JP3151051B2 - 光学用積層シートの製造法 - Google Patents
光学用積層シートの製造法Info
- Publication number
- JP3151051B2 JP3151051B2 JP14221392A JP14221392A JP3151051B2 JP 3151051 B2 JP3151051 B2 JP 3151051B2 JP 14221392 A JP14221392 A JP 14221392A JP 14221392 A JP14221392 A JP 14221392A JP 3151051 B2 JP3151051 B2 JP 3151051B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- resin
- active energy
- sheet
- energy ray
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Description
ぐれた光学用積層シート、殊に液晶表示パネル製造用の
電極基板に適した光学用積層シートを、工業上有利に製
造する方法に関するものである。
来はガラスが用いられていたが、薄型にできないこと、
耐衝撃性が劣ること、量産化しにくいことなどの問題点
があるため、最近ではプラスチックス基板を用いること
が多くなっており、本出願人においても以下に述べるよ
うないくつかの出願を行っている。
には、ポリカーボネート系樹脂等のシートからなるレタ
ーデーション値30nm以下の基材層の少なくとも片面に
水性アンカーコート層を設けた後、そのアンカーコート
層の上に耐透気性樹脂または/および架橋性樹脂硬化物
からなる単層または複層の保護層を設けた液晶表示パネ
ル用電極基板が示されている。
気性合成樹脂フィルム層と架橋性樹脂硬化物層との積層
体同士が、それぞれの耐透気性合成樹脂フィルム層面が
対向する状態で接着剤層を介して積層一体化された構成
を有する液晶表示パネル用電極基板が示されている。
製膜法により形成された耐透気性合成樹脂フィルム層の
両面に、その耐透気性合成樹脂フィルム層と反応しうる
架橋剤を使用した架橋性樹脂硬化物層を流延法により直
接形成させるようにした液晶表示パネル用電極基板の製
造法が示されている。
剤性を有しない樹脂層を有するレターデーション値30
nm以下の基材シートの樹脂層側に、アルコール可溶性紫
外線硬化型接着剤層または水系熱硬化型接着剤層を積層
し、さらにその接着剤層上に剥離性シートを積層した液
晶表示パネル製造用の貼着型積層シートが示されてお
り、基材シートの例として、ポリカーボネート等の樹脂
シート/アンカーコーティング層/耐透気性合成樹脂層
/フェノキシエーテル系架橋重合体層の層構成を有する
シートがあげられている。
ル状に巻回可能な電極支持フィルムの片面に透明電極を
設けた構成を有する透明電極付き電極支持フィルムの電
極支持フィルム側を、レターデーション値が80nm以
下、光線透過率が60%以上の母材に貼着により積層一
体化した透明電極付き液晶セル基板が示されており、電
極支持フィルムの例として、樹脂フィルム層/アンカー
コーティング層/架橋性樹脂硬化物層、樹脂フィルム層
/アンカーコーティング層/耐透気性合成樹脂フィルム
層/架橋性樹脂硬化物層、架橋性樹脂硬化物層/耐透気
性合成樹脂フィルム層/アンカーコーティング層/樹脂
フィルム層/アンカーコーティング層/耐透気性合成樹
脂フィルム層/架橋性樹脂硬化物層、架橋性樹脂硬化物
層/耐透気性合成樹脂フィルム層/接着剤層/耐透気性
合成樹脂フィルム層/架橋性樹脂硬化物層などの層構成
を有するフィルムがあげられている。
板を液晶表示パネル製造用の電極基板として用いる場合
は、架橋性樹脂硬化物層上にITO等の透明電極を形成
させ、さらにその上に配向膜を設けてから、液晶セルに
組み立てる。この場合、基板間に封じ込める液晶がTN
(ツイステド・ネマチック)液晶である場合には、透明
電極形成側の基板表面の多少の凹凸は製品品質にほとん
ど影響を及ぼさない。というのは、TN液晶を用いた液
晶セルから組み立てた液晶表示パネルは無彩色であっ
て、濃淡さえはっきりすればパネルとして合格となるか
らである。
STN(スーパー・ツイステド・ネマチック)液晶であ
る場合には、基板間の間隙が5〜6μm 程度にすぎない
にもかかわらずSTN液晶によりたとえば270゜程度
のツイストがなされるため、透明電極形成側の基板表面
にわずかの凹凸があっても表示に紫、緑などの色がつい
