JPS59197562A - 装身具の表面処理方法 - Google Patents
装身具の表面処理方法Info
- Publication number
- JPS59197562A JPS59197562A JP6875183A JP6875183A JPS59197562A JP S59197562 A JPS59197562 A JP S59197562A JP 6875183 A JP6875183 A JP 6875183A JP 6875183 A JP6875183 A JP 6875183A JP S59197562 A JPS59197562 A JP S59197562A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium nitride
- nitride film
- pattern
- film
- etching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
の装身具の表面処理方法に関するもので、金属の装身具
の表面に耐熱性のインキ又は耐熱性の塗料の有機マスク
材で部分的にマスキングした後、イオンブレーティング
処理又はスパッタリング処理により全面に金膜を形成し
、前記耐熱性の有機マスク材を剥離して金属表面の地肌
が出たところを、電気化学的又は、化学的にエツチング
した後一全面にイオンブレーティング処理又はスパッタ
リング処理により窒化チタン膜を形成し、更に前記金膜
を剥離液で剥離して該金膜上の窒化チタン膜を除去して
前記エソ３チングした部分のみ望化チタン膜を残着させ
、装身具の表面を２色調にしたことを特徴とする。
の表面に耐熱性のインキ又は耐熱性の塗料の有機マスク
材で部分的にマスキングした後、イオンブレーティング
処理又はスパッタリング処理により全面に金膜を形成し
、前記耐熱性の有機マスク材を剥離して金属表面の地肌
が出たところを、電気化学的又は、化学的にエツチング
した後一全面にイオンブレーティング処理又はスパッタ
リング処理により窒化チタン膜を形成し、更に前記金膜
を剥離液で剥離して該金膜上の窒化チタン膜を除去して
前記エソ３チングした部分のみ望化チタン膜を残着させ
、装身具の表面を２色調にしたことを特徴とする。
従来の時計側、時計バンド、ペンダント等へ模様や書体
等を彫りこんでいる方法として、機械的方法と化学的方
法がある、機械的方法は、プレスによる壓打ちや一エン
グレマシーンによる彫刻で行なわれている。プレスによ
る型打ちは大量生産に向いているが、パターンの鮮明度
及び精度に欠けている。その上、加工出来る材質に制約
が有り一超硬合金の様な硬質金属の加工が出来ない。
等を彫りこんでいる方法として、機械的方法と化学的方
法がある、機械的方法は、プレスによる壓打ちや一エン
グレマシーンによる彫刻で行なわれている。プレスによ
る型打ちは大量生産に向いているが、パターンの鮮明度
及び精度に欠けている。その上、加工出来る材質に制約
が有り一超硬合金の様な硬質金属の加工が出来ない。
マタエングレマシーンによる彫刻は、バクーンの鮮明度
及び精度の高い物が得られる。
及び精度の高い物が得られる。
しかし大量生産に向かず一極細線の加工が出来ない。そ
の上、プレス加工と同様超硬合金の様な硬質金属の加工
も出来ない。
の上、プレス加工と同様超硬合金の様な硬質金属の加工
も出来ない。
一方、化学的方法は、フォトレジストを使用し時計側表
面にパターンを形成させ金属の露出部を薬品にて化学的
に溶解させパターンを彫りこんでいる。この方法は一写
真技法を使用するので精度の高い物が得られ極細線の加
工も出来る。その上−超硬合金の様な硬質金属の加工も
可能である。
面にパターンを形成させ金属の露出部を薬品にて化学的
に溶解させパターンを彫りこんでいる。この方法は一写
真技法を使用するので精度の高い物が得られ極細線の加
工も出来る。その上−超硬合金の様な硬質金属の加工も
可能である。
しかし大量生産に向かず、曲面等の複雑な面への加工が
難しく−パターンの位置出し精度にも問題が生じること
