JPS61267050A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はハロゲン化銀写真感光材料に関し、更に詳しく
は脚部階調の改良されたハロゲン化銀カラー写真感光材
料に関するものである。

［発明の背ｉｌｌ 従来から、ハロゲン化銀カラー写真感光材料（以下、カ
ラー感光材料と称す）を画像露光し、発色現像を行なう
ことにより、芳香族第１級アミン系現像主薬の酸化体と
発色剤とがカップリング反応を行なって、例えばインド
フェノール、インドアニリン、インダミン、アゾメチン
、フェノキサジン、フェナジンおよびそれらに類似する
色素を生成し、色素画像が形成されることは良く知られ
ているところである。

イエロー色素画像を形成させるために用いられるカプラ
ーとしては、例えばアシルアセトアニリド系カプラーが
あり、またマゼンタ色素画像を形成させるために用いら
れるカプラーとしては、例えば、ピラゾロン、ピラゾロ
ベンズイミダゾール、ピラゾロトリアゾールまたはイン
ダシ０ン系カプラーがあり、ざらにシアン色素画像形成
用のカプラーとしては、例えば、フェノールまたはナフ
トール系カプラーが一般的に用いられている。

特にマゼンタ色素画像を形成されるために広く使用され
ているカプラーは、１，２−ピラゾロ−５−オン類であ
る。このカプラー類から形成される色素は５５０ｎ１１
付近の主吸収以外に４３０ｒｖ付近にＪｉＦＪ＠収を有
しており、この黄色成分の副吸収により色濁りを生じ、
色再現性上大きなＷＲ題であった。

さらに、マゼンタカプラーの場合、未発色部の光、熱お
よび湿度によるイエロースティンが、シアンカプラーや
イエローカプラーに比べて極めて大きいので、画像保存
性を向上させるための欠点となっていた。

上記黄色成分の副吸収と共にイエロースティンが改良さ
れたマゼンタカプラーとして、米国特許３．７２５，０
６７号、特開昭５９−９９４３７号、特開昭５９−１６
２５４８号、特開昭５９−１７１９５６号、リサーチ・
ディスクｏ−シｔ−誌２４２２０号、同２４２３０号及
び同２４５３１号等に記載されているピラゾロトリアゾ
ール系カプラー等は、特に優れたものである。

これら公報に記載のピラゾロトリアゾール系マゼンタカ
プラーから形成される色素は、４３０ｎａ＋付近の副吸
収が、前記の３位にアニリノ基を有する１、２−ピラゾ
ロ−５−オン類から形成される色素よりも著しく小さい
ので、色再現が良好で、その上、光、熱および湿度に対
する未発色部のイエロースティンの発生も極めて小さく
良好な性能を有している。

上記ピラゾロトリアゾール系マゼンタカプラーから形成
される色素は前記のように優れた特性を有しており、特
にカラーペーパーに適用された場合、この優れ゛た特性
が十分に発揮される。

しかしながら、上記ピラゾロトリアゾール系マゼンタカ
プラーは従来の１．２−ピラゾロ−５−オン類と比べて
、特に脚部の階調が軟調になる傾向を有している。

このためカラー感光材料に適用する場合、赤感光性層、
緑感光性層および青感光性層の三層の階調バランスがく
ずれ、特にバイラ、イト部分でマゼンタ色が目立ち易く
なる。このためカラープリント用感光材料においては、
例えば空や雲がピンクに見えたり、さらに雪が白ではな
くピンクに見える、いわゆるハイライトピンク現象とな
る。人間の目は、特に低濃度でのこれらの微妙な変化を
識別し、好ましくないカラープリントの仕上りであると
判断する。

したがって、カラー感光材料の設計に際しては、特に低
濃度部分の三層のバランスを合わせるために多大な努力
を費している。

このため上記ピラゾロトリアゾール系マゼンタカプラー
による脚部の軟調化という現象はハイライトピンク傾向
による著しい商品価値の低下を生じ、致命的とも言って
も過言でない欠点となる。

ハロゲン化銀写真感光材料の階調をコントロールする方
法は従来から種々検討されてきている。

例えば、一般的に用いられる方法としては、塗布される
ハロゲン化銀量の増、減、塗布されるカプラー量の増、
減、並びに塗布されるハロゲン化銀量とカプラー量の比
率を変化させる方法、または例えば特開昭５０−７１３
２０号、同５３−４４０１８号、同５６−７８８３１号
、同５７−５８１３７号、同　５７−１５０８４１号、
同５７−１７８２３５号、同５８−１４８２９号等に記
載されている粒径や増感方法の異なる２種以上のハロゲ
ン化銀乳剤を混合する方法、さらには、一般的に用いら
れる方法としてハロゲン化銀粒子を化学増感または色増
感する際に、脚部が硬調化するように条件、添加剤等を
選択する方法、さらに、例えば特開昭５２−１１０２９
号、同５２−１８３１０号、英国特許１５３５０１６号
、米国特許３４４８７０９号等に記載のハロゲン化銀粒
子を形成する際に水溶性ロジウム塩を添加する方法など
がある。

ところがこれらの方法では、目的とする脚部の階調の１
ｉｆｆｉｌｌ化だけでなく肩部の階調まで硬調化したり
、特吟保存により階調の軟調化を生じたり、又は他の写
真性能、例えば感度、カプリ、露光時特性などへの悪影
響を生じたりして上記ピラゾロトリアゾール系マゼンタ
カプラーに対して、脚部階調だけを硬調させその他の性
能に影響をおよぼさない有効な手段は従来技術の中では
見出せていないのが現状である。

そこで上記ピラゾロトリアゾール系マゼンタカプラーの
前述したように優れた特性を活用し、色再現性、画像保
存性に優れた仕上りプリントを提供するためには、脚部
階調の硬調化の手段を見出すことが不可欠である。

［発明の目的］ 本発明の目的は、前記ピラゾロトリアゾール系マゼンタ
カプラーの欠点である脚部階調の軟調化を改良したハロ
ゲン化銀写真感光材料を提供することにある。

さらに本発明の別の目的は色再現性、画像保存性に優れ
たハロゲン化銀写真感光材料を提供することにある。そ
の他の目的は以下の記載から明らかになろう。

［発明の構成］ 前記本発明の目的は、支持体上に、少なくとも１層のハ
ロゲン化銀乳剤層および少なくとも１１１の非感光性層
からなる写真構成層を有するハロゲン化銀写真感光材料
において、前記ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも１層は
下記一般式［Ｉ］で示されるマゼンタカプラー、下記一
般式［ＸＩＩ］で示される化合物、およびリン酸エステ
ル系化合物を含有し、更に該ハロゲン化銀乳剤層に接す
る写真構成層の少なくとも一層は前記一般式［ＸＩＩ］
で示される化合物および前記リン酸エステル系化合物を
含有しているハロゲン化銀写真感光材料により達成する
ことができる。

以下余白 一般式ｔＩ］ ［式中Ｚは含窒素複素環を形成するに必要な非金属原子
群を表し、該２により形成される環は置換基を有しても
よい。

Ｘは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱しつる置換基を表す。

またＲは水素原子または置換基を表す、］式中、Ｒ２１
及びＲ２□はそれぞれ水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基、アシル基、シクロアルキル基または
複素環基を表わし、Ｒ２う。

Ｒ２４ｊ　Ｒ２，及びＲユ、はそれぞれ水素原子、八〇
ゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、シ
クロアルキル基、アルコキシ基、７吠−ロキシ基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、アシル基、アルキルアシ
ルアミノ基、アリールアシルアミノ基、アルキルカルバ
モイル基、アリールカルバモイル基、アルキルスルホン
アミド基、アリールスルホンアミド基、アルキルスルフ
ァモイル基、アリールスルファモイル基、アルキルスル
ホニル基、アリールスルホニル基、ニトロ基、シアノ基
、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボ
ニル基、アルキルアシルオキシ基又はアリールアシルオ
キシ基を表わす。但し、Ｒ２３１Ｒ２４−＊　Ｒよ及び
Ｒ妬が同時に水素原子であるとき、Ｒユ１及びＲ，ユが
同時に水素原子であることはない。

［発明の具体的構成］ 以下余白 次に本発明を具体的に説明する。

本発明に係る前記一般式（１） 一般式ＣＩ） で表されるマゼンタカプラーに於いで、Ｚは含窒素複素
環を形成するに必要な非金属原子群を表し、該Ｚにより
形成される環は置換基を有してもよい。

Ｘは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱しうる置換基を表す。

またＲは水素原子または置換基を表す。

前記Ｒの表す置換基としては、例えばハロゲン原子、フ
ルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロア
ルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、
７ンル基、スルホニル基、スルフィニル基、ホスホニル
基、カルバモイル基、スルファモイル基、シア７基、ス
ピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シロキシ基
、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミ７基、
７シルアミ７基、スルホン７ミド基、イミド基、ウレイ
ド基、スル７７モイルアミノ基、アルコキシカルボニル
アミ７基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基が挙げら
れる。

ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子が挙
げられ、特に塩素原子が好ましい。

Ｒで表されるアルキル基としては、炭素数１〜３２のも
の、アルケニル基、アルキニル基としては炭素数２〜３
２のもの、シクロアルキル基、シクロアルケニル基とし
ては炭素数３〜１２、特に５〜７のものが好ましく、フ
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基は直鎖でも分岐
でもよい。

また、これらフルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、シクロアルキル基、シクロアルケニル基は置換基〔例
えばアリール、シアノ、ハロゲン原子、ヘテロ環、シク
ロアルキル、シクロアルケニル、スピロ化合＃！Ｉ残基
、有橋炭化水素化合物残基の他、７シル、カルボキシ、
カルバモイル、アルコキシカルボニル、了り一ルオキシ
カルポニルの如くカルボニル基を介して置換するもの、
更にはへテロ原子を介して置換するもの（具体的にはヒ
ドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロ環オキ
シ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモイルオキシ等の
酸素原子を介して置換するもの、ニトロ、アミノ（ジ−
アルキルアミノ等を含む）、スル７７モイルアミノ、ア
ルコキシカルボニルアミ／、アリールオキシカルボニル
アミノ、アシルアミノ、スルホンアミド、イミド、ウレ
イド等の窒素原子を介して置換するもの、アルキルチオ
、アリールチオ、ヘテロ環チオ、スルホニル、スルフィ
ニル、スル７７モイル等の硫黄原子を介して置換するも
の、ホスホニル等の燐原子を介して置換するもの等）〕
を有していてもよい。

具体的には例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基
、ｔ−ブチル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、１
−へキシル／ニル基、ｉ、ｉ’−ジベンチルノニル基、
２−クロル−し−ブチル基、トＩＪフルオロメチル基、
１−エトキシトリデシル基、１−メトキシイソプロピル
基、メタンスルホニルエチル基、２，４−ノーｔ−アミ
ルフェノキシメチル基、アニリノ基、１−フェニルイソ
プロピル基、３−一−ブタンスルホンアミノフェノキシ
プロビル基、３−４’−ＩＱ−（４”（ｐ−ヒドロキシ
ベンゼンスルホニル）フェノキシ〕ドデカノイルアミ／
）フェニルプロピル基、３−（４’−（ｆｆ−（２”、
４”−ジ−ｔ−７ミルフエノキシ）ブタンアミド〕フェ
ニル）−プロピル基、４−（ｆｆ−（。

−クロルフェノキシ）テトラデカンアミドフェノキシフ
プロピル基、アリル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基等が挙げられる。

Ｒで表されるアリール基としてはフェニル基が好ましく
、置換基（例えば、アルキル基、アルコキシ基、アシル
アミ７基等）を有しでいてもよい。

具体的には、フェニル基、４−ｔ−ブチル７エ二ル基、
２，４−ジ−ｔ−７ミルフエニル基、４−テトラデカン
アミドフェニル基、ヘキサデシロキシフェニル基、４′
−〔α−（４”−ｔ−ブチルフェノキシ）テトラデカン
アミド〕フェニル基等が挙げられる。

Ｒで表されるヘテロ環基としては５〜７貝のものが好ま
しく、置換されていてもよく、又縮合していてもよい。

具体的には２−７リル基、２−チェニル基、２−ビリミ
ノニル基、２−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。

Ｒで表されるアシル基としては、例えばアセチル基、フ
ェニルアセチル基、ドデカ／イル基、α−２，４−ジ−
ｔ−アミルフェノキシブタノイル基等のフルキルカルボ
ニル基、ベンゾイル基、３−ペンタデシルオキシベンゾ
イル基、ｐ−クロルベンゾイル基等の７リールカルボニ
ル基等が挙げられる。

Ｒで表されるスルホニル基としてはメチルスルホニル基
、ドデシルスルホニル基の如きアルキルスルホニル基、
ベンゼンスルホニルＭ、ｐ−）　ルエンスルホニル基の
如きアリールスルホニル基等が挙げられる。

Ｒで表されるスルフィニル基としては、エチルスルフィ
ニル基、オクチルスルフィニル基、３−フェノキシブチ
ルスルフィニル基の如き７ルキルスルフイニル基、フェ
ニルスルフィニルｓ、ｍ−ペンタデシルフェニルスルフ
ィニル基の如きアリールスルフィニル基等が挙げられる
。

Ｒで表されるホスホニル基としてはブチルオクチルホス
ホニル基の如きアルキルホスホニル基、オクチルオキシ
ホスボニル基の如きアルコキシホスホニル基、フェノキ
シホスホニル基の如きアリールオキシホスホニル基、フ
ェニルホスホニル基の如きアリールホスホニル基等が挙
げられる。

Ｒで表されるカルバモイル基は、アルキル基、アリール
基（好ましくはフェニル基）等が置換していてもよく、
例えばＮ−メチル力ルバモイ７し基、Ｎ、Ｎ−ジブチル
カルバモイル基、Ｎ−（２−ペンタデシルオクチルエチ
ル）カルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルカルバ
モイル基、Ｎ−（３−（２，４−ジーＬ−アミルフェノ
キシ）プロピル）カルバモイル基等が挙げられる。

以下余白 Ｒで表されるスルファモイル基はアルキル基、アリール
基（好ましくはフェニル基）等が置換しでいてもよく、
例えばＮ−プロピルスルファモイル基、Ｎ、Ｎ−ノエチ
ルスル７Ｔモイル基、Ｎ−（２−ペンタデシルオキシエ
チル）スル７７モイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルス
ルファモイル基、Ｎ−フェニルスルファモイル基等が挙
げられる。

Ｒで表されるスピロ化合物残基としては例えばスピロ［
３，３］へブタン−１−イル等が挙げられる。

Ｒで表される有情炭化化合物残基としては例えばビシク
ロ［２，２，１］へブタン−１−イル、トリシクロ［３
，３，１，１３°７］デカン−１−イル、７．７−ノメ
チルービシクロ［２，２，１］へブタン−１−イル等が
挙げられる。

Ｒで表されるアルコキシ基は、更に前記アルキル基への
置換基として挙げたものを置換していてもよく、例えば
メトキシ基、プロポキシ基、２−エトキシエトキシ基、
ペンタデシルオキシ基、２−ドデシルオキシエトキシ基
、７エネチルオキシエトキシ基等が挙げられる。

Ｒで表されるアリールオキシ基としては７エ二ルオキシ
が好ましく、アリール核は更に前記アリール基への置換
基又は原子として挙げたもので置換されていてもよく、
例えばフェノキシ基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシ基、ｍ
−ペンタデシルフェノキシ基等が挙げられる。

Ｒで表されるヘテロ環オキシ基としては５〜７貝のへテ
ロ環を有するものが好ましく該ヘテロ環は更に置換基を
有していてもよく、例えば、３ｇ４．５．６−テトラヒ
ドロビラニル−２−オキシ基、１−フェニルテトラゾー
ル−５−オキシ基が挙げられる。

Ｒで表されるシロキシ基は、更にアルキル基等で置換さ
れていてもよく、例えば、トリメチルシロキシ基、トリ
エチルシロキシ基、ノメチルプチルンぴキシ基等が挙げ
られる。