て画面が非常に見にくくなるという事態を生じ、この点
がプラスチックス基板を用いた液晶表示パネルの最大の
弱点となっていた。上に引用した本出願人の出願にかか
る電極基板も、この問題点については充分な解決がなさ
れていなかった。
面平滑性の極めてすぐれた光学用積層シート、殊に液晶
表示パネル製造用の電極基板に適した光学用積層シート
を、工業上有利に製造する方法を提供することを目的と
するものである。
トの製造法は、単層または複層の光等方性シート(1)と
平滑面を有する平滑化鋳型材(3) との間隙に、エポキシ
樹脂またはこれとポリイソシアネート化合物とを配合し
た活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の樹脂液(2a)を介
在させて該樹脂液(2a)が両者間に層状に挟持されるよう
にし、ついでその挟持層(2b)の厚さを制御しつつ活性エ
ネルギー線の照射によりその挟持層(2b)を硬化させて活
性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) となすことを特徴
とするものである。
ト」、「フィルム」、「層」とあるのはいずれも薄層物
という意味であり、厚さを限定するものではない。
脂層、基材層、架橋性樹脂硬化物層、あるいはこれらを
組み合わせた積層物があげられる。積層物である場合の
光等方性シート(1) の層構成の例は、耐透気性樹脂層/
耐透気性樹脂層、耐透気性樹脂層/基材層、耐透気性樹
脂層/基材層/耐透気性樹脂層、耐透気性樹脂層/基材
層/耐透気性樹脂層/架橋性樹脂硬化物層、架橋性樹脂
硬化物層/耐透気性樹脂層/基材層/耐透気性樹脂層/
架橋性樹脂硬化物層などである。なお積層構成の場合
は、必要に応じ層間にアンカーコーティング層や接着剤
層を設けることができる。これらの中では、その少なく
とも表面層が耐透気性樹脂層である単層または複層の光
等方性シートが特に重要である。
しては、たとえば、アクリロニトリル成分、ビニルアル
コール成分またはハロゲン化ビニリデン成分を50モル
%以上含有する重合体から形成された層があげられ、特
にポリビニルアルコールまたはその共重合変性物あるい
はグラフト物、エチレン含量が15〜50モル%のエチ
レン−ビニルアルコール共重合体など、水酸基を有する
ポリマーが重要である。
れ、その酸素透過率(ASTM D-1434-75に準じて測定)が
30cc/24hr・m2・atm 以下、殊に20cc/24hr・m2・
atm以下さらには10cc/24hr・m2・atm 以下であるこ
とが望ましい。耐透気性樹脂層の厚さは、1〜50μm
、殊に2〜20μm の範囲に設定するのが適当であ
る。
ト、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテルスルホ
ン、ポリスルホン、ポリアリレート、アモルファスポリ
オレフィン、ポリパラバン酸系樹脂、ポリアミドなどが
用いられる。
とが望ましい。基材層は流延法や押出法により得られ、
その厚さは30μm 〜3mm程度とすることが多い。
性樹脂としては、フェノキシエーテル型架橋性樹脂、エ
ポキシ樹脂、アクリル樹脂、アクリルエポキシ樹脂、メ
ラミン樹脂、フェノール樹脂またはウレタン樹脂などが
あげられる。
記の化1で示されるフェノキシエーテル型重合体であ
る。
素数1〜3の低級アルキル基またはBr 、R7 は炭素数
2〜4の低級アルキレン基、mは0〜3の整数、nは2
0〜300の整数をそれぞれ意味する。)
ある多官能性化合物を架橋反応させると、フェノキシエ
ーテル型架橋重合体が得られる。架橋重合体を得るため
に反応させる架橋剤(多官能性化合物)としては、水酸
基との反応活性が高い基、例えば、イソシアネート基、
カルボキシル基、カルボキシル基における反応性誘導基
(たとえばハライド、活性アミド、活性エステル、酸無
水物基等)、メルカプト等を同一または異なって2以上
有する化合物などが用いられ、特にポリイソシアネート
が重要である。
に少なくとも3個以上のアクリロイルオキシ基または/
およびメタアクリロイルオキシ基を含有する化合物(以
下、多官能(メタ)アクリロイルオキシ基含有化合物と
いう)を主成分とする多官能不飽和単量体または/およ
びその初期ラジカル反応物を主成分とする組成物をあげ
ることができる。特に好ましいのは、分子中に少なくと
も3個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を含有する
多官能不飽和単量体を、全不飽和単量体に対して50重
