JPS61251864A - 電子写真感光体 - Google Patents
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- JPS61251864A JPS61251864A JP9045285A JP9045285A JPS61251864A JP S61251864 A JPS61251864 A JP S61251864A JP 9045285 A JP9045285 A JP 9045285A JP 9045285 A JP9045285 A JP 9045285A JP S61251864 A JPS61251864 A JP S61251864A
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- G03G5/0675—Azo dyes
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- G03G5/069—Trisazo dyes containing polymethine or anthraquinone groups
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子写真感光体に関し、とくに特定のアゾ顔料
を感光層に含有させた電子写真感光体に関する。
を感光層に含有させた電子写真感光体に関する。
〔従来技術〕
これまでセレン、硫化カドミウム、酸化亜鉛などの無機
光導電体を感光成分として利用した電子写真感光体は公
知である。
光導電体を感光成分として利用した電子写真感光体は公
知である。
一方、特定の有機化合物が光導電性を示すことが発見さ
れてから、数多くの有機光導電体が開発されて来た。例
えば、ポリ−N−ビニルカル・9ゾール、ポリビニルア
ントラセンなどの有機光導電性Iリマー、カルバゾール
、アントラセン、ピラゾリン類、オキサジアゾール類、
ヒドラゾン類。
れてから、数多くの有機光導電体が開発されて来た。例
えば、ポリ−N−ビニルカル・9ゾール、ポリビニルア
ントラセンなどの有機光導電性Iリマー、カルバゾール
、アントラセン、ピラゾリン類、オキサジアゾール類、
ヒドラゾン類。
ポリアリールアルカン類などの低分子の有機光導電体や
フタロシアニン顔料、アゾ顔料、シアニン染料、多環キ
ノン顔料、ペリレン系顔料、インジゴ染料、チオインジ
ゴ染料あるいはスクエアリック酸メチン染料などの有機
顔料や染料が知られている。特に、光導電性を有する有
機顔料や染料は、無機材料に較べて合成が容易で、しか
も適当な波長域に光導電性を示す化合物を選択できるバ
リエーションが拡大されたことなどから、数多くの光導
電性有機顔料や染料が提案されている。例えば、米国特
許第4123270号、同第4247614号、同第4
251613号、同第4251614号、同第4256
821号、同第4260672号、同第4268596
号、同第4278747号、同第4293628号など
に開示された様に電荷発生層と電荷輸送層に機能分離し
た感光層における電荷発生物質として光導電性を示すシ
スアゾ顔料を用いた電子写真感光体などが知られている
。
フタロシアニン顔料、アゾ顔料、シアニン染料、多環キ
ノン顔料、ペリレン系顔料、インジゴ染料、チオインジ
ゴ染料あるいはスクエアリック酸メチン染料などの有機
顔料や染料が知られている。特に、光導電性を有する有
機顔料や染料は、無機材料に較べて合成が容易で、しか
も適当な波長域に光導電性を示す化合物を選択できるバ
リエーションが拡大されたことなどから、数多くの光導
電性有機顔料や染料が提案されている。例えば、米国特
許第4123270号、同第4247614号、同第4
251613号、同第4251614号、同第4256
821号、同第4260672号、同第4268596
号、同第4278747号、同第4293628号など
に開示された様に電荷発生層と電荷輸送層に機能分離し
た感光層における電荷発生物質として光導電性を示すシ
スアゾ顔料を用いた電子写真感光体などが知られている
。
この様な有機光導電体を用いた電子写真感光体は、ノ4
イングーを適当に選択することによって塗工で生産でき
るため、極め【生産性が高く、安価な感光体を提供でき
、しかも有機顔料の選択によって感光波長域を自在にコ
ントロールできる利点を有している反面この感光体は感
度及び耐久性に劣るためこれまで実用化されているもの
はごく僅かである。
イングーを適当に選択することによって塗工で生産でき
るため、極め【生産性が高く、安価な感光体を提供でき
、しかも有機顔料の選択によって感光波長域を自在にコ
ントロールできる利点を有している反面この感光体は感
度及び耐久性に劣るためこれまで実用化されているもの
はごく僅かである。
本発明の目的は新規な電子写真感光体を提供することに
ある。
ある。
本発明の別の目的は実用上すぐれた感度と耐久性を備え
た電子写真感光体を提供することにある。
た電子写真感光体を提供することにある。
本発明に従って次の一般式(1)
%式%(1)
(式中Rは置換基を有してもよいアルキル、アラルキル
、アリールあるいはアシルを示し、Ar、yAr*Ar
及びAr4はそれぞれ置換基を有してもよいアリレ
ーンあるいは複素環基を示し、Aはフェノール性OH基
を有するカプラー残基を示す)で表わされるアゾ顔料を
感光層に含有することを特徴とする電子写真感光体が提
供される。
、アリールあるいはアシルを示し、Ar、yAr*Ar
及びAr4はそれぞれ置換基を有してもよいアリレ
ーンあるいは複素環基を示し、Aはフェノール性OH基
を有するカプラー残基を示す)で表わされるアゾ顔料を
感光層に含有することを特徴とする電子写真感光体が提
供される。
上記一般式(1)においてRの定義としてアルキル基は
例えば、メチル、エチル、グロビル、ブチルなどであり
、アラルキル基は例えばベンジル、フェネチル、ナフチ
ルメチルなどであり、アリール基はフェニル、ジフェニ
ル、ナフチルなどであり、アシル基はアセチル、グロピ
オニル、ブチリル。
例えば、メチル、エチル、グロビル、ブチルなどであり
、アラルキル基は例えばベンジル、フェネチル、ナフチ
ルメチルなどであり、アリール基はフェニル、ジフェニ
ル、ナフチルなどであり、アシル基はアセチル、グロピ
オニル、ブチリル。
ベンゾイルなどが例示される。また、Rが置換されても
よい置換基としては例えばヒrロキシ基。
よい置換基としては例えばヒrロキシ基。
ハロゲノ(クロル、ブロモ、ヨードナト)、アルキル(
メチル、エチル、グロビル、ブチルなど)。
メチル、エチル、グロビル、ブチルなど)。
アルコキシ〔メトキシ、エトキシ、グロIキシ。
ブトキシなど〕、アリールオキシ基(フェニルオキシな
ど)、置換アミノ(ジメチルアミノシジエチルアミノ、
ゾペンゾルアミノ、ピロリゾノウピペリジノ、モルホリ
ノなど)、ニトロ、シアノ。
ど)、置換アミノ(ジメチルアミノシジエチルアミノ、
ゾペンゾルアミノ、ピロリゾノウピペリジノ、モルホリ
ノなど)、ニトロ、シアノ。
アシル(アセチル、ベンゾイルなど)などが例示される
。
。
またAr、〜Ar aの定義としてアリーレンは例えば
フェニレン、ビフェニレン、ナフチレン、アンスリレン
などであり、複素環基は例えばベンゾオキサゾール、ベ
ンゾチアゾール、ピリジン、キノリン、チオフェン、カ
ル・ぐプールなどの2価の基であり、これらは更に前記
め如き置換基で置換されてもよい。
フェニレン、ビフェニレン、ナフチレン、アンスリレン
などであり、複素環基は例えばベンゾオキサゾール、ベ
ンゾチアゾール、ピリジン、キノリン、チオフェン、カ
ル・ぐプールなどの2価の基であり、これらは更に前記
め如き置換基で置換されてもよい。
さらに、一般式(1)におけるAのフェノール性OH基
を有するカプラー残基としては、例えば下記の一般式(
2)〜(8)で示される:O 0H (式中、Xは置換基を有していても良いナフタレン環、
ベンゼン環と縮合して多環芳香環あるいは複素環を形成
する残基;R3及びR4は水素、置換基を有してもよい
アルキル、アラルキル、アリ−、ルあるいは複素環基ま
たは一緒になって窒素原子と共に環状アミノ基を形成す
る;R5及びR6はそれぞれ置換基を有してもよいアル
キル、アラルキル、アリールを示す;Yは芳香族炭化水
素の2価の基あるいは窒素原子と一緒になりて複素環の
2価の基を形成する:R7は置換基を有してもよいアリ
ールあるいは複素環基を示す;R8及びR2はそれぞれ