Ｒで表されるアシルオキシ基としては、例えばアルキル
カルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基等が
挙げられ、更に置換基を有していてもよく、具体的には
アセチルオキシ基、α−クロルアセチルオキシ基、ベン
ゾイルオキシ基等が挙げられる。

Ｒで表されるカルバモイルオキシ基は、アルキル基、７
リール基等が置換していてもよく、例えばＮ−エチルカ
ルバモイルオキシ基、Ｎ、Ｎ−ノエチル力ルバモイルオ
キシｔ、Ｎ−７二二ルカルバモイルオキシ基等が挙げら
れる。

Ｒで表されるアミ７基はアルキル基、アリール基（好ま
しくは）よニル基）等で置換されていてもよく、例えば
エチルアミノ基、７ニリ／基、ｌ−クロル７ニリ７基、
３−ペンタデシルオキシ力ルポニル７ニリ７Ｍ、２−ク
ロル−５−ヘキサデカンアミド７ニリ７基等が挙げられ
る。

Ｒで表されるアシルアミ７基としては、アルキルカルボ
ニルアミ７基、アリールカルボニルアミ７基（好ましく
はフェニルカルボニルアミ７基）等が挙げられ、更に置
換基を有してもよく具体的にはアセトアミド基、α−み
チルプロパンアミド基、Ｎ−フェニルアセトアミド基、
ドデカンアミド基、２，４−ジーＬ−７ミルフエノキシ
アセトアミド基、α−３−ｔ−ブチル４−ヒドロキシ７
エ／キシブタン７ミド基等が挙げられる。

Ｒで表されるスルホンアミド基としては、アルキルスル
ホニルアミ７基、アリールスルホニルアミ７基等が挙げ
られ、更に置換基を有してもよい。

具体的にはメチルスルホニル７ミ７基、ペンタデシルス
ルホニルアミ７基、ベンゼンスルホンアミド基、ｐ−ト
ルエンスルホンアミド基、２−メトキシ−５−ｔ−７ミ
ルベンゼンスルホンアミド基等が挙げられる。

Ｒで表されるイミド基は、ｒ＃Ｉ鎖状のものでも、環状
のものでもよく、置換基を有していてもよく、例えばコ
ハク酸イミド基、３−ヘプタデシルコハク酸イミド基、
７タルイミド基、グルタルイミド基等が挙げられる。

Ｒで表されるウレイド基は、アルキル基、アリール基（
好ましくはフェニル基）等により置換されていてもよく
、例えばＮ−エチルウレイド基、Ｎ−メチルーＮ−７’
シルウレイド基、Ｎ−７！ニルウレイド基、Ｎ−ｐ−）
リルウレイド基等が挙げられる。

Ｒで表されるスル７７モイル７ミ７基は、アルキル基、
アリール基（好ましくはフェニル基）等で置換されてい
てもよく、例えばＮ、Ｎ−ジプチルスル７アモイルアミ
７基、Ｎ−メチルスル７アモイルアミ７基、Ｎ−フェニ
ルスル７７モイルアミノ基等が挙げられる。

Ｒで表されるアルコキシカルボニルアミ７基としては、
更に置換基を有していてもよく、例えばメトキシカルボ
ニルアミ７基、メトキシエトキシカルボニルアミ７基、
オクタデシルオキシカルボニルアミ７基等が挙げられる
。

Ｒで表される７リールオキシカルボニルアミ７基は、置
換基を有していてもよく、例えばフェノキシカルボニル
７ミノ基、４−メチル７２ツキジカルボニルアミ７基が
挙げられる。

Ｒで表されるアルコキシカルボニル基は更に置換基を有
していてもよく、例えばメトキシカルボニル基、ブチル
オキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、オ
クタデシルオキシカルボニル基、エトキシメトキシカル
ボニルオキシ基、ベンノルオキシカルボニル基等が挙げ
られる。

Ｒで表されるアリールオキシカルボニル基は更に置換基
を有していてもよく、例えばフェノキシカルボニル基、
ｐ−クロルフェノキシカルボニル基、ｌ−ペンタデシル
オキシフェノキシカルボニル基等が挙げられる。

Ｒで表されるアルキルチオ基は、更に置換基を有してい
てもよく、例えば、エチルチオ基、ドデシルチオ基、オ
クタデシルチオ基、７エネチルチオ基、３−フェノキシ
プロピルチオ基が挙げられる。

Ｒで表されるアリールチオ基はフェニルチオ基が好まし
く更に置換基を有してもよく、例えばフェニルチオ基、
ｐ−メトキシフェニルチオ基、２−七一オクチルフェニ
ルチオ基、３−オクタデシルフェニルチオ基、２−カル
ボキシフェニルチオ基、ｐ−アセトアミノフェニルチオ
基等が挙げられる。

Ｒで表されるヘテロ環チオ基としては、５〜７貝のへテ
ロ環チオ基が好ましく、更に縮合環を有してもよく、又
置換基を有していてもよい。例えば２−ピリジルチオ基
、２−ベンゾチアゾリルチオ基、２，４−シ７工／キシ
−１，３，５−トリアゾール−６−チオ基が挙げられる
。

Ｘの表す発色現像主薬の酸化体との反応により離脱しう
る置換基としては、例えばハロゲン原子（塩素原子、臭
素原子、７ツソ原子等）の他炭素原子、酸素原子、硫黄
原子または窒素原子を介して置換する基が挙げられる。

炭素原子を介して置換する基としては、カルボキシル基
の他例えば一般式 ％式％ （Ｒ１′は前記Ｒと同義であり、Ｚ′は前記Ｚと同義で
あり、Ｒ２′及ＶＲ，’は水素原子、７リール基、アル
キル基又はヘテロ環基を表す。）で示される基、ヒドロ
キシメチル基、）！７フエニルメチル基が挙げられる。

酸素原子を介して置換する基としては例えばアルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキ
シ基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルオ
キサリルオキシ基、アルキルオキサリルオキシ基が挙げ
られる。

該アルコキシ基は更に置換基を有してもよく、例えば、
ニドキシ基、２−フェノキシエトキシ基、２−シアノエ
トキシ基、７エネチルオキシ基、ｐ−クロルベンジルオ
キシ基等が挙げられる。

該アリールオキシ基としては、７エ／キシ基が好ましく
、該アリール基は、更に置換基を有していてもよい。具
体的にはフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、３−
ドデシルフェノキシ基、４−メタンスルホンアミド７二
／キシ基、４−（α−（３′−ペンタデシルフェノキシ
）ブタンアミド〕フェノキシ基、ヘキシデシルカルバモ
イルメトキシ基、４−シア／フェノキシ基、４−メタン
スルホニルフェノキシ基、１−す７チルオキシ基、ｐ−
ノドキシ７エ／キシ基等が挙げられる。

該ヘテロ環オキシ基としては、５〜７員のへテロ環オキ
シ基が好ましく、縮合環であってもよく、又置換基を有
しでいてもよい。具体的には、１−フェニルテトラゾリ
ルオキシ基、２−ベンゾチアゾリルオキシ基等が挙げら
れる。

該アシルオキシ基としては、例えばアセトキシ基、ブタ
ツルオキシ基等のフルキルカルボニルオキシ基、シンナ
モイルオキシ基の如きアルケニルカルボニルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基の如きアリールカルボニルオキシ基
が挙げられる。

該スルホニルオキシ基としては、例えばブタンスルホニ
ルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基が挙げられる。

該アルコキシカルボニルオキシ基としては、例えばエト
キシカルボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニルオ
キシ基が挙げられる。

該アリールオキシカルボニル基としてはフェノキシカル
ボニルオキシ基等が挙げられる。

該アルキルオキサリルオキシ基としては、例えばメチル
オキサリルオキシ基が挙げられる。

該アルコキシオキサリルオキシ基としては、エトキシオ
キサリルオキシ基等が挙げられる。

硫黄原子を介して置換する基としては、例えばアルキル
チオ基、７１７−ルチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキル
オキシチオカルボニルチオ基が挙げられる。

該アルキルチオ基としては、ブチルチオ基、２−シアノ
エチルチオ基、７エネチルチオ基、ベンシルチオ基等が
挙げられる。

該７リールチオ基としてはフェニルチオ基、４−メタン
スルホン７ミドフエニルチオ基、４−）’デシル７エネ
チルチオ基、４−７すフルオロベンクン７ミド７エネチ
ルチオ基、４−カルボキシ７ヱニルチオ基、２−エトキ
シ−５−ｔ−ブチルフェニルチオ基等が挙げられる。

該ヘテロ環チオ基としては、例えば１−７エ二ルー１．
２．３．４−テトラゾリル−５−チオ基、２−ベンゾチ
アゾリルチオ基等が挙げられる。

該アルキルオキシチオカルボニルチオ基としては、ドデ
シルオキシチオカルボニルチオ基等が挙げられる。

えば一般式−Ｎ　　　で示されるものが挙げられアリー
ル基、ヘテロ環基、スルファモイル基、カルバモイル基
、アシル基、スルホニル基、アリールオキシカルボニル
基、アルコキシカルボニル基を表し、Ｒ４’とＲ９′は
結合してヘテロ環を形成してもよい。但しＲ４′とＲ５
’が共に水素原子であることはない。

該アルキル基は直鎖でも分岐でもよく、好ましくは、炭
素数１〜２２のものである。又、アルキル基は、置換基
を有していてもよく、置換基としては例えばアリール基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、フルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキル７ミ７基、アリールアミノ基
、アシルアミ７基、スルホン７ミド基、イミノ基、７シ
ル基、アルキルスルホニル基、７リールスルホニル基、
カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボ
ニル基、７リールオキシカルボニル基、アルキルオキシ
カルボニルアミ７基、アリールオキシカルボニル７ミ７
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ハロ
ゲン原子が挙げられる。

該アルキル基の具体的なものとしては、例えばエチル基
、オキチル基、２−エチルヘキシル基、２−クロルエチ
ル基が挙げられる。

Ｒ４’又はＲ５′で表されるアリール基としては、炭素
数６〜３２：待にフェニル基、ナフチル基が好ましく、
該アリール基は、置換基を有してもよく置換基としては
上記Ｒ１′又はＲ５’で表されるフルキル基への置換基
として挙げたもの及びアルキル基が挙げられる。該アリ
ール基として具体的なものとしては、例えばフェニル基
、１−す７チル基、４−メチルスルホニルフェニル基が
挙げられる。

Ｒ４’又はＲ５’で表されるヘテロ環基としては５〜６
貝のものが好ましく、縮合環であってもよく、置換基を
有してもよい。具体例としては、２−７−ベンゾチアゾ
リル基、２−ピリジル基等が挙げられる。

Ｒ４’又はＲ２で表されるスルファモイル基としては、
Ｎ−フルキルスルファモイル基、Ｎ、Ｎ−ノアルキルス
ル７アモイル基、Ｎ−７９−ルスル７７モイル基、Ｎ、
Ｎ−ジアリールスルファモイル基等が挙げられ、これら
のフルキル基及びアリール基は前記アルキル基及びアリ
ール基について挙げた置換基を有しでていもよい。スル
７７モイル基の具体例としては例えばＮ、Ｎ−ジエチル
スルファモイル基、Ｎ−メチルスル７７モイル基、Ｎ−
ドデシルスルファモイル基、Ｎ−ｐ−トリルスル７７モ
イル基が挙げられる。

Ｒ４’又はＲ５’で表されるカルバモイル基としてｉ、
ｔ、Ｎ−フルキルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−９フルキル
カルバモイル基、Ｎ−７リールカルバモイル基、Ｎ、Ｎ
−ジアリールカルバモイル基等が挙げられ、これらのア
ルキル基及びアリール基は前記アルキル基及びアリール
基について挙げた置換としでは例えばＮ、Ｎ−ジエチル
カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−ドデ
シルカルバモイルＩＩ、Ｎ−ｐ−シフ／フェニルカルバ
モイル基、トリートリルカルバモイル基が挙げられる。

Ｒ４’又はＲＳ’で表されるアシル基としては、例えば
フルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ
環カルボニル基が挙げられ、該アルキル基、該アリール
基、該ヘテロ環基は置換基を有していてもよい。アシル
基として具体的なものとしては、例えばヘキサフルオロ
ブタメイル基、２゜３．４．５．６−ペンタフルオロベ
ンゾイル基、アセチル基、ベンゾイル基、ナフトニル基
、２−７リルカルボニル基等が挙げられる。

Ｒ４’又はＲ５’で表されるスルホニル基としては、ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環
スルホニル基が挙げられ、置換基を有してもよく、具体
的なものとしては例えばエタンスルホニル基、ベンゼン
スルホニル基、オクタンスルホニル基、ナフタレンスル
ホニル基、ｐ−クロルベンゼンスルホニル基等が挙げら
れる。

Ｒ４’又はＲ５’で表されるアリールオキシカルボニル
基は、前記アリール基について挙げたものを置換基とし
で有してもよく、具体的にはフェノキシカルボニル基等
が挙げられる。

Ｒ４’又はＲ５’で表されるアルコキシカルボニル基は
、前記アルキル基について挙げた置換基を有してもよく
、具体的なものとしてはメトキシカルボニル基、ドデシ
ルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等
が挙げられる。

Ｒ、Ｉ及びＲ５’が結合して形成するヘテロ環としては
５〜６真のものが好ましく、飽和でも、不飽和でもよく
、又、芳香族性を有していても、いなくてもよく、又、
綜合環でもよい。該ヘテロ環としては例えばＮ−７タル
イミド基、Ｎ−コハク酸イミド基、４−Ｎ−ウラゾリル
基、１−Ｎ−ヒダントイニル基、３−Ｎ−２，４−ジオ
キソオキサゾリジニル基、２−Ｎ−１，１−ジオキソ−
３−（２Ｈ）−オキソ−１，２−ベンズチアゾリル基、
１−ピロリル基、１−ピロリジニル基、１−ピラゾリル
基、１−ピラゾリジニル基、１−ピペリジニル基、１−
ピロリニル基、１−イミダゾリル基、１−イミダゾリル
基、１−インドリル基、１−イソインドリニル基、２−
イソインドリル基、２−イソインドリニル基、１−ベン
ゾトリアゾリル基、１−ベンゾイミダゾリル基、１−（
１，２，４−）リアゾリル）基、１−（１，２，３−）
リアゾリル）基、１−（１，２，３，４−テトラゾリル
）基、Ｎ−モルホリニル基、１，２，３．４−テトラヒ
ドロキノリル基、２−オキソ−１−ピロリジニル基、２
−ＩＨ−ピリドン基、７タラノオン基、２−オキソ−１
−ピペリノニル基等が挙げられ、これらへテロ環基はア
ルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオ
キシ基、アシル基、スルホニル基、アルキルアミノ基、
アリールアミ７基、アシル７ミ７基、スルホン７ミノ基
、カルバモイル基、スルファモイル基、フルキルチオ基
、アリールチオ基、ウレイド基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、イミド基、ニトロ基
、シア７基、カルボキシル基、ハロゲン原子等またＺ又
はＺ′により形成されるｔ窒素複素環としては、ピラゾ
ール環、イミダゾール環、トリアゾール環またはテトラ
ゾール環等が挙げられ、前記環が有してもよい置換基と
しては前記Ｒについて述べたものが挙げられる。

又、一般式ＣＩ）及び後述の一般式（ＩＩ）〜〔■〕に
於ける複素環上の置換基（例えば、ＲｌＲ，−Ｒ，）が 部分（ここにＲ”、Ｘ及びＺ　／／は一般式（１）にお
けるＲ、Ｘ、Ｚと同義である。）を有する場合、所謂ビ
ス体型カプラーを形成するが勿論本発明に包含される。

