的と
する親水性コロイド層中に添加すればよい。十分散液ま
たは分散と同時に低沸点有機溶媒を除去する工程を入れ
ても良い。十 ^沸点者el?m媒としては、現像主薬の酸化体と反応
しないフェノール誘導体、フタル酸エステル、リン酸エ
ステル、クエン酸エステル、安息香酸エステル、アルキ
ルアミド、脂肪酸エステル、トリメシン酸エステル等の
沸点150℃以上の有機溶媒が用いられる。
疎水性化合物を低沸点溶媒単独又は高沸点溶媒と併用し
た溶媒に溶かし、機械的又は超音波を用いて水中に分散
する時の分散助剤として、アニオン性界面活性剤、ノニ
オン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤を用いる事が
出来る。
た溶媒に溶かし、機械的又は超音波を用いて水中に分散
する時の分散助剤として、アニオン性界面活性剤、ノニ
オン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤を用いる事が
出来る。
本発明のカラー写真感光材料の乳剤層間で(同−感色性
層間及び/又は異なった感色性層間)、現像主薬の酸化
体又は電子移動剤が移動して色濁りが生じたり、鮮鋭性
の劣化、粒状性が目立つのを防止するために色カブリ防
止剤が用いられる。
層間及び/又は異なった感色性層間)、現像主薬の酸化
体又は電子移動剤が移動して色濁りが生じたり、鮮鋭性
の劣化、粒状性が目立つのを防止するために色カブリ防
止剤が用いられる。
該色カブリ防止剤は、乳剤層自身に用いても良いし、中
間層を隣接乳剤It間に設けて、該中間層に用いても良
い。
間層を隣接乳剤It間に設けて、該中間層に用いても良
い。
本発明の感光材料の保護層、中間層等の親水性コロイド
層に感光材料が摩擦等で帯電する事に起因する放電によ
るカブリ防止、画像のU■光による劣化を防止するため
に紫外線吸収剤を含んでいても良い。
層に感光材料が摩擦等で帯電する事に起因する放電によ
るカブリ防止、画像のU■光による劣化を防止するため
に紫外線吸収剤を含んでいても良い。
本発明のハロゲン化銀乳剤を用いたカラー感光材料には
、必要に応じてフィルタ一層、ハレーション防止層及び
/又はイラジェーション防止層等の補助層を設ける事が
出来る。これらの層中及び/又は乳剤層中には、現像処
理中にカラー感光材料より流出するか、もしくは漂白さ
れる染料が含有させられても良い。
、必要に応じてフィルタ一層、ハレーション防止層及び
/又はイラジェーション防止層等の補助層を設ける事が
出来る。これらの層中及び/又は乳剤層中には、現像処
理中にカラー感光材料より流出するか、もしくは漂白さ
れる染料が含有させられても良い。
本発明のハロゲン化銀乳剤を用いたハロゲン化銀感光材
料のハロゲン化銀乳剤層及び/又はその他の親水性コロ
イド層に感光材料の光沢を低減する、加筆性を高める、
感材相互のくっつき防止等を目標としてマット剤を添加
出来る。
料のハロゲン化銀乳剤層及び/又はその他の親水性コロ
イド層に感光材料の光沢を低減する、加筆性を高める、
感材相互のくっつき防止等を目標としてマット剤を添加
出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料の清りS*
を低減させるために滑剤を添加出来る。
を低減させるために滑剤を添加出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料に、帯電防
止を目的とした帯電防止剤を添加出来る。
止を目的とした帯電防止剤を添加出来る。
帯電防止剤は支持体の乳剤を積層してない側の帯電防止
層に用いられる事もあるし、乳剤層及び/又は支持体に
対して乳剤層が積層されている側の乳剤層以外の保護コ
ロイド層に用いられても良い。
層に用いられる事もあるし、乳剤層及び/又は支持体に
対して乳剤層が積層されている側の乳剤層以外の保護コ
ロイド層に用いられても良い。
本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料の写真乳剤
層及び/又は他の親水性コロイド層には、塗布性改良、
帯電防止、スベリ性改良、乳化分散、接着防止及び(現
像促進、硬調化、増感等の)写真特性改良等を目的とし
て、種々の界面活性剤が用いられる。
層及び/又は他の親水性コロイド層には、塗布性改良、
帯電防止、スベリ性改良、乳化分散、接着防止及び(現
像促進、硬調化、増感等の)写真特性改良等を目的とし
て、種々の界面活性剤が用いられる。
本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料は写真乳剤
層、その他の層はバライタ紙又はα−オレフレインボリ
マー等をラミネートした紙、合成紙等の可撓性反射支持
体、酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリスチレン、
ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカ
ーボネイト、ポリアミド等の半合成又は合成高分子から
なるフィルムや、ガラス、金属、陶器などの剛体等に塗
布出来る。
