JPS61229879A - 1−置換アリ−ル−1,4−ジヒドロ−4−オキソナフチリジン誘導体またはその塩の新規製造法 - Google Patents

1−置換アリ−ル−1,4−ジヒドロ−4−オキソナフチリジン誘導体またはその塩の新規製造法

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JPS61229879A
JPS61229879A JP60069061A JP6906185A JPS61229879A JP S61229879 A JPS61229879 A JP S61229879A JP 60069061 A JP60069061 A JP 60069061A JP 6906185 A JP6906185 A JP 6906185A JP S61229879 A JPS61229879 A JP S61229879A
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
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  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はダラム陽性菌およびダラム陰性菌に対して強力
な抗菌作用を示す、一般式 で表わされる1−置換アリール−1,4−ジヒドロ−4
−オキソナフチリジン誘導体またはその塩の製造法、さ
らに詳しくは、一般式 で表わされる化合物またはその塩と、一般式R3H(I
f) 〔式中、R3は前記したと同様の意味を有する。〕で表
わされる化合物またはその塩を反応させ、所望によりカ
ルボキシル保嶺基を脱離または塩に変換させて、一般式
(m)で表わされる1−置換アリール−1,4−ジヒド
ロ−4−オキソナフチリジン誘導体またはその塩を得る
製造法に関するものである。
〔従来の技術〕
一般式(m)で表わされる1−置換アリール−1゜4−
ジヒドロ−4−オキソナフチリジン誘導体およびその塩
は第24回インターサイエンス・コンブ1ランス・オン
・アンチミクロバイアル・エージエンツ・アンド・ケモ
セラピー(1,C,A、A。
C)要旨巣箱102〜104頁および特願昭59−84
963号において、ダラム陽性菌およびダラム陰性菌、
とりわけ抗生物質耐性菌に対し強力な抗菌作用を示し、
経口または非経口投与によシ高い血中濃度が得られ、か
つ安全性が高いなどの優れた性質を有することが示され
ている。そして、これらの化合物を製造する方法として
、一般式(I)で表わされる新規な1.4−ジヒドロ−
4−オキソナフチリジン誘導体またはその塩を中間体と
して経由する方法は全く知られていない。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明の目的は、一般式(f[I)で表わされる1−N
mアリール−1,4−ジヒドロ−4−オキソナフチリジ
ン誘導体またはその塩を高収率に、かつ工業的に容易に
得る製造法を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意研究した結果、
一般式(I)で表わされる化合物またはその塩と一般式
(I[)で表わされる化合物またはその塩を反応させる
ことにより、一般式(III)で表わさレル1−[換ア
リールー1.4−ジヒドロ−4−オキソナフチリジン誘
導体またはその塩を高収率に得る方法を見出し1本発明
を完成するに至った。
以下1本発明の詳細な説明する。
本用a書中で R1で示されるカルボキシル保護基とし
ては、通常当該分野で使用されるもの、たとえば、アル
キル基、ベンジル基、ピバロイルオキシメチル基、トリ
メチルシリル基など、特開昭59−80665号公報な
ど忙記載された通常のカルボキシル基の保膿基が挙げら
れる。
R2におけるアリールチオ基としては、たとえば、フェ
ニルチオ、ナフチルチオなど;アルキルスルフィニル基
としては、たとえば、メチルスルフィニル、エチルスル
フィニル、イソプロビルスルフィニA1. t6rt、
−ブチルスルフィニルなト;アリールスルフィニル基と
してU、7tと、tば、フェニルスルフィニル、ナフチ
ルスルフィニルナト;アルカンスルホニル基としては、
たとえば、メタンスルホニル、エタンスルホニル、1−
メチルエタンスA/ホニル、 1.1− ジメチルエタ
ンスルホニルなど;アレーンスルホニル基としては、た
とえば。
ベンゼンスルホニル、ナフタレンスルホニルナト;アル
カンスルホニルオキシ基としては、たとえば、メタンス
ルホニルオキシ、エタンスルホニルオキ醪 シ、1−メーt−ルエタンスルホニルオキシ、1.1−
ジメチルエタンスルホニルオキシなど;7レーンスルホ
ニルオキシ基としては、たとえば、ベンゼンスルホニル
オキシ、ナフタレンスルホニルオキシなト;ジアルコキ
シホスフィニルオキシ基トシては、たとえば、ジメトキ
シホスフィニルオキシ。
ジェトキシホスフィニルオキシ、ジプロポキシホスフィ
ニルオキシ、ジブトキシホスフィニルオキシなト;ジア
リールオキシホスフィニルオキシ基としでは、たとえば
、ジフェノキシホスフィニルオキシなどが挙げられる。
上記したR2は、たとえば、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子;ニトロ基;メ
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、イソブチル、  sec、−ブチル、tert、−
ブチルなどのアルキル基;メトキシ、エトキシ、n−プ
ロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、インブトキ
シ、 see、−ブトキシ、tert、−ブトキシなど
のアルコキシ基などから選ばれる一つ以上の置換基で置
換されていてもよい。
また、 13におけるアミノ基が保護されていてもよい
3−アミノピロリジニル基およびイミノ基が保護されて
いてもよいピペラジニル基におけるアミノ基およびイミ
ノ基の保護基としては1通常当該分野で使用されるもの
が挙げられ、たとえば。
ホルミル、アセチル、N、N−ジメチルアミノメチレン
など、特開昭59−80665号公報などに記載された
通常のアミノ基およびイミノ基の保護基が挙げられる。
また、一般式(I)および(m)で表わされる化合物の
塩としては、通常知られているアミノ基などの塩基性基
またはカルボキシル基、ヒドロキシル基などの酸性基に
おける塩を挙げることができる。
塩基性基における塩としては、たとえば、塩酸、臭化水
素酸、硫酸などの鉱酸との塩;シェラ酸、クエン酸、ト
リフルオロ酢酸などの有機カルホン酸との塩;メタンス
ルホンe、p−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホ
ン酸などのスルホン酸との塩を、酸性基における塩とし
ては、たとえば。
ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属との塩;カル
シウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金71の塩;
アンモニウム塩;プロカイン、ジベンジルアミン、N、
N−ジベンジルエチレンシアミン、トリエチルアミン、
ピリジン、N、N−ジメチルアニリン、N〜メチルピペ
リジン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミンなど
の含窒素有機塩基との塩を挙げることができる。
また、一般式(It)で表わされる化合物の塩としては
、一般式(I)および(III)で表わされる化合物に
おいて説明したと同様の塩基性基における塩が挙げられ
る。
つぎに5本発明製造法について詳述する。
本発明の一般式(III)で表わされる1−置換アz1
−ルー1,4−ジヒドロ−4−オキソナフチリジン誘導
体またはその塩は、一般式(I)で表わされる化合物ま
たはその塩に、脱酸剤の存在下または不存在下、一般式
(II)で表わされるアミン類またはその塩を反応させ
ることによって得ることができる。
本反応を溶媒中で行う場合、使用される溶媒としては、
反応に不活性な溶媒であれば特に限定されないが、具体
的には、メタノール、エタノール、n−プロパツール、
2−プロパツール、n−ブタノール、インブタノール、
  tert、−ブチルアルコールなどのアルコール類
;ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエ
チレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類;
アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類;ニトロ
メタン、ニトロエタンなどのニトロアルカン類;酢酸メ
チル、酢eエチルなどのエステル類;アセトニトリルな
どの二) IJシル類ベンゼン、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルム、
ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;N、N−
ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド
人どのアミド類;ジメチルスルホキシドなどのスルホキ
シド類などが挙ケラれ、これらを2種以上混合して使用
してもよい。
また、脱酸剤としては、たとえば、トリエチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン、x、s−ジアザビシクロ
−C5,4,O〕−ウンデセ−7−二ン(DBU)、ピ
リジン、カリウム tert、−ブトキシド°、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、水素化ナトリウムなどの有機
または無機塩基が挙げられる。
一般式(II)で表わされるアミン類またはその塩の使
用量は、脱酸剤を用いない場合、一般式(I)で表わさ
れる化合物またはその塩に対して、好ましくは2.0〜
5,0倍モルであるが、脱酸剤を適宜使用することによ
って一般式(Il)で表わされるアミン類またはその塩
の使用量を減らすことができる。
本反応は通常θ〜150℃、好ましくは0〜100℃で
、5分〜30時間実施すればよい。
上記反応工程において、R2が置換基を有していてもよ
いアルカンスルホニルオキシまたはアレーンスルホニル
オキシ基である一般式(1)で表ワサれる化合物または
その塩の場合 12としてはかさ高いアルカンスルホニ
ルオキシまたはアレーンスルホニルオキシ基、とりわけ
オキシスルホニル基が結合した炭素原子忙隣接した少な
くとも1つ以上の炭素原子が前述した置換基で置換され
たアレーンスルホニルオキシ基である場合が好ましい。
このようkして得られた一般式(m)で表わされる化合
物は、所望によシ、公知方法によシ保護基の脱離反応を
行い、それぞれ対応する化合物の遊離カルボン酸に誘導
することができる。さら忙、これらの遊離カルボン酸は
、所望に応じて、自体公知の塩形成反応またはエステル
化反応に付してそれぞれ対応する化合物の塩またはエス
テルに誘導することができる。
つぎに一般式(I)で表わされる原料化合物の製造法に
ついて説明する。この化合物は、たとえば、以下に示す
製造法に従って製造することができる。
(以下余白) (■)(I)またはその塩 一般式(IV)、 (V)、(VI)、(Wa)、およ
び(Ia)で表わされる化合物の塩としては、一般式(
I)および(m)で表わされる化合物において説明した
と同様の塩が挙げられる。また、一般式(■)で表わさ
れる化合物の塩としては、たとえば、リチウム。
カリウム、ナトリウムなどのアルカリ金属との塩、マグ
ネシウムなどのアルカリ土類金属との塩、エトキシマグ
ネシウムとの塩などが挙げられる。
一般式(VI)で表わされる化合物またはその塩は。
英国特許第1409987号に記載の方法に準じて製造
された一般式(IV)で表わされる化合物またはその塩
を、プレタンφド・ラーソシエテ・シミフード9117
う7 、X (Bul 1.Soc、(::him、F
r、 ) 1165〜1169(1975)に記載の方
法に準じて製造された一般式(V)で表わされる化合物
またはその塩と反応させることによって製造することが
できる。
一般式(ffia )で表わされる化合物またはその塩
は。
一般式(VI)で表わされる化合物またはその塩を自体
公知の方法でカルボキシル基における反応性誘導体、た
とえば、酸クロリド、酸プロミドなどの酸へロゲニド;
酸無水物;炭酸モノエチルエステルなどの炭酸モノアル
キルエステルとの混合酸無水物;ジニトロフェニルエス
テル、シアノメチルエステル、スクシンイミドエステル
fkHの活性エステル;イミダゾールなどとの活性酸ア
ミドなどに変換した後、一般式(■)で表わされる化合
物またはその塩を反応させ、ついで、脱カルボキシル化
するととくよって得ることができる。この反応に使用さ
れる溶媒としては1反応に不活性な溶媒であれば特に限
定されないが、たとえば、メタノール、エタノール、2
−7’ロバノールなどのアルコール類;ベンゼン、トル
エンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホ
ルム、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど
のエーテル類;アセトニトリルなどのニトリル類;N、
N−ジメチルホルムアミド%N、N−ジメチルアセトア
ミドなどのアミド類などが挙げられ、これらの溶媒を2
81以上混合して使用してもよい。
また、一般式(■)で表わされる化合物またはその塩の
使用量は、一般式(VI)で表わされる化合物またはそ
の塩に対して等モル以上、好ましくは、1.0〜2.5
倍モルである。この反応は通常−50〜100C1好ま
しくは一20〜70℃で、5分〜30時間実施すればよ
い。
一般式(Ia)または(I)で表わされる化合物も゛ 
しぐはそれらの塩は、それぞれ一般式(Wa)で衷わさ
れる化合物またはその塩もしくは一般式(■)で表わさ
れる化合物忙、たとえば% N、N−ジメチルホルムア
ミドのアセタールまたは無水酢酸の存在下または不存在
下。
オルトギ酸トリアルキルエステルを反応させることによ
って得ることができる。本反応は溶媒の存在下または不
存在下に実施され、使用される溶媒としては1反応に不
活性な溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;
ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル などのエーテル類;塩化メチレン
、クロロホルム、ジクロロエタンナトノ/% E2 ケ
:/化炭化水素類;メタノール、エタノールなどのアル
コール類;酢酸メチル、酢酸エチルlkトのエステル類
;N、N−ジメチルホルムアミド%N、N−ジメチルア
セトアミドなどのアミド類;ジメチルスルホキシドなど
のスルホキシド類などが挙げられ、これらを2種以上混
合して使用してもよい。また、N、N−ジメチルホルム
アミドのアセタールとしては、たとえば、N、N−ジメ
チルホルムアミドジメチルアセタール、N、N−ジメチ
ルホルムアミドジエチルアセタール、IIJ。
N−ジメチルホルムアミドクネオベンチルアセターkが
、またオルトギ酸トリアルキルエステルとしては、オル
トギ酸トリメチルエステル、オルトギ酸トリエチルエス
テルなどが挙げられ、これらの試薬を溶媒として用いて
もよい。これらの使用f!は一般式(Wa)で表わされ
る化合物またはその塩もしくは一般式(■〕で表わされ
る化合物に対してそれぞれ等モル以上が好ましい。本反
応は通常θ〜150℃、好ましくは15〜110℃で、
5分〜30時間実施すればよい。
また、一般式(■)で表わされる化合物または一般式(
I)で表わされる化合物もしくはその塩において、R2
がアジド基、置換基を有していてもよいアルカンスルホ
ニルオキシ、アレーンスルホニルオキシ、ジアルコキシ
ホスフィニルオキシまたはジアリールオキシホスフィニ
ルオキシ基である化合物は、一般式〇&)ま藝 たけ(Ia)で表わされる化合物もしくはそれらの塩を
それぞれアジド化剤、スルホニル化剤マたはリン酸化剤
と反応させることによって得ることができる。
(1)スルホニル化 一般式(■)で表わされる化合gJ普たは一般式(I)
で表わされる化合物もしくはその塩においてR2が置換
基を有していてもよいアルカンスルホニルオキシまたは
アレーンスルホニルオキシ基である化合物は、それぞれ
一般式〇’la)または(Ia)で表わされ、′)化合
物もしくはそれらの塩に脱酸剤の存在下または不存在下
スルホニル化剤を反応させること釦よって得ることがで
きる。この反応に使用される溶媒としては。
反応に不活性な溶媒であれば特に限定され々いが、タト
エハ、水;ヘンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソ
ール、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどのエ
ーテル類;塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタ
ンナトのハロゲン化炭化水素類;アセトン、メチルエチ
ルケトンなどのケトン類;N、N−ジメチルホルムアミ
ド、N。
N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類;ジメチルス
ルホキシドなどのスルホキシド類;アセトニトリルなど
のニトリル類;ヘキサメチルホヌホルアミド;ピリジン
などが挙げられ、これらの溶媒を2種以上混合して使用
してもよい。スルホニル化剤としては、たとえば、メタ
ンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニル
クロリド、エタンスルホニルクロリド、1−メチルエタ
ンスルホニルクロリド、x、x−ジメチルエタンスルホ
ニルクロリド、ベンゼンスルホニルクロリド、トルエン
スルホニルクロリド、ニトロベンゼンスルホニルクロリ
ド、クロロベンゼンスルホニルクロIJ)’、2.5−
ジクロロベンゼンスルホニルクロリド、2.3.4−)
 IJクロロベンゼンスルホニルクロIJ ト、 2.