量%以上、好ましくは70重量%、特に好ましくは90
重量%以上含有する不飽和単量体混合物または/および
その初期ラジカル反応物から成る組成物である。
構成する活性エネルギー線硬化型樹脂としては、光重合
性を有するプレポリマーまたは/およびモノマーに、必
要に他の単官能または多官能モノマー、各種ポリマー、
光重合開始剤、増感剤を配合した樹脂組成物が用いられ
る。
リエステルアクリレート、ポリエステルウレタンアクリ
レート、エポキシアクリレート、ポリオールアクリレー
トなどが例示され、光重合性モノマーとしては、単官能
アクリレート、2官能アクリレート、3官能以上のアク
リレートなどが例示される。
マーとしては、上記のほか、下記の化2で示されるホス
ファゼン系樹脂も好適に用いられる。
型樹脂であるときは、通常光開始剤や増感剤を少量併用
するが、樹脂の種類によってはこれらを配合しないで紫
外線照射しても硬化する場合がある。光開始剤としては
アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーケト
ン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエーテル、ベン
ジルケタール類、チオキサントン類をはじめとする種々
の光硬化剤が用いられ、増感剤としてはアミン類、ジエ
チルアミノエチルメタクリレートをはじめとする種々の
増感剤が用いられる。
ルギー線硬化型樹脂硬化層(2) として、エポキシ樹脂を
配合した活性エネルギー線硬化型樹脂から形成される硬
化層を用いる。
する脂肪族系エポキシ樹脂、たとえば、ウレタン変性エ
ポキシ樹脂、エポキシ樹脂骨格を有する高分子ポリエー
テルポリオール、脂肪族ポリグリシジルエーテルを主成
分とする低粘度エポキシ樹脂、ポリグリコールジグリシ
ジルエーテル、水添ビスフェノールを主体としたエポキ
シ樹脂などが例示される。
線硬化型樹脂硬化層(2) 全体に対し、2〜50重量%程
度を占めることが好ましく、その配合量が余りに少ない
ときは脆くてひび割れを生じやすくなり、一方許容範囲
を越えて余りに多いときには平滑性を損なうこととな
る。
は、特に単層または複層の光等方性シート(1) の少なく
とも表面層が耐透気性樹脂層で構成されているときは、
エポキシ樹脂と共にポリイソシアネート化合物を配合し
た活性エネルギー線硬化型樹脂から形成される硬化層で
あることが好ましい。
は、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシア
ネート、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート
またはその変性物、イソホロンジイソシアネート、トリ
ジンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、テト
ラメチルキシレンジイソシアネート、p−フェニレンジ
イソシアネートをはじめとする各種のポリイソシアネー
トあるいはこれらのポリイソシアネートのアダクトやプ
レポリマーがあげられ、殊に、ヘキサメチレンジイソシ
アネートをはじめとする比較的長鎖の脂肪族ポリイソシ
アネートの誘導体が好ましい。
性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) 全体に対し、2〜
50重量%程度、殊に3〜30重量%を占めることが好
ましく、その配合量が余りに少ないときは耐透気性樹脂
層との接着性改善効果が必ずしも充分ではなく、一方許
容範囲を越えて余りに多いときには、活性エネルギー線
硬化型樹脂硬化層(2) の硬度が小さくなり、また耐透気
性樹脂層との接着性がかえって低下して、実用性が損な
われる。
し必要なら少量の溶剤を併用しても差し支えない。
厚さは適宜に設定できるが、1〜20μm 、殊に2〜1
0μm とすることが多い。
には次の第1の方法により製造される。すなわち、光等
方性シート(1) と平滑フィルムからなる平滑化鋳型材
(3) との間隙にエポキシ樹脂(またはこれとポリイソシ
アネート化合物)を配合した活性エネルギー線硬化型樹
脂組成物の樹脂液(2a)を供給して介在させることによ
り、該樹脂液(2a)が両者間に層状に挟持されるようにす
る。光等方性シート(1) は製膜用ロール(4a)に、平滑化
鋳型材(3) は製膜用ロール(4b)にそれぞれ予め供給して
おき、両製膜用ロール(4a), (4b)間の間隙は所定の値に
調整して、挟持層(2b)の厚さが制御されるようにしてお