層、その他の層はバライタ紙又はα−オレフレインボリ
マー等をラミネートした紙、合成紙等の可撓性反射支持
体、酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリスチレン、
ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカ
ーボネイト、ポリアミド等の半合成又は合成高分子から
なるフィルムや、ガラス、金属、陶器などの剛体等に塗
布出来る。
本発明のハロゲン化銀感光材料は、必要に応じて支持体
表面にコロナ放電、紫外線照射、火焔処理等を施した後
、直接又は(支持体表面の接着性、帯電防止性、寸度安
定性、耐摩耗性、硬さ、ハレーション防止性、摩擦特性
及び/又はその他の特性を向上するための)1または2
以上の下塗層を介して塗布されても良い。
表面にコロナ放電、紫外線照射、火焔処理等を施した後
、直接又は(支持体表面の接着性、帯電防止性、寸度安
定性、耐摩耗性、硬さ、ハレーション防止性、摩擦特性
及び/又はその他の特性を向上するための)1または2
以上の下塗層を介して塗布されても良い。
本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた写真感光材料の塗布
に際して、塗布性を向上させる為に増粘剤を用いても良
い。塗布法としては2種以上の層を同時に塗布する事の
出来るエクスドールジョンコーティング及びカーテンコ
ーティングが特に有用である。
に際して、塗布性を向上させる為に増粘剤を用いても良
い。塗布法としては2種以上の層を同時に塗布する事の
出来るエクスドールジョンコーティング及びカーテンコ
ーティングが特に有用である。
本発明の感光材料は、本発明の感光材料を構成する乳剤
層が感度を有しているスペクトル領域の41!Ia波を
用いて露光出来る。光源としては、自然光(日光)、タ
ングステン電灯、蛍光灯、水銀灯、キセノンアーク灯、
炭素アーク灯、キセノンフラッシュ灯、陰極線管フライ
ングスポット、各種レーザー光、発光ダイオード光、電
子線、X線、γ線、α線などによって励起された蛍光体
から放出する光等、公知の光源のいずれでも用いること
が出来る。
層が感度を有しているスペクトル領域の41!Ia波を
用いて露光出来る。光源としては、自然光(日光)、タ
ングステン電灯、蛍光灯、水銀灯、キセノンアーク灯、
炭素アーク灯、キセノンフラッシュ灯、陰極線管フライ
ングスポット、各種レーザー光、発光ダイオード光、電
子線、X線、γ線、α線などによって励起された蛍光体
から放出する光等、公知の光源のいずれでも用いること
が出来る。
露光時間は通常カメラで用いられる1ミリ秒から1秒は
勿論、1マイクロ秒より短い露光、例えば陰極線管やキ
セノンアーク灯を用いて100マイクロ秒〜1マイクロ
秒の露光を用いることも出来るし、1秒以上より長い露
光も可能rある。該露光は連続的に行なわれても、間欠
的に行なわれても良い。
勿論、1マイクロ秒より短い露光、例えば陰極線管やキ
セノンアーク灯を用いて100マイクロ秒〜1マイクロ
秒の露光を用いることも出来るし、1秒以上より長い露
光も可能rある。該露光は連続的に行なわれても、間欠
的に行なわれても良い。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、当業界公知のカ
ラー現像を行う事により画像を形成することが出来る。
ラー現像を行う事により画像を形成することが出来る。
本発明において発色現像液に使用される芳香族第1級ア
ミン系発色現像主薬は、種々のカラー写真プロセスにお
いて広範囲に使用されている公知のものが包含される。
ミン系発色現像主薬は、種々のカラー写真プロセスにお
いて広範囲に使用されている公知のものが包含される。
これらの現像剤はアミノフェノール系及びp−フェニレ
ンジアミン系誘導体が含まれる。これらの化合物はam
状悪より安定のため一般に塩の形、例えば塩酸塩または
硫酸塩の形で使用される。また、これらの化合物は一般
に発色現像液11について約0.1g〜約30jJの濃
度、好ましくは発色現像液1ノについて約1g〜約15
aの濃度で使用する。
ンジアミン系誘導体が含まれる。これらの化合物はam
状悪より安定のため一般に塩の形、例えば塩酸塩または
硫酸塩の形で使用される。また、これらの化合物は一般
に発色現像液11について約0.1g〜約30jJの濃
度、好ましくは発色現像液1ノについて約1g〜約15
aの濃度で使用する。
アミノフェノール系現像液としては、例えば〇−アミノ
フェノール、p−アミノフェノール、5−アミノ−2−
オキシトルエン、2−アミノ−3−オキシトルエン、2
−オキシ−3−アミノ−1゜4−ジメチルベンゼンなど
が含まれる。
フェノール、p−アミノフェノール、5−アミノ−2−
オキシトルエン、2−アミノ−3−オキシトルエン、2
−オキシ−3−アミノ−1゜4−ジメチルベンゼンなど
が含まれる。
特に有用な第1級芳香族アミン系発色現像剤はN、N’
−ジアルキル−p−フェニレンジアミン系化合物であり
、アルキル基及びフェニル基は任意の置換基でW換され
ていてもよい。その中でも特に有用な化合物例としては
