JP3088814B2 - 光学用積層シートの製法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、表面平滑性の極めてす
ぐれた光学用積層シート（殊に液晶表示パネル製造用の
電極基板に適した光学用積層シート）を工業上有利に製
造する方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示用透明電極の基板としては、従
来はガラスが用いられていたが、薄型にできないこと、
耐衝撃性が劣ること、量産化しにくいことなどの問題点
があるため、最近ではプラスチックス基板を用いること
が多くなっており、本出願人においても以下に述べるよ
うないくつかの出願を行っている。なお、これらの出願
における架橋性樹脂硬化物層とは熱架橋性樹脂層の意味
である。

【０００３】たとえば、特開昭６３−７１８２９号公報
には、ポリカーボネート系樹脂等のシートからなるレタ
ーデーション値３０nm以下の基材層の少なくとも片面に
水性アンカーコート層を設けた後、そのアンカーコート
層の上に耐透気性樹脂または／および架橋性樹脂硬化物
からなる単層または複層の保護層を設けた液晶表示パネ
ル用電極基板が示されている。

【０００４】特開昭６４−５００２１号公報には、耐透
気性合成樹脂フィルム層と架橋性樹脂硬化物層との積層
体同士が、それぞれの耐透気性合成樹脂フィルム層面が
対向する状態で接着剤層を介して積層一体化された構成
を有する液晶表示パネル用電極基板が示されている。

【０００５】特開昭６４−５００２２号公報には、流延
製膜法により形成された耐透気性合成樹脂フィルム層の
両面に、その耐透気性合成樹脂フィルム層と反応しうる
架橋剤を使用した架橋性樹脂硬化物層を流延法により直
接形成させるようにした液晶表示パネル用電極基板の製
造法が示されている。

【０００６】特開平２−１３７９２２号公報には、耐溶
剤性を有しない樹脂層を有するレターデーション値３０
nm以下の基材シートの樹脂層側に、アルコール可溶性紫
外線硬化型接着剤層または水系熱硬化型接着剤層を積層
し、さらにその接着剤層上に剥離性シートを積層した液
晶表示パネル製造用の貼着型積層シートが示されてお
り、基材シートの例として、ポリカーボネート等の樹脂
シート／アンカーコーティング層／耐透気性合成樹脂層
／フェノキシエーテル系架橋重合体層の層構成を有する
シートがあげられている。

【０００７】特開平２−１４９８１９号公報には、ロー
ル状に巻回可能な電極支持フィルムの片面に透明電極を
設けた構成を有する透明電極付き電極支持フィルムの電
極支持フィルム側を、レターデーション値が８０nm以
下、光線透過率が６０％以上の母材に貼着により積層一
体化した透明電極付き液晶セル基板が示されており、電
極支持フィルムの例として、樹脂フィルム層／アンカー
コーティング層／架橋性樹脂硬化物層、樹脂フィルム層
／アンカーコーティング層／耐透気性合成樹脂フィルム
層／架橋性樹脂硬化物層、架橋性樹脂硬化物層／耐透気
性合成樹脂フィルム層／アンカーコーティング層／樹脂
フィルム層／アンカーコーティング層／耐透気性合成樹
脂フィルム層／架橋性樹脂硬化物層、架橋性樹脂硬化物
層／耐透気性合成樹脂フィルム層／接着剤層／耐透気性
合成樹脂フィルム層／架橋性樹脂硬化物層などの層構成
を有するフィルムがあげられている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上にあげたシート状基
板を液晶表示パネル製造用の電極基板として用いる場合
は、架橋性樹脂硬化物層上にＩＴＯ等の透明電極を形成
させ、さらにその上に配向膜を設けてから、液晶セルに
組み立てる。この場合、基板間に封じ込める液晶がＴＮ
（ツイステド・ネマチック）液晶である場合には、透明
電極形成側の基板表面の多少の凹凸は製品品質にほとん
ど影響を及ぼさない。というのは、ＴＮ液晶を用いた液
晶セルから組み立てた液晶表示パネルは無彩色であっ
て、濃淡さえはっきりすればパネルとして合格となるか
らである。