又、ｚ、ｚ’、ｚ”及び後述のＺＩにより形成される環
は、更に他の環（例えば５〜７貝のシクロアルケン）が
縮合していてもよい。例えば一般式ＣＶ）においてはＲ
６とＲ６が、一般式（■）Ｌり七いヂｊ＋ｆ？−シｐ−
シａｔ　　πいけ詰Δ！グ摺ｌ偏えば５〜７貝のシクロ
アルケン、ベンゼン）を形成してもよい。

以下余白 一般式（１）で表されるものは更に具体的には例えば下
記一般式（ｎ）〜〔■〕により表される。

一般式（ｎ） 一般式（Ｉｌｌ） 一般式（ＩＶ） Ｎ　−Ｎ　−Ｎｕ 一般式（Ｖ） 一般式（Ｖｌ） −Ｎ−ＮＨ 一般式〔■〕 前記一般式（Ｉｆ）〜〔■〕に於いてＲ１〜Ｒ，及びＸ
は前記Ｒ及びＸと同義である。

又、一般式（１）の中でも好ましいのは、下記一般式〔
■〕で表されるものである。

一般式〔■〕 Ｎ−Ｎ、、’ 式中Ｒ、、Ｘ及び２冒よ一般式〔Ｉ〕におけるＲｌＸ及
びＺと同義である。

前記一般式（ＩＩ）〜〔■〕で表されるマゼンタカプラ
ーの中で特１こ好ましいのものは一般式［Ｉ１）で表さ
れるマゼンタカプラーである。

又、一般式（１３〜〔■〕における複素環上の置換基に
ついていえば、一般式ＣＩ）においてはＲが、また一般
式〔■〕〜〔■〕においてはＲ１が下記条件１を満足す
る場合が好主しく更に好主しいのは下記条件１及び２を
満足する場合であり、特に好ましいのは下記条件１，２
及び３を満足する場合である。

条件１　複素環に直結する根元原子が炭素原子である。

条件２　該炭素原子に水素原子が１個だけ結合している
、または全く結合していない。

条件３　該炭素原子と隣接原子との間の結合が全て単結
合である。

前記複素環上の置換基Ｒ及びＲ１として最も好ましいの
は、下記一般式［ｒＸ）に上り表されるものである。

一般式（［） ％式％ 式中Ｒ９ｔＲＩＯ及びＲ１はそれぞれ水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基
、シクロアルケニル基、アルキニル基アリール基、ヘテ
ロ環基、アシル基、スルホニル基、スルフィニル基、ホ
スホニル基、カルバモイル基、スル７７モイル基、シフ
／基、スピロ化合物残基、有情炭化水素化合物残基、ア
ルコキシ基アリールオキシ基、ヘテａｌ１４オキシ基、
シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、
アミ７基、７シル７ミ７基、スルホンアミド基、イミド
基、ウレイド基、スル７アモイルアミ７基、フルコキシ
力ルポニルアミ７基、アリールオキシカルボニルアミノ
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ
基を表し、Ｒ９゜Ｒｌｏ及びＲ１の少なくとも２つは水
素原子ではな＋１１　。

又、前記Ｒ９１Ｒ１Ｏ及びＲ１１の中の２つ例えばＲ３
とＲ１０は結合して飽和又は不飽和の環（例えばシクロ
アルカン、シクロアルケン、ヘテロ環）ヲ形成してもよ
く、更に該環にＲ１，が結合して有橋炭化水素化合物残
基を構成してもよい。

Ｒ３−Ｒ１にょ９表される基は置換基を有してもよく、
Ｒｇ〜Ｒ目により表される基の具体例及び該基が有して
もよい置換基としては、前述の一般式［Ｉ］におけるＲ
が表す基の具体例及び置換、　基が挙げられる。

又、例えばＲ，とＲ１゜が結合しで形成する環及びＲ５
〜ＲＩＩにより形成される有情炭化水素化合物残基の具
体例及びその有してもよい置換基としては、前述の一般
式（１）におけるＲが表すシクロアルキル、シクロアル
キル、ヘテロ環基有橋炭化水素化合物残基の具体例及び
その置換基が挙げられる。

一般式（ＩＸ）の中でも好ましいのは、（ｉ）Ｒ＠〜Ｒ
目の中の２つがアルキル基の場合、（ｉｉ）Ｒ＝〜Ｒ１
の中の１つ例えばＲ目が水素原子であって、他の２っＲ
１とＲｌｏが結合して根元炭素原子と共にジクロフルキ
ルを形成する場合、 である。

更に（ｉ）の中でも好ましいのは、Ｒ９−Ｒ１１の中の
２つがフルキル基であって、他の１つが水素原子または
フルキル基の場合である。

ここに該アルキル、該シクロアルキルは更に置換基を有
してもよく該アルキル、該シクロアルキル及ゾその置換
基の具体例としては前記一般式ＣＩ）におけるＲが表す
アルキル、シクロアルキル及びその置換基の具体例が挙
げられる６以下余白 又、一般式（１３におけるＺにより形成される環及び一
般式〔■〕におけるＺｌにより形成される環が有して−
もよい置換基、並びに一般式（ＩＩ）〜〔■〕における
Ｒ２−Ｒ６としては下記一般式（Ｘ）で表されるものが
好ましい６ 一般式ＥＸ） −Ｒ１−８Ｑ２−Ｒ” 式中Ｒ１はフルキレンを、Ｒ２はアルキル、シクロアル
キルまたはアリールを表す。

Ｒ１で示されるアルキレンは好ましくは直鎖部分の炭素
数が２以上、より好ましくは３ないし６であり、直鎖１
公岐を問わない。またこのフルキレンは置換基を有して
もよい。

該置換基の例としては、前述の一般式（１）におけるＲ
がアルキル基の場合該アルキル基が有してもよい置換基
として示したものが挙げられる。

置換基として好ましいものとしてはフェニルが挙げられ
る。

Ｒ１で示されるアルキレンの、好ましい兵体例Ｒ２で示
されるアルキル基は直鎖１分岐を間わなＩｌｌ。

具体的にはメチル、エチル、プロピル、１ｓｏ−プロピ
ル、ブチル、２−エチルヘキシル、オクチル、ドデシル
、テトラデシル、ヘキサデシル、オフタグシル、２−へ
キシルデシルなどが挙げられる。

Ｒ２で示されるシクロアルキル基としては５〜６貝のも
のが好ましく、例えばシクａヘキンルが挙げられる。

Ｒ２で示されるアルキル、シクロアルキルは置換基を有
してもよく、その例としては、前述のＲ１への置換基と
して例示したものが挙げられる。

Ｒ２で示されるアリールとしては具体的には、フェニル
、ナフチルが挙げられる。該アリール基は置換基を有し
てもよい。該置換基としては例えば直鎖ないし分岐のア
ルキルの他、前述のＲ’への置換基として例示したもの
が挙げられる。

また、置換基が２個以上ある場合それらの置換基は、同
一であっても異なっていてもよい。

一般式（１）で表される化合物の中でも特に好ましいの
は、下記一般式〔訂〕で表されるものである。

一般式（ＸＩ） 式中、Ｒ，Ｘは一般式（１）におけるＲ、Ｘと同義であ
りＲ’、Ｒ２は、一般式（Ｘ）におけるＲ１ｔＲ２と同
義である。

以下余白 １２Ｈ２Ｓ Ｈ３ Ｈ３ ＣＨｌ 奮 ＣＩ。

Ｃ２Ｈ。

以下余白 Ｃ４Ｅｌ。

以下余白 Ｈ３ ＣＨ３ ＣＨ。

Ｃ２ＨＩｓ Ｃ３１１７ ２Ｈ５ ＣＩ５ ＣＩ３ ＣＩ。

以下余白 Ｃ１，・　　　　　　　　７゜ Ｃ６Ｈ，。

■ Ｈ３ Ｈ３ ０ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２０ＣＨ３０ＣＨ２Ｃ■２
ＳＯ□ＣＨ。

８５′ Ｃ２Ｈ。

し２Ｈ５ 以下余白 ■ ＣＩ。

し１２Ｎ２５ Ｃ６Ｈ１３ 以下余白 Ｈ３ Ｈ３ ０Ｃ２Ｈ３ Ｈ３ Ｈｚ １２フ Ｈ３ ｌ１３ ＣＩ。

Ｈ３ Ｃ？Ｈ１５ Ｈ３ＣＣ８゜ 以下余白 ０（ＣＨ２）２０Ｃ１２＋１２５ １５フ Ｎ　−Ｎ　−Ｎ Ｎ ■ 以下余白 また前記カプラーの合成はジャーナル・オブ・ザ・ケミ
カル・ソサイテイー、パーキン■（Ｊｏｕｒｎａｌ　　
ｏｆ　　ｔｈｅ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　５ｏｃｉｅｔｙ。

Ｐｅｒｋｉｎ　Ｉ　）　　（１９７７）　、　２０４７
〜２０５２、米国特許３．７２５，０６７号、特開昭５
９−９９４３７号及び特開昭５８−４２０４５号等を参
考にして合成を行った。

本発明のカプラーは通常ハロゲン化銀１モル当す１　＞
＜　１０　　モル乃至１モル好ましくは１×１０モル乃
至８Ｘ１０　モルの範囲で用いることができる。

また本発明のカプラーは他の種類のマゼンタカプラーと
併用することもできる。

前記本発明のカプラーを、ハロゲン化銀乳剤層に添加す
る方法としては、例えば固体分散法、ラテックス分散法
、水中油滴型乳化分散法、種々の方法を用いることがで
き、これはカプラーの化学構造等に応じて適宜選択する
ことができる。水中油滴型乳化分散法は、カプラー等の
疎水性添加物を分散させる方法が適用でき、通常、沸点
約１５０℃以上の高沸点有機溶媒に、必要に応じて低沸
点及びまたは水溶性有機溶媒を併用し溶解し、ゼラチン
水溶液などの親水性バインダー中に界面活性剤を用いて
撹拌器、ホモジナイザー、コロイドミル、７０−ジット
ミキサー、超音波装置等の分散手段を用いて、乳化分散
した後、ハロゲン化銀乳剤層中に添加すればよい。分散
液または分散と同時に低沸点有機溶媒を除去する工程を
入れても良い。

疎水性化合物を低沸点溶媒単独又は高沸点溶媒と併用し
た溶媒に溶かし、機械的又は超音波を用いて水中に分散
する時の分散助剤として、アニオン性界面活性剤、ノニ
オン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤を用いる事が
出来る。

高沸点有機溶媒としては現像主薬の酸化体と反応しない
フェノール誘導体、フタル酸エステル、リン酸エステル
、クエン酸エステル、安息香酸エステル、アルキルアミ
ド、脂肪酸エステル、トリメシン酸エステル等の沸点１
５０℃以上の有機溶媒が用いられる。

前記一般式［ＸＩＩ］において、Ｒ２１およびＲ２□で
表わされるアルキル基としては、例えばメチル、エチル
、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、【−ブチ
ル、ｎ−アミル、ｉ−アミル、ｎ−オクチル、ロードデ
シル、ｎ−オクタデシルの各基等が挙げられ、特に炭素
数１〜３２のアルキル基が好ましい。

アルケニル基としては、例えばフリル、オクテニル、オ
レイルの各基等が挙げられ、特に炭素数２〜３２のアル
ケニル基が好ましい。

アリール基としては、例えばフェニル、ナフチルの各基
等が挙げられる。

アシル基としては、例えばアセチル、オクタノイル、ラ
ウロイルの各基等が挙げられる。

シクロアルキル基としては、例えばシクロヘキシル、シ
クロペンチルの各基等が挙げられる。

複素環基としては、例えばイミダゾリル、フリル、ピリ
ジル、トリアジニル、チアゾリルの各基等が挙げられる
。

これらの基は、アルキル基、アリール基、アリールオキ
シ基、アルキルチオ基、シアン基、アシルオキシ基、ア
ルコキシカルボニル基、アシル基、スルファモイル基、
ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基および複素環基等に
よりさらに置換されてもよい。

前記一般式［ＸＩ］において、Ｒ２うｔＲ２年、Ｒ２９
およびＲ，３で表わされる原子または基において、ハロ
ゲン原子としては、例えば、フッ素、塩素、臭素の各原
子が挙げられ、アルキル基としては、例えばメチル、エ
チル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｔ−
ブチル、ｎ−アミル、１−アミル、ｎ−オクチル、ｎ−
ドデシル、ｎ−オクタデシルの各基等が挙げられ、特に
炭素数１〜３２のアルキル基が好ましい。

アルケニル基としては例えばアリル、オクテニル、オレ
イルの各基等が挙げられ、特に炭素数２〜３２のアルケ
ニル基が好ましい。

アリール基としては、例えばフェニル、ナフチルの各基
等が挙げられる。

アシル基としては、例えばアセチル、オクタノイル、ラ
ウロイルの各基等が挙げられる。

シクロアルキル基としては例えば、シクロヘキシル、シ
クロペンチルの各基等が挙げられる。

アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、ド
デシルオキシの各基等が挙げられ、アリーロキシ基とし
ては、例えばフェノキシ基等が挙げられ、アルキルチオ
基としては、例えばメチルチオ、ｎ−ブチルチオ、ｎ−
ドデシルチオの各基等が挙げられ、アリールチオ基とし
ては、例えばフェニルチオ基等が挙げられ、アルキルア
シルアミノ基としては、例えばアセチルアミノ基等が挙
げられ、アリールアシルアミノ基としては、例えばベン
ゾイルアミノ基等が挙げられ、アルキルカルバモイル基
としては、例えばメチルカルバモイル基等が挙げられ、
アリールカルバモイル基としては、例えばフェニルカル
バモイル基等が挙げられ、アルキルスルホンアミド基と
しては、例えばメチルスルホンアミド基等が挙げられ、
アリールスルホンアミド基としては、例えばフェニルス
ルホンアミド基等が挙げられ、アルキルスルファモイル
基としては、例えばメチルスルファモイル基等が挙げら
れ、アリールスルファモイル基としては、例えばフェニ
ルスルファモイル基等が挙げられ、アルキルスルホニル
基としては、例えば、メチルスルホニル基等が挙げられ
、アリールスルホニル基としては、例えばフェニルスル
ホニル基等が挙げられ、アルキルオキシカルボニル基と
しては、例えばメチルオキシカルボニル基等が挙げられ
、アリールオキシカルボニル基としては、例えばフェニ
ルオキシカルボニル基等が挙げられ、アルキルアシルオ
キシ基としては、例えばアセチルオキシ基等が挙げられ
、アリールアシルオキシ基としては、例えばベンゾイル
オキシ基等が挙げられる。

これらの基は前記Ｒ２１およびＲ２□の基で挙げたと同
様のＷ１換基で置換されてもよい。

本発明に用いられる前記一般式［ＸＩＩ］で示される化
合物のうち下記一般式［ＸＩＩ［］で示される化合物が
本発明において特に好ましく用いられる。

以下余白 一般式［ＸＩＩ［］ 式中、Ｒ３１及びＲ３２はそれぞれ水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、アシル基、シクロアル
キル基または複素環基を表わすが、Ｒ３１およびＲ３ｚ
が共に水素原子であることはない。

前記一般式［ＸＩＩ［］において、Ｒヨ１およびＲ１２
で表わされるアルキル基としては、例えばメチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、１−プロピル、ローブチル、ｔ−ブ
チル、ｎ−アミル、ｉ−アミル、ｎ−オクチル、ｎ−ド
デシル、ｎ−オクタデシルの各基等が挙げられ、特に炭
素数１〜３２のアルキル基が好ましい。

