JPS6176499A - 二重結合又は三重結合を含む基で10位置が置換された新規なステロイド、それらの製造法及び薬剤 - Google Patents
二重結合又は三重結合を含む基で10位置が置換された新規なステロイド、それらの製造法及び薬剤Info
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- C07J53/004—3 membered carbocyclic rings
- C07J53/007—3 membered carbocyclic rings in position 6-7
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、二重結合又は三重結合を含む基で10位置が
置換された新規なステロイド、それらの製造法、薬剤と
しての使用及びそれらを含有する製薬組成物に関する。
置換された新規なステロイド、それらの製造法、薬剤と
しての使用及びそれらを含有する製薬組成物に関する。
しかして、本発明の主題は、次の一般式Ic6
〔ここで、Rは
水素原子か、
多くとも8個の挨素原子を有する置換されていてもよい
アルキル、アルケニル若しくはアルキニル基か、 置換されていてもよいアリール若しくはアラルキル基か
、 保Wされたヒドロキシル、エステル化されていてもよい
カルボキシル、アミノ、保護されたアミン、モノ若しく
はジアルキルアミノ基か、 ハロゲン原子か、又は トリアルキルシリル基 を表わし、 1 R6及びR7は、R6及びR7がそれらを担持する炭素
と共にシクロプロピル基を形成するようなものか、又は
R6が水素原子を表わし且つR7が基R1(ここでR1
は水素原子か、多くとも6個の炭素原子を有する置換さ
れていてもよいアルキル、アルケニル若しく、はアルキ
ニル基か、又はアセチルチオ基を表わす)を表わすよう
なものであり、R2はメチル又はエチル基を表わし、 X及びYは、 (i)Xがアシル化若しくはエーテル化されていてもよ
いヒドロキシル基を表わし且つYが−CHz CH2C
Ox M (ここでMは水素原子、アルカリ金属原子又
はアンモニア基を表わす)又は−CH2OH基−CH2
OH基を表わすようなものか、又は (ii) x及びYが一緒になって基を表わすような
ものか、又は (iii) X及びYが一緒になって基(ここでal
kは多くとも8個の炭素原子を含有する) を表わすようなものか、又は (iv) x及びYが一緒になって基を表わすような
ものか、又は (v) Xがヒドロキシル基を表わし且つYが↑ −CH2−CH2−S −0M基(ここでMは上記の通
りである)を表わすようなものか、又は(vi) x
がアシル化若しくはエーテル化されていてもよいヒドロ
キシル基を表わし且つYが水素原子若しくは基Ra (
ここでR4は多くとも6個の炭素原子を有するアルキル
、アルケニル又はアルキニル基を表わす)を表わすよう
なもの であり、 1(2)及び6(7)位置にある点線はその点線を担持
する炭素の間に第二の結合が存在し得ることを示し、た
だしR6及びR7がそれらを担持する炭素と共にシクロ
プロピル基を形成するときは6(7)位置には第二の結
合は存在できないものとし、10位置にある置換基R−
C百C−上の点線はその点線を担持する炭素の間に第三
の結合が存在し得ることを示し、 6及び7位置の波線は、置換基R6及びR7が可能な位
置α又はβのいずれかであり得ることを示し、 そしてR6及びR7がそれぞれ水素原子を表わし、R2
がメチル基を表わし、Xがヒドロキシル又はアセトキシ
基を表わし且つYが水素原子を表わし、1(2)及び6
(7)位置にある点線がその点線を担持する炭素の間で
第二の結合を表わさず且つ10位置にある置換基上の点
線がその点線を担持する炭素の間に第三の結合が存在す
ることを示すときはRは水素原子を表わし得ないものと
する〕の化合物にある。
アルキル、アルケニル若しくはアルキニル基か、 置換されていてもよいアリール若しくはアラルキル基か
、 保Wされたヒドロキシル、エステル化されていてもよい
カルボキシル、アミノ、保護されたアミン、モノ若しく
はジアルキルアミノ基か、 ハロゲン原子か、又は トリアルキルシリル基 を表わし、 1 R6及びR7は、R6及びR7がそれらを担持する炭素
と共にシクロプロピル基を形成するようなものか、又は
R6が水素原子を表わし且つR7が基R1(ここでR1
は水素原子か、多くとも6個の炭素原子を有する置換さ
れていてもよいアルキル、アルケニル若しく、はアルキ
ニル基か、又はアセチルチオ基を表わす)を表わすよう
なものであり、R2はメチル又はエチル基を表わし、 X及びYは、 (i)Xがアシル化若しくはエーテル化されていてもよ
いヒドロキシル基を表わし且つYが−CHz CH2C
Ox M (ここでMは水素原子、アルカリ金属原子又
はアンモニア基を表わす)又は−CH2OH基−CH2
OH基を表わすようなものか、又は (ii) x及びYが一緒になって基を表わすような
ものか、又は (iii) X及びYが一緒になって基(ここでal
kは多くとも8個の炭素原子を含有する) を表わすようなものか、又は (iv) x及びYが一緒になって基を表わすような
ものか、又は (v) Xがヒドロキシル基を表わし且つYが↑ −CH2−CH2−S −0M基(ここでMは上記の通
りである)を表わすようなものか、又は(vi) x
がアシル化若しくはエーテル化されていてもよいヒドロ
キシル基を表わし且つYが水素原子若しくは基Ra (
ここでR4は多くとも6個の炭素原子を有するアルキル
、アルケニル又はアルキニル基を表わす)を表わすよう
なもの であり、 1(2)及び6(7)位置にある点線はその点線を担持
する炭素の間に第二の結合が存在し得ることを示し、た
だしR6及びR7がそれらを担持する炭素と共にシクロ
プロピル基を形成するときは6(7)位置には第二の結
合は存在できないものとし、10位置にある置換基R−
C百C−上の点線はその点線を担持する炭素の間に第三
の結合が存在し得ることを示し、 6及び7位置の波線は、置換基R6及びR7が可能な位
置α又はβのいずれかであり得ることを示し、 そしてR6及びR7がそれぞれ水素原子を表わし、R2
がメチル基を表わし、Xがヒドロキシル又はアセトキシ
基を表わし且つYが水素原子を表わし、1(2)及び6
(7)位置にある点線がその点線を担持する炭素の間で
第二の結合を表わさず且つ10位置にある置換基上の点
線がその点線を担持する炭素の間に第三の結合が存在す
ることを示すときはRは水素原子を表わし得ないものと
する〕の化合物にある。
一般式Iの化合物のうちでも、特に、本発明の主題は、
次式11 式6 〔ここで、Rは 水素原子か、 多くとも8個の炭素原子を有する置換されていてもよい
アルキル、アルケニル幸;シ<はアルキニル基か、 置換されていてもよいアリール若しくはアラルキル基か
、 保護されたヒト四キシル、エステル化されていてもよい
カルボキシル、アミノ、保護されたアミン、モノ若しく
はジアルキルアミン基か、 ハロゲン原子か、又は トリアルキルシリル基 を表わし、 R6及びR7は、R6及びR7がそれらを担持する炭素
と共にシクロプルピル基を形成するようなものか、文は
R6が水素原子を表わし且つRγが基R1(ここでR1
は水素原子か、多くとも6個の炭素原子を有する置換さ
れていてもよいアルキル、アルケニル若しくはアルキニ
ル基か、又はアセチルチオ基を表わす)を表わすような
ものであり、R2はメチル又はエチル基を表わし、 Xl及びYlは、 中 Xlがヒドロキシル基を表わし且つYlが−CR2
CR2C02M (ここでMは水素原子、アルカリ金属
原子又はアンモニウム基を表わす)又は−CR20H基
−CH20H基を表わすようなものか、又は (iり Xl及びYlが一緒になって基を表わすよう
なものか、又は (i!’l) X 1がアシル化若しくはエーテル化
されていてもよいヒドロキシル基を表わし且つYが水素
原子若しくは基R4(ここでR4は多くとも6個の炭素
原子を有するアルキル、アルケニル又はアルキニル基を
表わす)を表わすようなもの であり、 1(2)及び6(7)位置にある点線は、その点線を担
持する炭素の間に第二の結合が存在し得ることを示し、
ただしR6及びR7がそれらを担持する炭素と共にシク
ロプルピル基を形成するとさは6(7)位置には第二の
結合は存在できないものとし、10位置にある置換基R
−C−6C−上の点線はその点線を担持する炭素の間に
第三の結合が存在し得ることを示し、 6及び7位置の波線は、置換基R6及びR7が可能な位
置α又はβのいずれかであり得ることを示し、 そして、R6及びR7がそれぞれ水素原子を表わし、R
2がメチル基を表わし、Xがヒドロキシル又はアセI・
キシ基を表わし且つYが水素原子を表わし、1(2)及
び6(7)位置にある点線がその点線を担持する炭素の
間で第二の結合を表わさず且つ10位置にある置換基上
の点線がその点線を担持する炭素の間に第三の結合が存
在することを示すときはRは水素原子を表わし得ないも
のとする〕に相当する化合物にある。
次式11 式6 〔ここで、Rは 水素原子か、 多くとも8個の炭素原子を有する置換されていてもよい
アルキル、アルケニル幸;シ<はアルキニル基か、 置換されていてもよいアリール若しくはアラルキル基か
、 保護されたヒト四キシル、エステル化されていてもよい
カルボキシル、アミノ、保護されたアミン、モノ若しく
はジアルキルアミン基か、 ハロゲン原子か、又は トリアルキルシリル基 を表わし、 R6及びR7は、R6及びR7がそれらを担持する炭素
と共にシクロプルピル基を形成するようなものか、文は
R6が水素原子を表わし且つRγが基R1(ここでR1
は水素原子か、多くとも6個の炭素原子を有する置換さ
れていてもよいアルキル、アルケニル若しくはアルキニ
ル基か、又はアセチルチオ基を表わす)を表わすような
ものであり、R2はメチル又はエチル基を表わし、 Xl及びYlは、 中 Xlがヒドロキシル基を表わし且つYlが−CR2
CR2C02M (ここでMは水素原子、アルカリ金属
原子又はアンモニウム基を表わす)又は−CR20H基
−CH20H基を表わすようなものか、又は (iり Xl及びYlが一緒になって基を表わすよう
なものか、又は (i!’l) X 1がアシル化若しくはエーテル化
されていてもよいヒドロキシル基を表わし且つYが水素
原子若しくは基R4(ここでR4は多くとも6個の炭素
原子を有するアルキル、アルケニル又はアルキニル基を
表わす)を表わすようなもの であり、 1(2)及び6(7)位置にある点線は、その点線を担
持する炭素の間に第二の結合が存在し得ることを示し、
ただしR6及びR7がそれらを担持する炭素と共にシク
ロプルピル基を形成するとさは6(7)位置には第二の
結合は存在できないものとし、10位置にある置換基R
−C−6C−上の点線はその点線を担持する炭素の間に
第三の結合が存在し得ることを示し、 6及び7位置の波線は、置換基R6及びR7が可能な位
置α又はβのいずれかであり得ることを示し、 そして、R6及びR7がそれぞれ水素原子を表わし、R
2がメチル基を表わし、Xがヒドロキシル又はアセI・
キシ基を表わし且つYが水素原子を表わし、1(2)及
び6(7)位置にある点線がその点線を担持する炭素の
間で第二の結合を表わさず且つ10位置にある置換基上
の点線がその点線を担持する炭素の間に第三の結合が存
在することを示すときはRは水素原子を表わし得ないも
のとする〕に相当する化合物にある。
Rの基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、1tea−ブチル、t−ブチル基、分岐
していてもよいペンチル、ヘキシル、ヘプチル又はオク
チル基があげられる。
ピル、ブチル、1tea−ブチル、t−ブチル基、分岐
していてもよいペンチル、ヘキシル、ヘプチル又はオク
チル基があげられる。
マタ、ヒニル、アリル、1−プロペニル、ブテニルのよ
うなアルケニル基;エチニル、プルパルギル又はブチニ
ルのよりなアルキニル基もあげられる。
うなアルケニル基;エチニル、プルパルギル又はブチニ
ルのよりなアルキニル基もあげられる。
これらの各種の基は、例えば次の基、ヒドロキシル、エ
ステル化されていてもよいカルボキシル基(例えばメト
キシカルボニル、エトキシカルボニル)、保護されてい
てもよいアミノ(例えばトリチルアミノ、クロルアセチ
ルアミノ、トリフルオルアセチルアミノ、トリフルルエ
トキシカルボニルアミノ)、メチルアミノ及びジメチル
アミノのようなモノアルキル又はジアルキルアミノ、ハ
ロゲン(好ましくは塩素又は臭素)で置換されていても
よい。
ステル化されていてもよいカルボキシル基(例えばメト
キシカルボニル、エトキシカルボニル)、保護されてい
てもよいアミノ(例えばトリチルアミノ、クロルアセチ
ルアミノ、トリフルオルアセチルアミノ、トリフルルエ
トキシカルボニルアミノ)、メチルアミノ及びジメチル
アミノのようなモノアルキル又はジアルキルアミノ、ハ
ロゲン(好ましくは塩素又は臭素)で置換されていても
よい。
また、Rが表わし得るアリール及びアラルキル基は、好
ましくは、フェニル、ベンジル又はフェニルエチル基で
ある。これらの基も、同様に、例えば、下記の基、ヒド
ロキシル、エステル化されていてもよいカルボキシル、
アミノ、モノ又はジアルキルアミノ、メチルのようなア
ルキル、メトキシのようなアルコキシ、メチルチオのよ
うなアルキルチオ基で置換されていてもよい。
ましくは、フェニル、ベンジル又はフェニルエチル基で
ある。これらの基も、同様に、例えば、下記の基、ヒド
ロキシル、エステル化されていてもよいカルボキシル、
アミノ、モノ又はジアルキルアミノ、メチルのようなア
ルキル、メトキシのようなアルコキシ、メチルチオのよ
うなアルキルチオ基で置換されていてもよい。
Rが表わし得る保護されたヒドロキシル基は、例えばテ
トラヒドロピラニルオキシ又はt−ブチルオキシ基であ
ってよい。
トラヒドロピラニルオキシ又はt−ブチルオキシ基であ
ってよい。
好ましいトリアルキルシリル基はトリメチルシリル基で
ある。
ある。
R,が表わし得る基は、Rについて前記したもののうち
から選ぶことができる。R4についても同様である。
から選ぶことができる。R4についても同様である。
Mは、好ましくはナトリウム、カリウム又はすチウム原
子を表わす。
子を表わす。
Xがアシル化又はエーテル化されたヒドロキシル基を表
わすときは、好ましい基はアセチルオキシ、プロピオニ
ルオキシ、メトキシ又はエトキシである。
わすときは、好ましい基はアセチルオキシ、プロピオニ
ルオキシ、メトキシ又はエトキシである。
R1が水素原子と異なる置換基を表わすときは、その置
換基は好ましくは7α位置にある。また、R6及びR7
がこれらを担持する炭素と共に形成できるシクロプロピ
ル基は好ましくは6α、7βで化合物は、硫黄原子のレ
ベルで2個のジアステレオマーの形で存在し、これらは
互に分離でき、慣例に従って異性体A及びBと称される
。この場合に異性体Aはその融点が最高である方の異性
体である。
換基は好ましくは7α位置にある。また、R6及びR7
がこれらを担持する炭素と共に形成できるシクロプロピ
ル基は好ましくは6α、7βで化合物は、硫黄原子のレ
ベルで2個のジアステレオマーの形で存在し、これらは
互に分離でき、慣例に従って異性体A及びBと称される
。この場合に異性体Aはその融点が最高である方の異性
体である。
式(I)の化合物のうちでも、まず、次式(ここで、R
% R1、R2、X XY %点線及び波線は前記した
意味を有する) の化合物が好ましい。
% R1、R2、X XY %点線及び波線は前記した
意味を有する) の化合物が好ましい。
さらに詳しくは、本発明の主題は、基R及びR1が包含
できる置換基がヒドロキシル、エステル化されていても
よいカルボキシル、アミノ、作詩されたアミノ、モノ又
はジアルキルアミノ基及びハロゲン原子よりなる群から
選ばれる前記の式Iの化合物にある。
できる置換基がヒドロキシル、エステル化されていても
よいカルボキシル、アミノ、作詩されたアミノ、モノ又
はジアルキルアミノ基及びハロゲン原子よりなる群から
選ばれる前記の式Iの化合物にある。
まだ、本発明の主題は、
10位置にある置換基上の点線が第三の結合を表わし、
R2が水素原子、1〜3個の炭素原子を有するアルキル
基、メチルヒドロキシル基及びフェニル基よりなる群か
ら選ばれる式■の化合物;置換基R1が水素原子、1〜
4個の炭素原子を有するアルキル基及びアセチルチオ基
よりなる群から選ばれ、X及びYはXがヒドロキシル基
を表わし且つYが−CM2CH,C02M’基(ここで
M/は水素原子又はアルカリ金属原子を表わす)を表わ
すか若しくはYが水素原子を表わすようなものか、又は
X及びYが一緒になって基 を表わすようなものである式Iの化合物にある。
R2が水素原子、1〜3個の炭素原子を有するアルキル
基、メチルヒドロキシル基及びフェニル基よりなる群か
ら選ばれる式■の化合物;置換基R1が水素原子、1〜
4個の炭素原子を有するアルキル基及びアセチルチオ基
よりなる群から選ばれ、X及びYはXがヒドロキシル基
を表わし且つYが−CM2CH,C02M’基(ここで
M/は水素原子又はアルカリ金属原子を表わす)を表わ
すか若しくはYが水素原子を表わすようなものか、又は
X及びYが一緒になって基 を表わすようなものである式Iの化合物にある。
さらに詳しくは、本発明の主題は、後記の実施例に記載
の化合物、特に、下記の化合物にある。
の化合物、特に、下記の化合物にある。
10β−エチニル−17β−とドルキシ−3−オキソ−
19−ノル−17α−プレグナ−4,9(11)−ジエ
ン−21−カルボン酸のγ−ラクト ン 、 10β−(1−プロピニル)−17β−ヒドロキシ−5
−オキソ−19−ノル−11α−プレグナ−4,9(1
1)−ジエン−21−カルボン酸のγ−ラクトン、 10β−(3−ヒドロキシ−1−プロピニル)−17β
−ヒドロキシ−3−オキソ−19−ノル−17α−プレ
グナ−4,9(11)−ジエン−21−カルボン酸のγ
−ラクトン、 10β−エチニル−7α−アセチルチオ−17βヒドロ
キシ−3−オキソ−19−フルー17α−プレグナ−4
,9(11)−ジエン−21−カルボン酸のγ−ラクト
ン、 10β−エチニル−17β−ヒドロキシ−3−オキソ−
19−だドアα−プロピル−17α−プレグナー4.9
(,11)−ジエン−21−カルボン酸のγ−ラク゛ト
ン、 17β−ヒドロキシ−10β−(1−プロピニル)エス
トラ−4,9(11)−ジエン−6−オン。
19−ノル−17α−プレグナ−4,9(11)−ジエ
ン−21−カルボン酸のγ−ラクト ン 、 10β−(1−プロピニル)−17β−ヒドロキシ−5
−オキソ−19−ノル−11α−プレグナ−4,9(1
1)−ジエン−21−カルボン酸のγ−ラクトン、 10β−(3−ヒドロキシ−1−プロピニル)−17β
−ヒドロキシ−3−オキソ−19−ノル−17α−プレ
グナ−4,9(11)−ジエン−21−カルボン酸のγ
−ラクトン、 10β−エチニル−7α−アセチルチオ−17βヒドロ
キシ−3−オキソ−19−フルー17α−プレグナ−4
,9(11)−ジエン−21−カルボン酸のγ−ラクト
ン、 10β−エチニル−17β−ヒドロキシ−3−オキソ−
19−だドアα−プロピル−17α−プレグナー4.9
(,11)−ジエン−21−カルボン酸のγ−ラク゛ト
ン、 17β−ヒドロキシ−10β−(1−プロピニル)エス
トラ−4,9(11)−ジエン−6−オン。
これらの化合物のうちでも特に考慮される化合物は、下
記のものである。
記のものである。
10β−エチニル−17β−ヒドロキシ−3−オキソ−
19−ノル−17α−プレグナ−4,9(11)−ジエ
ン−21−カルボン酸のγ−ラクトン、及び 1oβ−(1−プロピニル)−17β−ヒドロキシ−3
−オキソ−19−ノル−17α−プレグナ−4,9(1
1)−ジエン−21−カルボン酸のγ−ラクトン。
19−ノル−17α−プレグナ−4,9(11)−ジエ
ン−21−カルボン酸のγ−ラクトン、及び 1oβ−(1−プロピニル)−17β−ヒドロキシ−3
−オキソ−19−ノル−17α−プレグナ−4,9(1
1)−ジエン−21−カルボン酸のγ−ラクトン。
また、本発明の主題は、前記の式Iの化合物の製造方法
にあり、これは次式■ H 〔ここで、R′はR(Rは先に示した意味を有する)か
又は反応性官能基が保護されている置換基Rを表わし、
R2は先に示した意味を有し、Kはケトン官能基の保護
基を表わす〕 の化合物を、 ■)まず強塩基の存在下にハ四ゲン化トリメチルスルホ
ニウムで、次いでアセトニトリルの金属誘導体で、そし
て最後に塩基で、次いで酸で処理するか、又は、まず強
塩基の存在下に次式(ここでa、1には1−J4個の炭
素原子を有するアルキ/L/晶を表わす) の試剤で、次いで酸で処理するかして次式飄■ の化合物を得るか、成るいは ■)次式 %式% (ここでXはハpゲン原子を表わし、Bはとド四キシル
基の保護基を表わす) の試剤又はマグネシウムアルコラードで処理し、次いで
酸で処理した後に次式I′A の化合物を得、この式IIAの化合物を場合により塩基
の存在下にスルホン酸ハpゲン化物で処理して次式I′
。
にあり、これは次式■ H 〔ここで、R′はR(Rは先に示した意味を有する)か
又は反応性官能基が保護されている置換基Rを表わし、
R2は先に示した意味を有し、Kはケトン官能基の保護
基を表わす〕 の化合物を、 ■)まず強塩基の存在下にハ四ゲン化トリメチルスルホ
ニウムで、次いでアセトニトリルの金属誘導体で、そし
て最後に塩基で、次いで酸で処理するか、又は、まず強
塩基の存在下に次式(ここでa、1には1−J4個の炭
素原子を有するアルキ/L/晶を表わす) の試剤で、次いで酸で処理するかして次式飄■ の化合物を得るか、成るいは ■)次式 %式% (ここでXはハpゲン原子を表わし、Bはとド四キシル
基の保護基を表わす) の試剤又はマグネシウムアルコラードで処理し、次いで
酸で処理した後に次式I′A の化合物を得、この式IIAの化合物を場合により塩基
の存在下にスルホン酸ハpゲン化物で処理して次式I′
。
の化合物を得るか、成るいは
■)還元剤で、次いで酸で処理して次式13Aの化合物
を得るか、成るいは ■)次式 %式% (ここでR,は先に示した意味を有し、Xはハシゲン原
子を表わす) の有機金属化合物で、次いで酸で処理して次式の化合物
を得るか、成るいは ■)まず、強塩基の存在下にハ四ゲン化トリメチルスル
ホニウムで、次いで酸の存在下に次式%式% (ここでalkは前記の通りである) の第一アミンで、り0/I/ぎ酸アルキルで、強塩基で
、そして最後に酸で処理して次式I5Aの化合物を得る
か、成るいは ■)まず強塩基の存在下にハロゲン化トリメチルスルホ
ニウムで、次いでn−ブチルリチウムの存在下にt−ブ
チルメチルスルホニルで処理して次式 の化合物を硫黄原子のレベルでの2個のジアステレオマ
ーの一混合物の形で得、所望ならばこの2個のジアステ
レオマーを分離し、次いでそれらの混合物又はそれらの
それぞれに別個に酸を作用させて次式 を2個のジアステレオマーの混合物又は1個のジアステ
レオマーの形で得、所望ならばジアステレオマーの混合
物を分離し、次いでそれらの混合物又はそれらのそれぞ
れに別個にN−クロル−又はN−プpムースクシンイミ
ドを作用させて次式の化合物を得、所望ならば式T A
XI ’A % I ’A Nl3A’ T4A”5A
及びI6Aの化合物を酸の存在下にオルトぎ酸アルキル
で、次いで脱水素剤で処理して次式■8、I’B %
I〃B ’ T3Bs I4B’ l5B及びl6B RR RR 、RR の化合物を得、所望ならば (N 式tB11’B ’ I’B ’ I3B% T
4Bs l5B及びl6Bの化合物を、場合により銅塩
の存在下に次式1式% (ここでR1は前記の豚味を有し、X′はハロゲン原子
を表わす) の有機マグネシウム化合物で処理するか又は次式1式% の有機金属化合物で、次いで酸で処理するかして次式T
I’ 、I’ 、13cL I40% I5C
及び16CC’CC RR 絢 6C の化合物を7α異性体と7β異性体との混合物の形で得
、所望ならばこの混合物を分離し、所望ならばこれら7
個の化合物に脱水素剤を作用させて対応する6個(7個
)の化合物を得るか、成るいは (B) 式I B11’B 、I’B 、13BSI
4B% 15B及びI6Bの化合物に強塩基の存在下に
よう化トリメチルスルホニウム及びよう化トリメチルス
ルホキソニウムよりなる群から選ばれる試剤を作用させ
