JP2609137B2 - 液晶表示パネル用電極基板製造用の反応性耐透気性ポリマーおよびそれを用いた液晶表示パネル用電極基板 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、液晶表示パネル用電極基板製造用に適した
反応性耐透気性ポリマーおよびそれを用いた液晶表示パ
ネル用電極基板に関するものである。

従来の技術 近年液晶表示パネルについては、薄膜化、軽量
化、大型化、任意の形状化、曲面化、低コスト
化などの要求があり、これに応えるものとしてプラスチ
ックス基板を用いた液晶表示パネルが検討され、実用化
されはじめた。

本発明者らのうちの１人も、この目的のプラスチック
ス基板につき、下記に列挙するような特許出願にかかる
発明をしている。

すなわち、フェノキシエーテル型架橋重合体から形成
された非旋光性フィルムに透明導電層を設けた透明導電
膜（特公昭61−27841号公報）、スチレン誘導体成分を
含む共重合体またはアクリロニトリル成分を含む誘導体
から形成された非旋光性フィルムに透明導電層を設けた
透明導電膜（特開昭56−146750号公報）、レターデーシ
ョン値30nm以下の非晶質合成樹脂フィルムに硬化性樹脂
または単量体を塗布したのち硬化させて得られる複合膜
に透明導電層を形成させた液晶表示用導電膜（特開昭57
−11319号公報）、フェノキシエーテル型重合体を用い
た着色非旋光性フィルムに透明導電層を形成した着色導
電膜（特開昭60−35409号公報）、エポキシ化合物とカ
ルボキシル基含有光重合性化合物とを含む硬化型樹脂組
成物を成形した非旋光性フィルム（特開昭60−158420号
公報）、プラズマ処理した高分子フィルムに透明導電層
を形成した透明導電膜（特開昭60−230307号公報）、フ
ェノキシエーテル型架橋重合体から形成された非旋光性
フィルムに硬化性高分子被膜を形成し、さらにその上に
透明導電層を設けた透明導電膜（特開昭60−232612号公
報）、レターデーション値100nm以下の非旋光性フィル
ムに耐透気性を有する高分子樹脂層を設け、さらに透明
電極を設けた液晶表示パネル用電極基板（特開昭61−41
122号公報）、レターデーション値30nm以下の非旋光性
フィルムの水性のアンカーコーティング層を形成した
後、その上に耐透気性樹脂または／および架橋性樹脂硬
化物からなる保護層を設けた複合基板に透明電極を設け
た液晶表示パネル用電極基板（特開昭63−71829号公
報）などである。特に最後の２件、つまり特開昭61−41
122号公報と特開昭63−71829号公報に記載の発明が重要
である。

発明が解決しようとする課題 液晶表示パネル用のプラスチック基板としては、一般
に次のような特性が要求される。

（１）光学的に可視光線領域で透明であること。

（２）光学的に等方性で、着色干渉縞が発生しないこ
と。

（３）表面が平滑で硬いこと。

（４）液晶組立などの製造工程に耐える耐薬品性および
100℃以上の耐熱性があること。

（５）シール材との密着力が良く、長期にわたって気密
性があること。

（６）耐透湿性があること。

（７）耐透気性があること。

（８）耐液晶性があり、長期にわたって安定であるこ
と。

特に長期にわたる信頼性が要求される場合や自動車用
など過酷な条件下で使用される場合には、耐透気性がす
ぐれているだけでなく、その湿度依存性が小さいこと
（高湿下においても耐透気性が低下しないこと）が要求
され、かつ、層間密着性、耐液晶性および耐熱性が一段
とすぐれていることが要求される。これらの要求を全て
満足しないと、気泡が混入して標示部に黒点を生じた
り、長期にわたり安定した性能が得られないなどの問題
が発生する。

しかしながら、従来の液晶表示パネル用のプラスチッ
ク基板は、必ずしもこのような厳しい要求を満たすもの
ではなかった。

本発明者らは、特開昭61−41122号公報および特開昭6
3−71829号公報に記載の発明をさらに改良することを試
みる中で、耐透気性層として特定の反応性耐透気性ポリ
マーの層を用いることにより、上記要求に充分に応えう
る電極基板を見出すに至った。

課題を解決するための手段 本発明の液晶表示パネル用電極基板製造用のエチレン
−ビニルアルコール共重合体またはポリビニルアルコー
ルから選ばれたビニルアルコール系重合体（Ｖ）の共存
下に、式 （式中、R¹,R²はＨまたは低級アルキル基、R³は炭素数
１〜４のアルキレン基）で示されるエチレン性不飽和ア
ミド系モノマー（Ma）と分子内にカルボキシル基を有す
るビニル重合性モノマー（Mb）からなるモノマー混合物
（Ｍ）を重合して得られるものである。