アルケニル基と１ノでは例えばアリル、オクテニル、オ
レイルの各基等が挙げられ、特に炭素数２〜３２のアル
ケニル基が好ましい。

アリール基としては、例えばフェニル、ナフチルの各基
等が挙げられる。

アシル基としては、例えばアセチル、オクタノイル、ラ
ウロイルの各基等が挙げられる。

シクロアルキル基としては、例えばシクロへキシル、シ
クロペンチルの各基等が挙げられる。

複素環基としては、例えばイミダゾリル、フリル、ピリ
ジル、トリアジニル、チアゾリルの各基等が挙げられる
。

前記一般式［ＸＩＩ［］において、Ｒ３１とＲ３２で表
わされる原子または各基の炭素原子数の総和が８以上で
非拡散性を付与する基であることがさらに好ましい。

本発明に用いられる前記一般式［ＸＩＩ］で表わされる
化合物の具体例を以下に挙げるが、もちろんこれらに限
定されるものではない。

以下余白 （ＨＱ−１）　　　　　　　。□ （ＨＱ−６）　　　　　　　。□ Ｈ Ｈ ０Ｈ （ＨＱ−２６） （）ＩＱ−２７） （ＨＱ−２’Ｊ） （ＨＱ−３０） （ＨＱ−３１） （ＨＱ−３２） （ＨＱ−３３） （ＨＱ−３４） （ＨＱ−３５） （）ＩＱ−３６） （ＨＱ−３７） Ｈ （ＨＱ−’３８） （ＨＱ−３９） （）ＩＱ−４０） 入クロー　ジ１ヤ　−令毘、１７ら号（１９１年）　の
　１音＋３ｘＱ、、ｌ　Ｖ丁ｎｌｌニ　オご、ｉ−さ４
（−７い　さ。

本発明で用いられる前記一般式［ＸＩＩ］で示される化
合物の添加量としては、用いられるハロゲン化銀乳剤並
びにマゼンタカプラーの種類により異なり、特に制限は
ないが、好ましくはハロゲン−昏 モル〜１Ｘ１０　モル／ｄａ　　である。

本発明で用いられるリン酸エステル系化合物としては、
下記一般式［ＸＩＶ］で示される化合物が特に有利に用
いられる。

一般式［ＸｒＶ］ し式中、Ｒ４１−ＲＱおよびＲ４−３は、それぞれアル
キル基、アルケニル基、シクロアルキル基、またはアリ
ール基を表わす。］ 本発明において前記一般式［ＸｒＶ］で示されるリン酸
エステル系化合物において、Ｒ４１、Ｒ４２およびＲ４
３は、それぞれアルキル基、アルケニル基、シクロアル
キル基またはアリール基を表わすが、とりわけ、Ｒ４，
、Ｒ４２およびＲ４３で表わされる基の炭素原子数の総
和は２４乃至４８であることが好ましい。２４未満であ
ると、本発明の目的とする改良効果が小さいからであり
、４８を超えるとカプラー溶媒としての働きがいくぶん
弱まる傾向にあるからである。

Ｒ４１、Ｒ４−ｚまたはＲ４３で表わされるアルキル基
は例えば、エチル基、プロピル基、【−ブチル基、ヘキ
シル基、ヘプチル基、１ｓｏ−オクチル基、５ｅｃ−ノ
ニル基、ドテシル基、１ｓｏ−ペンタデシル基、ヘキサ
デシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基等であり、
アリール基は、フェニル基、ナフチル基等であり、アル
ケニル基はブテニル基、ペンテニル基、オクタデセニル
基等である。これらのアルキル基、アルケニル基および
アリール基は単一もしくは複数の置換基を有していても
良く、アルキル基およびアルケニル基の置換基としては
、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、アリール基、ア
リーロキシ基、アルケニル基、アルコキシカルボニル基
等が挙げられ、アリール基の置換基としては、例えばハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、
アリーロキシ基、アルケニル基、アルコキシカルボニル
基を挙げることができる。これらの置換基の２種以上が
アルキル基、アルケニル基またはアリール基に導入され
ていても良い。好ましくはＲ４１、Ｒ４２およびＲ４３
がアルキル基であり、例えば、２−エチルヘキシル基、
ｎ−オクチル基、３．５．５−トリメチルヘキシル基、
ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、５ｅａ−デシル基、５ｅ
ａ−ドデシル、ｔ−オクチル基等が挙げられる。

本発明において、一般式［ＸＩＶ］で表わされる高沸点
有機溶媒は１気圧での沸点が１７５℃以上のものが好ま
しい。

以下に一般式［ＸＩＶ］で表わされる高沸点有機溶媒の
代表的具体例を示すが、これらに限定されない。

以下余白 例示リン酸エステル系化合物 ｏ＝ｐ壬０ＣＨ＝ＣＨＣｔｓ几３］。

咄釦デ１千ヂ／４７臀ｔ；氾城・？収１１１）。

発明におけるハロゲン化銀乳剤層は、支持体少なくとも
一層有していればよいが、赤感光ロゲン化銀乳剤層、緑
感光性ハロゲン化銀孔および青感光性ハロゲン化銀乳剤
層から成るゲン化銀写真感光材料が好ましい。本発明に
て用いられるマゼンタカプラー、ならびにリエステル系
化合物はハロゲン化銀乳剤層のうなくとも一層に含有さ
れていればよく、特にはないが緑感光性ハロゲン化銀乳
剤層に含有るのが好ましい。

発明における前記一般式［ＸＩＩ］で示される物並びに
リン酸エステル系化合物を含有するゲン化銀乳剤層に接
する写真構成層とは、ハ゛ン化銀乳剤層又は非感光性層
のいずれでもよ、特に好ましくは非感光性層である。ざ
らにグン化銀乳剤層に接する上下両方の写真構成も、上
方または下方の一方の写真構成層のみ配化合物を含有し
てもよいが、好ましくはハン化銀乳剤層に接する上下両
方の写真構成層である。

また、前記一般式［ＸＩＩ］で示される化合物並びにリ
ン酸エステル系化合物の各々の写真構成層への添加量は
、ハロゲン化銀乳剤層への添加量を基準として、上記各
化合物ともに好ましくは、Ｘ　’０．０１〜×１００で
あり、より好ましくは×０．１〜×２０である。

さらに、本発明において用いられる前記一般式［Ｘｎ］
で示される化合物とリン酸エステル系化合物は、ハロゲ
ン化銀乳剤層と該乳剤層に接する少なくとも一層に同一
の化合物の組み合わせでもよいし、異なる種類の組み合
わせでもよい。

本発明において用いられるハロゲン化銀乳剤としては特
に制限はないが塩臭化銀が好ましく用いられる。

さらにハロゲン化銀組成としては臭化銀２５モル％以上
の塩臭化銀が好ましく、臭化銀２５モル％以下ではカブ
リを生じ易い。さらに好ましくは臭化銀４０モル％以上
である。

本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、規則的な結晶
形を用つものでもよいし、球状の板状のような変則的な
結晶形を持つものでも良い。

これら粒子において、（１００）面と（１１１）面の比
率は任意のものが使用できる。又、これら結晶形の複合
形を持つものでもよく、様々な結晶形の粒子が混合され
てもよい。

これらのうち、特に、規則的な結晶形を持つ八面体、十
四面体、および立方体粒子が好ましく、さらに好ましく
は立方体粒子および／または１４面体粒子であり、さら
に好ましくは特開昭５９−２９２４３号に記載されてい
るＸ線回折分析法によって測定されるに−［（２００３
面に帰属される回折線の強度］／［（２２２）面に帰属
される回折線の強度］で表わされたとき、５≦に≦ｓ　
、　ｏｏｏを満足す、るハロゲン化銀粒子である。

本発明のハロゲン化銀粒子は、粒子分布が多分散でも単
分散であってもよいが、より好ましくは単分散ハロゲン
化銀粒子である。

単分散ハロゲン化銀粒子とは、粒径の分布の標準偏差Ｓ
　（下記）を平均粒径ｒで割った値が０．２０以下のも
のをいい、好ましくは、この値が０．１５以下のもので
ある。

ここでいう平均粒径とは、球状のハロゲン化銀粒子の場
合は、その直径また立方体や球状以外の形状の粒子の場
合は、その投影像を同面積の円像に換算した時の直径の
平均値であって、個々のその粒径がｒｉであり、その数
がｎｉである時、上記の式によってｒが定義されたもの
である。

なお上記の粒子径は、上記の目的のために当該技術分野
において一般に用いられる各種の方法によってこれを測
定することができる。代表的な方法としてはラブランド
の「粒子径分析法ＪＡ、Ｓ。

Ｔ、Ｍ、シンポジウム・オン・ライト・マイクロスコピ
ー、１９５５年、９４〜１２２頁または「写真プロセス
の理論」ミースおよびジエームズ共著、第３版、マクミ
ラン社発行（１９６６年）の第２章に記載されている。

この粉子径は粒子の投影面積か１１径近似値を使ってこ
れを測定することができる。粒子が実質的に均一形状で
ある場合は、粒径分布は直径か投影面積と１ノでかなり
正確にこれを表わすことができる。

単分散ハロゲン化銀種子を有するハロゲン化銀乳剤は、
公知の方法を用いて調製できろう例えば特開昭５４−４
８５２１号公報に記載されている方法を適用して製造す
ることができる。例えば、塩臭化カリウム−ゼラチン水
溶液とアンモニア性硝酸銀水溶液とをハロゲン化銀種粒
子を含むゼラチン水溶液中に添加速度を時間の関数とし
て変化させて添加する方法によって製造する。このｗＡ
添ａＩＩ　７８度の時間関数、ＤＡＱ、２度等を適宜に
選択することにより、高度の単分散ハロゲン化銀ＩＬ剤
を得ることができる。

また本発明のハロゲン化銀粒子の構造は内部から外部ま
で均一なものであっても、内部と外部とが異質の層状＃
ｌ造をしたものであってもよい。

また、潜像を主として表面に形成する型のものでも、粒
子内部に形成する型のものでもよい。

本発明のハロゲン化銀粒子の好ましく用いられる平均粒
径は０．２〜０．９μｌの範囲である。平均粒径が０．
２μ−より小さい場合は現像処理条件の変動に対し階調
変化およびカプリの増加が大きくまた０、９μｍより大
きいと現像進行性の低下、および特にカラーペーパーの
場合に固有感度の増加により色分離が悪くなり易くなる
という別の問題を生じる可能性がある。平均粒径の範囲
は好ましくは０．２５〜０．７μ■の範囲である。なお
、平均粒径は前記の方法で測定できる。

以下余白 本発明のハロゲン化銀写′ＲＷｓ光材料は、いかなるタ
イプの写真感光材料にも適用することができ、例えばカ
ラーネガのネガ及びポジフィルム、ならびにカラー印画
紙などであることができるか、とりわけ直接鑑賞用に供
されるカラー印画紙を用いた場合に本発明方法の効果が
有効に発振される。

このカラー印画紙をはじめとする本発明のハロゲン化銀
写真感光材料は、単色用のものでも多色用のものでも良
い。多色用ハロゲン化銀写真感光材料の場合には、減色
法色再現を行うために、通常は写真用カプラーとして、
マゼンタ、イエロー、及びシアンの各カプラーを含有す
るハロゲン化銀乳剤層ならびに非感光性層が支持体上に
適宜の暦数及び層順で積層した構造を有しているが、該
暦数及び層順は重点性能、使用目的によって適宜変更し
ても良い。

本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、粒子を形成する過程及び／又は成長させる過程で
、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウ
ム塩又は錯塩、ロジウム塩又は錯塩、鉄塩又は錯塩、等
を用いて金属イオンを添加し、粒子内部及び／又は粒子
表面に包含させる事が出来、また適当な還元的雰囲気に
おく事により、粒子内部及び／又は粒子表面に還元増感
液を付与出来る。

本発明のハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀粒子の成長
の終了後に不要な可溶性塩類を除去しても良いし、ある
いは含有させたままで良い。該塩類を除去する場合には
、リサーチ・ディスクロジャー１７６４３４記載の方法
に基づいて行う事が出来る。

本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、潜像が主として表面に形成されるような粒子であ
っても良く、父型として粒子内部に形成されるような粒
子でも良い。

本発明のハロゲン化銀乳剤は、別々に形成した２種以上
のハロゲン化銀乳剤を混合して用いても良い。

本発明のハロゲン化銀乳剤は、常法により化学増感され
る。即ち、銀イオンと反応できる硫黄を含む化合物や、
活性ゼラチンを用いる硫黄増感法、セレン化合物を用い
るセレン増感法、還元性物質を用いる還元ＭＩｓ法、金
その他の貴金属化合物を用いる貴金属増感法などを単独
又は組合わせて用いる事が出来る。

本発明のハロゲン化銀乳剤は、写真業界におい゛て、増
感色素として知られている色素を用いて、所望の波長域
に光学的に増感出来る。増感色素は単独で用いても良い
が、２種以上を組み合わせて用いても良い。増感色素と
ともにそれ自身分光増感作用を持たない色素、あるいは
可視光を実質的に吸収しない化合物であって、増感色素
の増感作用を強める強色増感剤を乳剤中に含有させても
良い。

本発明のハロゲン化銀乳剤には、感光材料の製造工程、
保存中、あるいは写真処理中のカブリの防止、及び／又
は写真性能を安定に保つ事を目的として化学熟成中、及
び／又は化学熟成の終了時、及び／又は化学熟成の終了
後、ハロゲン化銀乳剤を塗布するまでに、写真業界にお
いてカプリ防止剤又は安定剤として知られている化合物
を加える事が出来る。

本発明のハロゲン化銀乳剤のバインダー（又は保護コロ
イド）としては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、
それ以外にゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子のグ
ラフトポリマー、蛋白質、糖誘導体、セルロース誘導体
、単一あるいは共重合体の如き合成親水性高分子物質等
の親水性コロイドも用いる事が出来る。

本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料の写真乳剤
層、その他の親水性コロイド層は、バインダー（又は保
護コロイド）分子を架橋させ、膜強度を高める硬膜剤を
単独又は併用することにより硬膜される。硬膜剤は、処
理液中に硬膜剤を加える必要がない程度に、感光材料を
硬膜できる量添加する事が望ましいが、処理液中に硬膜
剤を加える事も可能である。

本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料のハロゲン
化銀乳剤層及び／又は他の親水性コロイド層の柔軟性を
高める目的で可塑剤を添加出来る。

本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料の写真乳剤
層その他の親水性コロイド層に寸度安定性の改良などを
目的として、水不溶又は離溶性合成ポリマーの分散物（
ラテックス）を含む事が出来る。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料の乳剤層には、発色
用゛像処理において、芳香族第１級アミン現像剤（例え
ばｐ−フェニレンジアミン誘導体や、アミノフェノール
誘導体など）の酸化体とカップリング反応を行い色素を
形成する、色素形成カプラーが用いられる。該色素形成
カプラーは各々の乳剤層に対して乳剤層の感光スペクト
ル光を吸収する色素が形成されるように選択されるのが
普通であり、青色光感光性乳剤層にはイエロー色素形成
カプラーが、緑色光感光性乳剤層にはマゼンタ色素形成
カプラーが、赤色光感光性乳剤層にはシアン色素形成カ
プラーが用いられる。しかしながら、目的に応じて上記
組み合わせと異なった用い方でハロゲン化銀写真感光材
料をつくっても良い。

イエロー色素形成カプラーとしては、アシルアセトアミ
ドカプラー（例えば、ベンゾイルアセトアニリド類、ピ
バロイルアセトアニリド類）、マゼンタ色素形成カプラ
ーとしては、本発明のカプラー以外に、５−ピラゾロン
カプラー、開鎖アシルアセトニトリルカプラー等があり
、シアン色素形成カプラーとしてはナフトールカプラー
、及びフェノールカプラー等がある。

これら色素形成カプラーは分子中にバラスト基と呼ばれ
るカプラーを非拡散化する、炭素数８以上の基を有する
事が望ましい。又、これら色素形成カプラーは１分子の
色素が形成されるために、４個の銀イオンが還元される
必要がある４当量性であっても、２個の銀イオンが還元
されるだけで良い２当凹性のどちらでも良い。