て次式ID” I’D N I’D ’ I 3D’
I 4D115D及びI6Dの化合物を6α、7α及び
6β、7β混合物・の形で得、所望ならばこのようにし
て得られた異性体を分離し、そして所望ならば式■□
I/ASI#A1T!、A% ’4A’ xBSI’B
SI“B% 13B114B% IC%■′c11#
cSI3c1■4イID11′D−%I#D113D及
びI4D の化合物に分子を1(2)位置で脱水素でき
る脱水素剤又は微生物で処理して1(2)位置に不飽和
を含む対応する化合物を得、所望ならば式lA11BS
IC及びIDの化合物並びにこれらの化合物に対応する
1(2)位置に不飽和を含む化合物を水酸化アルカリ又
はアンモニアで処理してXがヒドロキシル基を表わし且
っYが基−CH,CH,CO,M’(ここでM′はアル
カリ金属原子又はアンモニウム基を表わす)を表わす対
応する化合物を得、所望ならばそのようにして得られた
化合物に酸性試剤を作用させてXがヒドロキシル基を表
わし且っYが基−CHz CHz COx Hを表わす
化合物を得、所望ナラば、10位置の置換基がヒト四キ
シアルキル型の置換基Rである化合物をトリフェニルホ
スフィンの存在下に四臭化又は四塩化炭素で処理して対
応する臭素及び塩素誘導体を得、所望ならば、10位置
の置換基が三重結合を含む化合物を選択的水素化剤で処
理して10位置の置換基が二重結合を含む対応する化合
物を得、所望ならば、10位置にエチニル基を含む化合
物をハ四スクシンイミドで処理して10位置に−C=
C−Hal置換基を含む対応する化合物を得、そして所
望ならば、17α位置に水素原子、基R4又は−CH,
−CH2−CH20H基を含む化合物の17α位置にあ
るヒドロキシル基をアシルイi又は−一テル化すること
を特徴とする。
を得るか、成るいは ■)次式 %式% (ここでR,は先に示した意味を有し、Xはハシゲン原
子を表わす) の有機金属化合物で、次いで酸で処理して次式の化合物
を得るか、成るいは ■)まず、強塩基の存在下にハ四ゲン化トリメチルスル
ホニウムで、次いで酸の存在下に次式%式% (ここでalkは前記の通りである) の第一アミンで、り0/I/ぎ酸アルキルで、強塩基で
、そして最後に酸で処理して次式I5Aの化合物を得る
か、成るいは ■)まず強塩基の存在下にハロゲン化トリメチルスルホ
ニウムで、次いでn−ブチルリチウムの存在下にt−ブ
チルメチルスルホニルで処理して次式 の化合物を硫黄原子のレベルでの2個のジアステレオマ
ーの一混合物の形で得、所望ならばこの2個のジアステ
レオマーを分離し、次いでそれらの混合物又はそれらの
それぞれに別個に酸を作用させて次式 を2個のジアステレオマーの混合物又は1個のジアステ
レオマーの形で得、所望ならばジアステレオマーの混合
物を分離し、次いでそれらの混合物又はそれらのそれぞ
れに別個にN−クロル−又はN−プpムースクシンイミ
ドを作用させて次式の化合物を得、所望ならば式T A
XI ’A % I ’A Nl3A’ T4A”5A
及びI6Aの化合物を酸の存在下にオルトぎ酸アルキル
で、次いで脱水素剤で処理して次式■8、I’B %
I〃B ’ T3Bs I4B’ l5B及びl6B RR RR 、RR の化合物を得、所望ならば (N 式tB11’B ’ I’B ’ I3B% T
4Bs l5B及びl6Bの化合物を、場合により銅塩
の存在下に次式1式% (ここでR1は前記の豚味を有し、X′はハロゲン原子
を表わす) の有機マグネシウム化合物で処理するか又は次式1式% の有機金属化合物で、次いで酸で処理するかして次式T
I’ 、I’ 、13cL I40% I5C
及び16CC’CC RR 絢 6C の化合物を7α異性体と7β異性体との混合物の形で得
、所望ならばこの混合物を分離し、所望ならばこれら7
個の化合物に脱水素剤を作用させて対応する6個(7個
)の化合物を得るか、成るいは (B) 式I B11’B 、I’B 、13BSI
4B% 15B及びI6Bの化合物に強塩基の存在下に
よう化トリメチルスルホニウム及びよう化トリメチルス
ルホキソニウムよりなる群から選ばれる試剤を作用させ
て次式ID” I’D N I’D ’ I 3D’
I 4D115D及びI6Dの化合物を6α、7α及び
6β、7β混合物・の形で得、所望ならばこのようにし
て得られた異性体を分離し、そして所望ならば式■□
I/ASI#A1T!、A% ’4A’ xBSI’B
SI“B% 13B114B% IC%■′c11#
cSI3c1■4イID11′D−%I#D113D及
びI4D の化合物に分子を1(2)位置で脱水素でき
る脱水素剤又は微生物で処理して1(2)位置に不飽和
を含む対応する化合物を得、所望ならば式lA11BS
IC及びIDの化合物並びにこれらの化合物に対応する
1(2)位置に不飽和を含む化合物を水酸化アルカリ又
はアンモニアで処理してXがヒドロキシル基を表わし且
っYが基−CH,CH,CO,M’(ここでM′はアル
カリ金属原子又はアンモニウム基を表わす)を表わす対
応する化合物を得、所望ならばそのようにして得られた
化合物に酸性試剤を作用させてXがヒドロキシル基を表
わし且っYが基−CHz CHz COx Hを表わす
化合物を得、所望ナラば、10位置の置換基がヒト四キ
シアルキル型の置換基Rである化合物をトリフェニルホ
スフィンの存在下に四臭化又は四塩化炭素で処理して対
応する臭素及び塩素誘導体を得、所望ならば、10位置
の置換基が三重結合を含む化合物を選択的水素化剤で処
理して10位置の置換基が二重結合を含む対応する化合
物を得、所望ならば、10位置にエチニル基を含む化合
物をハ四スクシンイミドで処理して10位置に−C=
C−Hal置換基を含む対応する化合物を得、そして所
望ならば、17α位置に水素原子、基R4又は−CH,
−CH2−CH20H基を含む化合物の17α位置にあ
るヒドロキシル基をアシルイi又は−一テル化すること
を特徴とする。
Rが含むことのできる官能基、例えばヒドロキシル又は
アミノ基の保護基は、知られた基のうちから選ばれる。
アミノ基の保護基は、知られた基のうちから選ばれる。
Kが表わすケトン官能基の保護基は、ケタール、チオケ
タール、オキシム又はアルコキシムであってよい。好ま
しくは、ビスメトキシのようなケタール又はエチレンジ
オキシのような遠吠ケタールが用いられる。これらの基
は酸性媒質中で除去される。
タール、オキシム又はアルコキシムであってよい。好ま
しくは、ビスメトキシのようなケタール又はエチレンジ
オキシのような遠吠ケタールが用いられる。これらの基
は酸性媒質中で除去される。
用いられるハロゲン化)リメチルスルホニウムは、好ま
しくはよう化物である。反応を行う際に存在させる強塩
基は、好ましくはカリウムt−ブチラードである。
しくはよう化物である。反応を行う際に存在させる強塩
基は、好ましくはカリウムt−ブチラードである。
次いで、アセトニトリルの金属誘導体(これは、例えば
、ブチルリチウムの存在下で製造されたリチウム誘導体
であってよい)が反応せしめられる。
、ブチルリチウムの存在下で製造されたリチウム誘導体
であってよい)が反応せしめられる。
次いで、このようにして得られた17位置にシアノエチ
ル基を含む誘導体に塩基(これは例えば水酸化す)リウ
ム又はカリウムであってよい)を作用させ、得られた化
合物は好ましくは塩酸によって酸性化される。
ル基を含む誘導体に塩基(これは例えば水酸化す)リウ
ム又はカリウムであってよい)を作用させ、得られた化
合物は好ましくは塩酸によって酸性化される。
式■の化合物に対するテトラアルキル(好ましくはテト
ラメチ/I/)−ジアミドりん酸アリルの反応は、5t
urtz及びYaouane−両氏により[5ynth
@sis J 1980、p、289に記載の方法によ
って行われる。反応を行う際に存在させる強塩基は好ま
しくはブチルリチウムである。この反応は、ジアザビシ
クロオクタン(DASGo)又はクラウンエーテルの存
在下に行うこともできる。次いでこれは好ましくは塩酸
で酸性化される。
ラメチ/I/)−ジアミドりん酸アリルの反応は、5t
urtz及びYaouane−両氏により[5ynth
@sis J 1980、p、289に記載の方法によ
って行われる。反応を行う際に存在させる強塩基は好ま
しくはブチルリチウムである。この反応は、ジアザビシ
クロオクタン(DASGo)又はクラウンエーテルの存
在下に行うこともできる。次いでこれは好ましくは塩酸
で酸性化される。
式■の化合物に対するXMg −CH,CH2CI(2
0B の化合物の作用は、通常のマグネシウム化合物
の製造法に従って製造される。基Bは、ヒドロキシル基
の通常の保護基、例えばテトラヒドロピラニル又はt−
ブチル基を表わすことができる。また、BはMgC1の
ようなマグネシウム塩を表わすこともできる。そのよう
な基の製造及び使用は、Cahiez % Alexa
kig及びNormantの三氏により、[T@tra
hedron 1etters J A 53.197
8、p。
0B の化合物の作用は、通常のマグネシウム化合物
の製造法に従って製造される。基Bは、ヒドロキシル基
の通常の保護基、例えばテトラヒドロピラニル又はt−
ブチル基を表わすことができる。また、BはMgC1の
ようなマグネシウム塩を表わすこともできる。そのよう
な基の製造及び使用は、Cahiez % Alexa
kig及びNormantの三氏により、[T@tra
hedron 1etters J A 53.197
8、p。
3013に記載されている。次いで、これは酸、好まし
くは塩酸によって酸化される。
くは塩酸によって酸化される。
式)/4の化合物から式I#えの化合物への変換は、好
ましくは塩化トシル及びピリジンのようなアミノ塩基の
存在下で行われる。
ましくは塩化トシル及びピリジンのようなアミノ塩基の
存在下で行われる。
式■の化合物から式hAの化合物への還元は、通常の方
法により行われる。例えば水素化はう素ナトリウムのよ
うな水素化物を用いることができる。
法により行われる。例えば水素化はう素ナトリウムのよ
うな水素化物を用いることができる。
保護基にの加水分解は、一般的な態様で通常の方法によ
って酸性媒体、例えば塩酸を添加することにより行われ
る。
って酸性媒体、例えば塩酸を添加することにより行われ
る。
マグネシウム化合物XMgR4の付加及び(R4)2C
uLiとの反応は、通常の方法に従って、テトラヒドロ
7ラン又はエチルニジチルのような無水溶媒中で、周囲
温度よりも低い温度で実施することによって行われる。
uLiとの反応は、通常の方法に従って、テトラヒドロ
7ラン又はエチルニジチルのような無水溶媒中で、周囲
温度よりも低い温度で実施することによって行われる。
前記した他の反応については、3位置にケトン官能基を
生じるように塩酸のような酸が反応せしめられる。
生じるように塩酸のような酸が反応せしめられる。
式T5Aの化合物を与える環化で用いられる強塩基は、
好ましくはメタノール中の水酸化カリウムである。
好ましくはメタノール中の水酸化カリウムである。
アミンとの反応を行う際に存在する酸は好ましくはp−
)ルエンスルホン酸である。
)ルエンスルホン酸である。
ハロゲン化トリメチルスルホニウムは好ましくはよつ化
トリメチルスルホニウムであり、用いられる強塩基は水
酸化ナトリウム若しくはカリウム又はカリウムt−ブチ
ラードである。
トリメチルスルホニウムであり、用いられる強塩基は水
酸化ナトリウム若しくはカリウム又はカリウムt−ブチ
ラードである。
ジアステレオマーの分離は通常のクロマトグラフィー及
び結晶化手段によって行われる。
び結晶化手段によって行われる。
式IA’ 1’A ’ T’A ’ T 3A’ I
4A’ I 5□及びT6Aの化合物に対するオルトぎ
酸エステルの作用は次式 %式% の3−アルコキシ−△ −化合物を製造するためである
。
4A’ I 5□及びT6Aの化合物に対するオルトぎ
酸エステルの作用は次式 %式% の3−アルコキシ−△ −化合物を製造するためである
。
式IOA’ I’OA ’ I’OA ’ l03A九
l04A為l05A及び■。6Aにおいて、基R5R2
及びR4は前記の意味を有し、Alk、は1〜4個の炭
素原子を有するアルキ〃基を表わす。用いられるオルト
ぎ酸ニステルハ、好マシくはp−トルエンスルホン酸の
存在下でのオルトぎ酸エチルである。用いられる脱水素
剤は、好ましくはクロラニル(テトラクルルー14−ベ
ンゾキノン)である。また、DDQ(2,3−ジクロル
−5,6−ジワアノー14−ベンゾキノン)も用いるこ
とができる。式RIMgX’(X /は塩素、臭素又は
よう素原子を表わす)の化合物の作用は、好ましくは、
酢酸第二銅、塩化若しくは゛臭化第二銅のような第二銅
塩、又は塩化、臭化又はよう化第−銅のような第一銅塩
の存在下で行われる。
l04A為l05A及び■。6Aにおいて、基R5R2
及びR4は前記の意味を有し、Alk、は1〜4個の炭
素原子を有するアルキ〃基を表わす。用いられるオルト
ぎ酸ニステルハ、好マシくはp−トルエンスルホン酸の
存在下でのオルトぎ酸エチルである。用いられる脱水素
剤は、好ましくはクロラニル(テトラクルルー14−ベ
ンゾキノン)である。また、DDQ(2,3−ジクロル
−5,6−ジワアノー14−ベンゾキノン)も用いるこ
とができる。式RIMgX’(X /は塩素、臭素又は
よう素原子を表わす)の化合物の作用は、好ましくは、
酢酸第二銅、塩化若しくは゛臭化第二銅のような第二銅
塩、又は塩化、臭化又はよう化第−銅のような第一銅塩
の存在下で行われる。
式(R1)2Cu L iの化合物の反応後に用いられ
る酸は、塩酸、硝酸又は硫酸である。
る酸は、塩酸、硝酸又は硫酸である。
場合により行う各種異性体の分離は、りpマドグラフィ
ー又は分別結晶によって行われる。化合物7βの場合に
より行う脱水素は、上述した条件下で行われる。
ー又は分別結晶によって行われる。化合物7βの場合に
より行う脱水素は、上述した条件下で行われる。
よう化トリメチルスルホニウム及びよう化トリメチルス
ルホキソニウムに相当するイリドを形成させるのに用い
られる塩基は、水素化ナトリウム又はカリウムt−ブチ
ラードである。
ルホキソニウムに相当するイリドを形成させるのに用い
られる塩基は、水素化ナトリウム又はカリウムt−ブチ
ラードである。
場合により行う分離は上述した通常の方法により行われ
る。
る。
化合物’A〜’6A’ IB〜I6B’ IC””I6
C及びI、〜”6Dの化合物から1(2)位置に不飽和
を含む化合物への変換は、好ましくは生化学的経路で細
菌[アルスロバクタ−・シンプレックス(Arthro
bacter slmplex )jを反応させること
によって行われる。また、別の微生物も用いることがで
きる。この場合、反応は好ましくは緩衝剤を添加した水
性媒体中で行われる。
C及びI、〜”6Dの化合物から1(2)位置に不飽和
を含む化合物への変換は、好ましくは生化学的経路で細
菌[アルスロバクタ−・シンプレックス(Arthro
bacter slmplex )jを反応させること
によって行われる。また、別の微生物も用いることがで
きる。この場合、反応は好ましくは緩衝剤を添加した水
性媒体中で行われる。
また、化合物にp−ベンゾキノン又はクロラニルの誘導
体を作用させることによる化学的方法も用いることがで
き、そして反応は例えばジオキサン、ア七トン、ベンゼ
ン又はt−ブチルアルコールのような有機溶媒の溶液中
で行われる。
体を作用させることによる化学的方法も用いることがで
き、そして反応は例えばジオキサン、ア七トン、ベンゼ
ン又はt−ブチルアルコールのような有機溶媒の溶液中
で行われる。
また、脱水素剤として無亜セレン酸又はベンゼンセレン
酸を用いることができる。
酸を用いることができる。
式lA11B及びICの化合物並びにこれらに対応する
1(2)位置に不飽和を含む化合物に場合により作用さ
せる水酸化アルカリは、好ましくは水酸化ナトリウム又
はカリウムである。
1(2)位置に不飽和を含む化合物に場合により作用さ
せる水酸化アルカリは、好ましくは水酸化ナトリウム又
はカリウムである。
そのようにして得られた化合物に場合により作用させる
酸性試剤は、塩酸、硫酸、硝酸又は酢酸である。
酸性試剤は、塩酸、硫酸、硝酸又は酢酸である。
三重結合を有する置換基を10位置に含む化合物に場合
により作用させる選択的水素化剤は、好ましくはリンド
ラ−の触媒のような触媒の存在下での水素である。
により作用させる選択的水素化剤は、好ましくはリンド
ラ−の触媒のような触媒の存在下での水素である。
10位置にエチニル置換基を含む化合物に反応させるハ
ルスクシンイミドは、N−プpムー又はN−り田ルース
クシンイミドである。操作は好ましくは硝酸銀の存在下
に行われる。
ルスクシンイミドは、N−プpムー又はN−り田ルース
クシンイミドである。操作は好ましくは硝酸銀の存在下
に行われる。
17位置にヒドロキシル基を含み且つ位置17βに水素
原子又は基R4を含む化合物の場合により行うアシル化
は、通常の方法によって行われる。
原子又は基R4を含む化合物の場合により行うアシル化
は、通常の方法によって行われる。
例えば、無水酢酸又は塩化アセチルのような酸無水物又
はハロゲン化アシルを用いることができる。
はハロゲン化アシルを用いることができる。
また、上記化合物のエーテル化も通常の条件下で、例え
ばハロゲン化アシルを用いて行われる。
ばハロゲン化アシルを用いて行われる。
本発明の方法の開始時で用いられる式■の化合物は、
(1)式R’−C芸C−Li のリチウム化合物を次式
■(ここでB1はヒドロキシル基の保illを表わす)
の化合物に反応させて次式■ (ここでB8は水素原子又は上記のBl基を表わす) の化合物を得、まず、前の反応で保護基が解裂しなかっ
て場合には上記化合物にヒト四キシル基の保護基の離脱
反応に付し、次いで酸化反応に付して式■の化合物を得
るか、成るいは (2)式R’−CTC−MgX のマグネシウム化合物
を次式■1 の化合物に反応させて次式■1 H の化合物を得、この化合物をアルカリ加水分解して式■
の所期化合物とする。
■(ここでB1はヒドロキシル基の保illを表わす)
の化合物に反応させて次式■ (ここでB8は水素原子又は上記のBl基を表わす) の化合物を得、まず、前の反応で保護基が解裂しなかっ
て場合には上記化合物にヒト四キシル基の保護基の離脱
反応に付し、次いで酸化反応に付して式■の化合物を得
るか、成るいは (2)式R’−CTC−MgX のマグネシウム化合物
を次式■1 の化合物に反応させて次式■1 H の化合物を得、この化合物をアルカリ加水分解して式■
の所期化合物とする。
ことによって製造することができる。
(1)Blが表わすことができる保護基は、好ましくは
ベンゾイルのようなアシル基である。リチウム化合物R
’−CミC−Clは、通常の方法に従って製造すること
ができる。また、前の反応中に解裂が起っていない場合
には基B1の加水分解は通常の方法により行われる。加
水分解は塩基性媒体中で行うことができる。17位置の
酸化は、例えば、塩化りpム酸ピリジニウム(T@tr
ah@dron LettersA S 1 (197
5)、p、2647の方法に従って製造)を使用するこ
とによって行われる。このような製造例はヨーpツバ特
許第0.023.856号(実施例5)に記載されてい
る。
ベンゾイルのようなアシル基である。リチウム化合物R
’−CミC−Clは、通常の方法に従って製造すること
ができる。また、前の反応中に解裂が起っていない場合
には基B1の加水分解は通常の方法により行われる。加
水分解は塩基性媒体中で行うことができる。17位置の
酸化は、例えば、塩化りpム酸ピリジニウム(T@tr
ah@dron LettersA S 1 (197
5)、p、2647の方法に従って製造)を使用するこ
とによって行われる。このような製造例はヨーpツバ特
許第0.023.856号(実施例5)に記載されてい
る。
(2)式■1の化合物に対する式R’−CミC−MgX
のマグネシウム化合物の作用は、通常の条件で行われる
。点線が炭素間の三重結合を表わすときは、マグネシウ
ム化合物は臭化エチルマグネシウムのようなマグネシウ
ム化合物に式に′−CミC−Hの化合物を作用させるこ
とによりその場で製造することができる。操作はテトラ
ヒドロフラン又はエチルエーテルのような溶媒中で行わ
れる。得られた弐■1の化合物の加水分解は、通常の条
件下で行われる。このような製造例は後記の実験の部に
示す。
のマグネシウム化合物の作用は、通常の条件で行われる
。点線が炭素間の三重結合を表わすときは、マグネシウ
ム化合物は臭化エチルマグネシウムのようなマグネシウ
ム化合物に式に′−CミC−Hの化合物を作用させるこ
とによりその場で製造することができる。操作はテトラ
ヒドロフラン又はエチルエーテルのような溶媒中で行わ
れる。得られた弐■1の化合物の加水分解は、通常の条
件下で行われる。このような製造例は後記の実験の部に
示す。
式■及び■1の化合物はいずれも、例えば、フランス国
特許第4377.417号によって知られているか、又
は知られた化合物より出発して通常の方法により製造す
ることができる。
特許第4377.417号によって知られているか、又
は知られた化合物より出発して通常の方法により製造す
ることができる。
前記した式Iの化合物並びに10β−エチニル−17β
−とドルキシエストラ−4,9(11)−ジエン−3−
オン及び10β−エチニル−17β−アセトキシエスト
ラ−4,9(11)−ジエン−3−オン(後者のグルー
プは一般式■′を構成する)は、非常に有益な薬理学的
性質を示す。特に、それらはアルドステリンの拮抗剤で
あって、有機カリウムを保持しつつ水ナトリウム(hy
drosodium)利尿を増大させる。
−とドルキシエストラ−4,9(11)−ジエン−3−
オン及び10β−エチニル−17β−アセトキシエスト
ラ−4,9(11)−ジエン−3−オン(後者のグルー
プは一般式■′を構成する)は、非常に有益な薬理学的
性質を示す。特に、それらはアルドステリンの拮抗剤で
あって、有機カリウムを保持しつつ水ナトリウム(hy
drosodium)利尿を増大させる。
また、式I′の化合物は、非常にわずかなホルモン性副
作用しか有しないという利点を提供する。
作用しか有しないという利点を提供する。
受容器に対して及びインビボで行われた試験は、特に、
式I′の化合物がこれまでに報告された抗アルドステp
ン物質よりも抗男性ホルモン性(anti龜ndrog
enous )が小さいととを示した。
式I′の化合物がこれまでに報告された抗アルドステp
ン物質よりも抗男性ホルモン性(anti龜ndrog
enous )が小さいととを示した。
したがって、式■′の化合物は、特に、動脈高血圧及び
心不全を防止するのに有益に使用することができる。
心不全を防止するのに有益に使用することができる。
したがって、本発明の主題は、次式(1〔ここで、Rは
水素原子か、
多くとも8個の炭素原子を有する置換されていてもよい
アルキル、アルケニル若しくはアルキニル基か、 置換されていてもよいアリール若しくはアルキル基か、 保護されたヒドロキシル、エステル化されていてもよい
カルボキシル、アミノ、作詩されたアミン、モノ若しく
はジアルキルアミノ基か、 ハロゲン原子か、又は トリアルキルシリル基 を表わし、 R,及びR7は、R6及びR7がそれらを担持する炭素
と共にシクロプロピル基を形成するようなものか、又は
R6が水素原子を表わし且つR1が基R1(ここでR1
は水素原子か、多くども6個の炭素原子を有する置換さ
れていてもよいアルキル、アルケニル若しくはアルキニ
ル基か、又はアセチルチオ基を表わす)を表わすような
ものであり、R2はメチル又はエチル基を表わし、 X及びYは、 (1)Xがアシル化若しくはエーテル化されていてもよ
いヒドロキシル基を表わし且っYが−CHtCH2C0
2M (ここでMは水素原子、アルカリ金属原子又はア
ンモニア基を表わす)又は−CH2CHt−CH*OI
H基を表わすようなものか、又は oa)x及びYが一緒になって基 を表わすようなものか、又は (iii)X及びYが一糺になって基 (ここでalkは多くとも8個の炭素原子を含有する) を表わすようなものか、又は Gv) X及びYが一緒になって基 を表わすようなものか、又は (V) Xがヒドロキシル基を表わし且っYが↑ −CH2−CTIt −S −0M基(ここでMは上記
の通りである)を表わすようなものか、又は(vD
Xがアシル化若しくはエーテル化されていてもよいヒド
ロキシル基を表わし且っYが水素原子若しくは基R4(