また、本発明の液晶表示パネル用電極基板は、レター
デーション値80nm以下の非旋光性透明フィルムまたはシ
ートよりなる基材層（１）の片面または両面に耐透気性
層（２）を設けた積層構成を有し、該積層物の耐透気性
層（２）側の面に透明電極を設けることにより液晶表示
パネル用の基板となすための電極基板において、前記耐
透気性層（２）が、上記の反応性耐透気性ポリマー
（Ｐ）の層からなることを特徴とするものである。

さらにまた、本発明の液晶表示パネル用電極基板は、
レターデーション値80nm以下の非旋光性透明フィルムま
たはシートよりなる基材層（１）の片面または両面に耐
透気性層（２）を設け、さらに該耐透気性層（２）のう
ちの少なくとも一方の層上に架橋性樹脂硬化物（Ｃ）よ
りなる保護層（３）を設けた積層構成を有し、該積層物
の保護層（３）側の面または耐透気性層（２）側の面に
透明電極を設けることにより液晶表示パネル用の基板と
なすための電極基板において、前記耐透基性層（２）
が、上記の反応性耐透気性ポリマー（Ｐ）の層からなる
ことを特徴とするものである。

以下本発明を詳細に説明する。

基材層（１） 基材層（１）は、レターデーション値80nm以下、殊に
30nm以下の非旋光性透明フィルムまたはシートで構成さ
れる。

ここでレターデーション値（Ｒ）とは、次式のよう
に、フィルムの厚さｄと、該フィルムに対して垂直方向
の２つの屈折率の差の絶対値との積で表わされる値であ
る。

Ｒ＝ｄ・|n¹−n²| （ただし、n¹は任意方向の屈折率、n²はn¹方向と直交す
る屈折率） レターデーション値が80nmを越えると、パネルとして
の適正視角が狭くなると共に、干渉縞が発生し、液晶表
示装置に応用した場合、その判読性が低下する。

このような条件を満足するフィルムまたはシートの素
材となるべき樹脂は非晶性のものであって、結晶性があ
ると部分的に結晶化して透明性が悪くなり、また光学異
方性を生じてレターデーション値が高くなるという問題
に遭遇する。

基材層（１）の具体例としては、ポリカーボネート系
樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹
脂、ポリアリーレンエステル系樹脂、ポリパラバン酸系
樹脂、ポリイミド系樹脂などの樹脂から形成された層が
あげられる。

耐透気性層（２） 耐透気性層（２）は、ビニルアルコール系重合体
（Ｖ）の共存下に、式 （式中、R¹,R²はＨまたは低級アルキル基、R³は炭素数
１〜４のアルキレン基）で示されるエチレン性不飽和ア
ミド系モノマー（Ma）と分子内にカルボキシル基を有す
るビニル重合性モノマー（Mb）からなるモノマー混合物
（Ｍ）を重合して得られる反応性耐透気性ポリマー
（Ｐ）の層で構成される。

ここでビニルアルコール系重合体（Ｖ）としては、エ
チレン含量20〜60モル％のエチレン−酢酸ビニル共重合
体の酢酸ビニル単位を70モル％以上、さらには90モル％
以上ケン化して得られるエチレン−ビニルアルコール共
重合体、または各種重合度、ケン化度のポリビニルアル
コールが用いられ、本発明の趣旨を損なわない程度の少
量であれば他の共重合可能なコモノマーで変性してあっ
てもよい。

式（ｉ）で示されるエチレン性不飽和アミド系モノマ
ー（Ma）としては、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルア
ミド、Ｎ−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−
エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロポキ
シメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシエチル（メタ）
アクリルアミド、Ｎ−エトキシエチル（メタ）アクリル
アミド、Ｎ−プロポキシエチル（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ−ブトキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−
メトキシプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキ
シプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロポキシプ
ロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシプロピル
（メタ）アクリルアミドなどがあげられる。

分子内にカルボキシル基を有するビニル重合性モノマ
ー（Mb）としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロト
ン酸などのエチレン性不飽和モノカルボン酸；マレイン
酸、フマール酸、イタコン酸などのエチレン性不飽和ジ
カルボン酸、これらのモノアルキルエステル、これらの
無水物（フマール酸は無水物を作らないので除く）；式 で示される不飽和トリカルボン酸；などがあげられる。