、N、N’ −ジエチル−p−フェニレンジアミン塩酸
塩、N−メチル−p−フェニレンジアミン塩酸塩、N、
N’ −ジメチル−p−フェニレンジアミン塩酸塩、2
−アミノ−5−(N−エチル−N−ドデシルアミノ)−
トルエン、N−エチル−N−β−メタンスルホンアミド
エチル−3−メチル−4−アミノアニリン硫酸塩、N−
エチル−N−β−ヒドロキシエチルアミノアニリン、4
−アミノ−3−メチル−N。
−ジアルキル−p−フェニレンジアミン系化合物であり
、アルキル基及びフェニル基は任意の置換基でW換され
ていてもよい。その中でも特に有用な化合物例としては
、N、N’ −ジエチル−p−フェニレンジアミン塩酸
塩、N−メチル−p−フェニレンジアミン塩酸塩、N、
N’ −ジメチル−p−フェニレンジアミン塩酸塩、2
−アミノ−5−(N−エチル−N−ドデシルアミノ)−
トルエン、N−エチル−N−β−メタンスルホンアミド
エチル−3−メチル−4−アミノアニリン硫酸塩、N−
エチル−N−β−ヒドロキシエチルアミノアニリン、4
−アミノ−3−メチル−N。
N′−ジエチルアニリン、4−アミノ−N−(2−メト
キシエチル)−N−エチル−3−メチルアニリン−p−
トルエンスルホネートなどを挙げることができる。
キシエチル)−N−エチル−3−メチルアニリン−p−
トルエンスルホネートなどを挙げることができる。
本発明の処理において使用される発色現像液には、前記
芳香族第1級アミン系発色現像剤に加えて、更に発色現
像液に通常添加されている種々の成分、例えば水酸化ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカ
リ剤、アルカリ金属亜硫酸塩、アルカリ金属重亜硫酸塩
、アルカリ金属チオシアン酸塩、アルカリ金属ハロゲン
化物、ベンジルアルコール、水軟化剤及び濃厚化剤など
を任意に含有せしめることもできる。この発色現像液の
pHIは、通常7以上であり、最も一般的には約10〜
約13である。
芳香族第1級アミン系発色現像剤に加えて、更に発色現
像液に通常添加されている種々の成分、例えば水酸化ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカ
リ剤、アルカリ金属亜硫酸塩、アルカリ金属重亜硫酸塩
、アルカリ金属チオシアン酸塩、アルカリ金属ハロゲン
化物、ベンジルアルコール、水軟化剤及び濃厚化剤など
を任意に含有せしめることもできる。この発色現像液の
pHIは、通常7以上であり、最も一般的には約10〜
約13である。
本発明においては、発色現像処理した後、定着能を有す
る処理液で処理するが、該定着能を有する処理液が定着
液である場合、その前に漂白処理が行なわれる。該漂白
工程に用いる漂白剤としては有機酸の金If!!錯塩が
用いられ、該金属[i!は、現像によって生成した金属
銀を酸化してハロゲン化銀にかえすと同時に発色剤の未
発色部を発色さ♂る作用を有するもので、その構成はア
ミノポリカルボン酸または蓚酸、クエン酸等の有機酸で
鉄、コバルト、銅等の金属イオンを配位したものである
。このような有**の金属錯塩を形成するために用いら
れる最も好ましい有機酸としては、ポリカルボン酸また
はアミノポリカルボン酸が挙げられる。これらのポリカ
ルボン酸またはアミノポリカルボン酸はアルカリ金属塩
、アンモニウム塩もしくは水溶性アミン塩であってもよ
い。
る処理液で処理するが、該定着能を有する処理液が定着
液である場合、その前に漂白処理が行なわれる。該漂白
工程に用いる漂白剤としては有機酸の金If!!錯塩が
用いられ、該金属[i!は、現像によって生成した金属
銀を酸化してハロゲン化銀にかえすと同時に発色剤の未
発色部を発色さ♂る作用を有するもので、その構成はア
ミノポリカルボン酸または蓚酸、クエン酸等の有機酸で
鉄、コバルト、銅等の金属イオンを配位したものである
。このような有**の金属錯塩を形成するために用いら
れる最も好ましい有機酸としては、ポリカルボン酸また
はアミノポリカルボン酸が挙げられる。これらのポリカ
ルボン酸またはアミノポリカルボン酸はアルカリ金属塩
、アンモニウム塩もしくは水溶性アミン塩であってもよ
い。
これらの具体的代表例としては、次のものを挙げること
ができる。
ができる。
[1]エチレンジアミンテトラ酢酸
[2]ニトリロトリ酢酸
[3]イミノジ酢酸
[4]エチレンジアミンテトラ酢酸ジナトリウム塩
[5]エチレンジアミンテトラ酢酸テトラ(トリメチル
アンモニウム)塩 [6]エチレンジアミンテトラ酢酸テトラナトリウム塩 [7]ニトリロトリ酢酸ナトリウム塩 使用される漂白剤は、前記の如き有機酸の金属錯塩を漂
白剤として含有すると共に、種々の添加剤を含むことが
できる。添加剤としては、特にアルカリハライドまたは
アンモニウムハライド、例えば臭化カリウム、臭化す1
〜リウム、塩化ナトリウム、臭化アンモニウム等の再ハ
ロゲン化剤、金属塩、キレート剤を含有させることが望
ましい。
アンモニウム)塩 [6]エチレンジアミンテトラ酢酸テトラナトリウム塩 [7]ニトリロトリ酢酸ナトリウム塩 使用される漂白剤は、前記の如き有機酸の金属錯塩を漂
白剤として含有すると共に、種々の添加剤を含むことが