【０００９】しかしながら、基板間に封じ込める液晶が
ＳＴＮ（スーパー・ツイステド・ネマチック）液晶であ
る場合には、基板間の間隙が５〜６μm 程度にすぎない
にもかかわらずＳＴＮ液晶によりたとえば２７０゜程度
のツイストがなされるため、透明電極形成側の基板表面
にわずかの凹凸があっても表示に紫、緑などの色がつい
て画面が非常に見にくくなるという事態を生じ、この点
がプラスチックス基板を用いた液晶表示パネルの最大の
弱点となっていた。上に引用した本出願人の出願にかか
る電極基板も、この問題点については充分な解決がなさ
れていなかった。

【００１０】本発明は、このような背景下において、表
面平滑性の極めてすぐれた光学用積層シート（殊に液晶
表示パネル製造用の電極基板に適した光学用積層シー
ト）を工業上有利に製造する方法を提供することを目的
とするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の光学用積層シー
トの製法は、少なくとも表面層が熱架橋性樹脂層である
単層または複層のシートであってアンカーコーティング
層を設けまたは設けない光等方性シート(1) と平滑面を
有する平滑化鋳型材(3) との間隙に活性エネルギー線硬
化型樹脂組成物の樹脂液(2a)を供給して該樹脂液(2a)が
両者間に層状に挟持されるようにし、ついで活性エネル
ギー線の照射によりその挟持層(2b)を硬化させて活性エ
ネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) となすことを特徴とす
るものである。

【００１２】以下本発明を詳細に説明する。なお「シー
ト」、「フィルム」、「層」とあるのはいずれも薄層物
という意味であり、厚さを限定するものではない。

【００１３】光等方性シート(1) としては、少なくとも
表面層が熱架橋性樹脂層である単層または複層の光等方
性シートが用いられる。

【００１４】上記中、熱架橋性樹脂層における熱架橋性
樹脂としては、フェノキシエーテル型架橋性樹脂、エポ
キシ樹脂、アクリル樹脂、アクリルエポキシ樹脂、メラ
ミン樹脂、フェノール樹脂またはウレタン樹脂などがあ
げられる。

【００１５】架橋性樹脂の中で特に好ましい樹脂は、下
記の化１で示されるフェノキシエーテル型重合体であ
る。

【００１６】

【化１】

【００１７】（式中、Ｒ¹ 〜Ｒ⁶ は、それぞれ水素、炭
素数１〜３の低級アルキル基またはＢr 、Ｒ⁷ は炭素数
２〜４の低級アルキレン基、ｍは０〜３の整数、ｎは２
０〜３００の整数をそれぞれ意味する。）

【００１８】この重合体の水酸基の水素部分に架橋剤で
ある多官能性化合物を架橋反応させると、フェノキシエ
ーテル型架橋重合体が得られる。架橋重合体を得るため
に反応させる架橋剤（多官能性化合物）としては、水酸
基との反応活性が高い基、例えば、イソシアネート基、
カルボキシル基、カルボキシル基における反応性誘導基
（たとえばハライド、活性アミド、活性エステル、酸無
水物基等）、メルカプト等を同一または異なって２以上
有する化合物などが用いられ、特にポリイソシアネート
が重要である。

【００１９】上記のうちアクリル樹脂としては、分子中
に少なくとも３個以上のアクリロイルオキシ基または／
およびメタアクリロイルオキシ基を含有する化合物（以
下、多官能（メタ）アクリロイルオキシ基含有化合物と
いう）を主成分とする多官能不飽和単量体または／およ
びその初期ラジカル反応物を主成分とする組成物をあげ
ることができる。特に好ましいのは、分子中に少なくと
も３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を含有する
多官能不飽和単量体を、全不飽和単量体に対して５０重
量％以上、好ましくは７０重量％、特に好ましくは９０
重量％以上含有する不飽和単量体混合物または／および
その初期ラジカル反応物から成る組成物である。