4.5− トリクロロベンゼンスルホニルクロリド、メ
シチレンスルホニルクロIJ ト、 2.4.6−トリ
イソプロビルベンゼンスルホニルクロリド、ナフタレン
ヌルホニルクロリドなどのアルカンス/L/ ホニA/
 /’、 a )lニドt タハアレーンスルホニルハ
ロケニト、メタンスルホン酸m水物、)ルエンスルホン
酸無水物などのアルカンスルホン酸無水物またはアレー
ンスルホン酸無水物が挙げられる。
また脱酸剤としては、たとえば、トリエチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン、1.8−ジアザビシクロ−
(5,4,03−ウンデセ−7−二ン(DBU)、ピリ
ジン、カリウム tert、−ブトキシド。
水酸化アルカU、炭酸アルカリなどの有機または無機塩
基が挙げられる。
スルホニル化剤および所望によって使用される脱酸剤の
使用量は、一般式(■a)または(Ia)で表わさる化
合物もしくはそれらの塩に対してそれぞれ等モル以上、
好ましくは1.0〜2.0倍モルである。
この反応は通常0〜150℃、好ましくは0〜50℃で
、5分〜30時間実施すればよい。
(2)アジド化およびリン酸化 一般式(■)で表わされる化合物または一般式(I)で
表わされる化合物もしくはその塩においてR2がアジド
基または置換基を有していてもよいジアルコキシホスフ
ィニルオキシもシくはジアリールオキシホスフィニルオ
キシ基である化合物は、一般式(■a) iたは(Ia
)で表わされる化合物もしくはそれらの塙に脱酸剤の存
在下または不存在下、それぞれアジド化剤またはリン酸
化剤を反応させることによって得ることができる。これ
らの反応に使用される溶媒としては1反応に不活性な溶
媒であれば特に限定されないが、具体的には上記したス
ルホニル化で使用される溶媒と同様のものが挙げられる
。アジド化剤としては、たとえば、ジエチルリン酸アジ
ドなどのジアルキルリン酸アジドまたはジフェニルリン
酸アジドなどのジアリールリン酸アジドなどが挙げられ
る。また、リン酸化剤としては、たとえば、ジメチルリ
ン酸クロリド、ジエチルリン酸り。リド、ジプロピルリ
ン酸クロリド、ジブチルリン酸クロリドなどのジアルキ
ルリン酸ハロゲニドまたはジフェニルリン酸クロリドな
どのジアリールリン酸ハロゲニドなどが挙げられる。ま
た、これらの反応において、使用される脱酸剤としては
、具体的には上記したスルホニル化で使用される脱酸剤
と同様のものが挙げられる。
アジド化におけるアジド化剤および所望によって使用さ
れる脱酸剤の使用量は、一般式(ia )または(Ia
)で表わされる化合物もしくはそれらの塩に対してそれ
ぞれ等モル以上、好ましくは1.0〜3.0倍モルであ
る。この反応は通常O〜150℃。
好ましくは15〜100℃で、5分〜30時間実施すれ
ばよい。また、リン酸化におけるリン酸化剤および所望
によって使用される脱酸剤の使用量は、一般式(■a)
または(Ia)で表わされる化合物もしくはそれらの塩
に対してそれぞれ等モル以上、好ましくは1.0〜1.
5倍モルである。この反応は通常O〜150℃、好まし
くは0〜50℃で%5分〜30時間実施すればよい。
さらに、一般式(■)または(I)で表わされる化合物
もしくはそれらの塩において R2が置換基を有してい
てもよいアリールチオ基である化合物は、上記で得られ
たR2がF’etM基を有していてもよいアルカンスル
ホニルオキシまたはアレーンスルホニルオキシ基である
化合物に、脱酸剤の存在下または不存在下、たとえば、
チオフェノール、ナフタレンチオールなどのチオール類
またはその塩を反応させることによって得ることができ
る。チオール類の塩としては、たとえば、一般式(1)
および(1)で表わされる化合物において説明したと同
様の酸性基における塩が挙げられる。この反応に使用さ
れる溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれば特に限
定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの芳香族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロ
フラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエ
ーテルナトのエーテル類;塩化メチレン、クロロホルム
、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;N。
N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトア
ミドなどのアミド類;ジメチルスルホキシドなどのスル
ホキシド類などが挙げられ、これらの溶媒を2種以上混
合して使用してもよい。脱酸剤としては、たとえば、水
酸化アルカリ、炭酸アルカリなどの無機塩基、トリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリ
ジン、N−メチルピペリジン、N−メチルモルホリン、
ルチジン、コリジンなどの有機塩基が挙げられる。
チオール類またはその塩および所望によって使用される
脱酸剤の使用量は、Rが置換基を有していてもよいアル
カンスルホニルオキシまたlti’7レーンスルボニル
オキシ基である一般式(■ンで表わされる化合物または
一般式(I)表わされる化合物もしくはその塩に対して
それぞれ等モル以上、好ましくは1.0〜2.0倍モル
である。この反応は通常O〜150℃、好ましくは0〜
70°Cで、5分〜30時間実施すればよい。
また、R2が置換基を有していてもよいアルキルスルフ
ィニルまたはアルカンスルホニル基でアル一般式(■)
で表わされる化合物または一般式(1)で表わされる化
合物もしくはその塩の原料であるR2が置換基を有して
いてもよいアルキルチオ基に相当する一般式(鴇)で表
わされる化合物または一般式(I)で表わされる化合物
もしくはその塩は、たとえば、メタンチオール、エタン
チオール、n−7’ロパンチオール、インブタンチオー
ル、ペンタンチオール、ヘキサンチオール、ヘプタンチ
オール、オクタンチオール、ドデカンチオールなどのチ
オール類またはその塩を上記したと同様に反応させるこ
とによって得ることができる。
このよう忙して得られたR2が置換基を有していてもよ
いアルキルチオ基に相当する基またはアリールチオ基で
ある一般式(■)で表わされる化合物または一般式(1
)で表わされる化合物もしくはその塩は、酸化反応に付
すことによってR2が置換基を有していてもよいアルキ
ルスルフィニル、アリ−ルスルフイニル、アルカンスル
ホニルまたはアレーンスルホニル基である化合物もしく
はそれらの鳩に誘導することができる。この反応に使用
される溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれば特に
限定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエン、キシ
レンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホ
ルム、ジクロロエタ7 ft トノハロゲン化炭化水素
類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンなどのエーテル類;ギ盾、酢酸などの脂肪ハ類;水な
どが挙げられ、これらの溶媒を2種以上混合して使用し
てもよい。
酸化剤としては、たとえば、過ギ酸、過酢酸、過安息香
酸、m−クロロ過安息香酸などの有機過酸類、過酸化水
素、過ヨウ素順、メタ過ヨウ素酸ナトリウム、メタ過ヨ
ウ素酸カリクムー過マンガン酸カリウム、オゾンなどが
挙げられる。一般式(VW)または(I)においてR2
が置換基を有していてもよいアルキルスルフイニルマタ
ハアリールスルフィニル基である化合物(スルホキシド
)もしくはその壇を得るために、特に好ましい酸化剤と
しては、有機過酸類、メタ過ヨウ素酸す) IJウム、
メタ過ヨウ素酸カリクムなどが挙げられ、その使用量は
、一般式01M)または(I)におりて 12が置換基
を有していてもよいアルキルチオ基に相当する基または
アリ−ルチオ基である化合物もしくはその塩に対 して
1.0〜1.2倍モルである。また、一般式(VM)ま
たは(I)においてR2が置換基を有していてもより7
 /I/ カフ スルホ= A/ マfc Idアレー
ンスルホニル基である化合物(スルホン)もしくはその
塩を得るため忙、特に好ましい酸化剤としては、有機過
酸類、過酸化水素などが挙げられ、その使用量は、一般
