JPH0285255A - キノロンカルボン酸誘導体またはその塩 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はキノロンカルボンＨ導体またはその塩に関する
。ざらに詳細には、一般式、「式中、Ｒ１は買換されて
いてもよい低級アルキル、低級アルケニル、シクロアル
キル、アリ−ルまたは複素環式基を；Ｒ−は水素原子ま
たはカルボキシル保護基を；Ｒ３は保護されていてもよ
いヒドロキシル、アミノもしくは低級アルキルアミノ基
、シー低級アルキルアミノ基また「式中、Ｒ１は置換さ
れていてもよい低級アルキル、低級アルケニル、シクロ
アルキル、アリールまたは複素環式基を、Ｒ２は水素原
子またはカルボキシル保護基を；Ｒ３は保護されていて
もよいヒドロキシル、アミンもしくは低級アルキルアミ
ノ基、シー低級アルキルアミノ基ま低級アルキル基を、
Ｂは酸素原子または硫黄原低級アルキル基を：Ｂは酸素
原子または硫黄原子を示す。）を示す。］を；およびＸ
はハロゲン原子をそれぞれ示す。」 で表わされるキノロンカルボン酸誘導体またはその塩に
関する。

本発明の目的は、グラム陰性菌およびグラム陰ヰ菌、と
りわけ抗生物質耐性菌に対して強力な抗菌作用を発揮す
るとともに、経口的または非経口的投与により高い血中
濃度を示し、かつ安全性が高いなどの優れた性質を有す
る一般式［Ｉ］で表わされる新規なキノロンカルボン酸
誘導体およびその塩を提供することにある。

［従来の技術］ 従来、キノロン系合成抗菌剤としてノルフロキサシン、
エノキサシンおよびオフロキサシンなどが広く臨床で用
いられているが、抗菌力においていまだ不十分な面がみ
られる。

し発明が解決しようとする課題］ そのため、グラム陰性菌およびグラム陰性菌、とりわけ
抗生物質耐性菌に対して有効で広範囲の抗菌スペクトル
を有すると同時に、溶解性に優れ、高い血中濃度を示し
、かつ中枢系への作用のないなど安全性の高い合成抗菌
剤の開発が望まれていた。

［課題を解決するための千′段］ このような状況下において、本発明者らは鋭意研究を行
った結果、一般式［Ｉ］のキノロンカルボン酸誘導体お
よびその塩が、上記の目的を達成することを見出し、本
発明を完成するに至った。

なお、本明細書において特にことわらないかぎり、ハロ
ゲン原子とは、たとえば、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子またはヨウ素原子などを；アルキル基とは、たとえ
ば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ
−ブチル、イソブチル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブ
チル、ペンチル、ヘキシルまたはオクチルなどのＣアル
キル基を；低１〜１０ 級アルキル基とは、たとえば、上記のアルキル基のうち
Ｃアルキル基を：低級アルケニル基１〜５ とは、たとえば、ビニル、アリル、１−プロペニルまた
は１−ブテニルなどのＣアルケニル２〜５ 基を；シクロアルキル基とは、たとえば、シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチルまたはシクロヘキシ
ルなどのＣシクロアルキル基３〜６ を；アリール基とは、たとえば、フェニルまたはナフチ
ルなどを；複素環式基とは、酸素原子、窒素原子および
硫黄原子から選ばれる１つ以上の異項原子を含む５員も
しくは６員環またはそれらの縮合環、たとえば、フリル
、ピロリル、チエニル、オキサシリル、イミダゾリル、
チアゾリル、１−ピロリジニル、ベンゾフリル、ベンゾ
チアゾリル、ピリジル、キノリル、ピリミジニルまたは
モルホリノなどを；アルコキシ基とは、たとえば、−〇
−アルキル基（アルキル基は、上記した０１〜１゜アル
キル基を示す。）を；アルコキシカルボニル基とは、た
とえば、−ＣＯ−Ｏ−アルキル基（アルキル基は、上記
した０１〜１ｏアルキル基を示す。）を；アルコキシア
ルコキシ基とは、たとえば、−〇−アルキルーＯ−アル
キル基（アルキル基は、上記したＣ　　　アルキル基を
示す。）を：１〜１０ アシルアミノ基とは、たとえば、ホルミルアミノ、アセ
チルアミノ、トリフルオロアセチルアミノ、プロピオニ
ルアミノまたはブチリルアミノなどのＣアシルアミノ基
を；アシル−低級アルキ１〜４ ルアミノ基とは、たとえば、ホルミルメチルアミン、ア
セチルメチルアミノ、トリフルオロアセチルメチルアミ
ノ、プロピオニルエチルアミノまたはブチリルエチルア
ミノなどのＣアシル−１〜４ Ｃアルギルアミノ基をニアシルオキシ基と１〜５ は、たとえば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、プロ
ピオニルオキシまたはブチリルオキシなどのＣアシルオ
キシ基をニトリハロゲノ−低級１〜４ アルキル基とは、たとえば、トリフルオロメチルまたは
トリクロロメチルなどのトリへログノＣアルキル基を：
低級アルキルアミノ基と１〜５ は、たとえば、メチルアミン、エチルアミノまたはプロ
ピルアミノなとのＣアルキルアミノ１〜５ 基を；ジー低級アルキルアミノ基とは、たとえば、ジメ
チルアミノまたはジエチルアミノなどのジー０１〜５ア
ルキルアミノ基を；環状アミン基とは、たとえば、１−
ピペラジニル、１−ピロリジニル、１−アゼチジニルま
たは１−モルホリニルなどの４〜６員環状アミン基など
の基をそれぞれ意味する。

以下に、本発明の詳細な説明する。

一般式［Ｉ］のキノロンカルボン酸誘導体またはその塩
において、Ｒ１の８基は、ハロゲン原子；シアノ基；カ
ルボキシル基：ヒドロキシル基ニアミノ基：アルキル基
：アルコキシ基；アルコキシカルボニル基；アルコキシ
アルコキシ基；アリール基；シクロアルキル基ニアシル
アミノ、基；アシルー低級アルキルアミノ基；アシルオ
キシ基；低級アルケニル基ニトリハロゲノ−低級アルキ
ル基；低級アルキルアミノ基；またはジー低級アルキル
アミノ基などから選ばれる一つ以上の置換基で置換され
ていてもよい。

カルボキシル保護基としては、たとえば、接触還元、化
学的還元もしくはその他の緩和な条件で処理することに
より脱離するエステル形成基；生体内において容易に脱
離するエステル形成基；または水もしくはアルコールで
処理することにより容易に脱離する有機シリル、有機リ
ンもしくは有機スズ基などの特開昭５９−８０８６５号
に記載されたカルボキシル保護基が挙げられる。

アミノ基および低級アルキルアミノ基の保護基としては
、通常当該分野で使用される保護基が挙げられ、たとえ
ば、ホルミル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベン
ジル、２，４−ジメトキシベンジルおよび特開昭５９−
８０６６５号に記載された通常のアミン保護基が挙げら
れる。

また、ヒドロキシル基の保護基としては、通常当該分野
で使用される保護基が挙げられ、たとえば、水またはア
ルコールで処理することにより容易に脱離する有機シリ
ル基並びにホルミル、アセチル、ベンジル、トリチルお
よびメトキシメチルなどの特開昭５９−８０６６５号に
記載された通常のヒドロキシル保護基が挙げられる。

一般式［ｉ］のキノロンカルボン酸誘導体の塩としては
、通常知られているアミノ基などの塩基性基またはヒド
ロキシルもしくはカルボキシル基などの酸性基における
塩を挙げることができる。

塩基性基における塩としては、たとえば、塩酸、臭化水
素酸もしくは硫酸などの鉱酸との塩；酒石酸、ギ酸、ク
エン酸、トリクロロ酢酸もしくはトリフルオロ酢酸など
の有機カルボン酸との塩；またはメタンスルホン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メシチレ
ンスルホン酸もしくはナフタレンスルホン酸などのスル
ホン酸との塩などを、また、酸性基における塩としては
、たとえば、ナトリウムもしくはカリウムなどのアルカ
リ金属との塩；カルシウムもしくはマグネシウムなどの
アルカリ土類金属との塩；アンモニウム塩；またはトリ
メチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、
ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルピペ
リジン、Ｎ−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジシ
クロヘキシルアミン、プロ力イン、ジベンジルアミン、
Ｎ−ベンジルーβ−フェネチルアミン、１−エフエナミ
ンもしくはＮ、Ｎ”−ジベンジルエチレンジアミンなど
の含窒素有機塩基との塩などを挙げることができる。

また、一般式［Ｉ］のキノロンカルボン酸誘導体または
その塩において、異性体くたとえば、光学異性体、幾何
異性体、互変異性体など）が存在する場合、本発明は、
それらすべての異性体を包含し、また、水和物、溶媒和
物およびすべての結晶形を包含する。

つぎに、一般式［Ｉ］のキノロンカルボン酸誘導体また
はその塩の製造法について説明する。

一般式［Ｉ］のキノロンカルボン酸誘導体またはその塩
は、通常、公知の反応を組み合わせることによって得る
ことができるが、たとえば、つぎに示す製造ルートにし
たがって製造することができる。

「式中、ＲｌａはＲ１と同様の置換されていてもよい低
級アルキル、低級アルケニル、シクロアルキル、アリー
ルもしくは複素環式基または式Ｒ２と同様のカルボキシ
ル保護基を；Ｒ３ａはＲ３と同様の保護されていてもよ
いヒドロキシル基を；Ｒ３ｂはＲ３と同様の保護されて
いてもよいアミノもしくは低級アルキルアミノ基、ジー
低級アルキルアミノ基または環状アミノ基を；を：Ｘ　
は脱＠基を示し、Ｒ２、Ｒ５、ＢおよびＸは前記したと
同様の意味を有する。」一般式［ＩＩａ］、［ＩＩｂ］
、［ＩＩＩａ］、［Ｉ［１ｂ］、［ＩＶａ］、［１Ｖｂ
ｌ　マタハ［Ｖ］　（７）化合物もしくはその塩におい
て、２つのＸは同一または異なっていてもよい。

×１における脱＠基としては、たとえば、塩素原子、臭
素原子またはヨウ素原子などのハロゲン原子；メタンス
ルホニルオキシなどのアルカンスルホニルオキシ基：ト
ルエンスルホニルオキシなどのアレーンスルホニルオキ
シ基などが挙げられる。

一般式［ＩＣ］、［Ｉｂ］、［ＩＣ］、［Ｉｄ］、［Ｉ
Ｉａ］、［Ｉｂ］、［ＩＩＩａ］、［Ｉ［１ｂ］、［Ｉ
Ｖａ］、［ＩＶｂ］、［Ｖ］、［ＶＩ］、［ＶＩ］およ
び［■］の化合物の塩としては、一般式［Ｉ］の化合物
の塩で説明したと同様の塩が挙げられる。

ついで、本発明化合物の製造法を、前述の製造ルートに
したがってざらに詳細に説明する。

（１）　　一般式［Ｖ］の化合物もしくはその塩、股式
［ＶＩ］の化合物もしくはその塩または一般式［■］の
化合物もしくはその塩は、塩基の存在下または不存在下
、それぞれ一般式［Ｉ［ａ］の化合物もしくはその塩、
一般式［ＩＣ］の化合物もしくはその塩または一般式［
ＩＣ］の化合物もしくはその塩にハロゲン化剤またはス
ルホニル化剤を反応させることによって得ることができ
る。

この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水
系類；ジオキサン、テトラヒドロフランおよびジエチル
エーテルなどのエーテル類；塩化メチレン、クロロホル
ムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；
並びにＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ、Ｎ−ジ
メチルアセトアミドなどのアミド類などが挙げられ、ま
た、これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用し
てもよい。

また、この反応で必要に応じて使用される塩基としては
、たとえば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチル
アミン、１，８−ジアザビシクロ−［５，４，０］ウン
デク−７−エン（ＤＢＵ＞、ピリジン、カリウム　ｔｅ
ｒｔ−ブトキシド、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムまた
は水素化ナトリウムなどの有機または無機塩基が挙げら
れる。

ハロゲン化剤としては、たとえば、オキシ塩化リン、オ
キシ臭化リン、五塩化リン、三塩化リンまたは塩化チオ
ニルなどが挙げられる。

スルホニル化剤としては、たとえば、メタンスルホニル
クロリドもしくはエタンスルホニルクロリドなどのアル
カンスルホニルハロゲニド類；ベンゼンスルホニルクロ
リドもしくはトルエンスルホニルクロリドなどのアレー
ンスルホニルハロゲニド類；メタンスルホン酸無水物も
しくはエタンスルホン酸無水物などのアルカンスルホン
酸無水物；またはベンゼンスルホン酸無水物もしくはト
ルエンスルホン酸無水物などのアレーンスルホン酸無水
物などが挙げられる。

ハロゲン化剤またはスルホニル化剤および必要に応じて
用いられる塩基の使用量は、一般式［ＩＣ］の化合物も
しくはその塩、一般式［ＩＣ］の化合物もしくはその塩
または一般式［ＩＣ］の化合物もしくはその塩に対して
、それぞれ等モル以上、好ましくは、１〜２倍モルであ
る。

この反応は、通常、−ｉｏ〜１りＯ’Ｃ，好ましくは、
０〜８５℃で、５分〜３０時間実施すればよい。

１ｑられた一般式［ＶＩの化合物もしくはその塩、一般
式［ＶＩ］の化合物もしくはその塩または一般式［■］
の化合物もしくはその塩は、単離せずに、そのままつき
の反応に用いてもよい。

（２）　　一般式［ｌＩｂ１の化合物もしくはその塩、
一般式［ｎｂｌの化合物もしくはその塩または一般式［
Ｉｄ］の化合物もしくはその塩は、塩基の存在下または
不存在下、それぞれ一般式［ＶＩの化合物もしくはその
塩、一般式−［ＶＩ］の化合物もしくはその塩または一
般式［■］の化合物もしくはその塩に一般式［ＶＩ［］
のアミン類またはその塩を反応させることによって得る
ことができる。

この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
前述の（１）と同様の溶媒が挙げられる。

また、この反応で必要に応じて用いられる塩基としては
、たとえば、前述の（１）と同様の塩基が挙げられる。

一般式［Ｖｌ［］のアミン類またはその塩の使用量は、
一般式［ＶＩの化合物もしくはその場、一般式［ＶＩ］
の化合物もしくはその塩または一般式［■］の化合物も
しくはその塩に対して、それぞれ、好ましくは、２〜１
０倍モルでおるが、塩基を適宜使用することによって一
般式［ＶＩ［］のアミン類またはその塩の使用量を減ら
すことができる。

この反応は、通常、Ｏ〜１５０　’Ｃ１好ましくは、１
５〜ｉｏｏ　’ｃで、５分〜３０時間実施すればよい。

（３）　　一般式［Ｉ［１ａ］の化合物もしくはその塩
または一般式［１１１ｂ］の化合物もしくはその塩は、
それぞれ一般式［ｎａ］の化合物もしくはその塩または
一般式［ＩＩｂ］の化合物もしくはその塩を通常、当該
分野で使用されるケトエステル化反応に付すことによっ
て得ることができる。たとえば、アンゲバンテ・ヘミ・
インターナショナル・エデイジョン・イン・イングリッ
ジ］、　（Ａｎ（］ｅＷ、　ｃｈｅｍ。

Ｉｎｔ、　Ｅｄ、　Ｅｎｇｌ、　）第１８巻、第７２頁
（１９７９年）に記載の方法に準じて、一般式［！Ｉａ
］の化合物もしくはその塩または一般式［ｎｂｌの化合
物もしくはその塩のカルボキシル基を、たとえば、Ｎ、
Ｎ”−カルボニルジイミダゾールで活性酸アミドに誘導
した後、マロン酸モノエステルのマグネシウム塩と反応
させ、それぞれ一般式［Ｉ［１ａ］の化合物もしくはそ
の塩または一般式［ｌ１１ｂ］の化合物もしくはその塩
を得ることができる。

活性駿アミドとマロン酸モノエステルのマグネシウム塩
との反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水
素類；ジオキサン、テトラヒドロフランおよびジエチル
エーテルなどのエーテル項；塩化メチレン、クロロホル
ムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ、Ｎ−ジメチル
アセトアミドなどアミド類；・並びにアセトニトリルな
どのニトリル類などが挙げられ、また、これらの溶媒を
一種または二種以上混合して使用してもよい。

Ｎ、Ｎ＝−カルボニルジイミダゾールおよびマロン該モ
ノエステルのマグネシウム塩の使用量は、一般式［ＩＩ
ａ］の化合物もしくはその塩または一般式［［）］の化
合物もしくはその塩に対して、それぞれ等モル以上、好
ましくは、１〜２倍モルである。

この反応は、通常、０〜１００°Ｃ１好ましくは、１０
〜８５°Ｃで、５分〜３０時間実施すればよい。

（４）　（ｉ）　　一般式［ＩＶａ］の化合物もしくは
その塩または一般式［ＩＶｂ］の化合物もしくはその塩
は、それぞれ一般式［Ｉ［ａ］の化合物もしくはその塩
または一般式［１１１ｂ］の化合物もしくはその塩に、
無水酢酸中、オルトギ酸メチルまたはオル１〜ギ酸エチ
ルを反応させた後、一般式［ＩＸ］のアミン類を反応さ
せることによって得ることができる。

この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
ベンゼン、１〜ルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化
水素類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール
、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジメチ
ルセロソルブなどのエーテル類；メタノール、エタノー
ルおよびプロパツールなどのアルコール類；塩化メチレ
ン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン
化炭化水素類：Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ
、Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類：並びにジ
メチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げら
れ、また、これらの溶媒を一種または二種以上混合して
使用してもよい。

オルトギ酸メチルまたはオルトギ酸エチルの使用量は、
一般式［Ｉ［１ａ］の化合物もしくはその塩または一般
式［Ｉ［１ｂ］の化合物もしくはその塩に対して、それ
ぞれ、等モル以上、好ましくは、約１〜１０倍モルであ
る。

この反応は、通常、０〜１５０℃、好ましくは、５０〜
１５０″Ｃで、２０分〜５０時間実施すればよい。

ついで、一般式［ＩＸ］のアミン類またはその塩を反応
させるには、この一般式［ＩＸ］のアミン類またはその
塩を一般式［Ｉ［１ａ］の化合物もしくはその塩または
一般式［ＩＩ［ｂ］の化合物もしくはその塩に対して、
それぞれ、等モル以上使用し、通常、０〜１００℃、好
ましくは、１０〜６０°Ｃで、２０分〜３０時間実施す
ればよい。

（ｉｉ）　　別法として、一般式［１［１ａｌの化合物
もしくはその塩または一般式［Ｉ［１ｂ］の化合物もし
くはその塩に、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチル
アセタールまたはＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドジエチ
ルアセタールなどのアセタール類を反応させた後、一般
式［ＩＸ］のアミン類またはその塩を反応させて、それ
ぞれ一般式［ＩＶａｌの化合物もしくはその塩または一
般式［ＩＶｂｌの化合物もしくはその塩に誘導すること
もできる。

この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、具体的には
前述の（４）　（ｉ）と同様の溶媒が挙げられる。

アセタール類の使用量は、一般式［ｌ１１ａ］の化合物
もしくはその塩または一般式［ｌ１１ｂ］の化合物もし
くはその塩に対して、それぞれ等モル以上、好ましくは
、約１．０〜１０倍モルである。

この反応は、通常、０〜１００℃、好ましくは、５０〜
９０’Ｃで、２０分〜５０時間実施すればよい。

ついで、一般式［ＩＸ］のアミン類またはその塩を反応
させるには、この一般式［ＩＸ］のアミン類またはその
塩を一般式［Ｉ［１８１の化合物もしくはその塩または
一般式［ｎｌｂ］の化合物もしくはその塩に対して、等
モル以上使用し、通常、０〜１００℃、好ましくは、１
０〜６０℃で、２０分〜３０時間貫施すればよい。

得られた一般式［ＩＶａｌの化合物もしくはその塩また
は一般式［ＩＶｂｌの化合物もしくはその塩は、単離せ
ずに、そのままつぎの反応に用いてもよい。

（５）　　一般式［Ｉａ］の化合物もしくはその塩また
は一般式［Ｉｂ］の化合物もしくはその塩は、それぞれ
一般式［ＩＶａｌの化合物もしくはその塩または一般式
［ＩＶｂｌの化合物もしくはその塩を、塩基の存在下ま
たは不存在下に閉環反応（好ましくは加熱下）に付すこ
とによって得ることができる。

この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及
ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ、Ｎ−ジメチル
アセトアミドなどのアミド類；ジオキサン、アニソール
、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジメチ
ルセロソルブなどのエーテル類：並びにジメチルスルホ
キシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、また、こ
れらの溶媒を一種または二種以上混合して使用してもよ
い。

この反応で必要に応じて用いられる塩基としては、たと
えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、カリウムｔ
ｅｒｔ−ブトキシドまたは水系化ナトリウムなどが挙げ
られる。

塩基の使用量は、一般式［ＩＶａｌの化合物もしくはそ
の塩または一般式［ＩＶｂｌの化合物もしくはその塩に
対して、それぞれ０．５〜５倍モルが好ましい。

この反応は、通常、２０〜１６０℃、好ましくは、８０
〜１５０℃で、５分〜３０時間実施すればよい。

（６）　（ｉ）　　一般式［Ｉｃ］の化合物もしくはそ
の塩または一般式［Ｉ（１］の化合物もしくはその塩は
、それぞれ、一般式［Ｉａｌの化合物もしくはその塩ま
たは一般式［Ｉｂ］の化合物もしくはその塩を、フッ化
塩もしくは塩基の存在下または不存在下に閉環反応に付
すことによって得ることができる。

この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響をお
よぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば
、前述の（５）で説明したと同様の溶媒が挙げられ、こ
れらの溶媒を二種類以上混合して使用してもよい。

この反応で必要に応じて用いられるフッ化塩としては、
たとえば、フッ化ナトリウム、フッ化カリウムなどが挙
げられ、必要に応じて用いられる塩基としては、たとえ
ば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、カリウムｔｅ
ｒｔ−ブトキシドまたは水素化ナトリウムなどが挙げら
れ、それらの使用量は、一般式［Ｉａｌの化合物もしく
はその場または一般式［より］の化合物もしくはその塩
に対して、それぞれ等モル以上、好ましくは、１．０〜
１．５倍モルである。

この反応は、通常、０〜１８０℃で、５分〜３０時間実
施すればよい。

［ｉｉｌ　　別法として、一般式［ＩＣ］の化合物もし
くはその塩または一般式［Ｉｄ］の化合物もしくはその
塩は、それぞれ、一般式［ＩＶａｌの化合物もしくはそ
の塩または一般式［ＩＶｂ］の化合物もしくはその塩を
、フッ化塩もしくは塩基の存在下または不存在下に閉環
反応に付すことにより得ることもできる。

この反応で必要に応じて用いられるフッ化塩または塩基
の使用量は、一般式［ＩＶａｌの化合物もしくはその塩
または一般式［ＩＶｂ］の化合物もしくはその塩に対し
て、それぞれ、２倍モル以上である。

この反応は、通常、Ｏ〜１８０’Ｃで、５分〜３０時間
実施すればよい。

上で述べた製造法における一般式［［ａｌ、［ＩＩｂ］
、［ｌ１１ａ］、［ｌｌＩｂ］、［ＩＶ　ａ　］、［Ｉ
Ｖｂコ、　［Ｖ］　、　［ＶＩ］　、　［ＶＩ［］　　
、　［ＶＩｉｌ］　、ｌ’：；ヨび［ＩＸ］の化合物に
おいて、異性体くたとえば、光学異性体、幾何異性体、
互変異性体など）が存在する場合、これらすべての異性
体を使用することができ、また、水和物、溶媒和物およ
びすべての結晶形を使用することができる。

一般式［Ｉ［ａｌ、［ｌＩｂ１、［Ｉ［Ｉａｌ、［Ｉ［
１ｂ］、［ＩＶａｌ、［ＩＶｂ］、［ＶＩ］、［ＶＩ［
］および［ＩＸ］の化合物において、アミノ基、ヒドロ
キシル基またはカルボキシル基を有する化合物は、あら
かじめこれらの基を通常の保護基で保護しておき、反応
後、自体公知の方法で、これらの保護基を脱離すること
ができる。

一般式［Ｉ］の化合物またはその塩を、たとえば、酸化
反応、還元反応、転位反応、置換反応、ハロゲン化反応
、脱水反応および加水分解反応など自体公知の反応に付
すことによって、またはそれらを適宜組み合わせること
によって、他の一般式［工］の化合物またはその塩に変
換することができる。

一４１式［ｉ］の化合物において、Ｒ３が保護されてい
てもよいヒドロキシル基である化合物（−般式［Ｉａｌ
および一般式［ＩＣ］の化合物に相当する）は、Ｒ３が
保護されていてもよいアミンもしく低級アルキルアミノ
基、ジー低級アルキルアミノ基または環状アミノ基であ
る一般式［Ｉ］の化合物（一般式［Ｉｂ］の化合物およ
び一般式［Ｉｄ］の化合物に相当する）を得るための中
間体としても有用でおる。

なお、本発明化合物を製造するための原料である一般式
［Ｉａｌの化合物またはその塩は、新規化合物であり、
通常、公知の反応を組み合わせることによって得ること
ができるが、たとえば、つぎに示す製造ルートにしたが
って製造することができる。

（以下余白） Ｉ／〆 ［Ｘｌまたはその塩 ［ＸＩ］またはその塩 「式中、Ｒ２ｂはＲ２と同様のカルボキシル保護基ｓ−
示し：　Ｒ２、Ｒ２”、Ｒ３”、Ｘ　ａ　ヨ（ｆ”’Ａ
’／　ハ前記したと同様の意味を有する。」 一般式［ＸＩ］の化合物または一般式［Ｘ［’］の化合
物もしくはそれらの塩において、２つのＲ２ｂは同一ま
たは異なっていてもよい。

また、一般式［Ｘｌ、［Ｘｌ［］、［Ｘｌｌ１］または
［釈］の化合物もしくはそれらの塩において、２つのＸ
は同一または異なっていてもよい。

一般式［Ｘｌ、［Ｘ［］、［Ｘ［ｌ］　、ｆｌよヒ［ｒ
］　（７）化合物の塩としては、一般式［Ｉ］の化合物
の塩で説明したと同様の塩が挙げられる。

つぎに、一般式［ＸＩ］および［Ｘ［ｌ］の化合物の活
性メチレンの塩としては、リチウム、ナトリウムまたは
カリウムなどのアルカリ金属との塩が挙げられる。

ついで、一般式［ｎａ］の化合物またはその塩の製造法
を、前述の製造ルヘトにしたがって、ざらに詳細に説明
する。

（１）　　一般式［Ｘｌの化合物またはその塩を米国特
許第３５９００３６号に記載の方法に準じて、一般式［
Ｘ！］の化合物またはその塩と反応させることによって
、一般式Ｆ］の化合物またはその塩に誘導し、これを通
常の方法によって、脱保護および脱炭酸反応に付し、つ
いで、カルボキシル保護基を導入することによって、一
般式［ＸＩ］の化合物またはその塩に誘導することがで
きる。

（２）　　ついで、一般式［Ｘｌ１ｌ］の化合物または
その塩をナトリウムメトキシドまたはナトリウムエトキ
シドなどの塩基の存在下、パラホルムアルデヒドと反応
させ、一般式［ＸＮ］の化合物またはその塩に誘導し、
ついで、これを通常の方法によって、脱保護、脱炭酸お
よび脱水反応に付すことによって、一般式［ＩＩａ］の
化合物またはその塩に誘導することができる。

上で述べた製造法における一般式［Ｘｌ、［Ｘ１］、［
ＸＩ］、［ＸＩ］およヒ［ＸＩＶ］　（７）化合物にお
いて、異性体（たとえば、光学異性体、幾何異性体、互
変異性体など）が存在する場合、これらすべての異性体
を使用することができ、また、水和物、溶媒和物および
すべての結晶形を使用することができる。

ざらに、一般式［Ｘｌ、［ＸＩＩ］、ｔＸＩＩＩ］、ｆ
ｆｉよび［Ｘ！Ｉ］の化合物において、アミノ基、ヒド
ロキシル基またはカルボキシル基を有する化合物は、あ
らかじめこれらの基を通常の保護基で保護しておき、反
応後、自体公知の方法で、これらの保護基を脱離するこ
ともできる。

このようにして得られた一般式［Ｉ］の化合物またはそ
の塩は、カラムクロマトグラフィー、再結晶、抽出など
の常法にしたがって、単離精製することができる。

本発明化合物を医薬として用いる場合、通常製剤化に使
用される賦形剤、担体および希釈剤などの製剤助剤を適
宜混合してもよく、これらは常法により、錠剤、カプセ
ル剤、散剤、シロップ剤、細粒剤、顆粒剤、荒削、懸濁
剤、乳剤、液剤、粉体製剤、坐剤、軟膏剤、注射剤など
の形態で経口または非経口で投与することができる。ま
た投与方法、投与量および投与回数は患者の年齢、体重
および症状に応じて適宜選択することができ、通常成人
に対しては、経口または非経口（たとえば、注射、点眼
、直腸部位への投与など）的投与により、１日ｏ、ｉ　
〜ｉｏｏ　ｍｙ／Ｋｇを１回から数回に分割して投与す
ればよい。

つぎに、本発明の代表的化合物についての薬理作用につ
いて述べる。

被検化合物 １．６−フルオロ−１−（４−ヒドロキシ−２ニメチル
フエニル）−７−（１−ヒドロキシメチルビニル）−１
，４−ジヒドロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸 ２．１−シクロプロピル−６−フルオロ−７−（１−ヒ
ドロキシメチルビニル）−１，４−ジヒドロ−４−オキ
ソ−３−キノリンカルボン酸３．６−フルオロ−１−（
２，４−ジフルオロフェニル）−７−（１−ヒドロキシ
メチルビニル）−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−３−
キノリンカルボン酸 ４．１−（３−アミノ−４−フルオロフェニル）−６−
フルオロ−７−（１−ヒドロキシメチルビニル）−１，
４−ジヒドロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸の
塩酸塩 ５．７−（１−アミノメチルビニル）−１−シクロプロ
ピル−６−フルオロ−１，４−ジヒドロ−４−、オキソ
−３−キノリンカルボン酸の塩酸塩６．７−（１−アミ
ノメチルビニル）−６−フルオロ７ｌ−（４−フルオロ
フェニル）−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−３−キノ
リンカルボン酸の塩酸塩 ７．１−シクロプロピル−６−フルオロ−７−（１−メ
チルアミンメチルビニル）−１，４−ジヒドロ−４−オ
キソ−３−キノリンカルボン酸の塩酸塩 ８：６−フルオロ−１−（２，４−ジフルオロフェニル
）−７−（１−メチルアミノメチルビニル）−１，４−
ジヒドロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸の塩酸
塩 ９．６−フルオロ−１−（２，４−ジフルオロフェニル
）−７−（１−アミノメチルビニル）−１゜４−ジヒド
ロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸の塩酸塩 １０．７−（１−アミノメチルビニル）−６，８−ジフ
ルオロ−１−（２，４−ジフルオロフェニル）−１，４
−ジヒドロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸の塩
酸塩 １１．７−（１−アミノメチルビニル）−１−シクロプ
ロピル−６，８−ジフルオロ−１，４−ジヒドロ−４−
オキソ−３−キノリンカルボン酸の塩償塩 ’２．７−（１−７ミノメチルビニル）−１−（２゜４
−ジフルオロフェニル）−６−フルオロ−１゜４−ジヒ
ドロ−４−オキソ−１，８−ナフチリジン−３−カルボ
ン酸の塩酸塩 １３．７−（１−アミノメチルビニル）−１−シクロプ
ロピル−６−フルオロ−１，４−ジヒドロ−４−オキソ
−１，８−ナフチリジン−３−カルボン酸の塩酸塩 １４．９−フルオロ−１０−（１−ヒドロキシメチルビ
ニル）−３−メチル−７−オキソ−２，３−ジヒドロ−
７８−ピリド［１，２，３−ｄｅｌ　　［１゜４］ベン
ゾオキサジン−ローカルポン酸１５゜１−（３−アミノ
−４−フルオロフェニル）−６−フルオロ−７−（１−
ヒドロキシメチルビニル）−１，４−ジヒドロ−４−オ
キソ−１，８−ナフチリジン−３−カルシボン駿の塩酸
塩１６、１Ｏ−（１−アミノメチルビニル）−９−フル
オロ−３−メチル−７−オキソ−２，３−ジヒドロ−７
８−ピリド［１，２，３−ｄｅｌ　　［１，４］ベンゾ
オキサジン−６−カルボン酸の塩酸塩１７．１−シクロ
プロピル−６−フルオロ−７−（１−ヒドロキシメチル
ビニル）−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−１，８−ナ
フチリジン−３−カルボン酸 １、抗菌作用 試験方法 日本化学療法学会標準法（ケモテラピ−（ＣＵＥ）１０
ＴＨＥＲＡＰＹ）第２９巻、第１号、第７６〜７９頁（
１９８１年）］にしたがい、ハート・インフュージョン
・ブロース（Ｈｅａｒｔ　Ｉｎｆｕｓｉｏｎ　ｂｒｏｔ
ｈ）（栄研化学社製）で３７℃、２０時間培養し、菌量
を１０６個／威に調整した菌液１白金耳を、被検化合物
を含むバー１〜インフユージヨ〕／　アガー（Ｈｅａｒ
ｔＩｎｆｕｓｉｏｎ　　ａｇａｒ）培地（栄研化学社！
りに接種し、３７℃で２０時間培養した後、菌の発育の
有無を観察し、菌の発育が阻止された最少濃度をもって
ＭＩＣ（乃／ｍりとした。

その結果を表−１に示す。

（以下余白） ２、溶解度 試験方法 被検化合物を約１ｍ３精秤し、これにｐＨ７，０の緩衝
液（０，１Ｍリン酸水累二ナトリウムー０．ＩＮ塩液）
０．１ｍｌを加え、２５°Ｃで１分間攪拌し、溶解する
までこの操作を繰り返し、溶解したときの濃度を溶解度
とした。

その結果、化合物番号２および６の化合物の１）Ｈ７，
０での水に対する溶解度は、それぞれ９５５　ｍ、”Ｉ
ｎ１および１３２０縛／ｄであった。

［発明の効果］ 以上の結果から、本発明化合物は、優れた抗菌作用を発
揮し、かつ溶解性に優れていることが容易に理解できる
。

［実施例］ つぎに、本発明化合物の製造法を具体的に参考例および
実施例を苧げて説明するが、本発明はこれらに限定され
るものではない。

なお、溶離液における混合比は、すべて容量比であり、
また、カラムクロマトグラフィーにあける担体は、キー
ザルゲル６０．アート、７７３４［（Ｋｉｅｓｅｌｇｅ
ｌ　６０、Ａｒｔ、　７７３４、（メルク社製）１を用
いた。

また、参考例および実施例中で用いられている記号は、
それぞれつきの意味を有する。

Ｍｅ；メチル Ｅｔ：エチル Ｔｒｏｔ〜リフェニルメチル ３ｏｃ；ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルＤＭＳＯ：ジメ
チルスルホギシド ＴＥＡニトリフルオロ酢酸 また、文中および表中のし　］は再結晶溶媒を示す。

（以下余白） 参考例１ （ｉ）　　６０％水素化ナトリウム５．０ｇをＮ、Ｎ−
ジメチルホルムアミド２００　ｄに加え、氷冷下マロン
酸ジーｔｅｒｔ−ブチルエステル２７．０９を１時間を
要して滴下する。滴下終了後、２，４．５−トリフルオ
ロ安息香酸メチルエステル２０．０ｇを加え、宇部で１
６時間撹拌する。反応液を酢酸エチル３００　ｒｎｆ！
および水４００　ｒｄｌの混合溶媒に加え、２Ｎ＠酸で
１）Ｈｌ、Ｏに調整する。有機層を分取し、２Ｎ塩酸、
水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去すれば、４−（
ジーｔｅｒｔ−７１〜キシカルボニルメチル２、５−ジ
フルオロ安息香酸メチルエステル４６、　５　ｇを得る
。ついで、これをトリフルオロ酢酸５０ｄに溶解させ、
宇部で１２時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮した後
、ジエチルエーテル１５０ｉおよび水１００　Ｉｎ！！
を加え、有機層を分取する。水および飽和食塩水で順次
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下
に溶媒を留去し、得られた油状物をトルエン３０７に溶
解させ、１時間還流する。減圧下に溶媒を留去した後、
得られた残留物にｎ−ヘキサンを加えて結晶を枦取すれ
ば、４−カルボキシメチル−２．５−ジフルオロ安息香
酸メチルエステル１２．０９　（収率４９．６％）を得
る。

融点；１３３〜１３５°Ｃ（分解）［酢酸エチル−〇−
へギサン］ ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　；ν　１７２０（Ｓｉｌ）
、　１７０５Ｃ：０ （ｉｉ）　　４−カルボキシメチル− 安息香酸メチルエステル６、０９をクロロホルム３０ｄ
に懸濁させ、宇部で１Ｎ−ジフェニルジアゾメタン−石
油エーテル溶液３０Ｉｎｌを滴下し、同温度で１時間撹
拌する。ついで、減圧下に溶媒を留去すれば、４−ジフ
ェニルメトキシカルボニルメチル−２，５−ジフルオロ
安息香酸メチルエステルｉｏ．ｏｇ＜収率９６．８％）
を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）　にｇ（−’　；ν　１７３５，　１７
１０（ｓｈ）−Ｏ （ｉｉｉ）　　４−ジフェニルメトキシカルボニルメチ
ル２、５−ジフルオロ安息香酸メチルエステル４３．５
３をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２２０　ｄに溶解さ
せ、バラホルムアルデヒド１３．２９およびナトリウム
メトキシド５９０　ｍｇを加え、宇部で２時間撹拌した
後、ナトリウムメトキシド５９０　ｍｇを加え、同温度
で２０時間撹拌する。反応液に酢酸エチル２００威およ
び水５００ｒｆｉを加え、２Ｎ塩酸でｐ１１２に調整す
る。有機層を分取し、水および飽和食塩水で順次洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。

減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマ
トグラフィー（溶離液；トルエン：酢酸エチル＝１０：
１）で精製すれば、４−［１−ジフェニルメトキシカル
ボニル−１，１−ビス（ヒドロキシメチル）メチル］ー
２．５ージフルオロ安息香酸メチルエステル２４．０ｇ
（収率４７，６％）を得る。

ＩＲ（にＢｒ）　ｃｍ−１：　Ｖ　　１７４０．　１７
２０Ｃ＝０ 参考例２ ４−［１−ジフェニルメトキシカルボニル−１。

１−ビス（ヒドロキシメチル）メチル］−２．　５−ジ
フルオロ安息＠酸メチルエステル２４．０９を無水酢Ｍ
１２０　ｍＩ！に溶解させ、２時間還流する。減圧下に
反応液を濃縮した後、酢酸エチル２００威および水１０
０ｍｌを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ７
に調整する。有機層を分取し、水および飽和食塩水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧
下に溶媒を留去した後、得られた残留物にジイソプロピ
ルエーテルを加えて結晶をｉ戸数すれば、４−［１．１
−ビス（アセトキシメチル）−１−（ジフェニルメトキ
シカルボニル）メチル］ー２．５ージフルオロ安息香酸
メチルエステル１８．２９　（収率６４．１％）を得る
。

ＩＲ（にＢｒ）　ｃｍ−１；　ｖ　　１７４０．１７７
０Ｃ：０ 参考例３ ４−Ｎ，１−ビス（アセトキシメチル）−１−（ジフェ
ニルメトキシカルボニル）メチル］−２、５−ジフルオ
ロ安息香酸メチルエステル１８．２９をアニソール５４
ｒｎＩ！に溶解させ、トリフルオロ酢１５４ｄを加え、
宇部で２時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得ら
れた残留物をカラムクロマ１〜グラフイー（溶離液；ク
ロロホルム：メタノール＝９　：　１　）で精製すれば
、４−［１．１−ヒ°ス（アセトキシメチル）−１−カ
ルボキシメチル］−２，５−ジフルオロ安息香酸メチル
エステル１２．４６　ｇ　（収率９８．９％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　ニジ　　１７４０，１７１５
Ｃ：Ｏ 参考例４ ４−Ｍ、１−ビス（アセトキシメチル）−１−力ルボキ
シメチル］−２．５−ジフルオロ安息香酸メチルエステ
ル１２．４６　（ｊをＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１
２０　ｍｌに溶解させ、９０℃で５分間撹拌する。反応
液に水３００　ｄおよび酢酸エチル１００厩を加える。

有機層を分取し、水および飽和食塩水で順次洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留
去し、得られた残留物をメタノール５０ｍ１に溶解させ
た後、ナトリウムメトキシド１００ｍｇを加え、宇部で
２時間撹拌する。

減圧下に反応液を濃縮した後、クロロホルム５０ｍ１お
よび水１００ｒｄ！を加える。有機層を分取し、水およ
び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を
カラムクロマトグラフィー（）容離液：クロロホルム）
で精製すれば、２，５−ジフルオロ−４−（１−ヒドロ
キシメチルビニル）安息香酸メチルエステル６．３７９
　（収率８３．８％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）　０１Ｂ−１；ν　１７３５Ｃ＝Ｏ 参考例５ ２．５−ジフルオロ−４−（１−ヒドロキシメチルビニ
ル）安息香酸メチルエステル９６０　ｍＦＩを塩化メチ
レン１０７に溶解ざぜ、トリフェニルメチルクロリド１
．５２９およびピリジン５００　ｍｇを加え、２時間還
流する。減圧下に反応液を濃縮した後、酢酸エチル１０
ｆｎ１および水ｉｏｍｆ！を加え、２Ｎｍ酸でｐＨ１に
調整する。有＠層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液、水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；トル
エン二〇−ヘキサン＝１：１）で精製すれば、２，５−
ジフルオロ−４−（１−１−リフェニルメトキシメチル
ビニル）安息香酸メチルエステル１．９０９　（収率９
９，０％）を得る。

ＩＲに−ト）　ｃｍ”　：　ｌ、／　　　１７２０Ｃ：
Ｏ 同様にして、つぎの化合物を得る。

０２．３．５−トリフルオロ−４−（１−トリフェニル
メトキシメチルビニル）安息香酸エチルエステル −１゜ ＩＲに−ト）ｃｍ　　、ｖ　　　　１７２０゜Ｃ：Ｏ 参考例６ ２．５−ジフルオロ−４−（１−トリフェニルメトキシ
メチルビニル）安息香酸メチルエステル１．９０ｇをメ
タノール１０１ｎ！！およびジオキサン１０ｄの混合溶
媒に溶解させ、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１０ｄを加
え、宇部で１時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮した
後、２Ｎ塩酸１０ｍ１および酢酸エチル２０ｍ１を加え
る。有機層を分取し、水および飽和食塩水で順次洗浄し
た後、無水Ｗｔ酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶
媒を留去すれば、２゜５−ジフルオロ−４−（１−トリ
フェニルメトキシメチルビニル）安息香酸１．７３９　
（収率９４．０％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　シ１７１０Ｃ＝Ｏ 同様にして、つぎの化合物を得る。

０２．３．５−トリフルオロ−４−（１−トリフ工二ル
メ１〜キシメチルビニル）安息香酸ＩＲに−ト＞ｃｍ−
’ニジ ｃ＝ｏ　　１７００ 参考例７ 参考例５および６と同様にしてつぎの化合物を得る。

０２−クロロ−５−フルオロ−６−（１−トリフェニル
メトキシメチルビニル）ニコチン酸−１゜ ＩＲ（にＢｒ）ｃｍ、シ１７３０ Ｃ：Ｏ 参考例８ ２．５−ジフルオロ−４−（１−ヒドロキシメチルビニ
ル）安息香酸メチルエステル１．００ｇを塩化メチレン
１０ｍｆ！に溶解させ、水冷下、トリエチルアミン５７
０１ｎ３およびメタンスルホニルクロリド６５０ｍｇを
加え、同温度で２０分間撹拌する。反応液に水１０ｍ１
を加え、２Ｎ塩酸でＤＨｌに調整する。有機層を分取し
、水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた
残留物をクロロホルム２０ｍ！！に溶解させ、２，４−
ジメトキシベンジルアミンの塩Ｉｍ１．１６ｇおよびト
リエチルアミン１．３３３を加え、空温で２０時間撹拌
する。反応液に水２０威を７ＩＯえ、有機層を分取し、
水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残
留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；クロロホル
ム）で精製すれば、２，５−ジフルオロ−４−［１−（
２，４−ジメトキシベンジルアミノメチルビニル）］安
息香酸メチルエステル８６０　ＩＱ　（収率５２．１％
）を得る。

ＩＲに−ト）　ｃｍ−１：　シ１７２０Ｃ＝Ｏ 同様にして、つぎの化合物を得る。

Ｑ２，５−ジフルオロ−４−（１−メチルアミノメチル
ビニル）安息香酸メチルエステルＩＲに−ト＞ｃｍ−１
；ν　　１７２５Ｃ＝Ｏ 参考例９ ２．５−ジフルオロ−４−［１−（２，４−ジメトキシ
ベンジルアミノメチルビニル）］安息香酸メチルエステ
ル７８０　ｍｇをアニソール３．９ｄおよびトリフルオ
ロ酢酸３．９ｄの混合溶媒に溶解させ、９時間還流する
。減圧下に反応液を濃縮した後、酢酸エチル１０ｄおよ
び水１０７！を加える。水層を分取し、酢酸エチル１０
ｍ１を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ７，
５に調整する。有機層を分取し、水および飽和食塩水で
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減
圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマト
グラフィー（溶離液；クロロホルム：メタノール＝１５
　：　１　）で精製すれば、４−（１−アミノメチルビ
ニル）−２，５−ジフルオロ安息香酸メチルエステル３
９０　ｍｇ（収率８３．０％）ヲ得ル。

Ｉｆ？に−ト）　ｃｍ−’　；　ｖ　　　１７２０Ｃ＝
Ｏ 参考例１０ ４−（１−アミノメチルビニル）−２，５−ジフルオロ
安息香酸メチルエステル３００　ｍｇを塩化メチレン５
ｄに溶解させ、水冷下、トリエチルアミン２００ｍＥＩ
および重炭酸ジーｔｅｒｔ−ブチル４３０　ｍｇを加え
、空温で１２時間撹拌する。反応液を２Ｎ塩酸で１）Ｈ
ｌに調整した後、有機層を分取し、水および飽和食塩水
で順次洗浄する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をメタノール６ｍｌおよびジオキサン６ｍｌの混合溶
媒に溶解させ、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液６ｍｌを加
え、空温で２時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮した
後、２Ｎ塩酸５ｄおよび酢酸エチル１０ｄを加える。有
機層を分取し、水および飽和食塩水で順次洗浄した１麦
、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留
去した後、得られた残留物にｎ−ヘキサンを加えて結晶
をン戸数すれば、４−　（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニルアミノメチルビニル）−２，５−ジフルオロ安息
香酸３５０　ｍＦ！（収率８４．５％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　ニジ　１７００（Ｓｈ）、
１６８５Ｃ＝Ｏ 同様にして、つどの化合物を得る。

ｏ２，５−ジフルオロ−４−［１−（Ｎ−ｔｅｒｔ　−
ブトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノメチル）ビニル
］安息香酸 ＩＲに−ト）　ｃｍ−１ニジ　　１７００（Ｓｉｎ）、
　１６８５Ｃ：Ｏ 参考例１１ ２．５−ジフルオロ−４−（１−トリフェニルメトキシ
メチルビニル）安息香１１．７３７を無水テトラヒドロ
フラン１７７に溶解させ、水冷下、Ｎ。

Ｎ−一カルポニルジイミダゾール９２０　ｍｇを加え、
同温度で３０分間撹拌した後、マロン酸モノエチルエス
テルのマグネシウム＠８１０ｍｇを加え、￥温で１５時
間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮した後、酢酸エチル
３０７および水２０７を加え、２１１でＤＨｌに調整す
る。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残
留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液：トルエン：
酢酸エチル＝１０：”ｌ）で精製すれば、２，５−ジフ
ルオロ−４−（１−トリフェニルメトキシメチルビニル
）ベンゾイル酢酸エチルエステル１．９５ｇ（収率９７
．５％）を得る。

ＩＲ（ニー１”　）　ｃｍ−’　：　ｖ　　　１７３５
．１６８５Ｃ：０ 同様にして、表−２の化合物を得る。

表−２中のＲ３、ＡＩおよびＸは、つぎの式で表わされ
る化合物の置換基を示す。

／ ／ ／ ／ 参考例１２ ２．５−ジフルオロ−４−（１−トリフェニルメトキシ
メチルビニル）ベンゾイル酢酸エチルエステル２４Ｑ　
（ｎＦＪをベンゼン３ｍに溶解させ、Ｎ、　Ｎ−ジメチ
ルホルムアミドジメチルアセタール１６０ｍｇを加え、
１時間遠流する。減圧下に反応液を濃縮した後、ｊｑら
れだ残留物をエタノール３威に溶解させ、４−メトキシ
メトキシ−２−メチルアニリン８３ｍｇを加え、字部で
１６時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮した後、得ら
れた残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液；トル
エン：酢酸エチル−５０：１）で精製すれば、２−［２
，５−ジフルオロ−４−（１−トリフェニルメトキシメ
チルビニル）ベンゾイル］−３−（４−メトキシメトキ
シ−２−メチルフェニルアミノ）アクリル酸エチルエス
テル２９０　ｍｓ　（収率９０．３％）を得る。

−１゜ ＩＲに−ト）　Ｃｍ　　、　ｌ、／。：ｏ１６９０同様
にして、表−３の化合物を得る。

Ｎ−３中のＲ”’、Ｒ３，Ａ１．ｉ−；よびＸＬｔ、ツ
レぞれ、つぎの式で表わされる化合物の置換基を示表−
２ （以下余白） 参考例１３ ４−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−２゜３．５
−トリフルオロ安息香酸エチルエステル５．０　！？を
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍ１に溶解させ、パ
ラホルムアルデヒド１．７５９ｉよびナトリウムエトキ
シド６３ｍ３を加え、字部で１２時間撹拌する。反応液
に酢酸エチル５０ｍ１および水ｉｏｏ＊を加え、２Ｎ塩
酸でｐｔ１２に調整する。有機層を分取し、水および飽
和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラ
ムクロマトグラフィー（溶離液；トルエン：酢酸エチル
＝５：１）で精製すれば、４−［１−ジフェニルメトキ
シカルボニル−１，１−ビス（ヒドロキシメチル）メチ
ル］−２．３．５−トリフルオロ安息香酸エチルエステ
ル０．７６ｇ（収率１３．３％）を得る。

−１゜ ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ、　ｌ／　　　　１７２０−Ｏ 同様にして、つぎの化合物を得る。

０２−クロロ−６−［１−ジフェニルメトキシカルボニ
ル−１，１−ビス（ヒドロキシメチル）メチル］−５−
フルオロニコチン酸エチルエステル −１゜ ＩＲに−ト）ｃｍ　　、ｖ　　　　１７２０Ｃ：Ｏ 参考例１４ ４−〔１−ジフェニルメトキシカルボニル−］。

］１−ビスヒドロキシメチル）メチル］−２，３゜５−
１〜リフルオロ安息香酸エチルエステル７５０　ｍｇを
無水酢酸７．５ｍに溶解させ、２時間速流する。

減圧下に反応液を濃縮した後、アニソール５ｄに溶解さ
せ、トリフルオロ酢酸５ｄを加え、字部で２時間撹拌す
る。減圧下に反応液を濃縮した後、ｎ−ヘキサン１０７
を加え、飽和炭酸水系ナトリウム水溶液でＩ）Ｈ７，５
に調整する。水層を分取し、酢酸エチル２０ｍ１を加え
た後、６Ｎ塩酸でｐＨに調整する。有機層を分取し、水
および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。

減圧下に溶媒を留去すれば、４−［１，１−ヒス（アセ
トキシメチル）−１−カルボキシメチル］−２．３．５
−ｉ〜リフルオロ安息香酸エチルエステル５００　ｍ９
　（収率８０．６％）を得る。

−１゜ ＩＦ！（ＫＢｒｋｍ、ν　　　１７５０，１７２０Ｃ＝
０ 同様にしてつぎの化合物を得る。

ｏ６−Ｍ、１−ビス（アセトキシメチル）−１−カルボ
キシメチル ロニコチン酸エチルエステル ＩＲ（にＢｒ）ｃｉ　　、ν　　　１７４５Ｃ＝０ 参考例１５ ４−Ｍ，１−ビス（アセトキシメチル）−１−カルボキ
シメチル ロ安息香酸エチルエステル５００ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド５威に溶解ざゼ、９０℃で５分間撹拌す
る。反応液に水２０ｒｐＪ！および酢酸エチル２０ｍｌ
を加える。有機層を分取し、水および飽和食塩水で順次
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下
に溶媒を留去し、得られた残留物をエタノール５威に溶
解させた後、ナトリウムエチラート９０ｍ３を加え、字
部で２時間撹拌する。反応液を水２０ｍおよび酢酸エチ
ル２０ｄの混合溶媒に加え、２Ｎ塩酸でｐＨ１に調整す
る。有機層を分取し、水および飽和食塩水で順次洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒
を留去すれば、２，３．５−１〜リフルオロ−４−（１
−ヒドロキシメチルビニル）安息１１ａエチルエステル
３００　ｍｇ　（収率９３．８％）を得る。

−１゜ ＩＲに−ト＞ｃｍ　　、ｖ　　　　１７２０Ｃ＝０ 参考例１６ ６−［１，１−ビス（アセトキシメチル）−１−カルボ
キシメチル］−２−クロロ−５−フルオロニコチン酸エ
チルエステル１８．５９をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド１００ｄに溶解させ、９０°Ｃで５分間撹拌する。反
応液に酢酸エチル１００ｍ１および水３００ｍを加える
。有機層を分取し、水および飽和食塩水で順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を
留去した後、ｊｑられた残留物にジイソプロピルエーテ
ルを加えて結晶をン戸数すれば、６−（１−アセトキシ
メチルビニル）−２−クロロ−５−フルオロニコチン酸
エチルエステル９．３　！？　（収率６７．６％）を得
る。

−１゜ ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ、ν　　　　１７２５−Ｏ 参考例１７ ６−（１−アセトキシメチルビニル）−２−クロロ−５
−フルオロニコチン酸エチルエステル９．２９をエタノ
ール９２ｍｊ！に溶解させ、ナトリウムエトキシド３０
０／１１９を加え、宇部で４．５時間撹拌する。反応液
に酢１２６５ｍｇを加え、減圧下に反応液を濃縮した後
、酢酸エチル１００ｄおよび水１００威を加える。有機
層を分取し、水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し
、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（溶離液
；トルエン：酢酸エチル＝９：１）で精製すれば、２−
クロロ−５−フルオロ−６−（１−ヒドロキシメチルビ
ニル）ニコチン酸エチルエステル７．４７７　（収率９
４．３％）を得る。

−１゜ ＩＲに−ト）ｃｍ　　、ｖ　　　　１７３０Ｃ：０ 参考例１８ ２．３．５−トリフルオロ−４−（１−ヒドロキシメチ
ルビニル）安息香酸エチルエステル３００ｍｇを塩化メ
チレン１０威に溶解させ、水冷下、トリエチルアミン１
９５　ｍ’ｊおよびメタンスルホニルクロリド２２０ｍ
ｇを加え、同温度で２０分間撹拌する。反応液に水１０
ｍ１を加え、２Ｎ塩酸で１）Ｉｌｌに調整する。