反応性耐透気性ポリマー（Ｐ）は、典型的には、ビニ
ルアルコール系重合体（Ｖ）を水または／および低級ア
ルコールなどの溶媒（たとえば、水、水/n−プロパノー
ル、水／イソプロパノール混合溶媒等）中に溶解し、該
溶液中において重合触媒（レドックス重合触媒、過酸化
物触媒等）の存在下にエチレン性不飽和アミド系モノマ
ー（Ma）とカルボキシル基含有ビニル重合性モノマー
（Mb）とからなるモノマー混合物（Ｍ）を重合させるこ
とにより得られる。このような重合により、少なくとも
部分的にグラフト重合が起こるものと考えられる。

この場合、（Ma）／（Mb）のモル比は0.05〜5.0の範
囲内とすることが好ましく、この範囲からはずれると重
合により得られる反応性耐透気性ポリマー（Ｐ）の架橋
点が不足するため、湿度が高くなると耐透気性が低下し
たり、密着性に悪影響を及ぼすおそれがある。

また、（Ｍ）／（Ｖ）の重量比は0.02〜0.5の範囲内
とすることが好ましく、その比が余りに小さいと重合に
より得られる反応性耐透気性ポリマー（Ｐ）の架橋点が
不足し、一方余りに大きいとその耐透気性が損なわれる
ようになる。

そして、このようにして得られる反応性耐透気性ポリ
マー（Ｐ）よりなる耐透気性層（２）の酸素透過率（AS
TM D−1434−75に準じて測定）が30cc/24hr・m²・atm以
下、好ましくは20cc/24hr・m²・atm以下となるように、
重合原料の種類あるいは仕込み比を設定する。酸素透過
率が30cc/24hr・m²・atmを越えると、温度変化の厳しい
過酷な条件や長期間の使用により表示部に黒点を生ずる
おそれがある。

保護層（３） 保護層（３）は架橋性樹脂硬化物（Ｃ）で構成され
る。この保護層（３）は、必要に応じて設ける任意層で
ある。

架橋性樹脂硬化物（Ｃ）としては、フェノキシエーテ
ル型架橋性樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、メラミ
ン樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂などの硬化物が
あげられる。

架橋性樹脂の中で特に好ましい樹脂は、フェノキシエ
ーテル型重合体である。この重合体の水酸基の水素部分
に架橋剤である多官能性化合物を架橋反応させると、フ
ェノキシエーテル型架橋重合体が得られる。架橋重合体
を得るために反応させる架橋剤（多官能性化合物）とし
ては、水酸基との反応活性が高い基、たとえば、イソシ
アネート基、カルボキシル基、カルボキシル基における
反応性誘導基（たとえばハライド、活性アミド、活性エ
ステル、酸無水物基等）、メルカプト基等を同一または
異なって２以上有する化合物などがあげられる。

他の好ましい架橋性樹脂はアクリル樹脂である。該樹
脂としては、分子中に少なくとも３個以上のアクリロイ
ルオキシ基または／およびメタアクリロイルオキシ基を
含有する化合物を主成分とする多官能不飽和単量体また
は／およびその初期ラジカル反応物を主成分とする組成
物をあげることができる。

アンカーコーティング層（４） 基材層（１）と耐透気性層（２）との間、あるいは耐
透気性層（２）と保護層（３）との間には、必要に応じ
アンカーコーティング層（４）を介在させることができ
る。

アンカーコーティング層（４）としては、ウレタン
系、エポキシ系、ポリエステル系、アクリル系など通常
の有機溶剤タイプのものも用いることができるが、特に
基材層（１）と耐透気性層（２）との間にアンカーコー
ティング層（４）を介在させるときは、該層（４）を、
水または水とアルコールとからなる水性媒体に溶解また
は分散したアンカー剤を用いて形成することが望まし
い。

このような水性系のアンカー剤の中では、エステル結
合、アミド結合、ウレタン結合およびエーテル結合より
なる群から選ばれた少なくとも１種の結合基により高分
子化した高分子であって、自身を水性媒体中に溶解また
は分散させるに足る量の親水基を分子内に有するポリマ
ーを主剤とするものが最適であり、そのような親水基の
例としては、スルホン酸金属塩基、カルボキシル基、第
１級アミン基、第２級アミン基、第３級アミン基、第４
級アンモニウム塩基などがあげられる。アンカー剤に
は、主剤、水またはこれと水溶性有機溶剤のほか、界面
活性剤、塩基性中和剤等を含有させることができる。

親水基を分子内に有するポリマーの代表例としては、
上述の親水基を含有するポリエステル樹脂、上述の親水
基を含有するポリアミド樹脂、上述の親水基を含有する
ポリウレタン樹脂、上述の親水基を含有するポリエルテ
ルウレタン樹脂、ポリエチレンイミンとポリアクリル酸
と変性デンプンとの混合物からなるイオン高分子錯体な
どがあげられる。

