JPS62175754A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

ハロゲン化銀写真感光材料

Info

Publication number
JPS62175754A
JPS62175754A JP1756986A JP1756986A JPS62175754A JP S62175754 A JPS62175754 A JP S62175754A JP 1756986 A JP1756986 A JP 1756986A JP 1756986 A JP1756986 A JP 1756986A JP S62175754 A JPS62175754 A JP S62175754A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
groups
general formula
alkyl
represented
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1756986A
Other languages
English (en)
Inventor
Toyoki Nishijima
豊喜 西嶋
Kaoru Onodera
薫 小野寺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP1756986A priority Critical patent/JPS62175754A/ja
Publication of JPS62175754A publication Critical patent/JPS62175754A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C7/00Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
    • G03C7/30Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
    • G03C7/392Additives
    • G03C7/39208Organic compounds
    • G03C7/39228Organic compounds with a sulfur-containing function

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野] 本発明はハロゲン化銀写真−感光材料に関し、特に光堅
牢性の改良されたハロゲン化銀カラー写真感光材料に関
する。 [発明の背景1 ハロゲン化銀カラー写真感光材料を用いて色素画像を形
成する方法としては、写真用カプラーと発色現像主薬の
酸化体との反応により、色素を形成する方法が挙げられ
、通常の色再現を行うための写真用カプラーとしては、
マゼンタ、イエローおよびシアンの各カプラーが、また
発色現像主薬としては芳香族第1級アミン系発色現像主
薬がそれぞれ使用されており、マゼンタおよびイエロー
の各カプラーと芳香族第1級アミン系発色現■主薬の酸
化体との反応により、アゾメチン色素等の色素が形成さ
れ、シアンカプラーと芳香故第1級アミン系発色現像主
薬の酸化体との反応により、インドアニリン色素等の色
素が形成される。 これらのうち、マゼンタ色画像を形成するためには、5
−ピラゾロン、シアノアセトフェノン、インダシロン、
ピラゾロベンズイミダゾール、ピラゾロトリアゾール系
カプラー等が使用される。 従来マゼンタ色画像形成カプラーとして、実用されてい
たちのはほとんど5−ピラゾロン系カプラーであった。 5−ピラゾロン系カプラーから形成される色画性は光や
熱に対づる堅牢性が優れているがこの色素の色調は十分
なものではなく、430nm付近に黄色成分を有する不
要吸収が存在しまた、550nn+付近の可視光の吸収
スペクトルもブロードなため、色にごりの原因となり写
真画像は鮮やかに欠(プるものとなっていた。 この不要吸収がないカプラーとして米国特許第3.72
5,067号、特開昭59−162548号、特開昭5
9−171956号等に記載されている1ト(−ピラゾ
ロ[3゜2−c]−s−トリアゾール型カプラー、IH
−イミダゾ[1,2−b ]−ピラゾール型カプラー、
1H−bピラゾロ[1,5−b ]−ピラゾール型カプ
ラー、又は、IH−bピラゾロN、5−d ]テトラゾ
ール型カプラーは、特に優れたものである。 しかしながらこれらのカプラーから形成される色素画像
の光に対する堅牢性は著しく低い。感光材料、特に直接
観賞用のカラー印画紙等の感光材料にこれらのカプラー
を使用した場合には、画像を記録、保存するという写真
材料としての本質的な必要条件を損なう事となる。 従って実用化に難点のあるものであった。そこで耐光性
を向上する方法としてフェノール系又はフェニルエーテ
ル系の酸化防止剤を使用することが特開昭59−125
γ32号に記載されているがその効果は十分なものでは
なかった。 一方、金II体を退色防止剤として用いる事が特開昭5
6−99340号、同56−168652号、同60−
51834号等に記載されている。これら金属錯体をピ
ラゾロトリアゾール系カプラーから形成される色素に適
用した場合、中にはある程度光堅牢化できる化合物もあ
るが、光堅牢化効果の比較的大きい化合物は概して未露
光試料を保存する場合、経時によってカブリの増加が大
きいという欠点を有していた。また金属錯体の中でも、
未露光試料の経時保存でのカブリの増加が少ない化合物
は、光堅牢化効果が不充分なものであった。 従って、ピラゾロトリアゾール系マゼンタカプラーと金
属錯体を併用したハロゲン化銀写真感光材料の耐光性の
向上と経時保存カブリの防止どを両立させる事は困難で
あった。 [発明の目的] 本発明の目的は、マゼンタ色素画像の色再現性が優れ、
かつ光堅牢性が改良され、しかも生試料の経時保存によ
るカブリの増加が少ないハロゲン化銀写真感光材料を提
供することにある。 [発明の構成] 本発明の上記目的は、支持体上に少なくとも1層のハロ
ゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料にお
いて、前記ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも1層は下記
一般式[I]で表わされるマゼンタカプラーを含有し、
かつ該マゼンタカプラーを含有するハロゲン化銀乳剤層
には一重項酸素の消光速度定数が3X107M”・Se
C−1以上の金属錯体およびスルフィド化合物が含有さ
れているハロゲン化銀写真感光材料を提供することによ
って達成される。 一般式[I] Y 式中7は含窒素複素環を形成するに必要な非金属原子群
を表わし、該2により形成される環は置換基を有しても
よい。 Xは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱しうる置換基を表わす。 またRは水素原子または置換基を表わす。 [発明の具体的構成] 以下余白 次に本発明を具体的に説明する。 本発明に係る前記一般式(1) 一般式〔I〕 で表されるマゼンタカプラーに於いて、Zは含窒素複素
環を形成するに必要な非金属原子群を表し、該Zにより
形成される環は置換基を有してもよい。 又は水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱しうる置換基を表す。 またRは水素原子または置換基を表す。 前記R<7)表す置換基としては、例えばノーロデン原
子、フルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シ
クロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ
環基、アシル基、スルホニル基、スルフィニル基、ホス
ホニル基、カルバモイル基、夏ルア7モイル基、シアノ
基、スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シロ
キシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミ
7基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イミド基、
ウレイド基、スルフ7モイルアミノ基、アルコキシカル
ボニル7ミ7基、アリールオキシカルボニルアミ7基、
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基
、アルキルチオ基、717−ルチオ基、ヘテロ環チオ基
が挙げられる。 ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子が挙
げられ、特に塩素原子が好ましい。 Rで表されるアルキル基としては、炭素数1〜32のも
の、アルケニル基、アルキニル基としてはf??数2〜
32のもの、シクロアルキル基、シクロアルケニル基と
しては炭素数3〜12、待に5〜7のものが好ましく、
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基は直鎖でも分
岐でもよい。 虫だ、これらアルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、シクロアルキル基、シクロアルケニル基は置換基〔例
えば7リール、シフ/、ハロゲン原子、ヘテT2環、シ
クロアルキル、シクロアルキル、スピロ化合物残基、有
橋炭化水素化合物残基の他、アシル、カルボキシ、カル
バモイル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカル
ボニルの如くカルボニル基を介して置換するもの、更に
はヘテロ原子を介して置換するもの(具体的にはヒドロ
キシ、アルコキシ、7リールオキシ、ヘテロ環オキシ、
シロキシ、7シルオキシ、カルバモイルオキシ等の酸素
原子を介して置換するもの、ニトロ、アミノ(ジアルキ
ルアミノ等を含む)、スルファモイルアミノ、アルコキ
シカルボニルアミ/、アリールオキシカルボニル7ミノ
、7シルアミノ、スルホンアミド、イミド、ウレイド等
の窒素原子を介して置換するもの、アルキルチオ、アリ
ールチオ、ヘテロ環チオ、スルホニル、スルフィニル、
スルファモイル等の硫黄原子を介して置換するもの、ホ
スホニル等の燐原子を介して置換するもの等)〕を有し
ていてもよい。 具体的には例えばメチル基、エチル基、インプロピル基
、t−ブチル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、1
−へキシルノニル基、1.1’−ノペンチルノニル基、
2−クロル−し−ブチル基、トリフルオロメチル基、1
−エトキシトリデシル基、1−メトキシイソプロピル基
、メタンスルホニルエチルi、2.4−ジ−t−アミル
7エ/キシメチル基、アニリノ基、1−フェニルイソプ
ロピル基、3−Ill−ブタンスルホンアミノフェノキ
シプロビル基、3−4’−(α−(4”(p−ヒドロキ
シベンゼンスルホニル)フェノキシ〕ドデカノイルアミ
/)フェニルプロピル基、3−14’−CQ−(2”、
4”−ジ−t−7ミルフエノキシ)ブタンアミド〕フェ
ニル)−プロピル基、4−[α−(〇−クロルフェノキ
シ)テトラデカンアミドフェノキシ〕プロピル基、7リ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。 Rで表されるアリール基としてはフェニル基が好ましく
、置換基(例えば、アルキル基、アルコキシ基、アシル
アミノ基等)を有していてもよい。 具体的には、フェニル基、4−t−ブチルフェニル基、
2,4−ノーし一7ミルフエニル基、4−テトフデカン
アミドフェニル基、ヘキサデシロキシフェニル基、4′
−〔α−(4”−t−ブチルフェノキシ)テトラデカン
アミド〕フェニル基等が挙げられる。 Rで表されるヘテロ環基としては5〜7貝のものが好ま
しく、置換されていてもよく、又腟合していてもよい、
具体的には2−フリル基、2−チェニル基、2−ビリミ
ノニル基、2−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。 Rで表されるアシル基としては、例えばアセチル基、フ
ェニルアセチル基、ドデカノイル−M、a−2,4−ジ
−t−7ミルフエノキシブタノイル基等のフルキルカル
ボニル基、ベンゾイル基、3−ペンタデシルオキシベン
ソイル基、p−クロルベンゾイル基等の7リールカルボ
ニル基等が挙げられる。 Rで表されるスルホニル基としてはメチルスルホニル基
、ドデシルスルホニル基の如きアルキルスルホニル基、
ベンゼンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基の如
き了り一ルスルホニル基等が挙げられる。 Rで表されるスルフィニル基としては、エチルスルフィ
ニル基、オクチルスルフィニルt3−フェノキシブチル
スルフィニル基の如すアルキルスルフイニル基、フェニ
ルスルフィニルM、m−ベンタテシルフェニルスルフィ
ニル基ノ如!717−ルスルフイニル基等が挙げられる
。 Rで表されるホスホニル基としてはブチルオクチルホス
ホニル基の如きアルキルホスホニル基、オクチルオキシ
ホスホニル基の如きアルコキシホスホニル基、7ヱノキ
シホスホニル基の如き7リールオキンホスホニル基、フ
ェニルホスホニル基の如きアリールホスホニル基等が挙
げられる。 Rで表されるカルバモイル基は、アルキル基、アリール
基(好ましくはフェニル基)等が置換していてもよく、
例えばN−メチルカルバモイル基、N、N−’)プfル
カルバモイル基、N−(2−ペンタデシルオクチルエチ
ル)カルバモイル基、N−エチル−N−ドデシルカルバ
モイルi、N−+3−(2,4−ジ−t−7ミル7エ/
キシ)プロピル)カルバモイル基等が挙げられる。 以下余白 Rで表されるスルファモイル基はアルキル基、了り−ル
基(好ましくはフェニル基)等が置換していてもよく、
例えばN−プロピルスルファモイルi、N、N−ノエチ
ルスル7アモイルi、N−(2−ペンタデシルオキシエ
チル)スルファモイル基、N−エチル−N−ドデシルス
ルファモイル基、N−フェニルスルファモイル基等が挙
げられる。 Rで表されるスピロ化合物残基としては例えばスピロ[
3,3]ヘプタン−1−イル等が挙げられる。 Rで表される有橋炭化化合物残基としては例えばビシク
ロ[2,2,1]ヘプタン−1−イル、トリシクロ[3
,3,1,1’°)]]デカンー1−イル7.7−シメ
チルービシクロ[2,2,1]へブタン−1−イル等が
挙げられる。 Rで表されるアルコキシ基は、更に前記アルキル基への
置換基として挙げたものを置換していてもよく、例えば
メFキシ基、プロポキシ基、2−エトキシエトキシ基、
ペンタデシルオキシ基、2−Fデシルオキシエ)キシ基
、7エ冬チルオキシエトキシ基等が挙げられる。 Rで表される了り一ルオキシ基としては7エ二ルオキシ
が好ましく、アリール核は更に前記7リール基への置換
基又は原子として挙げたもので置換されていてもよく、
例えばフェノキシ基、p−を−ブチルフェノキシ基、ω
−ペンタデシルフェノキシ基等が挙げられる。 Rで表されるヘテロ環オキシ基としては5〜7貝のヘテ
ロ環を有するものが好ましく該ヘテロ環は更に置換基を
有していてもよく、例えば、3゜4.5.6−テトラヒ
ドロビラニル−2−オキシ基、1−フェニルテトラゾー
ル−5−オキシ基が挙げられる。 Rで表されるシロキシ基は、更にアルキル基等で置換さ
れていてもよく、例えば、トリメチルシ、ロキシ基、ト
リエチルシロキシ基、ジメチルブチルシロキシ基等が挙
げられる。 R″′c表されるアシルオキシ基としては、例えばアル
キルカルボニルオキシ基、7リールカルボニルオキシ基
等が挙げられ、更に置換基を有してぃてもよく、具体的
にはアセチルオキシ基、a−クロルアセチルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基等が挙げられる。 RoC表されるカルバモイルオキシ基は、アルキル基、
了り−ル基等が置換していてもよく、例えばN−エチル
カルバモイルオキシ基、N、N−ノエチル力ルバモイル
オキシi、N−フェニルカルバモイルオキシ基等が挙げ
られる。 Rで表されるアミ7基はアルキル基、アリール基(好ま
しくはフェニル基)等で置換されていてもよく、例えば
エチル7ミ/基、アニリノ基、m−クロルアニリ7基、
3−ペンタデシルオキシカルボニルアニリノ基、2−ク
ロル−5−ヘキサデカンアミドアニリ7基等が挙げられ
る。 ′Rで表されるアシルアミ7基としては、アルキルカル
ボニルアミ7基、了り一ルカルボニルアミノ基(好まし
くはフェニルカルボニルアミ7基)等が挙げられ、更に
置換基を有してもよく具体的にはアセトアミド基、a−
エチルプロパンアミド基、N−フェニルアセトアミド基
、ドデカンアミド基、2.4−ジーし−アミルフェノキ
シ7セトアミド基、α−3−t−ブチル4−ヒドロキシ
フェノキシブタンアミド基等が挙げられる。 RoC表されるスルホンアミド基としては、アルキルス
ルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミ7基等が挙
げられ、更に置換基を有してもよい。 具体的にはメチルスルホニルアミ7基、ペンタデシルス
ルホニルアミ7基、ベンゼンスルホンアミド基、p−ト
ルエンスルホンアミド基、2−メトキシ−5−L−7ミ
ルベンゼンスルホンアミド基等が挙げられる。 Rで表されるイミド基Iよ、開鎖状のものでも、環状の
ものでもよく、置換基を有していてもよく、例えばフハ
ク酸イミド基、3−ヘプタデシルコハク酸イミド基、7
タルイミド基、グルタルイミド基等が挙げられる。 R1’表さhるウレイド基は、フルキル基、アリール基
(好ましくはフェニル基)等により置換されていてもよ
く、例えばN−エチルフレイド基、N−メチル−N−デ
シルウレイド基、N7zニルウレイド基、N−、−シリ
ルウレイド基等が挙げられる。 Rで表されるスル7アモイルアミ7基は、アルキル基、
アリール基(好ましくはフェニル基)等で置換されてい
てもよく、例えばN、N−ジブチルスル7アモイルアミ
/i、N−メチルスル7アモイルアミ7基、N−フェニ
ルスル7アモイルアミ7基等が挙げられる。 Rで表されるアルコキシカルボニルアミノ基としては、
更に置換基を有していてもよく、例えばメトキシカルボ
ニルアミフ基、メトキシエトキシカルボニルアミ7基、
オクタデシルオキシカルボニルアミ7基等が挙げられる
。 RoC表されるアリールオキシカルボニルアミ7基は、
置換基を有していてもよく、例えば7エ7キシカルポニ
ルアミ7基、4−メチル7エノキシカルポニルアミ7基
が挙げられる。 Roで表されるアルコキシカルボニル基は更に置換基を
有していてもよく、例えばメトキシカルボニル基、ブチ
ルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、
オクタデシルオキシカルボニル基、エトキシメトキシカ
ルボニルオキシ基、ペンノルオキシカルボニル基等が挙
げらhる。 Rで表されるアリールオキシカルボニル基は更に置換基
を有していてもよく、例えばフェノキシカルボニル基、
p−クロルフェノキシカルボニル基、m−ペンタデシル
オキシフェノキシカルボニル基等が挙げら八る。 Rで表されるアルキルチオ基は、更に置換基を有してい
てもよく、例えば、エチルチオ基、ドデシルチオ基、オ
クタデシルチオ基、7エネチルチオ基、3−フェノキシ
プロピルチオ基が挙げられる。 Rで表されるアリールチオ基はフェニルチオ基が好まし
く更に置換基を有してもよく、例えば7エ、ニルチオ基
、p−ノドキシフェニルチオ基、2−L−オクチルフェ
ニルチオ基、3.−オクタデシルフェニルチオ基、2−
カルボキシフェニルチオ基、p−7セトアミ/フエニル
チオ基等が挙げられる。 Rで表されるヘテロ環チオ基としては、5〜7貝のヘテ
ロ環チオ基が好ましく、更に縮合環を有してもよく、又
置換基を有していてもよい0例えば2−ピリジルチオ基
、2−ベンゾチアゾリルチオ基、2,4−ジ7工/キシ
−1,3,5−)リアゾール−6−チオ基が挙げられる
。 Xの表す発色現像主薬の酸化体との反応により離脱しう
る置換基としては、例えばハロゲン原子(塩素原子、臭
素原子、7ツソ原子等)の他見素原子、酸素原子、硫黄
原子または窒紫原子を介して置換する基が挙げられる。 炭素原子を介して置換する基としては、tルボキシル基
の他例えば一般式 (R,’は前記Rと同義であり、Z′は前記2と同義で
あり、R2’及vR,’は水素原子1、アリール基、ア
ルキル基又はヘテロ環基を表す、)で示さ托る基、ヒド
ロキシメチル基、)17フエニルノfル基が挙げらKる
。 酸素原子を介して置換する基としては例えばアルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、7シルオキ
シ基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、アリ−1しオキシカルボニルオキシ基、アルキル
オキサリルオキシ?ルコキシオキサリルオキシ基が挙げ
られる。 該アルコキシ基は更に置換基を有してもよく、例えば、
エトキシ基、2−フェノキシエトキシ基、2−シアノエ
トキシ基、7エネチルオキシ基、p−クロルベンノルオ
キシ基等が挙げられる。 該アリールオキシ基としては、7エ7キシ基が好ましく
、該アリール基は、更に置換基を有していてもよい.具
体的には7エ7キシ基、3−メチル7エ/キシ基、3−
ドデシルフェノキシ基、4−ノタンスルホン7ミドフエ
ノキシ基、4−CQ−(3′−ペンタデシル7エ7キシ
)ブタンアミド〕7エ/キシ基、ヘキシデシルカルバモ
イルメトキシ基、4−シア/7エ/キシ基、4−メタン
スルホニルフェノキシ基、1−す7チルオキシ基、p−
メトキシ7エ/キシ基等が挙げられる。 該ヘテロ環オキシ基としては、5〜7貝のヘテロ環オキ
シ基が好ましく、縮合環であってもよく、又置換基を有
していてもよい。具体的には、1−フェニルテトラゾリ
ルオキシ基、2−ベンゾチアゾリルオキシ基等が挙げら
れる。 該アシルオキシ基としては、例えばアセトキシ基、ブタ
ノルオキシ基等のフルキルカルボニルオキシ基、シンナ
モイルオキシ基の如きアルケニルカルボニルオキシ基、
ベンゾ・イルオキシ基の如かアリールカルボニルオキシ
基が挙げられる。 該スルホニルオキシ基としては、例えばブタンスルホニ
ルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基が挙げられる。 該アルコキシカルボニルオキシ基としては、例えばエト
キシカルボニルオキシ基、ベンジルオキシカルボニルオ
キシ基が挙げられる。 該アリールオキシカルボニル基としてはフェノキシカル
ボニルオキシ基等が挙げられる。 該アルキルオキサリルオキシ基としては、例えはメチル
オキサリルオキシ基が挙げられる。 該フルコキシオキサリルオキシ基としては、エトキシオ
キサリルオキシ基等が挙げられる。 硫黄原子を介して置換する基としては、例えばアルキル
チオ基、7リールチオ基、ヘテロ環チオ基、フルキルオ
キシチオカルボニルチオ基が挙げられる。 該フルキルチオ基としては、ブチルチオ基、2−シアノ
エチルチオ基、7エネチルチオ基、ベンノルチオ基等が
挙げられる。 該アリールチオ基としてはフェニルチオ基、4−7タン
スルホンアミドフエニルチオ基、4−ドデシル7エネチ
ルチオ基、4−7す7ルオロベンタン7ミド7エネチル
チオ基、4−カルボキシフェニルチオ基、2−エトキシ
−5−t−ブチルフェニルチオ基等が挙げられる。 該ヘテロ環チオ基としては、例えば1−7二二ルー1.