ここでR4は多くとも6個の炭素原子を有するアルキル
、アルケニル又はアルキニル基を表わす)を表わすよう
なものであり、 1(2)及び6(7)位置にある点線はその点線を担持
する炭素の間に第二の結合が存在し得ることを示し、た
だしR6及びR7がそれらを担持する炭素と共にシクロ
プロピル基を形成するときは6(7)位置には第二の結
合は存在できないものとし、10位置にある置換基R−
C−、−C−上の点線はその点線を担持する炭素の間に
第三の結合が存在し得ることを示し、 6及び7位置の波線は、置換基R6及びR7が可能な位
置α又はβのいずれかであり得ることを示す〕 の化合物よりなる薬剤にある。
アルキル、アルケニル若しくはアルキニル基か、 置換されていてもよいアリール若しくはアルキル基か、 保護されたヒドロキシル、エステル化されていてもよい
カルボキシル、アミノ、作詩されたアミン、モノ若しく
はジアルキルアミノ基か、 ハロゲン原子か、又は トリアルキルシリル基 を表わし、 R,及びR7は、R6及びR7がそれらを担持する炭素
と共にシクロプロピル基を形成するようなものか、又は
R6が水素原子を表わし且つR1が基R1(ここでR1
は水素原子か、多くども6個の炭素原子を有する置換さ
れていてもよいアルキル、アルケニル若しくはアルキニ
ル基か、又はアセチルチオ基を表わす)を表わすような
ものであり、R2はメチル又はエチル基を表わし、 X及びYは、 (1)Xがアシル化若しくはエーテル化されていてもよ
いヒドロキシル基を表わし且っYが−CHtCH2C0
2M (ここでMは水素原子、アルカリ金属原子又はア
ンモニア基を表わす)又は−CH2CHt−CH*OI
H基を表わすようなものか、又は oa)x及びYが一緒になって基 を表わすようなものか、又は (iii)X及びYが一糺になって基 (ここでalkは多くとも8個の炭素原子を含有する) を表わすようなものか、又は Gv) X及びYが一緒になって基 を表わすようなものか、又は (V) Xがヒドロキシル基を表わし且っYが↑ −CH2−CTIt −S −0M基(ここでMは上記
の通りである)を表わすようなものか、又は(vD
Xがアシル化若しくはエーテル化されていてもよいヒド
ロキシル基を表わし且っYが水素原子若しくは基R4(
ここでR4は多くとも6個の炭素原子を有するアルキル
、アルケニル又はアルキニル基を表わす)を表わすよう
なものであり、 1(2)及び6(7)位置にある点線はその点線を担持
する炭素の間に第二の結合が存在し得ることを示し、た
だしR6及びR7がそれらを担持する炭素と共にシクロ
プロピル基を形成するときは6(7)位置には第二の結
合は存在できないものとし、10位置にある置換基R−
C−、−C−上の点線はその点線を担持する炭素の間に
第三の結合が存在し得ることを示し、 6及び7位置の波線は、置換基R6及びR7が可能な位
置α又はβのいずれかであり得ることを示す〕 の化合物よりなる薬剤にある。
さらに詳しくは、本発明の主題は、Rが水素原子、1〜
3個の炭素原子を有するアルキル基、ヒト田キシメチル
基及びフェニル基よりなる群から選ばれ、R1が水素原
子、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基及びアセチ
ルチオ基よりなる群から選ばれ、そしてX及びYはXが
ヒドロキシル基を表わし且つYが−CHz CHx C
Oz M ’基(M /は水素原子又はアルカリ金属原
子を表わす)を表わし又はYが水素原子を表わすような
ものか、或いはX及びYが基 を表わすようなものである一般式■′の化合物よりなる
薬剤にある。
3個の炭素原子を有するアルキル基、ヒト田キシメチル
基及びフェニル基よりなる群から選ばれ、R1が水素原
子、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基及びアセチ
ルチオ基よりなる群から選ばれ、そしてX及びYはXが
ヒドロキシル基を表わし且つYが−CHz CHx C
Oz M ’基(M /は水素原子又はアルカリ金属原
子を表わす)を表わし又はYが水素原子を表わすような
ものか、或いはX及びYが基 を表わすようなものである一般式■′の化合物よりなる
薬剤にある。
さらに具体的には、本発明の主題は、化合御名が下記の
通りである一般式I′の化合物=10β−エチニル−1
7β−ヒドキキシー3−オキソ−19−ノル−17α−
プレグナ−4,9(11)−ジエン−21−カルボン酸
のγ−ラクトン、 10β−(1−プルビニル)−17β−とドルキシ−3
−オキソ−19−ノル−17α−プレグナ−4,9(1
1)−ジエン−21−カルボン酸のγ−ラクトン、及び 10β−エチニル−17β−ヒトルキシエストラ−4,
9(11)−ジエン−3−オンよりなる薬剤にある。
通りである一般式I′の化合物=10β−エチニル−1
7β−ヒドキキシー3−オキソ−19−ノル−17α−
プレグナ−4,9(11)−ジエン−21−カルボン酸
のγ−ラクトン、 10β−(1−プルビニル)−17β−とドルキシ−3
−オキソ−19−ノル−17α−プレグナ−4,9(1
1)−ジエン−21−カルボン酸のγ−ラクトン、及び 10β−エチニル−17β−ヒトルキシエストラ−4,
9(11)−ジエン−3−オンよりなる薬剤にある。
有効薬量は、治療すべき疾病及び投与経路によって変る
。例えば、それは、例1の化合物について成人の場合に
経口投与で5〜500+y、好ましくは10〜200■
であってよい。
。例えば、それは、例1の化合物について成人の場合に
経口投与で5〜500+y、好ましくは10〜200■
であってよい。
式j/の化合物は、経口的に、直腸経路で、経皮的に又
は静脈内経路で用いられる。
は静脈内経路で用いられる。
これらは、例えば固体又は液体であってよく、人の医薬
に一般に使用されている製薬形態、例えば錠剤又は糖衣
錠剤、カシェ−、カプセル、顆粒、エマルジョン、シル
ツブ、生薬及び注射用調合剤として提供できる。
に一般に使用されている製薬形態、例えば錠剤又は糖衣
錠剤、カシェ−、カプセル、顆粒、エマルジョン、シル
ツブ、生薬及び注射用調合剤として提供できる。
また、本発明の主題は、式I′の化合物の少なくとも1
種を活性成分として含む製薬組成物にある。これらの組
成物は、通常の方法で製造される。
種を活性成分として含む製薬組成物にある。これらの組
成物は、通常の方法で製造される。
活性成分は、これらの製薬組成物に一般に”使用されて
いる補助剤、例えばタルク、アラビアゴム、ラクトース
、でん粉、ステアリン酸マグネシウム、ココアバター、
水性又は非水性ビヒクル、動物又は植物起源の脂肪物質
、パラフィン誌導体、グリコール、各種の湿潤、分散又
は乳化剤及び(又は)保存剤中に配合することができる
。
いる補助剤、例えばタルク、アラビアゴム、ラクトース
、でん粉、ステアリン酸マグネシウム、ココアバター、
水性又は非水性ビヒクル、動物又は植物起源の脂肪物質
、パラフィン誌導体、グリコール、各種の湿潤、分散又
は乳化剤及び(又は)保存剤中に配合することができる
。
下記の実施例は本発明を例示するものであって、これを
何ら制約しない。
何ら制約しない。
クトン
LO61のよう化トリメチルスルホニウムを60CCの
ジメチルスルホキシFに溶解してなる溶液を、4.25
JFのへ3−エチレンジオキシ−1゜β−エチニル−5
α−ヒドロキシニス)9−9(11)−エン−17−オ
ンを60ccのテトラヒドロ7ランに懸濁させてなる液
にがきまぜながら加え、12ccの2.4Mカリウムt
−ブチラードテトラヒドロフ2ン溶液を加える。1時間
反応させた後、反応1混合物を、塩化アンモニウムを加
えておいた水に法論する。エチルエーテルで抽出した後
に、有機相を洗い、乾燥し、減圧下に溶媒を蒸発させた
後に4゜5gの所期生成物を得た。この生成物をヘキサ
ン中ですシ砕き、結晶を分離し、ヘキサンで洗い、48
95gの所期化合物を得た。
ジメチルスルホキシFに溶解してなる溶液を、4.25
JFのへ3−エチレンジオキシ−1゜β−エチニル−5
α−ヒドロキシニス)9−9(11)−エン−17−オ
ンを60ccのテトラヒドロ7ランに懸濁させてなる液
にがきまぜながら加え、12ccの2.4Mカリウムt
−ブチラードテトラヒドロフ2ン溶液を加える。1時間
反応させた後、反応1混合物を、塩化アンモニウムを加
えておいた水に法論する。エチルエーテルで抽出した後
に、有機相を洗い、乾燥し、減圧下に溶媒を蒸発させた
後に4゜5gの所期生成物を得た。この生成物をヘキサ
ン中ですシ砕き、結晶を分離し、ヘキサンで洗い、48
95gの所期化合物を得た。
m I) −142℃。エタノールから再結晶化後のm
p= 144℃。
p= 144℃。
分析: 023H3604−570,49計算=C%7
4.56 H%8.16実測=74.78.2 11CCのN−イソプロピルシクロヘキシルアミンを6
0CCの無水テトラヒドロフランに溶解してなる溶液を
一60℃に冷却し、4occのn−ブチルリチウムヘキ
サン溶液(m度15%)を滴下し、次いで15 ccの
アセトニトリルを10(:Cの無水テトラヒドロ7ラン
に溶解してなる溶液を加える。
4.56 H%8.16実測=74.78.2 11CCのN−イソプロピルシクロヘキシルアミンを6
0CCの無水テトラヒドロフランに溶解してなる溶液を
一60℃に冷却し、4occのn−ブチルリチウムヘキ
サン溶液(m度15%)を滴下し、次いで15 ccの
アセトニトリルを10(:Cの無水テトラヒドロ7ラン
に溶解してなる溶液を加える。
得られた懸濁液を−5〜−10’Cで15分間がきまぜ
る。この後、411の工程Aで得た化合物を20ccの
テトラヒドロフランに溶解してなる溶液を導入する。こ
の混合物を5 CCのテトラヒドロフ1ランで洗い、次
いで周囲温度で20時間反応させ、その後に塩化アンモ
ニウム溶液に注ぎ入れ、エーテルで抽出する。有機相を
水洗し、乾燥し、溶媒を蒸発させた後9Iの油状物を得
た。
る。この後、411の工程Aで得た化合物を20ccの
テトラヒドロフランに溶解してなる溶液を導入する。こ
の混合物を5 CCのテトラヒドロフ1ランで洗い、次
いで周囲温度で20時間反応させ、その後に塩化アンモ
ニウム溶液に注ぎ入れ、エーテルで抽出する。有機相を
水洗し、乾燥し、溶媒を蒸発させた後9Iの油状物を得
た。
この油状物をシリカで沖過し、シクロヘキサン−酢酸エ
チル(7−3)混合物で溶離し、約340■の出発物質
を分離し、次いで5gの生成物を分離し、これを還流エ
ーテルよシ結晶化する。冷却し、分離し、エーテルで洗
うととによって2.8271の所期化合物を得た。mp
−200℃。塩化メチレンよシ再結晶することによシ
分析用試料を得た。mp冨203℃。
チル(7−3)混合物で溶離し、約340■の出発物質
を分離し、次いで5gの生成物を分離し、これを還流エ
ーテルよシ結晶化する。冷却し、分離し、エーテルで洗
うととによって2.8271の所期化合物を得た。mp
−200℃。塩化メチレンよシ再結晶することによシ
分析用試料を得た。mp冨203℃。
分析: CzsHssOaN−41ts4計算=C%7
2.96 H%a08N%3,4実測: 72.
8 8.2 3.4ラクトン 1.9gの工程Bで得た化合物を30CCのメタノール
に懸濁させたものを2 CCの6N水酸化カリウムと共
に4時間30分加熱還流し、次いで冷却し、3CCの濃
塩酸で酸性化する。この混合物を15CCのメタノール
で希釈し、次いで再ひ1時間30分加熱還流し、その後
冷却し、水で希釈し、酢酸エチルで抽出する。有機相を
洗浄し、乾燥し、蒸発させた後、157gの粗生成物を
得た。
2.96 H%a08N%3,4実測: 72.
8 8.2 3.4ラクトン 1.9gの工程Bで得た化合物を30CCのメタノール
に懸濁させたものを2 CCの6N水酸化カリウムと共
に4時間30分加熱還流し、次いで冷却し、3CCの濃
塩酸で酸性化する。この混合物を15CCのメタノール
で希釈し、次いで再ひ1時間30分加熱還流し、その後
冷却し、水で希釈し、酢酸エチルで抽出する。有機相を
洗浄し、乾燥し、蒸発させた後、157gの粗生成物を
得た。
この生成物をシクロヘキサン−酢酸エチル(1−1)混
合物を用いてシリカでp過し、1.2251の精製され
た生成物を得、これをイソプロピルエーテル中ですシ砕
き、次いで分離する。1.17gの所期化合物を得た。
合物を用いてシリカでp過し、1.2251の精製され
た生成物を得、これをイソプロピルエーテル中ですシ砕
き、次いで分離する。1.17gの所期化合物を得た。
m p = 210℃。
387ダの例1で得た化合物を4.3 CCの0.24
6N水酸化カリウムメタノール溶液と4.3ccの水に
懸濁させたものを15分間還流させ、次いで得られた溶
液を50℃で減圧下に蒸留乾固する。2回無水エタノー
ルの蒸留によシ微量の水を除去する6得うれた物を2C
Cのエタノールに95℃で溶解し1かきまわしながらエ
ーテル(約6 cc )をゆつくシと加え、次いで冷却
し、分離し、エーテルで十分に洗い、乾燥することによ
って580ダの化合物を得た。mp−約200℃。
6N水酸化カリウムメタノール溶液と4.3ccの水に
懸濁させたものを15分間還流させ、次いで得られた溶
液を50℃で減圧下に蒸留乾固する。2回無水エタノー
ルの蒸留によシ微量の水を除去する6得うれた物を2C
Cのエタノールに95℃で溶解し1かきまわしながらエ
ーテル(約6 cc )をゆつくシと加え、次いで冷却
し、分離し、エーテルで十分に洗い、乾燥することによ
って580ダの化合物を得た。mp−約200℃。
分析: CzsHzvOa K冨406.57計算:0
%61.22 H%715実測: 614
7.0 3−オキソ−19−ノル−17α−プレグナ−4゜クト
ン 180■の10β−エチニル−17β−とド四キシー3
−オキソ−19−ノル−17α−プレグナ−4,9(1
1)−ジエン−21−カルボン酸のr−ラクトン(例1
で製造)を4 CCの酢酸エチルとI OCのピリジン
とに溶解し、次いで19■のリンドラ−の触媒を加え、
水素化雰囲気中で理論量の水素が吸収されるまで、即ち
約25分間かきまぜる。触媒をp過し、酢酸エチルで洗
う。p液を、塩酸で弱酸性にした水で希釈し、次いで有
機相をデカンテーションし、水洗し、乾燥し、減圧下に
濃縮乾固する。その残留物を硝酸銀を含浸したシリカで
り四マドグラフィーし、エーテル−ヘキサン(4−1)
混合物で溶離し、150wの生成物を回収し、これをイ
ンプロピルエーテルで再結晶して121■の所期化合物
を得た。mp=144℃。〔α)、−−57°(021
%CHCl3)。
%61.22 H%715実測: 614
7.0 3−オキソ−19−ノル−17α−プレグナ−4゜クト
ン 180■の10β−エチニル−17β−とド四キシー3
−オキソ−19−ノル−17α−プレグナ−4,9(1
1)−ジエン−21−カルボン酸のr−ラクトン(例1
で製造)を4 CCの酢酸エチルとI OCのピリジン
とに溶解し、次いで19■のリンドラ−の触媒を加え、
水素化雰囲気中で理論量の水素が吸収されるまで、即ち
約25分間かきまぜる。触媒をp過し、酢酸エチルで洗
う。p液を、塩酸で弱酸性にした水で希釈し、次いで有
機相をデカンテーションし、水洗し、乾燥し、減圧下に
濃縮乾固する。その残留物を硝酸銀を含浸したシリカで
り四マドグラフィーし、エーテル−ヘキサン(4−1)
混合物で溶離し、150wの生成物を回収し、これをイ
ンプロピルエーテルで再結晶して121■の所期化合物
を得た。mp=144℃。〔α)、−−57°(021
%CHCl3)。
250CのIMx化エチェチルマグネシウムエーテル溶
液5CCの無水テトラヒドロフランで希釈したものにメ
チルアセチレンを0〜5℃の間で1時間吹き込tr、2
.151iの3.3−エチレンジオキシ−50,10α
−エポキシ−17α−トリメチルシリルオキシエストラ
−9(11)−エン−17β−カルボニトリルを10C
Cのテトラヒドロフランに溶解したものを加え、40℃
に2時間30分加熱し、次いで周囲温度に16時間放置
する。
液5CCの無水テトラヒドロフランで希釈したものにメ
チルアセチレンを0〜5℃の間で1時間吹き込tr、2
.151iの3.3−エチレンジオキシ−50,10α
−エポキシ−17α−トリメチルシリルオキシエストラ
−9(11)−エン−17β−カルボニトリルを10C
Cのテトラヒドロフランに溶解したものを加え、40℃
に2時間30分加熱し、次いで周囲温度に16時間放置
する。
20CCの塩化アンモニウム溶液を0〜5℃で加え、次
いで塩化メチレンで抽出する。抽出物を水洗し、乾燥し
、濃縮乾固する。残留物を3occのエタノールに溶解
し、3CCの水酸化ナトリワム溶液を加え、1時間かき
まぜ、次いで90CCの水で希釈し、クロロホルムで抽
出し、水洗し、乾燥し、濃縮乾固する。その残留物を塩
化メチレン−イソプロピル−エーテル混合物で再結晶し
、121Jilの所期化合物を回収した。m p =
204°C03、6CCのテトラメチルシアくドシん酸
アリルを15CCのテトラヒドロフランに溶解してなる
溶液を、23CCの16Mブチルリチウムヘキサン溶液
と20CCの無水テトラヒドロフランに窒素雰囲気乍に
一50℃で15分間にわたシ加える。この溶液を一30
℃で1時間かきまぜ、次いで1.78 #の上で得た化
合物を5分間で加える。
いで塩化メチレンで抽出する。抽出物を水洗し、乾燥し
、濃縮乾固する。残留物を3occのエタノールに溶解
し、3CCの水酸化ナトリワム溶液を加え、1時間かき
まぜ、次いで90CCの水で希釈し、クロロホルムで抽
出し、水洗し、乾燥し、濃縮乾固する。その残留物を塩
化メチレン−イソプロピル−エーテル混合物で再結晶し
、121Jilの所期化合物を回収した。m p =
204°C03、6CCのテトラメチルシアくドシん酸
アリルを15CCのテトラヒドロフランに溶解してなる
溶液を、23CCの16Mブチルリチウムヘキサン溶液
と20CCの無水テトラヒドロフランに窒素雰囲気乍に
一50℃で15分間にわたシ加える。この溶液を一30
℃で1時間かきまぜ、次いで1.78 #の上で得た化
合物を5分間で加える。
2時間30分後にこの混合物に38CCの2N塩酸を導
入し、30分間かきまぜ、次いでクロロホルムで抽出し
、水洗し、乾燥し、濃縮乾固する。
入し、30分間かきまぜ、次いでクロロホルムで抽出し
、水洗し、乾燥し、濃縮乾固する。
残留物を30CCのエタノールに溶解し、6CCの6N
塩酸を加え、混合物を約50゛Cに1時間15分加熱し
、次いでエタノールを留去する。塩化メチレンで溶解し
、水洗し、乾燥し、濃縮乾固した後、残留物をシリカで
クロマトグラフィーし、石油エーテル(bp=6o−8
0℃)−酢酸エチル(1−1)混合物で溶離し、920
TR9の生成物を得た。
塩酸を加え、混合物を約50゛Cに1時間15分加熱し
、次いでエタノールを留去する。塩化メチレンで溶解し
、水洗し、乾燥し、濃縮乾固した後、残留物をシリカで
クロマトグラフィーし、石油エーテル(bp=6o−8
0℃)−酢酸エチル(1−1)混合物で溶離し、920
TR9の生成物を得た。
これを2 CCの塩化メチレンで再び溶解し、p過し、
10CCのイソプロピルエーテルを加え、次いで結晶が
生成するまで濃縮し、冷却し、分離し、乾燥した後、7
90ダの所期化合物を得た。m p ”200℃。
10CCのイソプロピルエーテルを加え、次いで結晶が
生成するまで濃縮し、冷却し、分離し、乾燥した後、7
90ダの所期化合物を得た。m p ”200℃。
〔α)、−+32°(C藁1%、CHCl5 )。
5occの1M臭化エチルマグネシウムエーテル溶液に
8 CCのフェニルアセチレンを滴下し、次いで全体を
35CCの無水テトラヒドロフランで希釈し、周囲温度
で1時間放置する。次いで6.45 tIの5α、10
α−エポキシ−3−オキソ−17α−トリメチルシリル
オキシエストラ−9(11)−エンー17β−カルボニ
トリルを加え、全体を周囲温度で4時間かきまぜ、次い
で35℃で1時間加熱する。次いで反応混合物を冷却し
、塩化アンモニウム溶液に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出
する。抽出物を水洗し、乾燥し、濃縮乾固し、8.9g
の生成物を得た。これをシリカでクロマトグラフィーシ
、シクロヘキサン−酢酸エチル(9−1)混合物で溶離
し、4.69の生成物を回収し、これをヘキサンよシ再
結晶し、3.47gの所期化合物を得た。mp−176
℃。
8 CCのフェニルアセチレンを滴下し、次いで全体を
35CCの無水テトラヒドロフランで希釈し、周囲温度
で1時間放置する。次いで6.45 tIの5α、10
α−エポキシ−3−オキソ−17α−トリメチルシリル
オキシエストラ−9(11)−エンー17β−カルボニ
トリルを加え、全体を周囲温度で4時間かきまぜ、次い
で35℃で1時間加熱する。次いで反応混合物を冷却し
、塩化アンモニウム溶液に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出
する。抽出物を水洗し、乾燥し、濃縮乾固し、8.9g
の生成物を得た。これをシリカでクロマトグラフィーシ
、シクロヘキサン−酢酸エチル(9−1)混合物で溶離
し、4.69の生成物を回収し、これをヘキサンよシ再
結晶し、3.47gの所期化合物を得た。mp−176
℃。
、!1.1gの上で得た化合物を31CCのエタノール
中でかきまぜ、3. I CCの水酸化ナトリウム、次
いで10CCのエタノールを加え、2時間かきまぜ続け
る。1ooccの水で希釈し、分離し、水洗し、乾燥し
た後、2.49gの所期化合物を得た。
中でかきまぜ、3. I CCの水酸化ナトリウム、次
いで10CCのエタノールを加え、2時間かきまぜ続け
る。1ooccの水で希釈し、分離し、水洗し、乾燥し
た後、2.49gの所期化合物を得た。
mp−199℃。
10CCの16 M n−ブチルリチウムヘキサン溶液
を一70℃に冷却し、10CCの無水テトラヒドロアラ
ンで希釈し、次いで16CCのN、N、、N’。
を一70℃に冷却し、10CCの無水テトラヒドロアラ
ンで希釈し、次いで16CCのN、N、、N’。
N′−テトラメチルジアミドシん酸アリ/’ヲ1occ
のテトラヒドロフランに溶解してなるものを−7゜℃で
滴下し、−10°Cで1時間反応させる。
のテトラヒドロフランに溶解してなるものを−7゜℃で
滴下し、−10°Cで1時間反応させる。
865ダの上で得られた化合物を加え、周囲温度で15
時間かきまぜ、次いで全体をl0CCの2N塩酸及び1
CCの濃塩酸を加え、30分間かきまぜる。酢酸エチル
で抽出した後、有機相を水洗し、乾燥し、減圧下に濃縮
乾固する。残留物に25ccのメタノールを加え、次い
で5ccの6N#i酸を加え、5orcに1時間加熱す
る。冷却し、水で希釈し、酢酸エチルで抽出した後、有
機相を水洗し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固する。残留物
をシリカでクロマトグラフィーし、シクロヘキサン−酢
酸エチル(1−1)混合物で溶離し、540■の所期化
合物を集める。イソプロピルエーテルよ92回、次いで
含水メタノールで結晶化した後、この化合物は196°
Cの融点を持つ。
時間かきまぜ、次いで全体をl0CCの2N塩酸及び1
CCの濃塩酸を加え、30分間かきまぜる。酢酸エチル
で抽出した後、有機相を水洗し、乾燥し、減圧下に濃縮
乾固する。残留物に25ccのメタノールを加え、次い
で5ccの6N#i酸を加え、5orcに1時間加熱す
る。冷却し、水で希釈し、酢酸エチルで抽出した後、有
機相を水洗し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固する。残留物
をシリカでクロマトグラフィーし、シクロヘキサン−酢
酸エチル(1−1)混合物で溶離し、540■の所期化
合物を集める。イソプロピルエーテルよ92回、次いで
含水メタノールで結晶化した後、この化合物は196°
Cの融点を持つ。
ツルー17α−プレグナ−4,9(11)−ジエン4、
4 CCの3−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−
1−プロピンを15CCの無水エーテルを3occのα
9M塩化プロピルマグネシウムエーテル溶液中に滴下す
る。この混合物を20CCのテトラヒドロフランで希釈
し、周囲温度で50分間かきまぜる。132Iの43−
エチレンジオキシ−5α、10α−エポキシ−17α−
トリメチルシリルオキシエストラ−9(11)−エン−