成層 本発明の液晶表示パネル用電極基板、次のような積層
構成を有する。

基材層（１）／耐透気性層（２） 耐透気性層（２）／基材層（１）／耐透気性層
（２） 基材層（１）／耐透気性層（２）／保護層（３） 耐透気性層（２）／基材層（１）／耐透基性層
（２）／保護層（３） 保護層（３）／耐透気性層（２）／基材層（１）／
耐透気性層（２）／保護層（３） 基材層（１）と耐透気性層（２）との間、耐透気性層
（２）と保護層（３）との間には、必要に応じアンカー
コーティング層（４）を介在させることができることは
先に述べた通りである。

第１〜５図は本発明の電極基板の例を示した断面図で
あり、第１図が上記、第２図が上記、第３図が上記
、第４図が上記、第５図が上記に相当する。なお
各図においては、基材層（１）と耐透気性層（２）との
間にアンカーコーティング層（４）を介在させた場合を
典型的な例として示した。各図中、仮想線で表わした
（５）は透明電極である。

基材層（１）は、湿式製膜法（キャスティング）、乾
式製膜法、溶融製膜法などによって成形する。基材層
（１）の厚さは、20〜1000μｍ程度が適当である。

基材層（１）上にアンカーコーティング層（４）を設
けるときは、基材層（１）上にアンカー剤を塗布、乾燥
し、必要に応じて加熱処理する。アンカーコーティング
層（４）の厚さは、0.5〜５μｍ程度とすることが多
い。

基材層（１）上に直接またはアンカーコーティング層
（４）を介して耐透気性層（２）を設けるには、前記の
反応性耐透気性ポリマー（Ｐ）をその溶媒に溶解ないし
分散させて（通常は重合液をそのままあるいは濃度調整
して用い、必要に応じて界面活性剤等を少量添加す
る）、基材層（１）に直接塗布、乾燥するか、アンカー
コーティング層（４）上に塗布、乾燥し、ついで加熱処
理すればよい。ただし保護層（３）を設けるときは、こ
の加熱処理は、保護層（３）の硬化のための加熱処理で
兼ねることができる。

耐透気性層（２）の厚さ（１層の厚さ）は１〜50μ
ｍ、好ましくは２〜20μｍの範囲に設定する。１μｍ未
満では耐透気性が不十分であり、50μｍを越えると基板
を形成する際、カールする傾向がある上、コストの点で
不利となる。

基材層（１）と耐透気性層（２）との間の剥離強度
（ASTM D−1876に準じて測定）は、50g以上、好ましく
は150g以上、さらには200g以上であることが要求され
る。剥離強度が50g未満では、次工程の透明電極処理や
液晶パネル製造のパターン出し、酸、アルカリ水溶液処
理、有機薬品処理、組立工程などの工程において、基材
層（１）から耐透気性層（２）（または耐透気性層
（２）と保護層（３））が剥離してしまうおそれがあ
る。従って、基材層（１）と耐透気性層（２）との間の
剥離強度が不足するときは、前述のようにアンカーコー
ティング層（４）を介在させるのがよい。なお、アンカ
ーコーティング層（４）の形成を水または水−アルコー
ル混合溶媒に溶解または分散したアンカー剤を用いて行
うと、爾後の工程における溶剤が基材層（１）の表面を
侵すのを確実に抑えることができる。

保護層（３）を設けるときは、その形成も耐透気性層
（２）形成の場合と同様の方法で行うことができる。

耐透気性層（２）上への保護層（３）の形成に際して
は、架橋剤として、架橋性樹脂を架橋すると共に耐透気
性層（２）とも反応しうるものを用いると、両層間にア
ンカーコーティング層（４）を介在させなくても、強固
な層間密着性が得られる。たとえば、保護層（３）とし
てフェノキシエーテル型重合体にポリイソシアネートを
配合したフェノキシエーテル型架橋性樹脂を用いると、
アンカーコーティング層（４）を介在させなくても、耐
透気性層（２）との間に剥離不可能なほどの（基材破壊
を起こすほどの）強固な密着性が得られる。

保護層（３）の厚さ（１層の厚さ）は１〜1000μｍ、
好ましくは５〜500μｍの範囲に設定する。この範囲に
おいて耐液晶性および軽量性の確保が好適になされる。

上記〜の積層構成を有する本発明の電極基板全体
の厚さは広く変えうるが、50〜500μｍ程度が適当であ
る。電極基板全体の可視光線透過率は60％以上、好まし
くは70％以上を必要とし、60％未満では表示部のコント
ラストが悪くなる。

透明電極（５） 上記で得られた電極基板の片面または両面には、透明
導電層を形成して透明電極（５）とする。上記および
の場合には耐透気性層（２）側の面に透明電極（５）
を設け、およびの場合には保護層（３）側の面に透
明電極（５）を設ける。上記の場合には、保護層
（３）側または耐透気性層（２）側のいずれの面に透明
電極（５）を設けてもよい。