置換基を有してもよいアルキル、アラルキル、アリール
あるいは複素環基を示す)。
を有するカプラー残基としては、例えば下記の一般式(
2)〜(8)で示される:O 0H (式中、Xは置換基を有していても良いナフタレン環、
ベンゼン環と縮合して多環芳香環あるいは複素環を形成
する残基;R3及びR4は水素、置換基を有してもよい
アルキル、アラルキル、アリ−、ルあるいは複素環基ま
たは一緒になって窒素原子と共に環状アミノ基を形成す
る;R5及びR6はそれぞれ置換基を有してもよいアル
キル、アラルキル、アリールを示す;Yは芳香族炭化水
素の2価の基あるいは窒素原子と一緒になりて複素環の
2価の基を形成する:R7は置換基を有してもよいアリ
ールあるいは複素環基を示す;R8及びR2はそれぞれ
置換基を有してもよいアルキル、アラルキル、アリール
あるいは複素環基を示す)。
上記Xの多環芳香環としては例えばナフタレン。
アントラセン、カルバゾール、ベンズカルバソール、ゾ
ペンゾフラン、ベンゾナフトフラン、ノフェニレンサル
ファイドなどが示される。これらは前記の如き置換基で
#換されてもよい。なお、Xの縮合した環はナフタレン
、アントラセン、ベンズカルバゾールとすることが望ま
しい。またR3゜R4の場合アルキルは例えばメチル、
エチル、プロピル、ブチルなどが示され、アラルキルは
例えばべ/ジル、7エネチル、ナフチルメチルなどであ
り、アリールは例えばフェニル、ジフェニル、ナフチル
、アンスリルなどである。とくにR3が水素でありR4
が〇−位にハロrン、ニトロ、シアン。
ペンゾフラン、ベンゾナフトフラン、ノフェニレンサル
ファイドなどが示される。これらは前記の如き置換基で
#換されてもよい。なお、Xの縮合した環はナフタレン
、アントラセン、ベンズカルバゾールとすることが望ま
しい。またR3゜R4の場合アルキルは例えばメチル、
エチル、プロピル、ブチルなどが示され、アラルキルは
例えばべ/ジル、7エネチル、ナフチルメチルなどであ
り、アリールは例えばフェニル、ジフェニル、ナフチル
、アンスリルなどである。とくにR3が水素でありR4
が〇−位にハロrン、ニトロ、シアン。
トリフルオロメチルなどの電子吸引性基を有するフェニ
ル基である構造を有する化合物が好ましい。
ル基である構造を有する化合物が好ましい。
これらは置換基を有してもよい。複素環としてはカルバ
ゾール、ジペンゾフラ/、ベンズイミダシロン、ベンズ
チアゾール、チアゾール、ピリジンなどが例示される。
ゾール、ジペンゾフラ/、ベンズイミダシロン、ベンズ
チアゾール、チアゾール、ピリジンなどが例示される。
R6及びR6の具体例は前記R3# R4で例示された
ものと同じものが挙げられる。これらは前記の如き置換
基で置換されてもよい。更にR3−R6は他の置換基例
えばメトキシ、エトキシ+ fo yy?キシ等のアル
コキシ基、フルオル、クロル、ブロモ。
ものと同じものが挙げられる。これらは前記の如き置換
基で置換されてもよい。更にR3−R6は他の置換基例
えばメトキシ、エトキシ+ fo yy?キシ等のアル
コキシ基、フルオル、クロル、ブロモ。
ヨードなどのハロダン、ニトロ基、シアン基、ジメチル
アミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニ
ルアミノ等の置換アミン基等により置換されていても良
い。
アミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニ
ルアミノ等の置換アミン基等により置換されていても良
い。
Yの定義にお−て2価の芳香族炭化水素基としては例え
ば0−フェニレンの如き単環式芳香族炭化水素基、0−
ナフチレン、ペリナフチレン。
ば0−フェニレンの如き単環式芳香族炭化水素基、0−
ナフチレン、ペリナフチレン。
1.2−7ンスリレン、 9,10−フェナンスリレン
などの縮合多環式芳香族炭化水素基が挙げられる。
などの縮合多環式芳香族炭化水素基が挙げられる。
また窒素原子と一緒になって2価の複素環を形成する例
としては、3,4−ピラゾールジイル基。
としては、3,4−ピラゾールジイル基。
2.3−ピリジ/ジイル基、4,5−ピリミノンジイル
i、6.7−インダゾールノイル基、5.6−ペンズイ
ミダゾールジイル基、6,7−キラリンジイル基等の5
〜6員複素環の2価の基が挙げられる。
i、6.7−インダゾールノイル基、5.6−ペンズイ
ミダゾールジイル基、6,7−キラリンジイル基等の5
〜6員複素環の2価の基が挙げられる。
R7及びR8のアルキル基、アリール基、アラルキル基
又は複素環基としてはメチル、エチル、 7’ 。
又は複素環基としてはメチル、エチル、 7’ 。
ピル、fチルなど;フェニル、ナフチル、アンスリル、
ピレニルなど;ベンジル、7エネチル、す7チルメチル
など;ピリジル、チェニル、フリル。
ピレニルなど;ベンジル、7エネチル、す7チルメチル
など;ピリジル、チェニル、フリル。
カルバゾリルなどが例示される。これらは前記の如き置
換基で置換されてもよい。
換基で置換されてもよい。
R,、R8の示すアルキル基、アリール基、アラルキル
基、ヘテロ環基の置換基としてはフッ素。
基、ヘテロ環基の置換基としてはフッ素。
塩素、臭素、ヨウ素等のハロダン、メチル、エチル、グ
ロビル、ブチル等のアルキル基、メトキシ。
ロビル、ブチル等のアルキル基、メトキシ。
エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等のアルコキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、
ジグロピルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミ
ノ、モルホリノ、ピペリジノ。
トロ基、シアノ基、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、
ジグロピルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミ
ノ、モルホリノ、ピペリジノ。
ピロリジノ等の置換アミノ基等があげられる。又、R,
、R8は結合炭素と共に5〜6負環を形成する残基を示
すが、この5〜6員環は縮合芳香族環を有していてもよ
い。このような例としては、シクロペンチリデン、シク
ロヘキンリデン、9−2ルオレニリデン、9−キサンテ
ニリデン等の基が挙げられる。
、R8は結合炭素と共に5〜6負環を形成する残基を示
すが、この5〜6員環は縮合芳香族環を有していてもよ
い。このような例としては、シクロペンチリデン、シク
ロヘキンリデン、9−2ルオレニリデン、9−キサンテ
ニリデン等の基が挙げられる。
式(8)中のR,、R,。は水素原子、置換基を有して
も良い、メチル、エチル、プロピル、ブチル等のアルキ
ル基、ベンジル、フェネチル、ナフチルメチル等のアラ
ルキル基、フェニル、ナフチル、アンスリル、ジフェニ
ル等のアリール基、又は、カルバゾール、ジベンゾフラ
ン、ペンズイミタソロン、ベンズチアゾール、チアゾー
ル、ピリジン等のへテロ環基な表わす。
も良い、メチル、エチル、プロピル、ブチル等のアルキ
ル基、ベンジル、フェネチル、ナフチルメチル等のアラ
ルキル基、フェニル、ナフチル、アンスリル、ジフェニ
ル等のアリール基、又は、カルバゾール、ジベンゾフラ
ン、ペンズイミタソロン、ベンズチアゾール、チアゾー
ル、ピリジン等のへテロ環基な表わす。
R7,R1゜の示す、アルキル基、アラルキル基。
アリール基、ヘテロ環基の置換基としては、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素等のハロダン、メチル。
素、臭素、ヨウ素等のハロダン、メチル。
エチル、プロピル、ブチル等のアルキル基、メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等のアルコキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、ジメチルアミノ。
エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等のアルコキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、ジメチルアミノ。
ジグロビルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミ
ノ、モルホリノ、ピペリジノ、ピロリジノ等の置換アミ
ン基等が挙げられる。
ノ、モルホリノ、ピペリジノ、ピロリジノ等の置換アミ
ン基等が挙げられる。
本発明においては理論に拘束されるものではないが、一
般式(1)のトリスアゾ顔料の骨化をなすジアリールア
ミンの窒素原子に置換基Rとしてアルキル、アラルキル
、アリール又はアシル基を導入することにより顔料の極
性に変化をもたらしキャリヤー生成効率あるいはキャリ
ヤー搬送性のいずれか一方または双方が良好となるため
感光体としての感度が向上し、耐久使用時における電位
安定性が確保されることになる。かくして高感度が達成
されるので、高速の複写機、レーザービームプリンター
、LEDfリンター、液晶プリンターなどへの適用が可
能となり、また感光体の前歴によらず安定した電位が確
保されるため安定した美しい画像が得られる。
般式(1)のトリスアゾ顔料の骨化をなすジアリールア
ミンの窒素原子に置換基Rとしてアルキル、アラルキル
、アリール又はアシル基を導入することにより顔料の極
性に変化をもたらしキャリヤー生成効率あるいはキャリ
ヤー搬送性のいずれか一方または双方が良好となるため
感光体としての感度が向上し、耐久使用時における電位
安定性が確保されることになる。かくして高感度が達成
されるので、高速の複写機、レーザービームプリンター
、LEDfリンター、液晶プリンターなどへの適用が可
能となり、また感光体の前歴によらず安定した電位が確
保されるため安定した美しい画像が得られる。
本発明に用いられるジスアゾ顔料の代表例を以下に列挙
する。
する。
シスアゾ顔料
7’M−
t
t
Ct
これらのトリスアゾ顔料は、1種または2種以上組合せ
て用いることができる。
て用いることができる。
また、これらの顔料は、例えば
一般式 R
H2N−Ar 、−CH= 0H−Ar 2−N−Ar
、 −N−N−Ar 4−NH2(但し式中のRr
Ar1p Ar2t Ar5e Ar4は一般式(1)
中の記号と同じ意味を表わす) で示されるジアミンを常法によりテトラゾ化し、次いで
対応するカプラーをアルカリの存在下に水素カップリン
グするか、または前記のジアミンのテトラゾニウム塩を
ホウフッ化塩あるいは塩化亜鉛複塩等の形で一旦単離し
た後、適当な溶媒例えばN、N−ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド等の溶媒中でアルカリの存在下
にカップラーとカップリングすることにより容易に製造
することができる。
、 −N−N−Ar 4−NH2(但し式中のRr
Ar1p Ar2t Ar5e Ar4は一般式(1)
中の記号と同じ意味を表わす) で示されるジアミンを常法によりテトラゾ化し、次いで
対応するカプラーをアルカリの存在下に水素カップリン
グするか、または前記のジアミンのテトラゾニウム塩を
ホウフッ化塩あるいは塩化亜鉛複塩等の形で一旦単離し
た後、適当な溶媒例えばN、N−ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド等の溶媒中でアルカリの存在下
にカップラーとカップリングすることにより容易に製造
することができる。
次に、本発明で用いるトリスアゾ顔料の代表的な合成例
を下記に示す。
を下記に示す。
合成例(前記例示のジスアゾ顔料/161の合成):5
00−ピー力に水80d、濃塩酸16.6+d(0,1
9モル)及び 12.17#(0,029モル)を入れ、氷水浴で冷却
し乍ら攪拌し液温を3℃とした。次に亜硝酸ソーン4.
2II(0,061モル)を水7−に溶かした液を液温
を3〜10℃の範囲にコントロールしながら10分間で
滴下し、滴下終了後同温度で更に30分攪拌した。反応
液にカーメンを加え濾過してテトラゾ化液を得意。
00−ピー力に水80d、濃塩酸16.6+d(0,1
9モル)及び 12.17#(0,029モル)を入れ、氷水浴で冷却
し乍ら攪拌し液温を3℃とした。次に亜硝酸ソーン4.
2II(0,061モル)を水7−に溶かした液を液温
を3〜10℃の範囲にコントロールしながら10分間で
滴下し、滴下終了後同温度で更に30分攪拌した。反応
液にカーメンを加え濾過してテトラゾ化液を得意。
次に、21ビーカーに水700−を入れ苛性ソーダ21
19(0,53モル)を溶解し九後ナフトールAs(3
−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸アニリド)16.1&(
0,061モル)を添加して溶解した。
19(0,53モル)を溶解し九後ナフトールAs(3
−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸アニリド)16.1&(
0,061モル)を添加して溶解した。
このカプラー溶液を6℃に冷却し液温を6〜10℃にコ
ントロールしながら前述のテトラゾ化液を30分かけて
攪拌下滴下して、その後室温で2時間攪拌し更に1晩放
置した。反応液を、濾過後、水洗濾過し固形分換算で粗
All顔料25.8.9の水ヘーストを得た。次に40
0−〇N、N−ツメチルホルムアミドを用い室温で攪拌
濾過を4回繰返した。次に400−のメチルエチルケト
ンで各2回攪拌濾過をくシ返し念後、室温で減圧乾燥し
て精製顔料24.2.9を得た。
ントロールしながら前述のテトラゾ化液を30分かけて
攪拌下滴下して、その後室温で2時間攪拌し更に1晩放
置した。反応液を、濾過後、水洗濾過し固形分換算で粗
All顔料25.8.9の水ヘーストを得た。次に40
0−〇N、N−ツメチルホルムアミドを用い室温で攪拌
濾過を4回繰返した。次に400−のメチルエチルケト
ンで各2回攪拌濾過をくシ返し念後、室温で減圧乾燥し
て精製顔料24.2.9を得た。
収率は86.lチであった。 融点〉250℃元素分析
計算値(チ) 実験値(%)C: 75.6
0 75.70H: 4.78
4.69N : 13.01
13.10以上代表的な顔料の合成法について述べ
たが一般式(1)で示される他のトリスアゾ顔料も同様
にして合成される。但し、アルカリ水溶液に対するカプ
ラーの溶屑度が低い場合や前記一般式(7)で示される
タイプのカプラーの如き加水分解され易いカプラーを用
いてカップリング反応を行なう場合はカプラーをDMF
、 DMAcの如き溶剤に溶解し酢酸ソーダ、ピリジ
ノ、トリメチルアミン、トリメチルアミンなどの有機の
塩基をm−てカプラーや反応溶剤の加水分解に注意し乍
らテトラゾニウム塩と反応させることが望ましい。
0 75.70H: 4.78
4.69N : 13.01
13.10以上代表的な顔料の合成法について述べ
たが一般式(1)で示される他のトリスアゾ顔料も同様
にして合成される。但し、アルカリ水溶液に対するカプ
ラーの溶屑度が低い場合や前記一般式(7)で示される
タイプのカプラーの如き加水分解され易いカプラーを用
いてカップリング反応を行なう場合はカプラーをDMF
、 DMAcの如き溶剤に溶解し酢酸ソーダ、ピリジ
ノ、トリメチルアミン、トリメチルアミンなどの有機の
塩基をm−てカプラーや反応溶剤の加水分解に注意し乍
らテトラゾニウム塩と反応させることが望ましい。
本発明の好ましい具体例では、感光層を電荷発生層と電
荷輸送層に機能分離した電子写真感光体における電荷発
生物質に前記一般式(1)に示すトリスアゾ顔料を用い
ることができる。電荷発生層は、十分な吸光度を得るた
めに、できる限シ多くの前記トリスアゾ顔料を含有し、
且つ発生した電荷キャリアが電荷発生層内でトラップさ
れるのを防ぐために、薄膜層、例えば5ミクロン以下、
好ましくは0.01ミクロン〜1ミクロンの膜厚をもつ
薄膜層とすることが好ましい。このことは、入射光量の
大部分が電荷発生層で吸収されて、多くの電荷キャリア
を生成すること、さらに発生した電荷キャリアを再結合
や捕獲(トラップ)によシ失活すること、なく電荷輸送
層に注入する必要があることに帰因している。
荷輸送層に機能分離した電子写真感光体における電荷発
生物質に前記一般式(1)に示すトリスアゾ顔料を用い
ることができる。電荷発生層は、十分な吸光度を得るた
めに、できる限シ多くの前記トリスアゾ顔料を含有し、
且つ発生した電荷キャリアが電荷発生層内でトラップさ
れるのを防ぐために、薄膜層、例えば5ミクロン以下、
好ましくは0.01ミクロン〜1ミクロンの膜厚をもつ
薄膜層とすることが好ましい。このことは、入射光量の
大部分が電荷発生層で吸収されて、多くの電荷キャリア
を生成すること、さらに発生した電荷キャリアを再結合
や捕獲(トラップ)によシ失活すること、なく電荷輸送
層に注入する必要があることに帰因している。
電荷発生層は、前述のトリスアゾ顔料を適当なバインダ
ーに分散させ、これを基体の上に塗工することによって
形成でき、また真空蒸着装置により蒸着膜を形成するこ
とによって得ることができる。電荷発生層を塗工によっ
て形成する際に用いうるバインダーとしては広範な絶縁
性樹脂から選択でき、またポリ−N−ビニルカルバゾー
ル、ポリビニルアントラセンやポリビニルピレンナトノ
有機光導1性Iリマーから選択できる。好ましくは、ぼ
りビニルブチラール、ボリアリレート(ビスフェノール
Aとフタル酸の縮重合体など)ポリカーブネート(ビス
フェノールA、Zタイプ等)、71Jエステル、フェノ
キシ樹脂、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアクリ
ルアミド樹脂、ポリアミド、ポリビニルピリシン、セル
ロース系樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン
、Iリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンナトの
絶縁性樹脂を挙げることができる。電荷発生層中に含有
する樹脂は、803i量チ以下、好ましくは40重没チ
以下が適している。
ーに分散させ、これを基体の上に塗工することによって
形成でき、また真空蒸着装置により蒸着膜を形成するこ
とによって得ることができる。電荷発生層を塗工によっ
て形成する際に用いうるバインダーとしては広範な絶縁
性樹脂から選択でき、またポリ−N−ビニルカルバゾー
ル、ポリビニルアントラセンやポリビニルピレンナトノ
有機光導1性Iリマーから選択できる。好ましくは、ぼ
りビニルブチラール、ボリアリレート(ビスフェノール
Aとフタル酸の縮重合体など)ポリカーブネート(ビス
フェノールA、Zタイプ等)、71Jエステル、フェノ
キシ樹脂、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアクリ
ルアミド樹脂、ポリアミド、ポリビニルピリシン、セル
ロース系樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン
、Iリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンナトの
絶縁性樹脂を挙げることができる。電荷発生層中に含有
する樹脂は、803i量チ以下、好ましくは40重没チ
以下が適している。
これらの樹脂を溶解する溶剤は、樹脂の種類によって異
なり、また下達の電荷輸送層や下引層を溶解しないもの
から選択することが好ましい。具体的な有機溶剤として
は、メタノール、エタノール、イソプロ)4メールなど
のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、ジク
ロヘキサノンなどのケトン類、N、N−ツメチルホルム
アミド、N、N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類
、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメ
チルエーテルなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチ
ルなどのエステル類、クロロホルム、塩化メチレン、ジ
クロルエチレン、四塩化炭素、トリクロルエチレンなど
の脂肪族、ハロダン化炭化水素類あるいはベンゼン、ト
ルエン、キシレン、リグロイン、モノクロルベンゼン、
ジクロルベンゼンなどの芳香族類などを用いることがで
きる。
なり、また下達の電荷輸送層や下引層を溶解しないもの
から選択することが好ましい。具体的な有機溶剤として
は、メタノール、エタノール、イソプロ)4メールなど
のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、ジク
ロヘキサノンなどのケトン類、N、N−ツメチルホルム
アミド、N、N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類
、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメ
チルエーテルなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチ
ルなどのエステル類、クロロホルム、塩化メチレン、ジ
クロルエチレン、四塩化炭素、トリクロルエチレンなど
の脂肪族、ハロダン化炭化水素類あるいはベンゼン、ト
ルエン、キシレン、リグロイン、モノクロルベンゼン、
ジクロルベンゼンなどの芳香族類などを用いることがで
きる。
塗工は、浸漬コーティング法、スプレーコーチインク法
、スピンナーコーチインク法、ヒ−)’:ff−ティン
グ法、マイヤーバーコーティング法、グレードコーティ
ング法、ローラーコーチインク法、カーテンコーティン
グ法などのコーティング法を用いて行なうことができる
。乾燥は、室温における指触乾燥後、加熱乾燥する方法
が好ましい。加熱乾燥は、30℃〜200℃の温度で5
分〜2時間の範囲の時間で静止または送風下で行なうこ
とができる。
、スピンナーコーチインク法、ヒ−)’:ff−ティン
グ法、マイヤーバーコーティング法、グレードコーティ
ング法、ローラーコーチインク法、カーテンコーティン
グ法などのコーティング法を用いて行なうことができる
。乾燥は、室温における指触乾燥後、加熱乾燥する方法
が好ましい。加熱乾燥は、30℃〜200℃の温度で5
分〜2時間の範囲の時間で静止または送風下で行なうこ
とができる。
電荷輸送層は、前述の電荷発生層と電気的に接続されて
おり、電界の存在下で電荷発生層から注入された電荷キ
ャリアを受は取るとともに、これらの電荷キャリアを表
面まで輸送できる機能を有している。この際、この電荷
輸送層は、電荷発生層の上に積層されていてもよく、ま
たその下に積層されていてもよい。
おり、電界の存在下で電荷発生層から注入された電荷キ
ャリアを受は取るとともに、これらの電荷キャリアを表
面まで輸送できる機能を有している。この際、この電荷
輸送層は、電荷発生層の上に積層されていてもよく、ま
たその下に積層されていてもよい。
電荷輸送層が電荷発生層の上に形成される場合、電荷輸
送層における電荷キャリアを輸送する物質(以下、単に
電荷輸送物質という)は、前述の電荷発生層が感応する
電磁波の波長域に実質的に非感応性であることが好まし
い。理由は電荷輸送層がフィルター効果をもち感度低下
をきたすのを防止する為である。ここでいう「電磁波」
とはγ線。
送層における電荷キャリアを輸送する物質(以下、単に
電荷輸送物質という)は、前述の電荷発生層が感応する
電磁波の波長域に実質的に非感応性であることが好まし
い。理由は電荷輸送層がフィルター効果をもち感度低下
をきたすのを防止する為である。ここでいう「電磁波」
とはγ線。
、′X線、紫外線、可視光線、近赤外線、赤外線、遠赤
外線などを包含する広義の「光線」の定義を包含する。
外線などを包含する広義の「光線」の定義を包含する。
電荷輸送物質としては電子輸送性物質と正孔輸送性物質
があシ、電子輸送性物質としては、クロルアニル、ブロ
モアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジ
メタン、2,4.7−ドリニトロー9−フルオレノン、
2,4,5.7−テトラニトロ−9−フルオレノン、2
,4,7− トリニトロ−9−ジシアノメチレンフルオ
レノン、2,4,5.7−チトラニトロキサントン、2
,4.8− )リニトロチオキサントン等の電子吸引性
物質やこれら電子吸引物質を高分子化したもの等がある
。
があシ、電子輸送性物質としては、クロルアニル、ブロ
モアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジ
メタン、2,4.7−ドリニトロー9−フルオレノン、
2,4,5.7−テトラニトロ−9−フルオレノン、2
,4,7− トリニトロ−9−ジシアノメチレンフルオ
レノン、2,4,5.7−チトラニトロキサントン、2
,4.8− )リニトロチオキサントン等の電子吸引性
物質やこれら電子吸引物質を高分子化したもの等がある
。
正孔輸送性物質としては、ピレン、N−エチルカルバソ
ール、N−イソゾロビルカルバゾール、N−メチル−N
−フェニルヒドラジノ−3−メチリデン−9−エチルカ
ルバゾール、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチ
リデン−9−エチルカルバゾール、N、N−ジフェニル
ヒドラジノ−3−メチリデン−10−エチルフェノチア
ジン、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチリデン
−10−エチルフェノキサジン、P−ノエチルアミノベ
ンズアルデヒドーN、N−ジフェニルヒドラゾ/、P−
ジエチルアミノベンズアルデヒド−N−α−ナフチル−
N−フェニルヒドラゾン、P−ピロリジノベンズアルデ
ヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾ−y 、L3+3−
ト’)メチルインドレニン−ω−アルデヒド−N、N
−ジフェニルヒドラゾン、P−ジエチルベンズアルデヒ
ド−3−メチルベンズチアゾリノン−2−ヒドラゾン等
のヒドラゾン類、2,5−ビス(p−ジエチルアミノフ
ェニル) −1,3,4−オキサノ゛rゾール1−フェ
ニル−3−(P−ジエチルアミノスチリル)−5−(P
−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−(キノリ
ル(2) ]−3−(P−ジエチルアミノスチリル)−
5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−
〔ピリジル(2) ] −3−CP−ジエチルアミノス
チリル)−5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピラゾ
リン、1−(6−メドキシーピリヅル(2)〕−3−(
P−ジエチルアミノスチリル)−5−(P−ジエチルア
ミノフェニル)ピラソIJン、1−〔ピリジル(3)
) −3−(P−ジエチルアミノスチリル)−s −(
p−ジエチルアミノフェニルピラゾリン、1−(ピリジ
ル(2) ) −3−(p−ジエチルアミノスチリル)
−5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1
−(ピリジル(2) :) −3−(P−ジエチルアミ
ノステリル)−4−メチル−5−(P−ジエチルアミノ
フェニル)ピラゾリン、1−〔ビリゾル(2) ) −
3−(α−メチル−P−ジエチルアミノスチリル)−5
−(P−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−7
エニルー3−(P−ジエチルアミノスチリル)−4−/
’チルー5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリ
ン、1−フヱニルー3−(α−ベンジル−P−ジエチル
アミノスチリル)−5−(P−ジエチルアミノフェニル
)ピラゾリン、スピロビラソリンなどのピラゾリン類、
2−(P−ジエチルアミノスチリル)−6−ジニチルア
ミノベ/ズオキサゾール、2−(P−ジエチルアミノフ
ェニル)−4−(P−ジメチルアミノフェニル) −5
−(2−クロロフェニル)オキサゾール等のオキサゾー
ル系化合物、2−(P−ジエチルアミノスチリル)−6
−ジニチルアミノベンゾチアゾール等のチアゾール系化
合物、ビス(4−ジエチルアミン−2−メチルフェニル
)−フェニルメタン等のトリアリールメタン系化合物、
1,1−ビス(4−N、N −ジエチルアミノ−2−メ
チルフェニル)へブタン、1.1,2.2−テトラキス
(4−N、N−ジメチルアミン−2−メチルフェニル)
エタン等の4リアIフールアルカン類、トリフェニルア
ミン、スチルベン誘導体、スチリル基を有する多環芳香
族化合物、ヘテロi化合m、N IJ −N−ビニルカ
ルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセ
ン、ポリビニルアクリジン、ポリ−9−ビニルフェニル
アントラセン、ピレン−ホルムアルデヒド樹脂、エチル
カルバゾールホルムアルデヒド樹脂等があるO これらの有機電荷輸送物質の他に、セレン、セレン−チ
ルアモルファスシリコン、硫化カドミウムなどの無機材
料も用いることができる。
ール、N−イソゾロビルカルバゾール、N−メチル−N
−フェニルヒドラジノ−3−メチリデン−9−エチルカ
ルバゾール、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチ
リデン−9−エチルカルバゾール、N、N−ジフェニル
ヒドラジノ−3−メチリデン−10−エチルフェノチア
ジン、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチリデン
−10−エチルフェノキサジン、P−ノエチルアミノベ
ンズアルデヒドーN、N−ジフェニルヒドラゾ/、P−
ジエチルアミノベンズアルデヒド−N−α−ナフチル−
N−フェニルヒドラゾン、P−ピロリジノベンズアルデ
ヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾ−y 、L3+3−
ト’)メチルインドレニン−ω−アルデヒド−N、N
−ジフェニルヒドラゾン、P−ジエチルベンズアルデヒ
ド−3−メチルベンズチアゾリノン−2−ヒドラゾン等
のヒドラゾン類、2,5−ビス(p−ジエチルアミノフ
ェニル) −1,3,4−オキサノ゛rゾール1−フェ
ニル−3−(P−ジエチルアミノスチリル)−5−(P
−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−(キノリ
ル(2) ]−3−(P−ジエチルアミノスチリル)−
5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−
〔ピリジル(2) ] −3−CP−ジエチルアミノス
チリル)−5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピラゾ
リン、1−(6−メドキシーピリヅル(2)〕−3−(
P−ジエチルアミノスチリル)−5−(P−ジエチルア
ミノフェニル)ピラソIJン、1−〔ピリジル(3)
) −3−(P−ジエチルアミノスチリル)−s −(
p−ジエチルアミノフェニルピラゾリン、1−(ピリジ
ル(2) ) −3−(p−ジエチルアミノスチリル)
−5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1
−(ピリジル(2) :) −3−(P−ジエチルアミ
ノステリル)−4−メチル−5−(P−ジエチルアミノ
フェニル)ピラゾリン、1−〔ビリゾル(2) ) −
3−(α−メチル−P−ジエチルアミノスチリル)−5
−(P−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−7
エニルー3−(P−ジエチルアミノスチリル)−4−/
’チルー5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリ
ン、1−フヱニルー3−(α−ベンジル−P−ジエチル
アミノスチリル)−5−(P−ジエチルアミノフェニル
)ピラゾリン、スピロビラソリンなどのピラゾリン類、
2−(P−ジエチルアミノスチリル)−6−ジニチルア
ミノベ/ズオキサゾール、2−(P−ジエチルアミノフ
ェニル)−4−(P−ジメチルアミノフェニル) −5
−(2−クロロフェニル)オキサゾール等のオキサゾー
ル系化合物、2−(P−ジエチルアミノスチリル)−6
−ジニチルアミノベンゾチアゾール等のチアゾール系化
合物、ビス(4−ジエチルアミン−2−メチルフェニル
)−フェニルメタン等のトリアリールメタン系化合物、
1,1−ビス(4−N、N −ジエチルアミノ−2−メ
チルフェニル)へブタン、1.1,2.2−テトラキス
(4−N、N−ジメチルアミン−2−メチルフェニル)
エタン等の4リアIフールアルカン類、トリフェニルア
ミン、スチルベン誘導体、スチリル基を有する多環芳香
族化合物、ヘテロi化合m、N IJ −N−ビニルカ
ルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセ
ン、ポリビニルアクリジン、ポリ−9−ビニルフェニル
アントラセン、ピレン−ホルムアルデヒド樹脂、エチル
カルバゾールホルムアルデヒド樹脂等があるO これらの有機電荷輸送物質の他に、セレン、セレン−チ
ルアモルファスシリコン、硫化カドミウムなどの無機材
料も用いることができる。
また、これらの電荷輸送物質は、1種または2種以上組
合せて用いることができる。
合せて用いることができる。
電荷輸送物質に成膜性を有していない時には、適当なバ
インダーを選択することによって被膜形成できる。バイ
ンダーとして使用できる樹脂は、例えばアクリル樹脂ボ
リアリレート、ポリエステル、ポリカー−ネート、(ビ
スフェノールA、Zタイプ等)、ポリスチレンアクリロ
ニトリル−スチレンコポリマー、アクリロニトリル−ブ
タジェンコポリマー、ポリビニルブチラール、プリビニ
ルホルマール、ポリスルホン、ポリアクリルアミド、ポ
リアミド、塩素化ゴムなどの絶縁性樹脂、あるいはポリ
−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、
ポリビニルピレンなどの有機光導電性ポリマーを拳げる
ことができる。
インダーを選択することによって被膜形成できる。バイ
ンダーとして使用できる樹脂は、例えばアクリル樹脂ボ
リアリレート、ポリエステル、ポリカー−ネート、(ビ
スフェノールA、Zタイプ等)、ポリスチレンアクリロ
ニトリル−スチレンコポリマー、アクリロニトリル−ブ
タジェンコポリマー、ポリビニルブチラール、プリビニ
ルホルマール、ポリスルホン、ポリアクリルアミド、ポ
リアミド、塩素化ゴムなどの絶縁性樹脂、あるいはポリ
−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、
ポリビニルピレンなどの有機光導電性ポリマーを拳げる
ことができる。
電荷輸送層は、電荷キャリアを輸送できる限界があるの
で、必要以上に膜厚を厚くすることができない。一般的
には、5ミクロン〜30ミクロンであるが、好ましい範
囲は8ミクロン〜20ミクロンである。塗工によって電
荷輸送層を形成する際には、前述した様な適当なコーテ
ィング法を用いることができる。
で、必要以上に膜厚を厚くすることができない。一般的
には、5ミクロン〜30ミクロンであるが、好ましい範
囲は8ミクロン〜20ミクロンである。塗工によって電
荷輸送層を形成する際には、前述した様な適当なコーテ
ィング法を用いることができる。
この様な電荷発生層と電荷輸送層の積層構造からなる感
光層は、導電層を有する基体の上に設けられる。導電層
を有する基体としては、基体自体が導電性をもつもの、
例えばアルミニウム、アルミニウム合金、銅、亜鉛、ス
テンレス、バナジウム、モリブデン、クロム、チタン、
ニッケル、インジウム、金や白金などを用いることがで
き、その他にアルミニウム、アルミニウム合金、酸化イ
ンジウム、酸化錫、酸化インジウム−酸化錫合金などを
真空蒸着法によって被膜形成された層を有するグラスチ
ック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩
化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂
、ポリフッ化エチレンなど)、導電性粒子(例えば、ア
ルミ粉末、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化チタン、カーゲン
ブラック、銀粒子など)を適当なバインダーとともにグ
ラスチック又は前記導電性基体の上に被覆した基体、導
電性粒子をプラスチックや紙に含浸した基体や導電性ポ
リマーを有するグラスチックなどを用いることができる
。
光層は、導電層を有する基体の上に設けられる。導電層
を有する基体としては、基体自体が導電性をもつもの、
例えばアルミニウム、アルミニウム合金、銅、亜鉛、ス
テンレス、バナジウム、モリブデン、クロム、チタン、
ニッケル、インジウム、金や白金などを用いることがで
き、その他にアルミニウム、アルミニウム合金、酸化イ
ンジウム、酸化錫、酸化インジウム−酸化錫合金などを
真空蒸着法によって被膜形成された層を有するグラスチ
ック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩
化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂
、ポリフッ化エチレンなど)、導電性粒子(例えば、ア
ルミ粉末、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化チタン、カーゲン
ブラック、銀粒子など)を適当なバインダーとともにグ
ラスチック又は前記導電性基体の上に被覆した基体、導
電性粒子をプラスチックや紙に含浸した基体や導電性ポ
リマーを有するグラスチックなどを用いることができる
。
導電層と感光層の中間に、バリヤー機能と接着機能をも
つ下引層を設けることもできる。下引層ハ、カセイン、
ホリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−
アクリル酸:I yf! IJ マー 、yf!リアミ
ド(ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610、共重
合ナイロン、アルコキンメチル化ナイロンなど)、ポリ
ウレタン、ゼラチン酸化アルミニウムなどによって形成
できる。
つ下引層を設けることもできる。下引層ハ、カセイン、
ホリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−
アクリル酸:I yf! IJ マー 、yf!リアミ
ド(ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610、共重
合ナイロン、アルコキンメチル化ナイロンなど)、ポリ
ウレタン、ゼラチン酸化アルミニウムなどによって形成
できる。
下引層の膜厚は、0.1ミクロン〜5ミクロン、好まし
くは0.5ミクロン〜3ミクロンが適当である。
くは0.5ミクロン〜3ミクロンが適当である。
導電層、電荷発生層、電荷輸送層の順に積層した感光体
を使用する場合において電荷輸送物質が電子輸送性物質
からなるときは、電荷輸送層表面を正に帯電する必要が
あり、帯電後露光すると露光部では電荷発生層において
生成した電子が電荷輸送層に注入され、そのちと表面に
達して正電荷を中和し、表面電位の減衰が生じ未露光部
との間に静電コントラストが生じる。この様にしてでき
た静電と潜像を負荷電性のトナーで現像すれば可視像が
得られる。これを直接定着するか、あるいはトナー像を
紙やプラスチックフィルム等に転写後、現像し定着する
ことができる。
を使用する場合において電荷輸送物質が電子輸送性物質
からなるときは、電荷輸送層表面を正に帯電する必要が
あり、帯電後露光すると露光部では電荷発生層において
生成した電子が電荷輸送層に注入され、そのちと表面に
達して正電荷を中和し、表面電位の減衰が生じ未露光部
との間に静電コントラストが生じる。この様にしてでき
た静電と潜像を負荷電性のトナーで現像すれば可視像が
得られる。これを直接定着するか、あるいはトナー像を
紙やプラスチックフィルム等に転写後、現像し定着する
ことができる。
また、感光体上の静電潜像を転写紙の絶縁層上に転写後
視像し、定着する方法もとれる。現像剤の種類や現像方
法、定着方法は公知のものや公知の方法のいずれを採用
しても良く、特定のものに限定されるものではない。
視像し、定着する方法もとれる。現像剤の種類や現像方
法、定着方法は公知のものや公知の方法のいずれを採用
しても良く、特定のものに限定されるものではない。
一方、電荷輸送物質が正孔輸送物質から成る場合、電荷
輸送層表面を負に帯電する必要があり、帯電後、露光す
ると露光部では電荷発生層において生成した正孔が電荷
輸送層に注入され、その後表面に達して負電荷を中和し
、表面電位の減衰が生じ未露光部との間に静電コントラ
ストが生じる。
輸送層表面を負に帯電する必要があり、帯電後、露光す
ると露光部では電荷発生層において生成した正孔が電荷
輸送層に注入され、その後表面に達して負電荷を中和し
、表面電位の減衰が生じ未露光部との間に静電コントラ
ストが生じる。
現像時には電子輸送物質を用いた場合とは逆に正電荷性
トナーを用いる必要がある。
トナーを用いる必要がある。
本発明の別の具体例としては、前述のトリスアゾ顔料を
電荷輸送物質とともに同一層に含有させた電子写真感光
体を挙げることができる。この際、前述の電荷輸送物質
の他にポIJ−N−ビニルカルバゾールとトリニトロフ
ルオレノンからなる電荷移動錯化合物を用いることがで
きる。
電荷輸送物質とともに同一層に含有させた電子写真感光
体を挙げることができる。この際、前述の電荷輸送物質
の他にポIJ−N−ビニルカルバゾールとトリニトロフ
ルオレノンからなる電荷移動錯化合物を用いることがで
きる。
この例の電子写真感光体は、前述のトリスアゾ顔料と電
荷移動錯化合物をテトラヒドロフランに溶解されたポリ
エステル溶液中に分散させ、得られた塗工液を用いて被
膜形成させて調製できる。
荷移動錯化合物をテトラヒドロフランに溶解されたポリ
エステル溶液中に分散させ、得られた塗工液を用いて被
膜形成させて調製できる。
いずれの感光体においても、用いる顔料は一般式(1)
で示されるトリスアゾ顔料から選ばれる少なくとも1種
類の顔料を含有し、その結晶形は非晶質であっても結晶
質であってもよい。
で示されるトリスアゾ顔料から選ばれる少なくとも1種
類の顔料を含有し、その結晶形は非晶質であっても結晶
質であってもよい。
又必要に応じて光吸収の異なる顔料を組合せて使用し感
光体の感度を高めたり、パンクロマチックな感光体を得
るなどの目的で一般式(りで示されるトリスアゾ顔料を
2種類以上組合せたシ、または公知の染料、顔料から選
ばれた電荷発生物質と組合せて使用することも可能であ
る。
光体の感度を高めたり、パンクロマチックな感光体を得
るなどの目的で一般式(りで示されるトリスアゾ顔料を
2種類以上組合せたシ、または公知の染料、顔料から選
ばれた電荷発生物質と組合せて使用することも可能であ
る。
本発明の電子写真感光体は電子写真複写機に利用するの
みならず、レーザープリンターやCRTプリンター、L
EDプリンター、液晶プリンター、レーザー製版等の電
子写真応用分野にも広く用いる事ができる。
みならず、レーザープリンターやCRTプリンター、L
EDプリンター、液晶プリンター、レーザー製版等の電
子写真応用分野にも広く用いる事ができる。
以下本発明を実施例によって説明する。
実施例1〜40
アルミ板上にカゼインのアンモニア水溶液(カゼイン1
1.228チ、アンモア水1g、水222−)をマイヤ
ーバーで、乾燥後の膜厚が1.0ミクロンとなる様に塗
布し、乾燥した。
1.228チ、アンモア水1g、水222−)をマイヤ
ーバーで、乾燥後の膜厚が1.0ミクロンとなる様に塗
布し、乾燥した。
次に、前記例示のジスアゾ顔料A(1)5gを、エタノ
ール95ゴにブチラール樹脂(ブチラール化度63モル
チ)2Iを溶かした液に加え、サンドミルで2時間分散
した。この分散液を先に形成したカゼイン層の上に乾燥
後の膜厚が0.5ミクロンとなる様にマイヤーバーで塗
布し、乾燥して電荷発生層を形成した。
ール95ゴにブチラール樹脂(ブチラール化度63モル
チ)2Iを溶かした液に加え、サンドミルで2時間分散
した。この分散液を先に形成したカゼイン層の上に乾燥
後の膜厚が0.5ミクロンとなる様にマイヤーバーで塗
布し、乾燥して電荷発生層を形成した。
次いで、構造式
のヒドラゾン化合物5Iiとポリメチルメタクリレート
樹脂(数平均分子量100000 )5IIをベンゼン
70dに溶解し、これを電荷発生層の上に乾燥後の膜厚
が12ミクロンとなる様にマイヤーバーで塗布し乾燥し
て電荷輸送層を形成し、感光体を作成した。アゾ顔料4
10代りに第1表に示すアゾ顔料を用い同様にして実施
例2〜40の感光体を作成した。
樹脂(数平均分子量100000 )5IIをベンゼン
70dに溶解し、これを電荷発生層の上に乾燥後の膜厚
が12ミクロンとなる様にマイヤーバーで塗布し乾燥し
て電荷輸送層を形成し、感光体を作成した。アゾ顔料4
10代りに第1表に示すアゾ顔料を用い同様にして実施
例2〜40の感光体を作成した。
この様にして作成した電子写真感光体を川口電機(株)
製静電複写紙試験装置Modael 5P−428を用
いてスタチック方式で−5kVでコロナ帯電し暗所で1
秒間保持した後、照度2 luxで露光し帯電特性を測
定した。
製静電複写紙試験装置Modael 5P−428を用
いてスタチック方式で−5kVでコロナ帯電し暗所で1
秒間保持した後、照度2 luxで露光し帯電特性を測
定した。
帯電特性としては表面電位(%)と1秒間暗減衰され九
時の電位を外に減衰するに必要な露光量Ev2(1ux
−mec)を測定した。結果を第1表に示す。
時の電位を外に減衰するに必要な露光量Ev2(1ux
−mec)を測定した。結果を第1表に示す。
第 1 表
第 1 表 (続き)
第 1 表 (続き)
第1表の結果より明らかな様に本発明の感光体はいずれ
も極めて優れた電子写真感度を有していることが確認さ
れた。
も極めて優れた電子写真感度を有していることが確認さ
れた。
実施例41〜45及び比較例6〜i。
実施例1,3,4,17,19に用いた感光体を用い繰
返し使用時の明部電位と暗部電位の変動を測定した。方
法としては−5,6kVのコロナ帯電器、露光光学系、
現像器、転写帯電器、除電露光光学系およびクリーナー
を備えた電子写真複写機のシリンダーに貼り付けた。こ
の複写機は、シリンダーの駆動に伴い、転写紙上に画像
が得られる構成になっている。この複写機を用いて初期
の明部電位(vL)と暗部電位(VD)をそれぞれ−1
00V及び−600V付近に設定し5ooo回使用した
後の明部電位(vL)、暗部電位を測定した。この結果
を第2表に示す。
返し使用時の明部電位と暗部電位の変動を測定した。方
法としては−5,6kVのコロナ帯電器、露光光学系、
現像器、転写帯電器、除電露光光学系およびクリーナー
を備えた電子写真複写機のシリンダーに貼り付けた。こ
の複写機は、シリンダーの駆動に伴い、転写紙上に画像
が得られる構成になっている。この複写機を用いて初期
の明部電位(vL)と暗部電位(VD)をそれぞれ−1
00V及び−600V付近に設定し5ooo回使用した
後の明部電位(vL)、暗部電位を測定した。この結果
を第2表に示す。
本発明の感光体は繰り返し使用後もVD、vLの安定性
が極めて良好であった。
が極めて良好であった。
実施例46
実施例1で作成した電荷発生層の上に、2,4.7−
) IJニトロ−9−フルオレノン5 g、!: yd
1,1−4.4’−ジオキシジフェニル−2,2′−
プロノクンヵー?ネート(分子量300,000 )
5 gをテト?ヒドロフランフ0rntに溶解して作成
した塗布液を乾燥後の塗工量が10&/m2となる様に
塗布し、乾燥した。
) IJニトロ−9−フルオレノン5 g、!: yd
1,1−4.4’−ジオキシジフェニル−2,2′−
プロノクンヵー?ネート(分子量300,000 )
5 gをテト?ヒドロフランフ0rntに溶解して作成
した塗布液を乾燥後の塗工量が10&/m2となる様に
塗布し、乾燥した。
こうして作成した電子写真感光体を実施例1と同様の方
法で帯電測定を行なった。この時、帯電極性はeとした
。この結果を第3表に示す。
法で帯電測定を行なった。この時、帯電極性はeとした
。この結果を第3表に示す。
第 3 表
Vo ■580?ルト
Ey、 : 5.11ux−sec実施例47
アルミ蒸着、7?!Jエチレンテレフタレートフイルム
のアルミ面上に膜40.5ミクロンのポリビニルアルコ
ールの被膜を形成した。
のアルミ面上に膜40.5ミクロンのポリビニルアルコ
ールの被膜を形成した。
次に、実施例1で用いたアゾ顔料の分散液を先に形成し
た。791Jビニルアルコ一ル層の上に、乾燥後の膜厚
が0.5ミクロンとなる様にマイヤーバーで塗布し、乾
燥して電荷発生層を形成した。
た。791Jビニルアルコ一ル層の上に、乾燥後の膜厚
が0.5ミクロンとなる様にマイヤーバーで塗布し、乾
燥して電荷発生層を形成した。
次いで、構造式
のピラゾリン化合物5IIとボリアリレート樹脂(ビス
フェノールAとテレフタル酸−イソフタル酸の縮重合体
)5gをテトラヒドロフラン70+agに溶かした液を
電荷発生層の上に乾燥後の膜厚が10ミクロンとなる様
に塗布し、乾燥して電荷輸送層を形成した。
フェノールAとテレフタル酸−イソフタル酸の縮重合体
)5gをテトラヒドロフラン70+agに溶かした液を
電荷発生層の上に乾燥後の膜厚が10ミクロンとなる様
に塗布し、乾燥して電荷輸送層を形成した。
こうして調製した感光体の帯電特性および耐久特性を実
施例1及び実施例41と同様の方法によって測定した。
施例1及び実施例41と同様の方法によって測定した。
この結果を第4表に示す。
第 4 表
Vo @ −580V 1ux−gacJ :
4.3 1ux0g@c耐久特性 初 期 5000枚耐久後 vDvLvDvL −600V−100V −620V −120第
4表の結果より本発明の感光体は感度も良く耐久使用時
の電位安定性も良好である。
4.3 1ux0g@c耐久特性 初 期 5000枚耐久後 vDvLvDvL −600V−100V −620V −120第
4表の結果より本発明の感光体は感度も良く耐久使用時
の電位安定性も良好である。
実施例48
厚さ100ミクロン厚のアルミ板上にカゼインのアンモ
ニア水溶液を塗布し、乾燥して膜厚0.5ミクロンの下
引層を形成した。
ニア水溶液を塗布し、乾燥して膜厚0.5ミクロンの下
引層を形成した。
次に、2,4.7− )リニトロー9−フルオレノン5
gとポ1J=N−ピルカルバゾール(数平均分子量30
0,000 ) 5.9をテトラヒドロ7ラン70−に
溶かして電荷移動錯化合物を形成した。この電荷移動錯
化合物と前記例示のジスアゾ顔料墓(26) 1 gを
、ポリエステル樹脂(バイロン:東洋紡製>511をテ
トラヒドロ7ラン7o−に溶かした液に加え、分散した
。この分散液を下引層の上に乾燥後の膜厚が12ミクロ
ンとなる様に塗布し、乾燥した。こうした調製した感光
体の帯電特性と耐久特性を実施例1及び実施例41と同
様の方法によって測定した。この結果を第5表に示す。
gとポ1J=N−ピルカルバゾール(数平均分子量30
0,000 ) 5.9をテトラヒドロ7ラン70−に
溶かして電荷移動錯化合物を形成した。この電荷移動錯
化合物と前記例示のジスアゾ顔料墓(26) 1 gを
、ポリエステル樹脂(バイロン:東洋紡製>511をテ
トラヒドロ7ラン7o−に溶かした液に加え、分散した
。この分散液を下引層の上に乾燥後の膜厚が12ミクロ
ンとなる様に塗布し、乾燥した。こうした調製した感光
体の帯電特性と耐久特性を実施例1及び実施例41と同
様の方法によって測定した。この結果を第5表に示す。
但し、帯電極性はeとした。
第 5 表
vo: (9590V
J : 49 1ux・a@c耐久特性
初 期 5000枚耐久後
vDvLvDvL
+610 +100 +640 +135
実施例49 実施例で用いたカゼイン層を施したアルミ基板のカゼイ
ン層上に実施例1の電荷輸送層、電荷発生層を順次積層
し、層構成を異にする以外は実施例1と全く同様にして
感光体を形成し実施例1と同様に帯電測定した。但し帯
電極性をeとした。
実施例49 実施例で用いたカゼイン層を施したアルミ基板のカゼイ
ン層上に実施例1の電荷輸送層、電荷発生層を順次積層
し、層構成を異にする以外は実施例1と全く同様にして
感光体を形成し実施例1と同様に帯電測定した。但し帯
電極性をeとした。
帯電特性を第6表に示す。
第 6 表
vo:■590v
Ey、 : 4.4 1ux・aec〔発明の
効果〕 本発明は特定のアゾ顔料を感光層に用いる事により当該
のアゾ顔料を含む感光層内部に於けるキャリヤー発生効
率ないしはキャリヤー輸送効率のいずれか一方ないしは
双方が良くなり、感度や耐久使用時に於ける電位安定性
のすぐれた感光体が得られる。
効果〕 本発明は特定のアゾ顔料を感光層に用いる事により当該
のアゾ顔料を含む感光層内部に於けるキャリヤー発生効
率ないしはキャリヤー輸送効率のいずれか一方ないしは
双方が良くなり、感度や耐久使用時に於ける電位安定性
のすぐれた感光体が得られる。
Claims (4)
- (1)次の一般式1 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中Rは置換基を有してもよいアルキル、アラルキル
、アリールあるいはアシルを示し、Ar_1、Ar_2
、Ar_3及びAr_4はそれぞれ置換基を有してもよ
いアリレーンあるいは複素環基を示し、Aはフェノール
性OH基を有するカプラー残基を示す)で表わされるア
ゾ顔料を感光層に含有することを特徴とする電子写真感
光体。 - (2)上記一般式におけるAが下記一般式2〜8で示さ
れる特許請求の範囲第1項の電子写真感光体; ▲数式、化学式、表等があります▼(2) ▲数式、化学式、表等があります▼(3) ▲数式、化学式、表等があります▼(4) ▲数式、化学式、表等があります▼(5) ▲数式、化学式、表等があります▼(6) ▲数式、化学式、表等があります▼(7) ▲数式、化学式、表等があります▼(8) (式中、Xはベンゼン環と縮合して多環芳香環あるいは
複素環を形成する残基;R_3及びR_4は水素、置換
基を有してもよいアルキル、アラルキル、アリールある
いは複素環基または一緒になつて窒素原子と共に環状ア
ミノ基を形成する;R_5及びR_6はそれぞれ置換基
を有してもよいアルキル、アラルキル、アリールを示す
;Yは芳香族炭化水素の2価の基あるいは窒素原子と一
緒になって複素環の2価の基を形成する;R_7及びR
_8はそれぞれ置換基を有してもよいアルキル基、アリ
ール基、アラルキル基あるいは複素環基を示し、又は結
合炭素原子と共に5〜6員環を形成する残基を示し、こ
の5〜6員環は縮合芳香族環を有していてもよい;R_
9及びR_1_0は水素、置換基を有してもよいアルキ
ル基、アラルキル基、アリール基又は複素環基を示す)
。 - (3)上記感光層が電荷発生層と電荷輸送層とよりなる
機能分離型であり、該電荷発生層に上記一般式(1)で
示されるアゾ顔料を含有させる特許請求の範囲第1項及
び第2項の電子写真感光体。 - (4)上記一般式(2)におけるR_3が水素であり、
R_4が次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1_1はハロゲン、ニトロ、シアノ、トリ
フルオロメチル基より選ばれる置換基)で表わされる置
換フェニルである特許請求の範囲第2項の電子写真感光
体。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9045285A JPS61251864A (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 電子写真感光体 |
US06/844,887 US4743523A (en) | 1985-04-02 | 1986-03-27 | Photosensitive member for electrophotography |
FR868604694A FR2584204B1 (fr) | 1985-04-02 | 1986-04-02 | Element photosensible pour l'electrophotographie |
GB8608077A GB2176019B (en) | 1985-04-02 | 1986-04-02 | Photosensitive member for electrophotography |
DE19863610994 DE3610994A1 (de) | 1985-04-02 | 1986-04-02 | Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial fuer die elektrophotographie |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9045285A JPS61251864A (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61251864A true JPS61251864A (ja) | 1986-11-08 |
JPH0370219B2 JPH0370219B2 (ja) | 1991-11-06 |
Family
ID=13999008
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9045285A Granted JPS61251864A (ja) | 1985-04-02 | 1985-04-26 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61251864A (ja) |
-
1985
- 1985-04-26 JP JP9045285A patent/JPS61251864A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0370219B2 (ja) | 1991-11-06 |
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