17β−カルボニトリルを導入し、周囲温度で5時間か
きまぜる。次いで全体を35°Cで1時間加熱し、次い
で希シん酸モノナトリウム溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽
出する。抽出物を水洗し、乾燥し、濃縮乾固する。残留
物をシリカでりpマトグ2フイ−シ、石油エーテル−酢
酵エチル(4−1)混合物で溶離し、1555gの所期
化合物を得た。
4 CCの3−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−
1−プロピンを15CCの無水エーテルを3occのα
9M塩化プロピルマグネシウムエーテル溶液中に滴下す
る。この混合物を20CCのテトラヒドロフランで希釈
し、周囲温度で50分間かきまぜる。132Iの43−
エチレンジオキシ−5α、10α−エポキシ−17α−
トリメチルシリルオキシエストラ−9(11)−エン−
17β−カルボニトリルを導入し、周囲温度で5時間か
きまぜる。次いで全体を35°Cで1時間加熱し、次い
で希シん酸モノナトリウム溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽
出する。抽出物を水洗し、乾燥し、濃縮乾固する。残留
物をシリカでりpマトグ2フイ−シ、石油エーテル−酢
酵エチル(4−1)混合物で溶離し、1555gの所期
化合物を得た。
t33ogの上で得た化合物を60CCのメタノールに
溶解する。3CCの水酸化ナトリウムを加え、2時間反
応させる。200ccの水で希釈し、結晶化を開始させ
、結晶を分離し、水洗し、乾燥し、900■の所期化合
物を得た。mp=143℃。
溶解する。3CCの水酸化ナトリウムを加え、2時間反
応させる。200ccの水で希釈し、結晶化を開始させ
、結晶を分離し、水洗し、乾燥し、900■の所期化合
物を得た。mp=143℃。
12、5 CGの16Mブチルリチウムヘキサン溶液を
一50℃に冷却し、これに12.5CCの無水テトラヒ
ドロフランを加え、次いで2.2 CCのテトラメチル
ジアミドシん酸アリルをa CCの乾燥テトラヒドロフ
ランに溶解してなる溶液を一65℃で加える。この混合
物を−10〜−15℃となし、1時間反応させ、次いで
890■の上で得た生成物を加え、全体を周囲温度で1
8時間反応させる。水で希釈し、酢酸エチルで抽出し、
水洗し、乾燥し、濃縮乾固した後、残留物をシリカでク
ロマトグラフィーシ、ベンゼン−酢酸エチル(7−3)
混合物で溶離し、560qの所期化合物を回収した。
一50℃に冷却し、これに12.5CCの無水テトラヒ
ドロフランを加え、次いで2.2 CCのテトラメチル
ジアミドシん酸アリルをa CCの乾燥テトラヒドロフ
ランに溶解してなる溶液を一65℃で加える。この混合
物を−10〜−15℃となし、1時間反応させ、次いで
890■の上で得た生成物を加え、全体を周囲温度で1
8時間反応させる。水で希釈し、酢酸エチルで抽出し、
水洗し、乾燥し、濃縮乾固した後、残留物をシリカでク
ロマトグラフィーシ、ベンゼン−酢酸エチル(7−3)
混合物で溶離し、560qの所期化合物を回収した。
5551vの上で得た生成物を10CCのメタノールに
5 CCの6N塩酸とともに溶解し、周囲温度で18時
間、次いで60℃で1時間反応させる。冷却し、水で希
釈し、塩化メチレンで抽出し、水洗し、乾燥し、減圧下
に濃縮乾固した後、残留物をシリカでクロマトグラフィ
ーし、シクロヘキサン−酢酸エチル(1−1)混合物で
溶離する。350■の所期化合物を分離した。
5 CCの6N塩酸とともに溶解し、周囲温度で18時
間、次いで60℃で1時間反応させる。冷却し、水で希
釈し、塩化メチレンで抽出し、水洗し、乾燥し、減圧下
に濃縮乾固した後、残留物をシリカでクロマトグラフィ
ーし、シクロヘキサン−酢酸エチル(1−1)混合物で
溶離する。350■の所期化合物を分離した。
酢酸エチルよシ再結晶した彼、この化合物・は198°
Cの融点を持つ。
Cの融点を持つ。
(a)、=+31°±1℃(0M1% CHC/s)。
−ラクトン
6.77Iiの例1で得た化合物を68CCのジオキサ
ンに溶解してなる溶液に窒素下でかきまぜながら、20
CCのオルトぎ酸エチル、次いで203■のp−)ルエ
ンスルホン酸−水塩を加える。2時間30分後にα6
CCのトリエチルアミンを加え、次いで全体を60CC
の重炭酸す) IJウム飽和水溶液中に注ぐ。所期生成
物を塩化メチレンで抽出し、12、35 flの粗生成
物を得、これをシリカでクロマトグラフィーし、1%#
のトリエチルアミンを含むシクロヘキサン−酢酸エチル
(7−3)混合物で溶離する。6.1gの所期化合物を
得た。
ンに溶解してなる溶液に窒素下でかきまぜながら、20
CCのオルトぎ酸エチル、次いで203■のp−)ルエ
ンスルホン酸−水塩を加える。2時間30分後にα6
CCのトリエチルアミンを加え、次いで全体を60CC
の重炭酸す) IJウム飽和水溶液中に注ぐ。所期生成
物を塩化メチレンで抽出し、12、35 flの粗生成
物を得、これをシリカでクロマトグラフィーし、1%#
のトリエチルアミンを含むシクロヘキサン−酢酸エチル
(7−3)混合物で溶離する。6.1gの所期化合物を
得た。
m p = 196℃。
2、164.9の工程Aで得た化合物を5%の水を含む
43CCのアセトンに溶解してなる溶液に2.1641
のクロラニルをかきまぜながら加える。周囲温度で22
時間かきまぜた後、反応混合物を、重炭酸ナトリウム飽
和水と10%のチオ硫酸ナトリウムを含り水との混合物
(1−1)の100CCに注ぐ。塩化メチレンで抽出し
、水洗し、乾燥し、乾固させた後、2.1.9の粗生成
物を得、これをシリカでクロマトグラフィー(解離剤は
塩化メチレン−アセトン4−1)l、、1.947 g
の結晶化生成物を得、これを10CCのエチルエーテル
中ですシ砕く。分離し、エチルエーテルで洗い、真空乾
燥した後、1847gの生成物を単離し、次いでこれを
エタノールと塩化メチレンとの混合物に溶解する。塩化
メチレンを追出し、冷却し、分離し、エタノールで洗い
、乾燥した後、1751.pの化合物を得た。
43CCのアセトンに溶解してなる溶液に2.1641
のクロラニルをかきまぜながら加える。周囲温度で22
時間かきまぜた後、反応混合物を、重炭酸ナトリウム飽
和水と10%のチオ硫酸ナトリウムを含り水との混合物
(1−1)の100CCに注ぐ。塩化メチレンで抽出し
、水洗し、乾燥し、乾固させた後、2.1.9の粗生成
物を得、これをシリカでクロマトグラフィー(解離剤は
塩化メチレン−アセトン4−1)l、、1.947 g
の結晶化生成物を得、これを10CCのエチルエーテル
中ですシ砕く。分離し、エチルエーテルで洗い、真空乾
燥した後、1847gの生成物を単離し、次いでこれを
エタノールと塩化メチレンとの混合物に溶解する。塩化
メチレンを追出し、冷却し、分離し、エタノールで洗い
、乾燥した後、1751.pの化合物を得た。
〔α)DII11243,5°±4.5°(CIIII
+Q、5% CHC/s)。
+Q、5% CHC/s)。
分析: CzslHz40s
計算=C%7928 H%&94
実測: 79.2 701711の例7
で得た化合物、85ccの酢酸、& 4 ecの濃塩酸
及びα85CCのチオ酢酸を窒素下に周囲温度で24時
間かきまぜる。全体を重炭酸ナトリウム飽和水溶液に注
ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出物を水洗し、21の樹
脂献物を得、これをシリカでクロマトグラフィー(溶離
剤:シフ寵ヘキサンー酢醜エチル5−2)L、ys3r
tvの所期の無定形化合物を単離した。
で得た化合物、85ccの酢酸、& 4 ecの濃塩酸
及びα85CCのチオ酢酸を窒素下に周囲温度で24時
間かきまぜる。全体を重炭酸ナトリウム飽和水溶液に注
ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出物を水洗し、21の樹
脂献物を得、これをシリカでクロマトグラフィー(溶離
剤:シフ寵ヘキサンー酢醜エチル5−2)L、ys3r
tvの所期の無定形化合物を単離した。
分析: C21H2S 058
計算二〇%70.72H%6.64 8%755実測:
7[L5 6.7 73a)臭化プ
ロピルマグネシウムの調製 2、7 ccの臭化n−プロピルを2.7 CCのテト
ラヒドロフランに溶解してなる溶液を、900.9のマ
グネシウムと27CCのテトラヒドロンランとの混合物
に窒素下で加え、fCf囲温度で一夜かきまぜる。
7[L5 6.7 73a)臭化プ
ロピルマグネシウムの調製 2、7 ccの臭化n−プロピルを2.7 CCのテト
ラヒドロフランに溶解してなる溶液を、900.9のマ
グネシウムと27CCのテトラヒドロンランとの混合物
に窒素下で加え、fCf囲温度で一夜かきまぜる。
b)マグネシウム化合物の添加
14CCの上記マグネシウム化合物を窒素下に一40℃
でかきまぜ、これに下記の溶液、即ち、1514.9の
よう化第−銅と0.69 gの臭化リチウムを5.7
CCのテトラヒドロンランに溶解してなる溶液を30分
間で加え、1ccのテトラヒドロフランで洗い一%得ら
れた懸濁液を−40”Cで15分間かきまぜ八次いで一
70℃に冷却し、to5ccの三ふつ化はう素エーテラ
ートを10分間で加える。
でかきまぜ、これに下記の溶液、即ち、1514.9の
よう化第−銅と0.69 gの臭化リチウムを5.7
CCのテトラヒドロンランに溶解してなる溶液を30分
間で加え、1ccのテトラヒドロフランで洗い一%得ら
れた懸濁液を−40”Cで15分間かきまぜ八次いで一
70℃に冷却し、to5ccの三ふつ化はう素エーテラ
ートを10分間で加える。
一70°Cで20分間かきまぜた後、923ダの10β
−エチニル−17β−ヒドロキシ−3−オキソ−19−
ノル−17α−プレグナ−4,49(11)−)ジエン
−21−カルボン酸のγ−ラクトン(例7で製造)を5
occのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液を35
分間で加え、次いで5CCのテトラヒドロフランで2回
洗い、−70℃でかきまぜる。45分後に4CCの5N
塩酸を加える。温度を周囲温度に戻し、3時間かきまぜ
続け、次いで塩化す) IJウム飽和水で希釈した後、
酢酸エチルで抽出を行う。有機相を希アンモニア、次い
で蒸留水で洗い、乾燥し、真空下に乾固させる。残留物
をシリカでクロマトグラフィー(シクロヘキサン−酢酸
エチル7−3)l、、4801111Pの所期化合物を
単離する。この化合物を塩化メチレンをイソプロピルエ
ーテルとの混合物に溶解し、塩化メチレンを留去し、4
60wの所期化合物を単離した。mp−148℃。
−エチニル−17β−ヒドロキシ−3−オキソ−19−
ノル−17α−プレグナ−4,49(11)−)ジエン
−21−カルボン酸のγ−ラクトン(例7で製造)を5
occのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液を35
分間で加え、次いで5CCのテトラヒドロフランで2回
洗い、−70℃でかきまぜる。45分後に4CCの5N
塩酸を加える。温度を周囲温度に戻し、3時間かきまぜ
続け、次いで塩化す) IJウム飽和水で希釈した後、
酢酸エチルで抽出を行う。有機相を希アンモニア、次い
で蒸留水で洗い、乾燥し、真空下に乾固させる。残留物
をシリカでクロマトグラフィー(シクロヘキサン−酢酸
エチル7−3)l、、4801111Pの所期化合物を
単離する。この化合物を塩化メチレンをイソプロピルエ
ーテルとの混合物に溶解し、塩化メチレンを留去し、4
60wの所期化合物を単離した。mp−148℃。
〔α)、= a o°±1° (C−α8%エタノール
)。
)。
分析: C26H3203=392.5計算: 0%7
955 H%8.21実測: 79.6
asクロマトグラフィー中に247■の易動性
の小さい異性体7βも単離した。これを同様にして塩化
メチレン−イソプロピルエーテルとの混合物よシ再結晶
し、121qの化合物を得た。
955 H%8.21実測: 79.6
asクロマトグラフィー中に247■の易動性
の小さい異性体7βも単離した。これを同様にして塩化
メチレン−イソプロピルエーテルとの混合物よシ再結晶
し、121qの化合物を得た。
mp雪147℃。
〔α〕カーー14°±2°(c=0.5%エタノール)
。
。
2α3gの17β−ヒドロキシ−3−オキソ−10β−
(1−プロピニル)−19−ノル−17α−プレグナ−
4,9(11)−ジエン−21,−カルボン酸のr−ラ
クトン(例7で製造)を200CCのジオキサン、60
ccのオルトぎ酸エチル及び0611のp−)ルエンス
ルホン酸−水塩と混合シたものを周囲温度で4時間かき
まぜる。2 CCのトリエチルアミンを添加した後、全
体を200ccの炭酸水素ナトリウム溶液にゅっ〈シと
注ぎ、次いで沈殿をジクロルメタンで抽出する。311
9の生成物を得、次いでこれを1ooccのジクロルメ
タンに溶解する。この溶液に、250ccのイソプロピ
ルエーテルをゆつくシと加え、次いで冷却する。5.8
1の結晶を得た。m p ww+ 210 ”C0母液
を濃縮し、残留物をクロマトグラフィー(溶離剤ニジク
ロヘキサン−酢酸エチル7−3)するととによって精製
する。15.2119の同定化合物を回収した。m p
−210”C0 5,8gの工程Aで得た化合物、5%の水を含む116
CCのアセトン及び5.8gのクロラニルの混合物を周
囲温度で22時間かきまぜ、次いで150yの10%炭
酸水素ナトリウム水溶液と1501のチオ硫酸ナトリウ
ム溶液との混合物に注ぐ。
(1−プロピニル)−19−ノル−17α−プレグナ−
4,9(11)−ジエン−21,−カルボン酸のr−ラ
クトン(例7で製造)を200CCのジオキサン、60
ccのオルトぎ酸エチル及び0611のp−)ルエンス
ルホン酸−水塩と混合シたものを周囲温度で4時間かき
まぜる。2 CCのトリエチルアミンを添加した後、全
体を200ccの炭酸水素ナトリウム溶液にゅっ〈シと
注ぎ、次いで沈殿をジクロルメタンで抽出する。311
9の生成物を得、次いでこれを1ooccのジクロルメ
タンに溶解する。この溶液に、250ccのイソプロピ
ルエーテルをゆつくシと加え、次いで冷却する。5.8
1の結晶を得た。m p ww+ 210 ”C0母液
を濃縮し、残留物をクロマトグラフィー(溶離剤ニジク
ロヘキサン−酢酸エチル7−3)するととによって精製
する。15.2119の同定化合物を回収した。m p
−210”C0 5,8gの工程Aで得た化合物、5%の水を含む116
CCのアセトン及び5.8gのクロラニルの混合物を周
囲温度で22時間かきまぜ、次いで150yの10%炭
酸水素ナトリウム水溶液と1501のチオ硫酸ナトリウ
ム溶液との混合物に注ぐ。
ジクロルメタンで抽出した後、溶媒を追出し、6.9g
の生成物を得、これをシリカでクロマトグラフィーし、
酢酸エチル−石油エーテル(1−1)混合物で溶離する
。5.1gの生成物を得、これを20CCのジクロルメ
タンに溶解し、200CCのイソフロビルオキシドを添
加することによシ再結晶させて4.77.9の結晶を得
た。m p −248℃。
の生成物を得、これをシリカでクロマトグラフィーし、
酢酸エチル−石油エーテル(1−1)混合物で溶離する
。5.1gの生成物を得、これを20CCのジクロルメ
タンに溶解し、200CCのイソフロビルオキシドを添
加することによシ再結晶させて4.77.9の結晶を得
た。m p −248℃。
エチルアセチレンを3s o ccの0.5N臭化エチ
ルマグネシウムエーテル溶液と330 CCのテトラヒ
ドロフランとの混合物に2時間30分ふきこみ、次いで
1[1gの3,3−エチレンジオキシ−5α。
ルマグネシウムエーテル溶液と330 CCのテトラヒ
ドロフランとの混合物に2時間30分ふきこみ、次いで
1[1gの3,3−エチレンジオキシ−5α。
10α−エポキシ−17α−トリメチルシリルオキシエ
ストラ−9(11)−エン−17β−カルボニトリルを
全部一度に入れる。全体を40〜50℃に4時間30分
加熱し、次いで周囲温度に戻し、塩化アンモニウムと氷
との混合物上に注ぐ。
ストラ−9(11)−エン−17β−カルボニトリルを
全部一度に入れる。全体を40〜50℃に4時間30分
加熱し、次いで周囲温度に戻し、塩化アンモニウムと氷
との混合物上に注ぐ。
デカンテーションし、水洗し、クロロホルムで抽出し、
乾燥し、乾固させた後、12Iの生成物を得、次いでこ
れを100ccのエタノールに95℃で加える。10C
Cの水酸化ナトリウムを加え、45分間かきまぜ、次い
でエタノールを留去し、残留物をクロロホルムで溶解し
、水洗し、乾燥し、乾固させる。そのようにして得られ
た93gの生成物をシリカでクロマトグラフィー(溶離
剤:石油エーテル−酢酸エチル(1−1)+1%−トリ
エチルアミン)する。4.6gの生成物(Rf−α35
)を回収した。この生成物を1occの塩化メチレンに
W解L、r過し、30ccのイソプロピルエーテルを加
え、冷却し、分離し、50℃で乾燥した後、240ηの
化合物を得た。
乾燥し、乾固させた後、12Iの生成物を得、次いでこ
れを100ccのエタノールに95℃で加える。10C
Cの水酸化ナトリウムを加え、45分間かきまぜ、次い
でエタノールを留去し、残留物をクロロホルムで溶解し
、水洗し、乾燥し、乾固させる。そのようにして得られ
た93gの生成物をシリカでクロマトグラフィー(溶離
剤:石油エーテル−酢酸エチル(1−1)+1%−トリ
エチルアミン)する。4.6gの生成物(Rf−α35
)を回収した。この生成物を1occの塩化メチレンに
W解L、r過し、30ccのイソプロピルエーテルを加
え、冷却し、分離し、50℃で乾燥した後、240ηの
化合物を得た。
m p−139℃。
分析: C2,)(、、O,=384.52計算:0%
74.97 H%8.39実測: 75.(l
a5ドロキシ−3−オキソ−19−ノル−
17α−プ24CCのテトラヒドロンランを24CCの
165Mn−ブチルリチウムヘキサン溶液に一50℃で
加え、次いで4 CCのテトラメチルジアミド夛ん酸ア
リルを16CCのテトラヒドロフランに溶解してなる溶
液を一50°Cで15分間で加える。−30℃で1時間
かきまぜた後、192Fの工程Aで得た生成物を20C
Cのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液を加える。
74.97 H%8.39実測: 75.(l
a5ドロキシ−3−オキソ−19−ノル−
17α−プ24CCのテトラヒドロンランを24CCの
165Mn−ブチルリチウムヘキサン溶液に一50℃で
加え、次いで4 CCのテトラメチルジアミド夛ん酸ア
リルを16CCのテトラヒドロフランに溶解してなる溶
液を一50°Cで15分間で加える。−30℃で1時間
かきまぜた後、192Fの工程Aで得た生成物を20C
Cのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液を加える。
との混合物を周囲温度に冷却し、2時間かきまぜ、次い
で0〜+5℃で40CCの2N塩酸を加え、次いで30
分間かきまぜ、クロロホルムで抽′出し、水洗し、乾燥
し、乾固させる。3Iの生成物を得、これを次いで30
CCのエタノールに溶解し、窒素下に6 ccのα5N
塩酸を加え、50℃に2時間加熱する。乾固させた後、
残留物を塩化メチレンで溶解し、水洗し、次いで乾固さ
せる。2gの生成物を得、とれをシリカでクロマトグラ
フィーし、石油エーテル−酢酸エチル(1−1)混合物
で溶離する。126gの生成物(Rf=α22)を得、
次いでこれを20CCのイソプロピルエーテルに還流下
に溶解する。半分に濃縮した後、結晶化を開始させ、次
いで冷却し、分離し、冷イソ少ロビルエーテルで洗い、
50℃で真空乾燥する。880■の生成物を得、とれを
8CCのイソプロピルエーテルに還流下に溶解し、p過
し、淘シが現われるまで濃縮し、熱結晶化を開始させる
ことによシ再結晶化させ、冷却し、分離し、石油エーテ
ルで洗い、次いで50℃で真空乾燥する。770ダの化
合物を得た。m p w 94℃。
で0〜+5℃で40CCの2N塩酸を加え、次いで30
分間かきまぜ、クロロホルムで抽′出し、水洗し、乾燥
し、乾固させる。3Iの生成物を得、これを次いで30
CCのエタノールに溶解し、窒素下に6 ccのα5N
塩酸を加え、50℃に2時間加熱する。乾固させた後、
残留物を塩化メチレンで溶解し、水洗し、次いで乾固さ
せる。2gの生成物を得、とれをシリカでクロマトグラ
フィーし、石油エーテル−酢酸エチル(1−1)混合物
で溶離する。126gの生成物(Rf=α22)を得、
次いでこれを20CCのイソプロピルエーテルに還流下
に溶解する。半分に濃縮した後、結晶化を開始させ、次
いで冷却し、分離し、冷イソ少ロビルエーテルで洗い、
50℃で真空乾燥する。880■の生成物を得、とれを
8CCのイソプロピルエーテルに還流下に溶解し、p過
し、淘シが現われるまで濃縮し、熱結晶化を開始させる
ことによシ再結晶化させ、冷却し、分離し、石油エーテ
ルで洗い、次いで50℃で真空乾燥する。770ダの化
合物を得た。m p w 94℃。
分析二〇■出・0.−378.48
計算二〇%79.33 H%799実測: 7
9!5 8.2〔α) I)=+3s°±1°
(C=1%クロロホルム)例11の工程Aにおけるよう
に実施し、6.45gの3.5−エチレンジオキシ−5
α、10α−エポキシ−17α−トリメチルシリルオキ
シエストラ−9(11)−エン−17β−カルボニトリ
ルよル出発し、りqマドグラフィーした後、2.61g
の所期生成物を得た。この生成物の200■を2 CC
のイソプロピルエーテル中で還流下に結晶化させて14
0■の所期の純化合物を得た。
9!5 8.2〔α) I)=+3s°±1°
(C=1%クロロホルム)例11の工程Aにおけるよう
に実施し、6.45gの3.5−エチレンジオキシ−5
α、10α−エポキシ−17α−トリメチルシリルオキ
シエストラ−9(11)−エン−17β−カルボニトリ
ルよル出発し、りqマドグラフィーした後、2.61g
の所期生成物を得た。この生成物の200■を2 CC
のイソプロピルエーテル中で還流下に結晶化させて14
0■の所期の純化合物を得た。
mp−120℃。
9f逝: C4s H3o 04 = 598.56計
算:0%75.54 H%a6 実測: 75.1 8.7例11の工程B
におけるように実施し、2gの工程Aで得た化合物よシ
出発し、クロマトグラフィーした後、11!5.9の所
期生成物を得た。どの生成物を2CCの塩化メチレンに
溶解し、10CCのイソプロピルエーテルを添加するこ
とによシ再結晶する。970m9の純化合物を得、次い
で第二の再結晶化の後に910〜の化合物を得た。
算:0%75.54 H%a6 実測: 75.1 8.7例11の工程B
におけるように実施し、2gの工程Aで得た化合物よシ
出発し、クロマトグラフィーした後、11!5.9の所
期生成物を得た。どの生成物を2CCの塩化メチレンに
溶解し、10CCのイソプロピルエーテルを添加するこ
とによシ再結晶する。970m9の純化合物を得、次い
で第二の再結晶化の後に910〜の化合物を得た。
mp富123℃。
分析: Ct@HszOs −392,52計算:0%
7955 H%8.22実測: y96
8.s 〔α) −+41°±1° (0M1%クロロホルム
)。
7955 H%8.22実測: y96
8.s 〔α) −+41°±1° (0M1%クロロホルム
)。
例1!1:17β−ヒドロキシ−10β−(1−ブオン
a)17位置のケトンの還元
770ηの10β−(1−ブチニル) −3,3−エチ
レンジオキシ−5α−ヒドロキシエストラ−9(11)
−エン−17−オン(例11の工程Aで製造)を15C
Cのエタノールに溶解してなる溶液に385■の水素化
はう素ナトリウムを加える。
レンジオキシ−5α−ヒドロキシエストラ−9(11)
−エン−17−オン(例11の工程Aで製造)を15C
Cのエタノールに溶解してなる溶液に385■の水素化
はう素ナトリウムを加える。
45分間かきまぜ、真空下に蒸留乾固し、塩化メチレン
で溶解し、水洗し、乾燥し、乾固させた後、770■の
生成物を得た。mp=195℃。
で溶解し、水洗し、乾燥し、乾固させた後、770■の
生成物を得た。mp=195℃。
b)ケタールの酸加水分解
770rngの上で得た生成物を窒素下に50〜60℃
で15CCのエタノールに溶解する。α8 ccの0.