が多い。これは、時計側ひとつひとつにフォトレジスト
をコーティングして乾燥を行ない−その後ポジフィルム
又はネガフィルムを時刷側の所定位置に合せ露光−現像
の工程で時計側表面にパターンを形成させて行くため一
平面以外の曲面等であると、フォトレジスト面とポジフ
ィルム面との密着が悪くなり一露光工程で光がポジフィ
ルムの乳剤面とフォトレジストのスキ間より入いりこみ
パターン形成が出来なくなるためである。その上、位置
精度も必然と悪くなる。
難しく−パターンの位置出し精度にも問題が生じること
が多い。これは、時計側ひとつひとつにフォトレジスト
をコーティングして乾燥を行ない−その後ポジフィルム
又はネガフィルムを時刷側の所定位置に合せ露光−現像
の工程で時計側表面にパターンを形成させて行くため一
平面以外の曲面等であると、フォトレジスト面とポジフ
ィルム面との密着が悪くなり一露光工程で光がポジフィ
ルムの乳剤面とフォトレジストのスキ間より入いりこみ
パターン形成が出来なくなるためである。その上、位置
精度も必然と悪くなる。
また２色化によるデザインバリニー７−Ｉンの拡大を計
るため、エツチングした部分にイオンブレーティング処
理又は−スパッタリング処理により窒化チタン膜をコー
ティングしたい場合−フォトレジストの耐熱特性が悪い
ためイオンブレーティング処理又はスパッタリング処理
時に発生する２２０°Ｃから３００°Ｃの温度に耐るこ
とか出来ず、マスク材としての機能を果たさない・ このため、時計側にコーティングしであるフォトレジス
トを剥離して、エツチングされた部分以外の所に耐熱特
性の有る耐熱性インキ又は−耐熱性塗料で再度コーティ
ングしなげればならず作業性が非常に悪く大幅なコスト
アップとなる。
るため、エツチングした部分にイオンブレーティング処
理又は−スパッタリング処理により窒化チタン膜をコー
ティングしたい場合−フォトレジストの耐熱特性が悪い
ためイオンブレーティング処理又はスパッタリング処理
時に発生する２２０°Ｃから３００°Ｃの温度に耐るこ
とか出来ず、マスク材としての機能を果たさない・ このため、時計側にコーティングしであるフォトレジス
トを剥離して、エツチングされた部分以外の所に耐熱特
性の有る耐熱性インキ又は−耐熱性塗料で再度コーティ
ングしなげればならず作業性が非常に悪く大幅なコスト
アップとなる。
本発明は上記の如き問題点を解決し、曲面等の複雑な面
に高精度で鮮明度の高いエツチングパターンを形成させ
ることが出来−しかも安価で簡単にエツチング部分と表
面の２色調を有する時計用外装部品等の装身具を提供す
ることを目的とじたものである、 以下図面に示す本発明の実施例について説明する。
に高精度で鮮明度の高いエツチングパターンを形成させ
ることが出来−しかも安価で簡単にエツチング部分と表
面の２色調を有する時計用外装部品等の装身具を提供す
ることを目的とじたものである、 以下図面に示す本発明の実施例について説明する。
第１図から第６図は、本発明の一実施例であり、各々時
計側の表面にエツチングによりパターンを形成させ、そ
の上エツチング部分に窒化チタン膜をコーティングして
２色化を行なう加工工程を示す時計側の部分断面図で有
る。第１図の様に、良く洗浄された完成ステライト時計
側１の上面にエポキシ樹脂をベースに尿素樹脂との混合
からなる耐熱性インキを使用して−スクリーン印刷法に
よりマスキングパターン２を形成させる。
計側の表面にエツチングによりパターンを形成させ、そ
の上エツチング部分に窒化チタン膜をコーティングして
２色化を行なう加工工程を示す時計側の部分断面図で有
る。第１図の様に、良く洗浄された完成ステライト時計
側１の上面にエポキシ樹脂をベースに尿素樹脂との混合
からなる耐熱性インキを使用して−スクリーン印刷法に
よりマスキングパターン２を形成させる。
尚、耐熱性インキは、シリコン樹脂をベースとしたもの
も使用が可能である。マスキングインキに耐熱特性が必
要な理由は、イオンブレーティング処理で発生ずる熱が
約２４０°Ｃの高温に達するためて、今回使用の耐熱性
インキは２７０°Ｇの温度に耐える。
も使用が可能である。マスキングインキに耐熱特性が必