できる。添加剤としては、特にアルカリハライドまたは
アンモニウムハライド、例えば臭化カリウム、臭化す1
〜リウム、塩化ナトリウム、臭化アンモニウム等の再ハ
ロゲン化剤、金属塩、キレート剤を含有させることが望
ましい。
また硼酸塩、蓚l!塩、酢酸塩、炭酸塩、18M塩等の
pH緩衝剤、アルキルアミン類、ポリエチレンオキサイ
ド類等の通常漂白液に添加することが知られているもの
を適宜添加することができる。
pH緩衝剤、アルキルアミン類、ポリエチレンオキサイ
ド類等の通常漂白液に添加することが知られているもの
を適宜添加することができる。
更に、定着液及び漂白定着液は、亜硫酸アンモニウム、
亜硫酸カリウム、重亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸カリ
ウム、重亜1i1酸ナトリウム、メタ重亜硫酸アンモニ
ウム、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム
等の亜硫酸塩や硼酸、硼砂、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重亜硫酸ナ
トリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、酢酸、
酢酸ナトリウム、水酸化アンモニウム等の各種の塩から
成るI)H緩衝剤を単独或いは2種以上含むことができ
る。
亜硫酸カリウム、重亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸カリ
ウム、重亜1i1酸ナトリウム、メタ重亜硫酸アンモニ
ウム、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム
等の亜硫酸塩や硼酸、硼砂、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重亜硫酸ナ
トリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、酢酸、
酢酸ナトリウム、水酸化アンモニウム等の各種の塩から
成るI)H緩衝剤を単独或いは2種以上含むことができ
る。
漂白定着液(浴)に漂白定着補充剤を補充しながら本発
明の処理を行なう場合、該漂白定着液(浴)にチオ硫酸
塩、チオシアン酸塩又は亜硫酸塩等を含有せしめてもよ
いし、該漂白定着補充液にこれらの塩類を含有せしめて
処理浴に補充してもよい。
明の処理を行なう場合、該漂白定着液(浴)にチオ硫酸
塩、チオシアン酸塩又は亜硫酸塩等を含有せしめてもよ
いし、該漂白定着補充液にこれらの塩類を含有せしめて
処理浴に補充してもよい。
本発明においては漂白定着液の活性度を高める為に、漂
白定着浴中及び漂白定着補充液の貯蔵タンク内で所望に
より空気の吹き込み、又は酸素の吹き込みをおこなって
もよく、或いは適当な酸化剤、例えば過酸化水素、臭素
酸塩、過硫M塩等を適宜添加してもよい。
白定着浴中及び漂白定着補充液の貯蔵タンク内で所望に
より空気の吹き込み、又は酸素の吹き込みをおこなって
もよく、或いは適当な酸化剤、例えば過酸化水素、臭素
酸塩、過硫M塩等を適宜添加してもよい。
[発明の具体的効果]
本発明をプリント用カラー写真感光材料に適用した場合
ピラゾロトリアゾール系等マゼンタカプラーの欠点であ
る、経時保存での階調の硬調化が改良され安定なプリン
ト用カラー写真感光材料を提供することができる。
ピラゾロトリアゾール系等マゼンタカプラーの欠点であ
る、経時保存での階調の硬調化が改良され安定なプリン
ト用カラー写真感光材料を提供することができる。
さらに、マゼンタ色素の分光吸収特性に優れ良好な色再
現性を有し、かつイエロースティンの少ない良好な画像
保存特性を有するカラープリントを得るための、優れた
プリント用カラー写真感光材料を提供することができる
。
現性を有し、かつイエロースティンの少ない良好な画像
保存特性を有するカラープリントを得るための、優れた
プリント用カラー写真感光材料を提供することができる
。
[発明の具体的実施例]
以下に具体的な実施例を示して、本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例−1
特開昭54−48521号に記載の方法に準じ、硝酸銀
水溶液と塩臭化カリウム水溶液を、塩臭化銀種粒子を含
む、ゼラチン水溶液中に、添加速度を時間の関数として
変化させて同時に添加し、この際DAfJ−と温度をコ
ントロールして平均粒径0.5a膳の、臭化銀70モル
%を含む14面体塩臭化銀乳剤をatした(乳剤Aと呼
ぶ)。
水溶液と塩臭化カリウム水溶液を、塩臭化銀種粒子を含
む、ゼラチン水溶液中に、添加速度を時間の関数として
変化させて同時に添加し、この際DAfJ−と温度をコ
ントロールして平均粒径0.5a膳の、臭化銀70モル
%を含む14面体塩臭化銀乳剤をatした(乳剤Aと呼
ぶ)。
この乳剤Aを前述の方法に従い、変動係数を測定したと
ころ、変動係数0.13の単分散塩臭化銀乳剤であった
。さらに、特開昭59−29243号に記載の方法に従
い、前記に値を測定したところに−93の14面体塩臭