5N塩酸を加え、次いで4時間加熱し、乾固させ、塩化
メチレンで溶解し、水洗し、乾燥し、次いで乾固させる
。750ηの樹脂状物を得、これをシリカでクロマトグ
ラフィーする(溶離剤:石油エーテル−酢酸エチル1−
1)。Rq=0.3S。
で15CCのエタノールに溶解する。α8 ccの0.
5N塩酸を加え、次いで4時間加熱し、乾固させ、塩化
メチレンで溶解し、水洗し、乾燥し、次いで乾固させる
。750ηの樹脂状物を得、これをシリカでクロマトグ
ラフィーする(溶離剤:石油エーテル−酢酸エチル1−
1)。Rq=0.3S。
6SOFn9の生成物を得、これを6 ccのイソプロ
ピルエーテルに還流下に溶解し、次いでr過し、半分ま
で濃縮し、結晶化を開始させることによって再結晶させ
、冷却し、分離し、冷イソプロピルエーテルで洗い、次
いで乾燥する。485■の化合物を得た。m p =
95℃。
ピルエーテルに還流下に溶解し、次いでr過し、半分ま
で濃縮し、結晶化を開始させることによって再結晶させ
、冷却し、分離し、冷イソプロピルエーテルで洗い、次
いで乾燥する。485■の化合物を得た。m p =
95℃。
〔α〕D=+136°±2° (c=1%クロロホルム
)。
)。
一オン
例13に示すように実施し、570〜の10β−(1−
ペンチニル)−13−エチレンジオキシ−5α−ヒドロ
キシエストラ−9(11)−エン−17−オン(例12
の工程Aで製造)より出発して、280m9の所期化合
物を得た。
ペンチニル)−13−エチレンジオキシ−5α−ヒドロ
キシエストラ−9(11)−エン−17−オン(例12
の工程Aで製造)より出発して、280m9の所期化合
物を得た。
〔α)D=+134°±2°(c=1%クロロホルム)
。
。
オン
例13に示すように実施し、52oIngの1oβ−(
1−プロピニル) −3,3−エチレンジオキシ−5α
−ヒドロキシエストラ−9(11)−エン−17−オン
(例4の工程Aで製造)より出発して、260m9の所
期化合物を得た。mp=154℃。
1−プロピニル) −3,3−エチレンジオキシ−5α
−ヒドロキシエストラ−9(11)−エン−17−オン
(例4の工程Aで製造)より出発して、260m9の所
期化合物を得た。mp=154℃。
〔α) −130°±1° (c=1%クロpポルム
)。
)。
例9におけるように実施し、例1oの化合物より出発し
て、所期化合物を得た。m p = 110 ”C0R
q=12(溶8剤:シク四ヘキサンー酢酸エチル7−3
)。
て、所期化合物を得た。m p = 110 ”C0R
q=12(溶8剤:シク四ヘキサンー酢酸エチル7−3
)。
分析:C2フH3405
計算:0%79.77 )(%8.43実測!
76.6 8.5 例17:7α−アセチルチオ−17β−ヒトジキシ−3
−オキソ−10β−(1−プロピニル)−19−ノル−
17α−プレグナ−4,9(11)−例8におけるよう
に実施し、例10の化合物より出発して、所期化合物を
得た。Rq = 0.1 (溶離剤ニジクロルメタン−
アセシン9−2)。
76.6 8.5 例17:7α−アセチルチオ−17β−ヒトジキシ−3
−オキソ−10β−(1−プロピニル)−19−ノル−
17α−プレグナ−4,9(11)−例8におけるよう
に実施し、例10の化合物より出発して、所期化合物を
得た。Rq = 0.1 (溶離剤ニジクロルメタン−
アセシン9−2)。
分析: C,、H3,so、 = 458.59計算:
0%71.2.OI(%&898%7.31実測2
71 68 7.2a)17位置のケト
ンの還元 290■の5.3−エチレンジオキシ−5α−ヒドロキ
シ−10β−[:3−(2R8−テトラヒト四ピラニル
オキシ)−1−プロピニル〕エストラ−9(11)−エ
ン−17−オン(例6の工程Bにおけるように製造)と
6ccのメタノールよりなる+5℃に冷却した溶液に5
8■の水素化はう素ナトリウムを加える。かきまぜなが
ら2時間放置し、水で希釈し、塩化メチレンで希釈し、
濃縮乾固させた後、300ダの生成物を得た。
0%71.2.OI(%&898%7.31実測2
71 68 7.2a)17位置のケト
ンの還元 290■の5.3−エチレンジオキシ−5α−ヒドロキ
シ−10β−[:3−(2R8−テトラヒト四ピラニル
オキシ)−1−プロピニル〕エストラ−9(11)−エ
ン−17−オン(例6の工程Bにおけるように製造)と
6ccのメタノールよりなる+5℃に冷却した溶液に5
8■の水素化はう素ナトリウムを加える。かきまぜなが
ら2時間放置し、水で希釈し、塩化メチレンで希釈し、
濃縮乾固させた後、300ダの生成物を得た。
b)ケタールの酸加水分解
上記生成物を6 ccのメタノールに溶解し、3ccの
0.5N塩酸を加え、1時間かきまぜる。水で希釈し、
結晶化を開始させ、分離し、乾燥した後、166111
9の所期化合物を得た。塩化メチレンとイソプロピルエ
ーテルとの混合物より再結J& 化後にmp=204℃
。
0.5N塩酸を加え、1時間かきまぜる。水で希釈し、
結晶化を開始させ、分離し、乾燥した後、166111
9の所期化合物を得た。塩化メチレンとイソプロピルエ
ーテルとの混合物より再結J& 化後にmp=204℃
。
〔α〕D=+124″(c=1%、りooホルム)。
2gの例4で得た化合物を20ccのトルエンに懸濁さ
せたものを3.2gのフェニルセレニン酸無水物の存在
下に20時間加熱還流する。これを冷却せしめ、次いで
重炭酸す) IJウム溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出す
る。抽出物を水酸化す) IJウム水溶液で洗い、乾燥
し、溶媒を減圧下に蒸発させる。シリカでクロマトグラ
フィー(溶離剤:塩化メチレン−アセトン97−3)し
た後、α511gの所期化合物を得た。
せたものを3.2gのフェニルセレニン酸無水物の存在
下に20時間加熱還流する。これを冷却せしめ、次いで
重炭酸す) IJウム溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出す
る。抽出物を水酸化す) IJウム水溶液で洗い、乾燥
し、溶媒を減圧下に蒸発させる。シリカでクロマトグラ
フィー(溶離剤:塩化メチレン−アセトン97−3)し
た後、α511gの所期化合物を得た。
IRスペクトル(り菅ロホルム)
1764 cm −γ−ラクトン
1667cm−” :共役ケトン
1631−1608cW1 、−C=C=75ダの塩化
第二銅と24叩の塩化リチウムを55CCのテトラヒド
ロ7ラン中で混合し、不活性雰囲気下に2gの例10で
得た化合物を加える。
第二銅と24叩の塩化リチウムを55CCのテトラヒド
ロ7ラン中で混合し、不活性雰囲気下に2gの例10で
得た化合物を加える。
全体を+2〜+4℃に冷却し、次いで19CCのt05
Mよう化メチルマグネシウムエーテル溶液を2時間で滴
下し、2時間かきまぜるとともにその間温度を+2℃に
保つ。次いで9 ccの5N塩酸を加え、温度を周囲温
度に戻す。酢酸エチルで抽出を行い、抽出物を水洗し、
次いで水酸化アンモニウム水溶液で洗い、次いで水洗し
、乾燥し、濃縮乾固する。シリカでクロマトグラフィー
(溶離剤ニジクロヘキサン−酢酸エチル8.5−1.5
) した後、584m9の所期化合物の7α婬性体(
n’1p=125°C)及び550 IQの7β異性体
を得た。
Mよう化メチルマグネシウムエーテル溶液を2時間で滴
下し、2時間かきまぜるとともにその間温度を+2℃に
保つ。次いで9 ccの5N塩酸を加え、温度を周囲温
度に戻す。酢酸エチルで抽出を行い、抽出物を水洗し、
次いで水酸化アンモニウム水溶液で洗い、次いで水洗し
、乾燥し、濃縮乾固する。シリカでクロマトグラフィー
(溶離剤ニジクロヘキサン−酢酸エチル8.5−1.5
) した後、584m9の所期化合物の7α婬性体(
n’1p=125°C)及び550 IQの7β異性体
を得た。
分析! C25H3o03 =378.527α異性体
:計算:C%79.33 T(%7.99実測+
79.0 8.1 7β異性体:計算:C%79.33 H%7.99実
測: 79.!l 8.01、 a 51
1の例4で得た化合物を32ccの酢酸エチルに溶解し
”Cなる溶液に8 ccのピリジン、次いで0.29&
のリンドラ−の触媒を加える。2時間水素化した鎌、触
媒を分離し、ピリジンを2N4酸で洗って除去する。有
機相をデカンテーションし、水洗し、乾燥し、濃縮乾固
する。残留物をエーテルで溶解し、加熱還流し、冷却し
、結晶を分離し、乾燥し、840FIvgの所期化合物
を得た。塩′化メチレンとイソプロピルエーテルとの混
合物から再結晶した後のm p =170℃。
:計算:C%79.33 T(%7.99実測+
79.0 8.1 7β異性体:計算:C%79.33 H%7.99実
測: 79.!l 8.01、 a 51
1の例4で得た化合物を32ccの酢酸エチルに溶解し
”Cなる溶液に8 ccのピリジン、次いで0.29&
のリンドラ−の触媒を加える。2時間水素化した鎌、触
媒を分離し、ピリジンを2N4酸で洗って除去する。有
機相をデカンテーションし、水洗し、乾燥し、濃縮乾固
する。残留物をエーテルで溶解し、加熱還流し、冷却し
、結晶を分離し、乾燥し、840FIvgの所期化合物
を得た。塩′化メチレンとイソプロピルエーテルとの混
合物から再結晶した後のm p =170℃。
[α]D== ayo(c=1%りpロホルム)。
分析:c!4I(3゜0s=366.51計算=C%7
8.65 H%&25 実測: 7B、4 8.4 α519の例6で得た化合物を5 ccのテトラヒドロ
7ランと5 ccの四塩化炭素に溶解してなる溶液に1
1のシリ7エエルホスフインを加える。これをかきまぜ
ながら80°Cに30分間加熱し、減圧下に濃縮乾固し
た後、残留物をシリカでり四マドグラフィーする(溶離
剤ニジクロヘキサン−酢酸エチル9−1、次いで7−3
)。生成物をシリカでクロマトグラフィーし、エーテル
で溶離し、0、3819の所期化合物を得た。塩化メチ
レンとイソプpピルエーテルとの混合物で再結晶した後
のm p = 1 ’54℃。
8.65 H%&25 実測: 7B、4 8.4 α519の例6で得た化合物を5 ccのテトラヒドロ
7ランと5 ccの四塩化炭素に溶解してなる溶液に1
1のシリ7エエルホスフインを加える。これをかきまぜ
ながら80°Cに30分間加熱し、減圧下に濃縮乾固し
た後、残留物をシリカでり四マドグラフィーする(溶離
剤ニジクロヘキサン−酢酸エチル9−1、次いで7−3
)。生成物をシリカでクロマトグラフィーし、エーテル
で溶離し、0、3819の所期化合物を得た。塩化メチ
レンとイソプpピルエーテルとの混合物で再結晶した後
のm p = 1 ’54℃。
〔α)D=+17.5” (e = 1%クロ四ホルム
)。
)。
分析” C24H2703CI =36 &51計算:
0%72.26 )(%6.82 01%8.88実
測: 72.1 6.8 9.24
、04 pのよう化トリメチルスルホキソニウムを15
CCのジメチルスルホキシドに溶解してなる溶液に、8
.6 ccのカリウムt−ブチラードを8.2CCのテ
トラヒト党7ランに溶解してなる溶液を不活性雰囲気下
に加え、15分がきまぜた後、2.7379の例10に
おけるようにして得た化合物を3 ccのテトラヒドロ
7ランに溶解してなるものを加え、全体を59〜60°
Cに1時間加熱する。次いでこれを冷却し、8 ccの
1N塩酸を加え、次いで塩化ナトリウム飽和水溶液で希
釈し、酢酸エチルで抽出する。有機相を重炭酸ナトリウ
ム飽和水溶液で洗い、次いで塩化す) IJウム飽和水
溶液で洗う。乾燥し、濃縮乾固し、シリカでり田マドグ
ラフィー(溶離剤ニジクロヘキサン−酢酸エチル6−4
)した後、12B11の所期化合物を得た。イソプ胃パ
ノールより再結晶化後のmp=245℃。
0%72.26 )(%6.82 01%8.88実
測: 72.1 6.8 9.24
、04 pのよう化トリメチルスルホキソニウムを15
CCのジメチルスルホキシドに溶解してなる溶液に、8
.6 ccのカリウムt−ブチラードを8.2CCのテ
トラヒト党7ランに溶解してなる溶液を不活性雰囲気下
に加え、15分がきまぜた後、2.7379の例10に
おけるようにして得た化合物を3 ccのテトラヒドロ
7ランに溶解してなるものを加え、全体を59〜60°
Cに1時間加熱する。次いでこれを冷却し、8 ccの
1N塩酸を加え、次いで塩化ナトリウム飽和水溶液で希
釈し、酢酸エチルで抽出する。有機相を重炭酸ナトリウ
ム飽和水溶液で洗い、次いで塩化す) IJウム飽和水
溶液で洗う。乾燥し、濃縮乾固し、シリカでり田マドグ
ラフィー(溶離剤ニジクロヘキサン−酢酸エチル6−4
)した後、12B11の所期化合物を得た。イソプ胃パ
ノールより再結晶化後のmp=245℃。
〔α)D=−276°(e=15%CHCl、)。
分析
計算:0%79.75 H%7.49実測雪 79
.4 7.6 エ程A : I Sβ−エチル−3,3−エチレンジオ
キシ−10β−エチニルゴナ−9(11)−エン−5α
、17β−ジオール ′5.9gの43−エチレンジオキシ−5α、10α−
エポキシ−13β−エチル−17β−ヒト四キシゴナ−
9(11)−エン(フランス国特許第2.577.41
7号に記載のように製造)をベンゼンに溶解し、減圧下
に濃縮し、残留物を40ccの塩化メチレンに溶解する
。不活性雰囲気下にL6I′のリチウム−エチレンジア
ミンのアセチレン錯体を加え、全体を45°Cに加熱し
、24時間かきまぜ続ける。さらに3.99の錯体を加
え、48℃で72時間かきまぜ、次いで冷却し、塩化ア
ンモニウム溶液中に注ぐ。酢酸エチルで抽出した後、有
機相を水洗し、乾燥し、溶媒を減圧下に追出す。残留物
をシリカでり田マドグラフィーしく溶離剤ニジクロヘキ
サン−酢酸エチル1−1)、2.3.9の所期化合物を
得た。
.4 7.6 エ程A : I Sβ−エチル−3,3−エチレンジオ
キシ−10β−エチニルゴナ−9(11)−エン−5α
、17β−ジオール ′5.9gの43−エチレンジオキシ−5α、10α−
エポキシ−13β−エチル−17β−ヒト四キシゴナ−
9(11)−エン(フランス国特許第2.577.41
7号に記載のように製造)をベンゼンに溶解し、減圧下
に濃縮し、残留物を40ccの塩化メチレンに溶解する
。不活性雰囲気下にL6I′のリチウム−エチレンジア
ミンのアセチレン錯体を加え、全体を45°Cに加熱し
、24時間かきまぜ続ける。さらに3.99の錯体を加
え、48℃で72時間かきまぜ、次いで冷却し、塩化ア
ンモニウム溶液中に注ぐ。酢酸エチルで抽出した後、有
機相を水洗し、乾燥し、溶媒を減圧下に追出す。残留物
をシリカでり田マドグラフィーしく溶離剤ニジクロヘキ
サン−酢酸エチル1−1)、2.3.9の所期化合物を
得た。
工程B:13β−エチルー10β−エチニル−17β−
ヒトジキシゴナ−5,9(11)−ジエン−3−オン 0.7gの工程Aで得た化合物を7 ccのメタノール
に溶解したものに3.5 ccの0.5N塩酸を加える
。55℃に1時間加熱した後、水で希釈し、塩化メチレ
ンで抽出する。有機相を水洗し、乾燥し、減圧下に濃縮
乾固する。残留物をシリカでクロマトグラフィーしく溶
離剤ニジクロヘキサン−酢酸エチル1−1)、得られた
生成物をシリカでさらにクロマトグラフィー(溶離剤:
エーテル−ヘキサン6−4)t、、て精製し、α591
1の所期化合物を回収した。イソプロピルエーテルから
再結晶化後のff’Tl=120℃。
ヒトジキシゴナ−5,9(11)−ジエン−3−オン 0.7gの工程Aで得た化合物を7 ccのメタノール
に溶解したものに3.5 ccの0.5N塩酸を加える
。55℃に1時間加熱した後、水で希釈し、塩化メチレ
ンで抽出する。有機相を水洗し、乾燥し、減圧下に濃縮
乾固する。残留物をシリカでクロマトグラフィーしく溶
離剤ニジクロヘキサン−酢酸エチル1−1)、得られた
生成物をシリカでさらにクロマトグラフィー(溶離剤:
エーテル−ヘキサン6−4)t、、て精製し、α591
1の所期化合物を回収した。イソプロピルエーテルから
再結晶化後のff’Tl=120℃。
〔α) D = + 98.5″″(C=1%クロロホ
ルム)。
ルム)。
分析’ C21’I’h602 ==31α44計算:
0%8t25 T(%8.44実測2 81.1
8.7 エ程A:17β−エチル−10β−エチニル−43−エ
チレンジオキシ−5α−ヒドロキシゴナ−9(11)−
エン−17−オン 0、75 Nの例24の工程人で得た化合物を12CC
のジメチルホルムアミドに溶解して+4℃に冷却した溶
液に2.4gの重クロム酸ピリジニウムを加える。1時
間30分かきまぜた後、これを水で希釈し、エーテルで
抽出する。有機相を水洗し、乾燥し、濃縮乾固する。0
.741の所期化合物を得た。
0%8t25 T(%8.44実測2 81.1
8.7 エ程A:17β−エチル−10β−エチニル−43−エ
チレンジオキシ−5α−ヒドロキシゴナ−9(11)−
エン−17−オン 0、75 Nの例24の工程人で得た化合物を12CC
のジメチルホルムアミドに溶解して+4℃に冷却した溶
液に2.4gの重クロム酸ピリジニウムを加える。1時
間30分かきまぜた後、これを水で希釈し、エーテルで
抽出する。有機相を水洗し、乾燥し、濃縮乾固する。0
.741の所期化合物を得た。
工程B : 15β−エチル−10β−エチニル−1フ
β−ヒトpキシ−3−オキソ−18,19−ジノル−(
17α)−プレグナ−4,9(11)−ジエン−21−
カルボン酸のγ−ラクトン例4の工′程Bにおけるよう
に実施し、l]、95gの上記工、程Aで得た化合物よ
り出発し、周囲温度で65時間反応させる。反応媒体を
塩化アンモニウム溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。
β−ヒトpキシ−3−オキソ−18,19−ジノル−(
17α)−プレグナ−4,9(11)−ジエン−21−
カルボン酸のγ−ラクトン例4の工′程Bにおけるよう
に実施し、l]、95gの上記工、程Aで得た化合物よ
り出発し、周囲温度で65時間反応させる。反応媒体を
塩化アンモニウム溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。
有機相を水洗し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固する。残留
物を19CCのメタノールに溶解し、9CCの15N塩
酸を加え、全体を50〜55℃に1時間30分加熱し、
次いで冷却し、水で希釈し、塩化メチレンで抽出する。
物を19CCのメタノールに溶解し、9CCの15N塩
酸を加え、全体を50〜55℃に1時間30分加熱し、
次いで冷却し、水で希釈し、塩化メチレンで抽出する。
得られた粗生成物をシリカでり党マドグラフィー(溶離
剤:エーテルー酢酸エチル&5−15)することにより
精製し、α2611の所期化合物を得た。イソプロピル
エーテルから再結晶後のmP=198°C0 〔α)D=+4°(c=1%りoOホルム)。
剤:エーテルー酢酸エチル&5−15)することにより
精製し、α2611の所期化合物を得た。イソプロピル
エーテルから再結晶後のmP=198°C0 〔α)D=+4°(c=1%りoOホルム)。
分析:C14H鵞、0s=564.49計算:0%81
.25 H%B、44実測! Ell
B、7 エ程A:3,3−エチレンジオキシ−10β−エチニル
−5α、17β−ジヒドロキシ−17α−メチルエスト
ラ−9(11)−エン 5.059のよう化第二銅を3QeCのテトラヒドロフ
ランに懸濁させたものに27ccの’L8Mメチルリチ
ウムエーテル溶液を一65℃で15分間で加える。15
分間かきまぜた後、713rvのへ3−ニチレンジオキ
シー10β−エチニル−5α−ヒドロキシエストラ−9
(11)−エン−17−オンを20CCのテトラヒドロ
フランに溶解してなる溶液を加える。全体を一65℃で
2時間かきまぜ続け、次いで周囲温度に戻し、さらに3
9時間かきまぜる。冷却した後、塩化アンモニウム飽和
水溶液を加え、次いで酢酸エチルで抽出する。有機相を
水洗し、乾燥し、濃縮乾固する。残留物をシリカでクロ
マトグラフィー(溶離剤;シクロヘキサン−酢酸エチル
6−4)し、560■の所期化合物を得た。
.25 H%B、44実測! Ell
B、7 エ程A:3,3−エチレンジオキシ−10β−エチニル
−5α、17β−ジヒドロキシ−17α−メチルエスト
ラ−9(11)−エン 5.059のよう化第二銅を3QeCのテトラヒドロフ
ランに懸濁させたものに27ccの’L8Mメチルリチ
ウムエーテル溶液を一65℃で15分間で加える。15
分間かきまぜた後、713rvのへ3−ニチレンジオキ
シー10β−エチニル−5α−ヒドロキシエストラ−9
(11)−エン−17−オンを20CCのテトラヒドロ
フランに溶解してなる溶液を加える。全体を一65℃で
2時間かきまぜ続け、次いで周囲温度に戻し、さらに3
9時間かきまぜる。冷却した後、塩化アンモニウム飽和
水溶液を加え、次いで酢酸エチルで抽出する。有機相を
水洗し、乾燥し、濃縮乾固する。残留物をシリカでクロ
マトグラフィー(溶離剤;シクロヘキサン−酢酸エチル
6−4)し、560■の所期化合物を得た。
工程B:10β−エチニル−17β−ヒドロキシ−17
α−メチルエストラ−4,9(11)−ジエン−3−オ
ン 不活性雰囲気下に704ダの上記工程Aで製造した化合
物を14611!のエタノール及び五5 ccの5N塩
酸中で3時間15分加熱する。冷却し、2CCのアンモ
ニアを加え、エタノールを減圧下に追出し、水で希釈し
た後、酢酸工枡ルで抽出する。有機相を水洗し、乾燥し
、濃縮乾固する。残留物をシリカでクロマトグラフィー
(溶離剤ニジクロへ轡サンー酢酸エチル6−4>1..