く。製膜用ロール(4a), (4b)は必要に応じ保温可能に構
成しておく。
記の挟持層(2b)を硬化させて活性エネルギー線硬化型樹
脂硬化層(2) となす。活性エネルギー線としては、紫外
線、電子線などがあげられる。活性エネルギー線照射時
の積算光量や線量は、活性エネルギー線硬化型樹脂硬化
層(2) の厚さなどを考慮して最適範囲に設定し、平滑化
鋳型材(3) の円滑剥離性や活性エネルギー線硬化型樹脂
硬化層(2) の耐溶剤性を確保するようにする。
ネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) /平滑化鋳型材(3) よ
りなる積層体が得られるので、爾後の任意の段階でその
積層体から平滑化鋳型材(3) を剥離除去し、光等方性シ
ート(1) /活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) より
なる積層シートを得る。
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートシート、二軸延伸
ポリブチレンテレフタレートシート、二軸延伸ポリエチ
レンナフタレートシート等の二軸延伸ポリエステルフィ
ルムや、二軸延伸ポリプロピレンフィルムなどが用いら
れ、コストおよび平滑性を加味すると二軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフィルムが特に重要である。この場
合、その表面がコロナ放電や火炎処理されていると、爾
後の工程での平滑化鋳型材(3) の剥離が困難となるの
で、そのような処理を施さないものを用いるように留意
する。
0.15μm 以下、好ましくは 0.1μm以下、さらには0.05
μm 以下であることが要求され、表面粗度が0.15μm よ
りも大きくなると所期の平滑性を有する光学用積層シー
トが得られなくなる。上記の二軸延伸ポリエチレンテレ
フタレートフィルムのうち填料を配合しないものは、二
軸延伸により表面平滑性が顕著に向上するので、平滑性
を極限にまで上げることができる。
る第2の方法は、光等方性シート(1) または平滑フィル
ムからなる平滑化鋳型材(3) の一方にエポキシ樹脂(ま
たはこれとポリイソシアネート化合物)を配合した活性
エネルギー線硬化型樹脂組成物の樹脂液(2a)を流延して
おき、該流延層に平滑化鋳型材(3) または光等方性シー
ト(1) を被覆していくことにより該樹脂液(2a)が両者間
に層状に挟持されるようにしながら、ロールの間隙によ
り挟持層(2b)の厚さを制御しつつ、活性エネルギー線の
照射により挟持層(2b)を硬化させて活性エネルギー線硬
化型樹脂硬化層(2) となす方法である。
の方法は、光等方性シート(1) 上にエポキシ樹脂(また
はこれとポリイソシアネート化合物)を配合した活性エ
ネルギー線硬化型樹脂組成物の樹脂液(2a)を流延してお
き、該流延層に平滑化鋳型材(3) としての平滑加工した
ガラスを押し当てることにより該樹脂液(2a)が両者間に
層状に挟持されるようにしながら、挟持層(2b)の厚さを
制御しつつ、活性エネルギー線の照射により挟持層(2b)
を硬化させて活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) と
なす方法である。この方法においては、使用したガラス
を反復使用する。
活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) の自由面の表面
粗度は、平滑化鋳型材(3) の表面平滑性の程度などに応
じ、0.5μm 以下、好ましくは 0.2μm 以下、さらに好
ましくは 0.1μm 以下とすることが望ましい。一般に、
溶融押出フィルムの表面粗度は100μm 厚のフィルム
で2〜3μm 、流延製膜フィルムの表面粗度は100μ
m 厚のフィルムで 0.5〜1μm であるから、活性エネル
ギー線硬化型樹脂硬化層(2) の自由面の表面粗度は常識
外とも言えるほど小さいものである。
型樹脂硬化層(2) の耐熱性、耐溶剤性、透明電極形成性
もすぐれたものとなり、エポキシ樹脂と共にポリイソシ
アネート化合物を配合したときは耐透気性樹脂層(光等
方性シート(1) の表面層)に対する該硬化層(2) の接着
性もすぐれたものとなる。
に用いることを考慮して、その全体のレターデーション
値が60nm以下、好ましくは30nm以下、可視光線透過
率が60%以上、好ましくは70%以上であることが望
ましい。
ルギー線硬化型樹脂硬化層 (2)よりなる層構成の積層シ