2.3.4−テトラゾリル−5−チオ基、2−ベンゾチ
アゾリルチオ基等が挙げられる。 該フルキルオキシチオカルボニルチオ基としては、ドデ
シルオキシチオカルボニルチオ基等が挙げられる。 上記窒素原子を介して置換する基としては、例  −R
、t えば一般式−N   で示されるものが挙げられアリー
ル基、ヘテロ環基、スルファモイル基、カルバモイル基
、7シル基、スルホニル基、アリールオキシカルボニル
基、アルコキシカルボニル基を表し、R4’とRS’は
結合してヘテロ環を形成してもよい、但しR、/とR5
’が共に水素原子であることはない。 該アルキル基は直鎖でも分岐でもよく、好ましくは、炭
素数1〜22のものである。又、アルキル基は、置換基
を有していてもよく、置換基としては例えばアリール基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルアミ7基、アリールアミ7基
、アシルアミ/基、スルホンアミド基、イミノ基、アシ
ル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、フルキルオキシ
カルボニル7ミ/M、アリールオキシカルボニルアミ7
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ハロ
ゲン原子が挙げられる。 該フルキル基の具体的なものとしては、例えばエチル基
、オキチル基、2−エチルヘキシル基、2−クロルエチ
ル基が挙げられる。 R4′又はR,/で表されるアリール基としては、炭素
数6〜32、待にフェニル基、ナフチル基が好ましく、
該アリール基は、置換基を有してもよく置換基としては
上記R4′又はR1′で表されるアルキル基への置換基
として挙げたもの及びアルキル基が挙げらKる。該アリ
ール基として具体的なものとしては、例えばフェニル基
、1−す7チル基1.4−メチルスルホニルフェニル基
が挙げられる。 R4’又はR5’で表されるヘテロ環基としては5〜6
只のらのが好ましく、縮合環であってもよく、ぽ換基を
有してもよい。具体例としては、2−7リル基、2−キ
ノリル基、2−ピリミノル基、2−ベンゾチアゾリル基
、2−ピリジル基等が挙げられる。 R4’又はR,7で表されるスルファモイル基としては
、N−フルキルスルファモイル基、N、N−ジアルキル
スルファモイル基、N−7リールスル7アモイル基、N
、N−ジアリールスノ咋7アモイル基等が挙げられ、こ
れらのアルキル基及びアリール基は前記アルキル基及び
アリール基について挙げた置換基を有してでいもよい、
スルファモイル基の具体例としては例えばN、N−ジエ
チルスルファモイル基、N−メチルスルファモイル基、
N−ドデシルスル7アモイル基、N−p−)リルスル7
7モイル基が挙げられる。 R4’又はR5’で表されるカルバモイル基としては、
N−フルキルカルバモイル基、’N、N−ノアルキル力
ルパモイル基、N−7リールカルバモイル基、N、N−
ジアリールカルバモイル基等が挙げられ、これらのアル
キル基及びアリール基は前記アルキル基及びアリール基
について挙げた置換基を有していてもよい、カルバモイ
ル基の兵体例としでは例えばN、N−ノエチル力ルバモ
イル基、N−メチルカルバモイル基、N−ドデシルカル
バモイルH1N−p−シアノフェニルカルバモイル基、
N−p−)リルカルバモイル基が挙げられる。 R、を又はR5’で表されるアシル基としては、例えば
フルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ
環カルボニル基が挙げられ、該アルキル基、該アリール
基、該ヘテロ環基は置換基を有していでもよい。7シル
基として具体的なものとしては、例えばヘキサフルオロ
ブタノイル基、2゜3.4.5.6−ペンタフルオロベ
ンソイル基、アセチル基、ベンゾイル基、ナフトニル基
、2−7リルカルボニル基等が挙げられる。 R4′又はR5’で表されるスルホニル基としては、ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環
スルホニル基が挙げられ、置換基を有してもよく、具体
的なものとしては例えばエタンスルホニル基、ベンゼン
スルホニル基、オクタンスルホニル基、ナフタレンスル
ホニル基、p−クロルベンゼンスルホニル基等が挙げら
れる。 R4′又はR,Iで表されるアリールオキシカルボニル
基は、前記アリール基について挙げたものを置換基とし
て有してもよく、具体的にはフェノキシカルボニル基等
が挙げられる。 R4’又はR3′で表されるアルコキシカルボニル基は
、前記アルキル基について挙げた置換基を有してもよく
、具体的なものとしてはメトキシカルボニル基、ドデシ
ルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等
が挙げられる。 R1′及びR1′が結合して形成するヘテロ環としては
5〜6貝のものが好ましく、飽和でも、不飽和でもよく
、又、芳香族性を有していても、いなくてもよく、又、
綜合環でもよい。該ヘテロ環としては例えばN−7タル
イミド基、N−コハク酸イミド基、4−N−ウラゾリル
基、1−N−ヒグン)イニル基、3−N−2,4−7オ
キンオキサゾリジニル基、2−N−1,1−ジオキソ−
3−(2H)−オキソ−1,2−ベンズチアゾリル基、
1−ピロリル基、1−ピロリジニル基、1−ピラゾリル
基、1−ピペリジニル基、1−ピペリジニル基、1−ビ
aリニル基、1−イミダゾリル基、1−インドリル基、
1−インドリル基、1−イソインドリニル基、2−イソ
インドリル基、2−イソインドリニル基、1−ベンゾト
リアゾリル基、1−ペンシイミグゾリル基、1−(1,
2,4−)す7ゾリル)基、1−(1,2,3−)リア
ゾリル)基、1−(1,2,3,4−テトラゾリル)基
、N−モルホリニル基、1,2,3.4−テトラヒドロ
キノリル基、2−オキソ−1−ピロリジニル基、2−I
H−ピリドン基、7タラシオン基、2−オキソ−1−ピ
ペリノニル基等が挙げられ、これらヘテロ環基はアルキ
ル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ
基、アシル基、スルホニル基、アルキル7ミ/基、アリ
ールアミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミ7基、カ
ルバモイル6基、スルフ7モイル基、フルキルチオ基、
アリールチオ基、ウレイド基、フルフキジカルボニル基
、7リールオキシカルボニル基、イミド基、ニトロ基、
シフ7基、カルボキシル基、ハロゲン原子等により置換
されていてもよい。 またZ又はZ′により形成される含窒素複素環としては
、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環また
はテトラゾール環等が挙げられ、前記環が有してもよい
置換基としては前記Rについて述べたものが挙げられる
。 又、一般式(1)及び後述の一般式〔…〕〜〔■〕に於
ける複素環上の置換基(例えば−、R1R1〜Re)が 部分くここにR”、X及びZ IIは一般式[I)にお
けるR 、X 、Zと同義である。)を有する場合、所
謂ビス体型カプラーを形成するが勿論本発明に包含され
る。又、z、z’、z”及び後述の21により形成され
る環は、更に他の環(例えば5〜7貝のシクロアルケン
)が組合していてもよい。例えば一般式(V)において
はR9とR6が、一般式C”vl )においてはR,と
R8とか、互いに結合して環(例えぼ5〜7貝のシクロ
アルケン、ベンゼン)を形成してもよい。 以下余白 一般式〔1〕で表されるものは更に具体的には例えば下
記一般式(II)〜〔■〕により表される。 一般式(II) 一般式(Ill) %式% 一般式〔■〕 N −N −NH 一般式(V) 一般式(■) 一般式〔■〕 前記一般式(ff)〜〔■〕に於いてR1〜R,及びX
は前記R及びXと同義である。 又、一般式〔■〕の中でも好ましいのは、下記一般式〔
■〕で表されるものである。 一般式〔■〕 式中R、、X及びZ、は一般式(I)におけるR1X及
VZと同義である。 前記一般式〔ff)〜〔■〕で表されるマゼンタカプラ
ーの中で待に好ましいのものは一般mzzで表されるマ
ゼンタカプラーである。 又、−ff式(1)〜〔■〕における複素環上の置換基
についていえば、一般式(I)においてはRが、また一
般式[n]〜〔■〕においてはR+が下記条件1を満足
する場合が好ましく更に好ましいのは下記条件1及び2
を満足する場合であり、特に好ましいのは下記条件1,
2及び3・を満足する場合である。 条件1 複素環に直結する根元原子が炭素原子である。 条件2 該炭素原子に水素原子が1個だけ結合している
、または全く結合していない。 条件3 該炭素原子と隣接原子との間の結合が全て単結
合である。 前記複素環上の置換基R及びR8として最も好ましいの
は、下記一般式[■]により表されるものである。 一般式(ff) R9 R,、−C− ■ R1+ 式中RIIRIO及びR1,はそれぞれ水素原子、ノ)
ロデン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニ
ル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基
、ヘテロ環基、アシル基、スルホニル基、スルフィニル
基、ホスホニル基、カルノイモイル基、スルフ1モイル
基、シアノ基、スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物
残基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキ
シ基、シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキ
シ基、アミ7基、アシルアミ7基、スルホンアミド基、
イミド基、ウレイド基、スル7アモイルアミ7基、アル
コキシカルボニルアミ7基、アリールオキシカルボニル
アミ7基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ
環チオ基を表し、R口。 RIG及びR31の少なくと62つは水素原子ではなり
1 。 又、前記Rg、R,。及びRIIの中の2つ例えばR9
とR7゜は結合して飽和又は不飽和の環(例えばジクロ
フルカン、シクロアルケン、ヘテロ環)を形成してもよ
く、更に該環にRIIが結合して有橋炭化水素化合物残
基を構成してもよい。 R、+ R、、により表される基は置換基を有してもよ
く、R9〜RIIにより表される基の具体例及び該基が
有してもよい置換基としては、前述の一般式[1]にお
けるRが表す基の具体例及び置換基が挙げられる。 又、例えばR9とR8゜が結合して形成する環及びR9
〜RIIにより形成される有橋炭化水素化合物残基の具
体例及びその有してもよい置換基としては、前述の一般
式(1)におけるRが表すシクロアルキル、シクロアル
ケニル、ヘテロ環基有橋炭化水素化合物残基の具体例及
びその置換基が挙げられる。 一般式(ff)の中でも好ましいのは、(+)R嘗〜R
1+の中の2つがアルキル基の場合、(ii)R*〜R
1+の中の1つ例えばR1+が水素原子であって、他の
2つR5とR1゜が結合して根元炭素原子と共にシクロ
アルキルを形成する場合、 である。 更に(i)の中でも好ましいのは、R,〜R11の中の
2つがアルキル基であって、他の1つが水素原子または
アルキル基の場合である。 ここに該アルキル、該シクロアルキルは更に置換基を有
してもよく該アルキル、該シクロアルキル及びその置換
基の具体例としては前記一般式[I)におけるRが表す
アルキル、シクロアルキル及びその置換基の具体例が挙
げられる。 又、一般式[I)におけるZにより形成される環及び一
般式〔■〕におけるZIにより形成される環が有しても
よい置換基、並びに一般式(It)〜(VI)における
R2−R8としては下記一般式〔X〕で表されるものが
好ましい。 一般式(X) −R1−3o□−R2 式中R’はアルキレンを、R2はアルキル、ジクロフル
キルまたはアリールを表す。 R1で示されるアルキレンは好ましくは直鎖部分の炭素
数が2以上、より好ましくは3なり1シロであり、直鎖
1分岐を問わない、またこのアlレキレンは置換基を有
してもより1゜ 該置換基の例としては、前述の一般式[1)におけるR
がアルキル基の場合該アルキル基が有してもよい置換基
として示したものが挙げられる。 rfi換基として好ましいものとしてはフェニルが挙げ
られる。 R1で示されるアルキレンの、好ましし1共体例を以下
に示す。 R2で示されるアルキル基は直鎖2分岐を問わなし1゜ 具体的にはメチル、エチル、プロピル、1so−プロピ
ル、ブチル、2−エチルヘキシル、オクチル、ドデシル
、テトラデシル、ヘキサデシル、オフタグシル、2−へ
キシルデシルなどが挙げられる。 R2で示されるシクロアルキル基としては5〜6貝のら
のが好ましく、例えばシクロヘキシルが挙げられる。 R2で示されるアルキル、シクロアルキルは置換基を有
してもよく、その例としては、前述のR’への置換基と
して例示したものが挙げられる。 R2で示されるアリールとしては具体的には、フェニル
、ナフチルが挙げられる。該アリール基は置換基を有し
てもよい。該置換基としては例えば直鎖ないし分岐のア
ルキルの他、前述のR1への置換基として例示したもの
が挙げられる。 また、置換基が2個以上ある場合それらの置換基は、同
一であっても異なっていてもよい。 一般式(Ilで表される化合物の中でも特に好ましいの
は、下記一般式(XI)で表されるものである。 一般式は〕 式中、R,Xは一般式(I)におけるR、Xと同義であ
りR’、R2は、一般式(X)におけるR I。 R2と同義である。 以下に本発明に用いられる化合物の具体例を示す。 以下余白 C12](25 「 Clヨ rl+ CH。 10     ′ CH。 [I。 2n5 以下余白 CH。 C)13 CH。 CtH+ s 5Ht C2)+5 CHl CH。 [I+。 C8゜ [I。 C,+1.S CHz                      
  しdl+フ(t)CH3 CH。 CH。 0CR2CONI[II□CH20CH30[I’12
C)I2So□Clコ 2H5 Js CH3 2t15 CH3 [I(3 QC2H。 C)13 CH。 [IIHI7(t) C11゜ L CHl CHI               LsH+7(t
)CH。 CH。 C?H15 13フ 1f3c  CH3 16フ 1フ4 N N −N□間 また前記カプラーはジャーナル・オプ・ザ・ケミカル・
ソサイアティ′(Journal of  theCh
e+n1cal  S ociety) 、 t<−キ
ン(P erkin)  I(1977) 、 204
7〜2052、米国特許3,725,067号、特開昭
59−99437号、同58−42045号、同59−
162548号、同59−171956号、同60−3
3552号、同60−43659号、同60−1729
82号及び同60−190779号等を参考にして合成
することができる。 本発明のカプラーは通常ハロゲン化銀1モル当りlXl
0−’モル−1モル、好ましくはlXl0−’モル〜8
X10−’モルの範囲で用いることができる。 また本発明のカプラーは他の種類のマゼンタカプラーと
併用することもできる。 以下余白 本発明に係わる金属錯体は、−単項酸素の消光速度定数
が3X10’M−1・5ec−’以上の金属錯体である
。 上記−徂項酸素の消光速度定数はジャーナル・オブ・フ
ィジカル・ケミストリー(J ournal ofPh
ysical Chemistry) 83. 591
 (1979)等に記載されているルブレンの光退色を
測定する方法により決定される。 すなわち、ルブレンのクロロホルム溶液およびルブレン
と被測定化合物を混合したクロロホルム溶液に等エネル
ギーの光を照射する。 この時のルブレンの初期濃度を[R]とし、被測定化合
物の濃度を[Q]とし、試験後のルブレン単独溶液のル
ブレンの濃度を[R]、とし、試験後のルブレンと被測
定化合物の混合溶液のルブレンの濃度を[R]:  と
すると、−単項酸素の消光速度定数(kQ)は によって口出される。 本発明に係る金属錯体は、上式で定義される一重項酸素
の消光速度定数が3X10”M−1・5ec−’以上で
あるが、好ましくは1x1oav−+・5eC−’以上
の消光速度定数を有する化合物である。また金属錯体の
中心金属は、遷移金属である事が好ましく、更に好まし
くは、Fe、Co、Ni、Pa。 Ptの各金属原子であり、特に好ましくは、Ni金属原
子である。 本発明に係る一重項酸素の消光速度定数が3×107M
−1・5ec−+以上の金属錯体としては、下記一般式
[XI]〜[XV]で示されるものが好ましい。 以下余白 一般式[XII] 一般式[XI[[] O ↓ 一般式[XrV] [一般式[X■]、一般式[XII[]および一般式[
XIV]において、Mは金属原子を表わす。 X’J:(よびX2は、それぞれ酸素原子、イオーク原
子または−NR’ −(R7は水素原子、アルキル基、
アリール基またはヒドロキシル基を表わず)を表わす。 ×3はヒドロキシル基またはメルカプト基を表わす。Y
は酸素原子またはイオウ原子を表わす。R3、R4、R
5およびR6は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、シ
アノ基または直接もしくは2価の連結基を介して炭素原
子に結合するアルキル基、アリール基、シクロアルキル
基もしくは複素環基を表わす。またR3とR4およびR
5とR6の組合せの少なくとも1つは、互いに連結して
結合する炭素原子と共に5員または6員の環を形成して
もよい。 Zo は、Mに配位可能な化合物もしくはその残基を表
わす。 以下余白 一般式[XV] [式中R2+、R22、R23及びR2+はそれぞれ水
素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基または
直接もしくは2価の連結基を介して間接的にベンゼン環
上の炭素原子に結合するアルキル基、アリール基、シク
ロアルキル基もしくは複素環基を表わす。またR2+と
R22、R22とR23またはR23とR24とが互い
に結合して6員環を形成してもよい。 R25は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表
わす。Aは水素原子、アルキル基、アリール基又はヒド
ロキシ基を表わす。Mは金罵原子を表わす。] 前記一般式[X■]、一般式[XI[Iコ及び一般式[
XIV]のXl及びX2は互に同じでも異なっていでも
よいが、それぞれ酸素原子、イオウ原子または−NR?
 −(R’は水素原子、アルキル基(例えばメチル基、
エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチ
ル基、
【−ブチル基、i−ブチル基、ベンジル基等)、
アリール基(例えばフェニル基、トリル基、ナフチル基
等)またはヒドロキシル基を表わす。)を表すし、好ま
しくは酸素原子またはイオウ原子であり、更に好ましく
は酸素原子である。 一般式[XrV]の×3は、ヒドロキシル基またはメル
カプト基を表わすが、好ましくはヒドロキシル基である
。 一般式[XI[]、一般式[XIII]および一般式[
X IV ] (7) Y Get、(一般式[XrV
]k−eイテハ2個存在するYが互いに同じでも異−な
っていてもよい)酸素原子またはイオウ原子を表わすが
、好ましくはイオウ原子である。 一般式[Xnl、一般式[XnI]および一般式[XI
V] (7)R3、R4、R5およびR6はMいに:同
じであっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン
原子(フッ素、塩素、臭素、沃素)、シアノ基、直接ま
たは2価の連結基[例えば−〇−1−S−1−N R”
−](R7′は水素原子、ヒドロキシル基、アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プ
ロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、i−ブチル基
等)、アリール基(例えばフェニル基、トリル基、ナフ
チル基等)等の一価の基を表わす。)、−0CO−1−
CO−1−NHCO−1−〇〇NH−1−COO−1−
8O2NH−1−NH8O2−1−$02−等]を介し
て炭素原子に結合するアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル
基、ドデシル基、ヘキサデシル基等であり、これらのア
ルキル基は直鎮のアルキル基でも分岐のアルキル基でも
よい。)、アリール基(例えばフェニル基、ナフチル基
等)、シクロアルキル基(例えばシクロペンチル基、シ
クロヘキシル基)もしくは複索環基(例えばピリジル基
、イミダゾリル基、フリル基、チェニル基、ピロリル基
、ピロリジニル基、キノリル基、モルホリニル基等)を
表わす。これらのうち、2価の連結基を介して炭素原子
に結合するアルキル基、アリール基、シクロアルキル基
もしくは複素環基が該2価の連結基と共に形成する基と
しては、例えばアルコキシ基(例えばメトキシ基、エト
ギシ基、n−ブチルオキシ基、オクチルオキシ基等の直
鎖または分岐のアルキルオキシ基)、アルコキシカルボ
ニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、n−ヘキサデシルオキシカルボニル基等の直鎖
または分岐のアルキルオキシカルボニル基)、アルキル
カルボニル基(例えばアセチル基、バレリル基、ステア
ロイル基等の直鎖または分岐のアルキルカルボニル基)
、アリールカルボニル基(例えばベンゾイル基等)、ア
ルキルアミノ基(例えばN−n−ブチルアミノ基、N、
N−ジ−n−ブチルアミノ基、N、N−ジ−n−オクチ
ルアミノ基等の直鎖または分岐のアルキルアミノ基)、
アルキルカルバモイル基(例えばn−ブチルカルバモイ
ル基′、n−ドデシルカルバモイル基等の直鎖または分
岐のアルキルカルバモイル ル n−ドデシルスルファモイル基等の直鎖または分岐のア
ルキルスルファモイル基)、アルキルアシルアミノ基(
例えばアセチルアミノ基、バルミトイルアミノ基等の直
鎖または分岐のアルキルカルボニルアミノ基)、アリー
ルオキシ基(例えばフェノキシ基、ナフトキシ基等)、
アリールオキシカルボニル基(例えばフェノキシカルボ
ニル基、ナフトキシカルボニル基等)、アリールアミノ
基(例えばN−フェニルアミノ基、N−フェニル−N−
メチルアミノ基等)、アリールカルバモイル基(例えば
フェニルカルバモイル基等)、アリールスルファモイル
基(例えばフェニルスルファモイル基等)、アリールア
シルアミノWHIIAえはベンゾイルアミノ基等)など
を挙げることができる。 また、一般式[XI[]、一般式[XI[[]および一
般式[XrV]のR3、R4、R5およびR6は、R3
とR4およびR5とR6の組合せの少なくとも1つが互
いに連結して結合する炭素原子と共に5員または6員の
環を形成してもよい。この場合、R3とR4−S−R′
[式中、RおよびR5とR6との組合せの少なくとも1
つが互いに連結して結合する炭素原子と共に形成する5
員または6員の環としては、例えばシクロペンテン環、
シクロヘキセン環、ベンゼン環(但し、このベンゼン環
には縮合ベンゼン環、即ち例えばナフタリン環、アント
ラセン環を包含りる)等の少なくとも1つの不飽和結合
を有する炭化水素環、複素環(例えば含窒素5員または
6員複素環)などが挙げられる。これらの5員または6
員の環が置換基を有する場合、この置換基としては、例
えばハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素、沃素)、シア
ノ基、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、n−ブチル基、n−オクチル基、t−オクチ
ル基、n−ヘキサデシル基等の炭素原子数1〜20個の
直鎖または分岐のアルキル基)、アリール基(例えばフ
ェニル基、ナフチル基等)、アルコキシ基(例えばメト
キシ基、n−ブトキシ基、t−ブトキシ基等の直鎖また
は分岐のアルキルオキシ基)、アリールオキシ基く例え
ばフェノキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば
n−ペンチルオキシカルボニル基、t−ペンチルオキシ
カルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、【−
オクチルオキシカルボニル基等の直鎖または分岐のフル
キルオキシカルボニル基)、アリールオキシカルボニル
基(例えばフェノキシカルボニル基等)、アシル基(例
えばアセチル基、ステアロイル基等の直鎖または分岐の
アルキルカルボニル基等)、アシルアミノ基(例えばア
セトアミド基等の直鎖または分岐のアルキルカルボニル
アミノ基、ベンゾイルアミノ基等のアリールカルボニル
アミ八1、アリールアミノ基(例えばN−フェニルアミ
ノ基等)、アルキルアミノ基(例えばN−n−ブチルア
ミノ基、N,N−ジエチルアミノ基等の直鎖または分岐
のアルキルアミノ基)、カルバモイル基(例えばn−ブ
チルカルバモイル基等の直鎖または分岐のアルキルカル
バモイル基等)、ステアロイル基(例えばN,N−ジ−
n−ブチルスルファモイル基、N−n−ドデシルスルフ
ァモイル基等の直鎖または分岐のアルキルスルファモイ
ル基等)、ス、ルホンアミド基(例えばメチルスルホニ
ルアミン基等の直鎖または分岐のアルキルスルホニルア
ミノ基、フェニルスルホニルアミノ基等のアリールスル
ホニルアミノ基)、スルホニル基(例えばメシル基等の
直鎖または分岐のアルキルスルホニル基、トシル基等の
アリールスルホニル基)、シクロアルキル基(例えばシ
クロヘキシル基等)などを挙げることができる。 一般式[Xn]、一般式[XI[I]および一般式[X
 IV ] ハ好マシクハ、R3、R4、R5およびR
6の表わすアルキル基、アリール基またはR3とR4お
よびR5とR6の組合せの少なくとも1つが互いに連結
して結合する炭素原子と共に5員または6員の環を形成
する場合から選ばれるものであり、更に好ましくは、R
3とR4およびR5とR6の組合せがそれぞれ互いに連
結して結合する炭素原子と共に6員環、特に好ましくは
ベンゼン環を形成する場合である。 また一般式[XI]、一般式[XI[[]および一般式
[XIV]のMは金属原子を表わすが、好ましくは遷移
金属原子であり更に好ましくはニッケル原子、銅原子、
鉄原子、コバルト原子、バラジウ   −ム原子、白金
原子であり、最も好ましくはニッケル原子である。 一般式[XI[[]に於るZo で表わされるMに配位
可能な化合物は好ましくは直鎖または分岐のアルキル基
を有するアルキルアミンであり、特に好ましくはアルキ
ル基の炭素原子数の総和が2〜36個、更には3〜24
個であるジアルキルアミン、トリアルキルアミンであり
、これらの具体例としてはブチルアミン、オクチルアミ
ン(例えば1−オクチルアミン)、ドデシルアミン(例
えばn −ドデシルアミン)、ヘキサデシルアミン、オ
クタツールアミン等のモノアルキルアミン、ジブチルア
ミン、ジブチルアミン、ジオクチルアミン、ジドデシル
アミン、ジェタノールアミン、ジェタノールアミン等の
ジアルキルアミン、およびトリエチルアミン、トリブチ
ルアミン、トリアルキルアミン、トリエタノールアミン
、トリブタノールアミン、トリオクタツールアミン等の
トリアルキルアミン等を挙げることができる。 一般式[XI[コ、一般式[X、Iff]および一般式
[X IV ]で示される本発明に係る金属錯体のより
好ましいものは、下記一般式[Xla]、一般式[XI
[[a ]および一般式[XrValt’示される金属
錯体である。 一般式[XIIal (R目)m       (R12)n一般式[XI[
Ia ] O ↓ (R”)m     (R”)n 一般式[XIVa ] 一般式[XIIal、一般式[XI[[a]および一般
式[XIva]において、M、X’、X2、X3Yおよ
びZ は、それぞれ前記と同義である。 一般式[XI[a]、一般式[XI[[a ]および一
般式[XIva]において、R11、R12、R13、
R+4はそれぞれアルギル基(例えばメチル基、エチル
基、n−プロピル基、ローブチル基、n−オクチル基、
【−オクチル基、n−ヘキサデシル基等の炭素原子数1
〜20個の直鎖または分岐のアルキル基)、アリール基
(例えばフェニル基、ナフチル基等)、アルコキシ基(
例えばメトキシ基、n−ブトキシ基、t−ブトキシ基等
の直鎖または分岐のアルキルオキシ基)、アリールオキ
シ基(例えばフェノキシ基等)、アルコキシカルボニル
基(例えばn−ペンチルオキシカルボニル基、t−ペン
チルオキシカルボニル オキシカルボニル基、t−オクチルオキシカルボニル ボニル基)、アリールオキシカルボニル基(例えばフェ
ノキシカルボニル基等)、アシル雄(例えばアセチル基
、ステアロイル基等の直鎖または分岐のアルキルカルボ
ニル基等)、アシルアミノ基(例えばアセトアミド基等
の直鎖または分岐のアルキルカルボニルアミノ基、ベン
ゾイルアミノ基等のアリールスルホニルアミム1、アリ
ールアミノ基(例えばN−フェニルアミノ基等)、アル
キルアミノ基(例えばN−n−ブチルアミノ基、N.N
−ジエチルアミノ基等の直鎖または分岐のアルキルアミ
ノ基)、カルバモイル ープチルカルバモイル基等の直鎖または分岐のアルキル
カルバモイル基等)゛、スルファモイル基(例えばN.
