JPS6141122A - 液晶表示パネル用電極基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は平滑性、平面性が良好で、かつ酸素、窒素など
の耐透気性に優れた液晶表示パネル用電極基板に関する
ものであり、液晶表示装置は勿論のこと、その他、光導
電性感光体用電極、面発熱体、また建築物の窓貼りから
各種ディスプレイのフィルターや化粧板として利用でき
る。

〔従来の技術〕１ 近年液晶パネルは（１）薄膜化、（２）軽量化、（３）
大型化、（４）任意の形状化、（５）曲面化、（６）低
コスト化などの要求があり、これに応えるものとしてプ
ラスチック基板を用いた液晶パネルが検討、実用化され
はじめた。この液晶パネル用プラスチック基板には次の
ような特性が要求される。

（１）光学的に可視光領域で透明。

（２）光学的に等方性で、着色干渉稿が発生しない。

（３）表面が平滑で硬い。

（４）液晶組立などの製造工程に耐える耐薬品性、耐熱
（１００℃以上）があること。

（５）　　シｉル材との密着力が良く、長期に亘って気
密性があること。

（６）耐透湿性があること。

（７）耐透気性があること。

（８）耐液晶性があり、長期に亘って安定なこと。

これらの特性を全て満すことは、困難であるが、本発明
者らはすでに、これらの特性を有する液晶表示用の透明
電極付プラスチック基板を提案した（特開昭５６−１３
００１０号公報参照）。

しかし、長期にわたる信頼性や自動車などの苛酷な条件
下で使用する際、さらに優れた耐透湿性特に耐透気性が
要求される。例えば、耐透湿性が不充分の場合は消費電
力が増加すると共に液晶及び配向膜の劣化を生じること
が判った。一方、耐透気性が不充分の場合には、気泡が
混入し表示部に黒点を生じるなどの欠点を生じることが
判った。

前記欠点のうち耐透湿性を向上させることを目的として
、プラスチック基板の少なくとも片面に、該基板より低
透湿率であるプラスチック層を形成した表示素子用プラ
スチック基板が知られ（特開１１８５５−１３５８１７
号公報）、プラスチック層の材質として、フッ素樹脂、
無極性樹脂、極性樹脂がそれぞれ例示されているが、こ
れらはプラスチック基板との密着性が悪かったり、また
熱処理などの後工程処理により変色するなどの欠点を有
していて実用的ではなかった〇 〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明者らは前記従来の技術における欠点、つまり液晶
表示パネル用電極基板において、耐透気性が不充分なた
めｇｌＬ泡が混入して表示部に黒点を生じるなどの欠点
、ざらに耐透気性を向上させるために生じる種々の欠点
、たとえば耐透気層とプラスチック基板との密着性、耐
透気層の着色などの問題を解決するため鋭意研究、努力
した結果、遂に本発明を完成させるに到ったものである
。

〔問題点を解決するための手段〕

すなわち本発明はレターデージ習ン値がＲｏｏｍμ以下
の非施光性フィルムまたはシートの片面または両面に高
分子樹脂層を塗布または積層した可視光線透過率６０％
以上の複合基板の少くとも片面に透明電極を設けてなる
液晶表示パネル周電極基ムまたはシートとの剥離強度が
ＳＯｔ以上であることを特徴とする液晶表示パネル用電
極基板であけレターデーシロン値（Ｒ値）が１００ｍμ
以下、好ましくは３０ｍμ以下である。Ｒ値とは、フィ
ルムの厚さｄと、該フィルムに対して垂直方向の２つの
屈折率の差の絶対値１ｎ１−ｎｉｌとの積で表わされる
。

Ｒ＝　ｄ　ｌ　ｎｌ　−ｎ２１ （但しｎｌは任意方向の屈折率、ｎｌはｎ１方向と直交
する方向の屈折率） このＲ値がＬｏｏｍμを越えると、パネルとしての適正
視角が狭くなると共に干渉縞が発生し、たとえば液晶表
示装置に応用した場合、その判読性が低下する。

この様な条件を満足するフィルムの素材となるべき合成
樹脂は非品性のものであって、結晶性があると部分的に
結晶化して透明性が悪くなり、又光学的異方性を生じて
Ｒ値が高くなるという問題に遭遇する。この様な条件を
満足する樹脂は全て本発明において利用できるが、本発
明の用途を考慮すると、耐有機薬品性や耐液晶性等の化
学的安定性の優れたものであることが望まれる。そこで
本発明に利用できる合成樹脂としては、ポリ−４−メチ
ルペンテン−１１ポリアクリロニトリル糸樹脂、フェノ
キシエーテル型重合体、フェノキシエーテル型架橋重合
体、ポリフェロ・レンオキサイド系樹脂、エポキシ系樹
脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂、スチレン系共重
合体樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン系樹
脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリアリーレンエス
テル系樹脂、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリエステ
ル、ポリメタクリル酸メチル、ポリ塩化ビニル、エポキ
シブタジェン共重合体、芳香族ポリエーテルアミド（特
開昭５８−２０８７２９号参Ｍ）、ポリクロルエチレン
、多官能アクリレート樹脂等が例示されるが、本発明に
おいて、好ましい合成樹脂は下記一般式で示されるフェ
ノ牛ジエーテル型重合体または水酸基の水素部分に多官
性化合物を架橋反応させたフェノキシエーテル塵架橋重
合体である。