【００２０】光等方性シート(1) を構成する熱架橋性樹
脂層以外の層としては、基材層、耐透気性樹脂層などが
あげられる。光等方性シート(1) の層構成の例は、熱架
橋性樹脂層／基材層、熱架橋性樹脂層／耐透気性樹脂層
／基材層、熱架橋性樹脂層／耐透気性樹脂層／基材層／
耐透気性樹脂層／熱架橋性樹脂層、熱架橋性樹脂層／耐
透気性樹脂層／基材層／耐透気性樹脂層、熱架橋性樹脂
層／耐透気性樹脂層／耐透気性樹脂層／熱架橋性樹脂層
などである。なお積層構成の場合は、層間にアンカーコ
ーティング層や接着剤層を設けることができる。また光
等方性シート(1) の表面層を構成する熱架橋性樹脂層の
表面には、必要に応じアンカーコーティング層を設ける
ことができる。

【００２１】上記中、基材層としては、ポリカーボネー
ト、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテルスルホ
ン、ポリスルホン、ポリアリレート、アモルファスポリ
オレフィン、ポリパラバン酸系樹脂、ポリアミドなどが
用いられる。

【００２２】基材層は熱変形温度が８０℃以上であるこ
とが望ましい。基材層は流延法や押出法により得られ、
その厚さは３０μm 〜３mm程度とすることが多い。

【００２３】耐透気性樹脂層を構成する耐透気性樹脂と
しては、たとえば、アクリロニトリル成分、ビニルアル
コール成分またはハロゲン化ビニリデン成分を５０モル
％以上含有する重合体から形成された層があげられ、特
にポリビニルアルコールまたはその共重合変性物あるい
はグラフト物、エチレン含量が１５〜５０モル％のエチ
レン−ビニルアルコール共重合体など、水酸基を有する
ポリマーが重要である。

【００２４】耐透気性樹脂層は通常流延法により形成さ
れ、その酸素透過率（ASTM D-1434-75に準じて測定）が
３０cc／24hr・m²・atm 以下、殊に２０cc／24hr・m²・
atm以下さらには１０cc／24hr・m²・atm 以下であるこ
とが望ましい。耐透気性樹脂層の厚さは、１〜５０μm
、殊に２〜２０μm の範囲に設定するのが適当であ
る。

【００２５】活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) を
構成する活性エネルギー線硬化型樹脂としては、光重合
性を有するプレポリマーまたは／およびモノマーに、必
要に他の単官能または多官能モノマー、各種ポリマー、
光重合開始剤、増感剤を配合した樹脂組成物が用いられ
る。

【００２６】ここで光重合性プレポリマーとしては、ポ
リエステルアクリレート、ポリエステルウレタンアクリ
レート、エポキシアクリレート、ポリオールアクリレー
トなどが例示され、光重合性モノマーとしては、単官能
アクリレート、２官能アクリレート、３官能以上のアク
リレートなどが例示される。これらの中では、硬化後の
物性が良好なエポキシアクリレートが特に有用であるの
で、これを少なくとも一部用いることが望ましい。

【００２７】光重合性を有するプレポリマーまたはモノ
マーとしては、上記のほか、下記の化２で示されるホス
ファゼン系樹脂も好適に用いられる。

【００２８】

【化２】

【００２９】活性エネルギー線硬化型樹脂が紫外線硬化
型樹脂であるときは、通常光開始剤や増感剤を少量併用
するが、樹脂の種類によってはこれらを配合しないで紫
外線照射しても硬化する場合がある。光開始剤としては
アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーケト
ン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエーテル、ベン
ジルケタール類、チオキサントン類をはじめとする種々
の光硬化剤が用いられ、増感剤としてはアミン類、ジエ
チルアミノエチルメタクリレートをはじめとする種々の
増感剤が用いられる。