有確層を分取し、水および飽和食塩水で順次洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留
去し、得られた残留物をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
５ｍｌに溶解させ、ｔｅｒｔ−ブチル−メチルイミノジ
カルボキシレートのカリウム塩４８０　ｍｇを加え、宇
部で２０時間撹拌する。反応液を酢酸エチル２０Ｉｎｌ
および水２０Ｉｎｌの混合溶媒に加え、２Ｎ塩酸でｐＨ
１に調整する。有機層を分取し、水および飽和食塩水で
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減
圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマト
グラフィー（溶離液；トルエン：酢酸エチル−３０：１
）で精製すれば、２，３．．５−トリフルオロ−４−［
１−（Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メト
キシカルボニルアミノメチルビニル）］安息香酸エチル
エステル４６０ｍｇ（収率９２．５％）を得る。

−１゜ ＩＲに−ト’）ｃｍ、ν　　　１７９０．１７５０．１
７２０Ｃ＝Ｏ 同様にして、つぎの化合物を得る。

ｏ６−　［１−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−
Ｎ−メトキシカルボニルアミノメチルビニル）〕−〕２
ークロロー５ーフルオロニコチン酸エチルエステ ル１。

ＩＲにート＞ｃｍ　　、）／　　　　１７８５，１７３
５Ｃ＝Ｏ 参考例１９ ２、３．５−トリフルオロ−４−［・１−（Ｎ−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニル− ニルアミノメチルビニル）１安息香酸エチルエステル５
００　１ｎ５をエタノール５威およびジオキサン５ｄの
混合溶媒に溶解させ、ＩＮ水酸化ナトリウム水溶液５ｄ
を加え、￥温で３０分間撹拌する。減圧下に反応液を濃
縮した後、得られた残留物を酢酸エチル２０ｄおよび水
２０ｍｌの混合液に加え、２１酸でｌ）Ｈｌに調整する
。有機層を分取し、水および飽和食塩水で順次洗浄した
後、無水１ａ酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒
を留去した後、得られた残留物にｎ−ヘギサンを加えて
結晶を枦取すれば、２．３．５−トリノルオロ−４−（
１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチルビニル
）安息香酸３３０　ｍｇ（収率８６．８％）を得る。

−１゜ ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ、ｖ　　　　１７１０Ｃ＝Ｏ 同様にして、つぎの化合物を得る。

ｏ　６−　（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ
メチルビニル チン酸 ＝１。

ＩＲ（にＢｒ）ｃｍ　　、シ１７２５，１６７０Ｃ：Ｏ （以下余白） 実施例１ ２−［２．５−ジフルオロ−４−（１−トリフェニルメ
トキシメチルビニル）ベンゾイル］−３−（４−メトキ
シメトキシ−２−メチルフェニルアミノ）アクリル酸エ
チルエステル２８０　ｍｇをＮ。

Ｎ−ジメチルホルムアミド３．５ｍｌに溶解させ、炭酸
カリウム６６ｍ３を加えた後、９０〜１００℃で３０分
間撹拌する。反応液に酢酸エチル１０ｄｃＦ＞よび水１
０ｍｉを加え、２Ｎ塩酸でｐＨ１に調整する。有機層を
分取し、水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去した後
、得られた残留物にジイソプロピルエーテルを加えて結
晶をン戸数すれば、６−フルオロ−１−（４−メトキシ
メトキシ−２−メチルフェニル）−７−（１−トリフェ
ニルメトキシメチルビニル）−１，４−ジヒドロ−４−
オキソ−３−キノリンカルボン酸エチルエステル２２０
　１ｎ９　（収率８０、９％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　；　ｌ／　　１７３０，　１
６９０Ｃ＝Ｏ 同様にして、表−４の化合物を得る。

表−４中のＲ１およびＲ３は、それぞれ、つぎの式で表
わされる化合物の置換基を示す。

（以下余白） 表−４ ／ ／ ／ ／ 表−４（続き） 実施０例２ ４−　（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチ
ルビニル 酸エチルエステル５００　ｍｙをベンゼン１０ｍＡに溶
解させ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタ
ール７７７　１ｎ３を加え、１．５時間還流する。減圧
下に反応液を濃縮し、得られた残留物をエタノール５威
に溶解させ、シクロプロピルアミン１１２ｍ！？を加え
、字部で３時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得
られた残留物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｄに
溶解させ、炭酸カリウム２１６ｍｇを加え、９５〜１０
５℃で３０分間撹拌する。反応液を酢酸エチル１０ｒｒ
ｔ！ｉＢよび水１０戒の混合溶媒に加え、２Ｎ塩酸でｐ
Ｈ２に調整する。有機層を分取し、水および飽和食塩水
で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。

減圧下に溶媒を留去した後、得られた残留物にジエチル
エーテルを加えて結晶をン戸数すれば、７−（　１　−
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチルビニル）−
１−シクロプロピル−６−フルオロ−１，４−ジヒドロ
−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸エチルエステル
４３０　ｍｆｌ（収率７６、６％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　；ν　１７１５，　１６９
５Ｃ＝Ｏ 同様にして、表−５の化合物を得る。

表−５中のＲ１およびＲ３は、それぞれ、つぎの式で表
わされる化合物の置換基を示す。

（以下余白） 表−５ 表−５（続き） 実施例３ ｌ−（２，４−ジフルオロフェニル）−６−フルオロ−
７−（１−トリフェニルメトキシメチルビニル）−１，
４−ジヒドロ−４−オキソ−３−キノリンカルリボン酸
エチＪレエステル６５０　ｍｇをエタノール５ｍｌおよ
びクロロホルム５ｍｌの混合溶媒に溶解させ、ｐ−トル
エンスルホン酸の１水和物１９１ｍｇを加え、空温で１
時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮した後、酢酸エチ
ル１０ｍおよび水１０ｍ１を加える。有機層を分取し、
飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。減圧下に溶媒を留去した後、得られた残留物にジ
エチルエーテルを加えて結晶を枦取すれば、１−（２，
４−ジフルオロフェニル）−６−フルオロ−７−（１−
ヒドロキシメチルビニル）−１，４−ジヒドロ−４−オ
キソ−３−キノリンカルボン酸エチルエステル３１０　
ｍｇ　（収率７６．４％）を得る。

ＩＲ（Ｋ８ｒ）　ｃｍ”　ニジ　１７２５，１７００Ｃ
＝Ｏ 実施例４ ｌ−（２，４−ジフルオロフェニル）−６−フルオロ−
７−（１−ヒドロキシメチルビニル）−１，４−ジヒド
ロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸エチルエステ
ル４００　ｍｇを塩化メチレン８ｍｌに溶解させ、水冷
下、トリエチルアミン１３０ｍｇおよびメタンスルホニ
ルクロリド１４８ｍｙを加え、同温度で１５分間撹拌す
る。反応液に水１０ｄを加え、有豊層を分取し、希塩酸
、水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた
残留物をクロロホルム８ｄに溶解させ、２，４−ジメト
キシベンジルアミンの塩酸塩２６３　ｍｇおよびトリエ
チルアミン３０１　ｍｇを加え、空温で１８時間撹拌す
る。反応液に水８＋ｍを加え、有機層を分取し、水およ
び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を
カラムクロマトグラフィー（溶離液；クロロホルム：エ
タノール＝１００：１）で精製すれば、１−（２，４−
ジフルオロフェニル）−６−フルオロ−７−［１−（２
，４−ジメトキシベンジルアミンメチルビニル）］−］
１．４−ジヒドロー４−オキソー３キノリンカルボン酸
エチルエステル３４０　ｍ！ｉＦ（収率６２．０％）を
得る。

ＩＲに−ト）　ｃｍ−１；　ｌ）　　　１７２５．１６
８５Ｃ＝Ｏ 同様にして、つぎの化合物を得る。

０ｌ−（２，４−ジフルオロフェニル）−６−フルオロ
−７−［１−（１−ピロリジニルメチルビニル）］−］
１．４−ジヒドロー４−オキソー３キノリンカルボン酸
エチルエステル ＩＲ（にＢｒ）　ｃｍ−１：　２，Ｊ　　１７２５，　
１６９０Ｃ＝Ｏ 実施例５ ６−フルオロ−１−（４−メトキシメトキシ−２−メチ
ルフェニル）−７−　（１−トリフェニルメトキシメチ
ルビニル）−１．４−ジヒドロ−４−オキソ−３−キノ
リンカルボン酸エチルエステル１１０ｍ９をジオキサン
２ｍｌおよびメタノール１威の混合溶媒に溶解させ、６
Ｎ塩酸１ｄを加え、空温で２０時間撹拌する。減圧下に
反応液を濃縮した後、メタノール１威および１Ｎ水酸化
ナトリウム水溶液２ｍを加え、空温で２時間撹拌する。

反応液に水５ｄおよびジエチルエーテル５ｍｌを加え、
水層を分取した後、クロロホルム１０威を加え、２Ｎ塩
酸でｐＨ１に調整する。有機層を分取し、水および飽和
食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。減圧下に溶媒を留去した後、得られた残留物にジ
エチルエーテルを加えて結晶をン戸数すれば、６−フル
オロ−１−（４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−
７−（１−ヒドロキシメチルビニル）−１，４−ジヒド
ロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン’ｆｆｔ５０ｍ
ｇ　（収率８４．２％）を得る。

融点；２５０〜２５１．５°Ｃ［エタノール−ジエチル
エーテル］ ＩＲ（にＢｒ）　ｃｍ−１；ν　１７１０Ｃ＝Ｏ Ｎ）ＩＲ（Ｄ）１３０−ｄ６　）δ値；１．９３（３Ｈ
，ｓ）、４．１８（２Ｈ，ｓ）、５゜０５（ＩＨ，ｂｓ
）。

５、３０（ＩＨ，Ｓ）、　５．５６（ＩＮ、　Ｓ）、　
６．６０〜７．６０（４Ｈ，Ｉｌ＋）８、０８（ＩＮ、
　ｄ、　Ｊ＝１０．５Ｈｚ）　、　８．６５　（ＩＨ，
５）１ｏ、ｏ３（ＩＨ，ｓ）、１５．７０（Ｉｆｆ、ｂ
ｓ）同様にして、表−６，の化合物を得る。

表−６中のＲ１は、つぎの式で表わされる化合物の置換
基を示す。

（以下余白） 実施例６ ローフルオロー１−（４−フルオロ−３−ホルミルアミ
ノフェニル）　−７−（１−トリフェニルメトキシメチ
ルビニル）−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−３−キノ
リンカルボン酸エチルエステル１２０ｍ！？をメタノー
ル１．２ばおよびジオキサン１．２　ｍｌの混合溶媒に
溶解させ、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１．２威を加え
、下部で２０時間撹拌する。

反応液に水１ｏｒｄ、およびクロロホルム１（７を加え
、２Ｎ塩酸でｐＨ３に調整する。有機層を分取し、飽和
食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する
。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をメタノール
２．５ｄおよびクロロホルム２ｄの混合溶媒に溶解させ
、６Ｎ塩酸０．８５ｍＩ！を加えた後、下部で２時間撹
拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物にジ
エチルエーテルを加えて結晶をン戸数すれば、１−（３
−アミノ−４−フルオロフェニル）−６−フルオロ−７
−（１−ヒドロキシメチルビニル）−１，４−ジヒドロ
−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸の塩酸塩３９ｍ
３　（収率５３．４％）を得る。

融点；２３８〜２４１５°Ｃ［インプロピルアルコール
］ ＩＲ（ＫＢｒ）　に（Ｈ−’　；　ｖ　　１７２０（ｓ
ｈ）、１６９０Ｃ＝Ｏ Ｎ）ＩＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６　）δ値； ４、１８（２Ｈ，ｓ）、　５．３２（ＩＨ，ｓ）、　５
．５７（ＩＮ、　ｓ）。