472mgの所期化合物を得た。エチルエーテルから結
晶化後のmp=174℃。
α−メチルエストラ−4,9(11)−ジエン−3−オ
ン 不活性雰囲気下に704ダの上記工程Aで製造した化合
物を14611!のエタノール及び五5 ccの5N塩
酸中で3時間15分加熱する。冷却し、2CCのアンモ
ニアを加え、エタノールを減圧下に追出し、水で希釈し
た後、酢酸工枡ルで抽出する。有機相を水洗し、乾燥し
、濃縮乾固する。残留物をシリカでクロマトグラフィー
(溶離剤ニジクロへ轡サンー酢酸エチル6−4>1..
472mgの所期化合物を得た。エチルエーテルから結
晶化後のmp=174℃。
(a ) n = + 65.5°±2°(c=α5%
クロ田ホルム)。
クロ田ホルム)。
分析
計算=C%8t24 I(%8.44実測+ 8
12 B、3 工程A+3.3−エチレンジオキシ−1oβ−エチニル
−5α、17β−ヒドロキシ−17α−エチルエストラ
−9(11)−エン +10℃に冷却した4Qeeのα5M臭化メチルマグネ
シウム溶液に100#9の臭化第一銅を加える。20分
間かきまぜた後、1gの例1の工程Aで製造した化合物
を加え、2時間30分かきまぜ続ける。塩化アンモニウ
ム飽和水溶液上にo ”c注ぎ、塩化メチ・レンで抽出
し、抽出物を濃縮乾固させることに・よりto4Fの所
期化合物を得た。
12 B、3 工程A+3.3−エチレンジオキシ−1oβ−エチニル
−5α、17β−ヒドロキシ−17α−エチルエストラ
−9(11)−エン +10℃に冷却した4Qeeのα5M臭化メチルマグネ
シウム溶液に100#9の臭化第一銅を加える。20分
間かきまぜた後、1gの例1の工程Aで製造した化合物
を加え、2時間30分かきまぜ続ける。塩化アンモニウ
ム飽和水溶液上にo ”c注ぎ、塩化メチ・レンで抽出
し、抽出物を濃縮乾固させることに・よりto4Fの所
期化合物を得た。
工an : 1oβ−エチニル−17β−ヒドロキシ−
17α−エチルエストラ−4,9(11)−ジェシー3
−オン 971ηの上記工程Aで得た化合物を20ccのエタノ
ール及び10ccの2N塩酸に溶解したものを周囲温度
で16時間、次いで40″Cで3時間かきまぜ、次いで
冷却し、アンモニアで中和し、塩化メチレンで抽出する
。溶媒を蒸発させ残留物をシリカでり四マドグラフィー
(溶離剤雪ヘキサンー酢酸エチル6−4)t、、エチル
エーテルで結晶化した後、372m9の所期化合物を得
た。mp==147〜148℃。
17α−エチルエストラ−4,9(11)−ジェシー3
−オン 971ηの上記工程Aで得た化合物を20ccのエタノ
ール及び10ccの2N塩酸に溶解したものを周囲温度
で16時間、次いで40″Cで3時間かきまぜ、次いで
冷却し、アンモニアで中和し、塩化メチレンで抽出する
。溶媒を蒸発させ残留物をシリカでり四マドグラフィー
(溶離剤雪ヘキサンー酢酸エチル6−4)t、、エチル
エーテルで結晶化した後、372m9の所期化合物を得
た。mp==147〜148℃。
〔α〕D=+56°±5@(e =0.2%り’oaホ
ルム)。
ルム)。
工iA:5.3−エチレンジオキシ−10β−エチニル
−5α、17β−ジヒド四キシー17α−プロピルエス
トラ−9(11)−エン 例27の工程Aにおけるようにして、465ηの臭化第
一銅、90ccのα7M臭化エチルアンモエウムテトラ
ヒド四フラン溶液及び4.6509の例1の工程Aにお
けるようにして製造した化合物より出発して実施する。
−5α、17β−ジヒド四キシー17α−プロピルエス
トラ−9(11)−エン 例27の工程Aにおけるようにして、465ηの臭化第
一銅、90ccのα7M臭化エチルアンモエウムテトラ
ヒド四フラン溶液及び4.6509の例1の工程Aにお
けるようにして製造した化合物より出発して実施する。
酢酸エチルで抽出し、シリカでり四マドグラフィー(溶
離剤ニジクロヘキサン−酢酸エチル)して精製し、4.
375.9の所期化合物を得た。
離剤ニジクロヘキサン−酢酸エチル)して精製し、4.
375.9の所期化合物を得た。
工程B : 1oβ−エチニル−17β−ヒドロキシ−
17α−プロピルエストラ−4,9(11)−ジエン−
3−オン 4、211の上記工程人で得た43−エチレンジオキシ
−10β−エチニル−5α、1フβ−ジヒド四キシ−1
7α−プロピルエストラ−9(11)−エンを130c
cのエタノールに溶解してなる溶液に216Cの5N塩
酸を加え、全体を不活性雰囲気下にかきまぜながら約5
5°Cに2時間30分加熱する。次いでそれを一部濃縮
し、酢酸エチルで希釈し、水洗し、乾燥し、濃縮乾固す
る。残留物をシリカでクロマドグラフイーし、シクロヘ
キサン−酢酸エチル(8−2)混合物で溶離し、2.8
gの所期化合物を得た。イソプ四パノールから再結晶し
た後のm p = 167℃。
17α−プロピルエストラ−4,9(11)−ジエン−
3−オン 4、211の上記工程人で得た43−エチレンジオキシ
−10β−エチニル−5α、1フβ−ジヒド四キシ−1
7α−プロピルエストラ−9(11)−エンを130c
cのエタノールに溶解してなる溶液に216Cの5N塩
酸を加え、全体を不活性雰囲気下にかきまぜながら約5
5°Cに2時間30分加熱する。次いでそれを一部濃縮
し、酢酸エチルで希釈し、水洗し、乾燥し、濃縮乾固す
る。残留物をシリカでクロマドグラフイーし、シクロヘ
キサン−酢酸エチル(8−2)混合物で溶離し、2.8
gの所期化合物を得た。イソプ四パノールから再結晶し
た後のm p = 167℃。
〔α) 1)=+58.5’±2.5°(e =: C
L 5%りpロホルム)。
L 5%りpロホルム)。
工8A:tx、−エチレンジオキシ−10β−エチニル
−5α、17β−ジヒドロキシ−17α−ブチルエスト
ラ−9(11)−エン 18ccの臭化n−プロビルマグネシウムテトラヒド四
フラン溶液中で100m9の臭化第一銅を+7°Cで3
0分間かきまぜ、1gの例1の工程Aのように製造した
化合物を10CCのテトラヒドロ7ランに溶解したもの
を加える。温度を周囲温度に戻し、45分間かきまぜた
後、全体を冷塩化アンモニウム飽和水溶液−ヒに注ぎ、
次いで酢酸エチルで抽出する。有機相を水洗し、次いで
塩化ナトリウム飽和水溶液で洗い、次いで濃縮乾固し、
残留物をシリカでりpマドグラフィー(溶離剤:1%0
のトリエチルアミンを含むシクロヘキサン−酢酸二チル
6−4)L、て精製する。エーテルから結晶化した後、
1gの所期化合物を得た。mp==約130℃。
−5α、17β−ジヒドロキシ−17α−ブチルエスト
ラ−9(11)−エン 18ccの臭化n−プロビルマグネシウムテトラヒド四
フラン溶液中で100m9の臭化第一銅を+7°Cで3
0分間かきまぜ、1gの例1の工程Aのように製造した
化合物を10CCのテトラヒドロ7ランに溶解したもの
を加える。温度を周囲温度に戻し、45分間かきまぜた
後、全体を冷塩化アンモニウム飽和水溶液−ヒに注ぎ、
次いで酢酸エチルで抽出する。有機相を水洗し、次いで
塩化ナトリウム飽和水溶液で洗い、次いで濃縮乾固し、
残留物をシリカでりpマドグラフィー(溶離剤:1%0
のトリエチルアミンを含むシクロヘキサン−酢酸二チル
6−4)L、て精製する。エーテルから結晶化した後、
1gの所期化合物を得た。mp==約130℃。
工程B:10β−エチェルー17β−ヒドロキシ−17
α−ブチル−エストラ−4,9(11)−ジエン−3−
オン 870ダの工程Aで得た化合物を26ccのエタノール
及び34ccの2N塩酸中で40℃で6時間、次いで周
囲温度で16時間かきまぜる。次いで全体を冷水中に注
ぎ、濃アンモニアでアルカリ性となし、酢酸エチルで抽
出する。有機相を水洗し、次いで塩化す) IJウム飽
和水溶液で洗い、乾燥し、濃縮乾固する゛。残留物をシ
リカでクロマトグラフィー(、溶離剤ニジクロヘキサン
−酢酸エチル6−4)し、イソプルピルエーテルから再
結晶した後、554mgの所期化合物を得た。”P=1
54℃。
α−ブチル−エストラ−4,9(11)−ジエン−3−
オン 870ダの工程Aで得た化合物を26ccのエタノール
及び34ccの2N塩酸中で40℃で6時間、次いで周
囲温度で16時間かきまぜる。次いで全体を冷水中に注
ぎ、濃アンモニアでアルカリ性となし、酢酸エチルで抽
出する。有機相を水洗し、次いで塩化す) IJウム飽
和水溶液で洗い、乾燥し、濃縮乾固する゛。残留物をシ
リカでクロマトグラフィー(、溶離剤ニジクロヘキサン
−酢酸エチル6−4)し、イソプルピルエーテルから再
結晶した後、554mgの所期化合物を得た。”P=1
54℃。
〔α)D=+45.5°±2°(e=α5%クロロホル
ム)。
ム)。
分析
計算=C%8177 H%915
実測: 82.0 9.2
−4.9(11)−ジエン−3−オン
工程Aj′5.3−エチレンジオキシ−10β−エチニ
ル−5α、1フβ−ジヒドロキシ−17α−(2−プロ
ペン−1−イル)−エストラ−9(11)−エン 1gのへ3−エチレンジオキシ−10β−エチニル−5
α−ヒドロキシエストラ−9(11)−エン−17−オ
ンと8 ccのテトラヒドロ7ランよりなる溶液を15
.6 ccの0.9λり塩化アリルアンモニウム溶液に
10分間で導入し、4時間かきまぜる。次いで全体を0
°Cの塩化アンモニウム飽和水溶液上に注ぎ、塩化メチ
レンで抽出する。溶媒を追出し、シリカでクロマトグラ
フィー(溶離剤=1%のFリエチルアミンを含むヘキサ
ン−酢酸エチル1−1)することにより精製した後、9
87mgの所期化合物を得た。
ル−5α、1フβ−ジヒドロキシ−17α−(2−プロ
ペン−1−イル)−エストラ−9(11)−エン 1gのへ3−エチレンジオキシ−10β−エチニル−5
α−ヒドロキシエストラ−9(11)−エン−17−オ
ンと8 ccのテトラヒドロ7ランよりなる溶液を15
.6 ccの0.9λり塩化アリルアンモニウム溶液に
10分間で導入し、4時間かきまぜる。次いで全体を0
°Cの塩化アンモニウム飽和水溶液上に注ぎ、塩化メチ
レンで抽出する。溶媒を追出し、シリカでクロマトグラ
フィー(溶離剤=1%のFリエチルアミンを含むヘキサ
ン−酢酸エチル1−1)することにより精製した後、9
87mgの所期化合物を得た。
工i B : 10β−エチニル−17β−ヒドロキシ
−17α−(2−プロペン−1−イ・ル)エストラ−4
,9(11)−ジエン−3−オン 940rngの上記工程Aで得た化合物を20CCのエ
タノール及び5 ccの5N塩酸中で周囲温度で2時間
、次いで50°Cで3時間かきまぜる。冷却し、アンモ
ニアで中和し、塩化メチレンで抽出し、溶媒を蒸発させ
た後、残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤ニ
ジクロヘキサン−酢酸エチル7−3 ) t、、エタノ
ールから結晶化した後、475ダの所期化合物を得た。
−17α−(2−プロペン−1−イ・ル)エストラ−4
,9(11)−ジエン−3−オン 940rngの上記工程Aで得た化合物を20CCのエ
タノール及び5 ccの5N塩酸中で周囲温度で2時間
、次いで50°Cで3時間かきまぜる。冷却し、アンモ
ニアで中和し、塩化メチレンで抽出し、溶媒を蒸発させ
た後、残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤ニ
ジクロヘキサン−酢酸エチル7−3 ) t、、エタノ
ールから結晶化した後、475ダの所期化合物を得た。
m p = 150°C0分析: C,3H2s02
=554477計算tC%819 I(%8.60 実測: 82.1 B、39例31:10β
−エチニル−17β−ヒドロキシ、□□□□□いよ一□
會□761□□□□□、1□□7−←−→→□□→□ト
ー替→→角−−□□□■1.□−−□→−−−→□に一
→蝉h→リーーー命□□□□工程h:3.s−エチレン
ジオキシ−10β−エチニル−5α、17β−ジヒドロ
キシ−17α−(3−(1,1−ジメチルエトキシ)プ
ロピル〕エストラ−9(11)−エン 1) −rグネシー2fJ陀釦東9−町晩一不活性雰
囲気下に169のマグネシウムを200cCのテトラヒ
ドロフラン中で60°Cに加熱する。
=554477計算tC%819 I(%8.60 実測: 82.1 B、39例31:10β
−エチニル−17β−ヒドロキシ、□□□□□いよ一□
會□761□□□□□、1□□7−←−→→□□→□ト
ー替→→角−−□□□■1.□−−□→−−−→□に一
→蝉h→リーーー命□□□□工程h:3.s−エチレン
ジオキシ−10β−エチニル−5α、17β−ジヒドロ
キシ−17α−(3−(1,1−ジメチルエトキシ)プ
ロピル〕エストラ−9(11)−エン 1) −rグネシー2fJ陀釦東9−町晩一不活性雰
囲気下に169のマグネシウムを200cCのテトラヒ
ドロフラン中で60°Cに加熱する。
数滴の1,2−ジブロムエタンを加え、次いで497g
の3− (1,1−ジメチルエトキシ)クロルプロパン
を100CCのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液
を加え、3時間加熱還流する。
の3− (1,1−ジメチルエトキシ)クロルプロパン
を100CCのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液
を加え、3時間加熱還流する。
2)縮合
64ccの上で調製したマグネシウム化合物を64CC
のエチルエーテルに溶解したものを不活性雰囲気下に加
熱還流し、次いで4gの3.3−エチレンジオキシ−1
0β−エチニル−5α−ヒドロキシエストラ−9(11
)−エン−17−オンを加える。全体を42時間還流し
続け、96ccの゛マグネシウム化合物と96ccのエ
チルエーテルを2回添加する。次いで反応媒質を冷却し
、塩化アンモニウム飽和水溶液を加え、次いでf渦し、
r液を濃縮乾固する。残留物をシリカでクロマトグラフ
ィー(溶離剤ニジクロヘキサン−酢酸エチル7−3)し
、2.87 &の所期化合物を得た。
のエチルエーテルに溶解したものを不活性雰囲気下に加
熱還流し、次いで4gの3.3−エチレンジオキシ−1
0β−エチニル−5α−ヒドロキシエストラ−9(11
)−エン−17−オンを加える。全体を42時間還流し
続け、96ccの゛マグネシウム化合物と96ccのエ
チルエーテルを2回添加する。次いで反応媒質を冷却し
、塩化アンモニウム飽和水溶液を加え、次いでf渦し、
r液を濃縮乾固する。残留物をシリカでクロマトグラフ
ィー(溶離剤ニジクロヘキサン−酢酸エチル7−3)し
、2.87 &の所期化合物を得た。
工程B:10β−エチニル−17β−ヒト四キシ=17
α−(x−(tl−ジメチルエトキシ)プロピル〕エス
トラ−4,9(11)−ジエン−3一工程Aで製造した
化合物を45ccのエタノール及び7.5 ccの5N
塩酸に溶解して開始することにより実施する。シリカで
り四マドグラフィー(溶離剤:シフ四ヘキサンー酢酸エ
チル7−3)することにより精製した後、0.8Jの所
期化合物を得た。
α−(x−(tl−ジメチルエトキシ)プロピル〕エス
トラ−4,9(11)−ジエン−3一工程Aで製造した
化合物を45ccのエタノール及び7.5 ccの5N
塩酸に溶解して開始することにより実施する。シリカで
り四マドグラフィー(溶離剤:シフ四ヘキサンー酢酸エ
チル7−3)することにより精製した後、0.8Jの所
期化合物を得た。
−IluC: 1o 75’−エチニル−17β−ヒト
四キシ−17α−(3−ヒトルキシプロピル)エストラ
−4,9(11)−ジエン−3−オン 100■の上記工程Bで得た化合物を0.2 ccのジ
オキサンと0.3ccの濃塩酸に溶解してなる溶液を不
活性雰囲気下に周囲温度で2時間30分かきまぜる。次
いで反応混合物を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液中に注
ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機相を水洗し、乾燥し、
減圧下に濃縮乾固する。
四キシ−17α−(3−ヒトルキシプロピル)エストラ
−4,9(11)−ジエン−3−オン 100■の上記工程Bで得た化合物を0.2 ccのジ
オキサンと0.3ccの濃塩酸に溶解してなる溶液を不
活性雰囲気下に周囲温度で2時間30分かきまぜる。次
いで反応混合物を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液中に注
ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機相を水洗し、乾燥し、
減圧下に濃縮乾固する。
残留物をシリカでクロマトグラフィー<溶離剤:塩化メ
チレン−メタノール95−5)t、、20ダの所期化合
物を得た。イソプロピルエーテル、次いで2.2−ジメ
トキシブ四パンから結晶化した後のmp=144℃。
チレン−メタノール95−5)t、、20ダの所期化合
物を得た。イソプロピルエーテル、次いで2.2−ジメ
トキシブ四パンから結晶化した後のmp=144℃。
(α) D = + 36°±2° (C=0.5%ク
ロロ#ルム)。
ロロ#ルム)。
分析
計算: 0%7792 H%8,53実測7 7
7.8 8.7 115■の例31のように製造した化合物を2、3 t
cのピリジンに溶解してなる溶液に不活性雰囲気下に1
22ダの塩化トシルを5分間で加え。
7.8 8.7 115■の例31のように製造した化合物を2、3 t
cのピリジンに溶解してなる溶液に不活性雰囲気下に1
22ダの塩化トシルを5分間で加え。
周囲温度で15時間かきまぜる。次いで全体を塩酸を加
えておいた水に法論し、酢酸エチルで抽出する。有機相
を水洗し、乾燥し、濃縮乾固する。
えておいた水に法論し、酢酸エチルで抽出する。有機相
を水洗し、乾燥し、濃縮乾固する。
100■の粗生成物を得、これをシリカでり四マドグラ
フィー(溶離剤ニジクロヘキサン−酢酸エチル8−2)
することによって精製する。イソブ17ヒ、/lzエー
テルから結晶化した後のmp=126℃。
フィー(溶離剤ニジクロヘキサン−酢酸エチル8−2)
することによって精製する。イソブ17ヒ、/lzエー
テルから結晶化した後のmp=126℃。
(α)D = + 17 ”±2@ (e=0.5%ク
ロロポルム)。
ロロポルム)。
分析
計算:0%82.10 H%8.38実測:
82.3 &6IIJ* : 1’o /
−xチェルー1フβ−アセトキシ−17α−(3−アセ
トキシプロピル)エストラ−4,9(11)−ジエン−
3−オン 不活性雰囲気下に100ダの上記工程Bで得た化合物、
0.6ccの無水酢酸及び5■のp−)ルエンスルホン
酸を1時間30分かきまぜ、次いで氷上に注ぎ、重炭酸
す) IJウム飽和水溶液を加え、次いで乾燥し、減圧
下に濃縮乾固する。残留する酢酸をトルエンで同伴する
ことにより除去する。
82.3 &6IIJ* : 1’o /
−xチェルー1フβ−アセトキシ−17α−(3−アセ