N−ジ−n−ブチルスルファモイル基、N−n−ドデシ
ルスルファモイル基尋の直鎖または分岐のアルキルスル
ファモイル基等)、スルホンアミド基(例えばメチルス
ルホニルアミノ基等の直鎖または分岐のアルキルスルホ
ニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基等のアリー
ルスルホニルアミノ基)、スルホニル基(例えばメシル
基等の直鎮または分岐のアルキルスルホニル基、トシル
基等のアリールスルホニル基)またはシクロアルキル基
(例えばシクロヘキシル基等)を表わす。mおよびnは
、それぞれO〜4の整数を表わす。 一般式[XIIa]、[XI[[a ]、[XrVa 
]のうちより好ましい化合物は一般式[XI[[a ]
で示される化合物である。一般式[XIIIa ]で示
される化合物のうち最も好ましい化合物は一般式%式% 一般式[XIIIb ] R1’ R”−N−R17 土 一般式[XI[[b ]においてM,X’、X2、Y。 R ” 、R 12、II N nは前記と同様であり
、R 15、8 16およびR 17は水素原子、アル
キル基(例えばブチル基、オクチル基、ステアリル基な
ど)またはアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基
など)を表わす。但しR+5 、R+6 、R17、の
うち少なくとも二つはアルキル基またはアリール基を表
わす。 以下余白 前記一般式[XV]において、R20R2,、 R2コ
及びR2イで表わされるハロゲン原子は、弗素原子、塩
素原子、臭素原子、沃素原子が挙げられる。 R211 R2□,R2,及びR24で表わされるアル
キル基は、好ましくは炭素数1ないし19のアルキル基
であり、直鎖アルキル基、分岐アルキル基のいずれであ
ってもよく、また置換基を有するものも含む6 R 211 R22+ R21及びR24で表わされる
アリール基は、好ましくは炭素数が6ないし14の7リ
ール基であり、置換基を有するものも含む。 Rz+v R221 R2z及びR24で表わされる複
素環基は、好ましくは5貝環または6貝環であり、置換
基を有するものも含む。 R2□R2□.R2,及びR2,で表わされるシクロア
ルキル基は、好ましくは5貝環基または6貝環基であり
、置換基を有するものら含む。 R21とR2□とが互いに結合して形成される6貝環は
、例えば 等を挙げることができる。 R22とR2,もしくはR2コとR24とが互いに結合
して形成される6貝環は、好ましくはベンゼン環であり
、このベンゼン環は置換基を有するものも含み、また、
結合したものであってもよい。 R211R2□、R23及びR24で表わされるアルキ
ル基としては、例えば、メチ°ル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデ
シル基、オクタデシル基を挙げることができる。 R21g R221R22及びR24で表わされるアリ
ール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基を挙
げることができる。 R2+y Rz2t R23及びR2,で表わされる複
素環基は、好ましくはヘテロ原子として、環中に少なく
とも1個の窒素原子、酸素原子もしくはイオウ原子を含
む5ないし6貝の複素環基であり、例えば、フリル基、
ヒドロフリル基、チェニル基、ビローリル基、ピロリジ
ル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、キ
ノリル基、インドリル基、オキサシリル基、チアゾリル
基等を挙げることができる。 R2+t R2□、R2,及びR24で表わされるシク
ロアルキル基としては、例えば、シクaペンチル基、シ
クロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロヘキサジ
ェニル基等を挙げることができる。 Rz++R2□、R23及びR2,とが互いに結合して
形成される6貝環としては、例えばベンゼン環、ナフタ
レン環、インベンゾチオフェン環、イソベンゾフラン環
、インイントン環等を挙げることができる。 上記のR2+v R2□、R2,及びR24で表わされ
るアルキル基、シクロアルキル基、アリール基または複
素環基は2価の連結基、例えば、オキシ基(−o−)、
チオ基(−s −)、アミ7基、オキシカルボニル基、
カルボニル基、カルバモイル基、スル77モイル基、カ
ルボニルアミ7基、スルホニルアミ7基、スルホニル基
またはカルボニルオキシ基等を介して、ベンゼン環上の
炭素原子に結合してもよく、この中に好ましい基がある
ものもある。 R211R221R2ff及びR24で表わされるアル
キル基が上記の2価の連結基を介してベンゼン環上の炭
素原子に結合している例としては、アルコキシ基(例え
ば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、プロポキシ
基、2−エチルへキシルオキシ基、n−デシルオキシ基
、n−ドデシルオキシ基、またはn−ヘキサデシルオキ
シ基等)、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニ
ル基、n−デシルオキシカルボニル基またはn−ヘキサ
デシルオキシカルボニル基等)、アシル基(例えば、ア
セチル基、バレリル基、ステアロイル基、ベンゾイル基
またはトルオイル基等)、アシルオキシ基(例えばアセ
トキシ基またはヘキサデシルカルボニルオキシ基等)、
アルキルアミ7基(例えば、n−ブチルアミ7基、N、
N−ジエチルアミノ基またはN、N−ノブシルアミノ基
等)、アルキルカルバモイル基(例えば、ブチルカルバ
モイル基、N、N−ジエチルカルバモイル基、またはn
−ドデシルカルバモイル基等)、アルキルスル77モイ
ル基(例えば、ブチルスル77モイルi、N、N−ノエ
チルスル7アモイル基またはn−ドデシルスル77モイ
ル基等)、スルホニルアミ/基(例えば、メチルスルホ
ニルアミノ基、またはブチルスルホニルアミ7基等)、
スルホニル基(例えば、メシル基、またはエタンスルホ
ニル基等)、またはアシルアミノ基(例えば、アセチル
アミ7基、パンリルアミノ基、バルミトイルアミ7基、
ベンゾイルアミ7基またはトルオイルアミノ基等)等を
あげることができる。 R211R22t R:x及びR24で表わされるジク
ロフルキル基が上記の2(il[iの連結基を介して環
上の炭素原子に結合している例としては、シクロへキシ
ルオキシ基、シクロへキシルカルボニル基、シクロヘキ
シルオキシカルボニル基、シクロへキシルアミ7基、シ
クロへキセニル力ルボニル基またはシクロへキセニルオ
キシ基等を挙げることができる。 R28R221R22及びR2,で表わされるアリール
基が上記の2価の連結基を介して環上の炭素原子に結合
している例としては、了り−ルオキシ基(例えば、フェ
ノキシ基またはす7トキシ基等)、7リールオキシカル
ボニル基(例えば、7エ7キシカルボニル基またはす7
トキシカルボニル基等)、アシル基(例えば、ベンゾイ
ル基またはす7トイル基等)、アニリノ基(例えばフェ
ニルアミノ基、N−メチルアニリノ基またはN−7セチ
ルア二り7基等)、アシルオキシ基(例えば、ベンゾイ
ルオキシ基またはトルオイルオキシ基等)、7リールカ
ルバモイル基(例えばフェニルカルバモイル基等)、ア
リールスルファモイル基(例えばフェニルスルファモイ
ル基等)、アリールスルホニルアミノ基(例えば、7ヱ
ニルスルホニルアミノ基、p−トリルスルホニルアミ7
基等)、アリールスルホニル基(例えば、ベンゼンスル
ホニル基、トシル基等)、またはアシルアミ7基(例え
ばベンゾイルアミノ凸等)を挙げることができる。 上記のR2,、R,2,R,、及びR2,で表わされる
アルキル基、アリール基、複素環基、シクロアルキル基
またはR21とR2□、R2□とR23もしくはR23
とR24とが互いに結合して形成される6貝環は、ハロ
ゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子または弗素原子等
)、シアノ基、アルキル基 (例えば、メチル基、エチ
ル基、i−プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサ
デシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、またはメ
トキシエトキシエチル基等)、アリール基(例えば、フ
ェニル基、)+フル基、ナフチル基、クロロフェニル基
、メトキシフェニル基またはアセチル7エ二ル基等)、
アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブト
キシ基、プロポキシ基またはメトキシエトキシ基等)、
アリールオキシ基(例えばフェノキシ基、トリロキシ基
、ナフトキシ基またはメトキシフェノキシ基等)、アル
コキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、
ブトキシカルボニル基または7エ7キシメトキシカルボ
ニル基等)、アリーロキシカルボニル基(例えば、フェ
アキシカルボニル基、トリロキシカルボニル基またはメ
トキシフェノキシカルボニル基等)、アシル基(例えば
、ホルミル基、7セチル基、バレリル基、ステアロイル
基、ベンソイル基、トルオイル基、ナフトイル基または
p−ノドキシベンゾイル基等)、アシルオキシ基(例え
ば、アセトキシ基またはアシルオキシ基等)、アシルア
ミノ基(例えば、アセトアミド基、ベンズ7ミド基、ま
たはメトキシアセトアミド基等)、アニリノ基(例えば
、フェニルアミ7基、N−7チルアニリ7基、N−フェ
ニルアミ7基、またはN−7セチルアニリ7基等)、ア
ルキルアミ/基(例えばn−ブチルアミノ基、N、N−
ジエチルアミ7基、4−メトキシ−n−ブチルアミ7基
等)、カルバモイル基[例えば、n−ブチルカルバモイ
ル基、N、N−クエチルカルバモイル基、n−ブチルス
ルファモイルM、N、N−ノエチルスル77モイル基、
n−ドデシルスルファモイル基、またはN−(4−メト
キシ−n−ブチル)スル77モイル基等]、スルホニル
アミ7基(例えば、メチルスルホニル7ミノ基、フェニ
ルスルホニル74/i、またはメトキシメチルスルホニ
ルアミ7基 等)、またはスルホニル基(例えば、メシ
ル基、トシル基またはメトキシメタンスルホニル基等)
等の基で置換されていてもよい。 R2%及びAで表わされるアルキル基は置換基を有する
ものも含み、直鎖または分岐のいずれであってもよい。 これらのアルキル基は、置換基部分の炭素原子を除いて
、好ましくは炭素数1ないし20のアルキル基であり、
例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テト
ラデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基またはオ
クタデシル基等を挙げることができる。 R25及びAで表わされるアリール基は、置換基を有す
るものも含み、置換基部分の炭素原子を除いて、好まし
くは炭素数6ないし14の7リール基であり、例えば、
フェニル基、トリル基またはす7チル基などを挙げるこ
とができる。又Aを介して、2つの配位子が連結されて
いてもよい。 式中Mは金属原子を表わす。好ましくは遷移金属原子で
ある。さらに好ましくはCu、 C01N 1tPd、
Feまたはptであり、特に好ましくはNiである。A
の好ましい基はヒドロキシ基である。 また、上記した一般式(XV)で表わされる錯体の中で
、好ましく用いられるものは、R2+がオキシ基、チオ
基、カルボニル基を介したアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基または複素環基、ヒドロキシ基またはフ
ッ素であり、R2□、R2,またはR24で表わされる
基の少なくとも1つが水素原子、ヒドロキシ基、アルキ
ル基またはアルコキシ基である。その中でも更に好まし
いものは、R2Sが水素原子であるものであり、R2,
。 R22,R2,またはR24で表わされる基の炭素数の
合計が少なくとも4以上である錯体である。 以下に、本発明に係わる金属錯体の具体例を示すが、本
発明はこれらの化合物に限定されるものではない。 例示金属錯体 H (4)      NH2C8H17(0↓ HC処、SX、CH C H (6)            NH2C8H17■ (7ン                    NH
2Cl2H25↓ (8)       NH2[III H37↓ CgH1〆t)    CaH+y(t)↓ S −Ni −8 (11)          NH2CgHty(t)
↓ 0− Ni −0 ↓ 0− Ni−0 NH(C4HsOH)2 ↓ 0− Ni −0 C8H1メリ  C5Hty(t) (15)NH2C12H25 ↓ −Ni−0 ↓ −NiO ↓ −Ni−O C8H1?(リ   C3H17(t)(21)   
        C2H5H−N−C,H,7 ■ (:8)117      U8 *1v(29)NH
(。8H17)2 NH(C12H2S )2 ■ OC+s)lココ (3つ) tζ 1 ) (52)             C2H5(5つ) CONHCeH,7(iso) /Q Q) (!03) (ios) (116’) /19’l ) (i 35) 以下余白 CH*   CH* 前記一般式[XII]〜[XrV]で表わされる金属錯
体は、英国特許858.890号、ドイツ特許出願公開
2,042,652号等に記載されている方法により合
成することができる。 前記一般式[XV]で表わされる金属錯体は、イー・ジ
ー・コックス、エフ・ダブル・ピンカード、ダブル・ワ
ード口〜およびシー・シー・ウェブスター、ジャーナル
・オブ・ケミカル・ソサイティー(E、 G、 Cox
、 F、 W、 Pinkard、 W。 Wa−rdlaw and K、  C,Webste
r、  J 、  Chem 。 Soc、、 ) 1935. 459に記載されている
方法によって合成することができる。 本発明に係わる金属錯体は、使用する金属錯体の種類お
よび使用するカプラーの種類によっても異なるが、マゼ
ンタカプラー1モルに対して0.1モル〜2モルの範囲
で使用されるのが好ましく、0.5モル〜1モルの範囲
で使用されるのがさらに好ましい。 本発明のマゼンタカプラーおよび金属錯体と組み合わせ
て用いられる本発明のスルフィド化合物は、好ましくは
下記一般式(1)で表わされる。 一般式(1) %式% 式中、R21およびR22はそれぞれアルキル基、シク
ロアルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロ環
基を表わし、R2+とR22は、同一でも異なっていて
もよい。 一般式(1)のR21およびR22で表わされるアルキ
ル基は置換基を有するものも含み、好ましくは炭素数1
〜24のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基
、イソプロピル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル
基、ドデシル基、t−オクチル基等を挙げることができ
る。R21およびR22で表わされるシクロアルキル基
は置換基を有するものも含み、好ましくは、炭素数5〜
24のシクロアルキル基であり、例えばシクロペンチル
基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。 R2+およびR22で表わされるアルケニル基は置換基
を有するものも含み、好ましくは、炭素数3〜24のア
ルケニル基であり、例えばアリル基、2゜4−ペンテジ
ェニル基等を挙げることができる。 R2+およびR22で表わされるアリール基は置換基を
有するものも含み具体例としては、フェニル基、ナフチ
ル基を挙げることができる。 R2+およびR22で表わされるヘテロ環基は、ピリジ
ル基、イミダゾリル基、デトラゾリル基、オキサシリル
基、チアゾリル基、゛ベンゾイミダゾリル暴、オキサシ
リル基、チアゾリル基、ベンツイミダゾリル基、ベンツ
チアゾリル基、ベンツオキサシリル基、ピリミジニル基
、インドリル基、ビロロリル基、ピラゾリル基、プリニ
ル基、キノリル基、イソキサゾリル基、オキサジアゾリ
ル基、デアジアゾリル基、トリアゾリル基、フリル基、
サクシンイミドーイル基などを挙げることができる。 上述のように、R2+およびR22で表わされる各基は
、置換基を有するものも含むが、置換基としては、例え
ばヒドロキシ基、アルコキシ基、アリール基、アシルア
ミノ基、スルホンアミド基、アリールオキシ基、アルキ
ルチオ基、アリールチオ基、カルバモイル基、スルファ
モイル基、スルホニル基、ニトロ基、シアン基、ハロゲ
ン原子、カルボキシル基、アルキルアミノ基、アルコキ
シカルボニル基、アシル基またはアシルオキシ基などを
挙げることができる。 また、置換基がアリール基、例えばフェニル基の場合は
このフェニル基と一緒にスピロインダン環、クロマン環
を形成することができる。 一般式(1)で表わされる化合物のうち、更に好ましく
は下記一般式(2)、(3)、(4)、及び(5a)〜
(5C)で表わされる化合物である。 一般式(2) 式中、R23はアルキル基、アルケニル基、シクロアル
キル基又はアリール基を表わし、R24は水素原子、ア
ルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール
基、ヘテロ環基、アシル基又はスルホニル基を表わし、
R25は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケ
ニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ア
リールアミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
アルコキシカルボニルアミノ基、ウレイド基、ヒト「l
キシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、
スルホニル基、アルコキシカルボニル基、スルファモイ
ル キシ基、スルホ基、ニトロ基、シアムしスルホニル基、
スルファモイル基又はスルフィニル基を表わし、2はO
〜4の整数を表わし、lが2以上のときはR25は同じ
でも異なっていてもよい。 一般式(2)のR23で表わされるアルキル基は置換基
を有するものも含み、好ましくは炭素数1〜24の直鎖
または分岐鎖のアルキル基(例えば、メチル基、エチル
基、イソプロピル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシ
ル基、ドデシル基、t−オクチル基等)であり、またR
23で表わされるアルケニル基は置換基を有するものも
含み、好ましくは炭素数3〜24のアルケニル基(例え
ば、アリル基、2,4−ペンテジェニル基等)であり、
R23で表わされるシクロアルキル基は置換基を有する
ものも含み、好ましくは炭素数5〜24のシクロアルキ
ル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等
)であり、またR23のアリール基は置換基を有するも
のも含み、好ましくはフェニル基、ナフチル基等である
。R23で表わされるこれらの各基の置換基としては、
例えばアルキル基、とドロキシ基、アルコキシ基、アリ
ール基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アリール
オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルバモ
イル基、スルファモイル基、スルホニル基、ニトロ基、
シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アミノ基、
アリールアミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシカル
ボニル はアシルオキシ基などを挙げることができる。 R 23のこれらの基のうち好ましいものは、アルキル
基とアリール基である。 一般式(2)のR24で表わされるアルキル基は、好ま
しくは炭素数1〜24の直鎖または分岐鎖のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、t−
ブチル基、2−エチルヘキシル基、ドデシル基、t−オ
クチル基等)であり、R24のアルケニル基としては、
好ましくは炭素数3〜24のアルケニルM(例えば、ア
リル基、2゜4−ペンテジェニル基等)、またシクロア
ルキル基としては、好ましくは炭素数5〜24のシクロ
アルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロアルキ
ル基等)、アリール基としては、好ましくはフェニル基
、ナフチル基等、ヘテロ環基としては、例えば、ピリジ
ル基、イミダゾリル基、テトラゾリル基、オキサシリル
基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、オキサシリ
ル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンツチ
アゾリル基、ベンツオキサシリル基、ピリミジニル基、
インドリル基、ビロロリル基、ピラゾリル基、プリニル
基、キノリル基、イソオキサシリル基、オキサジアゾリ
ル基、チアジアゾリル基、トリアゾリル基、フリル基、
サクシンイミドーイル基等、アシル基としては例えば、
アセチル基、ベンゾイル基等、スルホニル基としては、
例えばメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等を
挙げることができる。R24で表わされるこれらの基は
置換基を有するものも含み、置換基の例としてはR23
のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリ
ール基が有することのできる置換基として述べたものと
同様の置換基があげられる。 R24で表わされる基のうち特に好ましいものは、水素
原子とアルキル基である。 一般式(2)のR25で表わされる各基のうち、ハロゲ
ン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原
子等、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、
アリール基としては、例えばR23で述べたものと同じ
もの、アルキルチオ基としては、例えばメチルチオ基、
オクチルチオ基、t−ドデシルチオ基、シクロヘキシル
チオ基、ベンジルチオ基等、アリールチオ基としては、
例えばフェニルチオ基、α−ナフチルチオ基等、アルキ
ルアミノ基としては、例えばメチルアミノ基、ジメチル
アミノ基等、アリールアミノ基としては例えば、アニリ
ノ基等、アシルアミノ基としては例えば、アセチルアミ
ノ基、ベンゾイルアミノ基等、スルホンアミド基として
は例えば、メタンスルホンアミド基、フェニルスルホン
アミド基等、アルコキシカルボニルアミノ基としては例
えば、メトキシカルボニルアミノ基等、ウレイド基とし
ては例えば、メチルウレイド基、フェニルウレイド旦等
、アルコキシ基としては例えば、メトキシ基、ドデシル
オキシ基等、アリールオキシ基としては例えば、フェノ
キシ基、α−ナフトキシ基等、アシル基としては例えば
、アセチル基、ベンゾイル基、サクシンイミドーイル基
等、アルコキシカルボニル基としては例えば、メトキシ
カルボニル基等、カルバモイル基としては例えば、メチ
ルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、フェニル
カルバモイル基等、スルホニル基としては例えば、メタ
ンスルホニルtJJ、ベンゼンスルホニル基等、スルフ
ァモイル基としては例えば、メチルスルファモイル基、
ジメチルカルバモイル基、フェニルスルファモイル基等