化銀粒子を含む塩臭化銀乳剤であった。
ころ、変動係数0.13の単分散塩臭化銀乳剤であった
。さらに、特開昭59−29243号に記載の方法に従
い、前記に値を測定したところに−93の14面体塩臭
化銀粒子を含む塩臭化銀乳剤であった。
さらに従来の方法に従い、イオウ増感剤としてチオ@酸
ナトリウムを加え化学増感を行ない、化学増感終了5分
前に緑色増感色素を加え、化学増感終了の時点で、安定
剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a、
7−チトラザインデンを加え緑色増感された単分散14
面体塩臭化銀乳剤を得た。
ナトリウムを加え化学増感を行ない、化学増感終了5分
前に緑色増感色素を加え、化学増感終了の時点で、安定
剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a、
7−チトラザインデンを加え緑色増感された単分散14
面体塩臭化銀乳剤を得た。
次に本発明のマゼンタカプラーおよび下記比較マゼンタ
カプラーMG−1を用いて、マゼンタカプラー分散液を
講゛智した。
カプラーMG−1を用いて、マゼンタカプラー分散液を
講゛智した。
すなわち、マゼンタカプラーを各々40aと色汚染防止
剤としてジオクチルハイドロキノン1gを、高沸点有機
溶媒としてジブチルフタレート4odと低沸点有機溶媒
として酢酸エチル100■pの混合溶媒に溶解し、この
溶液をドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む5
%ゼラチン水溶液300 dに添加した後、超音波ホモ
ジナイザーにて分散しカプラー分散液を1111した。
剤としてジオクチルハイドロキノン1gを、高沸点有機
溶媒としてジブチルフタレート4odと低沸点有機溶媒
として酢酸エチル100■pの混合溶媒に溶解し、この
溶液をドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む5
%ゼラチン水溶液300 dに添加した後、超音波ホモ
ジナイザーにて分散しカプラー分散液を1111した。
用いたマゼンタカプラーは前記例示マゼンタカプラー1
8.44,59.127並びにMC−11、MC−2、
MO−3である。
8.44,59.127並びにMC−11、MC−2、
MO−3である。
次いで、ポリエチレン被覆紙支持体上に、緑感光性塩臭
化銀乳剤(乳剤A)と各々のマゼンタカプラーを混合し
、塗布銀量2,0■σ/da” (但し、MC−1,2
,3と(7)組合ttl’ハ4.OmO/da’ )、
マゼンタカプラー塗布量4.Omo/dg+2、ゼラチ
ン塗布量30mg/ da”となるように乳剤層を設け
、ざらに、その上層にゼラチン塗布量20mg/ da
2となるよう保護層を塗布、乾燥、表−1に示す試料を
得た。 なお、乳剤層には塗布直前に前記一般式[XI
I]で示される化合物(比較の化合物を含む)を表−1
に示す量添加した。このようにして作製した試料N00
1〜No、16を40℃、60%RHで24時間講調温
調湿した後(これらの試料を以後、フレッシュ試料と呼
ぶ)、感光計(小西六写真工業株式会社製KS−7型)
を使用して白色光を光模を通して露光後、下記の処理工
程に従って処理を施した。
化銀乳剤(乳剤A)と各々のマゼンタカプラーを混合し
、塗布銀量2,0■σ/da” (但し、MC−1,2
,3と(7)組合ttl’ハ4.OmO/da’ )、
マゼンタカプラー塗布量4.Omo/dg+2、ゼラチ
ン塗布量30mg/ da”となるように乳剤層を設け
、ざらに、その上層にゼラチン塗布量20mg/ da
2となるよう保護層を塗布、乾燥、表−1に示す試料を
得た。 なお、乳剤層には塗布直前に前記一般式[XI
I]で示される化合物(比較の化合物を含む)を表−1
に示す量添加した。このようにして作製した試料N00
1〜No、16を40℃、60%RHで24時間講調温
調湿した後(これらの試料を以後、フレッシュ試料と呼
ぶ)、感光計(小西六写真工業株式会社製KS−7型)
を使用して白色光を光模を通して露光後、下記の処理工
程に従って処理を施した。
処理して得られた各試料について光学濃度計(小西六写
真工業株式会社製PDA−65型)を用いて測定した。
真工業株式会社製PDA−65型)を用いて測定した。
ガンマとしては濃度0.8から1.8のガンマ値を求め
た。
た。
さらに上記の調温、調湿された試料NO31〜No、1
6を50℃、80%RHで1週間保存(これらの試料を
以後、保存試料という)し、同様の処理を行ないフレッ
シュ試料との比較を行なった。
6を50℃、80%RHで1週間保存(これらの試料を
以後、保存試料という)し、同様の処理を行ないフレッ
シュ試料との比較を行なった。
得られた結果を表−2に示す。
但し表−2において用いた比較カプラーMC−1、MC
−2、MC−3および一般式[XII]の比較化合物(
比較−1、比較−2)の構造式を以下に示す。
−2、MC−3および一般式[XII]の比較化合物(
比較−1、比較−2)の構造式を以下に示す。
〔比較カプラー MC−1)
JI
I
〔比較カプラー MC−2)
(”V
C!