（式中Ｒ１〜Ｒ６は、夫々水素又は炭素数１〜３の低級
アルキル基、Ｒ７は炭素数２乃至４の低級アルキル基、
ｍはＯ〜８の整数、ｎは２０〜３００の整数を夫々意味
する） 上記一般式において、Ｒ１−Ｒ６で示される炭素数１〜
３の低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル等の飽和低級アルキルが例示され、Ｒ
７で示される炭素数２乃至４の低級アルキレン基として
は、エチレン、プロピレン、トリメチレン、ブチレンが
示される。

また、架橋重合体を得るために反応させる多官性化合物
としては、水酸基との反応活性が高い基、例えばインシ
アナト基、カルボキシ基、カルボキシ基における反応性
誘導基（例えばハライド、活性アミド、活性エステル、
酸無水物基等）、メルカプト基等を同−又は異なって２
以上有する化合物、例えばトリレンジイソシアネート、
ｍ−７二二レンジイソシアネート、ｐ−フエニレンジイ
ソシアネー）、４．４’−ジフェニルメタンジイソシア
ネート等のポリイソシアネートおよびそれらの多価アル
コール付加体；フェノールブロックトトリレンジイソシ
アネート等のプロ、クドボリインシアネート：アジピン
酸、酒石酸、セバシン酸、フタル酸等の多価カルボン酸
及びカルボキシ基における反応性誘導体；チオグリコ−
／Ｉ／酸等のメルカプト置換有機カルボン酸；等の他、
エピクロルヒドリン、チオ硫酸ナトリウム、メラミン−
ホルムアルデヒド、フェノール樹脂、尿素−ホルムアル
デヒド樹脂等を用いることもできる。

これらの合成樹脂は、通常の湿式製膜法、乾式製膜法、
溶融製膜法によってフィルム状またはシート状に成形さ
れるが、膜の光学的等方性を考慮すると、乾式製膜法が
最適である。フィルムまたはシートの厚みは通常５〜１
０００μ、好ましくはシートとの複合基板を構成する高
分子樹脂層（以下耐透気層という）はその酸素透過率（
ＡＳＴＭ・Ｄ−１４３４−７５に準じて測定）が３０ｃ
ｏ／　２４ｂｒ・の剥離強度（ＡＳＴＭ　−Ｄ１８７６
に準じて測定）Ｓａｔ以上好ましくは１５０２以上であ
る。酸素透過率が３　Ｇｅｅ／２４ｈｒ−ｍ”　・ａｔ
ｒｎを越えると、厚さをいくら厚くしても温度変化の厳
しい可酷な条件や長期間の使用により表示部に黒点が生
じるので好ましくない。また剥離強度が５ｏｆ未満では
、次工程の透明電極処理や液晶パネル製造のパターン出
し酸、アルカリ水溶液処理、有機薬品処理、組立工程な
どの際に剥離してしまうので好ましく気層との複合基板
の可視光線透過率は６０％以上必要である。６０％未満
では表示部のコントラストが悪くなるので好ましくない
。

以上の条件を満たす耐透気層を形成する耐透気性高分子
樹脂としては、アクリｏ二）リル（以下ＡＮという）成
分含有重合体、ビニルアルコールＣ以下ＶＡという）成
分含有緩状重合体、ＶＡ威分含有グラフト共重合体、ハ
田ゲン化ビニリデン成分６０〜９０モル％含有した共重
合体などが挙げられる、 ムＮ成分含有重合体としてはλＮの他メタクリ０　＝　
）　ＩＪル（以下ＭＡＮという）等のムＮｉｌ導体を含
むコポリマー及びホモポリマーがあり、まずコポリマー
としてはＡＮ／メタタリレート共重合体、ＡＮ／メチル
アクリレート共重合体、ムＮ／エチルアクリレート共重
合体、ＡＮ／ブチルアクリレート共重合体、ＡＮ／メチ
ルメタクリレート（以下ＭＭＡという）共重合体、λＮ
／エチルメタクリレート共重合体、ＡＮ／スチレン（以
下ＳＴという）共重合体、人Ｎ／酢酸ビール共重合体、
ＭＡＮ／メチルアクリレート共重合体、ＭＡＮ／エチル
アクリレート共重合体、ＭＡＮ／ブチルアクリレート共
重合体、ＭＡＮ／ＳＴ共重合体、ＭＡＮ／酢酸ビニル共
重合体、ＡＮ／ＭＡＮ共重合体、ＡＮ／塩化ビニリデン
等の２元共重合体の他、ＡＮ／ＭＡＮ／メチルアクリレ
ート共重合体、ムＮ／ＭＡＮ／エチルアクリレート共重
合体、ムＮ／ＭＡＮ／ブチルアクリレート共重合体、ム
Ｎ／ＭＡＮ／メチルメタクリレート共重合体、λＮ／Ｍ
ＡＮ／エチルメタクリレート共重合体、λＮ／ＭＡＮ、
／ＢＴ共重合体、ＡＮ／ＭＭム／ヒト四キシメチルメタ
クリレート共重合体、ムＮ／ＭＭＡ／アクリルアミド共
重合体、ＡＮ／ＭＭＡ／アクリル酸共重合体、ＡＮ／Ｍ
ＭＡ／ビニルアルコール共重合体、ＳＴ／ＭＭＡ／グリ
シジルメタクリレート共重合体痔の共重合体上れ以上の
共重合体が例示される。又ホモポリマーとしてはＡＮホ
モポリマー、ＭＡＮホモポリマー等が例示される。