ハロゲン化銀結晶表面に吸着させる必要のない色素形成
カプラー等の疎水性化合物は、固体分散法、ラテックス
分散法、水中油滴型乳化分散法等積々の方法を用いて分
散する事ができ、これはカプラー等の疎水性化合物の化
学構造等に応じて適宜選択することができる。水中油滴
型乳化分散法は、カプラー等の疎水性添加物を分散させ
る方法が適用でき、通常沸点１５０℃以上の高沸点有機
溶媒に、必要に応じて低沸点、及びまたは水溶性有機溶
媒を併用１ノ溶解し、ゼラチン水溶液などの親水性バイ
ンダー中に界面活性剤を用いて撹拌器、ホモジナイザー
、コロイドミル、フロージットミキサー、超音波装置等
の分散手段を用いて、乳化分散した後、目的とする親水
性コロイド層中に添加すればよい。分散液または分散と
同時に低沸点有機溶媒を除去する工程を入れても良い。

高沸点有！！！溶媒としては、現像主薬の酸化体と反応
しないフェノール誘導体、フタル酸エステル、リン酸エ
ステル、クエン酸エステル、安息香酸エステル、アルキ
ルアミド、脂肪酸エステル、トリメシン酸エステル等の
沸点１５０℃以上の有機溶媒が用いられる。

疎水性化合物を低沸点溶媒単独又は高沸点溶媒と併用し
た溶媒に溶かし、機械的又は超音波を用いて水中に分散
する時の分散助剤として、アニオン性界面活性剤、ノニ
オン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤を用いる事が
出来る。

本発明のカラー写真感光材料の乳剤層間で（同−感色性
層間及び／又は異なった感色性層間）、現像主薬の酸化
体又は電子移動剤が移動して色濁りが生じたり、鮮鋭性
の劣化、粒状性が目立つのを防止するために色カプリ防
止剤が用いられる。

該色カプリ防止剤は乳剤層自身に用いても良いし、中間
層を隣接乳剤層間に設けて、該中間層に用いても良い。

本発明のハロゲン化銀を用いたカラー感光材料には、色
素画像の劣化を防止する画像安定剤を用いる事が出来る
。

本発明において好ましく用いられる画像安定剤としては
、下記一般式［Ａ］〜［Ｈ］及び［Ｊ］、［Ｋ］を挙げ
ることができる。

以下余白 一般式［ＡＪ 式中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、７
リール基、又は複素環基を表し、Ｒ２、Ｒ１、Ｒ６、Ｒ
６はそれぞれ水素原子、７％ロデン原子、ヒドロキシ基
、アルキル基、アルケニル基、７リール基、アルコキシ
基またはアシルアミノ基をあられし、Ｒ１はフルキル基
、ヒドロキシ基、７１７−ル基又はアルコキシ基を表す
。

又Ｒ１とＲ２は互いに閉環し、５貝または６貝環を形成
してもよく、その時のＲ４はヒドロキシ基またはアルコ
キシ基をあられす。又Ｒ１とＲ４が閉環し、５Ｒの炭化
水素環を形成してもよく、そのときのＲ１はアルキル基
、アリール基、または複索環基をあられす。但し、Ｒ，
が水素原子で、かつ、Ｒ１がヒドロキシ基の場合を除く
。

前記一般式［ＡＪにおいて、Ｒ、は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基または複素環基をあられ
すが、このうち、アルキル基としては、例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−
オクチル基、ヘキサデシル基なとの直鎖または分岐のア
ルキル基を挙げることができる。またＲ５であられされ
るアルケニル基としては、例えばアリル、ヘキセニル、
オクテニル基などが挙げられる。さらに、Ｒ１の７リー
ル基としては、フェニル、ナフチルの各基が挙げられる
。さらにＲ１で示される複素環基としては、テトラヒド
ロピラニル基、ピリミジル基などが具体的に挙げられる
。これら各基は置換基を有することができ、例えば置換
基を有するアルキル基としてベンノル基、ニドキシメチ
ル基、置換基をあられすが有するアリール基としてメト
キシ７エ二ル基、クロルフェニル基、４−ヒドロキシ−
３，５−ノブチルフェニル基などが挙げられる。

一般式［ＡＪにおいて、Ｒ２、Ｒ５−Ｒ５およびＲ６は
水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルキル基、
アルケニル基、アリール基、アルコキシ基またはアシル
アミ７基をあられすが、このうち、アルキル基、アルケ
ニル基、アリール基については前記Ｒ１について述べた
アルキル基、アルケニル基、アリール基と同一のものが
挙げられる。また前記ハロゲン原子としては、例えばフ
ッ素、塩素、臭素などを挙げることができる。さらに前
記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基など
を具体的に挙げることができる。さらに前記７シルアミ
７基はＲ’　Ｃ０ＮＨ−で示され、ここにおいて、Ｒ′
はアルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、
ｎ−ブチル、ｎ−オクチル、ｔｅｒｔ−オクチル、ベン
ジルなとの各基）、アルケニル基（例えばアリル、オク
テニル、オレイルなどの各基）、アリール基（例えば７
ヱニル、メトキシフェニル、ナフチルなどの各基）、ま
たはへテロ環基（例えばピリジル、ピリミジルの各基）
を挙げることができる。

また前記一般式［ＡＪにおいて、Ｒ４はアルキル基、ヒ
ドロキシ基、アリール基またはアルコキシ基を表すが、
このうちアルキル基、アリール基については、前記Ｒ，
で示されるアルキル基、アリール基と同一のものを具体
的に挙げることがでｂる。またＲ４のアルケニル基につ
いては前記Ｒ２、Ｒ１、Ｒ１およびＲ６について述べた
アルコキシ基と同一のものを挙げること力１できる。

Ｒ１とＲ２は互いに閉環してベンゼン環と共に形成する
環としては、例えばクロマン、クマラン、メチレンジオ
キシベンゼンが挙げられる。

また、Ｒ３とＲ４が閉環してベンゼン環と共に形成する
環としては、たとえばインゲンが挙げられる。これらの
環は、置換基（例えばアルキル、アルコキシ、アリール
）を有してもよい。

又、Ｒ１とＲ２、またはＲ５とＲ１が閉環して形成する
環中の原子をスピロ原子としてスピロ化合物を形成して
もよいし、Ｒ２、Ｒ１などを連結基として、ビス体を形
成してもよい。

前記一般式［ＡＩで表されるフェノール系化合物または
フェニルエーテル系化合物のうち、好ましいものは、Ｒ
〇−基（Ｒはアルキル基、アルケニル基、アリール基、
またはへテロ環基を表す。）を４個有するビイングン化
合物であり、特に好ましくは下記一般式ＩＡ−１］で表
すことができる。

一般式［Ａ−１］ 式中Ｒはアルキル基（例えばメチル、エチル、プロピル
、ｎ−オクチル、ｔｅｒｔ−オクチル、ベンノル、ヘキ
サデシル）、アルケニル基（例えば、アリル、オクテニ
ル、オレイル）、アリ−、ル基（例えば、７ヱニル、ナ
フチル）またはへテロ環基（例えば、テトラヒドロピラ
ニル、ピリミジル）で表される基をあられすａＲ９およ
びＲ１゜は各々水素原子、ハロゲン原子、（例えば、フ
ッ素、塩素、臭素）、アルキル基（例えばメチル、エチ
ル、ｎ−ブチル、ペンシル）、アルコキシ基（例えばア
リル、ヘキセニル、オクテニル）、またはアルコキシ基
（例えばメトキシ、エトキシ、ベンジルオキシ）を表し
、Ｒ１は水素原子、アルキル基（例えばメチル、エチル
、ｎ−ブチル、ベンノル）、アルケニル基（例えば、２
−プロペニル、ヘキセニル、オクテニル）、または７′
リール基（例えばフェニル、メトキシ７ヱニル、クロル
フェニル、ナフチル）ｅ表す。

前記一般式［ＡＩで表される化合物は、米国特許第３，
９３５，０１６号、同第３，９８２，９４４号、同第４
．２５４，２１６号、特開昭５５−２１００４号、同５
４−１４５５３０号、英国特許公開２，０７７．４５５
号、同２．０６２号、８８８号、米国特許第３，７６４
，３３７、同第３．４３２３００号、同＠３，５７４，
６２７号、同第３，５７３，０５０号、特開昭５２−１
５２２２５号、同５３−２０３２７号、同５３−１７７
２９号、同５５−６３２１号、英国特許第１，３４７，
５５６号、同公開２．０６６．９７５号、特公昭５４−
１２３３７号、同４８−３１６２５号、米国特許第３，
７００，４５５号などに記載の化合物をも含む。

前記一般式［ＡＩで表される化合物の使用量は、マゼン
タカプラーに対して５〜３００モル％が好ましく、より
好ましくは１０〜２００モル％である。

以下に前記一般式［ＡＩで表される化合物の代表６ｈ　
　目−め虻ｎ４　も　千　十 タイプ（１） ＲＩ タイプ（２） タイプ（３） タイプ（４） タイプ（５） タイプ（６） タイプ（７） に″に１ タ　　イ　　プ　　（５） 以下余白 タ　　イ　　プ　　（６） 以下余白 Ａ−７ 以下余白 一般式［Ｂ］ （式中Ｒ１およびＲ１はそれぞれ水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケ
ニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、７リールオ
キシ基、アシル基、アシルアミノ基、７シルオキシ基、
スルホンアミド基、シクロアルキルまたはアルコキシカ
ルボニル基をあられし、Ｒ２は水素原子、アルキル基、
アルケニル基、７１７−ル基、７シル基、ジクロフルキ
ル基またはへテロ環基をあられし、Ｒ１は水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、
アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、スルホ
ンアミド基、シクロアルキル基またはアルコキシカルボ
ニル基をあられす。

以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもよ
い０例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、７シ
ル７ミ７基、７シルオキシ基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、スル７７モイル基などが挙げられる。

またＲ２とＲ３は互いに閉環し、５貝または６貝環を形
成してもよい。Ｒ２とＲ３が閉環しベンゼン環と共に形
成する環としては例えばクロマン環、メチレンツオキシ
ベンゼン環が挙げられる。

Ｙはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群をあられす。

クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、もしくはヘテロ環で置換されてもよく、
さらにスピロ環を形成してもよい。

一般式［Ｂ］で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式［Ｂ−１１、［Ｂ　−２］、［Ｂ　
−３］、［Ｂ　−４］、［Ｂ−５］で示される化合物一
般式［Ｂ−１］ Ｋ′ 一般式［Ｂ−２］ １＜１ 一般式［Ｂ　−３］ 一般式［Ｂ　−４Ｊ 一般式［Ｂ　−５］ １（’ 一般式［Ｂ−１１、［Ｂ−２］、［Ｂ−３Ｊ、［Ｂ　−
４］およｕ［Ｂ−５］におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ１および
Ｒ４は前記一般式［Ｂ］におけるのと同じ意味を持ち、
Ｒ１、Ｒ８、Ｒ２、Ｒ８、Ｒ３およびＲ７゜は水素原子
、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アリール基
、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基をあらゎす。

さらにＲ９とＲｏ、Ｒ６とＲ２、Ｒ７とＲ３、Ｒ、とＲ
９およびＲ５とＲＩＧとが互いに環化して炭素環を形成
してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換されて
もよい。

前記一般式［Ｂ−１］、［Ｂ　−２］、［Ｂ　−３］、
［Ｂ　−４］および［Ｂ　−５］においてＲ１およびＲ
１が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ
基またはシクロアルキル基、Ｒ５、ＲいＲ７、Ｒ６、Ｒ
８およびＲ３゜が水素原子、アルキル基、またはシクロ
アルキル基である化合物が待に有用である。

一般式ＩＢＩで表される化合物はテトラヘドロン（Ｔｅ
ｔｒａｈｅｄｒｏｎ）、１９７０．ｖｏ１２８，４７４
３−４７５１頁、日本化学会誌、１９７２．Ｎｏｌ０，
０９８７−１９９０頁、ケミカル（ｃｈｅｗ、　Ｌｅｔ
ｔ、　）ｔ　１９７２（４）３１５−３１６頁、特開昭
５５−１３９３８３号に記載されている化合物を表し、
含み、かつこれらに記載されている方法に従って合成す
ることができる。

前記一般式［Ｂ］で表される化合物のうち使用量は、前
記本発明乳剤係るマゼンタカプラーに対して５〜３００
モル％該好ましく、より好ましくは１０〜２００モル％
である。

以下にこれらの化合物の代表的具体例を示す。

以下余白 一般式［ＣＪ Ｒ１ に２ 一般式［Ｄ］ 式中Ｒ３お上りＲ２は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルケニル基、アルコキシ基、フルケニルオキシ
基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシル７ミ７基、アシルオキシ基、スルホンア
ミド基もしくはアルコキシカルボニル基をあられす。

以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもよ
い。例えばハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
シルアミ７基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ス
ル７７モイル基などが挙げられる。

Ｙはベンゼン環と共にノクロマンもしくはシクマラン環
を形成するのに必要な原子群をあられす。

クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
フルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換さ八てもよく、
さらにスピロ環を形成してもよい。

一般式ＩＣ］および［Ｄ］で示される化合物のうち、本
発明に特に有用な化合物は一般式［Ｃ−１］、［Ｃ−２
］、［Ｄ−１］および［Ｄ　−２１で示される化合物に
包含される。

一般式［Ｃ−１］ 一般式［Ｃ−２］ Ｒ４ に１ 一般式［Ｄ−１］ 一般式［Ｄ　−２］ 一般式［Ｃ−１］、［Ｃ−２］、［Ｄ　−１］および［
Ｄ　−２］におけるＲ１ａよびＲ２は前記一般式［Ｃ］
および［ＤＪにおけるのと同じ意味を持ち、Ｒ３、Ｒ，
、Ｒ５、Ｒ６，Ｒ７およびＲ８は水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、フルケ
ニル基、アルケニルオキシ基、アリール基、アリールオ
キシ基もしくはヘテロ環基をあられす。さらにＲ３とＲ
いＲ４とＲ５、Ｒ９とＲ６、Ｒ６とＲ２およびＲ７とＲ
１１とが互いに環化して炭素環を形成してもよく、さら
に該炭素環はアルキル基で置換されてもよい。

前記一般式［Ｃ−１］、［０−２］、［Ｄ−１］お上り
［Ｄ　−２］荷おいて、Ｒ１およ（７Ｒ２が水素原子、
アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基またはシクロ
アルキル基、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ６
が水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基であ
る化合物が特に有用である。

一般式［Ｃ］、［ＤＪで表される化合物は日本化学学会
誌（Ｊ、　Ｃｈｅｗ、　Ｓｏｃ、　ｐａｒｊＣ）　１９
６８．（１４）、　１９３７〜１８頁、有機合成化学部
会誌１９７０．２８（１）、　６０〜６５頁、テトラヘ
ドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ）１
９７３、（２９）、２７０７〜２７１０真に記載されて
いる化合物を含み、かつこれらに記載されている方法に
従って合成することができる。

前記一般式［Ｃ］、［ＤＪで表される化合物の使用量は
、前記本発明に係るマゼンタカプラーに対して５〜３０
０モル％が好ましく、より好ましくは１０〜２００モル
％である。　　　　　　−以下にこれらの化合物の具体
的代表例を示す。

以下余白 以下余白 一般式（ＩＥ） Ｒ２Ｒ３ 式中Ｒ１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アシル基、シクロアルキル基もしくはヘテロ環
基を表わし、Ｒ３は水素原子、ノ１０デン原子、アルキ
ル基、アルケニル基、了り−ル基、アリールオキシ基、
アシル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、スルホン
アミド基、シクロアルキル基もしくはアルコキンカルボ
ニル基を表わす。

Ｒ２およびＲ４は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
、アルケニル基、アリール基、アシル基、アシルアミ／
基、スルホンアミド基、シクロアルキル基もしくはアル
フキジカルボニル基を表わす。

