JPS6179785A - 装飾品の部分めつき方法 - Google Patents
装飾品の部分めつき方法Info
- Publication number
- JPS6179785A JPS6179785A JP20089084A JP20089084A JPS6179785A JP S6179785 A JPS6179785 A JP S6179785A JP 20089084 A JP20089084 A JP 20089084A JP 20089084 A JP20089084 A JP 20089084A JP S6179785 A JPS6179785 A JP S6179785A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- base metal
- ornamental article
- resist
- plated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔家業上の利用分野〕
本発明は腕時計やバンドの工うな装飾品の部分めっきに
関するものである。
関するものである。
従来、装飾品の部分めっきに、エポキシ系の樹）ＩＷ
’Ｊのレジスト全スクリーン印刷や筆塗りで、めっきを
必要としないｉｌＳ分に塗布し７Ｃ後、加熱等に工り硬
化させ、通常めつき７ｊ＋処理として行われる脱脂、酸
処理、電解脱脂処理等を行い、金めつき等の部分めっき
を行っていた。
’Ｊのレジスト全スクリーン印刷や筆塗りで、めっきを
必要としないｉｌＳ分に塗布し７Ｃ後、加熱等に工り硬
化させ、通常めつき７ｊ＋処理として行われる脱脂、酸
処理、電解脱脂処理等を行い、金めつき等の部分めっき
を行っていた。
また、エポキシ樹脂等の代ｐ Ｋ ７オトレジストを使
用してマスキングし部分めっきする方法も行われていた
。
用してマスキングし部分めっきする方法も行われていた
。
しかし、これらの方法でσ巾（Ｌ５ミリメートル以下の
ファインパターンが連続しであるＬうな部分めっきは、
めっきする部分にレジスト薄膜や汚れが付着し、除去が
十分できないため、部分めっきの密着が悪く、腕時計や
バンド、指輪の１つな装飾品に使用すると、めっき部の
剥離が起りやすぐ使用に耐えるものができなかった。ま
た、ファインパターンは、レジストの巾が狭くめっきの
前処理で剥離しや丁にめ、十分なめっきの前処理ができ
ず、めっきの密着が悪刀為っだ、特に腕時計やバンド、
指輪のＬうな小さい部分に巾０．５ミリメー１−ル以下
（７）ファインパターンの部分めっき全形成させるため
に、めっきと素材のに１全強固にしなくては携帯中に剥
離を生じ、これまで腕時計やバンドにはファインパター
ンがある部分めっきが行われなかった。
ファインパターンが連続しであるＬうな部分めっきは、
めっきする部分にレジスト薄膜や汚れが付着し、除去が
十分できないため、部分めっきの密着が悪く、腕時計や
バンド、指輪の１つな装飾品に使用すると、めっき部の
剥離が起りやすぐ使用に耐えるものができなかった。ま
た、ファインパターンは、レジストの巾が狭くめっきの
前処理で剥離しや丁にめ、十分なめっきの前処理ができ
ず、めっきの密着が悪刀為っだ、特に腕時計やバンド、
指輪のＬうな小さい部分に巾０．５ミリメー１−ル以下
（７）ファインパターンの部分めっき全形成させるため
に、めっきと素材のに１全強固にしなくては携帯中に剥
離を生じ、これまで腕時計やバンドにはファインパター
ンがある部分めっきが行われなかった。
本発明は上記の欠癲を除去する窺めに装飾品の表面を卑
金属のめっきをしておき、その上にエポキシ系樹脂やア
クリル系樹脂等を印ｔｅ１１することにより所定のパタ
ーンを形成する小、フォトレジスト全塗布後、露光、現
象を行い、所定のパターンを形成したイと、卑金属めっ
きが露出しπ部分上薬品で除去し、でてきた表面にめっ
きを行い密着性の良いファイ／パターンオ有する部分め
っき全得工うとするものである。
金属のめっきをしておき、その上にエポキシ系樹脂やア
クリル系樹脂等を印ｔｅ１１することにより所定のパタ
ーンを形成する小、フォトレジスト全塗布後、露光、現
象を行い、所定のパターンを形成したイと、卑金属めっ
きが露出しπ部分上薬品で除去し、でてきた表面にめっ
きを行い密着性の良いファイ／パターンオ有する部分め
っき全得工うとするものである。
エポキシ樹脂やアクリル樹脂、フォトレジストで巾α５