〔比較カプラー MC−3)
C/
比較−1
比較−2
基準処理工程(処理温度と処理時間)
[11発色現像 38℃ 3分30秒[2]漂白
定着 33℃ 1分30秒[3]水洗処理 25
〜30℃ 3分 [4]乾 燥 75〜80℃ 約2分処理液組成 (発色現像液) ベンジルアルコール 15 Illl
エアレングリコール 151/亜硫酸
カリウム 2.0g臭化カリウム
0.7g塩化ナトリウム
0.20炭酸カリウム
30.0 gヒドロキシルアミン硫酸塩
3.0 gポリリン!!(TPPS)
2.5g3−メチル−4−アミノ−N−エチル −N−(β−メタンスルホンアミド エチル)−アニリン硫酸塩 5.50蛍光増
白剤(4,4’ −ジアミノ スチルベンズスルホンMtlt’4体) i、o
g水酸化カリウム 2.0g水を加
えて全量を10 とし、I)810.20に調整する。
定着 33℃ 1分30秒[3]水洗処理 25
〜30℃ 3分 [4]乾 燥 75〜80℃ 約2分処理液組成 (発色現像液) ベンジルアルコール 15 Illl
エアレングリコール 151/亜硫酸
カリウム 2.0g臭化カリウム
0.7g塩化ナトリウム
0.20炭酸カリウム
30.0 gヒドロキシルアミン硫酸塩
3.0 gポリリン!!(TPPS)
2.5g3−メチル−4−アミノ−N−エチル −N−(β−メタンスルホンアミド エチル)−アニリン硫酸塩 5.50蛍光増
白剤(4,4’ −ジアミノ スチルベンズスルホンMtlt’4体) i、o
g水酸化カリウム 2.0g水を加
えて全量を10 とし、I)810.20に調整する。
(III白定着液)
エチレンジアミンテトラ酢酸第2鉄
アンモニウム2水塩 60Q工チレン
ジアミンテトラ酢M 3gチオ硫酸アンモ
ニウム(70%溶液> 1oo*e亜1i11ffi
アンモニウム(40%溶液) 27.5mノ炭酸カ
リウムまたは氷酢酸でl)87.1に調整し水を加えて
全量をlとする。
ジアミンテトラ酢M 3gチオ硫酸アンモ
ニウム(70%溶液> 1oo*e亜1i11ffi
アンモニウム(40%溶液) 27.5mノ炭酸カ
リウムまたは氷酢酸でl)87.1に調整し水を加えて
全量をlとする。
以下余白
表−1
第2表から明らかなように、一般式[XII]の化合物
を用いない比較試料において、本発明のマゼンタカプラ
ー使用の試料N011〜4は比較のマゼンタカプラー使
用のNO,5,6,7に比べて保存でのガンマ値の増加
による硬調化が大きいことが判る。
を用いない比較試料において、本発明のマゼンタカプラ
ー使用の試料N011〜4は比較のマゼンタカプラー使
用のNO,5,6,7に比べて保存でのガンマ値の増加
による硬調化が大きいことが判る。
これらの試料N001〜4にメルカプト化合物を添加し
た本発明試料N008〜11は(比較試料N005〜7
.14〜16とほぼ同等で)保存でのガンマ値の増加に
よる1iall化が改良されていることが判る。ざらに
メルカプト基を有していない類似の化合物である比較−
1、比較−2を添加した試料NO,12,13では効果
がないことが判る。
た本発明試料N008〜11は(比較試料N005〜7
.14〜16とほぼ同等で)保存でのガンマ値の増加に
よる1iall化が改良されていることが判る。ざらに
メルカプト基を有していない類似の化合物である比較−
1、比較−2を添加した試料NO,12,13では効果
がないことが判る。
[実施例−2]
実施例−1と同様の方法で、臭化銀85モル%を含む平
均粒径0.55μ−の八面体、14面体立方体粒子から
成る塩臭化銀乳剤(乳剤B、C,Dと呼ぶ)を調整した
。これらの乳剤のKl[を実施例−1と同様に測定した
ところ、乳剤B:に−O,OS 、乳剤C:に−75、
乳剤D:に−1217であリ、さらにいずれの乳剤も変
動係数が0.11の単分散塩臭化銀乳剤であった。また
、シングルジェット法、すなわち実施例−1の方法にお
いて塩臭化カリウム水溶液を先に、ゼラチン水溶液に添
加し、その後硝酸銀水溶液を添加する方法にて、臭化銀
85モル%を含む平均粒子0.55μm、変動係数が0
.25の不定形粒子から成る多分散塩臭化銀乳剤(乳剤
Eと呼ぶ)を調整した。次いで、これら乳剤B〜Eを実
施例−1と同様に化学増感を施し、緑感光性増感色素を
添加し、緑色増感された塩臭化銀乳剤を得た。
均粒径0.55μ−の八面体、14面体立方体粒子から
成る塩臭化銀乳剤(乳剤B、C,Dと呼ぶ)を調整した
。これらの乳剤のKl[を実施例−1と同様に測定した
ところ、乳剤B:に−O,OS 、乳剤C:に−75、
乳剤D:に−1217であリ、さらにいずれの乳剤も変
動係数が0.11の単分散塩臭化銀乳剤であった。また
、シングルジェット法、すなわち実施例−1の方法にお
いて塩臭化カリウム水溶液を先に、ゼラチン水溶液に添
加し、その後硝酸銀水溶液を添加する方法にて、臭化銀
85モル%を含む平均粒子0.55μm、変動係数が0
.25の不定形粒子から成る多分散塩臭化銀乳剤(乳剤