以上にあげた基はそれぞれ他の置換基で置換されていて
もよい。例えばアルキル基、アルケニル基、ヒドロキシ
基、アルコキシカルボニル基、７リールオキシカルボニ
ル基、アシルアミ７基、カルバモイル基、スルホンアミ
ド基、スルフアモイル基等が挙げられる。

またＲ１　とＲ２は互いに閉環し、５貝または６貝環を
形成してもよい。

その時Ｒ３およびＲ４は水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキ
シ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、
アシル基、アシルアミ７基、７シルオキシ基、スルホン
アミド基もしくはアルコキシカルボニル基を表わす。

Ｙはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群を表わす。

クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、７リ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されていでもよ
く、さらにスピロ環一般式〔Ｅ〕で示される化合物のう
ち、本発明に特に有用な化合物は一般式（Ｅ　−１）　
。

（Ｅ−２）、（Ｅ−３３，（Ｅ−４３および（Ｅ−５３
で示される化合物に包含される。

一般式［Ｅ−１） １ＲＩ 一般式（Ｅ−２３ １ＲＩ 一般式（Ｅ−３３ に″に”　　ＯＫ’ 一般式（Ｅ−４３ Ｒも 一般式（Ｅ−５） 一般式（Ｅ−１）〜（Ｅ−５）におけるＲ　’％Ｒ２、
Ｒ３およびＲ４は前記一般式（Ｅ）におけるのと同じ意
味を持ち、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ”およびＲ１０
は水素原子、ハロゲン原子、フルキル基、アルコキシ基
、ヒトミキシ蚤、アルケニル基、アルケニルオキシ基、
アリール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基を表
わす。さらにＲ５とＲ６、Ｒ６とＲ７、Ｒ７とＲ８、Ｒ
６とＲ９およびＲ９とＲ１０とが互いに環化して炭素環
を形成してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換
されてもよい。

前記一般式［Ｅ−１］〜（Ｅ−５３において、Ｒ’、Ｉ
ｔ２．Ｒ３およびＲ４が水素原子、フルキル基、または
シクロアルキル基、前記一般式（Ｅ−５〕において、Ｒ
３およびＲ４が水素原子、フルキル基、アルコキシ基、
ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、さらに前記一般
式（Ｅ−１）〜（Ｅ−５）において、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ’
、Ｒ”、Ｒ’およびＲ”が水素原子、アルキル基、また
はジクロフルキル基である化合物が特に有用である。

一般式［Ｅ］により表される化合物はテトラヘドロン（
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ）　１９６５
．（８）ｗ４５フ〜４６０頁日本化学学会誌（Ｊ、　Ｃ
ｈｅｗ、　Ｓｏｃ、ｐａｒｔ　Ｃ）　１９６６゜（２２
）、２０１３−２０１６頁、　（Ｚｈ、　　Ｏｒｇ、Ｋ
ｈｉｍ）１９７０．（６）。

１２３０〜１２３７真に記載されている化合物を含み、
かつこれらに記載されている方法に従って合成すること
ができる。

前記一般式［Ｅ−１］で表される化合物の使用量は、前
記本発明に係るマゼンタカプラーに対して５〜３００モ
ル％が好ましく、より好ましくは１０〜２００モル％で
ある。

以下にこれらの化合物の具体的代表例を示す。

以下余白 一般式ＣＦ） 式中Ｒ１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、７リ
ール基、アシル基、シクロアルキル基もしくはヘテロ環
基を表し、Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、フルキル基
、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基、アシ
ル基、アシルアミ７基、７シルオキシ基、スルホンアミ
ド基、シクロアルキル基、もしくはアルコキシカルボニ
ル基をあられす。

Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、フルキル基、アルケニ
ル基、アリール基、アシル基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、シクロアルキル基もしくはアルコキシカル
ボニル基をあられす。

Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、ヒドロキシ
基、７リール基、アリールオキシ基、アシル基、アシル
アミノ基、アシルオキシ基、スルホン７ミド基、もしく
はアルコキシカルボニル基をあられす。

以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもい
い。例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
７リール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
、ルアミノ基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ス
ルファモイル基などが挙げられる。

又Ｒ１とＲ７は互いに閉環し、５貝または６貝環を形成
してもよい。その時Ｒ１およびＲ１は水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ア
ルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリー
ルオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アシルオキシ
基、スルホンアミド基、もしくはアルコキシカルボニル
基をあられす。

Ｙはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群をあられす。

クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、７リ
ールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されていてもよ
く、さらにスピロ環を形成してもよい。

一般式［Ｆ］で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式［Ｆ−１１、［［’−２］、［Ｆ　
−３］、［Ｆ　−４］およＩ／［Ｆ−５］で示される化
合物に包含される。

以下余白 一般式［Ｆ−１］ 一般式ＣＦ−２） 一般式（Ｆ−３） 一般式（Ｆ　　４） 一般式（Ｆ−５３ 一般式［Ｆ−１］および［Ｆ−５］におけるＲ１、Ｒ２
、Ｒ３およびＲ１は前記一般式［Ｆ］におけるのと同じ
意味を持ち、Ｒ１、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ，、Ｒ１およＶ　Ｒ
＋。は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキ
シ基、ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ
基、アリール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基
をあられす。

さらにＲ６とＲ６、Ｒ６とＲ２、Ｒ７とＲ８、Ｒ８とＲ
４およびＲ５とＲ１゜とが互いに環化して炭素環を形成
してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換されて
もよい。

また［Ｆ−３１，［Ｆ−４１および［Ｆ　−５］におい
て２つのＲ１−Ｒ５゜はそれぞれ同一でも異なっていて
もよい。

前記一般式［Ｆ−１］、［Ｆ　−２］、［Ｆ−３］、［
Ｆ　−４］および［Ｆ　−５］においてＲ４、Ｒ２、お
よびＲ１が水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、
Ｒ４が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基またはシクロアルキル基、さらにＲ６、ＲいＲ１、
Ｒ，、Ｒ９およびＲ１゜が水素原子、アルキル基、また
はシクロアルキル基である化合物が特に有用である。

一般式［Ｆ］により表される化合物はテトラヘドロン（
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ）　１９７０
．　Ｖｏｌ　２Ｌ４７４３〜４７５１頁、日本化学学会
誌１９フ２．　Ｎｏ、１０．１９８７〜１９９０頁、シ
ンセサイズ（Ｓｙｎｔｂｅｓ＋ｓ）　１９７５＊　ＶＯ
Ｉ　６９３９２−３９３頁、　（［ｌｕｌ　　Ｓａｃ、
　ＣＩａｉｍｓ　　［ｌｅｌｇ　　）　　１９フ５．　
　Ｖｏ１８４（７）、　７４７〜７５９頁に記載されて
いる化合物を含み、かつこれらに記載されている方法に
従って合成することができる。

前記一般式［Ｆ］で表される化合物の使用量は、前記本
発明に係るマゼンタカプラーに対して５〜３００モル％
が好ましく、より好ましくは１０〜２００モル％である
。

以下に一般式［Ｆ］で表される化合物の具体的代表例を
示す。

以下余白 一般式（Ｇ） Ｒ 式中Ｒ１及びＲ３は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、アシ
ルアミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、シク
ロアルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す。

Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、ヒドロキシ基、アリール基、アシル基、アシルア
ミノ基、アシルオキシ基、スルホン７ミド基、ジクロフ
ルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す。

上に挙げた基は、それぞれ他の置換基で置換されてもよ
い。置換基としで、例えばアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリール基、７１Ｊ−ルオキシ基、ヒド
ロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、７シルアミ７基、カルバモイル基、スルホ
ンアミド基、スルフアモイル基等が挙げられる。

またＲ２とＲ３は互いにｌ１１環し、５貝または６貝の
炭化水素環を形成してもよい。この５貝または６貝の炭
化水素環はハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル
基、アルコキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基またはへテロ環基等で置換さ
れてもよい。

Ｙはインゲン環を形成するのに必要な原子群を表す。イ
ンゲン環はハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、シクロアルキル基、ヒドロキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基、またはへテロ環基等で置換
されてもよ（、更にスピロ環を形成してもよい。

一般式ＣＧ）で示される化合物の中、本発明に特に有用
な化合物は一般式（Ｇ−１）〜（Ｇ−３）で示される化
合物に包含される。

以下余白 一般式（Ｇ−１） ｈ＋ 一般式（Ｇ−２） 一般式（Ｇ−３） 一般式（Ｇ−１）〜（Ｇ−３３におけるＲ’、Ｒ２及び
Ｒ３は一般式ＣＧ）におけるものと同義であり、Ｒ４，
Ｒ５，Ｒｇ、　Ｒ７，Ｒ１及びＲｇは、それぞれ水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルケ
ニル基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基
またはへテロ環基な表す。Ｒ４トＲ５、Ｒ５とＲ６、Ｅ
Ｃ’　、！−Ｒ７、Ｒ’　、！−Ｒ＠及（／　Ｒ”とＲ
９は互いに閉環して炭化水素環を形成してもよく、更に
該炭化水素環はアルキル基で置換されてもよい。

前記一般式（Ｇ−１）〜（Ｇ−３）において、［（＋及
びＲ３が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロ
キシ基またはシクロアルキル基、Ｒ２が水素原子、アル
キル基、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、Ｒ’、
Ｒ５，Ｒ６，Ｒ’、Ｒ”及びＲ９が水素原子、アルキル
基またはジクロフルキル基である化合物が特に有用であ
る。

前記一般式［Ｇ］で表される化合物のうち使用量は、マ
ゼンタカプラーに対して５〜３００モル％が好ましく、
より好ましくは１０〜２００モル％である。

以下に一般式［Ｇ］で表される化合物の代表的具体例を
示す。

以下余白 一般式〔トＩ〕 Ｒ３ 式中Ｒ’ＡびＲ２は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、
アシルアミ７基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、
シクロアルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す
。

Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アシル基、アシルアミ７基、アシルオキ
シ基、スルホン７ミド基、シクロアルキル基またはアル
コキシカルボニル基を表す。

−上に挙げた基は、それぞれ他の置換基で置換されても
よく、例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基
、アリール基、７リールオキシ基、ヒドロキシ基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、７
シルアミ７基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ス
ルファモイル基等が挙げられる。

またＲ１とＲ２及びＲ２とＲ３は互いに閉環し、５貝ま
たは６貝の炭化水素環を形成してもよく、該炭化水素環
はハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アル
コキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アリール基、
了り一ルオキシ基、ヘテロ環基等で置換されてもよい。

Ｙはインゲン環を形成するのに必要な原子群を表し、該
インダン環は上記炭化水素環を置換し得る置換基で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成してもよい。

一般式（Ｈ）で示される化合物の中、本発明に特に有用
な化合物は一般式（Ｈ−１）〜［Ｈ−２，１で示される
化合物に包含される。

一般式（Ｈ−１） 一般式［［−［−２３ 一般式［ｌｌ−３］ 一般式（Ｉ（−１）〜（１−１−３）におけるＲ　’　
、　Ｒ２及ｖＲ３は一般式（Ｈｌにおけるものと同義で
あり、Ｒ’、Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ“及びＲ９は、それ
ぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
基、ヒドロキシ基、アルケニル基、７１）−ル基、アリ
ールオキシ基またはへテロ環基を表す。またＲ４とＲ５
、Ｒ５とＲ６、Ｒ６とＲ７、Ｒ７とＲ８及びＲ’とＲ９
は互いに閉環して炭化水素環を形成しでもよ（、更に該
炭化水素環はアルキル基で置換さ前記一般式（Ｈ−１）
〜（Ｈ−３）において、Ｒ１及びＲ２がそれぞれ水素原
子、アルキル基またはジクロフルキル基、Ｒ３が水素原
子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基またはシ
クロアル’ｔ　ル基、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ”及
びＲ”が、＋ａぞれ水素原子、アルキル基またはシクロ
アルキル基である化合物が特に有用である。

前記一般式［Ｈｌで表される化合物の合成方法は既知で
あって、米国特許３．０５７９２９号、Ｃｈｅｍ。

Ｂ　ｅｒ、　１９７２．９５（５Ｌ　　１６７３−１６
７４頁、Ｃｈｅｍｉｓｔ−ｒｙ　　Ｌｅｔｔｅｒｓ、　
　１９８０９７３９−７４２頁に従って製造できる。

前記一般式［Ｈｌで表される化合物マゼンタカプラーに
対して５〜３００モル％が好ましく、より好ましくは１
０〜２００モル％である。

以下に一般式［■（１で表される具体的代表例を示す。

以下余白 〔式中、Ｒ１は脂肪−族基、シクロアルキル基またはア
リール基を表し、Ｙは窒素原子と共に５〜７貝環の複素
環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。但し、該
複素環を形成する窒素原子を含む非金属原子中、２以上
のへタロ原子がある場合、少なくとも２つのへテロ原子
は互いに隣接しないヘテロ原子である。〕 Ｒで表される脂肪族基としては、置換基を有してもよい
飽和アルキル基、及び置換基を有してもよい不飽和アル
キル基が挙げられる。飽和アルキル基としては、例えば
、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシ
ル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ、
不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基、プロ
ペニル基等が挙げられる。

Ｒ１で表されるジクロフルキル基としては、置換基を有
してもよい５〜７貝のシクロアルキル基で例えば、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

Ｒ１で表されるアリール基としては、それぞれ置換基を
有してもよいフェニル基、ナフチル基を表す。

Ｒ’で表される脂肪族基、゛シクロアルキル基、アリー
ル基の置換基としては、アルキル基、アリール基、フル
コキシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミ
７基、スルファモイル基、スルホンアミド基、カルボニ
ルオキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニ
ル基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置
換基を有してもよい。

前記一般式（Ｊ）において、Ｙは窒素原子と共に５〜７
貝環の複索環を形成するのに必要な非金属原子群を表す
が、該複素環を形成する窒素原子を含む非金属原子群の
少なくとも２つはへテロ原子でなければならず、また、
この少なくとも２つのへテロ原子は互いに隣接してはな
らない、一般４　ｒ　Ｙ　１嶋傘オム啼ル人賜＾情本慎
ト↓警７、イ　Δてのヘテロ原子が互いに隣接した場合
は、マゼンタ色素画像安定化剤としての機能を発揮する
ことが出来ないので好ましくない。

前記一般式（Ｊ）で表される化合物の前記５〜７貝環の
複素環は置換基を有してもよ（、−置換基としでは、フ
ルキル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、ア
ルコキシカルボニル基、スルホニル基、スルファモイル
基等であり、更に置換基を有してもよい。また、該５〜
７貝環の複素環は飽和であってもよいが、飽和の複素環
が好ましい。又、該複素環にベンゼン環等が縮合してい
てもよ（、スピロ環を形成してもよい。

本発明の前記一般式（Ｊ）で表される化合物の使用量は
、本発明の前記一般式（１）で表されるマゼンタカプラ
ーに対して５〜３００モル％が好ましく、より好ましく
は１０〜２００モル％である。

以下に一般式（Ｊ）で表される代表的具体例を示す。

ＩＦＦ　’Ｔ＋仝白 Ｊ　−６３Ｊ　−６９ Ｊ−６４ Ｊ−６６Ｊ−フｌ Ｃ−λＨル 前記一般式〔Ｊ〕で表される化合物の中で、ピペラノン
系化合物及びホモピベラノン系化合物は特に好ましく、
さらに好ましくは、下記一般式（　Ｊ−１　）または（
　Ｊ−２　３で表される化合物である。

一般式（Ｊ−１） 一般式（　Ｊ−２　３ 式中、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ水素原子、アルキル基
またはアリール基を表す。但し、Ｒ２とＲ３が同時に水
素となることはない。Ｒ４−Ｒ１ｆｆは、それぞれ水素
原子、アルキル基またはアリール基を表す。

前記一般式［Ｊ−１）及び（　Ｊ−２　）においてＲ２
及びＲ３は、それぞれ水素，原子、アルキル基またはア
リール基を表すが、Ｒ２＊たはＲ３で表されるアルキル
基としては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、
オクチル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシ
ル基、オクタデシル基等ａｔ　ｍ　ｒギへれる。Ｒ２ま
たはＲ３で表されるアリールては、フェニル基等が挙げ
られる．Ｒ２まで表されるアルキル基、アリール基は直
重してもよく、置換基としては、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基、＋Ｉｌ　１１　、　
　ｌｋオキシ基、複索環基等が挙げられる。

Ｒ’（置換基を含む）の炭素原子数の合計はが好ましい
。

一般式（Ｊ−１）または（　Ｊ−２　）において、Ｒ４
−Ｒ１３は、それぞれ水素原子、アルキル基またはアリ
ール基を表すが、Ｒ４〜Ｒ１″で表されるアルキル基と
しては、例えば、メチル基、エチル基等が挙げられる。

Ｒ４〜Ｒ１’で表される７リール基としてはフェニル基
等が挙げられる。

前記一般式（Ｊ−１）または（Ｊ−２）で表される化合
物の具体例は、前記した例示ピペラジン系化合物（Ｊ　
−１）〜（Ｊ−３０）及び例示ホモピペラジン系化合物
（Ｊ−５１）〜（Ｊ−６２）の中に記載した通りである
。

次に、前記一般式（Ｊ）で表される本発明の代表的なマ
ゼンタ色素画像安定化剤の合成例を示す。

合成例−１（化合物Ｊ−２の合成） ピペラジン９．０ｇ及びミリスチルブロマイド５５ｇを
溶解した１００ｍＮの７七トン中に、無水炭酸カリウム
１５ｇを加え、１０時間煮沸還流して反応させた。

反応後、反応液を５００ｍ１の水にあけた後、酢酸エチ
ル５００ｍｆｆ１で抽出した。酢酸エチル層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると、白色結晶
の目的物が得られた。アセトン３００ｍ１で再結晶して
、白色鱗片状の結晶３４ｇ（収率７０％）を得た。

融点５５〜５８℃ 合成例−２（化合物Ｊ−３４の合成） ４−モルホリノアニリン１８ｇを酢酸エチル１００ｍ１
に溶解した後、攪拌下、反応液を２０℃に保ちながら、
無水酢酸１２ｍ１を少しずつ加えた。無水酢酸添加後、
水冷し、析出する結晶をろ取した後、酢酸エチルで再結
晶し、白色粉末状結晶１６．５ｇ（収率７５％）を得た
。

融、α２０７〜２１０℃ 一般式（Ｋ） 式中、Ｒ’は脂肪族基、シクロアルキル基またはアリー
ル基を表し、Ｙは窒素原子と共に５〜７貝環の複素環を
形成するのに必要な単なる結合手または２価の炭化水素
基を表す。Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４゜Ｒｓ、　Ｒａ、　Ｒ７は
、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロアルキル基また
はアリール基を表す。但し、Ｒ２とＲ４及びＲ３とＲ６
は互いに結合して単なる結合手を形成して窒素原子、Ｙ
と共に不飽和の５〜７貝環の複素環を形成してもよい。

また、Ｙが単なる結合手のときは、Ｒ５とＲ７が互いに
結合して単なる結合手を形成して窒素原子、Ｙと共に不
飽和の５貝環の複素環を形成してもよい。また、Ｙが単
なる結合手でないときは、Ｒ５とＹ１Ｒ７とＹまたはＹ
自身で不飽和結合を形成して窒素原子、してもよい。

Ｒ’で表される脂肪族基としては、置換基を有してもよ
い飽和アルキル基、及び置換基を有してもよい不飽和ア
ルキル基が挙げられる。飽和アルキル基としでは、例え
ば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデ
シル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ
、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基、プ
ロペニル基等が挙げられる。

Ｒ１で表されるシクロアルキル基としては、置換基を有
してもよい５〜７貝のシクロアルキル基で例えば、シフ
ペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

Ｒ１で表されるアリール基としては、置換基を有しても
よいフェニル基、ナフチル基を表す。

Ｒ１で表される脂肪族基、シクロアルキル基、アリール
基の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミ７
基、スル７７モイル基、ススルホニル基、アリールスル
ホニル基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチオ基
、アリールチオ基等が挙げられ、これらの置換基はさら
に置換基を有してもよい。

前記一般式（Ｋ）において、Ｙは窒素原子と共に５〜７
Ｒ環の複素環を形成するのに必要な単なる結合手または
２価の炭化水素基を表すが、Ｙが単なる結合手のときは
、さらにＲ５とＲ７が互いに結合して単なる結合手を形
成して不飽和の５貝環の複素環を形成してもよく、また
Ｙが２価の単価水素基の場合、即ち、メチレン基の場合
には、Ｒ５とＹまたはＲ７とＹとで不飽和結合を形成し
、不飽和の６貝環の複素環を形成してもよく、またエチ
レン基の場合には、ＨｓとＹ、Ｒ’とＹまたはＹ自身で
不飽和結合を形成し、不飽和の７貝環の複素環を形成し
てもよい。さらにＹｔ’表される２価の炭化水素基は置
換基を有してもよく、この置換基には、アルキル基、カ
ルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アシルア
ミ７基、スルホンアミド基、スルファモイル基、アリー
ル基、ヘテロ環基等が挙げられる。

前記一般式［Ｋ）において、Ｒ２，Ｒ”、Ｒ４，Ｒ５゜
Ｒ６及びＲ７は、それぞれ水素原子、脂肪族基、ジクロ
フルキル基またはアリール基を表すが、Ｒ２−Ｒ７で表
される脂肪族基としては、置換基を有しでもよい飽和ア
ルキル基及び置換基を有してもよい不飽和フルキル基が
挙げられる。飽和アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、テ
トラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ、不飽和ア
ルキル基としては、例えば、エチニル基、プロペニル基
等が挙げられる。

Ｒ２−Ｒ７で表されるシクロアルキル基としては、置換
基を有してもよい５〜７貝環のシクロアルキル基で、例
えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。

Ｒ２−Ｒ７で表されるアリール基としては、置換基を有
してもよいフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。

上記Ｒ２〜Ｒ７で表される脂肪族基、シクロアルキル基
、アリール基の置換基としては、アルキル基、７リール
基、アルコキシ基、カルボニル基、カルバモイル基、ア
シルアミ７基、スルファモイル基、スルホンアミド基、
カルボニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチ
オ基等が挙げられる。

前記一般式（Ｋ）で表される化合物は、５〜７貝環の飽
和の複素環を有する場合が、不飽和であるよりも好まし
い。

以下に前記一般式（Ｋ）で表される化合物の使用量は、
本発明の前記一般式（１）で表されるマゼンタカプラー
に対して５〜３００モル％が好ましく、より好ましくは
１０〜２００モル％である。

前記一般式［Ｋ）で表される化合物の代表的具体例を示
す。

以下余白 に−３４ に−３５ に−３６ に−３７ に−３８ に−３９ に−４０ に−４１ 次に、前記一般式（Ｋ）で表される化合物の代表的合成
例を示す。

合成例−１（化合物に−１４の合成） ビペラクン９．Ｏｇ及びミリスチルブロマイド２８ｇを
溶解した６０ｍ１のアセトン中に、無水炭酸カリウム６
、Ｏｇを加え、２０時間煮沸還流して反応させた。

反応後、反応液を３００．９の水に注ぎ込んだ後、酢酸
エチル３００　、Ｑで抽出した。酢酸エチル層を硫酸マ
グネシウムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると、白色結
晶の目的物が得られた。アセトン１００１１１１１　で
再結晶して、白色鱗片状の結晶１２ｇ（収率４３％）を
得た。

融点１７５〜１８０℃ 本発明の感光材料の保護層、中間層等の親水性コロイド
層に感光材料が摩擦等で帯電する事に起因する放電によ
るカブリ防止、画像のＵｖ光による劣化を防止するため
に紫外線吸収剤を含んでいても良い。

本発明のハロゲン化銀乳剤を用いたカラー感光材料には
、フィルタ一層、ハレーシコン防止層、及び／又はイラ
ジェーション防止層等の補助層を設ける事が出来る。こ
れらの層中及び／又は乳剤層中には現像処理中にカラー
感光材料より流出するかもしくは漂白される染料が含有
させられても良い。

本発訃のハロゲン化銀乳剤層を用いたハロゲン化銀感光
材料のハロゲン化銀乳剤層、及び／又は　　　゛その池
の親水性コロイド層に感光材料の光沢を低減する、加筆
性を高める、感材相互のくつつき防止等を目標としてマ
ット剤を添加出来る。

本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料の滑りＷＩ
ＷＪを低減させるために滑剤を添加出来る。

本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料に、帯電防
止を目的とした帯電防止剤を添加出来る。

帯電防止剤は支持体の乳剤を積層してない側の帯電防止
層に用いられる事もあるし、乳剤層及び／又は支持体に
対して乳剤層が積層されている例の乳剤ｌｌ頃外の保護
コロイド層に用いられても良い。

本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料の写真乳剤
層及び、／又は他の親水性コロイド署には、塗布性改良
、帯電防出、スベリ性改良、乳化分散、接着防止、及び
（現像促進、浸潤化、増感等の）写真特性改良等を目的
として、種々の界面活性剤が用いられる。

本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料は、写真乳
剤層およびその他の層をバライタ紙又はα−オレフレイ
ンボリマー等をラミネートした紙、合成紙等の可撓性反
射支持体、酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリスチ
レン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、
ポリカーボネイト、ポリアミド等の半合成又は合成高分
子からなるフィルムや、ガラス、金属、陶器などの剛体
等に塗布出来る。

本発明のハロゲン化銀感光材料は必要に応じて支持体表
面にコロナ放電、紫外線照射、火焔処理等を施した後、
直接又は（支持体表面の接着性、帯電防止性、寸度安定
性、耐摩耗性、硬さ、ハレーション防止性、摩擦特性、
及び／又はその他の特性を向上するための）１または２
以上の下塗層を介して塗布されても良い。

本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた写真感光材料の塗布
に際して、塗布性を向上させる為に増粘剤を用いても良
い。塗布法としては２種以上の層を同時に塗布する事の
出来るエクスドールジョンコーティング及びカーテンコ
ーティングが特に有用である。

本発明の感光材料は、本発明の感光材料を構成する乳剤
層が感度を有しているスペクトル領域の電磁波を用いて
露光出来る。光源としては、自然光（日光）、タングス
テン電灯、蛍光灯、水銀灯、キセノンアーク灯、炭素ア
ーク灯、キセノンフラッシュ灯、陰極線管フライングス
ポット、各種レーザ光、発光ダイオード光、電子線、Ｘ
線、γ線、α線などによって励起された蛍光体から放出
する光等、公知の光源のいずれでも用いることが出来る
。

露光時間は通常カメラで用いられる１ミリ秒から１秒は
勿論、１マイクロ秒、より短い露光、例えば陰極線管や
キセノン閃光灯を用いて１００マイクロ秒〜１マイクロ
秒の露光を用いることも出来るし、１秒以上より長い露
光も可能である。該露光は連続的に行なわれても、間欠
的に行なわれても良い。

本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、当業界の公知の
カラー現像を行う事により画像を形成することが出来る
。

本発明において発色現像液に使用される芳香族第１級ア
ミン系色現像主薬は、種々のカラー写真プロセスにおい
て広範囲に使用されている公知のものが包含される。こ
れらの現像剤はアミンフェノール系及びｐ−フェニレン
ジアミン系誘導体が含まれる。これらの化合物は遊離状
態より安定のため一般に塩の形、例えば塩醸塩または硫
酸塩の形で使用される。また、これらの化合物は一般に
発色現像液１９について約０．１ｇ〜約３０ｇの濃度、
好ましくは発色現像液１２について約１ｇ〜約１５０の
濃度で使用する。

アミノフェノール系現像剤としては、例えば〇−アミノ
フェノール、ｐ−７ミノフエノール、５−アミノ−２−
オキシトルエン、２−アミノ−３−オキシトルエン、２
−オキシ−３−アミノ−１゜４−ジメチルベンゼンなど
が含まれる。

特に有用な芳香族第１級アミン系発色現像剤はＮ、Ｎ’
−ジアルキル−ｐ−フェニレンジアミン系化合物であり
、アルキル基及びフェニル基は任意の置換基で置換され
ていてもよい。その中でも特に有用な化合物例としては
、Ｎ、Ｎ’　−ジエチル−〇−フェニレンジアミン塩酸
塩、Ｎ−メチル−ｐ−フェニレンジアミン塩酸塩、Ｎ、
Ｎ’−ジメチル−ｐ−フェニレンジアミン塩酸塩、２−
アミノ−５−（Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルアミノ）−ト
ルエン、Ｎ−エチル−Ｎ−β−メタンスルホンアミドエ
チル−３−メチル−゛４−アミノアニリン硫酸塩、Ｎ−
エチル−Ｎ−β−ヒドロキシエチルアミノアニリン、４
−アミノ−３−メチル−Ｎ。

Ｎ′−ジエチルアニリン、４−アミノ−Ｎ−（２−メト
キシエチル）−Ｎ−エチル−３−メチルアニリン−クー
トルエンスルホネートなどを挙げることができる。

本発明の処理において使用される発色現像液には、前記
芳香族第１級アミン系発色現像剤に加えて更に発色現像
液に通常添加されている種々の成分、例えば水酸化ナト
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ
剤、アルカリ金属亜硫酸塩、アルカリ金属重亜硫酸塩、
アルカリ金属チオシアン酸塩、アルカリ金属ハロゲン化
物、ベンジルアルコール、水軟化剤及び濃厚化剤などを
任意に含有せしめることもできる。この発色現像液のｐ
Ｈ値は、通常７以上であり、最も一般的には約１０〜約
１３である。

本発明においては、発色現像処理した後、定着能を有す
る処理液で処理するが、該定着能を有する処理液が定着
液である場合、その館に漂白処理が行われる。該漂白処
理工程に用いる漂白剤としては、有機酸の金属錯塩が用
いられ、該金属錯塩は、現像によって生成した金属銀を
酸化してハロゲン化銀にかえすと同時に発色剤の未発色
部を発色させる作用を有するもので、その構成はアミノ
ポリカルボン酸または蓚酸、クエン酸等の有機酸で鉄、
コバルト、銅等の金属イオンを配位したものである。こ
のような有機酸の金属錯塩を形成するために用いられる
最も好ましい有機酸としては、ポリカルボン酸またはア
ミノポリカルボン酸が挙げられる。これらのポリカルボ
ン酸またはアミノポリカルボン酸はるアルカリ金属塩、
アンモニウム塩もしくは水溶性アミン塩であってもよい
。

これらの具体的代表例としては次のものを挙げることが
できる。

［Ｉ］エチレンジアミンテトラ酢酸 ［２］ニトリロトリ酢酸 ［３］イミノジ酢酸 ［４］エチレンジアミンテトラ酢酸ジナトリウム塩 ［５コエチレンジアミンテトラ酢酸テトラ（トリメチル
アンモニウム）塩 ［６］エチレンジアミンテトラ酢酸テトラナトリウム塩 ［７］ニトリロトリ酢酸ナトリウム塩 使用される漂白剤は、前記の如き有機酸の金属錯塩を漂
白剤として含有すると共に、種々の添加剤を含むことが
できる。添加剤としては、特にアルカリハライドまたは
アンモニウムハライド、例えば臭化カリウム、臭化ナト
リウム、塩化ナトリウム、臭化アンモニウム等の再ハロ
ゲン化剤、金属塩、キレート剤を含有させることが望ま
しい。

また硼ＩｌＩ塩、蓚酸塩、酢酸塩、炭酸塩、燐酸塩等の
ｐＨ緩衝剤、アルキルアミン類、ポリエチレンオキサイ
ド類等の通常漂白液に添加することが知られているもの
を適宜添加することができる。