【００３０】樹脂組成物は通常は溶剤を含まないが、も
し必要なら少量の溶剤を併用しても差し支えない。

【００３１】活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) の
厚さは適宜に設定できるが、１〜２０μm 、殊に２〜１
０μm とすることが多い。

【００３２】本発明においては、光学用積層シートは、
好適には次の第１の方法により製造される。すなわち、
アンカーコーティング層を設けまたは設けない光等方性
シート(1) と平滑フィルムからなる平滑化鋳型材(3) と
の間隙に活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の樹脂液(2
a)を供給して該樹脂液(2a)が両者間に層状に挟持される
ようにする。光等方性シート(1) は製膜用ロール(4a)
に、平滑化鋳型材(3) は製膜用ロール(4b)にそれぞれ予
め供給しておき、両製膜用ロール(4a), (4b)間の間隙は
所定の値に調整しておく。製膜用ロール(4a), (4b)は必
要に応じ保温可能に構成しておく。

【００３３】ついで、活性エネルギー線の照射により上
記の挟持層(2b)を硬化させて活性エネルギー線硬化型樹
脂硬化層(2) となす。活性エネルギー線としては、紫外
線、電子線などがあげられる。活性エネルギー線照射時
の積算光量や線量は、活性エネルギー線硬化型樹脂硬化
層(2) の厚さなどを考慮して最適範囲に設定し、平滑化
鋳型材(3) の円滑剥離性や活性エネルギー線硬化型樹脂
硬化層(2) の耐溶剤性を確保するようにする。

【００３４】これにより、光等方性シート(1) ／活性エ
ネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) ／平滑化鋳型材(3) よ
りなる積層体が得られるので、爾後の任意の段階でその
積層体から平滑化鋳型材(3) を剥離除去し、光等方性シ
ート(1) ／活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) より
なる積層シートを得る。

【００３５】上記における平滑化鋳型材(3) としては、
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートシート、二軸延伸
ポリブチレンテレフタレートシート、二軸延伸ポリエチ
レンナフタレートシート等の二軸延伸ポリエステルフィ
ルムや、二軸延伸ポリプロピレンフィルムなどが用いら
れ、コストおよび平滑性を加味すると二軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフィルムが特に重要である。この場
合、その表面がコロナ放電や火炎処理されていると、爾
後の工程での平滑化鋳型材(3) の剥離が困難となるの
で、そのような処理を施さないものを用いるように留意
する。

【００３６】これらの平滑フィルムは、その表面粗度が
0.15μm 以下、好ましくは0.05μm以下、さらには0.01
μm 以下であることが要求され、表面粗度が0.15μm よ
りも大きくなると所期の平滑性を有する光学用積層シー
トが得られなくなる。上記の二軸延伸ポリエチレンテレ
フタレートフィルムのうち填料を配合しないものは、二
軸延伸により表面平滑性が顕著に向上するので、平滑性
を極限にまで上げることができる。

【００３７】本発明に従って光学用積層シートを製造す
る第２の方法は、アンカーコーティング層を設けまたは
設けない光等方性シート(1) または平滑フィルムからな
る平滑化鋳型材(3) の一方に活性エネルギー線硬化型樹
脂組成物の樹脂液(2a)を流延しておき、該流延層に平滑
化鋳型材(3) または光等方性シート(1) を被覆させなが
らロールの間隙により挟持層(2b)の厚さを制御しつつ、
活性エネルギー線の照射により挟持層(2b)を硬化させて
活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) となす方法であ
る。