尚コポリマーにおいては、ランダム及びプルツクの如何
を問わない。特に前記ＡＮ成分含有重合体において、本
発明ではＡＮ／メタクリレート（＝５０〜９８７５０〜
２）共重合体が好ましい。

ＶＡ成分含有重合体は、ＶＡ含有量が５０〜９５モル％
の含ＶＡの線状及びグラフト共重合体で必要に応じてこ
れに架橋剤を添加する。線状の含ＶＡ共重合体としては
、オレフィン−ビニルアルコール（以下ＯＶＡという）
共重合体及び酢酸ビニル−ビニルアルコール（以下ｖａ
・Ｖムトイウ）共重合体を含むもので、ＯｖＡ共重合体
は、ギ酸ビニル、酢酸ビニル、プルピオン酸ビニル、酪
酸ビニル、カブｐン酸ビニル、カプリ＃Ｉｌビニル、ス
テアリン酸ビニル、トリメチル酢酸ビニル、クロル酢酸
ビニル、安息香酸ビニル、ｐ−メチル安息香酸ビニル等
の置換若しくは非置換脂肪族又は芳香族カルボン酸のビ
ニルエステルを所定量のオレフィン（例えばエチレン、
プロピレン或はこれらの混合物やエチレンープ四ピレン
ー共重合体等）ト共重合させてビニルエステルを５０〜
９５モル％含むオレフィン−ビニルエステル共重合体を
得、これをケン化することにより得られる。尚このテン
化は完全ケン化であってもよいが、一部未ケン化のエス
テル結合を残していてもよい。またＶａ・ＶＡ共重合体
は酢酸ビニル重合体を部分ケン化することによって得ら
れる。

オレフィン−ビニルエステル共重合体及び６８ビニル重
合体のケン化法としては、該重合体をメタノール、エタ
ノール、ブタノール等の溶媒に溶解し、少量の酸或はア
ルカリの存在下でエステル交換反応させ、或は過剰量の
アルカリの存在下で加水分解反応させる方法が採用され
る。ここで〇ＶＡＶＡ共重合体Ｖａ−ＶＡ共重合体中の
Ｖム含有率が５０モル％未満であるとガス透過性が高く
なり、充分な耐透気性が得られない。一方９５モル％を
越えると、耐湿性が低下し、ｇＶｋ湿によりガス透過性
が高くなる。

ＶＡ成分含有グラフト共重合体とは、ポリ酢酸ビニルの
５０〜１００％ケン化のポリビニルアルコール（以下Ｐ
ＶＡという）に付加重合性単量体をグラフト共重合した
ものである。ケン化度が５０％未満のものでは後述のグ
ラフト化物を得ても安定なエマルジ璽ンラテックスとす
ることができな前記付加重合性単量体としては、付加重
合性の２重結合を有し、且つ水不溶碓の化合物が用いら
れる。尚水不溶性とは、ＰＶＡを不溶化させる為の要求
特性で、一般的には２（ＩＣの水に対する溶解度が１０
重量邦以下であることが推奨される。

１０％を越える単量体を用いると、得られたグラフト共
重合物を利用するに当りで安定したエマルジーンドープ
が得られず、耐湿性が低下してガスのバリヤーも十分な
ものではない。上記条件に適うものであれば全て本発明
における好適モノマーとして利用できるが、より具体的
な例をもって説明すると、オレフィン系モノマー（例え
ばエチレン、プロピレン等）、ジエン系モノマー（例え
ばブタジェン等）、スチレン系モノマー（例えばビニル
ベンゼン、ジビニルベンゼン等）、ハロゲン化ビニル（
例えば塩化ビニル、臭化ビニル、りｐロブレン、等）、
酢酸ビニル系モノマー（例えば酢酸ビニル等）、アクリ
ロニトル系モノマー（例えばアクリレートル等）、シア
ン化ビニリデン、ビニルエーテル系（例えばメチルビニ
ルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニル
エーテル等）、アクリル酸エステル系モノマー〔例えば
メチルアクリレート、エチルアクリレ−）、ｎ−アミル
アクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、テトラヒド
ロフルフリルアクリレート、モノ（２−７タリロイロキ
シエチル）アシッドホスフェート等〕、メタクリル酸エ
ステル系モノマ−〔例えばメチルメタクリレート、エチ
ルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレ−）、ｎ−
ブチルメタクリレート、１ｓｏ−ブチルメタクリレート
、Ｉｃｅ−ブチルメタクリレート、ｎ−アミルメタクリ
レート、メトキシエチルメタクリレート、ｎ−ブトキシ
エチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタク
リレート、グリジルメタクリレート、１．３−ブタンジ
オールメタクリレート、モノ（２−メタクリロイワキシ
エチル）アシッドホスフェート等〕等が挙げられ、これ
らは必要に応じて他の置換分、例えば低級アルキル基（
メチル、エチル、プロピル、ブチル等）、低級アルコキ
シ基（メトキシ、エトキシ、プ四ボキシ、ブトキシ等）
、ハロゲン等を有していても良い。