、スルフィニル基としては例えば、メタンスルフィニル
基、ベンゼンスルフィニル基等の各基を挙げることがで
きる。 R25で表わされるこれらの基は置換基を有するものも
含み、置換基としてはR23のアルキル基、アルケニル
基、シクロアルキル基、アリール基が有することができ
る置換基として述べたものと同様のものがあげられる。 R25のうち、好ましいものは水素原子、アルキル基、
アルキルチオ基、アルギルアミノ基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシ基である。一般式(2)の−0R24は、−3
R23に対して任意の位置にあることができるが、好ま
しくはオルト位またはバラ位である。 以下余白 一般式(3) 式中、’R26はアルキル基、アルケニル基、シクロア
ルキル基、アリール基を表わし、R27は水素原子、ア
ルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、ヘテロ環
基又はアシル基を表わし、R28は水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルア
ミノ基、アシルアミノ基又はスルホンアミド基を表わし
、mは1から6の整数を表わす。 一般式(3)のR26およびR27で表わされるアルキ
ル基としては、好ましくは炭素数1〜24の直鎖または
分岐鎖のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、イ
ソプロピル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基、
ドデシル基、t−オクチル基、ベンジル基、フェニルエ
チル基等)、アルケニル基としては、好ましくは炭素数
3〜24のアルケニル基(例えば、アリル基、2.4−
ペンテジェニル基等)、シクロアルキル基としては好ま
しくは炭素数5〜24のシクロアルキル基(例えば、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アリール基と
しては例えば、フェニル基、ナフチル基等、R27で表
わされるヘテロ環基としては例えば、ピリジル基、イミ
ダゾリル基、テトラゾリル基、オキサシリル基、チアゾ
リル基、ベンゾイミダゾリル基、オキサシリル基、チア
ゾリル基、ベンツチアゾリル基、ベンツオキサシリル基
、ピリミジニル基、インドリル基、ピラゾリル基、ピラ
ゾリル基、プリニル基、キノリル基、イソオキサシリル
基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、トリアゾ
リル基、フリル基、サクシンイミドーイル基等、R27
で表わされるアシル基としては例えばアセチル基、ベン
ゾイル基等を挙げることができる。R26及びR27で
表わされるこれらの基は置換基を有するものも含み、置
換基としては例えばアルキル基、ヒドロキシ基、アルコ
キシ基、アリール基、アシルアミムLスルホンアミド基
、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基
、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、
ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル アルキルアミノ シル基またはアシルオキシ基などを挙げることができる
。 R26で表わされる基のうち、好ましいものはアルキル
基およびアリール基であり、R27で表わされる基のう
ち好ましいものは水素原子、およびアルキル基である。 一般式(3)のR 28で表わされる基のうちハロゲン
原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子
等、アルキル基、アリール基としてはR26およびR2
7で述べたと同義のアルキル基およびアリール基、アル
コキシ基としては例えば、メトキシ基、ドデシルオキシ
基、ベンジルオキシ基等、アルキルチオ基としては例え
ばメチルチオ基、オクチルチオ基、t@−ドデシル基、
ベンジルチオ基等、アリールチオ基としては、例えばフ
ェニルチオ基、α−ナフチルチオ基等、アルキルアミノ
基としては、例えばメチルアミノ基、ジブチルアミン基
等、アシルアミノ基としては、例えばアセチルアミノ基
、ベンゾイルアミノ基、サクシンイミドーイル基等、ス
ルホンアミド基としては、例えばメタンスルホンアミド
基、ベンゼンスルホンアミド基等を挙げることができる
。これらの基は置換基を有するものも含み、置換基とし
ては、例えばアルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基
、アリール基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ア
リールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カ
ルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ニト
ロ基、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アミ
ン基、アリールアミノ基、アルキルアミノ シル基またはアシルオキシ基などを挙げることができる
。 R28で表わされる基のうち、好ましいものは水素原子
、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキ
シ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基である。 mが2以上のとき、R28は同一でも異なっていてもよ
い。mは好ましくは1または2である。 一般式(3)の−5R26と一0R27は任意の位置関
係にあることができるが、好ましくは次の(イ)〜(ハ
)の位置関係である。 くイ) (ハ) 一般式(4) 式中、R29はアルキル基又はアリール基を表わし、R
30はアルキル基、アリール基、アルキルアミノ基、ア
リールアミン基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
アルコキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アルキル
チオ基又はアリールチオ基を表わし、R3+およびR3
2はそれぞれアルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
ル基、アリール基又はヘテロ環基を表わす。 一般式(4)のR29で表わされるアルキル基としては
好ましくは、炭素数1〜24の直鎖または分岐鎖のアル
キル基(例えば、メチル基、エチル基、イソブOビル基
、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基、ドデシル基、
t−オクチル基、シクロヘキシル基等)、アリール基と
しては例えば、フェニル基、ナフチル基等を挙げること
ができる。 これらの各具体的に挙げた基は、さらに置換基を有する
こともでき、置換基としては、例えばアルキル基、ヒド
ロキシ基、アルコキシ基、アリール基、アシルアミノ基
、スルホンアミド基、アリールオキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、カルバモイル基、スルファモイル
基、スル小ニル基、二l−[I W、シアノ基、ハロゲ
ン原子、カルボキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基
、アリールアミノ基、アルコキシカルボニル基、アシル
基またはアシルオキシ基などが挙げられる。 R29で表わされる基のうち特に好ましいものはアリー
ル基である。 一般式(4)のR3oで表わされるアルキル基およびア
リール基としてはR29で述べたと同義のアルキル基お
よび、アリール基が挙げられる。またR30で表わされ
るアルキルアミノ基としては、例えば、メヂルアミノ基
、ジエチルアミノ基等、アリールアミノ基としては例え
ば、フェニルアミノ基、α−ナフチルアミ1ノ基等、ア
シルアミノ基としては例えば、アセチルアミノ基、ベン
ゾイルアミノ基等、スルホンアミド基としては例えば、
メタンスル小ンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等
、アルコキシ基としては例えば、エトキシ基、ドデシル
オキシ基等、アルキルオキシカルボニル基としては例え
ば、メトキシカルボニル基、t−オクタデシルオキシカ
ルボニル基等、アルキルチオ基としては例えば、メチル
チオ基、ドデシルチオ基等、アリールチオ基としては例
えば、フェニルチオ基、α−ナノチルチオ基等を具体的
に挙げることができる。これらの基は、置換基を有する
ものを含む。置換基としてはR29のアルキル基および
アリール基が有することのできる置換基として述べたも
のと同様のものがあげられる。 R30の塁のうち好ましいものは、アルキル基、アルキ
ルアミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、アル
コキシ基、アルキルチオ基である。 一般式(4)のR3+およびR32で表わされるアルキ
ル基は好ましくは炭素数1〜24の直鎮または分岐鎖の
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、イソプロピ
ル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基、ドデシル
基、t−オクチル基、ベンジル基、フェニルエチル基等
であり、またアルケニル基は、好ましくは炭素数3〜2
4のアルケニル基(例えば、アリル基、2.4−ペンテ
ジェニル基等)、シクロアルキル基は好ましくは炭素¥
15〜24のシクロアルキル基(例えば、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基等)、アリール基は好ましくは
フェニル基、ナフチル基等である。 またR3+およびR32で表わされるヘテr:Jm M
としては例えばピリジル基、イミダゾリル基、テトラゾ
リル基、オキサシリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダ
ゾリル基、オキサシリル基、チアゾリル基、ベンツチア
ゾリル基、ベンツオキサシリル基、ピリミジニル基、イ
ンドリル基、ビロロリル基、ピラゾリル基、プリニル基
、キノリル基、イソオキサシリル基、オキサジアゾリル
基、チアジアゾリル基、トリアゾリル基、フリル基、サ
クシンイミドーイル基等を具体的に挙げることができる
。 R31およびR32で表わされるこれらの基は置換基を
有するものを含む。置換基としてはR29のアルキル基
、アリール基が有することのできる置換基として述べた
ものと同様のものがあげられる。 R31のうち、特に好ましいものは、アルキル基、アリ
ール基であり、R32のうち特に好ましいのはアルキル
基である。 一般式(5a) 一般式(5b) (バコ5)に 一般式(5C) 式中、R33およびR34はそれ゛ぞれアルキル基、シ
クロアルキル基、アルケニル基1、アリール基、または
ヘテロ環基を表わし、pおよびqは0から4までの整数
を表わし、但しpおよびqは共にOになることはない。 pおよびqがそれぞれ2から4までの整数の場合R33
および/又はR34は同−又は異なっていてもよい。R
35およびR36は水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルキルアミノ基、
アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホ基又はカル
ボキシル基を表わし、kおよびlは0から3までの整数
を表わし、kおよびqがそれぞれ2以上の場合R35お
よび/又はR36は同一でも異なっていてもよい。R3
7、R311、RasおよびR40は、それぞれ水素原
子又はアルキル基を表わす。 一般式(5a ) 〜(5c )のR23およびR2+
で表わされるアルキル基は、好ましくは炭素数1〜24
の直鎖または分岐鎖のアルキル基(例えば、メチル基、
エチル基、イソプロピル基、(−ブチル基、2−エチル
ヘキシル基、ドデシル基、【−オクチル基、ベンジル基
、フェニルエチル基、アリル基、2.4−ペンテジェニ
ル基、シクロベンプル基、シクロヘキシル基等)、アリ
ール基は好ましくはフェニル基、ナフチル基等であり、
またR23およびR24で表わされるヘテロ原基として
は例えば、ピリジル基、イミダゾリル基、テトラゾリル
基、オキサシリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリ
ル基、オキサシリル基、チアゾリル基、ベンツチアゾリ
ル基、ベンツオキサシリル基、ごリミジニル基、インド
リル基、ビロロリル基、ピラゾリル基、プリニル基、キ
ノリル基、イソオキサシリル基、オキサジアゾリル基、
チアジアゾリル基、トリアゾリル基、フリル基、サクシ
ンイミド〜イル基等、アシル基としては例えば、アセチ
ル基、ベンゾイル基等を挙げることができる。 R23およびR24で表わされる基のうちで、好ましい
ものはアルキル基である。 一般式(5a ) 〜(5c )のR35およびR36
で表わされる基のうち、アルキルキは好ましくはR33
およびR34について述べたと同義のアルキル基であり
、アルコキシ基としては例えば、メトキシ基、ドデシル
オキシ基、ベンジルオキシ基等、ハロゲン原子としては
、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等、アルキ
ルアミノ基としては、例えば、メチルアミノ基、ジブチ
ルアミン基等、アシルアミノ基としては、例えば、アセ
チルアミノ基、ベンゾイルアミムしサクシンイミドーイ
ル基等、スルホンアミド基としては例えば、メタンスル
ホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等を挙げるこ
とができる。R3sおよびR36で表わされる基のうち
で、好ましいものは水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基である。 一般式(5C)のR37、Raa、R39およびR40
で表わされるアルキル基は、好ましくは炭素数1〜18
の直鎖または分岐鎖のアルキル基(例えばメチル基、エ
ヂル基、イソプロピル基、t−ブチル基、2−エヂルヘ
キシル基、ドデシル基、1−オクチル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基等)である。 R33〜R40で表わされるこれらの基は、置換基を有
するものも含む。そして置換基としては、例えばアルキ
ル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリール基、アシ
ルアミノ基、スルホンアミド基、アリールオキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、カルバモイル基、スル
フ1モイル基、スルホニル基、ニトロ基、シアノ基、ハ
ロゲン原子、カルボキシル基、アミン基、アリールアミ
ノ基、アルキルアミノ シル基又はアシルオキシ基等を挙げることができる。 以下余白 次に本発明の代表的なスルフィド化合物の具体例を示す
が、これらによって限定されるものではない。 HI−I   C,2H2SSC12H25HI−2 
   (CH3)2CHCH2SCH2CH(CH3)
2HI−3    (CH3)3CSC(CH3)3H
I−4   Cr□H25 S CH2 CH2CH=
 CH2HI−5   N(CH2CH2S[IOH2
1)3I−1 0 HI−11 O2 HI−14   Cl□H25CHCOOC2H5HI
−15 HI −16S (CH2CH2C00[I□H25)
zHI −17S (CH2CH2C00[IJIH3
7)2H3 CH3 HI−30C1□H25SCH2CH2CO2[I(3
HI −31Ct 4 H2S S CH2CH2CO
2C2H5Hl−32C1s N(3r S CHCH
2CO2C4H9CH3 l−34 ■ 一ト O 0C3Ht7 I−7f HI−79 ■ 1oH21 l−87 H3 H3 Cs l(+ y (t) l−9g l−99 l−107 i(I−108 l−110 l−H7 l−112 H3 HI−115 HI−1t6 l−117 [II C0C)(3 ](I−120 l−121 HI−122 l−123 l−124 l−125 l−126 l−127 l−128 l−129 l−130 l−137 3U2し均 HI−132 HI−133 HI−134 HI−13’1 Hl−1360 Hl−137 占12H25 S −C12Hzs(n) HI−1400 b蟲7(。。 HI−1斗I HI Hl−141 HI−1ヰ4          ll−145HI−
x46            HI−147l−14
8 HI−149 HI−150HI−151 HI−152HI−153 HI−154HI−155 l−156 し均 l−157 l−158 HI−+s? l−160 Hr−+6’I l−162 l−163 CH3 l−165 l−166 l−167 HI−168 CH3CN(3 Hl−169 HI−170 HI−17丁 Hl−17Z Hl−174 H3CH3 Hl−177 Hl−178 HI−1751 Hl−180 HI−HH HI−1gZ HI−183HI−184 HI−185HI−186 HI−187HI−188 l−189 HI−19’OHI−19i S (−’t s k’bt HI−192HI−193 HI−19牛 Hl−195 Hl −196 an                     e+
                       ζi
1に             二            
 =一 :I:            :I:HI−202 HI−203 l−204 l−205 l−206 l−207 l−203 )II−209 l−2iQ l−211 l−212 l−215 l−216 l−217 HI−218 HI−219 HI −220 l−221 l−222 l−223 l−224 l−225 l−226 l−227 l−228 HI−229 l−230 l−231 l−232 l−233 HI−234’ HI−23S HI−23に l−237 HI−23ピ HI−23c/ ](I−240 l−24i l−242 l−243 l−244 l−245 l−246 l−247 l−248 l−249 l−250 0U@H17 HI−2!;7 HI−252 HI −253 l−254 l−255 HI −256 Il−25 7HI−25HI−259 l−260 l−261 l−262 l−263 δし121″125 N                    (’J+
1 :I:             :Cニ)−1+ +
−+ :l::i:        ’;D HI−27Q’        HI−271HI−2
7z           HI−273HI−27牛
             HI−275HI−276
HI−27’7 りし81117                  
   (J シ4kigl−278 l−279 l−280 HI−2E?I O2 ぐJ                       
              C’JII 工                     工  
Q C1Cぐ 工              = l−286 l−287 l−288 HIL28? CA’ T−II−292 HI−293 l−294 HI−29ら l−297 l−29g l−299 H3 ](I−300 l−301 l−3Q4 C4H9 l−305 l−306 HI −307 J−I I −30F3 T(I−309 l−310 l−3j2 l−313 l−315 l−31g l−317 均し  しl”13 l−313 HI−31?。 HI−320 HI−327 HI−322 HI −323 l−324 l−325 HI −326 l−327 HI−32g HI −329 l−330 l−331 HI −332 HI−333 IN−334 HI −335 H2Cυ均 l−336 l−337 HI−338 HI−339 HI−34デ HI−347 SC)(3 HI −3S。 l−351 l−357 HI−35R HI−3GO HI−361 l−362 HI−311;3 HI−31;4 Hニー36G8o5 CH3 HI−36& HI−369 HI−377 l−372 HI −375 HI−375’ l−380 l−382 H3 以下に本発明のスルフィド化合物の代表的な合成例を示
すがその他の化合物も同様の反応により容易に合成する
ことができる。 合成例I  Hl−40の合成 (alp−オクチルオキシ−t−オクチルベンゼンの合
成 p−t−オクチルフェノール103.2[Iとオクチル
ブロマイド96.6(]をジメチルホルムアミド400
−に混合し、水酸化す1−リウム22.1gの水50顧
溶液を加え、100℃に加熱して1時間撹拌した。2層
分離した反応液の上層の無色液体145.60  (9
1%)を取り出した。 (b)2−オクチルオキシ−5−t−オクチルフェニル
メルカプタンの合成 p−オクチルオキシ−1−オクチルベンゼン143、3
(lをクロロホルム450mQに溶解し、水浴で0℃に
冷却した。これにクロルスルボン1129.9ij2を
1時間を要して滴下した。滴下後、水浴をはずして1時
間撹拌した後、オキシ塩化リン42戴とジメチルホルム
アミド451Qを加え、2時間加熱還流した。至温まで
冷却した後、氷水500舖に投入し、酢酸エチル500
mQ、を加え酢酸エチル層を分離した。酢酸エチル層を
水洗、乾燥後濃縮すると、黄色粘性液体として2−オク
チルオキルー5−t−オクチルベンゼンスルホニルクロ
ライド188gが得られた。これに氷840g、ついで
1tia酸173顧を加え、80℃に加熱し、撹拌上亜
鉛130gを少しずつ加えた。その後80℃で1時間撹
拌した後、亜鉛を除去し、氷水500 、Q中に投入し
た。酢酸エチル3001Qを加え、酢酸エチル層を抽出
、乾燥後濃縮し、薄黄色液体150.41J(95%)
を得た。このものは精製することなく次の反応に用いた
。 (c)Hl−40の合成 2−オクチルオキシ−5−t−オクブルフェニルメル力
ブタン7gとメタノール301Qにナトリウムメチラー
トの28%メタノール溶液4gとヨウ化メチル3.1g
を加え、2時間浣)半した。2層分離した反応液の下層
を分離し、n−ヘキサンを展開溶媒とするシリカゲルク
ロマトグラフィーにより精製し無色液体3.1g (4
3%)を得た。 これはFDマススペクトル、NMRより同定した。 合成例2HI−223の合成 (a)1−メトキシ−4−ナフタレンスルホニルクロラ
イドの合成 1−メトキシナフタレン26.7(lをクロロホルム1
20舖に溶解し、氷水で0℃に冷却し、これにクロルス
ルホン113.5dを滴下した。滴下後30分撹拌した
後、オキシ塩化リン1s、7v(lとジメチルホルムア
ミド171gを加え、2時間加熱還流した。 空温まで冷却した後、氷水300.IJに投入し、酢酸
エチル2001Qを加え酢酸エチル層を分離した。酢酸
エチル層を水洗、乾燥後、濃縮し、得られた固体をアセ
トニトリルから再結品し、1−メトキシ−4−ナフタレ
ンスルホニルクロライドの30.8(1を得た。 収率71%、mp95〜100℃ (b)1−メトキシ−4−メルカプトナフタレンの合成 1−メトキシ−4−ナフタレンスルホニルクロライド3
0gにエチルアルコール140dと濃塩酸301gを加
え、60℃に加熱し、これに亜鉛209を徐々に加えた
。2時間加熱還流した後、亜鉛を除去し、氷水300t
(2中に投入した。酢酸エチル200mQを加え、酢酸
エチル層を抽出、乾燥後濃縮すると、薄黄色液体17.