ートの活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) 上に透明
電極を設け、さらにその上から配向膜を形成すれば、液
晶セル基板が作製できる。
タリング法、イオンプレーティング法、金属溶射法、金
属メッキ法、化学蒸着法、スプレー法などが採用され、
特にスパッタリング法が重要である。透明電極の材質と
しては、主としてSn 、In、Ti 、Pb 、Tb 等の金
属またはそれらの酸化物が用いられ、透明電極の層厚
は、少なくとも100オングストローム、さらには20
0オングストローム以上とするのが通常である。
ートは、液晶表示パネル製造用の電極基板として特に重
要であるが、位相差板用部材、偏光板用部材、光ディス
ク、光カードなどの用途にも適用することができる。
たり、光等方性シート(1) (殊に耐透気性樹脂層)との
接着性が劣ったりする傾向があるので、その積層に際し
ては光等方性シート(1) (殊に耐透気性樹脂層)上に予
めアンカーコーティングを施さねばならないが、そのよ
うにしても必ずしも接着性が充分でないことが多い上、
使用可能なアンカーコーティング剤が著しく制約される
という不利がある。
ー線硬化型樹脂硬化層(2) にエポキシ樹脂またはこれと
ポリイソシアネート化合物とを配合しているので、表面
硬度の調整がなされる上、予めアンカーコーティング層
を形成させておかなくても、光等方性シート(1) (殊に
耐透気性樹脂層)に対する接着性が顕著に向上してい
る。
ートにあっては、積層シートの表面に位置する活性エネ
ルギー線硬化型樹脂硬化層(2) の自由面の表面平滑度を
極めて高くすることができるので、たとえばこれをST
N液晶を封入する液晶セルの電極基板として用いた場合
であっても、表示に紫、緑などの色がついて画面が非常
に見にくくなるという事態を生じない。
る。以下「部」とあるのは重量部である。
例を示した工程図である。図2は実施例1により得られ
た光学用積層シートの断面図である。
ト、(7) リップ状の吐出口、(4a), (4b)は1対の製膜用
ロールである。(8) は紫外線照射装置、(9) はニップロ
ール、(10)は平滑化鋳型材(3) を剥離するための剥離用
ロール、(S) は光学用積層シートである。
ト(厚さ110μm 、レターデーション値12nm)の片
面に水溶性四級化エステルウレタン系アンカーコーティ
ング剤を塗布、乾燥して厚さ 0.5μm のアンカーコーテ
ィング層を設けた後、そのアンカーコーティング層の上
から、エチレン含量32モル%のエチレン−ビニルアル
コール共重合体20部、水45部、n−プロパノール5
0部、メチロール化メラミン (住友化学工業株式会社製
スミテックM−3)4部よりなる組成の樹脂液を流延
し、温度110℃の乾燥機中を通過させて乾燥させた。
これにより、厚さ8μm の耐透気性樹脂層が形成され
た。
トシートの他面にも厚さ 0.5μm のアンカーコーティン
グ層を設け、さらにそのアンカーコーティング層の上か
ら上記と同じ厚さ8μm の耐透気性樹脂層を設けた。
フェノキシエーテル樹脂(東都化成株式会社製)40
部、メチルエチルケトン40部、セロソルブアセテート
20部、トリレンジイソシアネートとトリメチロールプ
ロパンとのアダクト体の75%溶液(日本ポリウレタン
株式会社製コロネートL)40部よりなる組成の硬化性
樹脂組成物をアプリケーターを使用して塗布し、80℃
で4分間乾燥してから、130℃で20分間加熱して、
厚さ10μm のフェノキシエーテル樹脂系の架橋性樹脂
硬化物層を形成させた。
ーティング層/基材層/アンカーコーティング層/耐透
気性樹脂層/架橋性樹脂硬化物層の層構成を有する光等
方性シート(1) が得られた。
μm 、表面粗度0.04μm のコロナ放電処理していない二
軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人株式
会社製Oタイプ)を準備した。
樹脂「V−2550P」100部に、エポキシ樹脂の一
例であるウレタン変性エポキシ樹脂(東都化成株式会社
製の「ZX0101」)10部と、ポリイソシアネート
化合物の一例である下記の化3で示される日本ポリウレ
タン工業株式会社製の「コロネート2094」(粘度10
000 cp/25℃)6部とを加え、さらにベンゾフェノン 0.
1部を加えて混合することにより、活性エネルギー線硬
化型樹脂組成物の樹脂液(2a)を調製した。
ャケット(6) に熱媒を送って内容物を約30℃に保温す
ると共に、脱気を行った。