Eと呼ぶ)を調整した。次いで、これら乳剤B〜Eを実
施例−1と同様に化学増感を施し、緑感光性増感色素を
添加し、緑色増感された塩臭化銀乳剤を得た。
実施例−1と同様にして例示マゼンタカプラー60を分
散し、マゼンタカプラー分散液を調整し、これらの乳剤
8.C,DおよびEと混合し、実施例−1と同様に試料
を作製、評価した。
散し、マゼンタカプラー分散液を調整し、これらの乳剤
8.C,DおよびEと混合し、実施例−1と同様に試料
を作製、評価した。
なお、乳剤層には塗布直前に表−3に示す一般式[Xn
]で示されるメルカプト化合物を表−3に示す量添加し
た。ただし、乳剤8.Eはガンマ値が低いのでそれぞれ
塗布銀量を3.0.3.5mg/ d112と増量しで
ある。結果を表−4に示す。
]で示されるメルカプト化合物を表−3に示す量添加し
た。ただし、乳剤8.Eはガンマ値が低いのでそれぞれ
塗布銀量を3.0.3.5mg/ d112と増量しで
ある。結果を表−4に示す。
表−4から、比較試料No、30と比べて、本発明の試
料No、21〜N0.29はいづれも保存でのガンマ値
の増加による硬調化が少ないことが判る。
料No、21〜N0.29はいづれも保存でのガンマ値
の増加による硬調化が少ないことが判る。
さらに、試料N0.21〜24では、塗布銀量、カブリ
の点からNO,22,23が好ましい結果を示している
。
の点からNO,22,23が好ましい結果を示している
。
また、一般式[XII]で示されるメルカプト化合物の
中では、特にメルカプトトリアゾール系化合物を用いた
試料27が好ましい結果を示している。
中では、特にメルカプトトリアゾール系化合物を用いた
試料27が好ましい結果を示している。
[実施例−3]
実施例−1のマゼンタカプラー分散液を調隻する際、^
沸点溶媒を表−5に示す化合物を用いてカプラー分散液
をwI賀した。
沸点溶媒を表−5に示す化合物を用いてカプラー分散液
をwI賀した。
実施s−iで用いた緑感光性塩臭化銀乳剤(乳剤A)と
各々のマゼンタカプラー分散液を組合わせて、実施例−
1と同様にして表−5に示す試料を作製、評価した。結
果を表−6に示す。
各々のマゼンタカプラー分散液を組合わせて、実施例−
1と同様にして表−5に示す試料を作製、評価した。結
果を表−6に示す。
表−6の結果から本発明の効果は高沸点溶媒のいかんを
問わず達成されるが、特に誘電率6.0以下の高沸点溶
媒を用いた試料N0.33〜36.39.40は写真特
性上特に良好な結果を示していることが判る。
問わず達成されるが、特に誘電率6.0以下の高沸点溶
媒を用いた試料N0.33〜36.39.40は写真特
性上特に良好な結果を示していることが判る。
[実施例−4]
実施例−1と同様にして、一般式[XDI]で示される
化合物を表−7に示す量、乳剤層に塗布直前に添加して
試料を作製、評価した。
化合物を表−7に示す量、乳剤層に塗布直前に添加して
試料を作製、評価した。
表−8から一般式[XI[[]で示される化合物を添加
した試料No、41〜48は保存でのガンマ値の増加に
よる硬調化がさらに減少しており中でも特にNo、44
〜47は特に優れた効果を発揮していることが判る。
した試料No、41〜48は保存でのガンマ値の増加に
よる硬調化がさらに減少しており中でも特にNo、44
〜47は特に優れた効果を発揮していることが判る。
[実施例−5]
表−9に示す構成になるよう、各層の塗布液を調製し、
ポリエチレン被覆紙支持体上に、支持体側から順次塗設
して表10に示す多層感光材料を得た。これらの試料を
実施例−1と同様に処理、65℃、80%RHのの高温
、高湿の雰囲気中に14日間放置した保存試料の未発色
部のイエロースティン(W色濃度DBの試験前後の差Δ
DB)を測定した。
ポリエチレン被覆紙支持体上に、支持体側から順次塗設
して表10に示す多層感光材料を得た。これらの試料を
実施例−1と同様に処理、65℃、80%RHのの高温
、高湿の雰囲気中に14日間放置した保存試料の未発色
部のイエロースティン(W色濃度DBの試験前後の差Δ
DB)を測定した。
ざらに、カラーアナライザー671型(日立社製)を用
いて、各試料のマゼンタ単色、色素の分光吸収濃度を測
定し、最大吸収濃度に対する、430nsでの副吸収濃
度の相対値ΔMを求めた。
いて、各試料のマゼンタ単色、色素の分光吸収濃度を測
定し、最大吸収濃度に対する、430nsでの副吸収濃
度の相対値ΔMを求めた。
得られた結果を表−11に示す。
表91;嶌・いて用いたイ(今′勤楕達しxy+=示?
。
。
イエローカプラー
紫外線吸収剤
紫外線吸収剤
スティン防止剤
(AS−1)
シアンカプラー
シアンカプラー
表−11から本発明の試料No、53〜No、58では
本発明の目的である保存によるガンマ値の増大が少なく
硬調化が改良されていることが判る。
本発明の目的である保存によるガンマ値の増大が少なく
硬調化が改良されていることが判る。