ミリメートル以下のファイ／パターンを作ってみて、種
々調整しに結果、樹脂の薄い膜が被めっき個所に残るこ
とが判った。そのため電解洗浄等を行うと有効であるが
、エポキシやアクリル樹脂、フォトレジスト等は剥れや
すく、めっきで行える洗浄を実抱することができな炉つ
に。
ミリメートル以下のファイ／パターンを作ってみて、種
々調整しに結果、樹脂の薄い膜が被めっき個所に残るこ
とが判った。そのため電解洗浄等を行うと有効であるが
、エポキシやアクリル樹脂、フォトレジスト等は剥れや
すく、めっきで行える洗浄を実抱することができな炉つ
に。
この解決のため、ホーニング、刷毛でのこすシ、アルミ
ナ粉末での研摩等を試みたが、パターンにキス力つきや
すぐ、外観の良いパターンが得られなη１つだ。さらに
検討をすすめ？Ｃ結果卑金属めっきを飛した後、エポキ
シ樹脂やアクリル樹脂、フォトレジストで巾α５ミリメ
ートル以下のファイ／パターンを形成し、卑金属めっき
ｆ：ａ出した部分を薬品で除去した結果、薄；漢、ヨゴ
レか除去でき、脱脂、酸浸漬、電解脱脂の工うな処理を
行わなくても、めっきをすることができ良好な部分めっ
きを得ることができることか判った、〔実池例〕 以下、図面にニジ、本発明の詳細な説明する。
ナ粉末での研摩等を試みたが、パターンにキス力つきや
すぐ、外観の良いパターンが得られなη１つだ。さらに
検討をすすめ？Ｃ結果卑金属めっきを飛した後、エポキ
シ樹脂やアクリル樹脂、フォトレジストで巾α５ミリメ
ートル以下のファイ／パターンを形成し、卑金属めっき
ｆ：ａ出した部分を薬品で除去した結果、薄；漢、ヨゴ
レか除去でき、脱脂、酸浸漬、電解脱脂の工うな処理を
行わなくても、めっきをすることができ良好な部分めっ
きを得ることができることか判った、〔実池例〕 以下、図面にニジ、本発明の詳細な説明する。
第１図（イ）の腕時計やバンド、指部等の素材１表面へ
、（ロ）のように卑金属めっき２ｔ−洩こす。卑金属め
つき２は、銅めつき、ニッケルめっき等が使用できる。
、（ロ）のように卑金属めっき２ｔ−洩こす。卑金属め
つき２は、銅めつき、ニッケルめっき等が使用できる。
、また素材１の表面は全めっき。
パラジウムめっき、ロジウムめっき等で覆れているもの
を使用する、 この上へ（ハ）のように、エポキシ１ｌｆｆｉ士脂、ア
クリル樹脂、フォトレジストにエシハターン３全形成す
る。エポキシ樹脂やアクリル樹脂等のレジストインクは
マクリーン印判やタコ印刷に工って行い、フォトレジス
トはスピンナーを使用して塗布し、π元−現像により必
要なファインパターンを得ることができる、 次に、次の様な薬品を使用して、卑金属めつき２か露出
した部分ｔ−除去して、レジストで覆われていない部分
の環上がめつき２を除去する。
を使用する、 この上へ（ハ）のように、エポキシ１ｌｆｆｉ士脂、ア
クリル樹脂、フォトレジストにエシハターン３全形成す
る。エポキシ樹脂やアクリル樹脂等のレジストインクは
マクリーン印判やタコ印刷に工って行い、フォトレジス
トはスピンナーを使用して塗布し、π元−現像により必
要なファインパターンを得ることができる、 次に、次の様な薬品を使用して、卑金属めつき２か露出
した部分ｔ−除去して、レジストで覆われていない部分
の環上がめつき２を除去する。
（１）５〜５０パーセント硝酸
（２）５〜２０パーセン） ３１４ 硫ｅアンモン（３
）３０〜４ｏボーメ塩化第二鉄 （４）過酸化水素水（２８幅）１００ｄ／ｕ硫酸（９８
チ） ５ｗｔｔ／１リン酸（８０チ）
ｆ ５ｍｔＩ Ｂ。
）３０〜４ｏボーメ塩化第二鉄 （４）過酸化水素水（２８幅）１００ｄ／ｕ硫酸（９８
チ） ５ｗｔｔ／１リン酸（８０チ）
ｆ ５ｍｔＩ Ｂ。
この後、すぐに水洗して、金めつき、パラジウムめっき
、パラジウム［相］ニッケル合金めっき４等全行う。十
分な厚みのめっきを飛した後、塩化メチレン、ｔａ酸、
界面活性剤等で含むレジスト１４ｉ１１離糎に工）、レ
ジスト全剥離し、部分めっきをしだ第２図のような装飾
品士得ることができる。
、パラジウム［相］ニッケル合金めっき４等全行う。十
分な厚みのめっきを飛した後、塩化メチレン、ｔａ酸、
界面活性剤等で含むレジスト１４ｉ１１離糎に工）、レ
ジスト全剥離し、部分めっきをしだ第２図のような装飾
品士得ることができる。
本発明による部分めっきでは、めっきの密着を確認して
み７ｃ結果、装飾品と使用できる十分な密着を有してい