製膜用ロール(4a), (4b)の間隙に吐出口(7) から樹脂液
(2a)を吐出した。
記の光等方性シート(1) および平滑化鋳型材(3) をそれ
ぞれ供給してあり、吐出口(7) から吐出した樹脂液(2a)
が光等方性シート(1) の耐透気性樹脂層面(架橋性樹脂
硬化物層とは反対側の面)と平滑化鋳型材(3) の平滑面
との間に挟持されて挟持層(2b)となるようにした。
トを紫外線照射装置(8) にて下記の条件で紫外線照射
後、平滑化鋳型材(3) を剥離除去した。紫外線照射によ
り挟持層(2b)は硬化して、活性エネルギー線硬化型樹脂
硬化層(2) となった。これにより、活性エネルギー線硬
化型樹脂硬化層(2) /光等方性シート(1) の層構成を有
する光学用積層シート(S) が得られた(図2参照)。な
お平滑化鋳型材(3) の剥離除去は、紫外線照射後にすぐ
行わずに、一旦巻取機に巻き取ってから、後日行うよう
にしてもよい。
項目の意味は下記の通りである。 ・厚さ (2) 厚は、形成したエネルギー線硬化型樹脂硬化層(2)
の厚さ。 ・剥離性 平滑化鋳型材(3) としての二軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフィルムの 剥離の円滑さ。(○:良好、×:不良) ・粗度 活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) の自由面の表面
平滑度を、光の干渉を利用した非接触式表面粗さ計によ
り測定。 ・R値 光学用積層シート(S) 全体のレターデーション値。 ・透過率 光学用積層シート(S) 全体の可視光線透過率。 ・硬度 鉛筆硬度 ・耐溶剤性 光学用積層シート(S) を44±1℃のジメチルアセトア
ミド中に5分間浸漬して、活性エネルギー線硬化型樹脂
硬化層(2) の溶解の有無を観察した。(○:異常なし、
×:溶解) ・接着性 JIS K5400碁板目テープ法に基いて測定した。
積層シート(S) の活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層
(2) 面に、スパッタリング法により厚さ500オングス
トロームのITO層からなる透明電極を直接形成させ
た。以下このシートを電極基板として用いて、常法に従
い、配向膜の形成とラビング処理、液晶セルの組み立
て、位相差板および偏光板の積層を行い、液晶表示パネ
ルを作製した。得られた液晶表示パネルは、表示に着色
が見られず、ガラスを基板として用いた液晶表示パネル
と遜色のない性能を有していた。
のものを用いたほかは実施例1を繰り返した。条件およ
び結果を次に表2に示す。「UV」とあるのは新日鉄化
学株式会社製のエポキシアクリル樹脂「V−2550
P」、「UV/Epo/NCO配合比」は重量比である。
製の「ZX0101」、粘度3000 cp/50℃、エポキシ当
量1300g/eq) Epo-2 エポキシ樹脂骨格を有する高分子ポリエーテル
ポリオール(東都化成株式会社製の「YU−100」、
水酸基価 150〜200 mgKOH/g 、粘度 2000〜6000 cp/25
℃) Epo-3 脂肪族ポリグリシジルエーテルを主成分とした
低粘度エポキシ樹脂(東都化成株式会社製の「YX−3
01」、エポキシ当量 135〜150 g/eq) Epo-4 ポリグリコールジグリシジルエーテル(東都化
成株式会社製の「PG−207S」、エポキシ当量 280
〜300 g/eq、粘度40〜50 cp/25℃) Epo-5 水添ビスフェノールを主体としたエポキシ樹脂
(東都化成株式会社製の「ST−1000」、エポキシ
当量 200〜220 g/eq、粘度1000〜2000 cp/25℃)
業株式会社製の「コロネート2094」、粘度 10000 c
p/25℃) NCO-2 ヘキサメチレンジイソシアネート系低粘度脂肪
族ポリイソシアネート(日本ポリウレタン工業株式会社
製の「コロネートDC−2797」、粘度100 cp/25
℃) NCO-3 ヘキサメチレンジイソシアネートの重合度1〜
3の混合物(日本ポリウレタン工業株式会社製の「コロ
ネートHX」、粘度1700〜3600 cp/25℃) NCO-4 トリレンジイソシアネートとトリメチロールプ
ロパンとのアダクト体(日本ポリウレタン工業株式会社
製の「コロネートL」、固形分75重量%、稀釈剤は酢酸
エチル、粘度1000〜1700 cp/25℃)
は、○、□、△、×の4段階で判定した。○と□が合格
である。可撓性の○は、光学用積層シート(S) の両端を
手でつかんで180゜曲げたときに異常がないことを意