【００３８】本発明に従って光学用積層シートを製造す
る第３の方法は、アンカーコーティング層を設けまたは
設けない光等方性シート(1) 上に活性エネルギー線硬化
型樹脂組成物の樹脂液(2a)を流延しておき、該流延層に
平滑化鋳型材(3) としての平滑加工したガラスを押し当
てながら挟持層(2b)の厚さを制御しつつ、活性エネルギ
ー線の照射により挟持層(2b)を硬化させて活性エネルギ
ー線硬化型樹脂硬化層(2) となす方法である。この方法
においては、使用したガラスを反復使用する。

【００３９】上記の各方法により得られる積層シートの
活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) の自由面の表面
粗度は、平滑化鋳型材(3) の表面平滑性の程度などなど
に応じ、 0.5μm 以下、好ましくは 0.2μm 以下、さら
に好ましくは 0.1μm 以下となる。一般に、溶融押出フ
ィルムの表面粗度は１００μm 厚のフィルムで３〜４μ
m 、流延製膜フィルムの表面粗度は１００μm 厚のフィ
ルムで２〜３μm であるから、活性エネルギー線硬化型
樹脂硬化層(2) の自由面の表面粗度は常識外とも言える
ほど小さいものである。

【００４０】また、積層シートの活性エネルギー線硬化
型樹脂硬化層(2) の耐熱性、耐溶剤性、透明電極形成性
もすぐれたものとなる。

【００４１】本発明の方法により得られる積層シート
は、光学的用途に用いることを考慮して、その全体のレ
ターデーション値が６０nm以下、好ましくは３０nm以
下、可視光線透過率が６０％以上、好ましくは７０％以
上とされる。

【００４２】上記で得た光等方性シート(1) ／活性エネ
ルギー線硬化型樹脂硬化層 (2)よりなる層構成の積層シ
ートの活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) 上に透明
電極を設け、さらにその上から配向膜を形成すれば、液
晶セル基板が作製できる。

【００４３】透明電極の形成には、真空蒸着法、スパッ
タリング法、イオンプレーティング法、金属溶射法、金
属メッキ法、化学蒸着法、スプレー法などが採用され、
特にスパッタリング法が重要である。透明電極の材質と
しては、主としてＳn 、Ｉn、Ｔi 、Ｐb 、Ｔb 等の金
属またはそれらの酸化物が用いられ、透明電極の層厚
は、少なくとも１００オングストローム、さらには２０
０オングストローム以上とするのが通常である。

【００４４】本発明の方法により得られる光学用積層シ
ートは、液晶表示パネル製造用の電極基板として特に重
要であるが、位相差板用部材、偏光板用部材、光ディス
ク、光カードなどの用途にも適用することができる。

【００４５】

【作用】本発明の方法により得られる光学用積層シート
にあっては、積層シートの表面に位置する活性エネルギ
ー線硬化型樹脂硬化層(2) の自由面の表面平滑度が極め
て高いので、たとえばこれをＳＴＮ液晶を封入する液晶
セルの電極基板として用いた場合であっても、表示に
紫、緑などの色がついて画面が非常に見にくくなるとい
う事態を生じない。

【００４６】

【実施例】次に実施例をあげて本発明をさらに説明す
る。以下「部」とあるのは重量部である。

【００４７】実施例１ 図１は本発明における光学用積層シートの製造工程の一
例を示した工程図であり、図２は図１中のＸ部分の拡大
断面図、図３は図１中のＹ部分の拡大断面図である。

【００４８】図１中、(5) はタンク、(6) はジャケッ
ト、(7) リップ状の吐出口、(4a), (4b)は１対の製膜用
ロールである。(8) は紫外線照射装置である。(9) はニ
ップロール、(10)は積層シート(S) を剥離するための剥
離用ロールである。

【００４９】基材層の一例としてポリカーボネートシー
ト（厚さ１１０μm 、レターデーション値１２nm）の片
面に水溶性四級化エステルウレタン系アンカーコーティ
ング剤を塗布、乾燥して厚さ 0.5μm のアンカーコーテ
ィング層を設けた後、そのアンカーコーティング層の上
から、エチレン含量３２モル％のエチレン−ビニルアル
コール共重合体２０部、水４５部、ｎ−プロパノール５
０部、メチロール化メラミン (住友化学工業株式会社製
スミテックＭ−３）４部よりなる組成の樹脂液を流延
し、温度１１０℃の乾燥機中を通過させて乾燥させた。
これにより、厚さ８μm の耐透気性樹脂層が形成され
た。