要な理由は、イオンブレーティング処理で発生ずる熱が
約２４０°Ｃの高温に達するためて、今回使用の耐熱性
インキは２７０°Ｇの温度に耐える。
またマスキングパターン２の形成方法としては一塗装や
筆塗り、各種印刷等も可能であり、マスキングパターン
を形成させる品物の形状−位置、精度等により最適なマ
スキングパターンの形成方法を選ぶ。
筆塗り、各種印刷等も可能であり、マスキングパターン
を形成させる品物の形状−位置、精度等により最適なマ
スキングパターンの形成方法を選ぶ。
尚、曲面に極細線のマスキングパターンを形成させる方
法は、タコ印刷法で行なうことが最適でアル。次にマス
キングパターン２を形成させた時計側１を常温で１５分
から２０分放置してピンホール等の防止や表面のレベリ
ングを向上させる。
法は、タコ印刷法で行なうことが最適でアル。次にマス
キングパターン２を形成させた時計側１を常温で１５分
から２０分放置してピンホール等の防止や表面のレベリ
ングを向上させる。
次に１００°Ｃ１３０分から４５分の条件で仮乾燥を行
ない−その後２３０°Ｃｌ２Ｏ分から３０分の条件で完
全乾燥を行なう。
ない−その後２３０°Ｃｌ２Ｏ分から３０分の条件で完
全乾燥を行なう。
尚、仮乾燥の目的はマスキングパターン２のインキ表面
から急激に硬化することを防ぎ内部より除々に硬化させ
インキ内部にガスが残留することを防ぐと共に、ピンホ
ールの発生を防ぐ目的もあり非常に重要である。
から急激に硬化することを防ぎ内部より除々に硬化させ
インキ内部にガスが残留することを防ぐと共に、ピンホ
ールの発生を防ぐ目的もあり非常に重要である。
またマスキングパターン２のインキ中にガスが残留した
状態で後述する第２図のようにイオンブレーティング処
理により金膜６を被覆すると、高真空中で処理するため
残留していたガスが漏れ出し−被覆した金膜乙の密着力
が著しく低下してエツチング機程で問題が発生する。前
記の通り第１図の状態で完全乾燥をした後に第２図の様
に、マスキングパターン２を形成した時計側１にイオン
ブレーティング処理により全面に金膜６を被覆する。
状態で後述する第２図のようにイオンブレーティング処
理により金膜６を被覆すると、高真空中で処理するため
残留していたガスが漏れ出し−被覆した金膜乙の密着力
が著しく低下してエツチング機程で問題が発生する。前
記の通り第１図の状態で完全乾燥をした後に第２図の様
に、マスキングパターン２を形成した時計側１にイオン
ブレーティング処理により全面に金膜６を被覆する。
尚、金膜乙の被覆方法として湿式メッキによる方法もあ
るが、ステライト−ステンレス等に対して密着が得られ
ず、エツチング加工において簡単に剥れが起こるため使
用が出来ない、次に第３図の様に一時計側１の上面に形
成されたマスキングパターン２の耐熱碌インキを剥離す
る。この時マスキングパターン２の上に乗った金膜６が
同時に除去され、ステライト面４が露出する。
るが、ステライト−ステンレス等に対して密着が得られ
ず、エツチング加工において簡単に剥れが起こるため使
用が出来ない、次に第３図の様に一時計側１の上面に形
成されたマスキングパターン２の耐熱碌インキを剥離す
る。この時マスキングパターン２の上に乗った金膜６が
同時に除去され、ステライト面４が露出する。
尚、剥離液は、塩素系溶剤−アルコール類、エステル系
溶剤、蟻酸−非イオン系界面活性剤、パラフィンワック
スの混合よりなり、剥離条件は常温で１０分から１５分
の浸漬で剥離することが可能である。
溶剤、蟻酸−非イオン系界面活性剤、パラフィンワック
スの混合よりなり、剥離条件は常温で１０分から１５分
の浸漬で剥離することが可能である。
また、もっと早く剥離したい場合は、剥離液を約４０℃
に加温し更に超音波発振機を使用することにより短時間
で行なうことが出来る。
に加温し更に超音波発振機を使用することにより短時間
で行なうことが出来る。
尚、前記剥離液のうちパラフィンワックスは溶剤類の蒸
発を防ぐためであり、その他の成分は最適な条件でマス
キングパターン２の耐熱性インキを剥離する様に組合せ
たものであり、他の組合せでは剥離が難しくなったり一