トキシプロピル)エストラ−4,9(11)−ジエン−
3−オン 不活性雰囲気下に100ダの上記工程Bで得た化合物、
0.6ccの無水酢酸及び5■のp−)ルエンスルホン
酸を1時間30分かきまぜ、次いで氷上に注ぎ、重炭酸
す) IJウム飽和水溶液を加え、次いで乾燥し、減圧
下に濃縮乾固する。残留する酢酸をトルエンで同伴する
ことにより除去する。
残留物をシリカでり賞マドグラフィー(溶離剤:塩化メ
チレン−アセトン9−1)L、、98■の所期化合物を
得た。
チレン−アセトン9−1)L、、98■の所期化合物を
得た。
工IJB:10β−エチニル−17β−アセトキシ−1
7α−(3−ヒトルキシプロピル)エストラ−4,9(
11)−ジエン−3−オン 70rvの上記工程Cで得た化合物と171ngの重炭
酸カリウムを1 ccのメタノール中で不活性雰囲気下
に1時間加熱還流し、次いで水と氷との混合物上に注ぎ
、塩化メチレンで抽出する。有機相を水洗し、次いで塩
化ナトリウム飽和水溶液で洗い、乾燥し、減圧下に濃縮
乾固する。残留物をシリヵテクロマトグラフィー(溶離
剤:塩化メチレンーメタノール95−5)L、、60m
Qの所期化合物を得た□ 〔α)D=+10’±1”(e=1.2%り四ロホルム
)。・準ノ雇髪り2( 不活性雰囲気下にt/19Nの例4で製造した化合物を
212ccの0.21N水酸化カリウムメタノール溶液
及び2 t 2 ccの水中で50分間加熱還流する。
7α−(3−ヒトルキシプロピル)エストラ−4,9(
11)−ジエン−3−オン 70rvの上記工程Cで得た化合物と171ngの重炭
酸カリウムを1 ccのメタノール中で不活性雰囲気下
に1時間加熱還流し、次いで水と氷との混合物上に注ぎ
、塩化メチレンで抽出する。有機相を水洗し、次いで塩
化ナトリウム飽和水溶液で洗い、乾燥し、減圧下に濃縮
乾固する。残留物をシリヵテクロマトグラフィー(溶離
剤:塩化メチレンーメタノール95−5)L、、60m
Qの所期化合物を得た□ 〔α)D=+10’±1”(e=1.2%り四ロホルム
)。・準ノ雇髪り2( 不活性雰囲気下にt/19Nの例4で製造した化合物を
212ccの0.21N水酸化カリウムメタノール溶液
及び2 t 2 ccの水中で50分間加熱還流する。
50℃で減圧下に濃縮した後、微量の水をエタノールで
同伴させることにより除去する。残留物をエーテルで溶
解し、分離し、エーテルで洗い、50℃で減圧乾燥する
。192gの粗生成物を得た。この生成物の17.9を
9 ccの温エタノールに溶解し、この溶液を沢過し、
80CCのエーテルを加え、結晶化を開始させる。周囲
温度で、次いで+4°Cで1時間放置した後、結晶化生
成物を分離し、50℃で減圧乾燥する。15gの所期化
合物を得た。m p = 248°C6〔α)D=+3
4@ ±2”(c=0.5%エタノール)。
同伴させることにより除去する。残留物をエーテルで溶
解し、分離し、エーテルで洗い、50℃で減圧乾燥する
。192gの粗生成物を得た。この生成物の17.9を
9 ccの温エタノールに溶解し、この溶液を沢過し、
80CCのエーテルを加え、結晶化を開始させる。周囲
温度で、次いで+4°Cで1時間放置した後、結晶化生
成物を分離し、50℃で減圧乾燥する。15gの所期化
合物を得た。m p = 248°C6〔α)D=+3
4@ ±2”(c=0.5%エタノール)。
例35:10β−(1−プロピニル)−17β−蕎」シ
」!ベニーJ−7−μmニーkiμm壬−ノ」−1−づ
−?−,(1j1工程A : 3.3−エチレンジオキ
シ−10β(1−プロピニル)−5α、17β−ジヒド
ロキシ−17α−メチルエストラ−9(11)−エン3
70ダの3.6−エチレンジオキシ−5α−ヒドロキシ
−10β−(1−プロピニル)エストラ−9−エン−1
7−オン(例4の工程Aにおけるように製造)を4 c
cのテトラヒドロフランに溶解したものを不活性雰囲気
下に0.9Mよう化メチルマグネシウムエーテル溶液に
滴下する。10CCのテトラヒドロフランを加え、次い
で全体を周囲温度で1時間30分かきまぜ、その後これ
を冷塩化アンモニウム溶液上に注ぎ、塩化エチルで抽出
する。
」!ベニーJ−7−μmニーkiμm壬−ノ」−1−づ
−?−,(1j1工程A : 3.3−エチレンジオキ
シ−10β(1−プロピニル)−5α、17β−ジヒド
ロキシ−17α−メチルエストラ−9(11)−エン3
70ダの3.6−エチレンジオキシ−5α−ヒドロキシ
−10β−(1−プロピニル)エストラ−9−エン−1
7−オン(例4の工程Aにおけるように製造)を4 c
cのテトラヒドロフランに溶解したものを不活性雰囲気
下に0.9Mよう化メチルマグネシウムエーテル溶液に
滴下する。10CCのテトラヒドロフランを加え、次い
で全体を周囲温度で1時間30分かきまぜ、その後これ
を冷塩化アンモニウム溶液上に注ぎ、塩化エチルで抽出
する。
有機相を水洗し、次いで塩化す) リウム飽和水溶液で
洗い、次いで乾燥し、減圧下に濃縮乾固する。
洗い、次いで乾燥し、減圧下に濃縮乾固する。
その残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:1
XOのトリエチルアミンを含むシフ四ヘキサンー酢酸エ
チル6−4)し、281rvの所期化合物を得た。mp
=183°C0 工程B:10β−(1−プ田ビニ/I/)−17β−1
ヒドロキシ−17α−メチルエストラ−4,9(11)
−ジエン−3−オン 596189の上記工程人のように製造した化合物tt
12 ccのエタノールとl 2 ccの5N塩酸中
で50℃に1時間30分加熱する。これを周囲温度に戻
した後、冷水中に注ぎ、アンモニアでアルカリ性となし
、次いで酢酸エチルで抽出する。有機相を水洗し、次い
で塩化ナトリウム飽和水溶液で洗い、乾燥し、減圧下に
濃縮乾固する。残留物をシリカでり四マドグラフィー(
溶)[11:n−ヘキサン−酢酸エチル6−4)し、4
38〜の所期化合物を得た。エーテルから再結晶化後の
mp=130℃。
XOのトリエチルアミンを含むシフ四ヘキサンー酢酸エ
チル6−4)し、281rvの所期化合物を得た。mp
=183°C0 工程B:10β−(1−プ田ビニ/I/)−17β−1
ヒドロキシ−17α−メチルエストラ−4,9(11)
−ジエン−3−オン 596189の上記工程人のように製造した化合物tt
12 ccのエタノールとl 2 ccの5N塩酸中
で50℃に1時間30分加熱する。これを周囲温度に戻
した後、冷水中に注ぎ、アンモニアでアルカリ性となし
、次いで酢酸エチルで抽出する。有機相を水洗し、次い
で塩化ナトリウム飽和水溶液で洗い、乾燥し、減圧下に
濃縮乾固する。残留物をシリカでり四マドグラフィー(
溶)[11:n−ヘキサン−酢酸エチル6−4)し、4
38〜の所期化合物を得た。エーテルから再結晶化後の
mp=130℃。
〔α) D = 十q s°±3° (C−0,3%ク
ロロホルム)。
ロロホルム)。
分析
計算:0%8t44 H%8.70
実測: 81.4 8.9−例36:(1
7R,2’8)−2’ −オーシト−10β−(1−
プロピニル)スピロ〔エストラ−4,9(11)二」1
五く、ニー1.−1.−5.−二−((−も!:艷プ工
程B : 17 S −3,3−エチレンジオキシ−1
0β−プロピニルスピロ〔エストラ−9(11)−コン
−17,2’ −オキシ\ラン〕−5α−オーA
”10.9の3.3−エチレンジオキシ−10β−(1
−プロピニル)−5α−ヒドロキシエストラ−9(11
)−エン−17−オン(例4の工程Aにおけるように製
造)を140CCのテトラヒドロフランに溶解してなる
ものに16.8CCの2.4Mカリウムt−ブチラーt
テトラヒドロフラン溶液を窒緊雰囲気下に周囲温度で1
0分間で加え、次いで6889のよう化トリメチルスル
六二リムを138CCのジメチルスルホキシドに溶解し
てなるものを加え、1時間かきまぜる。次いで全体を2
00CCの冷塩化アンモニウム半飽和水溶液上に注ぎ、
工−チルで抽出する。有機相を水洗し・次いで塩花ナト
リウム飽和水溶液で洗い、乾燥し、濃縮乾固する。その
残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:1%。
7R,2’8)−2’ −オーシト−10β−(1−
プロピニル)スピロ〔エストラ−4,9(11)二」1
五く、ニー1.−1.−5.−二−((−も!:艷プ工
程B : 17 S −3,3−エチレンジオキシ−1
0β−プロピニルスピロ〔エストラ−9(11)−コン
−17,2’ −オキシ\ラン〕−5α−オーA
”10.9の3.3−エチレンジオキシ−10β−(1
−プロピニル)−5α−ヒドロキシエストラ−9(11
)−エン−17−オン(例4の工程Aにおけるように製
造)を140CCのテトラヒドロフランに溶解してなる
ものに16.8CCの2.4Mカリウムt−ブチラーt
テトラヒドロフラン溶液を窒緊雰囲気下に周囲温度で1
0分間で加え、次いで6889のよう化トリメチルスル
六二リムを138CCのジメチルスルホキシドに溶解し
てなるものを加え、1時間かきまぜる。次いで全体を2
00CCの冷塩化アンモニウム半飽和水溶液上に注ぎ、
工−チルで抽出する。有機相を水洗し・次いで塩花ナト
リウム飽和水溶液で洗い、乾燥し、濃縮乾固する。その
残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:1%。
のトリエチルアミンを含むn−ヘキサン−酢酸エチル7
−3)する。8.79 Ilの所期化合物を得た。
−3)する。8.79 Ilの所期化合物を得た。
工11BS乙、!1−エチレンジオキシ−10β−エチ
ニル−5α、17β−ジヒドロキシ−17α−(1−ブ
チルスルフィニルエチル)エストラ−9(11)−エン 19、6 ccのメチルブチルスルホキシドを164c
cのテトラヒドロフランに溶解してなるものに98、8
Ceの16Mブチルリチウムヘキサン溶液を5°Cで
70分間にわたり加え、15分間かきまぜる。3.13
.9の上記工程Aで得た化合物を16.2CCのテトラ
ヒドロフランに溶解したものを10分間で加え、温度を
+5°Cに保ちながら10分間かきまぜ、次いで周囲温
度に戻す。反応媒体を89時間かきまぜ、次いで5°C
に冷却し、50CCの塩化アンモニウム飽和水溶液を注
意深く加え、次い2)10β−エチニル−17β−ヒド
ロキシ−17α−(t−ブチルスルフィニルエチル)エ
ストラ−4,9(11)−ジエン−3−オン(異性体B
)2.39の上記工程Bで得た異性体Bを68ccのエ
タノール及び17ccのsNN酸中で50℃で2時間加
熱し、次いで冷却し、冷水上に注ぎ、酢酸エチルで抽出
する。有機相を水洗し、次いで塩化ナトリウム飽和水溶
液で洗い、乾燥し、濃縮乾固する。残留物をシリカでり
pマドグラフィー(溶離剤:塩化メチレン−アセトン6
−4 ’) シ、1266gの所期化合物を得、これを
エーテルから固化する。川p=165〜166°c。
ニル−5α、17β−ジヒドロキシ−17α−(1−ブ
チルスルフィニルエチル)エストラ−9(11)−エン 19、6 ccのメチルブチルスルホキシドを164c
cのテトラヒドロフランに溶解してなるものに98、8
Ceの16Mブチルリチウムヘキサン溶液を5°Cで
70分間にわたり加え、15分間かきまぜる。3.13
.9の上記工程Aで得た化合物を16.2CCのテトラ
ヒドロフランに溶解したものを10分間で加え、温度を
+5°Cに保ちながら10分間かきまぜ、次いで周囲温
度に戻す。反応媒体を89時間かきまぜ、次いで5°C
に冷却し、50CCの塩化アンモニウム飽和水溶液を注
意深く加え、次い2)10β−エチニル−17β−ヒド
ロキシ−17α−(t−ブチルスルフィニルエチル)エ
ストラ−4,9(11)−ジエン−3−オン(異性体B
)2.39の上記工程Bで得た異性体Bを68ccのエ
タノール及び17ccのsNN酸中で50℃で2時間加
熱し、次いで冷却し、冷水上に注ぎ、酢酸エチルで抽出
する。有機相を水洗し、次いで塩化ナトリウム飽和水溶
液で洗い、乾燥し、濃縮乾固する。残留物をシリカでり
pマドグラフィー(溶離剤:塩化メチレン−アセトン6
−4 ’) シ、1266gの所期化合物を得、これを
エーテルから固化する。川p=165〜166°c。
工程D
1)(17R,2’5)−2’−オキシド−10β−(
1−プロピニル)スピロ〔エストラ−4,9(11)−
ジエン−17,5’−1,2−オキサチオラン)−3−
オン(異性体A) 1、2239の上記工程Cで得た異性体B115CCの
テトラヒドロフラン及び7 ccの水を含有する溶液に
0.415.9のN−り四ルスクシンイミドをで酢酸エ
チルで抽出する。抽出物を水洗し、次・いて塩化す)
l)ラム飽和水溶液で洗い、乾燥し、減圧下に濃縮乾固
する。残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:
1%0のトリエチルアミンを含む塩化メチレン−アセト
ン6−4)し、1.19IのW外体Aと2.3gの異性
体B(純粋でない)を分離した。
1−プロピニル)スピロ〔エストラ−4,9(11)−
ジエン−17,5’−1,2−オキサチオラン)−3−
オン(異性体A) 1、2239の上記工程Cで得た異性体B115CCの
テトラヒドロフラン及び7 ccの水を含有する溶液に
0.415.9のN−り四ルスクシンイミドをで酢酸エ
チルで抽出する。抽出物を水洗し、次・いて塩化す)
l)ラム飽和水溶液で洗い、乾燥し、減圧下に濃縮乾固
する。残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:
1%0のトリエチルアミンを含む塩化メチレン−アセト
ン6−4)し、1.19IのW外体Aと2.3gの異性
体B(純粋でない)を分離した。
工程C
1110β−エチニル−17β−ヒドロキシ−17α−
(t−ブチルスルフィニルエチル)エストラ−4,9(
11)−ジエン−3−オン(異性体A)t2.!i’の
上記工程Bのようにして得たw外体Aを20CCのエタ
ノールと20ccの5N塩酸中で50°Cで1時間30
分加熱する。冷却し、アンモニアを加え、部分的に濃縮
した後、塩化メチレンで抽出する。有機相を水洗し、次
いで塩化ナトリウム飽和水溶液で洗い、乾燥し、濃縮乾
固する。
(t−ブチルスルフィニルエチル)エストラ−4,9(
11)−ジエン−3−オン(異性体A)t2.!i’の
上記工程Bのようにして得たw外体Aを20CCのエタ
ノールと20ccの5N塩酸中で50°Cで1時間30
分加熱する。冷却し、アンモニアを加え、部分的に濃縮
した後、塩化メチレンで抽出する。有機相を水洗し、次
いで塩化ナトリウム飽和水溶液で洗い、乾燥し、濃縮乾
固する。
残留物を20ccのメタノールで溶解し、加熱還流し、
冷却し、分離し、乾燥して0.92gの所期化合物を得
た。>p=178°C9 加える。35分間かきまぜた後、混合物を水で希釈し、
塩化メチレンで抽出する。有機相を水洗し、次いで塩化
す) IJウム飽和水溶液で洗い、乾燥し、減圧下に濃
縮乾固する。残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶
離剤:酢酸エチル−シクロヘキサン7−3)L、406
9の粗生成物を得た。この生成物を6CCのエタノール
で溶解し、濃縮して結晶化を開始させ、次いで冷却し、
分離し、乾燥して0.586 Flの所期化合物を得た
。m p=210℃。
冷却し、分離し、乾燥して0.92gの所期化合物を得
た。>p=178°C9 加える。35分間かきまぜた後、混合物を水で希釈し、
塩化メチレンで抽出する。有機相を水洗し、次いで塩化
す) IJウム飽和水溶液で洗い、乾燥し、減圧下に濃
縮乾固する。残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶
離剤:酢酸エチル−シクロヘキサン7−3)L、406
9の粗生成物を得た。この生成物を6CCのエタノール
で溶解し、濃縮して結晶化を開始させ、次いで冷却し、
分離し、乾燥して0.586 Flの所期化合物を得た
。m p=210℃。
〔α)D= 5.5°±2° (c=0.5%クロロ
ホルム)。
ホルム)。
分析
計算:0%7t84 H%7.34 S%8.34
実測: 72.1 z4 B、3
2)(17R,2’R)−2’−オキシド−10β−(
1−プロピニル)スピロ〔エストラ−4,9(11)−
ジエン−17,5’−1,2−オキザチオラン〕−3−
オン(異性体B) to6a、pの工程Cの1)で得た異性体Aと15CC
のテトラヒドロフラン、7CCの水及び0.4159の
N−クロルスクシンイミドより出発して上記工程りの1
)におけるように実施する。0.480gの所期化合物
を得た。mp=198°C9〔α〕D=十五50″±2
° (C=15%クロロホルム)。
実測: 72.1 z4 B、3
2)(17R,2’R)−2’−オキシド−10β−(
1−プロピニル)スピロ〔エストラ−4,9(11)−
ジエン−17,5’−1,2−オキザチオラン〕−3−
オン(異性体B) to6a、pの工程Cの1)で得た異性体Aと15CC
のテトラヒドロフラン、7CCの水及び0.4159の
N−クロルスクシンイミドより出発して上記工程りの1
)におけるように実施する。0.480gの所期化合物
を得た。mp=198°C9〔α〕D=十五50″±2
° (C=15%クロロホルム)。
分析
計算:0%7484 H%7.34 8%8.34実
測: 7t5 7.5 8.2−ジオ
ン IF1人:x、3−エチレンジオキシ−10β−(1−
プロピニル)−5α、17β−ジヒドロキシ−17α−
(プロピルアミノメチル)エストラ−9(11)−エン 39の(17S ) −3,3−エチレンジオキシ−1
0β−(1−プロピニル)スピロ〔エストラ−9(11
)−エン−17,2’−オキシランシー5α−オール(
例36の工程Aにおけるように製造)及び68■のp−
)ルエンスルホン酸を4.1 ccのトルエン及び5.
7 cl:のプルピルアミン中で140°Cで4時間加
熱し、次いで水浴中で冷却する。塩化メチレンで抽出し
た後、有機相を重炭酸ナトリウム水溶液で洗い、次いで
水洗し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固する。残留物をシリ
カでクロマトグラフィー(溶離剤:塩化メチレン・メタ
ノールアンモニア)し、3.33gの所期化合物を得た
。
測: 7t5 7.5 8.2−ジオ
ン IF1人:x、3−エチレンジオキシ−10β−(1−
プロピニル)−5α、17β−ジヒドロキシ−17α−
(プロピルアミノメチル)エストラ−9(11)−エン 39の(17S ) −3,3−エチレンジオキシ−1
0β−(1−プロピニル)スピロ〔エストラ−9(11
)−エン−17,2’−オキシランシー5α−オール(
例36の工程Aにおけるように製造)及び68■のp−
)ルエンスルホン酸を4.1 ccのトルエン及び5.