5(+  (78,8%)が得られた。このものはN製
することなく次の反応に用いた。 (CLHI −223の合成 1−メトキシ−4−メルカプトナフタレン17.50に
メタノール100顧とナトリウムメチラートの28%メ
タノール溶液18.6(Iを加え、ついでドデシルブロ
マイドの22.9(lを加えて2時間撹拌した。反応液
をi15縮し、これに酢酸エチル2001gと水300
戴を加え、酢酸エチル層を分離し、乾燥後濃縮した。こ
れを酢酸エチルとn−ヘキサンを展開溶媒とするシリカ
ゲルクロマトグラフィーにより精製し無色液17に30
.5g  (92,4%)を得た。 これはFDマススペクトル、NMRにより同定し Iこ
 。 合成例3  Hl−278の合成 (a)3−メチル−4−メチルチオ−1−フェニル−2
−ピラゾリン−5−オンの合成J、 Chem 、 S
oc、 C1970,(3) 、  445−8(En
a)、に記載された方法により合成した。 (b ) l−11−278の合成 3−タブルー4−メブルチオー1−フエニル−2−ピラ
ゾリン−5−オン22. OQにメタノール100舖と
ナトリウムメチラートの28%メタノール溶液20.3
Qを加え、ついでヨウ化メチルis、egを加えて2時
間撹拌した。析出した固体をろ過し、メタノールで洗浄
した。 白色固体17.3(](774% これは、FDマススペクトル、NMRにより同定した。 合成例4l−II−309の合成 6.6′−ジヒドロキシ−4,4,4’ 、4’−テト
ラメチル−2,2′−スピロクロマン0.1モルとブチ
ルブロマイド0.2モルをジメチルホルムアミド100
.、.12にとかし無水炭酸カリ 0.25モルを加え
、60°Cにて3時間加熱反応させる。薄層クロマトグ
ラフにて原料の消失を確認した後、反応液を氷水中に注
ぎ、ローヘキサン100dにて抽出する。n−ヘキサン
層を充分水洗した後乾燥し減圧濃縮する。濃縮残渣をク
ロロホルム1501pに溶かし、0℃にてクロルスルホ
ン酸0.21モルを30分で滴下し1時間0℃にて反応
させる。そめ後更にオキシ塩化リン0.25モルを加え
2時間加熱還流する。冷却後氷水中に注ぎ、酢酸エチル
40(h+12にて抽出する。酢酸エチル層を減圧濃縮
し製塩ti 30 x12とエタノール150ii2の
溶液に溶かし60℃にて亜鉛0.6モルを徐々に加え還
元する。 2時間反応させた後、亜鉛をろ去【)氷水中に注ぎ、酢
酸エチル300 *(lにて抽出する。酢酸エチル層を
充分水洗した後乾燥し減圧濃縮する。濃縮残渣及びブチ
ルブロマイド0.2モルをジメチルホルムアミド100
1112にとかし無水炭酸カリ 0.25モルを加え6
0℃にて3時間反応させる。反応液を氷水中に注ぎ、n
−ヘキサン200uE2にて油出する。n−ヘキサン層
を充分水洗した後乾燥し減圧濃縮する。 残漬をシリカゲルカラムクロマトにて分離精製する。 1−11−309が無色油状物として0.05モル(5
0%)の収量で得られた。 同定はNMRスペクトル、マススペクトルにて確認した
。 純度については液体クロマトグラムにより98%である
ことが判った。 本発明のスルフィド化合物の使用母は、前記一般式[I
]で表わされるマゼンタカプラーに対して5〜400モ
ル%が好ましく、より好ましくは10〜300モル%で
ある。 また、前記の本発明に係わる金属錯体どスルフィド化合
物との併用比率はモル比で1:3〜3:1が好ましい。 以下余白 本発明に係るマゼンタカプラー、金属錯体およびスルフ
ィド化合物等のハロゲン化銀写真感光材料への添加方法
としては、一般的な疎水性化合物の添加方法と同様に、
固体分散法、ラテックス分散法、水中油滴型乳化分散法
等、種々の方法を用いる事ができ、これはカプラー等の
疎水性化合物の化学構造等に応じて適宜選択することが
できる。 水中油滴型乳化分散法は、カプラー等の疎水性化合物を
分散させる種々の方法が適用でき、通常、沸点約150
℃以上の高沸点有i溶媒に、必要に応じて低沸点、及び
または水溶性有機溶媒を併用して溶解し、ゼラチン水溶
液などの親水性バインダー中に撹拌器、ホモジナイザー
、コロイドミル、フロージットミキサー、超音波装置等
の分散手段を用いて、乳化分散した後、目的とする親水
性コロイド層中に添加すればよい。分散液または分散と
同時に低沸点有機溶媒を除去する工程を入れても良い。 高沸点有機溶媒としては、現像主薬の酸化体と反応しな
いフェノール誘導体、フタル酸エステル、リン酸エステ
ル、クエン酸エステル、安息香酸エステル、アルキルア
ミド、脂肪酸エステル、トリメシン酸エステル等の沸点
150℃以上の有機溶媒が用いられる。 本発明にJ3いて、本発明に係る金属錯体およびスルフ
ィド化合物を分散する際に好ましく用いることのできる
高沸点有機溶媒としては、誘電率が6.0以下の化合物
であり、例えば、誘電率6.0以下のフタル酸エステル
、リン酸エステル等のエステル類、有機酸アミド類、ケ
トン類、炭化水素化合物等である。好ましくは誘電率6
.0以下1.9以上で100℃における蒸気圧が0.5
n+mH!+以下の高沸点有機溶媒である。またより好
ましくは、該高沸点有機溶媒中のフタル酸エステル類或
いはリン酸エステル類である。更に該高沸点有は溶媒は
2種以上の渥合物であってもよい。 なお、本発明における誘電率とは、30℃に、l13け
る誘電率を示している。 本発明において有利に用いられるフタル酸エステルとし
ては、下記1般式[a ]で示されるものが挙げられる
。 一般式[a ] 式中、R1およびR2は、それぞれアルキル基、アルケ
ニル基またはアリール基を表わす。但し、R1およびR
2で表わされる基の炭素原子数の総和は8乃至32であ
る。また、より好ましくは炭素原子数の総和が16乃至
24である。 本発明において、前記一般式[a]のR1およびR2で
表わされるアルキル基は、直鎖でも分岐のものでもよく
、例えばブチル基、ペンデル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデ
シル基、ヘキサ1シル基、ヘプタデシル基、オクタデシ
ル基等である。R1およびR2で表わされるアリール基
は、例えばフェニル基、ナフチル基等であり、アルケニ
ル基は、例えばヘキセニル基、ヘプテニル基、オクタデ
セニル基等である。これらのアルキル基、アルケニル基
およびアリール基は、単一もしくは複数の置換基を有し
ていても良く、アルキル基およびアルケニル基の買換基
としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、アリー
ル基、アリールオキシ基、アルケニル基、アルコキシカ
ルボニル基等が挙げられ、アリール基の置換基としては
、例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ア
リール基、アリールオキシ基、アルケニル基、アルコキ
シカルボニル基等を挙げることができる。 本発明において有利に用いられるリン酸エステルとして
は、下記一般式[b ]で示されるものが挙げられる。 一般式[b ] 式中、Ra、R41jよびR5は、それぞれアルキル基
、アルケニル基またはアリール基を表わす。 但し、Ra 、R+およびR5で表わされる炭素原子数
の総和は24乃至54である。 一般式[blのR3、R4およびR5で表わされるアル
キル基は、例えばブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデ
シル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、
ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オ
クタデシル基、ノナデシル基等であり、アリール基とし
ては、例えばフェニル基、ナフチル基等であり、またア
ルケニル基としては、例えばヘキセニル基、ヘプテニル
基、オクタデセニル基等である。 これらのアルキル基、アルケニル基およびアリール基は
、単一もしくは複数の置換基を有していても良い。好ま
しくはR3、R4およびR5はアルキル基であり、例え
ば、2−エチルヘキシル基、n−オクチル基、3.5.
5−トリメチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル
基、5ec−デシル基、5ec−ドデシル基、[−オク
チル基等が挙げられる。 以下に本発明に用いられる有機溶媒の代表的具体側を示
すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 双手余白 例示有機溶媒 「 C2Hs S−12C28S 0CgH+s(+) 0=P−0−C,H,(i) OCsH+i(り 0−c、H+*(n) 0=P−OC5I(+5(n) OC1HIs(n) 0−C,、H,、(i) 0=P  OC+。Hz+(i) 0−01゜H2](i) 0−C,。H2,(n) S−18 S−】9 −2O これらの有機溶媒は、本発明に係る金B錯体およびスル
フィド化合物の総量に対し、一般に5乃至10唖ffi
%の割合で用いられ、好ましくは30乃至80重量%で
ある。なお、本発明に係るマゼンタカプラーは本発明に
係る金几錯体およびスルフィド化合物と同−油滴中に溶
かすことが好ましい。 カプラー等の疎水性化合物を高沸点溶媒単独又は低沸点
溶媒と併用した溶媒に溶かし、81絨的又は超音波を用
いて水中に分散する時の分散助剤として、アニオン性界
面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性
剤を用いる事が出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、例えばカラーネ
ガのネガ及びポジフィルム、ならびにカラー印画紙など
であることができるが、とりわけ直接鑑賞用に供される
カラー印画紙を用いた場合に本発明方法の効果が有効に
発揮される。 このカラー印画紙をはじめとする本発明のハロゲン化銀
写真感光材料は、単色用のものでも多色用のものでも良
い。多色用ハロゲン化銀写真感光月利の場合には、減色
法色再現を行うために、通常は写真用カプラーとして、
マゼンタ、イエロー、及びシアンの各カプラーを含有す
るへロゲン化銀乳剤層ならびに非感光性層が支持体上に
適宜の防散及び層順で積層した構造を有しているが、該
層数及び層順は重点性能、使用目的によって適宜変更し
ても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料が多色カラー感光材
料である場合、具体的な層構成としては、支持体上に、
支持体側より順次、黄色色素画像形成層、中間層、マゼ
ンタ色素画像形成層、中間層、シアン色素画像形成層、
中間層、保護層と配列したものが特に好ましい。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いられるハロゲ
ン化銀乳剤には、ハロゲン化銀としての臭化銀、沃臭化
銀、沃塩化銀、塩臭化銀、及び塩化銀等の通常のハロゲ
ン化銀乳剤に使用される任意のものを用いることができ
る。 本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、酸性法、中性法、アンモニア法のいずれかで得ら
れたものでもよい。該粒子は一時に成長させても良いし
、種粒子をつくった後、成長させても良い。種粒子をつ
くる方法と成長させる方法は同じであっても、異なって
も良い。 ハロゲン化銀乳剤はハライドイオンと銀イオンを同時に
混合しても、いずれか一方が存在1、する中に、他方を
混合してもよい。また、ハロゲン化銀結晶の臨界成長速
度を考慮しつつ、ハライドイオンと銀イオンを混合釜内
のl)H,I)A!+をコントロールしつつ逐次同時に
添加する事により、生成させても良い。成長後にコンバ
ージョン法を用いて、粒子のハロゲン組成を変化させて
も良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤の製造時に、必要に応じてハ
ロゲン化銀溶剤を用いる事により、ハロゲン化銀粒子の
粒子サイズ、粒子の形状、粒子サイズ分布、粒子の成長
速度をコントロール出来る。 本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、粒子を形成する過程及び/又は成長させる過程で
、カドミウム塩、亜鉛端、鉛塩、タリウム塩、イリジウ
ム塩又は錯塩、ロジ1クム塩又は錯塩、鉄塩又は錯塩、
を用いて金属イオンを添加し、粒子内部に及び/又は粒
子表面に包合させる事が出来、また適当な還元的雰囲気
におく事により、粒子内部及び/又は粒子表面に還元増
感核を付与出来る。 本発明のハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀粒子の成長
の終了後に不要な可溶性塩類を除去しても良いし、ある
いは含有させたままで良い。該塩類を除去する場合には
、リサーチ・ディスクロージャー17643号記載の方
法に基づいて行う事が出来る。 本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、内部と表面が均一な層から成っていても良いし、
異なる層から成っても良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、潜像が主として表面に形成されるような粒子であ
っても良く、また主として粒子内部に形成されるような
粒子でも良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、規則的な結晶形を持つものでも良いし、球状や板
状のような変則的な結晶形を持つものでも良い。これら
粒子において、(100)面と(111)面の比率は任
意のものが使用出来る。 又、これら結晶形の複合形を持つものでも良く、様々な
結晶形の粒子が混合されても良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤は、別々に形成した2種以上
のハロゲン化銀乳剤を混合して用いても良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤は、常法により化学増感され
る。即ち、銀イオンと反応できる硫黄を含む化合物や、
活性ゼラチンを用いる硫黄増感法、セレン化合物を用い
るセレン増感法、還元性物質を用いる還元増感法、金そ
の他の貴金属化合物を用いる貴金属増感法などを単独又
は組み合わせて用いる事が出来る。 本発明のハロゲン化銀乳剤は、写真業界において増感色
素として知られている色素を用いて、所望の波長域に光
学的に増感出来る。増感色素は単独で用いても良いが、
2種以上を組み合わせて用いても良い。増感色素と共に
それ自身分光増感作用を持たない色素、あるいは可視光
を実質的に吸収しない化合物であって、増感色素の増感
作用を強める強色増感剤を乳剤中に含有させても良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤には、感光材料の製造工程、
保存中、あるいは写真処理中のカブリの防止及び/又は
写真性能を安定に保つ事を目的として、化学熟成中、及
び/又は化学熟成の終了時、及び/又は化学熟成の終了
後、ハロゲン化銀乳剤を塗布するまでに、写真業界にお
いてカブリ防止剤又は安定剤として知られている化合物
を加える事が出来る。 本発明のハロゲン化銀乳剤のバインダー(又は保護コロ
イド)としては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、
それ以外にゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子のグ
ラフトポリマー、蛋白質、糖誘導体、セルロース誘導体
、単一あるいは共重合体の如き合成親水性高分子物質等
の親水性コロイドも用いる事が出来゛る。 本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料の写真乳剤
層、その伯の親水性コロイド層は、バインダー(又は保
護コロイド)分子を架橋させ、膜強度を高める硬膜剤を
単独又は併用することにより硬膜される。硬膜剤は、処
理液中に硬膜剤を加える必要がない程度に、感光材料を
硬膜出来る塔添加する事が望ましいが、処理液中に硬膜
剤を加える事も可能である。 本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料のハロゲン
化銀乳剤層及び/又は他の親水性コロイド層の柔軟性を
高める目的で可塑剤を添加出来る。 本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料の写真乳剤
層その池の親水性コロイド層に寸度安定性の改良などを
目的として、水不溶又は難溶性合成ポリマーの分散](
ラテックス)を含む事が出来る。 本発明のハロゲン化銀カラー写真感光材料の乳剤層には
、発色現像処理において、芳香族第1級アミン現象剤(
例えばp−フェニレンジアミン誘導体や、アミンフェノ
ール誘導体など)の酸化体とカップリング反応を行い色
素を形成する色素形成カプラーが用いられる。該色素形
成カプラーは、各々の乳剤層に対して乳剤層の感光スペ
クトル光を吸収する色素が形成されるように選択される
のが酋通であり、青色光感光性乳剤層にはイエロー色索
形成カプラーが、緑色光感光性乳剤層にはマゼンタ色素
形成カプラーが、赤色光感光性乳剤層にはシアン色素形
成カプラーが用いられる。しかしながら目的に応じて上
記組み合わせと異なった用い方でハロゲン化銀カラー写
真感光材料をつくっても良い。 本発明に用いられるシアン色素形成カプラーとしては、
フェノール系、ナフトール系の4当量もしくは2当但型
シアン色素形成カプラーが代表的であり、その具体例は
米国特許第2,306,410号、同第2,356,4
75号、同第2,362,598号、同第2,367、
531号、同第2,369,929号、同第2,423
,730号、同第2,474,293号、同第2,47
6.008号、同第2.498、466号、同第2.5
45.687号、同第2.728.660号、同第2,
772,162号、同第2,895,826号、同第2
.976、146号、同第3.002.836号、同第
3,419,390号、同第3,446,622号、同
第3,476.563号、同第3.737.316号、
同第3.758.308号、同第3.839.044号
、英国特許第478,991号、同第945.542号
、同第1、084.480号、同第1,377.233
号、同第1,388,024号及び同第1,543,0
40号の各明細書、並びに特開昭47−37425号、
同50−10135号、同50−25228号、同50
−112038号、同 50−117422号、同 5
0−130441号、同51−6551号、同51−3
7647号、同51−52828号、同51−1088
41号、同 53−109630号、同54−4823
7号、同54−66129号、同54−131931号
、同55−32071号の各公報などに記載されている
。 さらに本発明のハロゲン化銀乳剤に用いるシアン色素形
成カプラーとしては、下記一般式[C−1]および[C
−2]が好ましい。 一般式[C−”N 乙 式中、R1はアルキル基またはアリール基を表わす。R
2はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基または
複素環基を表わす。R3は水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基またはアルコキシ基を表わす。またR3はR1
と結合して環を形成しても良い。Zは水素原子または芳
香族第1級アミン系発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱可能な基を表わす。 一般式[C−2] ム 式中、R4は炭素原子数1〜4個の直鎖または分岐のア
ルキル基、R5はバラスト基を表わす。 Zは一般式IC−1]の7と同義である。R4の特に好
ましくは炭素原子数2〜4個の直鎖又は分岐のアルキル
基である。 本発明において、一般式[C−1]のR1で表わされる
アルキル基は、直鎖もしくは分岐のものであり、例えば
、メチル基、エチル基、1so−プロピル基、ブチル基
1.ペンチル基、オクチル基、ノニル基、トリデシル基
等であり、またアリール基は、例えばフェニル基、ナフ
チル基等である。 これらのR1で表わされる基は、単一もしくは複数の置
換基を有するものも含み、例えばフェニル基に導入され
る置換基としては、代表的なものにハロゲン原子(例え
ば、フッ素、塩素、臭素等の各原子)、アルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ド
デシル基等)、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、
アルコキシ曇(例えば、メトキシ基、エトキシ基)、ア
ルキルスルホンアミド基(例えば、メチルスルホンアミ
ド基、オクチルスルホンアミド基等)、アリールスルホ
ンアミド基(例えば、フェニルスルホンアミド基、ナフ
チルスルホンアミド基等)、アルキルスルファモイル基
(例えば、ブチルスルファモイル基等)、アリールスル
ファモイル基(例えば、フェニルスルファモイル基等)
、アルキルオキシカルボニル ニル えば、フェニルオキシカルボニル基等)、アミンスルボ
ンアミド基(例えば、N、N−ジメチルアミノスルボン
アミド基等)、アシルアミノ基、カルバモイル基、スル
ボニル基、スルフィニル基、スルホオキシ基、スルホ基
、アリールオキシ基、アルコキシ基、カルボキシル ができる。 これらの置換基は2種以上がフェニル基に導入されてい
ても良い。 R3で表わされるハロゲン原子は、例えば、フッ素、塩
素、臭素等の各原子であり、アルキル基は、例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ドデシル基
等であり、また、アルコキシ基は、例えばメトキシ基、
エトキシ基、プロごルオキシ基、ブトキシ基等である。 R3がR1 と結合して環を形成してもよい。 本発明において前記一般式[C−1]のR2で表わされ
るアルキル基は、例えばメチル基、エチル基、ブチル基
、ヘキシル基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘプタ
デシル基、フッ素原子で置換された、いわゆるポリフル
オロアルキル基などである。 R2で表わされるアリール基は、例えばフェニル基、ナ
フチル基であり、好ましくはフェニル基、である。R2
で表わされる複素環基は、例えばピリジル基、7ラン基
等である。R2で表わされるシクロアルキル基は、例え
ば、シクロアルキル基、シクロヘキシル基等である。こ
れらのR2で表わされる基は、単一もしくは複数の置換
基を有するものも含み、例えば、フェニル基に導入され
る置換基としては、代表的なものにハロゲン原子(例え
ばフッ素、塩素、臭素等の各原子)、アルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ドデシ
ル基等)、ヒドロキシル基、シアムLニトロ基、アルコ
キシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基等)、アルキル
スルホンアミド基(例えばメチルスルホンアミド基、オ
クチルスルホンアミド基等)、アリールスルホンアミド
基(例えば、フェニルスルホンアミド基、ナフチルスル
ホンアミド基等)、アルキルスルファモイル基(例えば
ブチルスルフ7モイル基等)、アリールスルファモイル
基(例えば、フェニルスルファモイル基等)、アルキル
オキシカルボニル基(例えば、メヂルオキシカルボニル
基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニ
ルオキシカルボニル基等)、アミノスルホンアミド基、
アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホニル基、スル
フィニル基、スルホオキシ基、スルホ基、アリールオキ
シ基、アルコキシ基、カルレボキシル塁、アルキルカル
ボニル基、アリールカルボニル基などを挙げることがで
きる。これらの置換基は2種以上がフェニル基に導入さ
れていても良い。 R2で表わされる好ましい基としては、ポリフルオロア
ルキル基、フェニル基またはハロゲン原子、アルキル基
、アルコキシ基、アルキルスルホンアミド基、アリール
スルホンアミド基、アルキルスルファモイル基、アリー
ルスルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボ
ニル基もしくはシアン基を置換基として1つまたは2つ
以上有するフェニル基である。 本発明において一般式[C−1]で表わされるシアン色
素形成カプラーの好ましくは、下記−・般式[C−3]
で表わされる化合物である。 一般式[C−3] 一般式[C−31において、R6はフェニル基を表わす
。このフェニル基は単一もしくは複数の置換基を有する
ものも含み、導入される置換基としては代表的なものに
ハロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等の各原子)
、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、オクチル基、ドデシル基等)、ヒドロキシ
ル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基(例えばメト
キシ基、エトキシ基等)、アルキルスルホンアミド基(
例えばメチルスルホンアミド基、オクチルスルホンアミ
ド基等)、アリールスルホンアミド基(例えばフェニル
スルホンアミド基、ナフチルスルホンアミド基等)、ア
ルキルスルファモイル基(例えばブチルスルファモイル
基等)、アリールスルファモイル基(例えばフェニルス
ルファモイル基等)、アルキルオキシカルボニル基(例
えばメチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカ
ルボニル基(例えばフェニルオキシカルボニル基等)な
どを挙げることができる。これらの置換基は2種以上が
フェニル基に置換されていても良い。R6で表わされる
好ましい基としては、フェニル基、またはハロゲン原子
(好ましくはフッ素、塩素、臭素の各原子)、アルキル
スルホンアミド基(好ましくは0−メチルスルホンアミ
ド基、p−オクチルスルホンアミド基、0−ドデシルス
ルホンアミド基)、アリールスルホンアミド基(好まし
くはフェニルスルホンアミド基)、アルキルスルファモ
イル基(好ましくはブチルスルファモイル基)、アリー
ルスルファモイル基(好ましくはフェニルスルファモイ
ル基)、アルキル基(好ましくはメチル基、トリフルオ
ロメチル基)、アルコキシ基〈好ましくはメトキシ基、
エトキシ基)を置換基として1つまたは2つ以上有する
フェニル基である。 R7はアルキル基またはアリール基である。アルキル基
またはアリール基は単一もしくは複数の置換基を有する
ものも含み、この置換基としては代表的なものに、ハロ
ゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素等の各原子)、ヒ
ドロキシル基、カルボキシル基、アルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基
、ドデシル基等)、アラルキB、B、シアン基、ニトロ
基、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基)、
アリールオキシ基、アルキルスルボンアミド基(例えば
メチルスルホンアミド基、オクチルスルホンアミド基等
)、アリールスルホンアミド基(例えばフェニルスルホ
ンアミド基、ナフチルスルホンアミド基等)、アルキル
スルファモイル基(例えばブチルスルファモイル基等)
、アリールスルファモイル基(例えばフェニルスルファ
モイル基等)、アルキルオキシカルボニル基(例えばメ
チルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニ
ル基(例えばフェニルオキシカルボニル基等)、アミノ