味する。
レートシート(鐘淵化学株式会社製、厚さ100μm 、
レターデーション値15nm)を用い、活性エネルギー線
硬化型樹脂として出光石油化学株式会社製のホスファゼ
ン系硬化性樹脂「出光PPZ」を用い、ポリイソシアネ
ート化合物の配合を省略したほかは、実施例1を繰り返
した。得られた光学用積層シート(S) の活性エネルギー
線硬化型樹脂硬化層(2) 面の表面粗度は 0.1μm 以下で
あった。
シートにあっては、活性エネルギー線硬化型樹脂を用い
ているにもかかわらず、エポキシ樹脂(またはこれとポ
リイソシアネート化合物)の配合により表面硬度が適度
に調整されている上、耐溶剤性もすぐれている。ポリイ
ソシアネート化合物を配合したときは、アンカーコーテ
ィング層を設けなくても光等方性シート(1) (殊に耐透
気性樹脂層)との接着性が良好である。
積層シートにあっては、表面の平滑性が極めてすぐれて
いるので、たとえばこれをSTN液晶を封入する液晶セ
ルの電極基板として用いた場合であっても、表示に紫、
緑などの色がついて画面が非常に見にくくなるという事
態を生じない。
STN液晶方式の普及には目を見張るものがあるが、本
発明により、その用途にガラス基板に代えてプラスチッ
クス基板を用いても、表示特性が遜色のないものとなる
のである。
るにもかかわらず、その製造工程がシンプルであるとい
う工業上の有利さを有する。
一例を示した工程図である。
面図である。
Claims (4)
- 【請求項1】単層または複層の光等方性シート(1) と平
滑面を有する平滑化鋳型材(3) との間隙に、エポキシ樹
脂またはこれとポリイソシアネート化合物とを配合した
活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の樹脂液(2a)を介在
させて該樹脂液(2a)が両者間に層状に挟持されるように
し、ついでその挟持層(2b)の厚さを制御しつつ活性エネ
ルギー線の照射によりその挟持層(2b)を硬化させて活性
エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) となすことを特徴と
する光学用積層シートの製造法。 - 【請求項2】積層シートの活性エネルギー線硬化型樹脂
硬化層(2) の自由面の表面粗度が 0.5μm 以下で、積層
シート全体のレターデーション値が60nm以下、可視光
線透過率が60%以上である請求項1記載の製造法。 - 【請求項3】単層または複層の光等方性シート(1) の少
なくとも表面層が耐透気性樹脂層で構成されている請求
項1または2記載の製造法。 - 【請求項4】エポキシ樹脂が、可撓性を有する脂肪族系
エポキシ樹脂である請求項1、2または3記載の製造
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14221392A JP3151051B2 (ja) | 1992-05-07 | 1992-05-07 | 光学用積層シートの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14221392A JP3151051B2 (ja) | 1992-05-07 | 1992-05-07 | 光学用積層シートの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05313150A JPH05313150A (ja) | 1993-11-26 |
JP3151051B2 true JP3151051B2 (ja) | 2001-04-03 |
Family
ID=15310036
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14221392A Expired - Fee Related JP3151051B2 (ja) | 1992-05-07 | 1992-05-07 | 光学用積層シートの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3151051B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08267689A (ja) * | 1995-02-02 | 1996-10-15 | Teijin Ltd | 透明積層フィルム |