ＰＶＡ及び重合性単量体からグラフト重合体を製造する
為の又悪条件については特段の＃限を設けないカ、通常
は硝酸第２七リウムアンモニウム、硫酸セリウムアンモ
ニウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過硫酸
ナトリウム、過酸化水素等の水溶性重合開始剤を共存さ
せ、水媒体中で反応を行なう。反応系におけるＰＶＡの
濃度は、一般に２〜５０％が好ましい。これは反応終了
後の混合物をそのまま成膜用ドープとして利用すること
を考慮した為であり、２％未満では均一厚さのフィルム
を得ることができない。又５０％を超えると成膜にドー
プのゲル化が起こり、均質な塗膜を得ることができなく
なる。他方重合性単量体俺の濃度は、ＰＶＡ１００重量
部に対して１〜７０重量部使用するのが良い。１重量部
未満では耐湿性がなく、他方７０重量部を超えるとＰＶ
Ａの特性が低下して、いずれも耐透気性が不十分である
。

又水溶性重合開始剤としては、ＰＶＡ１００重景部に対
して０．０５〜１０重量部配合するのが良い。

０．０５重量部未満では重合反応の開始が困難であり、
他方１０重量部を越えると開始剤の為にＰＶ’Ａが劣化
することがあり、グラフト重合率が却って低下するから
である。但し更に好ましい添加量は、上記基準に対して
０．５〜５重量部である。尚グラフト重合反応は通常冷
却乃至加熱下に行なわれ、一般的には０〜１００℃、好
ましくは５〜８０℃が推奨される。０℃未満では重合速
度が遅＜　、１００℃超では重合開始剤の分解□を招き
、重合系の安定性が低下してゲル化等を生じるからであ
る。

こうして得られる反応物中にはグラフト共重合物の他に
、ＰＶＡや重合性単量体同士のホモポリマー等が混在す
るが、これらは分離せずにそのままフィルム基材とする
ことができる。

前記ＶＡ成分含有重合体の耐湿性、耐薬品性向上のため
添加する架橋剤としては、例えばホルマリン系の架橋剤
、ホルマリン、グリオキザール、パラホルム、アルデヒ
ド、Ｎ−メチロール樹脂系の架橋剤としてはジメチロー
ル尿素、ジメロールエチレン尿素、トリメチロールメラ
ミン。水溶性ウレタン系架橋剤としてはブロックイソシ
アナートや水溶性のエポキシ樹脂などが挙げられる。こ
れらの架橋剤の添加量は前記のＶＡ含有重合体１重量部
に対して０．０５〜０．５重ｉｉｔ部、特に０．１〜０
．３重量部添加するのが好ましい。ＶＡ含有重合体１重
量部に対して０．０５重量部以下では添加効果が得られ
ず、０．５重量部を越えると溶液がゲル化し易く、均質
の塗膜を得ることができなくなる。

以上の他、ハロゲン化ビニリデン成分を６０〜９０モル
％含有した共重合体が挙げられ、たとえば、塩化ビニリ
デン、臭化ビニリデン、フッ化ピ二り−ｙンなどのハロ
ゲン化ビニリデンと酢酸ビニル、アクリルニトリル、エ
チレン塩化ビニル、臭化ビニル、フッ化ビニル、スチレ
ン、ビニルアクリレート等との共重合体が挙げられる。

ハロゲン化ビニリデン成分が６０モル％未満では耐透気
性が向上せず、一方９０モル％を越えると高温に加熱し
たときに着色したりするので好ましくない。

本発明において、前記高分子樹脂で形成される耐透気層
の厚さは１〜５０μ、好ましくは２〜２０μである。こ
れは１μ未満では耐透気性向上が不充分であり、５０μ
を越えると複合基板を形成シートと耐透気層とで複合基
板を形成する方法とフィルムまたはシート面上に塗布、
乾燥し、熱処理して耐透気層を形成させ゛て複合基板が
得られる。

前記耐透気性高分子樹脂のうち、ＡＮ成分含有重合体を
用いる場合の溶剤としてはジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホオキシド痔が適当であり、ＶＡ成分含有の線
状共重合体の場合は水とアルコールの混合液、特に水と
イソプルパノール（混合比１：ｌ）、水とｎ−ブタノー
ル（混合比１：１〕などの混合液が挙げられる。ＶＡ成
分含有のグラフト共重合体の場合はそのま＼塗布する。