スルホンアミド基(例えばジメチルアミノスルホンアミ
ド基等)、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ア
ミノカルボニルアミド基、カルバモイル基、スルフィニ
ルどを挙げることができる。これらの置換基は2梗以上
が導入されても良い。 R7で表わされる好ましい基として多ま、nl =0の
どきはアルキル基、n1=1以上のときはアリール基で
ある。R7で表わされているさらに好ましい基としては
、n+=oのときは炭素数1〜22個のアルギル基(好
ましくはブチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
オクチル基,ドデシル基)であり、n1=1以上のとき
はフェニル基、またはアルキル基(好ましくはt−ブチ
ル基、【−アミル基、オクチル基)、アルキルスルホン
アミド基(好ましくはブチルスルホンアミド基、オクチ
ルスルホンアミド基、ドデシルスルホンアミド基)、ア
リールスルホンアミド基(゛好ましくはフェニルスルホ
ンアミド基)、アミノスルホンアミド基(好ましくはジ
メチルアミノスルホンアミド基)、アルキルオキシカル
ボニル くはメチルオキシカルボニル ルボニル基)を置換基として1つまたは2つ以上有する
フェニル基である。 R8はアルキレン基を表わす。直鎖または分岐の炭素原
子数1〜20個、更には炭素原子数1〜12個のアルキ
レン基を表わす。 R9は水素原子またはハロゲン原子(フッ素、塩素、臭
素または沃素等の各原子)を表わす。好ましくは水素原
子である。 nlは0または正の整数であり、好ましくは0または1
である。 x tt − o−、−〇〇−、−COO−、−OCO
−、−S○2NR−、−NR’ SO2NR”−、−S
−、− S O − マタハ− S O 2−基の2価
基を表わす。ここで、R′、R″はアルキル基を表わし
、R’ 、R”はそれぞれ置換基を有するものも含む。 Xの好ましくは、−0−1−S−1−8O−1−3O2
−基である。 Zは一般式[C−1]のZと同義である。 本発明において、前記一般式[C−2]のR4で表わさ
れる炭素原子数1〜4個の直鎖又は分岐のアルキル基は
、例えばエチル基、プロピル基、ブチル基、1so−プ
ロピル基、1so−ブチル基、5CC−ブチル基、或い
はtert−ブチル基であり、これらは置換基を有する
ものも含む装置11A基としてはアシルアミノ基(例え
ばアセチルアミノ基)、アルコキシ基(例えばメトキシ
基)等が挙げられる。 R4は好ましくは炭素数原子数2〜4のアルキル基であ
る。 R5により表わされるバラスト基は、カプラーが適用さ
れる層からカプラーを実質的に他層へ拡散できないよう
にするのに1分なかざばりをカプラー分子に与えるとこ
ろの大きさと形状を有する有機基である。 代表的なバラスト基とじては、全炭素数が8から32の
アルキル基またはアリール基が挙げられる。 これらのアルキル基またはアリール基は置換基を有する
ものも含む。アリール基の置換基としては、例えばアル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基
、カルボキシ基、アシル基、エステル基、ヒドロキシ基
、シアン基、ニトロ基、カルバモイル アミド基、スルフ7モイル基、ハロゲン原子が挙げられ
る。また、アルキル基の置換基としてはアルキル基を除
く前記アリール基に挙げた置換基が挙げられる。 とりわけ該バラスト基として好ましいものは、下記一般
式[C−41で表わされるものである。 一般式[C−4] 一CH−0−Ar R+。 Rloは水素原子または炭素原子数1から12のアルキ
ル基を表わし、Arはフェニル基等のアリール基を表わ
し、このアリール基は置換基を有するものも含む。置換
基としてはアルキル基、ヒドロキシL1、アルキルスル
ホンアミド基等が挙げられるが、最も好ましいものは【
−ブチル基等の分岐のアルキル基である。 一般式[C−1]、[C・−2]および[C−3]にお
いて、それぞれ2で表わされる芳香族第1級アミン系発
色現像主薬の酸化体との反応により離脱可能な基は、当
業者に周知のものであり、カプラーの反応性を改質し、
またはカプラーから離脱して、ハロゲン化銀カラー写真
感光材料中のカプラーを含む塗布層もしくはその他の層
において、現像抑制、漂白抑制、色補正などの機能を果
だずことにより有利に作用するものである。代表的なも
のどしては、例えば塩素、フッ素に代表されるハロゲン
原子、置換・無置換のアルコキシ基、アリールオキシ基
、アリールチオ基、カルバモイルオキシ基、アシルオキ
シ基、スルホニルオキシ基、スルホンアミド基またはヘ
テロイルチオキ、ヘテロイルオキシ基などが挙げられる
。2の特に好ましいものは、水素原子または塩素原子で
ある。 更に具体的には、特開昭50−10135号、同50−
120334号、同 50−130441号、同54−
48237号、同 51−146828号、同54−1
4736号、同47−37425号、同 50−123
341号、同58−95346号、特公昭48−368
94号、米国特許3, 476、 563号、同3, 
737, 316号、同3,227、551号各公報に
記載されている。 以下余白 以下に一般式[c−1で表わされるシアンカプラーの代
表的具体例を示すが、これらに限定されるものではない
。 (ロ)CxzI&、5OzNH (n)C16Lx SOzNH C4□(n) [I2□5(nJ C−3°2 次に一般式EC−2]で表わされるカプラーの具体例を
示すが、とわらに限定されるものでは匁い。 本発明に用いられるイエロー色素形成カプラーとしては
、下記の一般式[Ylで表わされる化合物が好ましい。 一般式[Yl 式中、R11はアルキル基(例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基等)またはアリール基(例えば
フェニル基、p−メトキシフェニル等)を表わし、R+
2はアリール基を表わし、Y’は水素原子または発色現
像反応の過程で脱離する基を表わす。 さらに、イエロー色素形成カプラーとして特に好ましい
ものは、下記一般式[Y′]で表わされる化合物が好ま
しい。 一般式[Y′] 式中RI3はハロゲン原子、アルコキシ基またはアリー
ロキシ基を表わし、R++、R15、およびR+sは、
それぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アルコキシ基、アリール基、アリーロキシ基、
カルボニル基、スルフォニル基、カルボキシル基、アル
コキシカルボニル基、カルバミル スルフォンアミド基、アシルアミド基、ウレイド基また
はアミン基を表わし、Ylは前述の意味を有する。 これらは、例えば米国特許第2, 778, 65.8
号、同第2, 875, 057号、同第2,908,
573号、同第3, 227、155号、同第3,22
7、550号、同第3□253. 924号、同第3,
 265, 506号、同第3, 277、 155号
、同第3.341、331号、同第3, 369, 8
95号、同第3,384,657号、同第3,408,
 194号、同第3,415,652号、同第3.44
7、 928号、同第3,551, 155号、同第3
,582,322号、同第3, 725, 072号、
3, 894, 875号等の各明細書、ドイツ特許公
開箱1, 547, 868号、同第2,057,94
1号、同第2,162,、899号、同第2, 163
, 812号、同第2.213,461号、同第2,2
19,917号、同第2,261,361号、同第2.
263.875号、特公昭49−13576号、特開昭
48−29432号、同48−66834号、同49−
10736号、同49−122335号、同50−28
834号、および同50−132926号公報等に記載
されている。 以下に一般式[Y]で表わされるイエロー色素形成カプ
ラーの代表的具体例を示すが、これらに限定されるもの
ではない。 以下余白 (J?1 以下余白 本発明のカラー写真感光材料の乳剤層間で(同−感色性
層間及び/又は異なった感色性層間)、現像主薬の酸化
体又は電子移動剤が移動して色濁りが生じたり、鮮鋭性
の劣化、粒状性が目立つのを防止するために色カブリ防
止剤が用いられる。 該色カブリ防止剤は、乳剤層自身に用いても良いし、中
間層を隣接乳剤層間に設けて、該中間層に用いても良い
。 本発明に用いられる色カブリ防止剤としては下記一般式
[HQ]で表わされる化合物が好ましい。 一般式[HQ] 式中、R2+、R22、R23及びR24はそれぞれ水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、ア
リール基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリーロ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、
アルキルアシルアミノ基、アリールアシルアミノ アリールカルバモイル ファモイル基、アリールスルファモイル基、アルキルス
ルホニル基、アリールスルホニル基、ニトロ基、シアノ
基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、アルキルアシルオキシ基又はアリール7シル
オキシ基を表わすが、R2+、R22、R23、および
R24で表わされる原子または基において、ハロゲン原
子としては、例えば、フッ素、塩素、臭素の各原子が挙
げられ、アルキル基としては、例えばメチル、エチル、
n −プロピル、i−プロピル、n−ブチル、t−ブチ
ル、n−アミル、i−アミル、n−オフブール、n−ド
デシル、n−オクタデシルの各M等が挙げられ、特に炭
素数1〜32のアルキル基が好ましい。 アルケニル基としては例えばアリル、オクテニル、オレ
イルの各基等が挙げられ、特に炭素数2〜32のアルケ
ニル基が好ましい。 アリール基としては、例えばフェニル、ナフチルの各基
等が挙げられる。 アシル基としては、例えばアセチル、オクタノイル、ラ
ウロイルの各基等が挙げられる。 シクロアルキル基としては例えば、シクロヘキシル、シ
クロペンチルの各基等が挙げられる。 アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、ド
デシルオキシの各基等が挙げられ、アリーロキシ基とし
ては、例えばフェノキシ基等が挙げられ、アルキルチオ
基としては、例えばメチルチオ、n−ブチルチオ、n−
ドデシルチオの各基等が挙げられ、アリールチオ基とし
ては、例えばフェニルチオ基等が挙げられ、アルキルア
シルアミノ基としては、例えばアセチルアミノ基等が挙
げられ、アリールアシルアミノ基としては、例えばベン
ゾイルアミノ基等が挙げられ、アルキルカルバモイル では、例えばフェニル力ルバモイルヰ等が挙げられ、ア
ルキルスルホンアミド基としては、例えばメチルスルホ
ン7ミド基等が挙げられ、アリールスルホンアミドおと
しては、例えばフェニルスル□  ホンアミド基等が挙
げられ、アルキルスルファモイル基としては、例えばメ
チルスルファモイル基等が挙げられ、アリールスルファ
モイル基としては、例えばフェニルスルファモイル基等
が挙げられ、アルキルスルホニル基としては、例えばメ
チルスルホニル基等が挙げられ、アリールスルホニル基
としては、例えばフェニルスルホニル基等が挙げられ、
アルキルオキシカルボニル基としては、例えばメチルオ
キシカルボニル基等が挙げられ、アリールオキシカルボ
ニル基としては、例えばフェニルオキシカルボニル基等
が挙げられ、アルキルアシルオキシ基としては、例えば
アセチルオキシ基等が挙げられ、アリールアシルオキシ
基としては、例えばベンゾイルオキシ基等が挙げられる
。 これらの基は、置換基を有するものを含み、これらの置
換基としてはアルキル基、アリール基、アリールオキシ
基、アルキルチオ基、シアノ基、アシルオキシ基、アル
コキシカルボニル基、アシル基、スルファモイル基、ヒ
ドロキシ基、ニトロ基、アミン基および複素環基等が挙
げられる。 そして、R2+およびR23のうち少なくとも1つの基
は、上記で挙げた置換基を含めて炭素原子数の総和が6
以上の基である。 本発明に用いられる前記一般式[HQ]で示される化合
物のうち、下記一般式[HQ’ ]で示される化合物が
本発明において特に好ましく用いられる。 一般式[HQ’  ] 式中、R3+及びR32はそれぞれ水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、アシル基、シクロアル
キル基または複素環基を表わす。但し、R31およびR
32のうち少なくとも1つは炭素原子数の総和が6以上
の基である。 前記一般式[HQ’ ]において、R31およびR32
で表わされるアルキル基としては、例えばメチル、エチ
ル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、t−ブ
チル、n−アミル、i−アミル、n−オクチル、n−ド
デシル、n−オクタデシルの各基等が挙げられ、特に炭
素数1〜32のアルキル基が好まり、い。 アルケニル基としては例えばアリル、オクテニル、オレ
イルの各基等が挙げられ、特に炭素数2〜32のアルケ
ニル基が好ましい。 アリール基としては、例えばフェニル、ナフチルの各基
等が挙げられる。 アシル基としては、例えばアセチル、オクタノイル、ラ
ウロイルの各基等が挙げられる。 シクロアルキル基としては、例えばシクロへ4シル、シ
クロペンチルの各基等が挙げられる。 複素m基としては、例えばイミダゾリル、フリル、ピリ
ジル、トリアジニル、チアゾリルの各基等が挙げられる
。 前記一般式[HQ’  ]において、R31とR32の
うち少なくとも1つの基が炭素原子数の総和が8以上で
あることが好鳥しく、さらに好ましくは、R3+とR3
2が両方とも炭素原子数の総和が8〜18の基であり、
最も好ましくは、R31とR32の両方とも炭素原子数
の総和が8〜18の同じアルキル基であることである。 本発明に用いられる前記一般式[HQ]で表わされる化
合物の具体例を以下に挙げるが、もらろんこれらに限定
されるものではない。 以下余白 0H (HQ−24) (HQ−25) (HQ−27) (HQ−28) (HQ−29) (HQ−3Q) H (HQ−31) (Hq−32〕 (HQ−33) (HQ−34) (HQ−35) [I(Q−36) H これらの化合物は、例えばリサーチ・ディスクロージャ
ー誌、176号(1978年)の 17643項のvl
の工に記載されている。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料には、色素画像の劣
化を防止する画像安定剤を用いることが出来る。本発明
において好ましく用いられる画像安定剤としては、下記
一般式[A]〜[H]及び[J]、[KJを挙げること
ができる。 以下余白 一般式[AI 式中、R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
リール基、又は複素環基を衰し、R2、R2、R1、R
6はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、
アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基
またはアシルアミノ基をあられし、R4はアルキル基、
ヒドロキシ基、アリール基又はアルコキシ基を表す。 又R3とR2は互いに閉環し、5貝または6貝環を形成
してもよく、その時のR1はヒドロキシ基またはアルコ
キシ基をあられす、又R,とR4が閉環し、5只の炭化
水素環を形成してもよく、そのときのR,はアルキル基
、了り−ル基、または複素環基をあられす、但し、R1
が水素原子で、かつ、R1がヒドロキシ基の場合を除く
。 前記一般式[AIにおいて、R,は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基または複素環基をあられ
すが、このうち、アルキル基としては、例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、n−オクチル基、tert−
オクチル基、ヘキサデシル基なとの直鎖または分岐のア
ルキル基を挙げることができる。またR、であられされ
るアルケニル基としては、例えばアリル、ヘキセニル、
オクテニル基などが挙げられる。′!−らに、RIの7
リール基としては、フェニル、ナフチルの各基が挙げら
れる。さらにR8で示される複素環基としては、テトラ
ヒドロピラニル基、ピリミジル基などが具体的に挙げら
れる。これら各基は置換基を有することができ、例えば
置換基を有するアルキル基としてベンジル基、エトキシ
メチル基、置換基をあられすが有するアリール基として
メトキシ7エ二ル基、クロルフェニル基、4−ヒドロキ
シ−3,5−ノブチルフェニル基などが挙げられる。 一般式[AIにおいて、R2、R1、R3およびR6は
水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルキル基、
アルケニル基、アリール基、アルコキシ基またはアシル
アミ7基をあられすが、このうち、フルキル基、アルケ
ニル基、アリール基については前記R,+二ついて述べ
たアルキル基、アルケニル基、アリール基と同一のもの
が挙げられる。また前記ハロゲン原子としては、例えば
フッ素、塩素、臭素などを挙げることができる。さらに
前記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基な
どを具体的に挙げることができる。さらに前記アシルア
ミ7基はR′C0NH−で示され、ここにおいて、R′
はアルキル基(例えばメチル、エチル、n−プロピル、
n−ブチル、n−オクチル、tert−オクチル、ペン
シルなどの各基)、アルケニル基(例えば7リル、オク
テニル、オレイルなとの各基)、アリール基(例えばフ
ェニル、メトキシフェニル、ナフチルなどの各基)、ま
たはヘテロ環基(例えばピリジル、ピリミジルの各基)
を挙げることができる。 また前記一般式[A]において、R1はアルキル基、ヒ
ドロキシ基、アリール基またはアルコキン基を表すが、
このうちアルキル基、アリール基については、前記R+
で示されるアルキル基、了り−ル基と同一のものを具体
的に挙げることができる。またR1のアルケニル基につ
いては前記R2、Rs、RsおよびR1について述べた
アルコキシ基と同一のものを挙げることができる。 R,とR2は互いに閉環してベンゼン環と共に形成する
環としては、例えばクロマン、クマラン、メチレンジオ
キシベンゼンが挙げられる。 また、R1とR4が閉環してベンゼン環と共に形成する
環としては、たとえばインゲンが挙げられる。これらの
環は、置換基(例えばアルキル、アルコ4シ、アリール
)を有してもよい。 又、R1とR2、またはR5とR4が閉環して形成する
環中の原子をスピロ原子としてスピロ化合物を形成して
もよいし、R2、R1などを連結基として、ビス体を形
成してもよい。 前記一般式[A]で衰されるフェノール系化合物または
フェニルエーテル系化合物のうち、好ましいものは、R
〇−基(Rはアルキル基、アルケニル基、アリール基、
またはヘテロ環基を表す、)を4@有するビイングン化
合物であり、特に好ましくは下記一般式[A −1]で
表すことができる。 一般式[A−1] 式中Rはアルキル基(例えばメチル、エチル、プロピル
、n−オクチル、 tert−オクチル、ベンジル、ヘ
キサデシル)、アルケニル基(例えば、アリル、オクテ
ニル、オレイル)、7リール基(例えば、フェニル、ナ
フチル)またはヘテロ環基(例えば、テトラヒドロピラ
ニル、ピリミジル)で表される基をあられす、R,およ
びR3゜は各々水素原子、ハロゲン原子、(例えば、フ
ッ素、塩素、臭素)、アルキル基(例えばメチル、エチ
ル、ローブチル、ベンジル)、アルコキシ基(例えばア
リル、ヘキセニル、オクテニル)、またはアルコキシ基
(例えばメトキシ、エトキシ、ベンジルオキシ)ヲ表し
、R11は水素原子、アルキル基(例えばメチル、エチ
ル、n−ブチル、ベンジル)、アルケニル基(例工Jr
、2−プロペニル、ヘキセニル、オクテニル)、または
アリール基(例えばフェニル、メトキシフェニル、クロ
ルフェニル、ナフチル)を表ス。 前記一般式[A]で表される化合物は、米国特許第3,
935,016号、同第3,982,944号、同第4
.254,216号、特開昭55−21004号、同5
4−145530号、英国特許公開2,077.455
号、同2,062号、888号、米国特許第3,764
,337、同第3.432300号、同第3,574,
627号、同@ 3,573,050号、特開昭52−
152225号、同53−20327号、同53−17
729号、同55−6321号、英国特許@ 1,34
7,556号、同公開2.066.975号、特公昭5
4−12337号、同48−31625号、米国特許第
3,700,455号などに記載の化合物をも含む。 前記一般式[A]で衰される化合物の使用量は、マゼン
タカプラーに対して5〜300モル%が好ましく、より
好ましくは10〜200モル%である。 以下に前記一般式[A]で表される化合物の代表的具体
例を示す。 タイプ(1) nRI タイプ(2) タイプ(3) タイプ(4) タイプ(5) タイプ(6) タイプ(7) タ  イ  ブ  (2) 以下余白 タ  イ  ブ  (4) 以下余白 タ  イ  プ  (5) 以下余白 タ  イ  プ (6) 以下余白 A−7 以下余白 一般式[B] (式中R1およびR4はそれぞれ水素原子、))ロデン
原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アル
ケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリール
オキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基
、スルホンアミド基、゛シクロアルキルまたはアルコキ
シカルボニル基をあられし、R2は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、アシル基、シクロアル
キル基またはヘテロ環基をあられし、R2は水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基
、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、スル
ホンアミド基、シクロアルキル基またはアルコキシカル
ボニル基をあられす。 以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもよ
い0例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、°アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
シルアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイル基、スル
ホンアミド基、スルフアモイル基などが挙げられる。 またR2とR1は互いに閉環し、5貝または6貝環を形
成してもよい、R2とR7が閉環しベンゼン環と共に形
成する環としては例えばクロマン環、メチレンジオキシ
ベンゼン環が挙げられる。 Yはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群をあられす。 クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、717−ル基、ア
リールオキシ基、もしくはヘテロ環で置換されてもよく
、さらにスピロ環を形成してもよい。 一般式[B]で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式[B−1]、[B−2]、[B −
33、[B −4]、[B −5]で示される化合物に
包含される。 一般式[B−1] 一般式[B −2] に9 一般式[B−31 一般式[B−43 一般式[B −5] K′ 一般式[B−1]、[B−2]、[B −3]、[B 
−4]および[B −5]におけるR1、R2、R3お
よびR4は前記一般式[B]1.:おけるのと同じ意味
を待ち、R6、RいR1、R3、R9およびR1゜は水
素原子、ハoデン原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒ
ドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基をあらb
す。 さらにR6とR6、R6とR丁、R2とR6、R1とR
sおよびR,とR6゜とが互いに環化して炭素環を形成
してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換されて
もよい。 前記一般式[B−1]、[B −2]、[B −3]、
[B −4]および[B −5]においてR2およびR
4が水素原子、フルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ
基またはシクロアルキル基% R5、Rs、Ry、R8
、RsおよびR1゜が水素原子、アルキル基、°または
シクロアルキル基である化合物が特に有用である。 一般式[B]で表される化合物はテトラヘドロン(Te
trahedron )、1970.vo126,47
43−4751頁、日本化学会誌、1972.No10
,0987−1990頁、ケミカル(chew、 Le
t t、 )t 1972(4)315〜31B頁、特
開昭55−139383号に記載されている化合物を表
し、含み、かつこれらに記載されている方法に従って合
成することができる。 前記一般式[B]で表される化合物のうち使用量は、前
記本発明乳剤係るマゼンタカプラーに対して5〜300
モル%該好ましく、より好ましくは10〜200モル%
である。 以下にこれらの化合物の代表的具体例を示す。 以下余白 一般式[C] R1 に2 一般式[D] 式中R,およびR2は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ
基、ヒドロキシ基、アリール基、了り一ルオキシ基、ア
シル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、スルホンア
ミド基もしくはアルコキシカルボニル基をあられす。 以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもよ
い0例えばハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アル
フキジカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
シルアミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ス
ルファモイル基などが挙げられる。 Yはベンゼン環と共にジクロマンもしくはジクマラン環
を形成するのに必要な原子群をあられす。 クロマンもしくはクマラン環はノ蔦ロデン原子、アルキ
ル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基
、アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、ア
リールオキシ基もしくはヘテロ環基で置換されてもよく
、さらにスピロ環を形成してもよい。 一般式[C]および[D]で示される化合物のうち、本
発明に特に有用な化合物は一般式[C−1]、[C−2
]、[D −1]および[D −2]で示される化合物
に包含される。 一般式[C−1] 一般式[C−2] R4 に1 一般式[D−1] 一般式[D −2] 一般式[C−1]、[C−2]、[D −1]および[
D −21におけるR、およびR2は前記一般式[[I
およ17[DJにおけるのと同じ意味を持ち、Rコ、R
,、R6、R,、R,およびR1は水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アル