式(T’l)または(I)においてR2が置換基を有し
ていてもよいアルキルチオ基に相当する基またはアリー
ルチオ基である化合物もしくはその塩に対して2.0〜
2.5倍モルであもさら(一般式(■)においてスルホ
キシドである化合物または一般式(I)においてスルホ
キシドである化合物もしくは1   その塩は所mKよ
シさらに酸化してスルホンである化合物に誘導すること
ができる。これらの反応は通常0〜100℃、好ましく
は0〜30’Cで。
5分〜30時間実施すればよい。
以上説明した一般式(VI) @ (Ia)または(I
)で表わされる化合物もしくはそれらの塩が保護基を有
する場合、所望により、公知方法にょシ保護基の脱離反
応を行い、それぞれ対応する遊離の化合物に誘導するこ
とができる。さらに、これらの一般式(VI)、 (I
a)または(I)で表わされる化合物が遊離の化合物で
ある場合は、所望により、自体公知の塩形成反応または
エステル化反応に付してそれぞれ対応する化合物の#A
またはエステルに誘導することができる。
さらにまた、一般式(VI) 、  (Ia)または(
I)で表わされる化合物が保護基を有する場合、所望に
応じて、自体公知の塩形成反応に付して、それぞれ対応
する化合物の塩に誘導することができる。
以上説明したそれぞれの反応によって得られる化合物は
常法によりて単離または分離することができ、また単離
または分離することなくっぎの反応に使用することもで
きる。
つぎに1本発明方法によって得られる代表的化合物の抗
菌作用を示す。
試験方法 日本化学療法学会標準法cケモセラピー(CHEMOT
HERAPY )第29巻第1号第76〜79頁(19
81年)〕に従いハート・インフユージ璽ン・プo x
 (Heart Infuaion broth ) 
(栄研化学社製)で37℃、20時間培養した菌液を薬
剤ヲ含ムハート・インフ為−ジ璽ン・アガー(Hear
tJnfusion agar )培地(栄研化学社與
)に接種し、37℃で20時間培養した後、菌の発育の
有無を観察し、菌の発育が阻止された最小濃度をもって
MIC(μm/11)とした。ただし接種菌量は10’
個/プレート(106個/l111)とした。その結果
を表−1に示す。なお、表−1で使用されている記号は
下の意味を有する。
本 ペニシリネース意生菌 *末 セファロスポリネース産生菌 表−1 〔実施例〕 つぎに本発明を参考例および実施例を挙げて説明するが
、本発明はこれに限定されるものではない。
なお、参考例および実施例で使用されている記号は下記
の意味を有する。
鵬;メチル基、 Et ;エチルM−1−Prrイソプ
ロピル基 実施例1 3−アミノピロリジンの二塩酸塩150qをエタノール
5−に懸濁させ、トリエチルアミン310キを加えて溶
解させる。ついで、1−(2,4−ジフルオロフェール
)−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−7
−(2,4,6−トリイソプロピルベンゼンスルホニル
オキシ)−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチ
ルエステル500qを加え、室温で2時間反応させる。
ついで、水6−を加えて析出結晶を戸数し、水5dで洗
浄すれば、融点200〜202℃を示す7−(3−アミ
ノ−1−ピロリジニル)−1−(2,4−ジフルオロフ
ェニル)−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキ
ノー1.8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエス
テル3301!ly(収率96.3%)を得る。これを
酢酸エチル−エタノール(容量比1:1)混合溶媒で再
結晶すれば、融点206〜209℃を示す結晶を得る。
NMR(TFA−d 1 )δ値; 1.48(3H,t、J=7Hz)。
2.19〜2.86 (2H,m) 。
3.33〜4.90 (7H、m ) 。
6.89〜7.85 (3H、m ) 。
8.18 (I Hs d 、J =11 Hz ) 
−9,04(IH,a) 同様に反応させて1表−2に示す結果を得る。
表−2 ■ 実施例2 無水ピペラジン270qを塩化メチレン41に溶解させ
、1−(2,4−ジフルオロフェニル)−6−フルオロ
−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−7−(2,4,6−
トリイソプロビルベンゼンスルホニルオキシ)−1゜8
−ナフチリジン−6−カルボン酸エチルエステル400
ダを加え、水冷下で1時間反応させる。反応液に酢酸エ
チル20−および水101を加えて有機層を分取し、飽
和炭酸水素す) IJウム水溶液10m1および飽相良
塩水10−で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶性物
質にジエチルエーテル51を加えて結晶をP取すれば、
融点208〜211℃を示す1−(2,4−ジフルオロ
フェニル)−6−フルオロ−1,4−シヒ)”ロー4−
オキソ−7−(1−ピペラジニル)−1,8−ナフチリ
ジン−3−カルボン酸エチルエステル250”f(収I
K91.2%)を得る。
これをアセトン−メタノール(容量比1’:1)混合溶
媒で再結晶すれば、融点220〜223℃を示す結晶を
得る。
NMR(TFA−t&)  a値; 150 (3H,t、 、T−7)1z )。
3.39〜3.93(4鴇m)。
5.93〜4.44 (4f(、m )。
4.66(2H,q、 Jw7Hz)。
6.89〜7.82(3H,m)。
8.52 (I H,d、 J−12Hz )e9.1
4(IH,s) 同様に反応させて、表−3に示す結果を得る。
表−3 !!−3(続) 実施例3 N−アセチルピペラジンの−”A hl Tli 70
 qを塩化メチレン2ml K 懸濁させ、トリエチル
アミン80〜を加、えて溶解させる。ついで。
1−(2,4−ジフルオロフェニル)−6−フルオロ−
1,4−ジヒドロ−4−オキソ゛−7−(2,4,1s
−)リインプロピルベンゼンスルホニルオキシ)−1,
a−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエステル20
0qを加え、室温で2時間反応させる。反応液に4(ヒ
メチレン8dおよび水1oIIjを加えて有機層を分取
し、水iomおよび飽和食塩水10117で順次洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶
はを留去し、得られた残留物にジエチルエーテル51を
加えて析出結晶を1取すれば、融点217〜219°C
を示す7−(4−アセチル−1−ピペラジニル)−1−
(2,4−ジフルオロフェニル)−6−フルオロ−1,
4−ジヒドロ−4−オキノー1,8−ナフチリジン−6
−カルボン酸エチルエステル140’F(収率95、1
4 )を得る。これをアセトンで再結晶スレハ、融点2
19〜220℃を示す結晶を得る。
実施例4 (1)6−アミノピロリジンの二塩酸塩64岬をエタノ
ール2JljにW!に濁させ、トリエチルアミン130
Mgを加えて溶解させる。ついで、1−(2,4−ジフ
ルオロフェニル)−7−ジフェノキシホスフィニルオキ
シ−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1
゜8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエステル2
00g9を加え、室温で1時間反応させる。ついで、水
3dを加え℃析出結晶を1取した後、水3dで洗浄すれ
ば、7−(5−アミノ−1−ピロリジニル)−1−(2
,4−ジフルオロフェニル)−6−フルオロ−1゜4−
ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カ
ルボン酸エチルエステル110af(収率75.9 %
 )を得る。この化合物の物性は、実施例1で得られた
ものと一致した。
+211−(2,4−ジフルオロフェニル)−7−ジフ
ニノキシボスフイニルオ*シー6−フルオロ−1,4−
ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−6−カ
ルボン酸エチルエステルの代わりに、7−ジニトキシホ
スフイニルオキシー1−(2,4−ジフルオロフェニル
)−6−フルオl:l−1.’4−ジヒドロ−4−オキ
ソ−1,8−カッチリジン−6−カルボン酸エチルエス
テル17oqを用い。
同様の条件下で反応させれば、7−(5−アミノ−1−
ピロリジニル)−1−(2,4−ジフルオロフェニル)