【００５０】同様にして、基材層であるポリカーボネー
トシートの他面にも厚さ 0.5μm のアンカーコーティン
グ層を設け、さらにそのアンカーコーティング層の上か
ら上記と同じ厚さ８μm の耐透気性樹脂層を設けた。

【００５１】ついで、片側の耐透気性樹脂層の上から、
フェノキシエーテル樹脂（東都化成株式会社製）４０
部、メチルエチルケトン４０部、セロソルブアセテート
２０部、トリレンジイソシアネートとトリメチロールプ
ロパンとのアダクト体の７５％溶液（日本ポリウレタン
株式会社製コロネートＬ）４０部よりなる組成の硬化性
樹脂組成物をアプリケーターを使用して塗布し、８０℃
で４分間乾燥してから、１３０℃で２０分間加熱して、
厚さ１０μm のフェノキシエーテル樹脂系の熱架橋性樹
脂層を形成させた。

【００５２】同様にして、もう一方の耐透気性樹脂層の
上にも厚さ１０μm の熱架橋性樹脂層を形成させた。

【００５３】これにより、熱架橋性樹脂層／耐透気性樹
脂層／アンカーコーティング層／基材層／アンカーコー
ティング層／耐透気性樹脂層／熱架橋性樹脂層の層構成
を有する光等方性シート(1) が得られた。

【００５４】別途、平滑化鋳型材(3) として、厚さ５０
μm 、表面粗度 0.004μm のコロナ放電処理していない
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人株
式会社製Ｏタイプ）を準備した。

【００５５】新日鉄化学株式会社製のエポキシアクリル
樹脂「Ｖ−２５４ＰＡ」１００部にベンゾフェノン１部
を加え、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の樹脂液(2
a)を調製した。

【００５６】この樹脂液(2a)をタンク(5) に仕込み、ジ
ャケット(6) に熱媒を送って内容物を約３０℃に保温す
ると共に、脱気を行った。

【００５７】ついでタンク(5) の上部空間に圧を加え、
製膜用ロール(4a), (4b)の間隙に吐出口(7) から樹脂液
(2a)を吐出した。

【００５８】この製膜用ロール(4a), (4b)には、予め上
記の光等方性シート(1) および平滑化鋳型材(3) をそれ
ぞれ供給してあり、吐出口(7) から吐出した樹脂液(2a)
が光等方性シート(1) の熱架橋性樹脂層面と平滑化鋳型
材(3) の平滑面との間に挟持されて挟持層(2b)となるよ
うにした。

【００５９】製膜用ロール(4a), (4b)通過後の挟持シー
トを紫外線照射装置(8) にて下記の条件で紫外線照射
後、平滑化鋳型材(3) を剥離除去した。紫外線照射によ
り挟持層(2b)は硬化して、活性エネルギー線硬化型樹脂
硬化層(2) となった。これにより、活性エネルギー線硬
化型樹脂硬化層(2) ／光等方性シート(1) の層構成を有
する積層シート(S) が得られた。なお平滑化鋳型材(3)
の剥離除去は、紫外線照射後にすぐ行わずに、一旦巻取
機に巻き取ってから、後日行うようにしてもよい。

【００６０】紫外線照射条件 紫外線照射装置 ウシオ電機株式会社製ＵＶＣ−２５３
／１Ｍ ランプ 高圧水銀ランプ ８０Ｗ／cmまたは１
２０Ｗ／cm 照射距離 ２００mm コンベア速度 ５m/min または３m/min