一方ハロゲン化ビニリデン成分含有重合体を用いる場合
の溶剤としてはジメチルホ／Ｉ／ムアミド、テトラヒド
ロフラン、シクロヘキサノン、ジメチルア七ドアミド、
ジオキサン、トリクロルエタン、エチレンクロリド、モ
ノクロルベンゼン、メチルエチルケトン等が挙げられる
。

耐透気性高分子樹脂を前記溶剤に溶解させた溶液を塗布
する方法としては、四−ルコーター、グラビヤロールコ
ータ−、ロッドコーター、エヤナイフコーター、スプレ
ーコーターなどの通常の方法が採用される。このように
して耐透気性高分子樹脂を塗布し、通常の方法で乾燥し
て溶剤を除去してのち剥離強度（ＡｓＴＭＤｘａ７ａ）
ｓｏｆ以上の密着性を得るためには、熱処理を行うこと
が必要である。熱処理条件は被塗布フィルム又はシート
や塗布する耐透気性高分子樹脂により適宜選択して行う
ことができるが、通常１００℃〜２５０℃１、望ましく
は１２０℃〜２００℃、数分〜数十分行うが必要に応じ
て被塗布フィルムを養秦鉢コロナ処理してのち塗布・乾
燥後熱処理すると密着性が向上し熱処理効果が顕著とな
る。特に硬化タイプのフィルムやシートの場合はコｐす
処理による密着性効果がよい。使用する耐透気性高分子
樹脂による通常の熱処理条件としては、ＡＮ成分含有高
分子樹脂の場合１５０℃〜２５０℃、数分〜数十分、ｖ
Ａ成分含有線状共重合体の場合は１５０℃〜２２０℃、
数分〜数十分、ＶＡ成分含有のグラフト共重合体及びハ
ロゲン化ビニリデン成分含有の樹脂の場合は１２０℃〜
１６０℃、数分〜数十分で行うのが好ましい。いずれの
場合も熱処理条件が不十分な場合は十分な密着性が得ら
れず、熱処理を可動に行うと着色を生じて得られた複岑
膜の可視光線透過率は６０％未満となるので好ましくな
い。

なお、本発明複合基板の製造法は以上の方法にムまたは
シートを密着形成して複合基板を得ることができる。た
とえばポリエステルのフィルム上にＡＮ共重合体（ＡＮ
／ＭＡ＝９０／１０）のジメチルホルムアミド溶液を塗
布、乾燥して耐透気性膜を形成のち該膜上にフェノキシ
樹脂／トリレンジ・イソシアネトの溶液を塗布、乾燥し
てのち熱処理し、上記ポリエステルフィルムを除くこと
によって複合基板が得られる。

次に本発明液晶表示パネル用電極基板を作製するため、
前記方法で得られた複合基板の片面または両面に透明導
電層を形成して透明導電性を付与する。上記形成方法は
、公知方法及び今後開発される新規方法の如何を問わな
いが、代表的な方法としては、真空蒸着法、スパッタリ
ング法、イオシブレーティング法、金属溶射法、金属メ
ッキ法等が採用される。これらのうち、薄層が形成でき
ること、及び均一層が形成できることの２点を満足する
ものとしては、真空蒸着法とスパッタリング法が推奨さ
れる。導電層を形成する為の素材としては、Ｓｎ、　Ｉ
ｎ、　ＴＩ、Ｐｂ等の金属又はそれらの酸化物が汎用さ
れ、金属単体を上記の方法で基板上に形成したときは、
希望に応じてその後酸化する場合もある。尚当初から酸
化物層として付着形成させる方法もあるが、最初は金属
単体又は低級酸化物の形態で被膜を形成し、しかる後加
熱酸化、陽極醸化或は液相酸化等の酸化処理を施して透
明化する手段を採用することもできる。尚上記以外にＡ
ｕｓ　Ｐｔｓ　Ａｇ等の貴金属を用いる場合もある。又
これら金属或はそれらの酸化物からなる導電層は透明性
や導電性等の要求特性に応じた層厚とするが、通常は１
００Ｘ以上、安定な導電性を与る為には、３ｏｏＸ以上
とすることが望まれる。

上記導電層は、通常単一層でもよいが、機械的強度や耐
薬品性を考慮して２以上の複数層とじて形成することも
できる。又被膜の均一性や密着性等、更には耐摩耗性等
を向上する目的で、アンダーコートやオーバーコートを
施こす場合もある。

前者の例としては、シリコン系やエポキシ系の樹脂が利
用され、後者の例としてはゼラチン、シリコン、コロー
ジョン等が利用される。又更に必要であればこれらのう
えに、更に光電導性物質の層やエレクトロ・ルミネッセ
ンス材料の層を形成する場合もある。

次に図面を用いて本発明を説明する。

第１図は本発明電極基板を用いて作製した液晶５は偏光
板を示し、偏光板５と耐透気層４との間に粘着層があっ
てもよい。第２〜５図はそれぞれ本発明液晶表示パネル
用電極基板の種々の実施態様例の断面図である。第２図
は耐透気層４が透明図は透明導電膜２と複合基板（非施
光性フィルム３＋耐透気層４）との間に、接着性を強固
にするためシランカップリング剤などのアンカー剤層を
有しており、第５図は複合基板として、他にポリエーテ
ルスルホン、ポリエステル、ポリアリレートなどの耐熱
性、耐湿性あるいは脆さなどをさらに改善するための強
化層を形成した例であり、強化層の位置は任意である。

