JPH03277782A - 外装部品のエッチング加工方法 - Google Patents
外装部品のエッチング加工方法Info
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- JPH03277782A JPH03277782A JP8040190A JP8040190A JPH03277782A JP H03277782 A JPH03277782 A JP H03277782A JP 8040190 A JP8040190 A JP 8040190A JP 8040190 A JP8040190 A JP 8040190A JP H03277782 A JPH03277782 A JP H03277782A
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- photoresist film
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- film
- photoresist
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Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、時計用あるいは、装飾品等の金属表面に微細
なエツチングパターンを形成する加工方法に関するもの
である。
なエツチングパターンを形成する加工方法に関するもの
である。
［発明の概要］
本発明は金属または合金から成る外装部品の表面平坦部
にあらかじめフォトレジスト膜を被覆したのち、該表面
平坦部以外の個所に電着塗装膜を被覆しマスキングした
うえでフォトレジスト膜をバターニングすることにより
立体形状を有する外装部品の表面に微細なエツチングパ
ターンを形成する加工方法を提供するものである。
にあらかじめフォトレジスト膜を被覆したのち、該表面
平坦部以外の個所に電着塗装膜を被覆しマスキングした
うえでフォトレジスト膜をバターニングすることにより
立体形状を有する外装部品の表面に微細なエツチングパ
ターンを形成する加工方法を提供するものである。
［従来の技術］
従来、時計用あるいは、装飾品等に外装部品のエツチン
グパターンは、表示目盛りや装飾的要素として用いられ
てきた。これらエツチングパターンを施す部品は従来、
時計側の裏ぶたのような平坦な形状品に限られていたが
、近年、時計側の胴、ベゼル等立体構造品にも多く適用
されるようになってきている。これらの立体構造品につ
いては、エツチングパターンをフォトレジストあるいは
印刷で形成したのち後工程でのエツチングにおけるパタ
ーン部以外の侵食を防止するためのマスキングとして、
インクや塗料を筆塗り等で施していた。また他の方法と
しては、特別な治具を用いて、エツチング面以外の部分
を治具に落し込んで、その界面に工・ンチンダ液が浸入
しないように樹脂等でシールしたうえでフォトレジスト
膜を金属表面に被覆していた。このようにパターニング
した被加工品を塩化第二鉄液等の溶液でエツチングする
のが一般的な方法であった。
グパターンは、表示目盛りや装飾的要素として用いられ
てきた。これらエツチングパターンを施す部品は従来、
時計側の裏ぶたのような平坦な形状品に限られていたが
、近年、時計側の胴、ベゼル等立体構造品にも多く適用
されるようになってきている。これらの立体構造品につ
いては、エツチングパターンをフォトレジストあるいは
印刷で形成したのち後工程でのエツチングにおけるパタ
ーン部以外の侵食を防止するためのマスキングとして、
インクや塗料を筆塗り等で施していた。また他の方法と
しては、特別な治具を用いて、エツチング面以外の部分
を治具に落し込んで、その界面に工・ンチンダ液が浸入
しないように樹脂等でシールしたうえでフォトレジスト
膜を金属表面に被覆していた。このようにパターニング
した被加工品を塩化第二鉄液等の溶液でエツチングする
のが一般的な方法であった。
［発明が解決しようとする課題］
しかし、従来の外装部品のエツチング加工は次のような
課題を有していた。立体構造の外装部品にフォトレジス
トを均一に塗布することは困難であり大抵は平坦部以外
はレジストの溜りや薄い個所が発生し露光・現像の過不
足でレジスト膜が脱落するという課題があった。そのた
め外装部品の側面や裏面はインクあるいは塗料を筆など
を用いて手塗でまんべんなくマスキングしなければなら
ず、この作業に著しく時間を要し生産性を阻害する結果
となり、また、コスト的にも極めて割高であり量産に適
用し難い状況にあった。
課題を有していた。立体構造の外装部品にフォトレジス
トを均一に塗布することは困難であり大抵は平坦部以外
はレジストの溜りや薄い個所が発生し露光・現像の過不
足でレジスト膜が脱落するという課題があった。そのた
め外装部品の側面や裏面はインクあるいは塗料を筆など
を用いて手塗でまんべんなくマスキングしなければなら
ず、この作業に著しく時間を要し生産性を阻害する結果
となり、また、コスト的にも極めて割高であり量産に適
用し難い状況にあった。
［課題を解決するための手段］
上記の課題を解決せるために、本発明は、フォトレジス
トでバターニングを施す表面平坦部以外は、フォトレジ
スト膜被覆後、電を塗装によりマスキングを施すように
した。こののち、フォトレジスト膜面を露光、現像し露
出した金属面を工・ンチングすることにより従来の課題
を解決することができる。
トでバターニングを施す表面平坦部以外は、フォトレジ
スト膜被覆後、電を塗装によりマスキングを施すように
した。こののち、フォトレジスト膜面を露光、現像し露
出した金属面を工・ンチングすることにより従来の課題
を解決することができる。
［イ乍用］
上記のように表面平坦部フォトレジスト膜面以外の立体
形状部分を電着塗装膜にて被覆するようにすれば、エツ
チング液侵食防止のためのマスキングを均一に形成させ
ることができる。
形状部分を電着塗装膜にて被覆するようにすれば、エツ
チング液侵食防止のためのマスキングを均一に形成させ
ることができる。
［実施例］
以下に本発明の実施例を図面に基すき説明する。第１図
において、ステンレススチールにより加工した時計用ケ
ース素地１に、第１図（１）に示すように、ネガタイプ
フォトレジスト膜２をスピンナで５００ｒｐｍの回転で
スピンコーティングした。表面平坦部に被覆されたフォ
トレジスト膜の厚みは約８ミクロンであった。この時計
用ケースｌを８０℃で３０分間ベーキングした後、次の
条件で電着塗装を行い、第１図（２）に示すような電着
塗装置ｔ！３を被覆した。膜厚は約２ミクロンであった
。
において、ステンレススチールにより加工した時計用ケ
ース素地１に、第１図（１）に示すように、ネガタイプ
フォトレジスト膜２をスピンナで５００ｒｐｍの回転で
スピンコーティングした。表面平坦部に被覆されたフォ
トレジスト膜の厚みは約８ミクロンであった。この時計
用ケースｌを８０℃で３０分間ベーキングした後、次の
条件で電着塗装を行い、第１図（２）に示すような電着
塗装置ｔ！３を被覆した。膜厚は約２ミクロンであった
。
電着塗装条件
１１＠塗料・・アニオン系１！ｉ＠Ｆ塗料電解電圧・・
ＤＣ２５Ｖ 温度・・・・２０℃ 時間・・ ・３分 １を看塗装後、水洗・水切りしたのち、熱風乾燥機で５
０℃で３０分間のセツティングを行い、更に８０°Ｃで
３０分間の焼付けを行った。次に、所望のマスクパター
ンをフォトレジスト膜面に当てて、高圧水銀灯で露光し
、所定の現像液で現像した結果、第１図（３）に示すよ
うなフォトレジストパターン４を得た１次に熱風乾燥機
で１３０℃、３０分間のベーキングを行いレジスト膜を
硬化させたのち、スプレー式エツチング装置内で、４５
度ボーメ塩化第二鉄液（液温４０°Ｃ）をフォトレジス
ト膜面に１０分間スプレーエツチングした結果、現像に
より素地の露出しているパターン部が約５０ミクロンの
深さで食刻されて、第１図（４）に示すようなエツチン
グパターン５を形成した。次に所定の剥離液で、フォト
レジスト膜および電着塗装膜を除去し、第１図（５）に
示すようなエツチングパターンを有する時計用ケースを
得た。
ＤＣ２５Ｖ 温度・・・・２０℃ 時間・・ ・３分 １を看塗装後、水洗・水切りしたのち、熱風乾燥機で５
０℃で３０分間のセツティングを行い、更に８０°Ｃで
３０分間の焼付けを行った。次に、所望のマスクパター
ンをフォトレジスト膜面に当てて、高圧水銀灯で露光し
、所定の現像液で現像した結果、第１図（３）に示すよ
うなフォトレジストパターン４を得た１次に熱風乾燥機
で１３０℃、３０分間のベーキングを行いレジスト膜を
硬化させたのち、スプレー式エツチング装置内で、４５
度ボーメ塩化第二鉄液（液温４０°Ｃ）をフォトレジス
ト膜面に１０分間スプレーエツチングした結果、現像に