時計側１の素材を侵す危険がある。次に第４図の様に、
時計側１のステライト面４が露出した部分を塩化第２鉄
をベースに塩酸と微量のふっ化物からなる混合液でエツ
チングを行ない時計側１０表面に必要と１−る深さでエ
ツチングパターン５を形成させる。
発を防ぐためであり、その他の成分は最適な条件でマス
キングパターン２の耐熱性インキを剥離する様に組合せ
たものであり、他の組合せでは剥離が難しくなったり一
時計側１の素材を侵す危険がある。次に第４図の様に、
時計側１のステライト面４が露出した部分を塩化第２鉄
をベースに塩酸と微量のふっ化物からなる混合液でエツ
チングを行ない時計側１０表面に必要と１−る深さでエ
ツチングパターン５を形成させる。
尚−エツチング液は４０℃から５００Ｇの温度で使用し
、エツチングするステライト面４に常に新しいエツチン
グ液が均一に当る様にする。またエツチング装置につい
ては−バドル式エツチング機又はスプレ一式エツチング
機が最適で一エンチングする金属の種類によりあらかじ
めエツチング条件を求めておく必要がある、 一方一化学的なエツチング方法の他に一電気化学的な電
解エツチングによるエツチングパターン形成方法も可能
である。次に、エツチングパターン５を形成した時計側
１を良く洗浄を行ない乾燥後第５図の様に、イオンブレ
ーティング処理で窒化チタン膜６を全面に被覆する。次
に、一般に市販されているシアン系の金剥離液に時計側
１を浸漬して金膜６を剥離する、この時、第６図の様に
、エツチングパターン５にコーティングされた窒化チタ
ン膜６を除き、金膜３の上に乗った部分の雪化チタン膜
６は金膜６と同時に剥離され白色のステライト面４とな
る。次に、剥離処理された時計側１を洗浄して乾燥を行
なう、 第７図は、上記方法で完成したエツチングパターン５を
有する時削側１の正面図で、エツチングパターン５に金
色の窒化チタン膜６がコーティングされ、その他の部分
は白色のステライト面からなっている。
、エツチングするステライト面４に常に新しいエツチン
グ液が均一に当る様にする。またエツチング装置につい
ては−バドル式エツチング機又はスプレ一式エツチング
機が最適で一エンチングする金属の種類によりあらかじ
めエツチング条件を求めておく必要がある、 一方一化学的なエツチング方法の他に一電気化学的な電
解エツチングによるエツチングパターン形成方法も可能
である。次に、エツチングパターン５を形成した時計側
１を良く洗浄を行ない乾燥後第５図の様に、イオンブレ
ーティング処理で窒化チタン膜６を全面に被覆する。次
に、一般に市販されているシアン系の金剥離液に時計側
１を浸漬して金膜６を剥離する、この時、第６図の様に
、エツチングパターン５にコーティングされた窒化チタ
ン膜６を除き、金膜３の上に乗った部分の雪化チタン膜
６は金膜６と同時に剥離され白色のステライト面４とな
る。次に、剥離処理された時計側１を洗浄して乾燥を行
なう、 第７図は、上記方法で完成したエツチングパターン５を
有する時削側１の正面図で、エツチングパターン５に金
色の窒化チタン膜６がコーティングされ、その他の部分
は白色のステライト面からなっている。
尚一時計側に限らずバンド、ペンダント等の装月具につ
いても上記の様な方法で乾式メッキにより、エツチング
パターンの形成及びその上面への窒化チタン膜のコーテ
ィングで金色化が出来、エツチングパターンと表面の２
色化が可能である。
いても上記の様な方法で乾式メッキにより、エツチング
パターンの形成及びその上面への窒化チタン膜のコーテ
ィングで金色化が出来、エツチングパターンと表面の２
色化が可能である。
この様にして本発明により作られたエツチングパターン
を有するものは、従来方法では非常に難しかった曲面へ
の精度の高（・エツチングパターンを形成させることが
比較的簡単に可能となり、作業性が向上され、大量生産
も可能である。またエツチングパターン部を簡単に金色
化することが出来、表面との２色化がなされ、デザイン
バリエーションの拡大も計れ、高級感の有る優れた外観
品質を有し、しかも安定して時計用外装部品、ペンダン