（実施例） 以下実施例を用いて本発明を具体的に説明する。

なお、レターデシ冒ン値は偏光顕微鏡を備えたセナルモ
ンコンペンセーター（日本他科社製）を用い、ナトリウ
ムランプを光源とした。

剥離強度はＡＳＴＭ−Ｄ１８７６により、テンシロンＵ
ＴＭ−３Ｌ（東洋ボールドウィン社製）を使用、２０℃
、６５％ＲＨ，サンプル巾２５　ｍ　／　ｍでＴ型剥離
強度を測定した。

酸素透過率はＡＳＴＭ　−Ｄ、１４３４・７５により産
工試式気体透過率測定装Ｎ（理化精機工学部）を使用２
５℃、Ｏ％Ｒ）Ｉで測定した。なお、実施例中部とある
のは重量部を意味する。

実施例１ フェノキシ樹脂（ユニオン・カーバイド社製）４０部を
メチルエチルケトン／セルソルブアセテ）　（６５７３
５重量比）６０部に加熱溶解したのち、室温に冷却して
コロネートＬ（多官能イソシアナート、日本ポリウレタ
ン製）４０部を加え攪拌均一溶液を５０μのポリエステ
ルフィルム上に流延８０℃で１０分間乾燥してのちポリ
エステルフィルムから！離し金枠に固定し１６０ｃ３０
分間、熱固定して厚さ１０６μ、レターデシ蓼ン値８コ
ロナ処理を行い、このコロナ面上にアプリケーターを使
用し、ドクターナイフを用い、下記の耐透気性の高分子
樹脂溶液をギャップ２００μに塗布のち７０℃、１０分
間乾燥、更に金属製枠に固定して２００℃、１５分間熱
処理して全厚さ１２２μ（フィルムと耐透気性高分子樹
脂層との剥離強度を測定したところ、４７０９７２５■
で密着性良好で、酸素ガス透過性は０．８ｃｃ／　２４
　ｈ−ｍ”　・ａｔｍ　（２５℃、Ｏ％ＲＨ）で極めて
良好であった。

耐透気性高分子樹脂溶液（Ａ液） この複合基板の耐透気層の反対面に以下の処理条件で透
明導電膜を形成した。導電層の膜厚、ａｓｏＸ　、抵抗
値５２０Ω／ｃＩｉ、可視光線透過率４００ｍμ＝８０
％、５００ｍμ：８６％、耐液晶性、耐薬品性の良好な
ガス・バリヤー透明導電膜基板であった。

〔導電膜層処理条件〕

（析出速度：　８　Ｘ　／　ｓｅ、。

得られた電極基板を用いて第１図に示した液晶表示パネ
ルを作製した。該パネルを一２０℃から１００℃のサイ
クル試験を実施したが、空気透過による黒点の発生がな
く、試験前と同様な表示能力側が得られ、本発明電極基
板の耐透気性が認められた〇 実施例２ 厚さ５０μのポリエステルフィルム面上に実施例１と同
じＡ液をアプリケーターを使用してギャップ２００μ、
で塗布し、７０℃１０分間乾燥した。

得られた耐透気層の厚さは約１７μであった。次いで、
該耐透気層の面上に実施例１と同様のフェノキシ樹脂硬
化膜溶液を流延して８０℃、１０分間、更に１００℃、
５分間乾燥し、前記ポリエステルフィルムから剥離し、
耐透気性高分子樹脂積層フェノキシ樹脂複合膜を得た。

この複合膜を金属枠に固定し２２０℃５分間、熱処理し
た。得られた複合基板は１１９μで、リターデシ冒ン値
は６ｎｍであった。該複合基板の複合面を剥離試験を実
施したところ、５２０ｆ／２５ｍの強度を有し、可視光
線透過率は４００ｍμ：８３％、５００ｍμ二８９％で
あった。

前記の該複合基板の耐透気層の反対面に実施例１と同様
にして透明導電膜を形成したり導電層のＲＦｌｌさは４
１ｏＸ、　抵抗値ａｓｏｏ／ｉ、　可視光１ａ’ａ過率
４００　ｍｓ、７９％、５００ｍ＃、８４％、耐液晶性
、耐薬品性の良好な耐透気性能を有する電極基板であっ
た。

該電極基板で実施例１と同様に液晶表示パネルを作製し
て一り０℃〜ｌＯＯ℃のサイクル試験を実施したが、空
気の混入による黒点の発生や湿分混入による消費電力ア
ップもなく、試験前と同様な表示能力が得られた。なお
前記複合基板の耐透気層側に実施例１と同様な条件で透
明導電膜を形成して液晶表示パネルを作製した。このパ
ネルを前記条件でサイクル試験を実施したところ黒点の
発生もなく試験前と同様な表示能力が得られた。