ケニル基、アルケニルオキシ基、アリール基、アリール
オキシ基もしくはヘテロ環基をあられす、さらにR3と
R1、R1とR5、R1とR6、R6とR2およびR2
とR6とが互いに環化して炭素環を形成してもよく、さ
らに該炭素環はアルキル基で置換されてもよい。 前記一般式[C−1]、[C−2]、[D−1]および
[D −2]荷おいて、R5およびR2が水素原子、ア
ルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基またはシクロア
ルキル基、R3、R1、R3、R6、R2およびR8が
水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基である
化合物が特に有用である。 一般式[[I、[DJで表される化合物は日本化学学会
誌(J、 Chew、 Soe、 part C) 1
968.(14)、 1937〜18頁、有概合成化学
協会誌1970.28(1)、 60〜65頁1テトラ
ヘドロン(Tetrahedron Letters)
1973、 (29)、2707〜2710頁に記載さ
れている化合物を含み、かつこれらに記載されている方
法に従って合成することができる。 前記一般式[[I、[DJで表される化合物の使用量は
、前記本発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜30
0モル%が好ましく、より好ましくは10〜200モル
%である。 以下にこれらの化合物の具体的代表例を示す。 以下余白 以下余白 一般式(E) 式中R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アシル基、ジクロフルキル基もしくはヘテロR
基を表わし、R’は水素原子、ノ10デン原子、アルキ
ル基、アルケニル基、アリール基、アリールオキシ基、
アシル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホン
アミド基、シクロアルキル基もしくはアルコキシカルボ
ニル基を褒すす。 R2およびR4は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
、アルケニル基、アリール基、アシル基、アシルアミノ
基、スルホンアミド基、シクロアルキル基もしくはアル
コキシカルボニル基を表わす。 以上にあげた基はそれぞれ他のは換基で置換されていて
もよい1例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシカルボニル基、7リールオキシカルボニル基、
アシル7ミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、
スルフ7モイル基等が挙げられる。 またR1とR2は互いに閉環し、5貝または6貝環を形
成してもよい。 その時R3およびR4は水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキ
シ基、ヒドロキシ基、アリール基、7リールオキシ基、
アシル基、アシルアミノ基、7シルオキシ基、スルホン
7ミド基もしくはアルコキシカルボニル基を表わす。 Yはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群を表わす。 クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、7リール基、アリ
ールオキシ基もしくcよヘテロ環基で置換されていても
よく、さらにスピロ環を形成してもよい。 一般式[E)で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式(E−13゜CE−2)、(E−3
)t(E−4)および(E−5)で示される化合物に包
含される。 一般式(E−1) RI 一般式(E−2) OR+ 一般式(E−3) 一般式(E−4) 一般式(E−53 一般式(E−1)〜(E−53におけるR′、R2、R
3およびR4は前記一般式〔E〕におけるのと同じ意味
を持ち、R’、R’、Rツ、R’、R’およびR1”は
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、
ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、ア
リール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環基を表わ
す、さらにR5とR6、RGとRγ、R7とR1,R婁
とR9およびR書とR”とが互いに環化して炭素環を形
成してもよく、さらに該炭素環はアルキル基で置換され
てもよい。 前記一般式(E−1)−[E−5]において、R’、R
”、R’およびR4が水素原子、アルキル基、またはシ
クロアルキル基、前記一般式(E−5)において、R3
およびR4が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒ
ドロキシ基またはシクロアルキル基、さらに前記一般式
(E−1)〜[E−5]ニオイテ、R’、R’、R’、
R”、R’k ヨヒR”力水素原子、アルキル基、また
はシクロアルキル基である化合物が特に有用である。 一般式[E]により表される化合物はテトラヘドロン(
Tetrahedron Letters) 1965
.(8)、457−460頁日本化学学会誌(J、 C
hew、 Soe、 part C) 1966゜(2
2)、 2013−2016頁、(Zh、 Org、 
Khim) 1970.(6)?1230〜1237頁
に記載されている化合物を含み、かつこれらに記1!さ
れている方法に従って合成することができる。 前巳一般式[E−1]で表される化合物の使用量は、前
記本発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜300モ
ル%が好ましく、より好ましくは10〜200モル%で
ある。 以下にこれらの化合物の具体的代表例を示す。 以下余白 一般式(F) 式中R9は水素原子、フルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アシル基、シクロアルキル基もしくはヘテロ環
基を表し、R2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
、アルケニル基、アリ、−ル基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルアミ7基、アシルオキシ基、スルホンア
ミド基、シクロアルキル基、もしくはアルコキシカルボ
ニル基をあられす。 R5は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、7リール基、7シル基、アシルアミ/基、スルホ
ンアミド基、シクロアルキル基もしくはアルコキシカル
ボニル基をあられす。 R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、ヒドロキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、アシル
アミノ基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、もしく
1土アルコキシカルボニル基をあられす。 以上に挙げた基はそれぞれ他の置換基で置換されてもい
い1例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ルアミ7基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スル
フ1モイル基などが挙げられる。 又R1とR1は互いに閉環し、5貝または6貝環を形成
してもよい、その時R,お上りR1は水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ア
ルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリー
ルオキシ基、アシル基、7シルアミ7基、アシルオキシ
基、スルホン7ミド基、もしくはアルコキシカルボニル
基をあられす。 Yはクロマンもしくはクマラン環を形成するのに必要な
原子群をあられす。 クロマンもしくはクマラン環はハロゲン原子、フルキル
基、ジクロフルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、
アルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基もしくはヘテa@基で置換されていてもよ
く、さらにスピロ環を形成してもよい。 一般式[F]で示される化合物のうち、本発明に特に有
用な化合物は一般式[F−17、[F−2]、[F−3
]、[F−41および[F−5]で示されゐ化合物に包
含される。 以下余白 一般式[F−13 一般式(F−2) 一般式(F−3) 一般式(F−4) 一般式(F−5) 一般式[F−1]および[F −5]におけるR 1%
R2、R1およびR1は前記一般式[F]におけるのと
同じ意味を持ち、R6、R6、R2、R1、R9および
R1゜は水素原子、へロデン原子、フルキル基、アルコ
キシ基、ヒドロキシ基、アルケニル基、アルケニルオキ
シ基、アリール基、アリールオキシ基もしくはヘテロ環
基をあられす。 さらにR1とRい R5とR7、R7とRe−RaとR
5およVRlとR8゜とが互いに環化して炭素環を形成
してもよく、さらに該炭素環はフルキル基で置換されて
もよい。 また[F −3]、[F −41および[F−51にお
いて2つのRI−Rr。はそれぞれ同一でも異なって−
いてもよい。 前記一般式[F−1]、[F−2]、[F −3]、[
F −4]および[F −51においてR1、R2、お
よりRzが水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、
R1が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基またはシクロアルキル基、さらにR5、RいR7、
RいR1およびR1゜が水素原子、アルキル基、または
シクロアルキル基である化合物が待に有用である6 一般弐IF]により表される化合物はテトラヘドロン(
Tetrahedron Letters) 197G
、 Vol 26,4743〜4751頁、日本化学学
会誌1972. No、10= 1987〜1990頁
、シンセサイズ(Sy+*thesis) 19フ5.
 Vol 6゜392−393頁、(Bul 5oar
 Chim、Be1g ) 1975. Vo184(
))、 747〜759頁に記載されている化合物を含
み、かつこれらに記載されている方法に従って合成する
ことができる。 前記一般式[F]で表される化合物の使用量は、前記本
発明に係るマゼンタカプラーに対して5〜300モル%
が好ましく、より好ましくは10〜200モル%である
。 以下に一般式[F]で表される化合物の具体的代表例を
示す。 以下余白 一般式〔G〕 R′ Rコ 式中R’及びR3は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基、アリール基、アリールオキシ基、7シル基、アシ
ルアミ−1/基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、
シクロアルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す
。 R”は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、ヒドロキシ基、アリール基、アシル基、7シルア
ミ7基、アシルオキシ基、スルホンアミド基、シクロア
ルキル基またはアルコキシカルボニル基を衰す。 上に挙げた基は、それぞれ他の置換基で置換されてもよ
い、置換基として、例えばアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、7リール基、アリールオキシ基、ヒトα
キシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、アシルアミ7基、カルバモイル基、スルホン
7ミド基、スルフ7モイル基等が挙げられる。 またR2とRコは互いに閉環し、5貝または6貝の炭化
水素環を形成してもよい、この5貝または6貝の炭化水
素環はハロゲン原子、フルキル基、ジクロフルキル基、
アルコキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アリール
基、アリールオキシ基またはヘテロ環基等で置換されて
もよい。 Yはインゲン環を形成するのに必要な原子群を表す、イ
ンダン環はハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、シクロアルキル基、ヒドロキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基、またはヘテロ環基等で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成してもよい。 一般式CG)で示される化合物の中、本発明に特に有用
な化合物は一般式CG−1)〜(G−3)で示される化
合物に包含される。 以下余白 一般式(G−1) h+ 一般式(G−2) 一般式(G−3) 一般式[G−1]〜[:G−3]におけるR1.R′及
(FR’は一般式CG)におけるものと同義であり、R
’、R5,R”、R’、R’及VR91:t、ソF′L
ツレ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
基、アルケニル基、ヒトαキシ基、7リール基、アリー
ルオキシ基またはヘテロ環基を表す R4とR5、R5
とR6、R6とRフ、RフとR1及びR”とR’は互い
に閉環して炭化水素環を形成してもよく、更に該炭化水
素環はアルキル基で旧Iれてもよい。 前記一般式(G−1)〜(G−3)において、R1及び
R3が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキ
シ基またはシクロアルキル基、R2が水素原子、アルキ
ル基、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、R’、R
5,R’、RフtR”及びR9が水素原子、フルキル基
またはシクロアルキル基である化合物が特に有用である
。 前記一般式[G]で表される化合物のうち使用量は、マ
ゼンタカプラーに対して5〜300モル%が好ましく、
より好ましくは10〜200モル%である。 以下に一般式[G]で表される化合物の代表的具体例を
示す。 以下余白 一般式(H) R3 式中R1及びR2は、それぞ五水索原子、ハロゲン原子
、フルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、
7ンルアミノ基、7シルオキシ基、スルホンアミド基、
シクロアルキル基またはアルコキシカルボニル基を表す
。 R3は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アシルオキ
シ基、スルホンアミド基、シクロアルキル基またはアル
コキシカルボニル基を表す。 上に挙げた基は、それぞれ他の置換基で置換されてもよ
く、例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリール基、7リールオキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ルアミノ基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スル
ファモイル基等が挙げられる。 またR1とR2及VR”とR3は互いに閉環し、5貝ま
たは6只の炭化水素環を形成してもよく、該炭化水素環
はハロゲン原子、フルキル基、シクロアルキル基、アル
コキシ基、アルケニル基、ヒドロキシ基、7リール基、
アリールオキシ基、ヘテロ環基等で置換されてもよい。 Yはインゲン環を形成するのに必要な原子群を表し、該
インゲン環は上記炭化水素環を置換し得る置換基で置換
されてもよく、更にスピロ環を形成してもよい。 一般式(H)で示される化合物の中、本発明に特に有用
な化合物は一般式[H−1]〜(H−2)で示される化
合物に包含される。 一般式(H−2) 一般式(H−3) 一般式(H−1)〜(H−33におけるR l、R2及
びR3は一般式(H)におけるものと同義であり、R4
、Rs 、 Rs 、 Rt 、 Ra及[/R’l!
、ツレツレ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アル
コキシ基、ヒドロキシ基、アルケニル基、7リール基、
7リールオキシ基またはヘテロ環基を表す、虫たR4と
Rs、RsとR6、R幅とR)、RフとR”及びR1と
R1は互いに閉環して炭化水素環を形成してもよく、更
に該炭化水素環はアルキル基で置換されてもよい。 前記一般式(H−1)〜(H−3)において、11jl
及びR2がそれぞれ水素原子、フルキル基またはシクロ
アルキル基、R3が水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、ヒドロキシ基またはシクロアルキル基、R’、R’
、R’、R’、R”及びRツが、それぞれ水素原子、ア
ルキル基またはシクロアルキル基である化合物が特に有
用である。 前記一般式[H]で表される化合物の合成方法は既知で
あって、米国特許3.057929号、Chew。 Ber、 1972.95(5L  1673−167
41c、 Chemist−ry  L etters
、  1980,739−742頁に従って製造できる
。 前記一般式[H]で表される化合物マゼンタカプラーに
対して5〜300モル%が好ましく、より好ましくは1
0〜200モル%である。 以下に一般式[H]で表される具体的代表例を示す。 以下余白 一般式[J)   −。 たは7リール基を表し、Yは窒素原子と共に5〜7貝環
の複葉環な形成するのに必要な非金属原子群を表す、但
し、該複索環を形成する窒素原子を含む非金属原子中、
2以上のへタロ原子がある場合、少なくとも2つのヘテ
aR子は互いに隣接しないヘテロ原子である。〕 R′で表される脂肪族基としては、は換基を有してもよ
い飽和アルキル基、及び置換基を有してもよい不飽和ア
ルキル基が挙げられる。ft&、和アルキル基としては
、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基
、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙
げられ、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル
基、プロペニル基等が挙げら九る。 R1で表されるシクロアルキル基としては、置換基を有
してもよい5〜7貫のシクロアルキル基で例えば、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 R1で表されるアリール基としては、それぞれ置換基を
有しでもよいフェニル基、ナフチル基を表す。 R1で表される脂肪族基、シクロアルキル基、アリール
基の置換基としては、アルキル基、7リール基、アルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミ7
基、スルファモイル基、スルホンアミド基、カルボニル
オキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ヒドロキシ基、ヘテr:1環基、アルキルチオ基、
アリールチオ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに
置換基を有してもよい。 前記一般式(J)において、Yは窒素原子と共に5〜7
貝環の複素環を形成するのに必要な非金属原子群を表す
が、該複素環を形成する窒素原子を含む非4を異原子群
の少なくとも2つはヘテロ原子でなければならず、また
、この少なくとも2つのヘテa遼子C土互いに隣接して
はならない、一般式(J)で表される化合物の複素環に
おいて、全てのヘテロ原子が互いに隣接した場合は、マ
ゼンタ色素画像安定化剤としてのa能を発揮することが
出来ないので好ましくない。 前記一般式(J)で表される化合物の前記5〜7貝環の
複葉環は置換基を有してもよく、置換基としては、アル
キル基、アリール基、7シル基、カルバモイル基、アル
コキシカルボニル基、スルホニル基、スルファモイル基
等であり、更に置換基を有してもよい、また、該5〜7
貝環の複素環は飽和であってもよいが、飽和の複葉環が
好ましい、又、該複素環にベンゼン環等が縮合していて
もよく、スピロ環を形成してもよい。 本発明の前記一般式(J)で表される化合物の使用量は
、本発明の前記一般式(1)で表されるマゼンタカプラ
ーに対して5〜300モル%が好ましく、より好ましく
は10〜200モル%である。 以下に一般式(J)で表される代表的具体例を示す。 以下余白 J−63 J −64 J −フO ■ ■ 12H25 前記一般式(J)で表される化合物の中で、ビベラノン
系化合物及びホモビベラノン系化合物は特に好ましく、
さらに好ましくは、下記一般式(J−1)または(J−
2)で表される化合物である。 一般式(J−1) 一般式(J−2) 式中、R2及びR3は、それぞれ水素原子、アルキル基
または了り−ル基を表す、但し、R2とR3が同時に水
素となることはない、R4〜R”は、それぞれ水素原子
、アルキル基またはアリール基を表す。 前記一般式(J−13及び(J−2)におし・てR2及
びR3は、それぞれ水素原子、アルキル基または了り−
ル基を表すが、R2またはR3で衰されるアルキル基と
しては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、オク
チル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基
、オクタデシル基等が挙げられる。R2またはR3で表
されるアリール基としては、フェニル基等が挙げられる
。R2またはR3で表されるアルキル基、アリール基は
置換基を有してもよく、置換基としては、ノ)ロデン原
子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、複素環基等が挙げられる。 R2とRハ置換基を含む)の炭素原子数の合計は6〜4
0が好ましい。 前記一般式(J−1〕または(J−2)において、R4
〜R”は、それぞれ水素原子、アルキル基またはアリー
ル基を表すが、R4〜R+iで表されるアルキル基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基等が挙げられる。R
4〜R”で表されるアリール基としてはフェニル基等が
挙げられる。 前記一般式(J−1)または(J−2)で表される化合
物の共像側は、前記した例示ピペラジン系化合物(J−
1)〜(J−30)及び例示ホモピペラジン系化合物(
J−51)〜(J−62)の中に記載した通りである。 次に、前記一般式[J]で表される本発明の代表的なマ
ゼンタ色素画像安定化剤の合成例を示す。 合成例−](化合物J−2の合成) ピペラジン9.0g及びミリスチルブロマイド55゜を
溶解した100mQのアセトン中に、無水炭酸カリウム
15gを加え、10時間煮沸還流して反応させた。 反応後、反応液を500 、(lの水にあけた後、酢酸
エチル500 mQで抽出した。酢酸エチル層を硫酸マ
グネシウムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると、白色結
晶の目的物が得られた。アセトン300 m(I で再
結晶して、白色鱗片状の結晶34g(収率70%)を得
た。 融、り55〜58℃ 合成例−2(化合物J−34の合1) 4−モルホリノアニリン18gを酢酸エチル100 m
Qに溶解した後、攪拌下、反応液を20℃に保ちながら
、無水酢酸12mQを少しずつ加えた。無水酢酸添加後
、水冷し、析出する結晶を濾取した後、酢酸エチルで再
結晶し、白色粉末状結晶16.5g(収率75%)を得
た。 融点207〜210℃ 一般式(K) 式中、R′は脂肪族基、シクロアルキル基またはアリー
ル基を表し、Yは窒素原子と共に5〜7貝環の複素環を
形成するのに必要な単なる結合手または2価の炭化水素
基を表す、R”、R”、R4゜R5,R6,R7は、そ
れぞれ水素原子、脂肪族基、シクロアルキル基またはア
リール基を表す、但し、R2とR4及びR3とR′は互
いに結合して単なる結合手を形成して窒素原子、Yと共
に不飽和の5〜7貝環の複素環を形成してもよい、また
、Yが単なる結合手のときは、R5とRフが互いに結合
して単なる結合手を形成して窒素原子、Yと共に不飽和
の5貝環の複素環を形成してもよい、また、Yが単なる
結合手でないときは、R5とY、R’とYまたはY自身
で不飽和結合を形成して窒素原子、Yと共に不飽和の6
貝または7貝の複素環を形成し・でもよい。 R’で表される脂肪族基としては、置換基を有してもよ
い飽和フルキル基、及び置換基を有してもよい不飽和フ
ルキル基が挙げられる。飽和アルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデ
シル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ
、不飽和アルキル基としては、例えば、エチニル基、プ
ロペニル基等が挙げられる。 R’で表されるシクロアルキル基としては、置換基を有
してもよい5〜7貝のシクロアルキル基で例えば、シフ
ペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 R”t’表されるアリール基としては、置換基を有して
もよいフェニル基、ナフチル基を表す。 R1で表される脂肪族基、シクロアルキル基、アリール
基の置換基としては、アルキル基、アリール基、フルコ
キシ基、カルボニル基、カルバモイル基、アシルアミ7
基、スルファモイル基、スルホンアミド基、カルボニル
オキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ヒドロキEyjl=、ヘテロ環基、アルキルチオ基
、アリールチオ基等が挙げられ、これらの置換基はさら
に置換基を有してもよい。 前記一般式(K)において、Yは窒素原子と共に5〜7
貫環の複素環を形成するのに必要な単なる結合手または
2価の炭化水素基を表すが、Yが単なる結合手のときは
、さらにR5とR7が互いに結合して単なる結合手を形
成して不飽和の5貫、環の複素環を形成してもよく、ま
たYが2価の単価水素基の場合、即ち、メチレン基の場
合には、R5とYまたはR7とYとで不飽和結合を形成
し、不飽和の6貝環の複素環を形成してもよく、またエ
チレン基の場合には、R’とY、R’とYまたはY自身
で不飽和結合を形成し、不飽和の7貝環の複索環を形成
してもよい、さらにY″c″表される2価の炭化水素基
は置換基を有してもよ(、この置換基には、アルキル基
、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アシ
ル7ミ7基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ア
リール基、ヘテロ環基等が苧げられる。 前記一般式(K)において、R2,Rコ、 R4,Rs
。 R6及びR7は、それぞれ水素原子、脂肪族基、シクロ
アルキル基またはアリール基を表すが、R2−R7で表
される脂肪族基としては、置換基を有してもよい飽和フ
ルキル基及び置換基を有してもよい不飽和フルキル基が
挙げられる。飽和アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、テ
トラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられ、不飽和ア