より素地の露出しているパターン部が約５０ミクロンの
深さで食刻されて、第１図（４）に示すようなエツチン
グパターン５を形成した。次に所定の剥離液で、フォト
レジスト膜および電着塗装膜を除去し、第１図（５）に
示すようなエツチングパターンを有する時計用ケースを
得た。
［発明の効果］
以上述べたように１本発明はフォトレジストパターン面
以外の部分を電＠塗装膜にて被覆するので、エツチング
液侵食防止のためのマスキングを複雑立体形状部分に極
めて簡易に、しかも、完璧に施すことができる。また、
工・ンチングバクーンはフォトプロセスで形成するため
、高精度微細かつ、鮮明な表面仕上げを得ることが可能
である。
以外の部分を電＠塗装膜にて被覆するので、エツチング
液侵食防止のためのマスキングを複雑立体形状部分に極
めて簡易に、しかも、完璧に施すことができる。また、
工・ンチングバクーンはフォトプロセスで形成するため
、高精度微細かつ、鮮明な表面仕上げを得ることが可能
である。
したがって、本発明による加工方法を適用することによ
り高付加価値の外装部品を極めて安価に提供することが
可能である。なお、本発明は実施例で示したステンレス
材の他に銅合金材・ニッケル基合金材など他材質の外装
部品に対しても同様の効果を得ることができる。更には
、エツチング加工後、フォトレジスト膜、電着塗装膜を
剥離せず金めつき等の貴金属めっきを施すことによりエ
ッチングバクーンヘ選択的にめっきをつけることも可能
であるので、−層装飾性を高めることができ
り高付加価値の外装部品を極めて安価に提供することが
可能である。なお、本発明は実施例で示したステンレス
材の他に銅合金材・ニッケル基合金材など他材質の外装
部品に対しても同様の効果を得ることができる。更には
、エツチング加工後、フォトレジスト膜、電着塗装膜を
剥離せず金めつき等の貴金属めっきを施すことによりエ
ッチングバクーンヘ選択的にめっきをつけることも可能
であるので、−層装飾性を高めることができ
第１図は本発明の実施例の各工程毎の外装部品断面を示
す概要図である。 時計用ケース素地 フォトレジスト膜 １ｆ着塗装膜 フォトレジストパターン エツチングパターン
す概要図である。 時計用ケース素地 フォトレジスト膜 １ｆ着塗装膜 フォトレジストパターン エツチングパターン
Claims (1)
- 金属または、合金の外装部品の表面平坦部にフォトレジ
スト膜を被覆する工程と、フォトレジスト膜が被覆され
ていない側面および、裏面部に電着塗装膜を被覆する工
程と、フォトレジスト膜を露光・現像する露出した金属
面をエッチングする工程とから成る外装部品のエッチン
グ加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8040190A JPH03277782A (ja) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | 外装部品のエッチング加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8040190A JPH03277782A (ja) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | 外装部品のエッチング加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03277782A true JPH03277782A (ja) | 1991-12-09 |
Family
ID=13717270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8040190A Pending JPH03277782A (ja) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | 外装部品のエッチング加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03277782A (ja) |
-
1990
- 1990-03-28 JP JP8040190A patent/JPH03277782A/ja active Pending
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