比較例 実施例１で用いたフェノキシ樹脂硬化膜用の溶液を実施
例１と同様の条件で、ポリエステルフィルム上に流延し
、８０℃、・１０分間、更に１００℃５分間乾燥してポ
リエステルフィルムから剥離した。このフィルムを実施
例１と同様に金属製の枠に固定して１６０℃、３０分間
熱処理して厚さ１２５ルムを得た。このフィルムの酸素
ガス透過性は４５　ｃｅ／　２４”ｈ−一・ａｔｍであ
った。次いで、該非施光性フィルムの片面に実施例１と
同様の処理条件で透明導電膜を形成した。導電層の膜厚
３６０＾抵抗値ＳＯＯΩ／−１可視光線透過率４００ｍ
μ、７９％５００ｍμ、８５％、耐液晶性、耐薬品性、
耐熱性など良好な電極基板を得たが、該基板の酸素ガス
透過性はやはり４５ｏａ／２４ｂ−一・ａｔｍであった
。

該電極基板を用いて実施例１と同様に液晶表示パネルを
作製した。該パネルを一２０〜１００℃のサイクル試験
を実施したところ、空気透過による黒点が表示部に発生
し試験前に比べ表示能力が低下し、該電極基板の耐透気
性が不充分であることが判った。

実施例３ 実施例１で得られた厚さ１０５μの非施光性（レターデ
シ５ン値：８℃ｍ）フェノキシ樹脂硬化フィルムの片面
に、下記の耐透気性高分子樹脂溶液（Ｂ液）をアプリケ
ーターにより、ギャップ１５０μで塗布したのち７０℃
、１０分間乾燥更に金属製の枠に固定して２００℃、１
０分間熱処理した。得られた複合基板の厚さは１２０μ
（ガス・バリヤ一層の厚さ二約１５μ）可視光線透過率
良好（４００ｔｎμ８６％、５００ｍμ：９０％）耐熱
性、耐液晶性、気層との剥離強度を測定したところ、全
く剥離せず、凝集破壊を生じた。そして、ガス透過性は
２ｅｃ／　２４　ｈ−一・ａｔｍで極めて良好であった
。

耐透気性高分子樹脂溶液（Ｂ液） 得られた複合基板の耐透気層の反対面にテトラオクチル
チタネートの０．０８％、ｎ−ヘキサン溶液を塗布し、
１００℃、１０分間加熱してプライマー処理をし、低温
スパッタリング装置で下記条件で透明導電膜処理した。

導電膜層の厚さは２８０Ｋ、抵抗値は６１０Ω／−であ
った。

〔透明導電膜処理条件〕

弾、５００ｍμ　８４％と良好で、耐液晶性、耐薬品性
もよく、耐透気性は透明電極処理前と同じ２ｅｃ／　２
４　ｈ−ｍ”−ａｔｍであった。該電極基板を用いて液
晶表示パネルを作製して、信頼性試験を実施したところ
、試験前と同様の良好な表示能力が得られた。

実施例４ 二軸延伸されたポリエステルフィルム上に実施例３と同
じ耐透気性高分子樹脂溶液（Ｂｆｆりを塗布、乾燥し、
厚さ１６μのフィルムを得た。次いで、このフィルム上
に実施例１で用いたフェノキシ樹脂の硬化溶液を塗布、
乾燥してのちポリエステルフィルムから剥離し、金属枠
に固定２１０℃、１０分間熱処理した。得られた複合基
板は厚さ１０６μで、リターデシロン値３ｎｍであった
。該複合基板の複合面を剥離試験を実施したところ剥離
不能で凝集破壊を生じ密着性良好であった。一方、耐透
気性能は１．５ｃｃ／　２４　ｈ−ｎ／　＋、　ａｔｍ
　（２５℃、０％ＲＨ）であった。

次いで耐透気層の反対面に、実施例３と同様の条件で、
透明導電膜処理をして電極基板を得た・ターデシ習ン値
）フェノキシ樹脂硬化フィルムの片面に、下記の耐透気
性高分子樹脂溶液（Ｃ液）をアプリケーターにて塗布、
８０℃、１５分間乾燥した。この複合フィルムを金属製
の枠に固定して、１３０″ｃ１２時間の熱処理した。得
られた複合基板は厚さ１２０μ（耐透気層の厚さ：約１
５μ）レターデシ１ン値８ｎｍ可視光線透過率良好（４
００ｍｌｌ：８６％、５００ｍμ：　９０　％　）であ
った。この複合基板の耐透気層の密着性はａｓｏｔ７’
ｚ　５■、酸素ガス透過度は２ｃａ／２４　ｈ−一・ａ
ｔｍであった・次いで、耐透気層の反対面に、実施例３
と同様な条件で、透明導電膜処理をして電極基板を得た
。