更に、定着液及び漂白定着液は、亜硫酸アンモニウム、
亜硫酸カリウム、重亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸カリ
ウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸アンモニウム
、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム等の
亜硫酸塩や硼酸、硼酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重亜硫酸ナトリ
ウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、酢酸、酢酸
ナトリウム、水酸化アンモニウム等の各種の塩から成る
Ｉ）　Ｈｉｌｌｌｉ剤を単独或いは２種以上含むことが
できる。

漂白定着液（浴）に漂白定着補充剤を補充しながら本発
明の処理を行なう場合、該漂白定着液（浴）にチオ硫酸
塩、チオシアン酸塩又は亜硫酸塩等を含有せしめてもよ
いし、該漂白定着補充液にこれらの塩類を含有せしめて
処理浴に補充してもよい。

本発明においては漂白定着液の活性度を高める為に、漂
白定着浴中及び漂白定着補充液の貯蔵タンク内で所望に
より空気の吹き込み、又は酸素の吹き込みをおこなって
もよく、或いは適当な酸化剤、例えば過酸化水素、臭素
酸塩、過硫酸塩等を滴宣添加してもよい。

以下余白 ［発明の具体的効果］ 本発明においては、前記一般式［Ｉ］のマゼンタカプラ
ーの欠点である脚部階調の軟調化が改良され、マゼンタ
色素の分光吸収特性に優れ良好な色再現性を有し、かつ
イエロースティンの少ない良好な画像保存特性を有する
ハロゲン化銀感光材料を提供することができる。

［発明の具体的実施例］ 以下に具体的実施例を示して、本発明を更に詳しく説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

［実施例−１コ 本発明の例示マゼンタカプラー、および下記比較マゼン
タカプラーＭ　Ｃ−１を用いてマぜンタカプラー分散液
を調飯した。

すなわち、前記一般式［Ｉ］で示されるマゼンタカプラ
ーと本発明で用いられる前記一般式［ＸＩ］で示される
化合物を、高沸点溶媒としてリン酸エステル系化合物と
低沸点溶媒として酢酸エチルの混合溶媒に溶解し、この
溶液をドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む５
％ゼラチン水溶液に添加した後、超音波ホモジナイザー
にて分散しカプラー分散液をｍ製した。

さらに、マゼンタカプラーを除いた以外は、上記と同様
の方法で一般式［ＸＩＩ］で示される化合物とリン酸エ
ステル系化合物との分散液を調製した。

次いで、これらの分散液を用いて下記表−１および２に
示す層構成になるよう各層の塗布液を調製し、ポリエチ
レン被覆紙上に支持体側から順次塗設して、多層カラー
感光材料を得た。

以下仝白 表−１ 層　　　　　　　　　　　　構　　酸 第７層　ゼラチン（１，０１１１／■　）　　　　　　
（（保護層） 第６層　　　　ゼラチン（，１，Ｏｇ　／ｌ　　）（第
３中間層）　紫外線吸収剤 ＬＩＶ　−１（０，２＜１　／１） ＵＶ−２（０，１０／ｍ　　） 高沸点溶媒　ジノニルフタレート　（ （０，２Ｑ　／＠　　） 第５層　　　　ゼラチン（１，２ｏ　／■　）（赤感層
）　　　塩臭化銀乳剤 ［７０モル％のＡｇＢ「含有］ （銀量換算０，２５ｏ／ｍ　　） シアンカプラー ［Ｃ−１／Ｃ−２］ （ハロゲン化銀１モル当り　０．４モル）スティン防止
剤Ａｓ−１（ （０，Ｏ１ｇ／ｌ　　） 高沸点溶媒　ジオクチルフタレート （０，２ｏ　　／ｒｅ　　　） 第４Ｂ　　　　ゼラチン（１，５ｇ／ｍ　　）第２中間
層）　紫外線吸収剤 ＬＪＶ−１（０，５ｏ　／ａ　　） ＬＩＶ−２（０，２０／ＩＩ　　） 一般式［ＸＩＩ］の化合物★ リン酸エステル系化合物★ 第３層　　ゼラチン（１゜５１１１／ｌ）緑感層）　塩
臭化銀乳剤［７０モル％のＡａ　Ｓｒ含有］ （銀量換算０．２０ｇ／ａ２） （ただし比較カプラーＭＧ−１を 用いた場合は０．４０Ｑ／鵬とした） マゼンタカプラー★（０，４ｇ　／＋ｅ　　）一般式［
ＸＩＩ］の化合物★ リン酸エステル系化合物★ 第２層　　　　ゼラチン（１，Ｏｏ　／ｍ”　　）第１
中間層）　一般式［ＸＩＩ］の化合物★リン酸エステル
系化合物★ 第１層　　　　ゼラチン（２，ＯＱ　／Ｉ　　）（青感
層）　　　塩臭化銀乳剤 ［９０モル％のＡｇＢｒ含有］ （銀ｌ換算０，３ｏ　／１１） イエローカプラーＹ−１ （０，８（１／ｌ　　） スティン防止剤Ａｓ−１ （０，０２Ｑ／■　） 高沸点溶媒　ジノニルフタレート （０，３０／ＩＩ　　） 支持体　ポリエチレン被覆紙 （）内は塗布憬または添加量を表わす。

★は表−２に示す。

以下余白 但し、表−１で用いた比較カプラー（ＭＣ−１＞イエロ
ーカプラー（ＹＣ−１）、シアンカプラー（ＣＣ−１）
および（ＣＧ−２）、紫外線吸収剤（ＵＶ−１＞　およ
び（ＵＶ−２）、スティン防止剤（Ａｓ−１＞の構造式
を以下に示す。

以下余白 シアンカプラー シアンカプラー 以下余白 イエローカプラー 紫外線吸収剤 紫外線吸収剤 スティン防止剤 このように作製した重層試料（試料Ｎｏ、１〜１１）を
感光計（小西六写真工業株式会社製ＫＳ−７型）を使用
して白色光を光横を通して露光後、下記の処理工程に従
って処理を施した。処理して得られた試料について光学
濃度計（小西六写真工業株式会社製ＰＤＡ−６５型）を
用いてマゼンタ発色色素濃度を測定し、感度、カブリ並
びに濃度０．８〜１．８のガンマ値（γ、とする）、脚
部１ｉＩＷ４として濃度０，３〜０．８のガンマ値（γ
２　とする）を求めた。

ざらに現像処理終了侵の試料を６５℃、８０％ＲＨの高
温、Ｓ湿の雰囲気中に１４日問放置したときの未発色部
のイエロースティン（青色濃度りの試験前後の差ΔＤＢ
）を測定した。

さらに、カラーアナライザー６７７型（日立社製）を用
いて、各試料のマゼンタ単色色素の９弊吸収濃度を測定
し、最大吸収濃度に対する４３０ｎｌでの副吸収濃度の
相対値ΔＭを求めた。

得られた結果を表−３に示す。

基準処理工程（処理温度と処理時間） ［Ｉ〕発色現像　　　　３８℃　３分３０秒［２〕漂白
定着　　　　３３℃　１分３０秒［３１水洗処理　２５
〜３０℃　３分 ［４］乾　　燥　７５〜８０℃　約２分処理液組成 （発色現像液） ベンジルアルコール エチレングリコール　　　　　　　　１５１１１亜硫酸
カリウム　　　　　　　　　　　２．Ｏ。

臭化カリウム　　　　　　　　　　　　０．７０塩化ナ
トリウム　　　　　　　　　　０，２Ｑ炭酸カリウム　
　　　　　　　　　　３０．０９ヒドロキシアミン硫酸
塩　　　　　　３．０９ポリリン酸（　Ｔ　Ｐ　Ｐ　Ｓ
　）　　　　　　　　２．５ａ３−メチル−４−アミノ
−Ｎ−エチル−Ｎ−（β−メタンスルホンアミドエチル
）アニリン硫酸塩 ５、５ｇ 蛍光増白剤（４．４’　−ジアミノスチルベンズスルホ
ン酸誘導体’）　　　　　　　　　　１．０ｇ水酸化カ
リウム　　　　　　　　　　　２．　ＯＱ水を加えて全
量を１４とし、ｐＨ１０．２０に調整する。

（［白定着液） エチレンジアミンテトラ酢酸第２鉄アンモニウム２水塩
　　　　　　　　　　　　　６０。

エチレンジアミンテトラ酢！ｌ　　　　　　３ａチオ硫
酸アンモニウム（７０％溶液）　１ｏｏｍ，＆亜硫酸ア
ンモニウム（４０％溶液）　　２７．５−ノ炭酸カリウ
ムまたは氷酢酸でｐＨ７．ｆに調整し水を加　えて全量
を１ｇとする。

以下余白 表−３ 表−３の結果から、比較マゼンタカプラーを用いた試料
Ｎｏ、１．３と比べ本発明に用いられるマゼンタカプラ
ーを用いた試料ＮＯ，２，４は脚部階調γ２　が軟調で
あることが判る。さらに本発明の構成であるＮｏ、５．
６．７は脚部階調の軟調化が改良されていることが判る
。

Ｎｏ、８は本発明の同様の構成であるが比較カプラーで
はγ２　の値はほとんど変化せず、本発明のカプラーに
限りγ２　が硬調化していることが判る。

又、本発明に用いられるカプラーは、イエロースティン
の増加が少なくさらに色再現性に悪影響を与える副吸収
も少な（、優れたカプラーであることが判る。

［実施例−２１ 実施例−１と同様にして重層試料を作製した。

ただし表−４に示すように一般式［Ｉ］、［ＸＩＩ］な
らびにリン酸エステル系化合物を変化させた。

これらの試料を実施例−１と同様に処理、評価した。得
られた結果を表−５に示す。

表−５ 表−５から判るように本発明のカプラー、一般式［ＸＩ
Ｉ］の化合物、並びにリン酸エステル系化合物の組合せ
を変化させても本発明の効果が達成されている。さらに
試料Ｎｏ　　３０．３１では各層で異なる化合物を使用
しているが、本発明の効果は達成されている。

また、本発明に用いられるマゼンタカプラーのイエロー
スティンと副吸収についても実施例−１と同様の結果で
良好な特性を示していた。

［実施例−３］ 特開昭５４−４８５２１号に記載の方法に準じ、硝酸銀
水溶液と塩臭化カリウム水溶液を塩臭化銀種粒子を含む
、ゼラチン水溶液中に、添加速度を時間の、関数として
変化させて同時に添加し、この＊ｐ　ＡＱと温度をコン
１−ロールして平均粒径０．５μｌの臭化銀７０モル％
を含む八面体、１４面体、立方体粒子から成る、塩臭化
銀乳剤をｇ４製した。（乳剤Ａ、Ｂ、Ｃと呼ぶ）前述の
方法に従いｔｕｆｆ、変動係数を求めたところＡ　：　
Ｋ−０，０５、変ａ係数−〇、１３．８　：　Ｋ＝７５
．変動係数＝　０．１３、Ｃ：に−２５０，変動係数−
０，１３であった。

さらに、シングルジェット法、すなわち上記の方法にお
いて塩臭化カリウム水溶液を先に、ゼラチン水溶液に添
加し、その後硝酸銀水溶液を添加する方法にて平均粒径
０．５μｍ変動係数井〒−０，２５の臭化銀７０モル％
を含む不定型粒子から増感を行い終了時に緑色増感色素
と安定剤を加え、緑色増感された塩臭化銀乳剤を得た。

実施例−１と同様に表−６に示す条件で重層試料を作製
（７、現像処理、評価を行なった。

得られた結果を表−７に示す。

以下余白 表−７ 表−７からハロゲン化銀乳剤が変化しても本発明の効果
は達成される。これらハロゲン化銀乳剤のうちで１４面
体粒子から成る乳剤Ｂ、立方体粒子から成る乳剤Ｃが、
他の乳剤と比べ特に優れていることが判る。

特許出願人　小西六写真工業株式会社 １ト続摺Ｊ　ｊＥ書＝（自発） 昭和６１イ昏（）８月１１日 昭和６０年特許願　ｆｉ１０８９８７号２、発明の名称 ハロゲン化銀写真感光材料 ３、補正をする者 事件との関係　　　特許出願人 住所　東京都新宿区西新宿１丁目２６番２号名称　（１
２７）　　小西六写真工業株式会社代表取締役　　　弁
子　思上 ４、代理人　　〒１０２ 住所　東京都千代田区九収北４丁目１番１号九段−ロ坂
ビル′Ｆｇ１話２６３−９５２４明細書の１゛３、発明
の詳細な説明」の欄明細書の発明の詳細な説明の欄を以
下の如く補正する。

手続補正書（自制 昭和６１年０８月１１日 昭和６０年特許Ｎ　第１０８９８７号 ２、発明の名称 ハロゲン化銀写真感光材料 ３．１１ｔＩ正をする者 事件との関係　　　特許出願人 住所　東京都新宿区西新宿１丁＠２６番２号名称　（１
２７）　　小西六写真工業株式会社代表取締役　　　弁
子　思上 ４、代理人　　〒１０２ 住所　東京都千代田区九段北４丁目１番１号九段−ロ坂
ビル電話２６３−９５２４ 明細書の［３、発明の詳細な説明］の欄　電゛６、補正
の内容 （１）明＃Ｉ書第１１７頁第３打目の「総和は２４乃至
４８」を［総和は１８乃至４８Ｊと補正する。

（２）明細書１１１７頁第４行目の「２４未満であると
、」を「１８未満であると、」と補正する。

（３）明細書第２５４頁の表−２、第２６０真の表−４
及びｔＡ２６２頁の表−６における、［一般式［ＸＩＩ
］で示される化合物」の欄の［（添加ＩＬｍｇ／ＩＩ＋
”）Ｊを巨添加ｉＬｇ／「ｎ２）Ｊと補正する。

（４）明細書第２５４頁の表−２、第２６０頁のｉ−４
及び第２６２頁の表−６における、「リン酸エステル系
化合物」の欄の「添加ｔｍｇ／ｍ”）Ｊを「添加量ｇ／
−”Ｊと補正する。

（５）明細誓第２６４真の表−６における「試料ＮｏＪ
の欄及び「乳剤」の欄を下記の如く補正する。

以下余白

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 支持体上に、少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層およ
   び少なくとも１層の非感光性層からなる写真構成層を有
   するハロゲン化銀写真感光材料において、前記ハロゲン
   化銀乳剤層の少なくとも１層は下記一般式［ I ］で示
   されるマゼンタカプラー、下記一般式［ＸII］で示され
   る化合物およびリン酸エステル系化合物を含有し、更に
   該ハロゲン化銀乳剤層に接する写真構成層の少なくとも
   一層は前記一般式［ＸII］で示される化合物および前記
   リン酸エステル系化合物を含有していることを特徴とす
   るハロゲン化銀写真感光材料。 一般式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中Ｚは含窒素複素環を形成するに必要な非金属原子
   群を表し、該Ｚにより形成される環は置換基を有しても
   よい。 Ｘは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
   り離脱しうる置換基を表す。 またＲは水素原子または置換基を表す。］ 一般式［ＸII］ ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＿２＿１及びＲ＿２＿２はそれぞれ水素原子、
   アルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、シ
   クロアルキル基または複素環基を表わし、Ｒ＿２＿３、
   Ｒ＿２＿４、Ｒ＿２＿５及びＲ＿２＿６はそれぞれ水素
   原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
   ール基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリーロキ
   シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、ア
   ルキルアシルアミノ基、アリールアシルアミノ基、アル
   キルカルバモイル基、アリールカルバモイル基、アルキ
   ルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アル
   キルスルファモイル基、アリールスルファモイル基、ア
   ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ニトロ基
   、シアノ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオ
   キシカルボニル基、アルキルアシルオキシ基又はアリー
   ルアシルオキシ基を表わす。但し、Ｒ＿２＿３、Ｒ＿２
   ＿４、Ｒ＿２＿５及びＲ＿２＿６が同時に水素原子であ
   るとき、Ｒ＿２＿１及びＲ＿２＿２が同時に水素原子で
   あることはない。