さらに、本発明で用いられるマゼンタカプラーはイエロ
ースティンの増加が少なく、副吸収も少なく優れたカプ
ラーであることが判る。本発明によりイエロースティン
の増加、並びに副吸収の少ない、かつ保存によるガンマ
値の増大が改良された感光材料が提供される。
ースティンの増加が少なく、副吸収も少なく優れたカプ
ラーであることが判る。本発明によりイエロースティン
の増加、並びに副吸収の少ない、かつ保存によるガンマ
値の増大が改良された感光材料が提供される。
さらに本発明の中でも試料No、56〜No、58はフ
レッシュ試料でのカブリ、保存による感度低下、ガンマ
値の増大が特に良好な結果を示していることが判る。
レッシュ試料でのカブリ、保存による感度低下、ガンマ
値の増大が特に良好な結果を示していることが判る。
′i梶’F 111願人小西六写真工業株式会召ユ手続
相l正書(自5置 昭和61年07月19日
相l正書(自5置 昭和61年07月19日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 支持体上に、少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層およ
び少なくとも1層の非感光性層から構成された写真構成
層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、前記ハ
ロゲン化銀乳剤層の少なくとも1層に下記一般式[ I
]で示されるマゼンタカプラーの少なくとも1つおよび
塩臭化銀乳剤を含有し、かつ前記写真構成前の少なくと
も一層に下記一般式[XII]で示される化合物を含有す
ることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 一般式[ I ] [式中Zは含窒素複素環を形成するに必要な非金属原子
群を表し、該Zにより形成される環は置換基を有しても
よい。 Xは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱しうる置換基を表す。 またRは水素原子または置換基を表す。] 一般式[XII] Z_0−SH [式中、Z_0は複素環残基を表わす。]
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60098776A JPH0769594B2 (ja) | 1985-05-09 | 1985-05-09 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60098776A JPH0769594B2 (ja) | 1985-05-09 | 1985-05-09 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61255343A true JPS61255343A (ja) | 1986-11-13 |
JPH0769594B2 JPH0769594B2 (ja) | 1995-07-31 |
Family
ID=14228774
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60098776A Expired - Lifetime JPH0769594B2 (ja) | 1985-05-09 | 1985-05-09 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0769594B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6287962A (ja) * | 1985-10-14 | 1987-04-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6165243A (ja) * | 1984-09-06 | 1986-04-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
-
1985
- 1985-05-09 JP JP60098776A patent/JPH0769594B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6165243A (ja) * | 1984-09-06 | 1986-04-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6287962A (ja) * | 1985-10-14 | 1987-04-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0769594B2 (ja) | 1995-07-31 |
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