た。腕時計ケース、バンドにファインパターンを怖じた
後、２年携帯しても剥離するもの（１認められなかつπ
。まπ、めっき厚全厚くすることにより甲丸状の外観を
有することができ、彫金を行つ７ｃ様な外観を得ること
ができる。その罠め、高級なパターンを有する装飾品を
得られる。
み７ｃ結果、装飾品と使用できる十分な密着を有してい
た。腕時計ケース、バンドにファインパターンを怖じた
後、２年携帯しても剥離するもの（１認められなかつπ
。まπ、めっき厚全厚くすることにより甲丸状の外観を
有することができ、彫金を行つ７ｃ様な外観を得ること
ができる。その罠め、高級なパターンを有する装飾品を
得られる。
【図面の簡単な説明】
第１図（（イ）〜（へ）は本発明に係る実（至）？ｆ１
１の工程を表わす断面図、第２図（・′Ｊ本発明で１坪
ちれた装飾品外観）ｆｌＩ′ｆ、表ｖ′ｒ０ １・・・素材 ２・・・卑金属めっき３・・・
パターン ４・・・貴金属めっき以上
１の工程を表わす断面図、第２図（・′Ｊ本発明で１坪
ちれた装飾品外観）ｆｌＩ′ｆ、表ｖ′ｒ０ １・・・素材 ２・・・卑金属めっき３・・・
パターン ４・・・貴金属めっき以上
Claims (1)
- 被めっき装飾品に卑金属めっきを行い、前記卑金属めっ
きの上をレジストで不覆部分を覆い、前記レジストで覆
われていない卑金属めっき部分を腐食液で除去する処理
をした後、貴金属めっきをすることを特徴とした装飾品
の部分めっき方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20089084A JPS6179785A (ja) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | 装飾品の部分めつき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20089084A JPS6179785A (ja) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | 装飾品の部分めつき方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6179785A true JPS6179785A (ja) | 1986-04-23 |
Family
ID=16431949
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20089084A Pending JPS6179785A (ja) | 1984-09-26 | 1984-09-26 | 装飾品の部分めつき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6179785A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003038218A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-12 | Citizen Watch Co Ltd | バンド用連結ピン及びその製造方法 |
| US7631418B2 (en) * | 2004-02-19 | 2009-12-15 | Headway Technologies, Inc. | Process to form an ABS through aggressive stitching |
-
1984
- 1984-09-26 JP JP20089084A patent/JPS6179785A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003038218A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-12 | Citizen Watch Co Ltd | バンド用連結ピン及びその製造方法 |
| US7631418B2 (en) * | 2004-02-19 | 2009-12-15 | Headway Technologies, Inc. | Process to form an ABS through aggressive stitching |
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