透明導電層の形成方法は、その方法の如何を問わない
が、代表的な方法としては、真空蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンプレーティング法、金属溶射法、金属メッ
キ法等が採用される。これらのうち、薄層が形成できる
ことおよび均一層が形成できることの２点を満足するも
のとして、真空蒸着法とスパッタリング法が特に推奨さ
れる。

透明導電層を形成するための素材としては、Sn、In、
Ti、Pb等の金属、またはそれらの酸化物が汎用され、金
属単体を上記の方法で基板上に形成したときは、希望に
応じてその後酸化する場合もある。当初から酸化物層と
して付着形成させる方法もあるが、最初は金属単体また
は低級酸化物の形態で被膜を形成し、しかるのち加熱
化、陽極酸化あるいは液相酸化等の酸化処理を施して透
明化する手段を採用することもできる。なお上記以外
に、Au、Pt、Ag等の貴金属を用いる場合もある。

これらの金属あるいはそれらの酸化物からなる導電層
は、透明性や導電性等の要求特性に応じた層厚に設定す
るが、通常は100Å以上とし、安定な導電性を与えるた
めには300Å以上とすることが望ましい。

上記導電層は、通常単一層でもよいが、機械的強度や
耐薬品性を考慮して２層以上の複数層として形成するこ
ともできる。また、皮膜の均一性や密着性等、さらには
耐摩耗性等を向上する目的で、アンダーコートやオーバ
ーコートを施す場合もある。前者の例としてはシリコン
系やエポキシ系の樹脂が使用され、後者の例としてはゼ
ラチン、シリコーン、コロジオン等が使用される。また
さらに必要であれば、これらの上のさらに光電導物質の
層やエレクトロ・ルミネッセンス材料の層を形成する場
合もある。

用途 本発明の電極基板は、液晶表示装置は勿論のこと、光
導電性感光体用電極、面発熱体、または建築物の窓貼り
等の各種ディスプレーのフィルターや化粧板等として利
用できる。

作用 本発明においては、耐透気性層（２）として、特定の
反応性耐透気性ポリマー（Ｐ）の層、つまりビニルアル
コール系重合体（Ｖ）の共存下に式（ｉ）で示されるエ
チレン性不飽和アミド系モノマー（Ma）と分子内にカル
ボキシル基を有するビニル重合性モノマー（Mb）とから
なるモノマー混合物（Ｍ）を重合して得られる反応性耐
透気性ポリマー（Ｐ）の層を用いている。

反応性耐透気性ポリマー（Ｐ）は、加熱により三次元
化するので、耐透気性を維持しながらも湿度依存性が小
さくなる。

従って、耐透気性層（２）は、高湿下においても基材
層（１）に対する密着性が良好であり、高湿下にあって
も耐透気性の低下が小さく、かつ耐熱性、耐液晶性もさ
らに向上する。そのため、本発明の電極基板に透明電極
（５）を設け、液晶表示パネルを作製したとき、長期に
わたり信頼性が保たれる。

実 施 例 次に実施例をあげて本発明をさらに説明する。

実施例１ 基材層（１）用のフィルム 厚さ80μｍ、レターデーション値20nmのポリカーボネ
ートフィルム（三菱瓦斯化学株式会社製）を準備した。

アンカーコーティング層（４）用のアンカー剤 ポリエステルウレタンを主剤とする固形分40％の水性
分散液（楠本化成株式会社製NeoRezR−9314）を水で稀
釈して固形分20％の水性分散液としたもの100部に、水
溶性エポキシ系硬化剤（協立化学産業株式会社製ワール
ドロックＸ−2030）2.5部を配合することにより、アン
カー剤を調製した。

耐透気性層（２）用の反応性耐透気性ポリマー（Ｐ） 撹拌器、温度計、還流冷却器および窒素導入管を備え
た四つ口フラスコに、ｎ−プロパノール137.5gと精製水
112.5gとを仕込み、撹拌しながら、エチレン−ビニルア
ルコール（モル比32/68）共重合体（株式会社クラレ製
のエバールEP−Ｆ 101A）50gを加えた。系を70〜80℃
の加熱下に約４時間撹拌し、エチレン−ビニルアルコー
ル共重合体を完全に溶解させた。

系を40〜50℃に冷却し、Ｎ−メトキシメチルアクリル
アミド2.5gとメタクリル酸1.0gを加え、窒素を通して系
中の酸素を充分に追い出した。４％過硫酸アンモニウム
水溶液2.0gを加え、よく撹拌し、５分後に２％重亜硫酸
ナトリウム水溶液2.0gを加え、重合を開始させた。２時
間ごとに前記と同様に開始剤を加え、約８時間重合を行
った。この間、内温は40〜50℃に保持した。

これにより、固形分約16％の粘稠な半透明の反応性耐
透気性ポリマー液が得られた。

保護層（３）用の架橋性樹脂液 下記組成の架橋性樹脂液を調製した。

電極基板の製造 上記のポリカーボネートフィルム（１）の片面に、0.
1mmφのワイヤーラウンドドクターを使用して上記のア
ンカー剤を塗布し、120℃で２分間乾燥して、厚さ1.5μ
ｍのアンカーコーティング層（４）を形成させた。

このアンカーコーティング層（４）上に上記の反応性
耐透気性ポリマー液をアプリケーターを使用してギャッ
プ85μｍで塗布し、70〜90℃で10分間乾燥して、約10μ
ｍの耐透気性層（２）を形成させた。

同様にして、ポリカーボネートフィルム（１）の他の
面にも同じアンカーコーティング層（４）を形成させ
た。さらにそのアンカーコーティング層（４）上にも、
同様にして約10μｍの耐透気性層（２）を形成させた。

これにより、（２）／（４）／（１）／（４）／
（２）の層構成を有する第２図に断面図を示した電極基
板が得られた。この電極基板の特性値、外観は次の通り
であった。

基材層（１）−耐透気性層（２）間の剥離強度 片方 580g/25mm 他方 575g/25mm 酸素ガス透過性 20℃、98％RH 1.2cc/24hr・m²・atm 30℃、98％RH 2.6cc/24hr・m²・atm 全光線透過率 89％ レターデーション値 17nm 外観 極めて優秀 透明電極（５）の形成 上記で得た電極基板の片面に、酸化インジウムと酸化
スズとの重量比で95:5の混合物による厚さ500Åの透明
導電層をスパッタリング法により形成させ、透明電極
（５）となした。

液晶表示パネル 上記で得た基板を用いて常法により液晶表示パネルを
作製したが、耐透気性、層間密着性、耐熱性のいずれの
点でも極めて好ましいものであり、また透明電極（５）
の亀裂や剥離も認められず、耐液晶性もすぐれていた。

実施例２ 実施例１で得られた（２）／（４）／（１）／（４）
／（２）の層構成を有する積層物の片方の面に、アプリ
ケーターを使用してギャップ35μｍで直接上記の架橋性
樹脂液を塗布し、80℃で10分、さらに120℃で30分加熱
し、厚さ10μｍの保護層（３）を形成させた。同様にも
う一方の面にも厚さ10μｍの保護層（３）を形成させ
た。

これにより、（３）／（２）／（４）／（１）／
（４）／（２）／（３）の層構成を有する第５図に断面
図を示した電極基板が得られた。この電極基板の特性
値、外観は次の通りであった。

基材層（１）−耐透気性層（２）間の剥離強度 片方 625g/25mm 他方 600g/25mm 耐透気性層（２）−保護層（３）間の剥離強度 片方 基材破壊 他方 基材破壊 酸素ガス透過性 20℃、98％RH 0.8cc/24hr・m²・atm 30℃、98％RH 1.5cc/24hr・m²・atm 全光線透過率 87％ レターデーション値 17nm 外観 極めて優秀 上記で得た電極基板の片面に、実施例１と同様にして
透明電極（５）を形成させ、さらにこの基板を用いて常
法により液晶表示パネルを作製したが、耐透気性、層間
密着性、耐熱性のいずれの点でも極めて好ましいもので
あり、また透明電極（５）の亀裂や剥離も認められず、
耐液晶性もすぐれていた。

比較例１ 耐透気性層（２）の形成（厚さ各約10μｍ）を、エチ
レン−ビニルアルコール（モル比32/68）共重合体20
部、水48部、ｎ−プロパノール32部およびメチロール化
メラミン（住友化学工業株式会社製スミテックＭ−３）
４部からなる溶液を用いて行ったほかは実施例２を繰り
返して、電極基板を製造した。この電極基板の特性値、
外観は次の通りであり、実施例２に比しては密着性、耐
透基性が不足していた。

基材層（１）−耐透気性層（２）間の剥離強度 片方 325g/25mm 他方 310g/25mm 耐透気性層（２）−保護層（３）間の剥離強度 片方 基材破壊 他方 基材破壊 酸素ガス透過性 20℃、98％RH 2.8cc/24hr・m²・atm 30℃、98％RH 7.5cc/24hr・m²・atm 全光線透過率 87％ レターデーション値 17nm 外観 極めて優秀 実施例３〜５ エチレン−ビニルアルコール（モル比32/68）共重合
体50gに、Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド3.5gとア
クリル酸2.0gを重合したほかは実施例１と同様にして反
応性耐透気性ポリマー液を得た（実施例３）。