7 cl:のプルピルアミン中で140°Cで4時間加
熱し、次いで水浴中で冷却する。塩化メチレンで抽出し
た後、有機相を重炭酸ナトリウム水溶液で洗い、次いで
水洗し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固する。残留物をシリ
カでクロマトグラフィー(溶離剤:塩化メチレン・メタ
ノールアンモニア)し、3.33gの所期化合物を得た
。
工程B : 3.3−エチレンジオキシ−10β−(1
−プロピニル)−5α、17β−ジヒドロキシ−17α
−(N−プロピル−N−(エトキシカルボニル)アミン
コメチルエストラ−9(11)−エン169の上記工程
Aで得た化合物を35ccのトリエチルアミン−クロロ
ホルムI液(10−1)に溶解してなるものに11.5
ccのクロルぎ酸エチルを窒素雰囲気下に40分間で
加える。これを45分間かきまぜた後、重炭酸す) I
Jウム水溶液で希釈し、デカンテーションし、クロロホ
ルム相を水洗し、次いで塩化ナトリウム水溶液で洗う。
−プロピニル)−5α、17β−ジヒドロキシ−17α
−(N−プロピル−N−(エトキシカルボニル)アミン
コメチルエストラ−9(11)−エン169の上記工程
Aで得た化合物を35ccのトリエチルアミン−クロロ
ホルムI液(10−1)に溶解してなるものに11.5
ccのクロルぎ酸エチルを窒素雰囲気下に40分間で
加える。これを45分間かきまぜた後、重炭酸す) I
Jウム水溶液で希釈し、デカンテーションし、クロロホ
ルム相を水洗し、次いで塩化ナトリウム水溶液で洗う。
乾燥し、減圧下に濃縮乾固した後、残留物をシリカでり
四マドグラフィー(溶離剤:1%0のトリエチルアミン
を含むヘキサン−酢酸エチル6−4)し、16211の
所期化合物を得た。
四マドグラフィー(溶離剤:1%0のトリエチルアミン
を含むヘキサン−酢酸エチル6−4)し、16211の
所期化合物を得た。
IiC:3,3−エチレンジオキシ−5−ヒトルキシ−
(17B)−3’−プロピル−10β−(1−プロピニ
ル)スピロ〔エストラ−9(11)−エン−17,5’
−オキサゾリジン〕−21−オン161の上記工程Bで
得た化合物を35ccの0.5M水酸化カリウムメタノ
ール溶液中で窒素雰囲気下に1時間加熱還流する。冷水
を添加した徒、p’Hを1N塩酸により6までmaし、
次いで酢酸エチルで抽出する。有機相を水洗し、次いで
塩化す) IJウム飽和水溶液で洗う。乾燥し、減圧下
に濃縮乾固した後、3.25gの所期化合物を得た。
(17B)−3’−プロピル−10β−(1−プロピニ
ル)スピロ〔エストラ−9(11)−エン−17,5’
−オキサゾリジン〕−21−オン161の上記工程Bで
得た化合物を35ccの0.5M水酸化カリウムメタノ
ール溶液中で窒素雰囲気下に1時間加熱還流する。冷水
を添加した徒、p’Hを1N塩酸により6までmaし、
次いで酢酸エチルで抽出する。有機相を水洗し、次いで
塩化す) IJウム飽和水溶液で洗う。乾燥し、減圧下
に濃縮乾固した後、3.25gの所期化合物を得た。
工程D: (178)−3’−プロピル−ioβ−(1
−プロピニル)スピロ〔エストラ−4,9(11)−ジ
エン−17,5’−オキサゾリジン) −2’、 3−
ジオン &219の上記工程Cで得た化合物、71 ccのエタ
ノール及び18ccの5N塩酸より出発して例35の工
程Bにおけるように実施することによって2.56.9
の粗生成物を得、これをn−ペンタン中ですり砕き、乾
燥する。2.32gの所期化合物を得た。イソブ四ピル
エーテルより再結晶化後のmp=150°c。
−プロピニル)スピロ〔エストラ−4,9(11)−ジ
エン−17,5’−オキサゾリジン) −2’、 3−
ジオン &219の上記工程Cで得た化合物、71 ccのエタ
ノール及び18ccの5N塩酸より出発して例35の工
程Bにおけるように実施することによって2.56.9
の粗生成物を得、これをn−ペンタン中ですり砕き、乾
燥する。2.32gの所期化合物を得た。イソブ四ピル
エーテルより再結晶化後のmp=150°c。
〔α) p = s、 5’ ±0.5° (c=1
%りooホルム)。
%りooホルム)。
分析
計算=C%7&63 H%8.1<S N%五43
実測: 7&4 8.3 五4例38
:ノニーオ□±−γ−二づ−−0−β−7−刊チニー
ヘ−−−−11−75’を乙 19の例1の工程Cにおけるようにして製造した化合物
、50ccのベンゼン、1.4J?のジクロルジシアノ
キノン及び0.6gの安廁香酸を24時間加熱還流する
。次いでこの溶液を冷却し、10ccの1N水酸化ナト
リウム溶液を加えた後、酢酸エチルで抽出する。有機相
を水洗し、次いで塩化ナトリウム飽和水溶液で洗い、乾
燥し、減圧下に濃縮乾固する。残留物をシリカでクロマ
トグラフィー(溶離剤:塩化メチレン−アセトン95−
5)し、50B9の所期化合物を得、これを酢酸エチル
から結晶化する。mp==230°C0−リスペクトと
(り四ロホルム) 3305CI+−’ : −C=C−16R4
−1610cm−’ニーC=C=C−89l1’ ニ
ーC=C−△142801nyの例1で得た化合物を6
ccのアセトンに溶解してなる溶液に178■のN−
ブロムスクシンイミド及び16ダの硝酸銀を加える。周
@温度で1時間かきまぜた後、反応媒質を水で希釈し、
10%チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレン
で抽出する。抽出物を乾燥し、濃縮乾固し、残留物をイ
ソプルピルエーテル中で固化させて250■の所期化合
物を得た。
実測: 7&4 8.3 五4例38
:ノニーオ□±−γ−二づ−−0−β−7−刊チニー
ヘ−−−−11−75’を乙 19の例1の工程Cにおけるようにして製造した化合物
、50ccのベンゼン、1.4J?のジクロルジシアノ
キノン及び0.6gの安廁香酸を24時間加熱還流する
。次いでこの溶液を冷却し、10ccの1N水酸化ナト
リウム溶液を加えた後、酢酸エチルで抽出する。有機相
を水洗し、次いで塩化ナトリウム飽和水溶液で洗い、乾
燥し、減圧下に濃縮乾固する。残留物をシリカでクロマ
トグラフィー(溶離剤:塩化メチレン−アセトン95−
5)し、50B9の所期化合物を得、これを酢酸エチル
から結晶化する。mp==230°C0−リスペクトと
(り四ロホルム) 3305CI+−’ : −C=C−16R4
−1610cm−’ニーC=C=C−89l1’ ニ
ーC=C−△142801nyの例1で得た化合物を6
ccのアセトンに溶解してなる溶液に178■のN−
ブロムスクシンイミド及び16ダの硝酸銀を加える。周
@温度で1時間かきまぜた後、反応媒質を水で希釈し、
10%チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレン
で抽出する。抽出物を乾燥し、濃縮乾固し、残留物をイ
ソプルピルエーテル中で固化させて250■の所期化合
物を得た。
〔α〕D=+215’(c=1%クロpホルム)。
分析: C23H2C23H2=429.36計算=C
%64.34 H%5.86 Br%1B、61実
測: 64.3 5.9 18.4例
40:1遭り争A貝 活性成分として501n9の例4の化合物を用いて錠剤
を調製した。
%64.34 H%5.86 Br%1B、61実
測: 64.3 5.9 18.4例
40:1遭り争A貝 活性成分として501n9の例4の化合物を用いて錠剤
を調製した。
例4の化合物 −−−−−−−−−−−−−−−−−−
一−−−−−−501v補助剤(タルク、でんぷん、ス
テアリン酸マグネシウム) 4〜6日前に副腎を切除した体重140〜160gのス
プラグ−ダウレイEOPS種の雄ラットを殺し、それら
の腎臓をその場で50Mのトリス紛衝液10mM−サッ
カロース0.25 M、 HCI (TIH7、4)で
満す。次いで、それらの腎臓を切除し、腎膜を取り、ボ
ッターptfeガラスによって0℃でホモジナイズする
(3yの緩街剤当り1gの組織)。ホモジネートを0℃
で800Gで10分間遠心処理する。
一−−−−−−501v補助剤(タルク、でんぷん、ス
テアリン酸マグネシウム) 4〜6日前に副腎を切除した体重140〜160gのス
プラグ−ダウレイEOPS種の雄ラットを殺し、それら
の腎臓をその場で50Mのトリス紛衝液10mM−サッ
カロース0.25 M、 HCI (TIH7、4)で
満す。次いで、それらの腎臓を切除し、腎膜を取り、ボ
ッターptfeガラスによって0℃でホモジナイズする
(3yの緩街剤当り1gの組織)。ホモジネートを0℃
で800Gで10分間遠心処理する。
グルココルチコイド受容器に対するトリチウム化アルド
ステ四ンの固定を除くため、グルココルチコイド受容器
に対してだけ固定する11β。
ステ四ンの固定を除くため、グルココルチコイド受容器
に対してだけ固定する11β。
17β−ジヒドロキシ−21−メチルプレグナ−1、4
,6−)ジエン−20−イン−3−オンステpイドを上
澄液に10−6の最終濃度で加える。この上澄液を0℃
で105.0OOGで60分間超遠心処理する。そのよ
うにして得られた上澄液の同等量を増大サセタ濃度(0
〜2500−10−’M)のコールドアルドステロン又
はコールド被検化合物の存在下に一定濃度(T)のトリ
チウム化アルドステpンとともに0℃でインキュベート
する。
,6−)ジエン−20−イン−3−オンステpイドを上
澄液に10−6の最終濃度で加える。この上澄液を0℃
で105.0OOGで60分間超遠心処理する。そのよ
うにして得られた上澄液の同等量を増大サセタ濃度(0
〜2500−10−’M)のコールドアルドステロン又
はコールド被検化合物の存在下に一定濃度(T)のトリ
チウム化アルドステpンとともに0℃でインキュベート
する。
インキュベーション時間(1)後に、結合したトリチウ
ム化アルドステpンの濃度(B)をデキストラン−炭素
上への吸着技術によって測定する。
ム化アルドステpンの濃度(B)をデキストラン−炭素
上への吸着技術によって測定する。
相対的結合強度の計算
相対的結合強度(RAB)の計算を次のように行う。
次の二つの曲線を引く。
・コールド参照ホルモンの濃度の対数関数としての結合
トリチウム化ホルモンの百分率(%)十 ・コールド被検化合物の濃度の対数関数としての結合ト
リチウム化ホルモンの百8J、(%)」し 次に、方程式 ここで、 max=)リチウム化ホルモンを濃度(T
)でインキュベーションする 間に結合したトリチウム化ホルモ ンの百分率、 一; m1n==大過剰のコールドホルモン(2500
・10−’ M )の存在下にトリチウム化ホルモンを
濃度 ′(T)でインキュベートする間に 結合したトリチウム化ホルモンの百 分率。・ 直線ll10と上記曲線との交点から、受容−に対する
トリチウム化ホルモンの結合を50%まで抑止するコー
ルド参照ホルモンの濃度(CH)及びコールド被検化合
物の濃度(CX)を評価することができる。
トリチウム化ホルモンの百分率(%)十 ・コールド被検化合物の濃度の対数関数としての結合ト
リチウム化ホルモンの百8J、(%)」し 次に、方程式 ここで、 max=)リチウム化ホルモンを濃度(T
)でインキュベーションする 間に結合したトリチウム化ホルモ ンの百分率、 一; m1n==大過剰のコールドホルモン(2500
・10−’ M )の存在下にトリチウム化ホルモンを
濃度 ′(T)でインキュベートする間に 結合したトリチウム化ホルモンの百 分率。・ 直線ll10と上記曲線との交点から、受容−に対する
トリチウム化ホルモンの結合を50%まで抑止するコー
ルド参照ホルモンの濃度(CH)及びコールド被検化合
物の濃度(CX)を評価することができる。
被検化合物の相対的結合強度(RAB)は方程式
によって決定される。
下記の結果が得られた。
× 化合物Pは17−ヒドロキシ−10−エチニルエス
トラ−4,9(11)−ジエン−3−オンである( B
ull、 Soe、 Chim、 Fr、 、1970
、A7、p、2556に記載)。
トラ−4,9(11)−ジエン−3−オンである( B
ull、 Soe、 Chim、 Fr、 、1970
、A7、p、2556に記載)。
Claims (12)
- (1)次の一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔ここで、Rは 水素原子か、 多くとも8個の炭素原子を有する置換されていてもよい
アルキル、アルケニル若しくは アルキニル基か、 置換されていてもよいアリール若しくはアラルキル基か
、 保護されたヒドロキシル、エステル化されていてもよい
カルボキシル、アミノ、保護さ れたアミン、モノ若しくはジアルキルアミ ノ基か、 ハロゲン原子か、又は トリアルキルシリル基 を表わし、 R_6及びR_7は、R_6及びR_7がそれらを担持
する炭素と共にシクロプロピル基を形成するようなもの
か、又はR_6が水素原子を表わし且つR_7が基R_
1(ここでR_1は水素原子か、多くとも6個の炭素原
子を有する置換されていてもよいアルキル、アルケニル
若しくはアルキニル基か、又はアセチルチオ基を表わす
)を表わすようなものであり、R_2はメチル又はエチ
ル基を表わし、 X及びYは、 (i)Xがアシル化若しくはエーテル化されていてもよ
い、ヒドロキシル基を表わし且つ Yが−CH_2CH_2CO_2M(ここでMは水素原
子、アルカリ金属原子又はアンモニア基を 表わす)又は−CH_2CH_2−CH_2OH基を表
わすようなものか、又は (ii)X及びYが一緒になつて基 ▲数式、化学式、表等があります▼若しくは▲数式、化
学式、表等があります▼ を表わすようなものか、又は (iii)X及びYが一緒になつて基 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここでalkは多くとも8個の炭素原子 を含有する) を表わすようなものか、又は (iv)X及びYが一緒になつて基 ▲数式、化学式、表等があります▼ を表わすようなものか、又は (v)Xがヒドロキシル基を表わし且つYが▲数式、化
学式、表等があります▼基(ここでMは上記の 通りである)を表わすようなものか、又は (vi)Xがアシル化若しくはエーテル化されていても
よいヒドロキシル基を表わし且つY が水素原子若しくは基R_4(ここでR_4は多くとも
6個の炭素原子を有するアルキル、 アルケニル又はアルキニル基を表わす)を 表わすようなもの であり、 1(2)及び6(7)位置にある点線はその点線を担持
する炭素の間に第二の結合が存在し得ることを示し、た
だしR_6及びR_7がそれらを担持する炭素と共にシ
クロプロピル基を形成するときは6(7)位置には第二
の結合は存在できないものとし、10位置にある置換基
R_−C■C−上の点線はその点線を担持する炭素の間
に第三の結合が存在し得ることを示し、 6及び7位置の波線は、置換基R_6及びR_7が可能
な位置α又はβのいずれかであり得ることを示し、 そして、R_6及びR_7がそれぞれ水素原子を表わし
、R_2がメチル基を表わし、Xがヒドロキシル又はア
セトキシ基を表わし且つYが水素原子を表わし、1(2
)及び6(7)位置にある点線がその点線を担持する炭
素の間で第二の結合を表わさず且つ10位置にある置換
基上の点線がその点線を担持する炭素の間に第三の結合
が存在することを示すときはRは水素原子を表わし得な
いものとする〕の化合物。 - (2)次式 I _1 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔ここで、R_は 水素原子か、 多くとも8個の炭素原子を有する置換されていてもよい
アルキル、アルケニル若しくは アルキニル基か、 置換されていてもよいアリール若しくはアラルキル基か
、 保護されたヒドロキシル、エステル化されていてもよい
カルボキシル、アミノ、保護さ れたアミン、モノ若しくはジアルキルアミ ノ基か、 ハロゲン原子か、又は トリアルキルシリル基 を表わし、 R_6及びR_7は、R_6及びR_7がそれらを担持
する炭素と共にシクロプロピル基を形成するようなもの
か、又はR_6が水素原子を表わし且つR_7が基R_
1(ここでR_1は水素原子か、多くとも6個の炭素原
子を有する置換されていてもよいアルキル、アルケニル
若しくはアルキニル基か、又はアセチルチす基を表わす
)を表わすようなものであり、R_2はメチル又はエチ
ル基を表わし、 X_1及びY_1は、 (i)X_1がヒドロキシル基を表わし且つY_1が−
CH_2CH_2CO_2M(ここでMは水素原子、ア
ルカリ金属原子又はアンモニウム基を表 わす)又は−CH_2CH_2−CH_2OH基を表わ
すようなものか、又は (ii)X_1及びY_1が一緒になつて基▲数式、化
学式、表等があります▼若しくは▲数式、化学式、表等
があります▼ を表わすようなものか、又は (iii)X_1がアシル化若しくはエーテル化されて
いてもよいヒドロキシル基を表わし且つ Y_1が水素原子若しくは基R_4(ここでR_4は多
くとも6個の炭素原子を有するアルキ ル、アルケニル又はアルキニル基を表わす)を表わすよ
うなもの であり、 1(2)及び6(7)位置にある点線はその点線を担持
する炭素の間に第二の結合が存在し得ることを示し、た
だしR_6及びR_7がそれらを担持する炭素と共にシ
クロプロピル基を形成するときは6(7)位置には第二
の結合は存在できないものとし、10位置にある置換基
R−C■C−上の点線はその点線を担持する炭素の間に
第三の結合が存在し得ることを示し、 6及び7位置の波線は置換基R_6及びR_7が可能な
位置α又はβのいずれかであり得ることを示し、そして
、R_6及びR_7がそれぞれ水素原子を表わし、R_
2がメチル基を表わし、Xがヒドロキシル又はアセトキ
シ基を表わし且つYが水素原子を表わし、1(2)及び
6(7)位置にある点線がその点線を坦持する炭素の間
で第二の結合を表わさず且つ10位置にある置換基上の
点線がその点線を担持する炭素の間に第三の結合が存在
することを示すときはRは水素原子を表わし得ないもの
とする〕に相当する特許請求の範囲第1項記載の一般式
I の化合物。 - (3)次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、R、R_1、R_2、X、Y、点線及び波線
は特許請求の範囲第2項記載の意味を有する)に相当す
る特許請求の範囲第2項記載の一般式 I _1の化合物
。 - (4)基R及びR_1が包含できる置換基がヒドロキシ
ル、エステル化されていてもよいカルボキシル、アミノ
、保護されたアミノ、モノ又はジアルキルアミノ基及び
ハロゲン原子よりなる群から選ばれる特許請求の範囲第
1、2又は3項記載の一般式 I の化合物。 - (5)10位置にある置換基上の点線が第三の結合を表
わし、R_2が水素原子、1〜3個の炭素原子を有する
アルキル基、メチルヒドロキシル基及びフエニル基より
なる群から選ばれる特許請求の範囲第1〜4項のいずれ
かに記載の一般式 I の化合物。 - (6)置換基R_1が水素原子、1〜4個の炭素原子を
有するアルキル基及びアセチルチオ基よりなる群から選
ばれ、X及びYはXがヒドロキシル基を表わし且つYが
−CH_2CH_2CO_2M′基(ここでM′は水素
原子又はアルカリ金属原子を表わす)を表わすか若しく
はYが水素原子を表わすようなものか、又はX及びYが
一緒になつて基 ▲数式、化学式、表等があります▼ を表わすようなものである特許請求の範囲第1〜5項の
いずれかに記載の一般式 I の化合物。 - (7)化合物が下記の通りの特許請求の範囲第1項記載
の一般式 I の化合物。 10β−エチニル−17β−ヒドロキシ−3−オキソ−
19−ノル−17α−プレグナ−4,9(11)−ジエ
ン−21−カルボン酸のγ−ラクトン、及び 10β−(1−プロピニル)−17β−ヒドロキシ−3
−オキソ−19−ノル−17α−プレグナ−4,9(1
1)−ジエン−21−カルボン酸のγ−ラクトン。 - (8)特許請求の範囲第1項記載の式 I の化合物を製
造するにあたり、次式II ▲数式、化学式、表等があります▼II 〔ここで、R′はR(Rは特許請求の範囲第1項記載の
意味を有する)か又は反応性官能基が保護されている置
換基Rを表わし、R_2は特許請求の範囲第1項記載の
意味を有し、Kはケトン官能基の保護基を表わす〕 の化合物を、 I )まず強塩基の存在下にハロゲン化トリメチルスル
ホニウムで、次いでアセトニトリルの金属誘導体で、そ
して最後に塩基、次いで酸で処理するか、又は、まず強
塩基の存在下に次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここでAlkは1〜4個の炭素原子を有するアルキル
基を表わす) の試剤で、次いで酸で処理するかして次式 I _A▲数
式、化学式、表等があります▼ I _A の化合物を得るか、或るいは II)次式 XM_g−CH_2CH_2CH_2OB (ここでXはハロゲン原子を表わし、Bはヒドロキシル
基の保護基を表わす) の試剤又はマグネシウムアルコラードで処理し、次いで
酸で処理した後に次式 I ′_A ▲数式、化学式、表等があります▼ I ′_A の化合物を得、この式 I ′_Aの化合物を場合により
塩基の存在下にスルホン酸ハロゲン化物で処理して次式
I ″_A ▲数式、化学式、表等があります▼ I ″_A の化合物を得るか、或るいは III)還元剤で、次いで酸で処理して次式 I _3_A▲
数式、化学式、表等があります▼ I _3_A の化合物を得るか、或るいは IV)次式 R_4M_gX又は(R_4)_2CuLi(ここでR
_4は前記の意味を有し、Xはハロゲン原子を表わす) の有機金属化合物で、次いで酸で処理して次式 I _4
_A▲数式、化学式、表等があります▼ I _4_A の化合物を得るか、或るいは V)まず、強塩基の存在下にハロゲン化トリメチルスル
ホニウムで、次いで酸の存在下に次式H_2N−alk (ここでalkは前記の通りである) の第一アミンで、クロルぎ酸アルキルで、強塩基で、そ
して最後に酸で処理して次式 I _5_A▲数式、化学
式、表等があります▼ I _5_A の化合物を得るか、或るいは VI)まず強塩基の存在下にハロゲン化トリメチルスルホ
ニウムで、次いでn−ブチルリチウムの存在下にt−ブ
チルメチルスルホニルで処理して次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物を硫黄原子のレベルでの2個のジアステレオマ
ーの混合物の形で得、所望ならばこの2個のジアステレ
オマーを分離し、次いでそれらの混合物又はそれらのそ
れぞれに別個に酸を作用させて次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を2個のジアステレオマーの混合物又は1個のジアステ
レオマーの形で得、所望ならばジアステレオマーの混合
物を分離し、次いでそれらの混合物又はそれらのそれぞ
れに別個にN−クロル−又はN−ブロム−スクシンイミ
ドを作用させて次式 I _6_A ▲数式、化学式、表等があります▼ I _6_A の化合物を得、所望ならば式 I _A、 I ′_A、 I
″_A、 I _3_A、 I _4_A、 I _5_A及び
I _6_Aの化合物を酸の存在下にオルトぎ酸アルキ
ルで、次いで脱水素剤で処理して次式 I _B、 I ′_
B、 I ″_B、 I _3_B、 I _4_B、 I _5_
B及び I _6_B▲数式、化学式、表等があります▼
I _B ▲数式、化学式、表等があります▼ I ′_B ▲数式、化学式、表等があります▼ I ″_B ▲数式、化学式、表等があります▼ I _3_B ▲数式、化学式、表等があります▼ I _4_B ▲数式、化学式、表等があります▼ I _5_B ▲数式、化学式、表等があります▼ I _6_B の化合物を得、所望ならば (A)式 I _B、 I ′_B、 I ″_B、 I _3_B
、 I _4_B、 I _5_B及び I _6_Bの化合物
を、場合により銅塩の存在下に次式R_1M_gX′ (ここでR_1は前記の意味を有し、X′はハロゲン原
子を表わす) の有機マグネシウム化合物で処理するか又は次式(R_
1)_2CuLi の有機金属化合物で、次いで酸で処理するかして次式
I _C、 I ′_C、 I ″_C、 I _3_C、 I _4
_C、 I _5_C及び I _6_C ▲数式、化学式、表等があります▼ I _C▲数式、化
学式、表等があります▼ I ′_C ▲数式、化学式、表等があります▼ I ″_C▲数式、
化学式、表等があります▼ I _3_C ▲数式、化学式、表等があります▼ I _4_C▲数式
、化学式、表等があります▼ I _5_C ▲数式、化学式、表等があります▼ I _6_C の化合物を7α異性体と7β異性体との混合物の形で得
、所望ならばこの混合物を分離し、所望ならばこれら7
個の化合物に脱水素剤を作用させて対応する6個(7個
)の化合物を得るか、或るいは (B)式 I _B、 I ′_B、 I ″_B、 I _3_B
、 I _4_B、 I _5_B及び I _6_Bの化合物
に強塩基の存在下によう化トリメチルスルホニウム及び
よう化トリメチルスルホキソニウムよりなる群から選ば
れる試剤を作用させて次式 I _D、 I ′_D、 I ″
_D、 I _3_D、 I _4_D、 I _5_D及び I
_6_D ▲数式、化学式、表等があります▼ I _D▲数式、化
学式、表等があります▼ I _D′ ▲数式、化学式、表等があります▼ I _D″▲数式、
化学式、表等があります▼ I _3_D ▲数式、化学式、表等があります▼ I _4_D▲数式
、化学式、表等があります▼ I _5_D ▲数式、化学式、表等があります▼ I _6_D の化合物を6α、7α及び6β、7β混合物の形で得、
所望ならばこのようにして得られた異性体を分離し、そ
して所望ならば式 I _A、 I ′_A、 I ″_A、 I
_3_A、 I _4_A、 I _B、 I ′_B、 I ″
_B、 I _3_B、 I _4_B、 I _C、 I ′_C
、 I ″_C、 I _3_C、 I _4_C、 I _D、1
′_D、 I ″_D、 I _3_D、及び I _4_Dの
化合物に分子を1(2)位置で脱水素できる脱水素剤又
は微生物で処理して1(2)位置に不飽和を含む対応す
る化合物を得、所望ならば式 I _A、 I _B、 I _
C及び I _Dの化合物並びにこれらの化合物に対応す
る1(2)位置に不飽和を含む化合物を水酸化アルカリ
又はアンモニアで処理してXがヒドロキシル基を表わし
且つYが基−CH_2CH_2CO_2M′(ここでM
′はアルカリ金属原子又はアンモニウム基を表わす)を
表わす対応する化合物を得、所望ならばそのようにして
得られた化合物に酸性試剤を作用させてXがヒドロキシ
ル基を表わし且つYが基−CH_2CH_2CO_2H
を表わす化合物を得、所望ならば、10位置の置換基が
ヒドロキシアルキル型の置換基Rである化合物をトリフ
エニルホスフインの存在下に四臭化又は四塩化炭素で処
理して対応する臭素及び塩素誘導体を得、所望ならば、
10位置の置換基が三重結合を含む化合物を選択的水素
化剤で処理して10位置の置換基が二重結合を含む対応
する化合物を得、所望ならば、10位置にエチニル基を
含む化合物をハロスクシンイミドで処理して10位置に
−C≡C−Hal置換基を含む対応する化合物を得、そ
して所望ならば、17位置に水素原子、基R_4又は−
CH_2−CH_2−CH_2OH基を含む化合物の1
7位置にあるヒドロキシル基をアシル化又はエーテル化
することを特徴とする式 I の化合物の製造方法。 - (9)次の一般式 I ′ ▲数式、化学式、表等があります▼ I ′ 〔ここで、Rは 水素原子か、 多くとも8個の炭素原子を有する置換されていてもよい
アルキル、アルケニル若しくは アルキニル基か、 置換されていてもよいアリール若しくはアラルキル基か
、 保護されたヒドロキシル、エステル化されていてもよい
カルボキシル、アミノ、保護さ れたアミン、モノ若しくはジアルキルアミ ノ基か、 ハロゲン原子か、又は トリアルキルシリル基 を表わし、 R_6及びR_7は、R_6及びR_7がそれらを担持
する炭素原子と共にシクロプロピル基を形成するような
ものか、又はR_6が水素原子を表わし且つR_7が基
R_1(ここでR_1は水素原子か、多くとも6個の炭
素原子を有する置換されていてもよいアルキル、アルケ
ニル若しくはアルキニル基か、又はアセチルチオ基を表
わす)を表わすようなものであり、 R_2はメチル又はエチル基を表わし、 X及びYは、 (i)Xがヒドロキシル基を表わし且つYが−CH_2
CH_2CO_2M(ここでMは水素原子、アルカリ金
属原子又はアンモニア基を表わ す)又は−CH_2CH_2−CH_2OH基を表わす
ようなものか、又は (ii)X及びYが一緒になつて基 ▲数式、化学式、表等があります▼若しくは▲数式、化
学式、表等があります▼ を表わすようなものか、又は (iii)X及びYが一緒になつて基 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここでalkは多くとも8個の炭素原子を含有する) を表わすようなものか、又は (iv)X及びYが一緒になつて基 ▲数式、化学式、表等があります▼ を表わすようなものか、又は (v)Xがヒドロキシル基を表わし且つYが▲数式、化
学式、表等があります▼基(ここでMは上記 の通りである)を表わすようなものか、又 は (vi)Xがアシル化若しくはエーテル化されていても
よいヒドロキシル基を表わし且つY が水素原子若しくは基R_4(ここでR_4は多くとも
6個の炭素原子を有するアルキル、アルケニル又はアル
キニル基を表わす)を 表わすようなもの であり、 1(2)及び6(7)位置にある点線はその点線を担持
する炭素の間に第二の結合が存在し得ることを示し、た
だしR_6及びR_7がそれらを担持する炭素と共にシ
クロプロピル基を形成するときは6(7)位置には第二
の結合は存在できないものとし、10位置にある置換基
R−C■C−上の点線はその点線を担持する炭素の間に
第三の結合が存在し得ることを示し、 6及び7位置の波線は、置換基R_6及びR_7が可能
な位置α又はβのいずれかであり得ることを示す〕 の化合物よりなる薬剤。 - (10)Rが水素原子、1〜3個の炭素原子を有するア
ルキル基、ヒドロキシメチル基及びフエニル基よりなる
群から選ばれ、R_1が水素原子、1〜4個の炭素原子
を有するアルキル基及びアセチルチオ基よりなる群から
選ばれ、そしてX及びYはXがヒドロキシル基を表わし
且つYが−CH_2CH_2CO_2M′基(M′は水
素原子又はアルカリ金属原子を表わす)を表わし又はY
が水素原子を表わすようなものか或いはX及びYが基 ▲数式、化学式、表等があります▼ を表わすようなものである一般式 I ′の化合物よりな
る特許請求の範囲第9項記載の薬剤。 - (11)化合物名が下記の通りである一般式 I ′の化
合物よりなる特許請求の範囲第9項記載の薬剤。 10β−エチニル−17β−ヒドロキシ−3−オキソ−
19−ノル−17α−プレグナ−4,9(11)−ジエ
ン−21−カルボン酸のγ−ラクトン、 10β−(1−プロピニル)−17β−ヒドロキシ−3
−オキソ−19−ノル−17α−プレグナ−4,9(1
1)−ジエン−21−カルボン酸のγ−ラクトン、及び 10β−エチニル−17β−ヒドロキシエストラ−4,
9(11)−ジエン−3−オン。 - (12)特許請求の範囲第9〜11項のいずれかに記載
の薬剤の少なくとも1種を活性成分として含有する製薬
組成物。
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