ルキル基としては、例えば、エチニル基、プロペニル基
等が挙げられる。 R2−R7で褒されるジクロフルキル基としては、置換
基を有してもよい5〜7貝環のシクロアルキル基で、例
えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。 R2−R7で表されるアリール基としては、置換基を有
してもよいフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 上記R2〜R7で表される脂肪族基、シクロアルキル基
、アリール基の置換基としては、アルキル基、アリール
基、アルコキシ基、カルボニル基、カルバモイル基、ア
シルアミノ基、スルファモイル基、スルホンアミド基、
カルボニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、ヒドロキシ基、ヘテロ環基、アルキルチ
オ基等が挙げられる。 前記一般式(K)で表される化合物は、5〜7貝環の飽
和の複素環を有する場合が、不飽和であるよりも好まし
い。 以下に前記一般式[K)で表される化合物の使用量は、
本発明の前記一般式[I)で表されるマゼンタカプラー
に対して5〜300モル%が好ましく、より好ましくは
10〜200モル%である。 前記一般式[K)で表される化合物の代表的具体例を示
す。 以下余白 に−34 に−35 に−36 に−37 に−38 に−39 に−40 に−41 次に、前記一般式(K)で表される化合物の代表的合成
例を示す。 合成例−](化合物に−14の合成) ピペラジン9.0g及びミリスチルブロマイド28gを
溶解した60■qの7七トン中に、無水炭酸カリウム6
.0gを加え、20時間煮沸還流して反応させた。 反応後、反応液を300.9の水に注ぎ込んだ後、酢酸
エチル300.9で抽出した。酢酸エチル層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、酢酸エチルを留去すると、白色結晶
の目的物が得られた。アセトン100+J で再結晶し
て、白色鱗片状の結晶12g(収率43%)を得た。 融点175〜180℃ 本発明の感光材料の保護層、中間層等の親水性コロイド
層に感光材料がFi!i等で帯電する事に起因する放電
によるカブリ防止、画像のUV光による劣化を防止する
ために紫外線吸収剤を含んでいても良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤を用いたカラー感光材料には
、フィルタ一層、ハレーション防Ll:層、及び/又は
イラジェーション防止層等の補助居を設ける事が出来る
。これらの層中及び/又は乳剤層中には、現像処理中に
カラー感光材料より流出するか、もしくは漂白される染
料が含有させられても良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤を用いたハロゲン化銀感光材
料のハロゲン化銀乳剤層、及び/又はその他の親水性コ
ロイド層に感光材料の光沢を低減する加筆性を高める、
感材相互のくつつき防止等を目標としてマット剤を添加
出来る。 本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料の滑り摩擦
を低減させるために滑剤を添加出来る。 本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料に、帯電防
止を目的とした帯電防止剤を添加出来る。 帯電防止剤は支持体の乳剤を積層してない側の帯電防止
層に用いられる事もあるし、乳剤芯及び/又は支持体に
対して乳剤層が積層されている側の乳剤層以外の保護コ
ロイド層に用いられても良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料の写真乳剤
層及び/又は他の親水性コロイド層には、塗布性改良、
帯電防止、スベリ性改良、乳化分散、接着防止、及び(
現像促進、硬調化、増感等の)写真特性改良等を目的と
して、種々の界面活性剤が用いられる。 本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた感光材料は、写真乳
剤層、その他の層はバライタ紙又はα−オレフレインボ
リマー等をラミネートした紙、合成紙等の可撓性反射支
持体、酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリスチレン
、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
カーボネイト、ポリアミド等の半合成又は合成高分イか
らなるフィルムや、ガラス、金属、陶器などの剛体等に
塗布出来る。 本発明のハ〔1ゲン化銀感光材料は、必要に応じて支持
体表面にコロナ放゛逍、紫外線照射、火焔処理等を施し
た後、直接又は(支持体表面の接着性、帯電防止性、寸
度安定性、耐摩耗性、硬さ、ハレーション防止性、摩擦
特性、及び/又はその他の特性を向上するための、1ま
たは2以上の下塗層)を介して塗布されても良い。 本発明のハロゲン化銀乳剤を用いた写真感光材料の塗布
に際して、塗布性を向上させる為に増粘剤を用いても良
い。塗布法としては2種以上の層を同時に塗布する事の
出来るエクスドールジョンコーティング及びカーテンコ
ーティングが特に有用である。 本発明の感光材料は、本発明の感光材料を構成する乳剤
層が感度を有しているスペクトル領域の電磁波を用いて
露光出来る。光源としては、自然光(日光)、タングス
テン電灯、蛍光灯、水銀灯、キセノンアーク灯、炭素ア
ーク灯、キセノンフラッシュ灯、陰極線管フライングス
ポット、各種レーザー光、発光ダイオード光、電子線、
X線、γ線、α線などによって励起された蛍光体から放
出する光等、公知の光源のいずれでも用いることが出来
る。 露光時間は通常カメラで用いられる1ミリ秒から1秒の
露光時間は勿論、1マイクロ秒より短い露光、例えば隙
極8管やキセノン閃光灯を用いて100マイクロ秒〜1
マイクロ秒の露光を用いることも出来るし、1秒以上よ
り長い露光も可能である。該露光は連続的に行なわれて
も、間欠的に行なわれても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、当業界公知のカ
ラー現像を行う事により画像を形成することが出来る。 本発明において発色現像液に使用される芳香族第1級ア
ミン系発色現像主薬は、種々のカラー写真プロセスにお
いて広範囲に使用されている公知のものが包含される。 これらの現像剤はアミノフェノール系及びp−フェニレ
ンジアミン系誘導体が含まれる。これらの化合物は遊離
状態より安定のため一般に塩の形11例えば塩Imまた
はTam塩の形で使用される。また、これらの化合物は
一般に発色現像液12について約0.1g〜約30(+
の濃度、好ましくは発色現像液12について約1g〜約
15aの濃度で使用する。 アミンフェノール系現像剤としては、例えば0−アミノ
フェノール、p−アミノフェノール、5−アミノ−2−
オキシトルエン、2−アミノ−3−オキシトルエン、2
−オキシ−3−アミノ−1,4−ジメチルベンゼンなど
が含まれる。 特に有用な第1級芳香族アミン系発色現像剤はN、N’
−ジアルキル−p−フェニレンジアミン系化合物であり
、アルキル基及びフェニル基は任意の置換基で置換され
ていてもよい。その中でも特に有用な化合物例としては
、N、N’ −ジエチル−p−フェニレンジアミン塩酸
塩、N−メチル−〇−フェニレンジアミン塩酸塩、N、
N’ −ジメチル−p−フェニレンジアミン塩vL塩、
2−アミノ−5−(N−エチル−N−ドデシルアミノ)
−トルエン、N−エチル−N−β−メタンスルホンアミ
ドエチル−3−メチル−4−アミノアニリン硫酸塩、N
−エチル−N−β−ヒドロキシエチルアミノアニリン、
4−アミノ−3−メチル−N。 N′−ジエチルアニリン、4−アミノ−N−(2−メト
キシエチル)−N−エチル−3−メチルアニリン−p−
t−ルエンスルホネートなどを挙げることができる。 本発明の処理において使用される発色現像液には、前記
第1級芳香族アミン系発色現像剤に加えて更に発色現像
液に通常添加されている種々の成分、例えば水酸化ナト
リ・クム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカ
リ剤、アルカリ金属亜硫酸塩、アルカリ金属重亜硫酸塩
、アルカリ金属チオシアン酸塩、アルカリ金属ハロゲン
化物、ベンジルアルコール、水軟化剤及び濃厚化剤など
を任意に含有せしめることもできる。この発色現像液の
IIH値は、通常7以上であり、最も一般的には約10
〜約13である。 本発明においては、発色現像処理した後、定着能を有す
る処理液で処理するが、該定着能を有する処理液が定着
液である場合、その前に漂白処理が行なわれる。該漂白
工程に用いる漂白剤としては有機酸の金属錯塩が用いら
れ、該金属錯塩は、現像によって生成した金属銀を酸化
してハロゲン化銀にかえすと同時に発色剤の未発色部を
発色させる作用を有するもので、その構成はアミノポリ
カルボン酸または蓚酸、クエン酸等の有様酸で鉄、コバ
ルト、銅等の金属イオンを配位したものである。このよ
うな有機酸の金属錯塩を形成するために用いられる最も
好ましい有Ifl酸としては、ポリカルボン酸またはア
ミノポリカルボン酸が挙げられる。これらのポリカルボ
ン酸またはアミノポリカルボン酸はアルカリ金属塩、ア
ンモニCクム塩もしくは水溶性アミン塩であってもよい
。 これらの具体的代表例としては、次のものを挙げること
ができる。 [1]工ルンジアミンテトラ酢酸 [2コニトリロトリ酢酸 [3]イミノジ酢酸 [4]エチレンジアミンテトラ酢酸ジナトリウム塩 [5]エチレンシアミンチ1〜う酢酸テトラ(トリメチ
ルアンモニウム)塩 [6]エチレンジアミンテトラ酢酸テl−ツナ1〜リウ
ム塩 [7]ニトリロトリ酢酸す1ヘリウム塩使用される漂白
剤は、前記の如き有機酸の金属錯塩を漂白剤として含有
すると共に、種々の添加剤を含むことができる。添加剤
としては、特にアルカリハライドまたはアンモニウムハ
ライド、例えば臭化カリウム、臭化ナトリウム、塩化ナ
トリウム、臭化アンモニウム等の再ハロゲン化剤、金成
塩、キレート剤を含有させることが望ましい。 また硼M塩、蓚酸塩、酢酸塩、炭酸塩、燐酸塩等のpH
m1[剤、アルキルアミン類、ポリエチレンオキサイド
類等の通常漂白液に添加することが知られているものを
適宜添加することができる。 更に、定着液及び漂白定着液は、亜硫酸アンモニウム、
亜硫酸カリウム、重亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸カリ
ウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸アンモニウム
、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム等の
亜硫酸塩や硼酸、硼砂、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
・クム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重亜硫酸ナト
リウム、重炭酸テトラ1クム、虫炭酸カリ「クム、酢酸
、酢酸ナトリウム、水酸化アンモニウム等の各種の塩か
ら成るpH緩衝剤を単独或いは2種以上含むことができ
る。 漂白定着液(浴)に漂白定着補充剤を補充しながら本発
明の処理を行なう場合、該漂白定着液(浴)にチオii
I!i酸塩、チオシアン酸塩又は亜硫酸塩等を含有せし
めてもよいし、該漂白定着補充液にこれらの塩類を含有
せしめて処理浴に補充してもよい。 本発明においては漂白定着液の活性度を高める為に、漂
白定着浴中及び漂白定着補充液の貯蔵タンク内で所望に
より空気の吹き込み、又は酸素の吹き込みをおこなって
もよく、或いは適当な酸化剤、例えば過酸化水素、臭素
wi塩、適値[等を適宜添加してもよい。 [発明の効果] 以上説明したように本発明のハロゲン化銀写真感光材料
によれば、マゼンタ色素画像の色再現性が優れ、かつ光
堅牢性が改良され、しかも生試料の経時保存によるカブ
リ増加が少ない。 [実施例] 以下に具体的実施例を示して本発明をさらに詳しく説明
するが、本発明の実施の!l!様は、これらにより限定
されない。 実施例1 ポリエチレン被覆紙からなる支持体上に比較マゼンタカ
プラーを4mO/ dn’ 、緑感性塩臭化銀乳剤を銀
に換算して4 m!J/ di2、ジオクチルフタレー
トを411](1/ di’およびゼラチンを15mg
/ di’の塗布付聞となる様に塗設した。 さらにその上層にゼラチンを9m(1/d12の塗布付
mとなる様に塗設した。 かくして作製した試料を試料1とする。次にL記試料1
のカプラー含有層において、カプラー、金属錯体および
スルフィド化合物の組み合せを表1に示す様に変化させ
た以外は、試料1と同一の試料2乃至17′を作製した
。但し、試料5乃至17′については塗布銀旧を2mO
/d12とした。 尚、金属錯体およびスルフィド化合物は、マゼンタカプ
ラーとともに溶媒中に添加した。 これらの試料に感光計(小西六写真工業fil製。 KS−7型)を用いて緑色光の光楔露光を行なった後、
次の処理を行なった。 基準処理工程(処理濃度と処理時間) [11発色現8  38℃    3分30秒[2]漂
白定着  33℃    1分30秒[31水洗処理 
25〜30℃   3分[4]乾  燥 75〜80℃
  約2分[発色現Q液] ベンジルアルコール         15ilfニブ
−レンゲリコール         15mQ亜硫酸カ
リウム           2.0g臭化ナトリウム
           0.7(1塩化ナトリウム  
         0.2 (1炭酸カリウム    
       30.0 (1ヒドロキシルアミン硫酸
塩      3.0gポリリン酸(TPPS)   
     2.5413−メチル−4−アミノ−N− (β−メタンスルホンアミドエエチ) −アニリン硫酸塩          5.59蛍光増
白剤(4,4’ −ジアミノ スチルベンズスルホン酸誘導体)    1.0(1水
酸化カリウム           2.0g水を加え
て全日を1rとし、pH1o、20に調製する。 [漂白定着液] エヂレンジアミンテトラ酢酸第2鉄 アンモニウム2水塩         60 gエチレ
ンジアミンテトラ酢M       3(1チオfA酸
アンモニウム(70%溶液)   1oo1p亜硫酸ア
ンモニウム(40%溶液)   27.5d炭酸カリウ
ムまたは氷酢酸でpH7,1に調製し水を加えて全組を
12とする。 処理後得られた各試料の耐光性試験を以下の要領で行な
った。 [耐光性試験] 各試料をアンダーグラス屋外曝露台を用いて、30日間
太陽光を曝射した時の退色面接での緑色光濃度を測定し
た。 光による退色の度合(退色率)を以下の様にして求めた
。 [)o=光光退色製濃 度 −光退色後濃度 結果を表1に示す。 以下余白 比較マゼンタカプラー 表1の結果から、マゼンタカプラーに本発明に係る金W
A錯体およびスルフィド化合物を併用すると耐光性が著
しく改良されることがわかる。特に本発明の前記一般式
[I]で表わされるマゼンタカプラーから形成される色
素に対して耐光性向上効果が大きいことがわかる。また
本発明の前記一般式[I]で表わされるマゼンタカプラ
ーを用いた試料は形成される色素の副吸収濃度が小さく
、色再現性に優れている。 実施例2 ポリエチレン被覆紙からなる支持体上に、下記の各層を
支持体側から順次塗設し、多色用ハロゲン化銀写真感光
材わ1を作製した。 第1層:青感性ハロゲン化銀乳剤層 イエローカプラーとしてα−ピバリルーα−(1−ベン
ジル−2,4−ジオキシ−イミダリジン−3−イル)−
2−クロロ−5−[γ−(2゜4−ジー【−アミルフェ
ノキシ)ブチルアミド]−アセトアニリドを811](
]/di’、青感性塩臭化銀乳剤を銀に換算して311
11J/d12.2.4−シー【−ブチルフェノール−
3’ 、5’−ジ−t−アミル−4′−ヒドロキシベン
ゾエートを3m(1/ du2、ジオクチルフタレート
を3mσ/(h’;Bよびゼラチンを16 no/ d
i2の塗布付量となる様に塗設した。 第2層:中間層 ゼラチンを4m(1/ dn’の塗布材aとなる様に塗
設した。 第3層:緑感性塩臭化銀乳剤層 前記例示マゼンタカプラー44を4mg/d112、緑
感性塩臭化銀乳剤を銀に!A算して2mMd、2、ジオ
クチルフタレートを410/ di’およびゼラチンを
16II1g/dfの塗布付値となる様に塗設した。 14層:中間層 紫外線吸収剤2−ヒドロキシ−3’ 、5’ −ジ−t
−アミルフェニル)−ベンゾトリアゾールを311](
1/ dy、 2− (2’ −ヒドロキシ−3′。 5′−ジー【−ブチルフェニル)−ベンゾトリアゾール
を3mMdf、ジオクチルフタレートを4mg/ dm
”およびゼラチンを14 mg/ (letの塗布付量
となる様に塗設した。 第5層:赤感性塩臭化銀乳剤層 シアンカプラーとして2.4−ジクロロ−3−メチル−
6−[α−(2,4−ジーむ一アミルフェノキシ)ブチ
ルアミド]−フェノールを1 mLJ/d12.2− 
(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル)アシ
ルアミノ−4−クロロ−5−[α−(2,4−ジーte
rt−アミルフェノキシ)ペンチルアミド]を3 +1
](1/ d 12、ジオクチルフタレートを2m(1
/ dm’および赤感光性塩臭化銀乳剤を銀に換算して
3m(J/d、2の塗布付量となる様に塗設した。 第6暦:中間層 紫外線吸収剤として2− (2’ −ヒドロキシ−3’
 、5’−ジ−t−アミルフェニル)−ベンゾトリアゾ
ールを2m!+/ dm’、2−(2’ −Eニトロキ
シ−3’ 、5’−ジ−t−ブチルフェニル)−ベンゾ
トリアゾールを2 m(]/ di’ 、ジオクチルフ
タレートを2m!II/ d12およびゼラチンを6 
m(1/d12の塗布付量とする様に塗設した。 第7居:保護層 ゼラチンを91H/dfの塗布付量となる様に塗設した
。 かくして作製した試料を試料18とする。 次に上記試料18の第3層にマゼンタカプラー、金属錯
体およびスルフィド化合物(金病鉗体J3よびスルフィ
ド化合物はカプラー1モルに対して、それぞれ0.5モ
ルの割合で添加)を表2に示す組合せで添加した以外は
、試料18と同一の試料19乃至32を作製した。 かくして作製した試料に実施例1と同一の露光および処
理を行なった。処理後に得られた各試料について実施例
1と同様にして、耐光性を測定した。 また、生試料の経時保存によるカブリ値の増加試験を以
下の要領で行なった。 [生試料の経時保存によるカブリ値の増加試験]塗布し
た各試料を77℃加湿なしの恒温槽に6日間保存した。 これらの試料を前記と同様の露光処理を行ない各試料の
白色部の緑色光反射濃度を測定した。 恒温槽に保存する前に処理した試料の白色部緑色光反射
濃度との差をカブリ値の増加濃度とした。 結果を表2に示づ゛。 以下余白 表2の結果から、マゼンタカプラー含有層に金属錯体を
添加すると(試料19)、耐光性の向上効果は見られる
ものの、生保存時のカブリ増加が非常に大きく、またマ
ゼンタカプラー含有層にスルフィド化合物を添加すると
(試料20)、生保存時のカブリ増加は殆んどないもの
の、耐光性の向上効果が不充分である。これに対して、
本発明に係る試料21〜32は耐光性の向上効果が著し
く、しかも生保存時のカブリ増加が殆んどないことがわ
かる。 実施例3 マゼンタカプラー含有層に添加した金属錯体および有機
溶媒を表3に示すように変えたものおよびこれに加えて
、更に酸化防止剤(添加mはカプラー1モルに対して0
.5モル)を新たに添加した以外は実施例2の試料21
と同一の試料33乃至40を作製した。これらの各試料
を実施例2と同様にして耐光性および生試料保存時のカ
ブリ値の測定を行なった。 結果を表3に示す。 表3 比較金属錯体 (−重項酸素の消光速度定数 2.2x 100M ’ −sec −’ )表3の結
果から明らかなように本発明の試料33〜39は耐光性
が著しく良好であり、しかも生保存時のカブリ増加が大
変少ないものである。 また酸化防止剤を併用した試料37〜39は耐光性が相
乗的に向上していることがわかる。 また試料21.33〜36を比較すると、特に低誘電率
の有機溶媒を使用した場合、耐光性向上効果が高いこと
がわかる。 以下余白

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)支持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層
    を有するハロゲン化銀写真感光材料において、前記ハロ
    ゲン化銀乳剤層の少なくとも1層は下記一般式[ I ]
    で表わされるマゼンタカプラーを含有し、かつ該マゼン
    タカプラーを含有するハロゲン化銀乳剤層には一重項酸
    素の消光速度定数が3×10^7M^−^1・sec^
    −^1以上の金属錯体およびスルフィド化合物が含有さ
    れていることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 一般式[ I ] [式中Zは含窒素複素環を形成するに必要な非金属原子
    群を表わし、該Zにより形成される環は置換基を有して
    もよい。 Xは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反応によ
    り離脱しうる置換基を表わす。 またRは水素原子または置換基を表わす。](2)前記
    スルフィド化合物は下記一般式で表わされる化合物であ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のハロゲ
    ン化銀写真感光材料。 一般式 R−S−R′ [式中、RおよびR′はそれぞれアルキル基、シクロア
    ルキル基、アルケニル基、アリール基またはヘテロ環基
    を表わす。] (3)前記金属錯体およびスルフィド化合物は誘電率が
    6.0以下の高沸点有機溶媒を用いてハロゲン化銀乳剤
    層に添加されたものであることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載のハロゲン化銀写真感光材料。
JP1756986A 1986-01-29 1986-01-29 ハロゲン化銀写真感光材料 Pending JPS62175754A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1756986A JPS62175754A (ja) 1986-01-29 1986-01-29 ハロゲン化銀写真感光材料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1756986A JPS62175754A (ja) 1986-01-29 1986-01-29 ハロゲン化銀写真感光材料

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62175754A true JPS62175754A (ja) 1987-08-01

Family

ID=11947547

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1756986A Pending JPS62175754A (ja) 1986-01-29 1986-01-29 ハロゲン化銀写真感光材料

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62175754A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5294528A (en) * 1988-10-07 1994-03-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Silver halide photographic material containing a magenta coupler and a compound that can break the aggregation of an azomethine dye

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5294528A (en) * 1988-10-07 1994-03-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Silver halide photographic material containing a magenta coupler and a compound that can break the aggregation of an azomethine dye

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS61245153A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPS61249054A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPS6267536A (ja) 写真要素
JPS62157031A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPS61189539A (ja) ハロゲン化銀カラ−写真感光材料
JPS62166331A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPS62175754A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPS61241754A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPS62201441A (ja) 色再現性および退色バランスに優れたハロゲン化銀写真感光材料
JPS61252555A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPS62103642A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPS62183459A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPS62187348A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPS62182741A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPS62186263A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPS61267049A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPS62173470A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPS61184543A (ja) ハロゲン化銀カラ−写真感光材料
JPS62180367A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPS6224255A (ja) ハロゲン化銀カラ−写真感光材料
JPS62178964A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPS61189540A (ja) ハロゲン化銀カラ−写真感光材料
JPS61250644A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPH055344B2 (ja)
JPS61267050A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料