６．６０〜７．５０（４Ｈ，ｍ）、８．０６（１Ｍ、ｄ
、Ｊ＝１０．５Ｈ２）。

８、６５　（ＩＨ，Ｓ） 同様にして、表−７の化合物を１ｑる。

表−７中のＲ１は、つぎの式で表わされる化合物の置換
基を示す。

（以下余白） 実施例７ ローフルオロー１−［４−メトキシメトキシ−３−（Ｎ
−メチル−Ｎ−トリフルオロアセチルアミノ）フェニル
］−７−（１−トリフェニルメトキシメチルビニル）−
’ｌ、４−ジヒドロー４−オキソー３−キノリンカルボ
ン酸エチルエステル１６０ｍ５をエタノール５ｒｒｉｆ
！および１Ｎ７ｋＭ化ナトリウム水溶液２／１１ｉ２の
混合溶媒に加え、字部で４時間撹拌する。反応液に水１
５ｍ１を加え、２Ｎ塩酸でｐｔ＋７に調整した後、酢酸
エチル１０ｍ１を加える。有機層を分取した後、水およ
び飽和食塩水で順次洗浄する。減圧下に溶媒を留去し、
得られた残留物にジオキサン５ｄおよび６Ｍ塩Ｍ５ｍｌ
を加え、字部で４時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮
した後、水１０ｍ１およびジエチルエーテル１（７を加
える。水層を分取した後、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液
でｐＨ７に調整し、析出晶を炉取すれば、６−フルオロ
−１−（４−ヒドロキシ−３−メチルアミノフェニル）
−７−（１−ヒドロキシメチルビニル）−１，４−ジヒ
ドロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸５９ｍｇ　
（収率７６．４％）を１ｑる。

融点；２２９〜２３２°Ｃ ＩＲ（にＢｒ）　Ｃｍ−’　：　シ１７０５Ｃ＝Ｏ ＮＭＲ（Ｄ）ｆｓＯ−ｄ６）δ値； ２、６０（３Ｈ，ｓ）　、　４．１６（２Ｎ、　ｓ）、
　４．８０〜５．７０（３Ｎ、　１ｉｔ）　。

６．３０〜７．４０（４Ｎ、ｍ）、７．９８（１Ｍ、ｄ
、Ｊ＝１０．５Ｈｚ）。

８．６５（ＩＨ，ｓ） 同様にして、表−８の化合物を得る。

表−８中のＲ１は、つぎの式で表わされる化合物の置換
基を示す。

（以下余白） ／ 実施例８ ７−　（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチ
ルビニル シメトキシフェニル）−１．４−ジヒドロ−４−オキソ
−３−キノリンカルボン酸エチルエステル１５０ｍ９に
６Ｎ塩酸６ｄおよびジオキサン６威を加え、１時間還流
する。反応液にジオキサン３戒を加えて結晶を枦取すれ
ば、７−（１−アミノメチルビニル）−６−フルオロ−
１−（４−ヒドロキシフェニル）−１．４−ジヒドロ−
４−オキソ−３−キノリンカルボン酸の塩酸塩１００　
１ｎ３　（、収率９０、１％）を得る。

融点；２８０°Ｃ以上［エタノール−水］ＩＲ（ＫＢｒ
）　に１Ｂ−’　；ν　　１６９０Ｃ＝Ｏ ＮＭＲ（丁ＦＡ−ｄ１　）　　δ１直；４、　３６（２
Ｈ，　ｓ）　、　５．　８５（１Ｎ，Ｓ）、　６．　０
２（ＩＨ，　ｓ）７、　００〜７．　９０（５１１，　
ｍ）、　８．　４７（１１−１，　ｄ，　Ｊ＝１０．　
Ｏｆ−１ｚ）。

９、　３９（ＩＨ，　Ｓ） 同様にして、表−９の化合物を得る。

表−９のＲ１およびＲ３は、つぎの式で表わされる化合
物の置換基を示す。

（以下余白） 実ｔ′Ｍ例９ ６−フルオロ−１−（２，４−ジフルオロフェニル）−
７−［１−（２，４−ジメトキシベンジルアミンメチル
ヒ二ル）］−］１．４−ジヒドロー４−オキソー３キノ
リンカルボン酸エチルエステル３００１ｎｇをトリフル
オロ酸１３ｄおよびアニソール３ｄの混合溶媒に溶解さ
せ、６時間還流する。

減圧下に反応液を濃縮した後、酢酸エチル１（７および
水１０ｍｌ１を加え、飽和炭酸水素す１〜リウム水溶液
でｐＨ７に調整する。有機層を分取し、水および飽和食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジオキサ
ン３．２ｍ！および６Ｎ塩酸３．２戒を加え、３０分間
還流する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物に
エタノールを加えて結晶をン戸数すれば、６−フルオロ
−１−（２，４−ジフルオロフェニル）−７−（１−ア
ミノメチルビニル）−１，４−ジヒドロ−４−オ°キソ
ー３−キノリンカルボン酸のｍｌ塩９０ｍｇ（収率４０
，４％）を得る。

／ 融点；２１２〜２１７°Ｃ［イソプロピルアルコール］ ＩＲ（にＢｒ）　ｃｍ−’　：　ｖ　　１７２０Ｃ＝Ｏ ＮＭＲ（ＴＥＡ−６１）δ値； ４．３８（２１−１，ｓ）、５．８５（ｉｔ−１，ｓ）
、６．０４（１Ｍ、ｓ）。

７、００〜８．１０（４Ｈ，ｍ）、８．４９（ＩＮ、ｄ
、　Ｊ＝９．５Ｈ２）。

９、３９（ＩＨ，Ｓ） 実施例１０ ４−　（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチ
ルビニル イル酢酸エチルエステル２８０　ｍ’ｉｌをベンゼン５
ｄに溶解させ、Ｎ．Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチル
アセタール４００　ｔｎ３を加え、５０分間還流する。

減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物をトルエン１
ｄに溶解させ、２，４−ジノルオロアニリン２２０ｍｇ
を加え、字部で４８時間撹拌する。減圧下に反応液を濃
縮し、得られた残留物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
４ｄに溶解させ、炭酸カリウム１１０ｍｇを加え、７０
℃で１時間撹拌する。反応液を酢酸エチル２０ｄおよび
水２０！ＩＪｉの混合溶媒に加え、２Ｎ塩酸でｌ）ｔｉ
ｌに調整する。有機層を分取し、水および飽和食塩水で
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減
圧下に溶媒を留去した後、得られた残留物にジエチルエ
ーテルを加えて結晶をン戸数すれば、７　−　（　１−
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチルビニル）−
６．８−ジフルオロ−１−（２．４−ジフルオロフェニ
ル）−１。

４−ジヒドロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸エ
チルエステル２４０　ｍ’ｊ　（収率６６、７％）を得
る。

ＩＲ（にＢｒ）　ｃｍ”　：　シ１７２０，　１７００
Ｃ＝Ｏ 同様にして、つぎの化合物を得る。

ｏ　７　−　（　１　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
アミノメチルビニル フルオロ−１．４−ジヒドロ−４−オキソ−３−キノリ
ンカルボン酸エチルエステル ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−１：　ｖ　　１７２５Ｃ：０ 実施例１１ ２−　［２，３．５−トリフルオロ−４−（１−１〜リ
フエニルメトキシメチルビニル）ベンゾイル］−３−　
（２−ヒドロキシ−１−メチルエチルアミノ）アクリル
酸エチルエステル１６０　ｍ９をＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド２ｍ！！に溶解させ、水冷下、６０％水素化ナ
トリウム２１ｍｇを加え、字部で１８時間撹拌する。反
応液を酢酸エチル２０ｍＩｌおよび水２（７の混合溶媒
に加える。有機層を分取し、水および飽和食塩水で順次
洗浄した後、無水ｌＡ酸マグネシウムで乾燥する。減圧
下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグ
ラフィー（溶離液；クロロホルム：エタノール＝ｉｏ：
１）で精製すれば、９−フルオロ−１０−（１−トリフ
ェニルメトキシメチルビニル）−３−メチル−７−オキ
ソ−２，３−ジヒドロ−７Ｈ−ピリド［１，２，３−ｄ
ｅｌ　　［１，４］ベンゾオキサジン−ローカルポン駁
エチルエステル９０ｍｇ　（収率６０．２％）を得る。

−１゜ ＩＲ（にＢｒ）ｃｍ、ν　　　１７２０．１６８５Ｃ＝
Ｏ 実施例１２ ２−　［４−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノメチルビニル ベンゾイル］−３−（２−ヒドロキシ−１−メチルエチ
ルアミノ）アクリル酸エチルエステル３３０ｍ３をＮ．
Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｄに溶解させ、炭酸カリウ
ム２００　ｍ’Ｊを加えた（捻、８０〜９０’Ｃで２時
間撹拌する。反応液を酢酸エチル２Ｑｄおよび水２Ｏｒ
ｒ＆の混合溶媒に加え、２Ｎ塩酸でｐＨ２に調整する。

有機層を分取し、水および飽和食塩水で順次洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。

減圧下に溶媒を留去した後、１ｑられた残留物にジエチ
ルエーテルを加えて結晶をン戸数すれば、１０−（１−
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチルビル）−９
−フルオロ−３−メチル−７−オキソ−２，３−ジヒド
ロ−７日−ビット［１，２．３−ｄｅｌ［１．４１ベン
ゾオキサジン−６−カルボン酸エチルエステル２６０　
ｍｇ（収率８５，３％）を得る。

−１。

ＩＲ（ＫＦ３ｒ＞ｃｍ　　、ｖ　　　　１７２０Ｃ：０ 実施例１３ ２−　［６−　（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルア
ミノメチルビニル ニコチノイル］ー３ーシクロプロピルアミノアクリル酸
エチルエステル４１０ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド２．５Ｉｄｌに溶解させ、炭酸水素ナトリウム８８
ｍｇを加え、９５〜１００°Ｃで４時間撹拌する。

反応液を酢酸エチル２０ｄおよび水２０ｔｒｄｌの混合
溶媒に加え、２Ｎ塩酸でｐＨ２．５に調整する。有Ｐｉ
層を分取し、水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無
水（ＩＪ　ｒマグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を
留去し、１ｑられた残留物をカラムクロマトグラフィー
（溶離液；トルエン：酢酸エチル−２：１）で精製すれ
ば、７−（１　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ
メチルビニル）−１−シクロプロピル−６−フルオロ−
１，４−ジヒドロ−４−オキソ−１，８−ナフチリジン
−３−カルボン酸エチルエステル３２０　ｍｇ（収率８
４．６％）を得る。

ＩＲ（にＢｒ）　ｃｍ−１；ν　１７３０，　１７０５
Ｃ＝０ 同様にして、つぎの化合物を得る。

０６−フルオロ−１−（４−メトキシメトキシ−フェニ
ル）−７−　（１−１−リフェニルメトキシメチルビニ
ル）−１．４−ジヒドロ−４−オキソ−１、８−ナノチ
リジン−３−カルボン酸エチルエステル −１。

ＩＲ（Ｉ（Ｂｌ’）　ｃｍ　　、ν　　　１７２５，　
１６９０Ｃ＝Ｏ ｏ　７　−　（　１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルア
ミノメチルビニル ル）−６−フルオロ−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−
１．８−ナフチリジン−３−カルボン酸エチルエステル Ｉ旧ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　ｖ　　　１６９５実施例１
４ ７　−　（　１　−ｔｅｒｔ−ブ）−キシ力ルボニルア
ミノメチルヒニル）−６．８−ジフルオロ−１−（２。