また、エチレン−ビニルアルコール（モル比32/68）
共重合体50gに、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド4.0
gとアクリル酸5.0gを重合したほかは実施例１と同様に
して反応性耐透気性ポリマー液を得た（実施例４）。

さらにまた、エチレン−ビニルアルコール（モル比32
/68）共重合体50gに、Ｎ−メチロールアクリルアミド2.
5gとメタクリル酸2.5gを重合したほかは実施例１と同様
にして反応性耐透気性ポリマー液を得た（実施例５）。

実施例１における反応性耐透気性ポリマー液として上
記で得たものを用いたほかは、実施例１を繰り返したと
ころ、実施例１の場合とほぼ同等の結果が得られた。

実施例６ 耐透気性層（２）用の反応性耐透気性ポリマー（Ｐ） フラスコにポリビニルアルコール（重合度1500、ケン
化度88モル％）の13％水溶液350gを仕込んだ後、系を40
〜50℃に加熱し、Ｎ−メチロールアクリルアミド4.5gと
メタクリル酸2.0gを加え、窒素を通して系中の酸素を充
分に追い出した。４％過硫酸アンモニウム水溶液3.0gを
加え、よく撹拌し、５分後に２％重亜硫酸ナトリウム水
溶液3.0gを加え、重合を開始させた。２時間ごとに前記
と同様に開始剤を加え、約８時間重合を行った。この
間、内温は40〜50℃に保持した。

これにより、固形分約14％の粘稠な半透明の反応性耐
透気性ポリマー液が得られた。

保護層（３）用の架橋性樹脂液 実施例１の処方の架橋性樹脂液を用いた。

電極基板の製造 上記の反応性耐透気性ポリマー液、架橋性樹脂液を用
いたほかは実施例２に準じて、（３）／（２）／（４）
／（１）／（４）／（２）の層構成を有する第４図に断
面図を示した電極基板を作製した。ただし、耐透気性層
（２）の厚さは各８μｍ、保護層（３）の厚さは12μｍ
に設定した。

この電極基板の特性値、外観は次の通りであった。

基材層（１）−耐透気性層（２）間の剥離強度 片方 540g/25mm 他方 570g/25mm 耐透気性層（２）−保護層（３）間の剥離強度 片方 基材破壊 他方 基材破壊 酸素ガス透過性 20℃、98％RH 1.2cc/24hr・m²・atm 30℃、98％RH 2.1cc/24hr・m²・atm 全光線透過率 89％ レターデーション値 21nm 外観 極めて優秀 実施例７ 実施例１に準じて、基材層（１）の片面にアンカーコ
ーティング層（４）、その上に耐透気性層（２）、さら
にその上に保護層（３）を形成させた。

これにより、（１）／（４）／（２）／（３）の層構
成を有する第３図に断面図を示した電極基板が得られた
ので、その保護層（３）上に実施例１と同様にして透明
電極（５）を形成させた。

実施例８ 実施例１に準じ、基材層（１）の片面にアンカーコー
ティング層（４）、その上に耐透気性層（２）を形成さ
せた。

これにより、（２）／（４）／（１）の層構成を有す
る第１図に断面図を示した電極基板が得られたので、そ
の耐透気性層（２）上に実施例１と同様にして透明電極
（５）を形成させた。

実施例９ 基材層（１）として、厚さ100μｍ、レターデーショ
ン値14nmのポリエーテルスルホンフィルム（ICIジャパ
ン株式会社製のVictnex300PIをジメチルホルムアミドに
溶解した溶液を用いて製膜）を用い、アンカー剤として
実施例１で使ったものを用い、アンカーコーティング層
（４）の厚さをいずれも約３μｍに設定したほかは、実
施例１に準じて電極基板を作製した。

実施例10 アンカー剤として、樹脂濃度30％の水性ポリアミド系
アンカー剤（スルホン酸塩基、カルボキシル基、アルキ
ル基置換第三級窒素およびアルキレン基置換第四級窒素
を含有）を用い、アンカーコーティング層（４）の厚さ
をいずれも約３μｍに設定したほかは、実施例１に準じ
て電極基板を作製した。

実施例11 基材層（１）として、厚さ100μｍ、レターデーショ
ン値17nmのポリアリーレンエステルフィルム（ユニチカ
株式会社製）を用い、アンカー剤として、樹脂濃度20％
の水性ポリウレタン系アンカー剤（スルホン酸塩基、カ
ルボキシル基、アルキル基置換第三級窒素およびアルキ
レン基置換第四級窒素を含有）を用い、アンカーコーテ
ィング層（４）の厚さをいずれも約1.5μｍに設定した
ほかは、実施例１に準じて電極基板を作製した。