−6−フルオロ−1゜4−ジヒドロ−4−オキソ−1,
8−ナフチリジン−6−カルボン酸エチルエステル10
5〜(収率7t5チ)を得る。この比曾物の物性は実施
例1で、得られたものと一致した。
実施例5 無水ピペラジン400m1をエタノール4.5dおよび
N、N−ジメチルホルムアミド4.5−の混合液に溶解
させ、7−アジド−1−(2,4−ジフルオロフェニル
)−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1
゜8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエステル4
50’fを加え、80℃で1時間反応させた後、減圧下
に溶媒を留去する。得られた残留物に酢酸エチル30M
および水30Mを順次加え、2 N−[酸でpH1,0
に調整し。
水層を分取する。水層にクロロホルム15m+7を加え
、1N−水酸化す) IJウム水溶液で−8,5に調整
し、有機層を分取する。有機層を水10111/および
飽和食塩水1011+7で順次洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させる。
減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジエチルエー
テル5dを加えて析出結晶をP取すれば、  1− (
2,4−ジフルオロフェニル)−6−フルオロ−1,4
−ジヒドロ−4−オキソー7−(1−ピペラジニル)−
1,8−ナフチリジン−6−カルボン酸エチルエステル
420”F(収率84.0係)を得る。この化合物の物
性は、実施例2で得られたものと一致した。
実施例6 l−(2,4−ジフルオロフェニル)−6−フルオロ−
1,4−ジヒドロ−4−オキソ−7−フェニルチオ−1
,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエステル4
00’!および無水ピペラジン580■をN、N−ジメ
チルホルムアミド12jljに懸濁させ、95〜100
℃で6時間反応させる。ついで、減圧下に溶媒を留去し
た後、残留物に酢酸エチル10114および水60dを
順次加え、6N−塩酸でpH0,5に調整する。水層を
分取し、酢酸エチル50Mを加え、10%炭酸カリウム
水溶液でpH9,0iC調整し、有機層を分取する。
水層な酢酸エチル20m1で2回抽出し、先の有機層と
合わせて飽和食塩水201117で洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥させる。
減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶性物質にジエチル
エーテル5dを加えて結晶をP取スFIA’1.1− 
(2,4−ジフルオロフェニル)−6−フルオロ−1,
4−ジヒドロ−4−オキソ−7−(1−ピペラジニル)
−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエステ
ル230’F(収率6[1,7チ)を得る。この化合物
の物性は実施例2で得られたものと一致した。
実施例7 (113−7ミノピロリジンの二塩酸塩120岬をエタ
ノール3dに懸濁させ、トリエチルアミン250qを添
加し溶解させる。ついで、7−ペンゼンスルフイニルー
1−(2,4−ジフルオロフェニル)−6−フルオロ−
1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン
−6−カルボン酸エチルエステル600qを加え、室温
で3時間反応させる。反応液にジエチルエーテル10−
を加えて結晶をP取した後、水12dで洗浄すれば、7
−(3−アミノ−1−ビaリジニル)−1−(2,4−
ジフルオロフェニル)−6−フルオロ−1,4−ジヒド
ロ−4−オキノー1.8−ナフチリジン−3−カルボン
酸エチルエステル230q(収率a 5.a% )を得
る。この化合物の物性は実施例1で得られたものと一致
した。
(2)7−ベンゼンスルフィニル−1・−(2゜4−ジ
フルオロフェニル)−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ
−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸
エチルエステルの代わりに、1−(2,4−ジフルオロ
フェニル)−7−エチルスルフィニル−6−フルオロ−
1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン
−5−カルボン酸エチルエステル270’9を用い、同
様の条件下で反応させれば、7−(3−アミノ−1−ピ
ロリジニル)−1−(2,4−ジフルオロフェニル)−
6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1,8
−ナフチリジン−6−カルボン酸エチルエステル230
’f(収率83,6係)を得る。この化合物の物性は実
施例1で得られたものと一致した。
実施例8 (113−7ミノビロリジンの二塩酸塩120at ヲ
工p / −# 3 m VCWj mさせ、トリエチ
ルアミン250’9を添加し溶解させる。ついで、7−
ベンゼンスルホニル−1−(2゜4−ジフルオロフェニ
ル)−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−
1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエステル
300qを加え、45〜50’Cで4時間反応させる。
反応液にジエチルエーテル101111を加えて結晶な
P取した後、水12dで洗浄すれば、7−(6−アミノ
−1−ピロリジニル)−1−(2,4−ジフルオロフェ
ニル)−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ
−1,8−ナフチリジン−6−カルボン酸エチルエステ
ル230q(収率86.6%)を得る。この化合物の物
性は実施例1で得られたものと一致した。
(2)7−ペンゼンスルホニルー1−(2,4−ジフル
オロフェニル)−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4
−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチ
ルエステルの代わりに、1−(2,4−ジフルオロフェ
ニル)−7−エチルスルホニル−6−フルオロ−1,4
−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−
カルボン酸エチルエステル270岬を用い、同様の条件
下で反応させれば、7−(5−7ミノー1−ピロリジニ
ル)−1−(2,4−ジフルオロフェニル)−6−フル
オロ−1゜4−ジヒドロ−4−オギソー1.8−ナフチ
リジン−6−カルボン酸エチルエステル225”F(収
率’84.9係)を得る。この化合物の物性は実施例1
で得られたものと一致した。
実施例9 7−(3−アミノ−1−ピロリジニル)−1−(2,4
−ジフルオロフェニル)−6−フルオロ−1,4−ジヒ
ドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボ
ン酸エチルエステルt00gを6N−ji酸6mtVc
WlkfljJさせ、加熱還流下で2時間反応させる。
ついで、水6dを加えて結晶をr取した後、水2〜dで
洗浄すれば、融点247〜250℃(分解)を示す7−
(3−アミノ−1−ピロリジ二/l/)−1−<2. 
4−ジフルオロフェニル)−6−フルオロ−1,4−ジ
ヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カル
ボン酸の塩酸塩920’f(収率90.21)を得る。
これを#塩酸−エタノール(容量比1:3)混合溶媒で
再結晶すれば、融点247〜250C(分解)を示す結
晶を得る。
NMR(TFA−dt )  δ値: 2.23〜2.95(2H,m)、  338〜4.8
5(5H,m)。
6.95S7.90(5H,rn)、  8.22(I
H,d、 J−11Hz)。
9.18(IH,s) 同様にして、つぎの化合物を得°る。
07−(5−アミノ−1−ピロリジニル)−6−フル、
tel−1−(4−フルオロフェニル)−1,4−ジヒ
ドロ−4−オキソ−1゜8−ナフチリジン−3−カルボ
ン酸の塩酸塩 収巡;  90.7係 融点: 210〜217℃(分解) NMR(TFA−d、 )  δイ直;2.20〜2.
85(2H,m)、  5.48〜4.98(5H,m
)。
7.07〜7.78(4H,m)、  8.18(IH
,d、J=11Hz)9.18(LH,a) 実施例10 1−(2,4−ジフルオロフェニル)−6−フルオロ−
1,4−ジヒドロー4−オキソ−7−(1−ピペラジニ
ル)−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエ
ステル200岬を6N−塩酸t2m1jK懸濁させ、加
熱還流下で2時間反応させる。ついで、水2dを加えて
結晶を戸数した後、水1dで洗浄すれば、融点249〜
252℃(分解)を示す1−(2,4−ジフルオロフェ
ニル)−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ
−7−(1−ピペラジニル)−1,8−す7チリジンー
3−カルボン酸の一塩酸33190 ’IF(収率93
.2係)を得る。これを#塩酸−エタノール(容量比1
:2)混合溶媒で再結晶すれば、融点249〜252℃
(分解)を示す結晶を得る。
NMR(TFA−dt  )  δf面直;、33〜五
92(4H,m)、  5.92〜4.50(4H,m
)。
490〜7.90(3H,rn)、  8.30(IH
,d、 J−12Hz)、  9.18(11(、s) 実施例11 7−(4−アセチル−1−ピペラジニル)−1−(2,
4−ジフルオロフェニル)−6−フルオロ−1,4−ジ
ヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−6−カル
ボン酸エチルエステル100岬を6N−32酸1mlに
溶解させ、加熱還流下で2時間反応させる。ついで、エ
タノール11を加えて結晶をP取した後、水11で洗浄
すnば、1−(2,4−ジフルオロフェニル)−<S−
フルオロ−1゜4−ジヒドロ−4−オキソ−7−(1−
ピペラジニル)−1,8−ナフチリジン−3−カルボン
酸の一塩酸4ssq(収率915%)を得る。この化合
物の物性は、実施例10で得られたものと一致した。
参考例1 N−(2,4−ジフルオロフェニル)−アミジノ酪酸メ
チルエステルの一塩酸@25.09を水92114およ
び塊化メチレン92−の混合液に溶解させ、2N−水酸
化ナトリウム水溶液でpH13,0に調整する。有機層
を分取し、水50紅および飽和食塩水501で順次洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。
この溶液に室温でヒトaキシメチレンフルオo#酸エチ
ルエステルのナトリウム塩27.19を加え、加熱還流
下で4時間反応させた後。
減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物に水92II
/および酢酸エチル4(5iuを順次加えて析出結晶を
r取し、水18411tVC懸濁させる。6N−塩酸で
pH1,0に調整し、得られる析出結晶に水46117
および 2−プロパツール 46dを加えて結晶なP取
すれば、融点222〜223℃を示す2−(2,4−ジ
フルオロフェニルアミノ)−5−フルオロ−6−ヒドa
キシニコチン酸メチルエステル15、(]’(収率57
.9係)を得る。これを酢酸エチルで再結晶すれば、融
点222〜225℃を示す結晶を得る。
−1。
IR(KBr)  cm  、  νc=0 170O
NMR(T F A ds )  δ値:4.06(3
H,s)、   6.71〜7.65(!+H,m)。
8.12 (I H,d、  J =11 Hz )同
様にして、つぎの化合物を得る。
o5−フルオロ−2−(4−フルオロフェニルアミノ)
−6−ヒドロキシニコチン酸メチルエステル 融点:227〜228℃(再結#媒;酢酸エチル)−1
IR(KBr)  cm  、  &C=0 169O
NMR(TFA−d+ )  δ値: 4.05(3I(、a)、  6.87〜7.53(4
H,m)。
8.11(IH,d、J=11Hz) 参考例2 2−(2,4−ジフルオロフェニルアミノ)−5−フル
オロ−6−ヒドaキシニコチン酸メチルエステル五〇〇
ノをメタノール3Qmtに懸濁させ、室温で2N−水酸
化ナトリウム水溶液16.1 j17を加えた後、加熱
還流下で4時間反応させる。ついで−反応液を酢酸エチ
ル6081および水60711の混合液に加えて水層を
分取する。水層な6NfjtL酸でpH1,0に調整し
た後、析出晶をP取し、水15−および 2−プロパツ
ール 15−で順次洗浄すれば、融点213〜216℃
を示す2−(2,4−ジフルオロフェニルアミノ)−5
−フルオロ−6−ヒドロキシニコチン酸2.68ノ(収
率9五7チ)を得る。これをアセトン−エタノール(容
量比1:1)混合溶媒で再結晶すれば、融点215〜2
16℃を示す結晶を得る。
IR(KBr )ell  1νc−0170ONMf
l (DMSO−d・〕 δ値二値;65〜7.58(
2H,m)、  7.86(IH,d、 J−11Hz
)。
8.12〜8.68(IH,m)、  10.49(I
H,bs)同様にして一つぎの化合物を得る。
o5−フルオI:1−2−(4−フルオロフェニルアミ
ノ)−6−ヒドロキシニコチン酸融点;216〜217
℃(再結溶媒;アセトン:メタノール−1:1(容量比
)) In(KBr)  m  、  pc=0   168
5(sh)NMR(DMSO−da)  δ値: 6.84〜7.94(5H,m)、   10j3(1
a bs)参考例6 2−(2,4−ジフルオロフェニルアミノ)−5−フル
オロ−6−ヒドaキシニコチン酸2.349を無水テト
ラヒドロフラン94mに懸濁させ、水冷下でN、N’−
カルボニルジイミダゾール2.00 yを添加し、室温
で2時間反応させる。ついで、エトキシカルボニル酢酸
のマグネシウム塩5.509を添加し、加熱還流下で1
5時間反応させた後、反応液を酢酸エチル150111
1および水150dの混合液に加え、6N−塩酸でpH
2,0に調整する。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナト
リウム水浴液somおよび水80−で順次洗浄した後、
水8Qslを加え、6N−塩酸でPH2,0に調整する
。有機層を分取し、水80−および飽和食塩水80mで
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ一減
圧下に溶媒を留去する。
得られた結晶性物質にジエチルエーテル81を加えて結
晶なP取すれば、融点161〜162℃を示す2−(2
−(2,4−ジフルオロフェニルアミノ)−5−フルオ
ロ−6一ヒドaキシニコチノイル〕酢酸エチルエステル
193g(収!、56.21)を得る。これをベンゼン
で再結晶すれば1M点1615〜162℃を示す結晶を
得る。
1R(KBr) cs  、  シc−0 1725.
 1655NMR(CDC1m)  6値; t29(3H,t、 Jm7Hz)、  3.74(2
H,s)。
4.20(2H,q、 J−7Hz>、  6.57〜
7.69(4H,m)。
10.17(IH,bs)、  1t52(IH,ba
)同様にして、つぎの化合物を得る。
02−(5−フルオC1−2−(4−フルオロフェニル
アミノ)−6−ヒドaキシニコチノイル〕酢酸エチルエ
ステル 融点;185℃(分解)(再結溶媒;酊酸エチル)I 
n (xn r ) 11#  シC−0 1715,
1685NMR(CDC1m)  δ値; 130(31(、t、J−7)1s)、  5.75(
21,s)。
4.25(2H,Q、J−7Hz )、  7.08〜
7.34(4g m)。
7.48(11L  d、J=11Hz )、   1
1.68(IH,bs)参考例4 2−(2−(2,4−ジフルオロフェニルアミノ)−5
−フルオロ−6−ヒドσキシニコチノイル〕酢酸エチル
エステル400Iqを塩化メチレン4Nに溶解させ、水
冷下で2゜4.6−)+7メチルベンゼンスルホニルク
ロリド600岬およびトリエチルアミン150岬を添加
し、室温で2時間反応させる。反応液に塩化メチレン4
#+!および水4111を加えて有機層を分取し、水4
dおよび飽和食塩水4dで順次洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得ら
れた結晶性物質にジエチルエーテル2dを加えて結晶を
P取すれば、融点158〜159℃を示す2−[2−(
2,4−ジフルオロフェニルアミノ)−5−フルオロ−
6−(2,4゜6−トリメチルベンセンスルホニルオキ
シ)ニコチノイル〕酢酸エチルエステル520”ll(
収IK85.896)を得る。これをベンゼンで再結晶
すれば、融点160〜160.5℃を示す結晶を得る。
−1。
1R(KBr) m  、  be−0175ONMR
(CDC1m )  δ値; 1.27(!IH,t、 J =7Hz)、  2.3
2(3H,s’)。
2.57(6H,s)、  3.90(2H,s)。
4.20(2H,Q、 J−7Hz)。
参考例5 2−(2−(2,4−ジフルオロフェニルアミノ)−5
−フルオcl−6−(2,4,6−トリメチルベンゼン
スルホニルオキシ)ニコチノイル〕酢酸エチルエステル
100R9をN、N−ジメチルホルムアミド1dに俗解
させ、エタンチオール17’fおよびトリエチルアミン
28’fを添加し、室温で4時間反応させる。反応液を
酢酸エチル3Nおよび水3m/の混@−液に加え、2N
−塩酸でpH1,oに調整し、有機層を分取する。有機
層を水21および飽和賞塩水21で順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に浴好を留去
し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー〔和光
シリカゲルC−200.溶出溶謀;ベンゼン:ヘキサン
=1:2(容量比)〕で精製すれば、融点100〜10
1℃を示す2−[2−(2,4−ジフルオロフェニルア
ミノ)−6−エチルチオ−5−フルオaニコチノイル〕
α「酸エチルエステル50’9(収W、 67.4 %
 )を得る。これをジインプロビルエーテルで再結晶す
れば、融点102.5〜103′cを示す結晶を得る。
1B(KBr) ts  、  νc=0 173ON
MR(coc 1m )   δ1直;1.29(6H
,t、、J−7Hz)、   3.06(2)Lq、J
−7Hz)、   3.90(2H,m)、   4.
22(2H,q、J=7Hz)、   6.62〜74
5(2H,m)。
7.52(IH,d、J−11Hz)、   7.70
〜8.20(IH。
m)、   10.86(IH,bs)同様にして、つ
ぎの化合物を得る。
02−(2−(2,4−ジフルオロフェニルアミノ)−
5−スルオo−6−フエニルチオニコチノイル〕酢酸エ
チルエステル 融点:  132.5〜134℃(再結溶媒;酢酸エチ
ル:fl−ヘキサン−10:1(容量比))−1。
tn(xnr)#  t  シC−C−01725N 
(CDCIm )  δ値: t27(5H,t、J−7■” L  5.89 (2
H,s )。
4.20(2H,q、J−7Hz)、  5.98〜8
.03(9H。
rll)、  1 tl 2(I H,b−)参考例6 2−(2−(2,4−ジフルオロフェニルアミノ)−5
−フルオo−6−ヒドaキシニコチノイル〕酢酸エチル
エステル200qをトルエン4dに懸濁させ−N、N−
ジメチルホルムアミドジネオベンチルアセタール200
岬を加え、室温で4時間反応させた後、析出結晶をP取
する。得られた結晶にエタノール5IIjおよび水5−
を加え、2N−塩酸でp)110に調整した後、析出結
晶をP取すれば。
融点244〜248℃を示す1−(2,4−ジフルオロ
フェニル) −6−フルオロ−1゜4−ジヒドa−7−
ヒドロキシ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−
カルボン酸エチルエステル155’f(収5IK75.
4%)を得る。これをア七トン−メタノール(容量比1
:1)混会液で再結晶すれば、融点250〜252℃を
示す結晶を得る。
IR(KBr) cs  、  シC−C−0172O
N (TFA−dt )  δ値;1.51(3H,t
、 J−7Hz)、  4.70C2H,Q。
J=7Hz)、  7.00〜8.10(3H,m)。
8.30 (I H= d−J”” 8Hz )*  
911 (I Hls )同様にして、つぎの化合物を
得る。
06−フルオC1−1−(4−フルオロフェニル)−1
,4−ジヒドa−7−ヒドaキシ−4−オキソ−1,8
−ナフチリジン−5−カルボン酸エチルエステル 融点;252〜253℃(再結浴Is:アセトン:メタ
ノール−1: 1 (容量比)) IR(KBr)#’;  hc−01730(ah)、
170ONMB (TFA−dx )  δ値:1.5
0(3H,t、Jm7Hz)、  4.64(2H,q
J=7Hz)、  7.15〜7.84(4H,m)。
8.20 (1)f、d−J−9II t )* 90
2 (I He s )参考例7 2−(2−(2,4−ジフルオロフェニルアミノ)−6
−エチルチオ−5−フルオロニコチノイル〕酢酸エチル
エステル160qをベンゼン3dに溶解させ、N、N−
ジメチルホルムアミドジメチルアセタール72”Fを添
加し、加熱還流下で2,5時間反応させる。減圧下に溶
媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィ
ー〔和光シリカゲルC−200、溶出溶媒;ベンゼン:
酢酸エチル=10:1(容量比〕〕で精製すれば、融点
1695〜171℃を示す1−(2,4−ジフルオロフ
ェニル)−7−エチルチオ−6−フルオロ−1,4−ジ
ヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カル
ボン酸エチルエステル115”f(収率70.1 qb
 )を得る。これを酢酸エチルで再結晶すれば、融点1
70〜171℃を示す結晶を得る。
1R(KBr) Os  、  νc=0 175ON
Mn(coats)  δ値: 10B(!+H,t、 Jm7Hz)、  1.58(
3H,t。
Jw7Hz)、  2.79(2H,q、J−7Hz)
4.38(2H,Q、J−7Hz)、  6−88N7
.83(5H。
m)、  8.10(IH,d、 J−9Hz)、 8
.48(IQ g)同様にして、つぎの化会物を得る。
0l−(2,4−ジフルオロフェニル)−6−フルオロ
−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−7−フェニルチオ−
1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエステル 融点;218.5〜220’C(再結溶媒;アセトン:
メタノール−1:1(容量比)) IR(KBr)  cm 、  シc−0 1730,
1700(sh)NMR(CDCII)  δ値; t36(5H,t、J−7Hz)。
4.33(2H,Q、J=7Hz)。
参考例8 l−(2,4−ジフルオロフェニル)−6−フルオロ−
1,4−ジヒドロ−7−ヒドロキシ−4−オキソ−1,
8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエステル3.