４−ジフルオロフェニル）−１．４−ジヒドロ−４−オ
キソ−３−キノリンカルボン酸エチルエステル２１０ｍ
ｙに６Ｎ塩酸２．５ｄおよびジオキサン３威を加え、２
時間還流する。軍部まで冷却した後、析出晶を枦取すれ
ば、７−（１−アミノメチルビニル）−６．８−ジフル
オロ−１−（２．４−ジフルオロフェニル）−１．４−
ジヒドロ−４−オキソ−３−キノリンカルシボン鍍の塩
ｍ’ｆＡ１ＡＯ　ｍｇ（収率８３．０％）を１ｑる。

融点；１８５〜１８９°Ｃ［エタノール］ＩＲ（ＫＢｒ
）　ｃｍ”　ニジ　１７１５Ｃ＝Ｏ ＮＭＲ（ＴＥＡ−　ｄｌ）δ値； ａ．　２７（２Ｈ，　ｓ）、　５．　９０（ＩＨ，　ｓ
）、　６．　２４（ＩＨ，　ｓ）　。

７、００〜７．　９０（３Ｈ，　ｍ）。

８、　３５　（ＩＨ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．　５Ｈｚ，　
Ｊ＝８．　５Ｈｚ＞。

９、　１９（１１１，　Ｓ） 同様にして、つぎの化合物を１昇る。

ｏ７−（１−アミノメチルビニル）−１−シクロアロピ
ル−６，８−ジフルオロ−１，４−ジヒドロ−４−オキ
ソ−３−キノリンカルボン酸の塩■ 融点；２７４〜２７７℃［エタノール−メタノール］ ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　ｖ　　１７３０Ｃ＝Ｏ ＮＨＲ（丁ＦＡ−ｄ、）　　δ１直； １．３０〜１．９０（４Ｎ、ｍ）、４．２０〜４．９０
（３Ｈ，ｍ）。

６．０５（１Ｈ，Ｓ）、６．３７（ＩＨ，Ｓ）。

８、３１　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝２．０Ｈｚ、　Ｊ＝８
．５Ｈｚ）。

９、５０（ＩＨ，５） ｏ７−（１−アミノメチルビニル）−１−（２゜４−ジ
フルオロフェニル）−６−フルオロ−１゜４−ジヒドロ
−４−オキソ−１，８−ナフチリジン−３−カルボン酸
の塩酸塩 融点：２１０〜２１５°Ｃ［エタノール−イソプロパノ
ール］ ＩＲ（ＫＢｒ　）　ｃｍ−’　：　シ１７３０Ｃ：Ｏ ＮＭＲ（丁ＦＡ−ｄ１　）　　δ１直　：４、４２　（
２Ｈ，ｓ）、　６．５６（ＩＮ、　ｄ、　Ｊ＝３．聞ｌ
）。

６、９０〜８．１０（４Ｈ，ｍ）　、　８．８１　（１
Ｍ、　ｄ、　Ｊ＝１０．０Ｈ２）　。

９、４６（ＩＨ，５） ｏ７−（１−アミノメチルビニル）−１−シクロプロピ
ル−６−フルオロ−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−１
，８−ナフチリジン−３−カルシボン煎の塩酸塩 融点；２３８〜２４２℃［エタノール−メタノール］ ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　；　ｖ　　１７２０Ｃ：０ ＮＨＲ（丁ＦＡ−ｄｌ　）　　δ（直；１．３０〜１．
９０（４Ｈ，ｍ）、４．２０〜４．９０（３Ｍ、ｍ）。

６、７１　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝４．０Ｈｚ）、　７．１
１　（ＩＨ，ｓ）。

８、７７（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝９．０Ｈｚ）　、　９．５
６（１Ｎ、　ｓ）実施例１５ 実施例５と同様にして、つぎの化合物を得る。

ｏ９−フルオロ−１０−（１−ヒドロキシメチルビニル
）−３−メチル−７−オキソ−２，３−ジヒド０−７Ｈ
−ピット［１，２，３−ｄｅ］　　［１，４］ベンゾオ
キサジン−６−カルボン酸 融点：２７８〜２８０℃［エタノール−メタノール］ ＩＲ（にＢｒ）　ｃｍ−’　：　ｖ　　１７００Ｃ＝Ｏ Ｎ）ＩＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６　）　　δ１直：１、４７（
３０，ｄ、　Ｊ＝６．５Ｈｚ）　、　４．００〜５．４
０（７Ｈ，ｍ）　。

５、７２（ＩＨ，ｓ）、　７．６２（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝
１０．０Ｈｚ）。

９、００（ＩＨ，Ｓ）、　１４．９１　（１Ｍ、　ｂｓ
）０６−フルオロ−７−（１−ヒドロキシメチルビニル
）−１−（４−ヒドロキシフェニル）−１゜４−ジヒド
ロ−４−オキソ−１，８−ナフチリジン−３−カルボン
酸 融点：２４８〜２５２°Ｃ［エタノールコＩＲ（ＫＢｒ
）　ｃｍ−１ニジ　１７３０Ｃ＝Ｏ ＮＭＲ（ＤＨ３ＯＪｅ　）δ値； ４．００〜４．３０（２Ｈ，ｍ）、　４．６５（ＩＨ，
ｂｓ）。

５．８０〜６．１０（２Ｈ，ｍ）、　６．７０〜７．６
０（４ｔｌ、　ｍ）。

８、４６（１Ｍ、　ｄ、　Ｊ＝９．０Ｈｚ）、　８．８
２　（ＩＨ，ｓ）。

９．９０（１Ｍ、ｓ）、１４．４５（１Ｍ、ｂｓ）実施
例１６ 実施例６および１３と同様にして、つぎの化合物を得る
。

ｏ　　１−（３−アミノ−４−フルオロフェニル）６−
フルオロ−７−（１−ヒドロキシメチルビニル）−１，
４−ジヒドロ−４−オキソ−１，８゜−ナフチリジン−
３−カルボン７のｆｍ　ＰＦｊｒ融点；２３１〜２３７
°Ｃ ＩＲ（にＢｒ）　ｃｍ”　；　ｖ　　１７００ＮＨＲ（
ＤＩ−ＩＳＯ−６６）δ値； ４、１８（ＩＨ，ｓ）、　５．７０〜６．２０（６Ｈ，
ｍ）６、６０〜７．４０（３Ｈ，ｍ）　、　８．５２　
（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１０．５Ｈ２）。

８、８２（ＩＨ，Ｓ） 実施例１７ １０−　（１−ｔｅｌ’ｔ−ブトキシカルボニルアミノ
メチルビニル オキソ−２，３−ジヒドロ−７日−ピリド［１。

２、　３　−ｄｅ］　　［１．　４］ベンゾオキサジン
−６−カルボン酸エチルエステル２５０ｍｇに６１’［
酸４ｍｌを加え、２時間還流する。減圧下に反応液を濃
縮し、得られた残留物にジエチルエーテルを加えて結晶
を枦取すれば、１０−（１−アミノメチルビニル）−９
−フルオロ−３−メチル−７−オキソー２．３−ジヒド
ロ−７日−ビット［１，２，３−ｄｅ］［１，４］ベン
ゾオキサジン−６−カルボン酸の塩酸塩１５０〜３　（
収率７７．８％）を得る。

融点；２２０〜２２４°Ｃ［エタノール−メタノール］ ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　；　ｌ／　　１７００Ｃ：Ｏ 間Ｒ（ＴＥＡ−６１）δ値； １、８５　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７．　ｏＨｚ）、　４．
３７（２Ｈ，ｓ）。

４、８１　（２Ｈ，ｓ）、　４．９０〜５．５０（ＩＨ
，ｍ）５、９７（１Ｍ、　ｓ）　、　６．２９（ｉｌｌ
、　ｓ）。

８、０６（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝９．０Ｈｚ）、　９．４０
（１Ｍ、　ｓ）実施例１８ 参考例１２、実施例５および実施例６と同様にして、つ
ぎの化合物を得る。

０１−シクロプロピル−６−フルオロ−７−（１−ヒド
ロキシメチルビニル）−１，４−ジヒドロ−４−オキソ
−１，８−ナフチリジン−３−カルボン酸 融点；２０７〜２０８°Ｃ［エタノール］ＩＲ（ＫＢｒ
）　ｃｍ”　；　ｖ　　１７１５Ｃ：０ ＮＨＲ（ＤＨ３Ｏｄ６　）δ値： １．００〜１．５０（４Ｈ，ｍ）。

３．６０〜４．１０（ＩＨ，ｍ）、４．５０〜４．８０
（２Ｈ，ｍ）。

５、　ＤＯ〜５．３０（ＩＩ−１，ｍ）、　５．９０〜
６．３０［２１１，ｍ）。

８、４５　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１０．５Ｈ７）　、　８
．８３（ＩＨ，Ｓ）　。

１４、４５　（ＩＨ，ｂｓ） ０６−フルオロ−１−（４−フルオロフェニル）−７−
（１−ヒドロキシメチルビニル）−１，４−ジヒドロ−
４−オキソ−１，８−ナフチリジン−３−カルボン酸 融点：２２７〜２３０°Ｃ ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　ｖ　　１７３０Ｎ）ＩＲ
（ＤＨ３Ｏ−ｄ６）δ値； ４、００〜４．３０（２Ｈ，ｍ）　、　４．９０〜５．
１０（１Ｎ、　ｍ）。

５．９０〜６．２０（２Ｈ，ｍ）、７．２０〜７．９０
（４）１．ｍ）。

８、５５　（ＩＮ、　ｄ、　Ｊ＝１０．５Ｈｚ）、　８
．９２　（１Ｎ、　５）１４．２０（ＩＨ，ｂＳ） ｏｌ−（２，４−ジフルオロフェニル）−６−フルオロ
−７−（１−ヒドロキシメチルビニル）−１，４−ジヒ
ドロ−４−オキソ−１，８−ナフチリジン−３−カルボ
ン酸 融点；１９３〜１９５°Ｃ［イソプロパツール］ＩＲ（
ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　シ１７３０Ｃ＝Ｏ ＮＭＲ（ＴＥＡ−６１）δ値； ５、２１　（２ｆｌ、　ｓ）、　６．４０〜７．９０（
５Ｈ，ｍ）。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 「式中、Ｒ＾１は置換されていてもよい低級アルキル、
   低級アルケニル、シクロアルキル、アリールまたは複素
   環式基を；Ｒ＾２は水素原子またはカルボキシル保護基
   を；Ｒ＾３は保護されていてもよいヒドロキシル、アミ
   ノもしくは低級アルキルアミノ基、ジ−低級アルキルア
   ミノ基または環状アミノ基を；▲数式、化学式、表等が
   あります▼は▲数式、化学式、表等があります▼または
   ▲数式、化学式、表等があります▼［Ｒ＾４は水素原子
   、ハロゲン原子または▲数式、化学式、表等があります
   ▼と一緒になって式▲数式、化学式、表等があります▼
   （Ｒ＾５は水素原子または低級アルキル基を、Ｂは酸素
   原子または硫黄原子を示す。）を示す。］を；およびＸ
   はハロゲン原子をそれぞれ示す。」 で表わされるキノロンカルボン酸またはその塩。