ト等の装身具を製作出来るという、多大な効果を有する
。
を有するものは、従来方法では非常に難しかった曲面へ
の精度の高（・エツチングパターンを形成させることが
比較的簡単に可能となり、作業性が向上され、大量生産
も可能である。またエツチングパターン部を簡単に金色
化することが出来、表面との２色化がなされ、デザイン
バリエーションの拡大も計れ、高級感の有る優れた外観
品質を有し、しかも安定して時計用外装部品、ペンダン
ト等の装身具を製作出来るという、多大な効果を有する
。
第１図より第７図は、本発明の一実施例で一第１図より
第６図はそれぞれ時計側の表面処理工程を示す時計側の
部分断面図、第７図は、完成時計側の正面図である。 １・・・・・・時計側−２・・・・・マスキングパター
ン−３・・・・・金膜、４・・・ステライト面、５・・
・・・・エツチングパターン、
第６図はそれぞれ時計側の表面処理工程を示す時計側の
部分断面図、第７図は、完成時計側の正面図である。 １・・・・・・時計側−２・・・・・マスキングパター
ン−３・・・・・金膜、４・・・ステライト面、５・・
・・・・エツチングパターン、
Claims (1)
- 金属の表面に耐熱性の有機マスク材で部分的にマスキン
グした後、金属表面の全面にイオンブレーティング処理
又はスパッタリング処理により金膜な被覆し、前記耐熱
性の有機マスク材を剥離して金属表面の地肌が出たとこ
ろを、電気化学的又は、化学的にエツチングした後、金
属表面の全面にイオンブレーティング処理又はスパッタ
リング処理により窒化チタン膜を形成し、更に前記金膜
を剥離液で剥離して該金膜上の窒化チタン膜を除去して
前記エツチングした部分のみ窒化チタン膜を残着させた
ことを特徴とする装身具の表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6875183A JPS59197562A (ja) | 1983-04-19 | 1983-04-19 | 装身具の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6875183A JPS59197562A (ja) | 1983-04-19 | 1983-04-19 | 装身具の表面処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59197562A true JPS59197562A (ja) | 1984-11-09 |
Family
ID=13382780
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6875183A Pending JPS59197562A (ja) | 1983-04-19 | 1983-04-19 | 装身具の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59197562A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6296666A (ja) * | 1985-10-22 | 1987-05-06 | Seiko Epson Corp | 時計用外装部品 |
| JPS63128166A (ja) * | 1986-11-17 | 1988-05-31 | Seiko Epson Corp | 時計用外装部品 |
-
1983
- 1983-04-19 JP JP6875183A patent/JPS59197562A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6296666A (ja) * | 1985-10-22 | 1987-05-06 | Seiko Epson Corp | 時計用外装部品 |
| JPS63128166A (ja) * | 1986-11-17 | 1988-05-31 | Seiko Epson Corp | 時計用外装部品 |
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