【００６１】条件および結果を表１に示す。なお、評価
項目の意味は下記の通りである。 ・厚さ (2) 厚は、形成したエネルギー線硬化型樹脂硬化層(2)
の厚さ。 ・剥離性 平滑化鋳型材(3) としての二軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフィルムの剥離の円滑さ。（○：良好、×：不
良） ・粗度 活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) の自由面の表面
平滑度を、光の干渉を利用した非接触式表面粗さ計によ
り測定。 ・Ｒ値 積層シート(S) 全体のレターデーション値。 ・透過率 積層シート(S) 全体の可視光線透過率。 ・硬度 鉛筆硬度 ・耐溶剤性 積層シート(S) を４４±１℃のジメチルアセトアミド中
に５分間浸漬して、活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層
(2) の溶解の有無を観察した。（○：異常なし、×：溶
解）

【００６２】

【表１】 積算光量 (2) 厚 剥離性 粗 度 Ｒ値 透過率 硬度 耐溶剤 No. (mJ/cm ² ) (μm) (μm) (nm) (%) 性 1 354 3.6 ○ <0.1 16 90 4H ○ 2 354 4.5 ○ <0.1 16 89 4H ○ 3 538 6.8 ○ <0.1 17 89 5H ○ 4 675 7.7 ○ <0.1 17 88 5H ○

【００６３】次に、上記で得た No.１〜 No.４の積層シ
ート(S) の活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) 面
に、スパッタリング法により厚さ５００オングストロー
ムのＩＴＯ層からなる透明電極を直接形成させた。以下
このシートを電極基板として用いて、常法に従い、配向
膜の形成とラビング処理、液晶セルの組み立て、位相差
板および偏光板の積層を行い、液晶表示パネルを作製し
た。得られた液晶表示パネルは、表示に着色が見られ
ず、ガラスを基板として用いた液晶表示パネルと遜色の
ない性能を有していた。

【００６４】実施例２ 基材層として、ポリカーボネートシートに代えてポリア
リレートシート（鐘淵化学株式会社製、厚さ１００μm
、レターデーション値１５nm）を用いたほかは実施例
１と同様にして光等方性シート(1) を得た。

【００６５】出光石油化学株式会社製のホスファゼン系
硬化性樹脂「出光ＰＰＺ」１００部にベンゾフェノン１
部を加え、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の樹脂液
(2a)を調製した。

【００６６】上述の光等方性シート(1) および樹脂液(2
a)を用いたほかは実施例１を繰り返した。条件および結
果を表２に示す。

【００６７】

【表２】 積算光量 (2) 厚 剥離性 粗 度 Ｒ値 透過率 硬度 耐溶剤 No. (mJ/cm ² ) (μm) (μm) (nm) (%) 性 5 354 4.0 ○ <0.1 18 89 7H ○ 6 538 6.8 ○ <0.1 18 89 7H ○

【００６８】実施例３ 実施例１の No.１〜 No.４において、熱架橋性樹脂層／
耐透気性樹脂層／アンカーコーティング層／基材層／ア
ンカーコーティング層／耐透気性樹脂層／熱架橋性樹脂
層の層構成を有する光等方性シート(1) の片方の熱架橋
性樹脂層の上から、市販の溶剤タイプのウレタン系アン
カーコーティング剤による厚さ１μm のアンカーコーテ
ィング層を形成させ、このアンカーコーティング層側の
面に樹脂液(2a)が接触するようにしたほかは実施例１を
繰り返したところ、実施例１とほぼ同じ結果が得られ
た。

【００６９】実施例４ ポリエステルフィルム上に、エチレン含量３２モル％の
エチレン−ビニルアルコール共重合体２０部、水４５
部、ｎ−プロパノール５０部、メチロール化メラミン
(住友化学工業株式会社製スミテックＭ−３）４部より
なる組成の樹脂液を流延し、温度１１０℃の乾燥機中を
通過させて乾燥し、厚さ１５μm の耐透気性樹脂層を形
成させた。引き続きその上から、実施例１と同じ熱硬化
性樹脂組成物を塗布、乾燥後、加熱して、厚さ１０μm
熱架橋性樹脂層を形成させた。