TW520452B (en) * | 1997-11-17 | 2003-02-11 | Sumitomo Chemical Co | Manufacturing method for stacked optical film and intermediate body of stacked optical film thereof |
JP4562227B2 (ja) * | 2000-01-31 | 2010-10-13 | 日東電工株式会社 | 光学用樹脂基板の製造方法 |
-
1992
- 1992-05-07 JP JP14221392A patent/JP3151051B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05313150A (ja) | 1993-11-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0726579B1 (en) | Transparent conductive sheet | |
JP3151051B2 (ja) | 光学用積層シートの製造法 | |
JP3160072B2 (ja) | 光学用積層シートの製造方法 | |
JPS6141122A (ja) | 液晶表示パネル用電極基板 | |
JP3098304B2 (ja) | 光学用積層シートの製造方法 | |
JP3488012B2 (ja) | プラスチックス基板 | |
JP3045579B2 (ja) | 光学用積層シートの製造法 | |
JP3098303B2 (ja) | 光学用積層シートの製造法 | |
JP3088814B2 (ja) | 光学用積層シートの製法 | |
JP3040859B2 (ja) | 光学用積層シートの製造方法 | |
JPH10119162A (ja) | 光学用積層シート | |
JP3090988B2 (ja) | 光学用積層シートの製造法 | |
JP3326211B2 (ja) | 偏光板の製造法 | |
JP3326212B2 (ja) | 偏光板の製造法 | |
WO1995000877A1 (fr) | Feuille optique stratifiee et sa production | |
WO1995000875A1 (fr) | Feuille optique stratifiee et sa production | |
WO1995000876A1 (fr) | Couche laminee optique et production de cette couche | |
JP2645519B2 (ja) | 透明電極付き液晶セル基板の製造法 | |
JP3190076B2 (ja) | 位相差補償板の製造法 | |
JPH07128649A (ja) | 光等方性積層体 | |
WO1995019579A1 (fr) | Feuille protectrice destinee a la production d'une plaque polarisante, et plaque polarisante | |
JP2655326B2 (ja) | 液晶表示パネル用の基板 | |
JPH0999515A (ja) | 反射防止性ハードコートフィルム | |
JP3406134B2 (ja) | 光学用積層シート | |
JPH05313012A (ja) | カラーフィルターの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20001226 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080119 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090119 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090119 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100119 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110119 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110119 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120119 Year of fee payment: 11 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |