JPS6392957A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0664—Dyes
- G03G5/0675—Azo dyes
- G03G5/0679—Disazo dyes
- G03G5/0681—Disazo dyes containing hetero rings in the part of the molecule between the azo-groups
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規な電子写真感光体に関するものであり、更
に詳しくは特定の分子構造を有するジスアゾ顔料を光導
電層中に含有する電子写真感光体に関するものである。
に詳しくは特定の分子構造を有するジスアゾ顔料を光導
電層中に含有する電子写真感光体に関するものである。
従来、セレン、硫化カドミウム、酸化亜鉛などの無機光
導電体をtit層主成分として用いた電子写真感光体は
広(知られている。
導電体をtit層主成分として用いた電子写真感光体は
広(知られている。
一方、特定の有機化合物が光導電性を示すことが発見さ
れてから数多くの有機光導電体が開発されてきた。特に
光導電性を示す顔料や染料を用いた電子写真感光体につ
いては、例えば米国特許第3,397,086号、同第
3,816,118号公報等に示されているフタロシア
ニン顔料を用いた電子写真感光体、米国特許第4,31
5,983号、同第4.327,169号公報等に示さ
れているピリリウム系染料を用いた電子写真感光体、米
国特許第3,824゜099号公報等に示されているス
クエアリック酸メチン染料を用いた電子写真感光体、米
国特許第4,251,613号、同第4,278,74
7号、同4,293゜628号公報等に示されているジ
スアゾ顔料を用いた電子写真感光体などがあげられる。
れてから数多くの有機光導電体が開発されてきた。特に
光導電性を示す顔料や染料を用いた電子写真感光体につ
いては、例えば米国特許第3,397,086号、同第
3,816,118号公報等に示されているフタロシア
ニン顔料を用いた電子写真感光体、米国特許第4,31
5,983号、同第4.327,169号公報等に示さ
れているピリリウム系染料を用いた電子写真感光体、米
国特許第3,824゜099号公報等に示されているス
クエアリック酸メチン染料を用いた電子写真感光体、米
国特許第4,251,613号、同第4,278,74
7号、同4,293゜628号公報等に示されているジ
スアゾ顔料を用いた電子写真感光体などがあげられる。
この様な有機光導電体を用いた電子写真感光体はバイン
ダーを適当に選択することによって塗工方法で生産でき
るので、無機光導電体を用いたものに比べて、安価で極
めて容易に感光体の製造ができ、しかも有機顔料の選択
によって感光波長領域をコントロールできる、という利
点をもっている。しかし、この様な感光体は、感度およ
び耐久性に劣るため、これまで実用化されているものは
ごく僅かである。
ダーを適当に選択することによって塗工方法で生産でき
るので、無機光導電体を用いたものに比べて、安価で極
めて容易に感光体の製造ができ、しかも有機顔料の選択
によって感光波長領域をコントロールできる、という利
点をもっている。しかし、この様な感光体は、感度およ
び耐久性に劣るため、これまで実用化されているものは
ごく僅かである。
本発明の目的は、新規な光導電性材料を提供することに
ある。本発明のもう一つの目的は、すべての電子写真プ
ロセスにおいて使用可能であり実用的な高感度特性と繰
り返し使用における安定な電位特性を有する電子写真感
光体を提供することにある。また、本発明の別な目的は
、可視域から近赤外、赤外領域にまたがる広い分光感度
を有する電子写真感光体を提供することにある。
ある。本発明のもう一つの目的は、すべての電子写真プ
ロセスにおいて使用可能であり実用的な高感度特性と繰
り返し使用における安定な電位特性を有する電子写真感
光体を提供することにある。また、本発明の別な目的は
、可視域から近赤外、赤外領域にまたがる広い分光感度
を有する電子写真感光体を提供することにある。
すなわち本発明は、下記一般式(1)で示されるジスア
ゾ顔料を含有する光導電層を有することを特徴とする電
子写真感光体で′jhる。
ゾ顔料を含有する光導電層を有することを特徴とする電
子写真感光体で′jhる。
一般式(1)中Zは炭素原子または窒素原子を示す。R
1は水素原子、ニトロソ基、アルキル基、アラルキル基
、アリール基またはへテロ環基を示す。具体的には、例
えばアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、5ec−ブチル、t−ブチル、
アリール基としてはフェニル、P−トルイル、アラルキ
ル基としてはベンジル、フェネチル、ナフチルメチル、
ヘテロ環基としてはフリル、チオニル、ピロイル等が挙
げられ、これらの基は置換基を有していてもよい。R1
の示すアルキル基、アリール基、アラルキル基またはへ
テロ環基が有してもよい置換基としては、フッ素、塩素
、ヨウ素、臭素等のハロゲン、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル等のアルキル基、メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、フェノキシ等のアルコキシ基、
ニトロ基、シアノ基、ツメチルアミノ、ジベンジルアミ
ノ、ジフェニルアミノ、モルホリノ、ピペリジノ、ピロ
リジノ等の置換アミン基などが挙げられる。
1は水素原子、ニトロソ基、アルキル基、アラルキル基
、アリール基またはへテロ環基を示す。具体的には、例
えばアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、5ec−ブチル、t−ブチル、
アリール基としてはフェニル、P−トルイル、アラルキ
ル基としてはベンジル、フェネチル、ナフチルメチル、
ヘテロ環基としてはフリル、チオニル、ピロイル等が挙
げられ、これらの基は置換基を有していてもよい。R1
の示すアルキル基、アリール基、アラルキル基またはへ
テロ環基が有してもよい置換基としては、フッ素、塩素
、ヨウ素、臭素等のハロゲン、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル等のアルキル基、メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、フェノキシ等のアルコキシ基、
ニトロ基、シアノ基、ツメチルアミノ、ジベンジルアミ
ノ、ジフェニルアミノ、モルホリノ、ピペリジノ、ピロ
リジノ等の置換アミン基などが挙げられる。
一般式(1)のR2,R3は、水素原子、ハロゲン、ニ
トロ基、シアノ基、アルキル基またはアルコキシ基を示
し、具体的にはフッ素、塩素、ヨウ素、臭素、ニトロ、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、5
ec−ブチル、t−ブチル、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシなどを示す。
トロ基、シアノ基、アルキル基またはアルコキシ基を示
し、具体的にはフッ素、塩素、ヨウ素、臭素、ニトロ、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、5
ec−ブチル、t−ブチル、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシなどを示す。
R2,R3は同じであっても異なっていてもよい。
一般式(1)中のA1、A2はフェノール性OH基を有
するカプラー残基を示し、A1、A2の示すカプラー残
基のより好ましい具体例としては一般式(2)〜(8)
で示される。
するカプラー残基を示し、A1、A2の示すカプラー残
基のより好ましい具体例としては一般式(2)〜(8)
で示される。
式(2)中Xはベンゼン環と縮合してナフタレン環、ア
ントラセン環、カルバゾール環、ベンズカルバゾール環
、ジベンゾフラン環、ジベンゾナフトフラン環、ジフェ
ニレンサルファイド環等の多環芳香環ないしは、ヘテロ
環を形成するに必要な残基を示す。
ントラセン環、カルバゾール環、ベンズカルバゾール環
、ジベンゾフラン環、ジベンゾナフトフラン環、ジフェ
ニレンサルファイド環等の多環芳香環ないしは、ヘテロ
環を形成するに必要な残基を示す。
Xの結合した環はナフタレン環、アントラセン環、カル
バゾール環、ベンズカルバゾール環とすることがより好
ましい。
バゾール環、ベンズカルバゾール環とすることがより好
ましい。
式(2)中のR4,R5は水素原子、アルキル基、アリ
ール基、アラルキル基、ヘテロ環基ないしはR4,R5
の結合する窒素原子とともに環状アミノ基を示す。
ール基、アラルキル基、ヘテロ環基ないしはR4,R5
の結合する窒素原子とともに環状アミノ基を示す。
アルキル基の具体例としてはメチル、エチル、プロピル
、ブチル等、アラルキル基の具体例としてはベンジル、
フェネチル、ナフチルメチル等、アリール基の具体例と
してはフェニル、ジフェニル、ナフチル、アンスリル等
、ヘテロ環基の具体例としてはカルバゾール、ジベンゾ
フラン、ベンズイミダシロン、ベンズチアゾール、チア
ゾール、ピリジン等が挙げられこれらの基は置換基を有
していてもよい。
、ブチル等、アラルキル基の具体例としてはベンジル、
フェネチル、ナフチルメチル等、アリール基の具体例と
してはフェニル、ジフェニル、ナフチル、アンスリル等
、ヘテロ環基の具体例としてはカルバゾール、ジベンゾ
フラン、ベンズイミダシロン、ベンズチアゾール、チア
ゾール、ピリジン等が挙げられこれらの基は置換基を有
していてもよい。
式(2)中の置換基R4,R5の示すアルキル基、アリ
ール基、アラルキル基、ヘテロ環基は更に他の置換基1
例えばフッ素、塩素、ヨウ素、臭素等のハロゲン基、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等のア
ルキル基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、フェノキ
シ等のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ジメチルア
ミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノ、モルホリ
ノ、ピペリジノ、ピロリジノ等の置換アミノ基により置
換されていてもよい。
ール基、アラルキル基、ヘテロ環基は更に他の置換基1
例えばフッ素、塩素、ヨウ素、臭素等のハロゲン基、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等のア
ルキル基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、フェノキ
シ等のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ジメチルア
ミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノ、モルホリ
ノ、ピペリジノ、ピロリジノ等の置換アミノ基により置
換されていてもよい。
式(3)中のR6は
アリール基ないしはへテロ環基を示す。具体的にはフェ
ニル、ナフチル、アンスリル、ピレニル、ピリジル、チ
ェニル、フリル、カルバゾリル等を示し、これらは置換
基を有していてもよい。
ニル、ナフチル、アンスリル、ピレニル、ピリジル、チ
ェニル、フリル、カルバゾリル等を示し、これらは置換
基を有していてもよい。
R6の示すアリール基、ヘテロ環基の有していてもよい
置換基としてはフッ素、塩素、ヨウ素、臭素等のハロゲ
ン、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル
等のアルキル基、メトナシ、エトキシ、プロポキシ、フ
ェノキシ等のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ジメ
チルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノ、モ
ルホリノ、ピペリジノ、ピロリジノ等の置換アミノ基が
挙げられる。
置換基としてはフッ素、塩素、ヨウ素、臭素等のハロゲ
ン、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル
等のアルキル基、メトナシ、エトキシ、プロポキシ、フ
ェノキシ等のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ジメ
チルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノ、モ
ルホリノ、ピペリジノ、ピロリジノ等の置換アミノ基が
挙げられる。
式(4)中のR7,R8は
キ##アルキル基、アリール基、アラルキル基、ないし
はへテロ環基を示し、これらの基は置換基を有していて
もよい。具体的にはメチル、エチル、プロピル、ブチル
、ベンジル、フェネチル、ナフチルメチル、フェニル、
ナフチル、アンスリル、ジフェニル、カルバゾール、ジ
ベンゾフラン、ベンズイミダシロン、ベンズチアゾール
、チアゾール、ピリジンを示す。
はへテロ環基を示し、これらの基は置換基を有していて
もよい。具体的にはメチル、エチル、プロピル、ブチル
、ベンジル、フェネチル、ナフチルメチル、フェニル、
ナフチル、アンスリル、ジフェニル、カルバゾール、ジ
ベンゾフラン、ベンズイミダシロン、ベンズチアゾール
、チアゾール、ピリジンを示す。
式(4)中のR7,R8の示すアルキル基、アリール基
、アラルキル基、ヘテロ環基の有していてもよい置換基
としてはフッ素、塩素、ヨウ素、臭素等のハロゲン、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等のア
ルキル基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、フェノキ
シ等のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ジメチルア
ミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノ、モルホリ
ノ、ピペリジノ、ピロリジノ等の置換アミノ基が挙げら
れる。
、アラルキル基、ヘテロ環基の有していてもよい置換基
としてはフッ素、塩素、ヨウ素、臭素等のハロゲン、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等のア
ルキル基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、フェノキ
シ等のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ジメチルア
ミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノ、モルホリ
ノ、ピペリジノ、ピロリジノ等の置換アミノ基が挙げら
れる。
H
または
式(5)、 (6)中のR8は水素原子、アルキル基
、アリール基、アラルキル基を示し、これらの基は置換
基を有していてもよい。R9の具体例は前記R4+
R5と同じ例によって示される。
、アリール基、アラルキル基を示し、これらの基は置換
基を有していてもよい。R9の具体例は前記R4+
R5と同じ例によって示される。
H
式(7)、 (8)中のYは芳香族炭化水素の2価の
基ないしは窒素原子を環内に含むヘテロ環の2価の基を
示す。
基ないしは窒素原子を環内に含むヘテロ環の2価の基を
示す。
芳香族炭化水素の2価の基としてはO−フェニレン等の
単環式芳香族炭化水素の2価の基、0−ナフチレン、ペ
リナフチレン、l、2−アンスリレン、9.10−フェ
ナンスリレン等の縮合多環式芳香族炭化水素の2価の基
が挙げられる。また窒素原子を環内に含むヘテロ環の2
価の基としては、3.4−ピラゾールジイル基、2,3
−ピリジンジイル基、4.5−ピリミジンジイル基、6
.7−インダゾールジイル基、6,7−キラリンジイル
基等の2価の基が挙げられる。
単環式芳香族炭化水素の2価の基、0−ナフチレン、ペ
リナフチレン、l、2−アンスリレン、9.10−フェ
ナンスリレン等の縮合多環式芳香族炭化水素の2価の基
が挙げられる。また窒素原子を環内に含むヘテロ環の2
価の基としては、3.4−ピラゾールジイル基、2,3
−ピリジンジイル基、4.5−ピリミジンジイル基、6
.7−インダゾールジイル基、6,7−キラリンジイル
基等の2価の基が挙げられる。
次に本発明で用いる一般式(1)で示されるジスアゾ顔
料の具体例を第1表および第2表に示す。
料の具体例を第1表および第2表に示す。
但し、具体例で示されるジスアゾ顔料は本発明の特許請
求の範囲を限定するものではない。
求の範囲を限定するものではない。
第1表 (ただし、Zは炭素原子を示す)第2表
(ただし、Zは窒素原子を示す)これらジスアゾ顔料は
1種または2種以上組み合わせて用いることができる。
(ただし、Zは窒素原子を示す)これらジスアゾ顔料は
1種または2種以上組み合わせて用いることができる。
また、本発明において用いられるこれらの顔料は、例え
ば一般式(9)および(10)で示されるジアミンをR
。
ば一般式(9)および(10)で示されるジアミンをR
。
R宜
常法により亜硝酸塩で処理してテトラゾニウム化し、次
いで一般式(2)〜(8)で示されるフェノール性OH
を有するカップラーをアルカリの存在下に水系カップリ
ングするか、または前記ジアミンのテトラゾニウム塩を
BF4塩、PF6塩あるいは塩化亜鉛複塩等の形で一旦
単離した後、適当な溶媒たとえばN、N−ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド等の溶媒中でアルカリ
の存在下にカップラーとカップリングすることにより容
易に製造することができる。次に本発明で用いるジスア
ゾ顔料の代表的な合成例を下記に示す。
いで一般式(2)〜(8)で示されるフェノール性OH
を有するカップラーをアルカリの存在下に水系カップリ
ングするか、または前記ジアミンのテトラゾニウム塩を
BF4塩、PF6塩あるいは塩化亜鉛複塩等の形で一旦
単離した後、適当な溶媒たとえばN、N−ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド等の溶媒中でアルカリ
の存在下にカップラーとカップリングすることにより容
易に製造することができる。次に本発明で用いるジスア
ゾ顔料の代表的な合成例を下記に示す。
合成例 (前記例示のジスアゾ顔料No、1の合成)ビ
ーカーに水30mf、濃塩酸27m1冷却しながら撹拌
し液温を3℃とした。次に亜硝酸ソーダ4.7gを水1
0mI!に溶かした液を液温O〜5°Cの範囲にコント
ロールしながら25分間で滴下し、適下終了後同温度で
更に30分間撹拌した。反応液にカーボンを加え濾過し
てテトラゾ液を得た。
ーカーに水30mf、濃塩酸27m1冷却しながら撹拌
し液温を3℃とした。次に亜硝酸ソーダ4.7gを水1
0mI!に溶かした液を液温O〜5°Cの範囲にコント
ロールしながら25分間で滴下し、適下終了後同温度で
更に30分間撹拌した。反応液にカーボンを加え濾過し
てテトラゾ液を得た。
次に2!ビーカーに水725 m lを入れ水酸化ナト
リウム27.6gを溶解した後ナフトールAS (3−
ヒドロキシ−2−ナフトエ酸アニリド)18.1gを添
加して溶解した。このカプラー溶液を6℃に冷却し、液
温を6〜10℃にコントロールしながら前述のテトラゾ
液を30分間かけて撹拌上滴下して、その後2時間撹拌
し、更に1晩放置した。反応液を濾過後、水洗し、固形
分換算で75.9gの水ペーストを得た。次に430g
のN、N−ジメチルホルムアミドを用い、室温で撹拌濾
過を4回繰り返した。その後408gのMEKで2回撹
拌濾過を繰り返した後減圧乾燥し、精製顔料20.0g
(収率80.79%)を得た。
リウム27.6gを溶解した後ナフトールAS (3−
ヒドロキシ−2−ナフトエ酸アニリド)18.1gを添
加して溶解した。このカプラー溶液を6℃に冷却し、液
温を6〜10℃にコントロールしながら前述のテトラゾ
液を30分間かけて撹拌上滴下して、その後2時間撹拌
し、更に1晩放置した。反応液を濾過後、水洗し、固形
分換算で75.9gの水ペーストを得た。次に430g
のN、N−ジメチルホルムアミドを用い、室温で撹拌濾
過を4回繰り返した。その後408gのMEKで2回撹
拌濾過を繰り返した後減圧乾燥し、精製顔料20.0g
(収率80.79%)を得た。
融点 〉300°C
元素分析
計算値(%) 実験値(%)
C72,1972JO
H4,284,32
N 14.97 、 15.010
8.56 8.57以上代表的な顔料
の合成法について述べたが、一般式(1)で示される他
のジスアゾ顔料も同様にして合成される。
8.56 8.57以上代表的な顔料
の合成法について述べたが、一般式(1)で示される他
のジスアゾ顔料も同様にして合成される。
前述のジスアゾ顔料を有する被膜は光導電性を示し、従
って下達する電子写真感光体の感光層に用いることがで
きる。
って下達する電子写真感光体の感光層に用いることがで
きる。
すなわち、本発明の具体例では導電性支持体の上に前述
のジスアゾ顔料を真空蒸着法により被膜形成するか、あ
るいは適当なバインダー中に分散含有させて被膜形成す
ることにより電子写真感光体を調製することができる。
のジスアゾ顔料を真空蒸着法により被膜形成するか、あ
るいは適当なバインダー中に分散含有させて被膜形成す
ることにより電子写真感光体を調製することができる。
本発明の好ましい具体例では、電子写真感光体の感光層
を電荷発生層と電荷輸送層に機能分離した電子写真感光
体における電荷発生層として、前述の光導電性被膜を適
用することができる。
を電荷発生層と電荷輸送層に機能分離した電子写真感光
体における電荷発生層として、前述の光導電性被膜を適
用することができる。
電荷発生層は、十分な吸光度を得るために、できる限り
多くの前述の光導電性を示す化合物を含有し、且つ発生
した電荷キャリアの飛程を短かくするために薄膜層、例
えば5μm以下、好ましくtt o、o 1〜1μmの
膜厚をもつ薄膜層とすることが好ましい。
多くの前述の光導電性を示す化合物を含有し、且つ発生
した電荷キャリアの飛程を短かくするために薄膜層、例
えば5μm以下、好ましくtt o、o 1〜1μmの
膜厚をもつ薄膜層とすることが好ましい。
電荷発生層は、前述のジスアゾ顔料を適当なバインダー
に分散させ、これを基体の上に塗工することによって形
成でき、また真空蒸着装置により蒸着膜を形成すること
によって得ることができる。電荷発生層を塗工によって
形成する際に用いつるバインダーとしては広範な絶縁性
樹脂から選択・でき、また、ポリ−N−ビニルカルバゾ
ール、ポリビニルアントラセンやポリビニルピレンなど
の有機光導電性ポリマーから選択できる。好ましくは、
ポリビニルブチラール、ボリアリレート(ビスフェノー
ルAとフタル酸の縮重合体など。)、ポリカーボネート
、ポリエステル、フェノキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル、ア
クリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド、ポ
リビニルピリジン、セルロース系樹脂、ウレタン樹脂、
エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルピロリドンなどの絶縁性樹脂を挙げることができ
る。電荷発生層中に含有する樹脂は、80重量%以下、
好ましくは40重量%以下が適している。
に分散させ、これを基体の上に塗工することによって形
成でき、また真空蒸着装置により蒸着膜を形成すること
によって得ることができる。電荷発生層を塗工によって
形成する際に用いつるバインダーとしては広範な絶縁性
樹脂から選択・でき、また、ポリ−N−ビニルカルバゾ
ール、ポリビニルアントラセンやポリビニルピレンなど
の有機光導電性ポリマーから選択できる。好ましくは、
ポリビニルブチラール、ボリアリレート(ビスフェノー
ルAとフタル酸の縮重合体など。)、ポリカーボネート
、ポリエステル、フェノキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル、ア
クリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド、ポ
リビニルピリジン、セルロース系樹脂、ウレタン樹脂、
エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルピロリドンなどの絶縁性樹脂を挙げることができ
る。電荷発生層中に含有する樹脂は、80重量%以下、
好ましくは40重量%以下が適している。
これらの樹脂を溶解する溶剤は、樹脂の種類によって異
なり、また下達の電荷輸送層や下引層を溶解しないもの
から選択することが好ましい。具体的な有機溶剤として
は、メタノール、エタノール、イソプロパツールなどの
アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、ジクロ
ヘキサノンなどのケトン類、N、N−ジメチルホルムア
ミド、N。
なり、また下達の電荷輸送層や下引層を溶解しないもの
から選択することが好ましい。具体的な有機溶剤として
は、メタノール、エタノール、イソプロパツールなどの
アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、ジクロ
ヘキサノンなどのケトン類、N、N−ジメチルホルムア
ミド、N。
N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類、ジメチルス
ルホキシドなどのスルホキシド類、テトラヒドロフラン
、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル
などのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエス
テル類、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロルエチレ
ン、四塩化炭素、トリクロルエチレンなどの脂肪族ハロ
ゲン化炭化水素類あるいはベンゼン、トルエン、キシレ
ン、リグロイン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼ
ンなどの芳香族類などを用いることができる。
ルホキシドなどのスルホキシド類、テトラヒドロフラン
、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル
などのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエス
テル類、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロルエチレ
ン、四塩化炭素、トリクロルエチレンなどの脂肪族ハロ
ゲン化炭化水素類あるいはベンゼン、トルエン、キシレ
ン、リグロイン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼ
ンなどの芳香族類などを用いることができる。
塗工は、浸漬コーティング法、スプレーコーティング法
、マイヤーバーコーティング法などのコーティング法を
用いて行なうことができる。乾燥は、室温における指触
乾燥後、加熱乾燥する方法が好ましい。加熱乾燥は、3
0℃〜200℃の温度で5分〜2時間の範囲の時間で、
静止または送風下で行なうことができる。
、マイヤーバーコーティング法などのコーティング法を
用いて行なうことができる。乾燥は、室温における指触
乾燥後、加熱乾燥する方法が好ましい。加熱乾燥は、3
0℃〜200℃の温度で5分〜2時間の範囲の時間で、
静止または送風下で行なうことができる。
電荷輸送層は、前述の電荷発生層と電気的に接続されて
おり、電界の存在下で電荷発生層から注入された電荷キ
ャリアを受は取るとともに、これ゛らの電荷キャリアを
表面まで輸送できる機能を有している。この際、この電
荷輸送層は、電荷発生層の上に積層されていてもよくま
たその下に積層されていてもよい。
おり、電界の存在下で電荷発生層から注入された電荷キ
ャリアを受は取るとともに、これ゛らの電荷キャリアを
表面まで輸送できる機能を有している。この際、この電
荷輸送層は、電荷発生層の上に積層されていてもよくま
たその下に積層されていてもよい。
電荷輸送層が電荷発生層の上に形成される場合、電荷輸
送物質としては電子輸送性物質と正孔輸送性物質があり
、電子輸送性物質としては、クロルアニル、ブロモアニ
ル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン
、2,4.7− トリニトロ−9−フルオレノン、2,
4,5.7−テトラニトロ−9−フルオレノン等の電子
吸引性物質やこれら電子吸引性物質を高分子化したもの
等がある。
送物質としては電子輸送性物質と正孔輸送性物質があり
、電子輸送性物質としては、クロルアニル、ブロモアニ
ル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン
、2,4.7− トリニトロ−9−フルオレノン、2,
4,5.7−テトラニトロ−9−フルオレノン等の電子
吸引性物質やこれら電子吸引性物質を高分子化したもの
等がある。
正孔輸送性物質としては、ピレン、N−エチルカルバゾ
ール、N−イソプロピルカルバゾール、N。
ール、N−イソプロピルカルバゾール、N。
N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチリデン−9−エチ
ルカルバゾール、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−
メチリデン−1O−二チルフエノチアジン、N、N−ジ
フェニルヒドラジノ−3−メチリデン−10−エチルフ
ェノキサジン、p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−
N、N−ジフェニルヒドラゾン、p−ピロリジノベンズ
アルデヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン、p−ジエ
チルベンズアルデヒド−3−メチルベンズチアゾリノン
ー2−ヒドラゾン等のヒドラゾン類、2,5−ビス(p
−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジア
ゾール、11−(ピリジル(2)) −3−(α−メチ
ル−P−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチ
ルアミノフェニル)ピラゾリン、l−フェニル−3−(
p−ジエチルアミノスチリル)−4−メチル−5−(p
−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−フェニル
−3−(α−ベンジル−P−ジエチルアミノスチリル)
−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、ス
ピロピラゾリン等のピラゾリン類、2−(p−ジエチル
アミノスチリル)−6−ジニチルアミノベンズオキサゾ
ール、2−(p−ジエチルアミノフェニル)−4−(p
−ジメチルアミノフェニル)−5−(2−クロロフェニ
ル)オキサゾール等のオキサゾール系化合物、2−(p
−ジエチルアミノスチリル)−6−ジニチルアミノベン
ゾチアゾール等のチアゾール系化合物、ビス(4−ジエ
チルアミノ−2−・メチルフェニル)−フェニルメタン
等のトリアリールメタン系化合物、1.1−ビス(4−
N、N−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)へブタ
ン、1゜1.2.2−テトラキス(4−N、N−ジメチ
ルアミノ−2−メチルフェニル)エタン等のポリアリー
ルアルカン類、トリフェニルアミン、ポリ−N−ビニル
カルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラ
セン、ポリビニルアクリジン、ポリ−9=ビニルフエニ
ルアントラセン、ピレン−ホルムアルデヒド樹脂、エチ
ルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂等がある。
ルカルバゾール、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−
メチリデン−1O−二チルフエノチアジン、N、N−ジ
フェニルヒドラジノ−3−メチリデン−10−エチルフ
ェノキサジン、p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−
N、N−ジフェニルヒドラゾン、p−ピロリジノベンズ
アルデヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン、p−ジエ
チルベンズアルデヒド−3−メチルベンズチアゾリノン
ー2−ヒドラゾン等のヒドラゾン類、2,5−ビス(p
−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジア
ゾール、11−(ピリジル(2)) −3−(α−メチ
ル−P−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチ
ルアミノフェニル)ピラゾリン、l−フェニル−3−(
p−ジエチルアミノスチリル)−4−メチル−5−(p
−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−フェニル
−3−(α−ベンジル−P−ジエチルアミノスチリル)
−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、ス
ピロピラゾリン等のピラゾリン類、2−(p−ジエチル
アミノスチリル)−6−ジニチルアミノベンズオキサゾ
ール、2−(p−ジエチルアミノフェニル)−4−(p
−ジメチルアミノフェニル)−5−(2−クロロフェニ
ル)オキサゾール等のオキサゾール系化合物、2−(p
−ジエチルアミノスチリル)−6−ジニチルアミノベン
ゾチアゾール等のチアゾール系化合物、ビス(4−ジエ
チルアミノ−2−・メチルフェニル)−フェニルメタン
等のトリアリールメタン系化合物、1.1−ビス(4−
N、N−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)へブタ
ン、1゜1.2.2−テトラキス(4−N、N−ジメチ
ルアミノ−2−メチルフェニル)エタン等のポリアリー
ルアルカン類、トリフェニルアミン、ポリ−N−ビニル
カルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラ
セン、ポリビニルアクリジン、ポリ−9=ビニルフエニ
ルアントラセン、ピレン−ホルムアルデヒド樹脂、エチ
ルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂等がある。
これらの有機電荷輸送物質の他に、セレン、セレン−テ
ルル、アモルファスシリコン、硫化カドミウムなどの無
機材料も用いることができる。
ルル、アモルファスシリコン、硫化カドミウムなどの無
機材料も用いることができる。
また、これらの電荷輸送物質は、1種または2種以上組
合せて用いることができる。
合せて用いることができる。
電荷輸送物質が成膜性を有していない時には、適当なバ
インダーを選択することによって被膜形成できる。バイ
ンダーとして使用できる樹脂は、例えばアクリル樹脂、
ボリアリレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポ
リスチレン、アクリロトリル−スチレンコポリマー、ア
クリロニトリル−ブタジェンコポリマー、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルホルマール、ポリスルホン、ポリ
アクリルアミド、ポリアミド、塩素化ゴムなどの絶縁性
樹脂、あるいはポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビ
ニルアントラセン、ポリビニルピレンなどの有機光導電
性ポリマーを挙げることができる。
インダーを選択することによって被膜形成できる。バイ
ンダーとして使用できる樹脂は、例えばアクリル樹脂、
ボリアリレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポ
リスチレン、アクリロトリル−スチレンコポリマー、ア
クリロニトリル−ブタジェンコポリマー、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルホルマール、ポリスルホン、ポリ
アクリルアミド、ポリアミド、塩素化ゴムなどの絶縁性
樹脂、あるいはポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビ
ニルアントラセン、ポリビニルピレンなどの有機光導電
性ポリマーを挙げることができる。
電荷輸送層は、電荷キャリアを輸送できる限界がるので
、必要以上に膜層を厚くすることができない。、一般的
には、5〜30μmであるが、好ましい範囲は8〜20
μmである。塗工によって電荷輸送層を形成する際には
、前述した様な適当なコーティング法を用いることがで
きる。
、必要以上に膜層を厚くすることができない。、一般的
には、5〜30μmであるが、好ましい範囲は8〜20
μmである。塗工によって電荷輸送層を形成する際には
、前述した様な適当なコーティング法を用いることがで
きる。
この様な電荷発生層と電荷輸送層の積層構造からなる感
光層は、導電層を有する基体の上に設けられる。導電層
としてはアルミニウムなどの金属板又は金属箔、アルミ
ニウム等の金属を蒸着したプラスチックフィルムあるい
はアルミニウム箔を紙とはり合わせたもの、導電処理を
施した紙等が使用される。
光層は、導電層を有する基体の上に設けられる。導電層
としてはアルミニウムなどの金属板又は金属箔、アルミ
ニウム等の金属を蒸着したプラスチックフィルムあるい
はアルミニウム箔を紙とはり合わせたもの、導電処理を
施した紙等が使用される。
導電層と感光層の中間に、バリヤー機能と接着機能をも
つ下引層を設けることもできる。下引層は、カゼイン、
ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−
アクリル酸コポリマー、ポリアミド(ナイロン6、ナイ
ロン66、ナイロン610、共重合ナイロン、アルコキ
シメチル化ナイロンなど)、ポリウレタン、ゼラチン、
酸化アルミニウム等によって形成できる。
つ下引層を設けることもできる。下引層は、カゼイン、
ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−
アクリル酸コポリマー、ポリアミド(ナイロン6、ナイ
ロン66、ナイロン610、共重合ナイロン、アルコキ
シメチル化ナイロンなど)、ポリウレタン、ゼラチン、
酸化アルミニウム等によって形成できる。
下引層の膜厚は、0.1〜5μm1好ましくは0.5〜
3μmが適当である。
3μmが適当である。
導電層、電荷発生層、電荷輸送層の順に積層した感光体
を使用する場合において電荷輸送物質が電子輸送性物質
からなるときは、電荷輸送層表面を正に帯電する必要が
あり、帯電後露光すると露光部では電荷発生層において
生成した電子が電荷輸送層に注入され、そのあと表面に
達して正電荷を中和し、表面電位の減衰が生じ未露光部
との間に静電コントラストが生じる。この様にしてでき
た静電潜像を負荷電性のトナーで現像すれば可視像が得
られる。これを直接定着するか、あるいはトナー像を紙
やプラスチックフィルム等に転写後、現像し定着するこ
とができる。
を使用する場合において電荷輸送物質が電子輸送性物質
からなるときは、電荷輸送層表面を正に帯電する必要が
あり、帯電後露光すると露光部では電荷発生層において
生成した電子が電荷輸送層に注入され、そのあと表面に
達して正電荷を中和し、表面電位の減衰が生じ未露光部
との間に静電コントラストが生じる。この様にしてでき
た静電潜像を負荷電性のトナーで現像すれば可視像が得
られる。これを直接定着するか、あるいはトナー像を紙
やプラスチックフィルム等に転写後、現像し定着するこ
とができる。
また、感光体上の静電潜像を転写紙の絶縁層上に転写後
視像し、定着する方法もとれる。
視像し、定着する方法もとれる。
一方、電荷輸送物質が正孔輸送物質から成る場合、電荷
輸送層表面を負に帯電する必要があり、帯電後、露光す
ると露光部では電荷発生層において生成した正孔が電荷
輸送層に注入され、その後表面に達して負電荷を中和し
、表面電位の減衰が生じ未露光部との間に静電コントラ
ストが生じる。
輸送層表面を負に帯電する必要があり、帯電後、露光す
ると露光部では電荷発生層において生成した正孔が電荷
輸送層に注入され、その後表面に達して負電荷を中和し
、表面電位の減衰が生じ未露光部との間に静電コントラ
ストが生じる。
現像時には電子輸送性物質を用いた場合とは逆に正電荷
性トナーを用いる必要がある。
性トナーを用いる必要がある。
導電層、電荷輸送層、電荷発生層の順に積層した感光体
を使用する場合において、電荷輸送物質が電子輸送性物
質からなるときは、電荷発生層表面を負に帯電する必要
があり、帯電後露光すると露光部では電荷発生層におい
て生成した電子は電荷輸送層に注入され、そのあと基体
に達する。
を使用する場合において、電荷輸送物質が電子輸送性物
質からなるときは、電荷発生層表面を負に帯電する必要
があり、帯電後露光すると露光部では電荷発生層におい
て生成した電子は電荷輸送層に注入され、そのあと基体
に達する。
一方、電荷発生層において生成した正孔は表面に達し、
表面電位の減衰が生じ未露光部との間に静電コントラス
トが生じる。この様にして出来た静電潜像を正荷電性の
トナーで現像すれば可視像が得られる。これを直接定着
するか、あるいはトナー像を紙やプラスチックフィルム
等に転写後視像し定着することができる。また、感光体
上の静電潜像を転写紙の絶縁層上に転写後視像し定着す
る方法も取れる。
表面電位の減衰が生じ未露光部との間に静電コントラス
トが生じる。この様にして出来た静電潜像を正荷電性の
トナーで現像すれば可視像が得られる。これを直接定着
するか、あるいはトナー像を紙やプラスチックフィルム
等に転写後視像し定着することができる。また、感光体
上の静電潜像を転写紙の絶縁層上に転写後視像し定着す
る方法も取れる。
一方、電荷発生層が正孔輸送性物質からなるときは、電
荷発生層表面を正に帯電する必要があり、帯電後露光す
ると露光部では電荷発生層において生成した正孔は電荷
輸送層に注入され、その後基体に達する。一方、電荷発
生層において生成した電子は表面に達し表面電位の減衰
が生じ、未露光部との間に静電コントラストが生じる。
荷発生層表面を正に帯電する必要があり、帯電後露光す
ると露光部では電荷発生層において生成した正孔は電荷
輸送層に注入され、その後基体に達する。一方、電荷発
生層において生成した電子は表面に達し表面電位の減衰
が生じ、未露光部との間に静電コントラストが生じる。
現像時には電子輸送性物質を用いた場合とは逆に負電荷
性トナーを用いる必要がある。
性トナーを用いる必要がある。
また、本発明の別の具体例では、前述のヒドラゾン類、
ピラゾリン類、オキサゾール類、チアゾール類、トリア
リールメタン類、ボリアリールアルカン類、トリフェニ
ルアミン、ポリ−N−ビニルカルバゾール類など有機光
導電性物質や酸化亜鉛、硫化カドミウム、セレンなどの
無機光導電性物質の増感剤として前述のジスアゾ顔料を
含有させた感光皮膜とすることができる。この感光皮膜
は、これらの光導電性物質と前述のジスアゾ顔料をバイ
ンダーとともに塗工によって皮膜形成される。
ピラゾリン類、オキサゾール類、チアゾール類、トリア
リールメタン類、ボリアリールアルカン類、トリフェニ
ルアミン、ポリ−N−ビニルカルバゾール類など有機光
導電性物質や酸化亜鉛、硫化カドミウム、セレンなどの
無機光導電性物質の増感剤として前述のジスアゾ顔料を
含有させた感光皮膜とすることができる。この感光皮膜
は、これらの光導電性物質と前述のジスアゾ顔料をバイ
ンダーとともに塗工によって皮膜形成される。
本発明の別の具体例としては、前述のジスアゾ顔料を電
荷輸送物質とともに同一層に含有させた電子写真感光体
を挙げることができる。この際、前述の電荷輸送物質の
他に、ポリ−N−ビニルカルバゾールとトリニトロフル
オレノンからなる電荷移動錯体を用いることができる。
荷輸送物質とともに同一層に含有させた電子写真感光体
を挙げることができる。この際、前述の電荷輸送物質の
他に、ポリ−N−ビニルカルバゾールとトリニトロフル
オレノンからなる電荷移動錯体を用いることができる。
この例の電子写真感光体は前述のジスアゾ顔料と電荷移
動錯体をテトラヒドロフランに溶解されたポリエステル
溶液中に分散させた後、皮膜形成させて調製できる。
動錯体をテトラヒドロフランに溶解されたポリエステル
溶液中に分散させた後、皮膜形成させて調製できる。
いずれの感光体においても用いる顔料は一般式(1)で
示されるジスアゾ顔料から選ばれる少なくとも一種類の
顔料を含有し、その結晶形は非晶質であっても結晶質で
あってもよい。又、必要に応じて光吸収の異なる顔料を
組み合せて使用し、感光体の感度を高めたり、パンクロ
マチックな感光体を得るなどの目的で一般式(1)で示
されるジスアゾ顔料を2種類以上組み合せたり、または
公知の染料、顔料から選ばれた電荷発生物質と組み合せ
て使用することも可能である。
示されるジスアゾ顔料から選ばれる少なくとも一種類の
顔料を含有し、その結晶形は非晶質であっても結晶質で
あってもよい。又、必要に応じて光吸収の異なる顔料を
組み合せて使用し、感光体の感度を高めたり、パンクロ
マチックな感光体を得るなどの目的で一般式(1)で示
されるジスアゾ顔料を2種類以上組み合せたり、または
公知の染料、顔料から選ばれた電荷発生物質と組み合せ
て使用することも可能である。
本発明の電子写真感光体は電子写真複写機に利用するの
みならず、レーザープリンターやCRTプリンター、L
EDプリンター、液晶プリンター、レーザー製版等の電
子写真 応用分野にも広(用いる事が出来る。
みならず、レーザープリンターやCRTプリンター、L
EDプリンター、液晶プリンター、レーザー製版等の電
子写真 応用分野にも広(用いる事が出来る。
以下、本発明を実施例によって説明する。
実施例1〜20
アルミ板上にカゼインのアンモニア水溶液(カゼイン1
1.2%、アンモニア水1g、水222mIりをマイヤ
ーバーで乾燥後の膜厚が1.0μmとなる様に塗布し乾
燥した。
1.2%、アンモニア水1g、水222mIりをマイヤ
ーバーで乾燥後の膜厚が1.0μmとなる様に塗布し乾
燥した。
次に前記例示のジスアゾ顔料Nα(1)5gをエタノー
ル95mfにブチラール樹脂(ブチラール化度63モル
%)2gを溶かした液に加えサンドミルで2時間分散し
た。この分散液を先に形成したカゼイン層の上に乾燥後
の膜厚が0.5μmとなる様にマイヤーバーで塗布し乾
燥して電荷発生層を形成した。次いで構造式のヒドラゾ
ン化合物5gとポリメチルメタクリレート樹脂(数平均
分子量1100000)5をベンゼン70mjl!に溶
解し、これを電荷発生層の上に乾燥後の膜厚が12μm
となる様にマイヤーバーで塗布し乾燥して電荷輸送層を
形成し実施例1の感光体を作成した。ジスアゾ顔料Nα
1に代えて第3表に示す他の例示顔料を用い実施例2〜
20に対応する感光体を全(同様にして作成した。
ル95mfにブチラール樹脂(ブチラール化度63モル
%)2gを溶かした液に加えサンドミルで2時間分散し
た。この分散液を先に形成したカゼイン層の上に乾燥後
の膜厚が0.5μmとなる様にマイヤーバーで塗布し乾
燥して電荷発生層を形成した。次いで構造式のヒドラゾ
ン化合物5gとポリメチルメタクリレート樹脂(数平均
分子量1100000)5をベンゼン70mjl!に溶
解し、これを電荷発生層の上に乾燥後の膜厚が12μm
となる様にマイヤーバーで塗布し乾燥して電荷輸送層を
形成し実施例1の感光体を作成した。ジスアゾ顔料Nα
1に代えて第3表に示す他の例示顔料を用い実施例2〜
20に対応する感光体を全(同様にして作成した。
この様にして作成した電子写真感光体を川口電機■製静
電複写紙試験装置ModeI 5P−428を用いて
スタティック方式で一5KVでコロナ帯電し暗所で1秒
間保持した後照度2I!uxで露光し帯電特性を調べた
。
電複写紙試験装置ModeI 5P−428を用いて
スタティック方式で一5KVでコロナ帯電し暗所で1秒
間保持した後照度2I!uxで露光し帯電特性を調べた
。
帯電特性としては表面電位(VO)と1秒間暗減衰させ
た時の電位を外に減衰するに必要な露光量(E ’A
)を測定した。この結果を第3表に示す。
た時の電位を外に減衰するに必要な露光量(E ’A
)を測定した。この結果を第3表に示す。
第3表
実施例21
実施例1で作成した電荷発生層の上に、2,4.7−ト
リニトロ−9−フルオレノン5gとポリ−4,4′−ジ
オキシジフェニル−2,2′ −プロパンカーボネート
(分子量300.000) 5gをテトロヒドラフラン
70mjl’に溶解して作成した塗布液を乾燥後の塗工
量が10g/rriとなる様に塗布し乾燥した。
リニトロ−9−フルオレノン5gとポリ−4,4′−ジ
オキシジフェニル−2,2′ −プロパンカーボネート
(分子量300.000) 5gをテトロヒドラフラン
70mjl’に溶解して作成した塗布液を乾燥後の塗工
量が10g/rriとなる様に塗布し乾燥した。
こうして作成した電子写真感光体を実施例1と同様の方
法で帯電測定を行った。この時、帯電極性はOとした。
法で帯電測定を行った。この時、帯電極性はOとした。
この結果を第4表に示す。
第4表
vo : 0700 ボルト
E% : 2.0 1ux11sec実施例22
アルミ蒸着ポリエチレンテレフタレートフィルムのアル
ミ面上に膜厚O2,5μmのポリビニルアルコールの被
膜を形成した。次に実施例1で用いたジスアゾ顔料の分
散液を先に形成したポリビニルアルコール層の上に乾燥
後の膜厚が0.5μmとなる様に妥イヤーバーで塗布し
乾燥して電荷発生層を形成した。次いで構造式 のピラゾリン化合物5gとボリアリレート樹脂(ビスフ
ェノールAとテレフタル酸−イソフタル酸の縮重合体)
5gをテトロヒドラフラン70m1に溶かした液を電荷
発生層の上に乾燥後の膜厚が10μmとなる様に塗布し
乾燥して電荷輸送層を形成した。
ミ面上に膜厚O2,5μmのポリビニルアルコールの被
膜を形成した。次に実施例1で用いたジスアゾ顔料の分
散液を先に形成したポリビニルアルコール層の上に乾燥
後の膜厚が0.5μmとなる様に妥イヤーバーで塗布し
乾燥して電荷発生層を形成した。次いで構造式 のピラゾリン化合物5gとボリアリレート樹脂(ビスフ
ェノールAとテレフタル酸−イソフタル酸の縮重合体)
5gをテトロヒドラフラン70m1に溶かした液を電荷
発生層の上に乾燥後の膜厚が10μmとなる様に塗布し
乾燥して電荷輸送層を形成した。
こうして調製した感光体の帯電特性および耐久特性を実
施例1と同様の方法によって測定した。
施例1と同様の方法によって測定した。
この結果を第5表に示す。
第5表
Vo : 0710 ボルト
E;’2 : 2.Olux−sec耐久特性
第5表の結果より感度も良(耐久使用時間の電位安定性
も良好である。
も良好である。
実施例23
厚さ100μmのアルミ板上にカゼインのアンモニア水
溶液を塗布し、乾燥して膜厚0.5μmの下引層を形成
した。
溶液を塗布し、乾燥して膜厚0.5μmの下引層を形成
した。
次に2.4.7− トリニトロ−9−フルオレノン5g
とポリ−N−ビニルカルバゾール(数平均分子量300
.000) 5gをテトラヒドロフラン70m lに溶
かして電荷移動錯体を形成した。この電荷移動錯体と前
記例示のジスアゾ顔料N o 、(2) l gをポリ
エステル樹脂(バイロン:東洋紡製)5gをテトラヒド
ロフラン70m lに溶かした液に加え分散した。この
分散液を下引層の上に塗布し乾燥して12μmの感光体
を作成した。
とポリ−N−ビニルカルバゾール(数平均分子量300
.000) 5gをテトラヒドロフラン70m lに溶
かして電荷移動錯体を形成した。この電荷移動錯体と前
記例示のジスアゾ顔料N o 、(2) l gをポリ
エステル樹脂(バイロン:東洋紡製)5gをテトラヒド
ロフラン70m lに溶かした液に加え分散した。この
分散液を下引層の上に塗布し乾燥して12μmの感光体
を作成した。
こうして調製した感光体の帯電特性と耐久特性を実施例
1と同様の方法によって測定した。この結果を第6表に
示す。但し帯電極性は■とした。
1と同様の方法によって測定した。この結果を第6表に
示す。但し帯電極性は■とした。
第6表
vo : ■ 690 ボルト
Ey2: 2.2 1ux*sec実施例24
実施例23で用いたカゼイン層を施したアルミ基体のカ
ゼイン層上に実施例1の電荷輸送層、電荷発生層を順次
積層し、層構成を異にする以外は実施例1と全く同様に
して感光体を形成し、実施例1と同様に帯電特性を測定
した。但し、帯電極性を■とした。この結果を第7表に
示す。
ゼイン層上に実施例1の電荷輸送層、電荷発生層を順次
積層し、層構成を異にする以外は実施例1と全く同様に
して感光体を形成し、実施例1と同様に帯電特性を測定
した。但し、帯電極性を■とした。この結果を第7表に
示す。
第7表
vo : ■ 700 ボルト
E′A:2.21uXIISeC
実施例25〜29
実施例3.6. 11. 14. 17に用いた感光体
を用い、繰り返し使用時の明部電位と暗部電位の変動を
測定した。方法としては−5,6KVのコロナ帯電器、
露光光学系、現像器、転写帯電器、除電露光光学系及び
クリーナーを備えた電子写真複写機のシリンダーに感光
体を貼り付けたこの複写機はシリンダーの駆動に伴ない
、転写紙上に画像が得られる構成になっている。この複
写機を用いて初期の明部電位(Vt、)と暗部電位(V
D)をそれぞれ−170V、−700V付近に設定し、
5000回使用した後の明部電位(Vt、)、暗部電位
(VD)を測定した。この結果を第8表に示す。
を用い、繰り返し使用時の明部電位と暗部電位の変動を
測定した。方法としては−5,6KVのコロナ帯電器、
露光光学系、現像器、転写帯電器、除電露光光学系及び
クリーナーを備えた電子写真複写機のシリンダーに感光
体を貼り付けたこの複写機はシリンダーの駆動に伴ない
、転写紙上に画像が得られる構成になっている。この複
写機を用いて初期の明部電位(Vt、)と暗部電位(V
D)をそれぞれ−170V、−700V付近に設定し、
5000回使用した後の明部電位(Vt、)、暗部電位
(VD)を測定した。この結果を第8表に示す。
実施例30
実施例19で用いた感光体を780nmに発振波長をも
つ半導体レーザーにより露光したところ780nmにお
ける分光感度は1.2μJ/cm” (半減露光量)
であった。
つ半導体レーザーにより露光したところ780nmにお
ける分光感度は1.2μJ/cm” (半減露光量)
であった。
次にこの半導体をキャノンLBP−CXのドラム上に塗
布し実写テストを行なったところカブリのない良好な画
像が得られた。また、これは1ooo。
布し実写テストを行なったところカブリのない良好な画
像が得られた。また、これは1ooo。
回繰り返しても変ることはなかった。
実施例31〜34
実施例30において例示化合物74に代えて12゜20
.25.31を用いた他は同様にしてドラム状の感光体
を作成した。それぞれの感光体の780nmにおける分
光感度は第9表に示す通りであった。
.25.31を用いた他は同様にしてドラム状の感光体
を作成した。それぞれの感光体の780nmにおける分
光感度は第9表に示す通りであった。
第9表
例示化合物 12. 20. 25. 31半減
露光1t(μJ/crtf)!、2. 1.3. 2.