【００７０】得られた積層フィルムの耐透気性樹脂層の
上からウレタン系接着剤溶液を塗布した後、乾燥し、さ
らにその上から上記と同じ積層フィルムの耐透気性樹脂
層側の面を重ね合わせて圧着して熱処理し、一夜放置
後、両側のポリエステルフィルムを剥離除去した。これ
により、熱架橋性樹脂層／耐透気性樹脂層／接着剤層／
耐透気性樹脂層／熱架橋性樹脂層よりなる層構成の光等
方性シート(1) が得られた。

【００７１】この光等方性シート(1) を用い、実施例１
と同様にしてその片面に厚さ 4.0μm の活性エネルギー
線硬化型樹脂硬化層(2) を形成させ、引き続きもう一方
の面にも厚さ 4.0μm の活性エネルギー線硬化型樹脂硬
化層(2) を形成させた。得られた積層シート(S) の活性
エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) 面の表面粗度は、両
面とも 0.1μm 以下であった。

【００７２】実施例５ 実施例１の光等方性シート(1) の熱架橋性樹脂層面に実
施例１の樹脂液(2a)を流延しておき、該流延層に平滑化
鋳型材(3) としての平滑加工した表面粗度0.05μm のガ
ラスを押し当てながら挟持層(2b)の厚さを 5.0μm に制
御しつつ紫外線照射を行い、ついでガラスを剥離除去し
た。得られた積層シート(S) の活性エネルギー線硬化型
樹脂硬化層(2) 面の表面粗度は 0.1μm 以下であった。

【００７３】

【発明の効果】本発明の方法により得られる光学用積層
シートにあっては、たとえばこれをＳＴＮ液晶を封入す
る液晶セルの電極基板として用いた場合であっても、表
示に紫、緑などの色がついて画面が非常に見にくくなる
という事態を生じない。

【００７４】液晶表示パネルは年々大型化すると共に、
ＳＴＮ液晶方式の普及には目を見張るものがあるが、本
発明により、その用途にガラス基板に代えてプラスチッ
クス基板を用いても、表示特性が遜色のないものとなる
のである。

【００７５】そして、このようにすぐれた性能が得られ
るにもかかわらず、その製造工程がシンプルであるとい
う工業上の有利さを有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明における光学用積層シートの製造工程の
一例を示した工程図である。

【図２】図１中のＸ部分の拡大断面図である。

【図３】図１中のＹ部分の拡大断面図である。

【符号の説明】

(1) …光等方性シート、 (2) …活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層、 (2a)…樹脂液、(2b)…挟持層、 (3) …平滑化鋳型材、 (4a), (4b)…製膜用ロール、 (5）…タンク、 (6) …ジャケット、 (7) …吐出口、 (8) …紫外線照射装置、 (9) …ニップロール、 (10)…剥離用ロール、 (S) …積層シート

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−71829（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−149819（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−233531（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−50022（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−214340（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B32B 1/00 - 35/00 G02F 1/1333

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】少なくとも表面層が熱架橋性樹脂層である
   単層または複層のシートであってアンカーコーティング
   層を設けまたは設けない光等方性シート(1) と平滑面を
   有する平滑化鋳型材(3) との間隙に活性エネルギー線硬
   化型樹脂組成物の樹脂液(2a)を供給して該樹脂液(2a)が
   両者間に層状に挟持されるようにし、ついで活性エネル
   ギー線の照射によりその挟持層(2b)を硬化させて活性エ
   ネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) となすことを特徴とす
   る光学用積層シートの製法。
2. 【請求項２】活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) の
   自由面の表面粗度が 0.5μm 以下であり、積層シート全
   体のレターデーション値が６０nm以下、可視光線透過率
   が６０％以上である請求項１記載の製法。