耐透気性高分子樹脂溶液（Ｃ液） （三共有機合成製　ｓｍ　１　ｍ　） ムの片面に１６０Ｖの印加電圧でコロナ処理した。

一方ポリビニルアルコール（日本合成化学：コー七ノー
ルＮＨ−２０）１００部に硝酸セリウムの存在下、グリ
シジルメタクリレ−Ｆ２Ｏ部、ブチルアタリレート１０
部をグラフトした共重合水溶液（ｌ１ｗｔ％）１００部
にスミテックスレジンＭ３（メチロールメラミン縮合物
：住友化学工業）２．５部、及びスミテックスアクセレ
ーターＭＸ（住友のコロナ処理面上に流延８０℃５分間
乾燥したのち、１５０℃、１０分間熱処理して厚さ１１
７μ（ガス、バリヤ一層の厚さ：約１２μ）、レターデ
シ冒ン値７ｎｍｓ可視光線透過率良好（４００ｍμ：８
２は３４２ｆｒ／２５ｍで酸素ガス透過度２．５　ｅｏ
　／　２４ｈｒ−一・ａｔｍであった。次いで、耐透気
層の反対面に実施例３と同様な条件で透明導電膜処理を
して電極基板を得た。

実施例７ ポリエーテルスルホン（ｖｉａｔｎｅｘ　３００　Ｐ　
Ｉ　ＣＩジャパン）２０部をジメチルホルムアミド８０
部に加え、９０〜１００℃、６０分攪拌溶解し室温まで
冷却してのち、５０μのポリエステルフィルム上に流延
、８０℃１０分間乾燥した。次いで、該乾式成膜したポ
リエーテルスルホンのフィルムをボルムを得た。このフ
ィルムの片面に、１６０Ｖの印加電圧でコロナ放電処理
して、この処理面上に、下記の耐透気性高分子樹脂溶液
（Ｄ液）をアプリケーターで塗布し７０℃、１０分間、
更に１５０℃、１０分間熱処理して、耐透気層１５μ積
層の複合基板を得た。該複合基板の酸素透過度は１．７
ｃＣ／２４　ｈ　−ｎ？　・ａｔｍで剥離強度は１５０
ｆ／２５５ｗ＋であった。

耐透気性高分子樹脂溶液（Ｄ液） 次いで耐透気層の反対面に実施−８１３と同様の条件で
透明導電膜処理をして電極基板を得た。

実施例８ リレート（ボリアリレート：太平化学１３０μ）の片面
に、１６０ｖの６加電圧でコ四す放電処理して・、この
処理面上に、実施例７で用いた耐透気性高分子樹脂溶液
（Ｄ液）を塗布、乾燥して厚さ１４５μ（耐透気層＝１
５μ）の複合基板を得た。

該基板の密着性は７８ｆ７２５ｍ−酸素透過度は２ｃｅ
／２４　ｈ−一・ａｔｍであった。次いで実施例３と同
様の条件で透明導電膜処理をして電極基板を得た。

（発明の効果） 以上、かかる構成よりなる本発明液晶表示パネル用電極
基板は、 （１）光学的に可視光領域で透明。

（２）光学的に等方性で、着色干渉稿が発生しない◇（
３）表面が平滑で硬い。

（４）液晶組立などの製造工程に耐える耐薬品性、耐熱
性（１００Ｃ以上）があること。

（５）　　シール材との密着力が良く、長期に亘って気
密性があること。

（６）耐透湿性があること。

（７）耐透気性があること。

（８）耐液晶性があり、長期に亘って安定なこと。

などの特長を有しているため、本発明基板を用いた液晶
表示パネルは、屋内外の苛酷な条件や長期間の使用に耐
えることができ、特に耐透気性に優れているため、空気
の混入による黒点の発生がなく、そのことによって初め
て、プラスチック基板を用いた液晶表示パネルとして市
場に供し得ることができたのである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明電極基板を用いて作製した液晶表示パネ
ルの断面図、第２〜５図は本発明電極基板の種々の実施
態様例の断面図である。 １：液晶 ４：耐透気層 ５：偏光板 ６：アンカー剤層 ７：強化層

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）レターデーション値が１００ｍμ以下の非旋光性
   フィルムまたはシートの片面または両面に高分子樹脂層
   を塗布または積層した可視光線透過率６０％以上の複合
   基板の少くとも片面に透明電極を設けてなる液晶表示パ
   ネル用電極基板であって、前記高分子樹脂層が酸素透過
   率３０ｃｃ／２４ｈ・ｍ＾２・ａｔｍ以下、かつ非旋光
   性フィルム又はシートとの剥離強度が５０ｇ／２５ｍｍ
   以上であることを特徴とする液晶表示パネル用電極基板
   。
2. （２）高分子樹脂層がアクリロニトリル成分含有重合体
   、ビニルアルコール成分含有線状重合体、ビニルアルコ
   ール成分含有グラフト重合体、ハロゲン化ビニリデン成
   分６０〜９０モル％含有した共重合体より選ばれた一種
   または二種以上である特許請求の範囲第（１）項記載の
   液晶表示パネル用電極基板。
3. （３）非旋光性フィルムまたはシートあるいは高分子樹
   脂層と透明電極との間にアンカー剤が存在している特許
   請求の範囲第（１）項記載の液晶表示パネル用電極基板
   。
4. （４）高分子樹脂層がアクリロニトリル／メタクリレー
   ト（＝５０〜９８／５０〜２モル％）共重合体である特
   許請求の範囲第（１）項記載の液晶表示パネル用電極基
   板。