0. 2.5次に実施例30と同様にして実写テストを
行なったところカブリの無い画像が得られ、これは10
000回繰り返しても変化はなかった。
露光1t(μJ/crtf)!、2. 1.3. 2.
0. 2.5次に実施例30と同様にして実写テストを
行なったところカブリの無い画像が得られ、これは10
000回繰り返しても変化はなかった。
本発明は特定のアゾ顔料をン傳重層に用いる事により、
このアゾ顔料を含むfC/獅を層内部に於けるキャリア
ー発生効率ないしはキャリアー輸送効率のいずれか一方
ないしは双方が良(なるため、高感度で耐久使用時に於
ける電位安定性のすぐれた感光体が得られる。また半導
体レーザーの発振波長域においても高感度でカブリのな
い良好な画像を得ることができる。
このアゾ顔料を含むfC/獅を層内部に於けるキャリア
ー発生効率ないしはキャリアー輸送効率のいずれか一方
ないしは双方が良(なるため、高感度で耐久使用時に於
ける電位安定性のすぐれた感光体が得られる。また半導
体レーザーの発振波長域においても高感度でカブリのな
い良好な画像を得ることができる。
Claims (8)
- (1)下記一般式(1)で示されるジスアゾ顔料を含有
する光導電層を有することを特徴とする電子写真感光体
。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) ただし、式(1)中Zは炭素原子または窒素原子を示す
。R_1は水素原子、ニトロソ基、アルキル基、アラル
キル基、アリール基またはヘテロ環基を示す。R_2、
R_3は水素原子、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基また
はアルキル基、アルコキシ基を示し、R_2、R_3は
それぞれ同じであっても異なっていてもよい。また、A
_1、A_2はフェノール性OH基を有するカプラー残
基を示し、A_1、A_2はそれぞれ同じであっても異
なっていてもよい。 - (2)特許請求の範囲第(1)項の一般式(1)中のA
_1、A_2が下記一般式(2)で示される特許請求の
範囲第(1)項記載の電子写真感光体。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(2) 式(2)中Xはベンゼン環と縮合してナフタレン環、ア
ントラセン環、カルバゾール環、ベンズカルバゾール環
、ジベンゾフラン環、ジベンゾナフトフラン環、ジフエ
ニレンサルフアイト環等の多環芳香環ないしは、ヘテロ
環を形成するに必要な残基を示す。 式(2)中R_4、R_5は水素原子、アルキル基、ア
リール基、アラルキル基、ヘテロ環基ないしはR_4、
R_5の結合する窒素原子とともに環状アミノ基を示す
。) - (3)特許請求の範囲第(1)項の一般式(1)中のA
_1、A_2が下記一般式(3)で示される特許請求の
範囲第(1)項記載の電子写真感光体。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(3) 式(3)中のR_6はアリール基ないしはヘテロ環基を
示しXは一般式(2)中のXと同じ意味を表わす。 - (4)特許請求の範囲第(1)項の一般式(1)中のA
_1、A_2が下記一般式(4)で示される特許請求の
範囲第(1)項記載の電子写真感光体。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(4) 式(4)中のR_7、R_8はアルキル基、アリール基
、アラルキル基、ないしはヘテロ環基を示す。 Xは一般式(2)中のXと同じ意味を表わす。 - (5)特許請求の範囲第(1)項の一般式(1)中のA
_1、A_2が下記一般式(5)で示される特許請求の
範囲第(1)項記載の電子写真感光体。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(5) 式(5)中のR_9はアルキル基、アリール基、アラル
キル基を示す。 - (6)特許請求の範囲第(1)項の一般式(1)中のA
_1、A_2が下記一般式(6)で示される特許請求の
範囲第(1)項記載の電子写真感光体。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(6) 式(6)中のR_9は一般式(5)のR_9と同じ意味
を表わす。 - (7)特許請求の範囲第(1)項の一般式(1)中のA
_1、A_2が下記一般式(7)で示される特許請求の
範囲第(1)項記載の電子写真感光体。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(7) 式(7)中のYは芳香族炭化水素の2価の基ないしは窒
素原子を環内に含むヘテロ環の2価の基を示す。 - (8)特許請求の範囲第(1)項の一般式(1)中のA
_1、A_2が下記一般式(8)で示される特許請求の
範囲第(1)項記載の電子写真感光体。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(8) 式(8)中、Yは一般式(7)中のYと同じ意味を表わ
す。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23877086A JPS6392957A (ja) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23877086A JPS6392957A (ja) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6392957A true JPS6392957A (ja) | 1988-04-23 |
Family
ID=17035010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23877086A Pending JPS6392957A (ja) | 1986-10-07 | 1986-10-07 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6392957A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11307462B2 (en) | 2018-03-30 | 2022-04-19 | Lg Chem, Ltd. | Liquid crystal aligning agent composition, method for preparing liquid crystal alignment film using same, and liquid crystal alignment film and liquid crystal display using same |
-
1986
- 1986-10-07 JP JP23877086A patent/JPS6392957A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11307462B2 (en) | 2018-03-30 | 2022-04-19 | Lg Chem, Ltd. | Liquid crystal aligning agent composition, method for preparing liquid crystal alignment film using same, and liquid crystal alignment film and liquid crystal display using same |
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