00 gヲ[fllsメチレン3onrc@濁させ、水
冷下でトリエチルアミンt02gおよびオルトニトロベ
ンゼンスルホニルクロリド2.20 g上210工、同
温度で50分間、室温で6時間反応させる。
反応液を水SOWで5回洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残
留物に酢酸エチル6―およびジエチルエーテル1211
1gの混会液を加えて析出晶をP取すれば、融′点15
7〜16゜Cを示’i1− (2,4−ジフルオロフェ
ニル)−6−フルオe’−1,4−ジヒドロ−7−(2
−ニトロベンゼンスルホニルオキシ)−4−オキソ−1
,8−ナフチリジン−5−カルボン酸エチルエステル4
.409 (収IC97,2チ)ヲ得る。こルをアセト
ン−n−ヘキサン(容量比10:13混合溶媒で再結晶
すれば、融点162〜163cを示す結晶を得る。
IR(KBr) m  、 I/C−01730,17
00(sh)NMII (DMSO−da )  δ値
:1.30(3H,t、 Jx7Hz)、  4.24
(2H,q。
J=7Hz、)、  7.03〜8.26(7H,m)
8.64(1鴇d、 J−9Hz)、  8.72(I
H,s )同様にして、表−4に示す化会物を得る。
参考例9 l−(2,4−ジフルオロフェニル)−6−フルオロ−
1,4−ジヒドロ−7−ヒ)”クキシー4−オキソ−1
,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエステル5
oosvを無水アセトニトリル5dVC@濁させ、水冷
下でトリエチルアミン150qおよびジフェニルリン酸
りo リド410qを加え、室温で2時間反応させる。
この反応液に塩化メチレン2511jおよび水2511
7を加えて有機層を分取し、水2011+7で2回およ
び飽和食塩水20mで1面、順次洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得
られた残留物にジエチルエーテル15−を加えて析出結
晶を戸数すれば、融点144〜147℃を示す1−(2
,4−ジフルオロフェニル)−7−(ジフェノキシホス
フィニルオキシ)−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−
4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エ
チルエステル700’F(収’1K85.5%)を得る
。これを酢酸エチル−n−へ*fy(容を比10:1)
混合溶媒で再結晶すれば、融点147〜148℃を示す
結晶を得る。
1R(KBr) 7!ml  、  νc=0 172
5(sh)、  168ONMB(DMSO−d・)δ
値; 1.30(3H,t、 J−7Hz)、 4.26(2
H,(1゜J=7Hz)、  6.60〜8.11(1
3H,m)。
8.56(IH,a、 J=9Hz)、  8.75(
IH,s)同様にして、つぎの化廿物を得る。
07−(ジェトキシホスフィニルオキシ)−1−(2,
4−ジフルオロフェニル)−6−スルオl:l−1,4
−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−
カルボン酸エチルエステル 融点; 163〜134℃(再結溶媒;酢酸エチル:D
−ヘキサン=10:1(容量比)) IR(KBr)”  、  νc=0 1730(ah
)、1685NMB (CDCIm )  δ値; 1.27(6H,t、J=7Hz)、  IJ8(5H
,t。
J−7Hz)、   3.98(4H,q、J=7Hz
)。
4.37(2H,q、J=7Hz)、   681〜7
.82(3!Lm)、   8.43(IH,d、J=
8.5Hz)。
8.50(IH,s) 参考例10 1−(2,4−ジフルオロフェニル)−6−フルオロ−
1,4−ジヒドロ−7−ヒドaキシ−4−オキソ−1,
8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエステル50
0qをピリジン5dに懸濁させ、ジフェニルリン酸アジ
ド770’lFを加え、80℃で4時間反応させた後、
減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物に酢酸エチル
10jljおよび水10−を加え一6N−塩酸でpH2
,0に調整した後、有機層を分取する。有機層を飽和炭
酸本葉ナトリウム水#t5−および水5dで順次洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。
減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジエチルエー
テル5 mlを加えて析出結晶をP取すれば、融点17
6〜177.5℃を示す7−アジド−1−(2,4−ジ
フルオロフェニル)−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ
−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸
エチルエステル440”r(収巡82.6嗟)を得る。
−1。
1B(にBr) am  、  kNs   2110
゜シC−0 1725 (sh)、 168ONMB(
CDCLa)  δ値: 1j9(3H,t、J=7Hz)、  4.36(2H
,Q。
J=7Hz)、  6.84〜7.75(5H,m)。
a、29 (I H−d * J !I9 )t s 
)、8−48 (I H−a )参考例11 1−(2,4−ジフルオロフェニル)−7−エチルチオ
−6−フルオロ−1,4−ジヒドo−4−オキソー1.
8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエステルto
ogを塩化メチノン10−に溶解させ1m−クロロ過安
息香酸(純度80%)0.58gを加え、水冷下で5時
間反応させる。析出物をP別した後、P液に水10mを
加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7,5に調
整した後、有機層を分取する。有機層を水10gLtで
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧
下に靜媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグ
ラフィー〔和光シリカゲルC−200.溶出溶媒;トル
エン:酢酸エチル−10:1(容量比)〕で精製すれば
、融点150〜151Cを示す1−(2’、4−ジフル
オロフェニル)−7−エチルスルフィニル−6−フルオ
a−1゜4−ジヒドcs−4−オキソー1.8−ナフチ
リジン−3−カルボン酸エチルエステル0、819 (
収率77.9チ)を得る。これを酢酸エチルで再結晶す
れば、融点151〜152℃を示す結晶を得る。
IR(KBr) n−’ : bc=0  1730.
 1695NMR(CDCIm )  δ値; t22(3H,t、J=7Hz)、  第37(3H,
t。
JエフHz )、   5.07 (2H,Q、  J
−7Hz )。
4.34 (2H,q、  J−7Hz )。
fs、92〜7.95C5H9m)、  8.42(I
H,a。
゛   J−9Hz)、   8.66<1H,m)同
様にして、つぎの化会物を得る。
07−ペンゼンスルフイニルー1−(2゜4−ジフルオ
ロフェニル)−6−フル第1:I−1,4−ジヒドo−
4−オキンー1゜8−ナフチリジン−5−カルボン酸エ
チルエステル 融点; 194〜196C(再結溶媒:アセトンニメタ
ノール−5=1(容量比)) 1B(KBr)  ts−’ ; シC−0 1735
. 1695(sh)FvMR(CDCIm )  δ
値; t56(5H,t、J−7Hz)。
444(2)1. Q、 J”7Hz )。
6.81〜7.75(8H,m)。
8j6(IH,d、J−8,5Hz)、  8.55(
IH,m)参考例12 1−(2,4−ジフルオロフェニル)−7−エチルチオ
−6−フルオロ−1,4−ジヒドo −4−オキソ−1
,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエステルt
00gを塩化メチレン15117に溶解させ1m−クロ
a過安息香酸(純度8111196)106gを加え、
水冷下で50分間、室温で4時間反応させる。
析出物を1去した後、P液に水10m1jを茄え。
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7,5に訓整した
後、有機層を分取する。有機層を水1〇−および飽和食
塩水10−で順次洗浄した後。
無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留
去し、得らnた残留物にジエチルエーテル10−を加え
て析出結晶なP取すれば、融点215〜217℃を示す
1−(2゜4−ジフルオロフェニル〕−7−ニチルスル
ホニルー6−フルオロー1.4−ジヒドa−4−オキノ
ー1.8−ナフチリジン−6−カルボン酸エチルエステ
ル0.949 (I[)lK87.2係)ヲ得る。これ
を、酢酸エチル−エタノール(容量比1:1)G合溶媒
で再結晶すれば、融点216.5〜217.5℃を示す
結晶を得る。
1B(にBr) cm  ; pc−017!10. 
1700(sh)NMR(COCl廊) δ値; t21(3H,t、 J−7Hz)、  1.37(3
H,t。
Jm7Hz)、  5.22(2H,q、J−7Hz)
4.36(2H,q、J−7Hz)、  6.91〜7
.82 (5H。
m)、  8.57(IH,d、J−9Hz)、  8
.62(IH。
S) 同様にして、つぎの化合物を得る。
07−ペンセンスルホニル−1−(2,4−ジフルオロ
フェニル)−6−フルオロ−1゜4−ジヒドロ−4−オ
キソ−1,8−す7チリシンー5−カルボン酸エチルエ
ステル融点: 212〜213℃(再結溶媒:アセトン
:エタノール−1:1(容量比)) IB(KBr)m  、  νc=0 1740,17
00(ah)Np/111 (CDCIm )  δ値
:1.55(3H,t、J−7Hz)、  4.30(
2H,q。
J=7Hz )t  6.58〜7.86(8H,m)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^1は水素原子またはカルボキシル保護基;R
    ^2はアジド基または置換基を有していてもよいアリー
    ルチオ、アルキルスル フィニル、アリールスルフィニル、アルカ ンスルホニル、アレーンスルホニル、アル カンスルホニルオキシ、アレーンスルホニ ルオキシ、ジアルコキシホスフィニルオキ シもしくはジアリールオキシホスフィニル オキシ基;およびXは水素原子またはフッ 素原子を示す。 で表わされる化合物またはその塩と一般式 R^3H 式中、R^3はアミノ基が保護されていてもよい3−ア
    ミノピロリジニル基またはイミ ノ基が保護されていてもよいピペラジニル 基を示す。 で表わされる化合物を反応させ、所望によりカルボキシ
    ル保護基を脱離または塩に変換させることを特徴とする
    一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^3およびXは前記したと同様の意
    味を有する。〕 で表わされる1−置換アリール−1,4−ジヒドロ−4
    −オキソナフチリジン誘導体またはその塩の製造法。
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