実施例12 基材層（１）として、厚さ100μｍ、レターデーショ
ン値15nmのポリスルホンフィルム（ユニオンカーバイド
社製のユーデルを1,1,2,2−テトラクロルエタンに溶解
した溶液を用いて製膜）を用い、保護層（３）として、
ペンタエリスルトールテトラアクリレート40部、ベンゾ
インエチルエーテル0.02部、メチルセロソルブ60部、ベ
ンゾイルパーオキサイド1.5部からなる組成物を塗布形
成させた層を用いたほかは、実施例２と同様にして電極
基板を作製した。

以上実施例６〜12で得た電極基板の特性値は、実施例
１または２に準ずるものであった。

発明の効果 本発明の電極基板は、特定の耐透気性層を用いたた
め、この電極基板を用いて作製した液晶表示パネルは、
高湿雰囲気下、高温雰囲気機など過酷な条件下で使用し
ても、長期にわたり製造直後と同様の安定した性能が発
揮される。

【図面の簡単な説明】

第１〜５図は本発明の電極基板の例を示した断面図であ
る。 （１）……基材層、（２）……耐透気性層、（３）……
保護層、（４）……アンカーコーティング層、（５）…
…透明電極

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｆ 1/1343 Ｇ０２Ｆ 1/1343

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】エチレン−ビニルアルコール共重合体また
   はポリビニルアルコールから選ばれたビニルアルコール
   系重合体（Ｖ）の共存下に、式 （式中、R¹,R²はＨまたは低級アルキル基、R³は炭素数
   １〜４のアルキレン基）で示されるエチレン性不飽和ア
   ミド系モノマー（Ma）と分子内にカルボキシル基を有す
   るビニル重合性モノマー（Mb）からなるモノマー混合物
   （Ｍ）を重合して得られる液晶表示パネル用電極基板製
   造用の反応性耐透気性ポリマー。
2. 【請求項２】ビニルアルコール系重合体（Ｖ）の水また
   は／および低級アルコール溶液に式（ｉ）で示されるモ
   ノマー混合物（Ｍ）を加えて重合して得られるものであ
   る請求項１記載の液晶表示パネル用電極基板製造用の反
   応性耐透気性ポリマー。
3. 【請求項３】反応性耐透気性ポリマー（Ｐ）における
   （Ma）／（Mb）のモル比が0.05〜5.0であり、かつ
   （Ｍ）／（Ｖ）の重量比が0.02〜0.5である請求項１記
   載の電極基板製造用の反応性耐透気性ポリマー。
4. 【請求項４】レターデーション値80nm以下の非旋光性透
   明フィルムまたはシートよりなる基材層（１）の片面ま
   たは両面に耐透気性層（２）を設けた積層構成を有し、
   該積層物の耐透気性層（２）側の面に透明電極を設ける
   ことにより液晶表示パネル用の基板となすための電極基
   板において、前記耐透気性層（２）が、請求項１の反応
   性耐透気性ポリマー（Ｐ）の層からなることを特徴とす
   る液晶表示パネル用電極基板。
5. 【請求項５】レターデーション値80nm以下の非旋光性透
   明フィルムまたはシートよりなる基材層（１）の片面ま
   たは両面に耐透気性層（２）を設け、さらに該耐透気性
   層（２）のうちの少なくとも一方の層上に架橋性樹脂硬
   化物（Ｃ）よりなる保護層（３）を設けた積層構成を有
   し、該積層物の保護層（３）側の面または耐透気性層
   （２）側の面に透明電極を設けることにより液晶表示パ
   ネル用の基板となすための電極基板において、前記耐透
   気性層（２）が、請求項１の反応性耐透気性ポリマー
   （Ｐ）の層からなることを特徴とする液晶表示パネル用
   電極基板。
6. 【請求項６】反応性耐透気性ポリマー（Ｐ）の層からな
   る耐透気性層（２）の酸素透過率（ASTM D−1434−75に
   準じて測定）が、30cc/24hr・m²・atm以下である請求項
   ４または５記載の電極基板。
7. 【請求項７】基材層（１）が、ポリカーボネート系樹
   脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹
   脂、ポリアリーレンエステル系樹脂、ポリパラバン酸系
   樹脂またはポリイミド系樹脂から形成された層である請
   求項４または５記載の電極基板。
8. 【請求項８】保護層（３）を構成する架橋性樹脂硬化物
   （Ｃ）が、フェノキシエーテル型架橋性樹脂、エポキシ
   樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂ま
   たはウレタン樹脂から選ばれた架橋性樹脂の硬化物であ
   る請求項４または５記載の電極基板。